KR101419534B1 - A Susceptor And The Manufacturing Method Thereof - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 서셉터 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 서셉터 본체의 상면에 복수의 오목부가 형성되어 증착 공정시 기판으로 열전달이 효율적으로 이루어지며, 제조 불량률이 현저하게 감소하는 서셉터 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a susceptor and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a susceptor and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a susceptor, And a manufacturing method thereof.
일반적으로, 반도체 공정에서 어레이 기판과 컬러 필터 기판 상에 수차례에 걸친 박막의 증착, 패터닝 및 식각 공정을 수행한다. 이 경우, 증착 공정은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공정챔버 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)에서 수행되며, CVD 공정챔버 내부에 서셉터(Susceptor)가 설치된다. 서셉터는 상면에 기판을 안착시키는 것으로서, 내부에 증착에 적절한 온도로 가열을 수행하는 히터가 매설된다.In general, a thin film is deposited, patterned, and etched several times on an array substrate and a color filter substrate in a semiconductor process. In this case, the deposition process is performed in a CVD (Chemical Vapor Deposition) process chamber or a PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), and a susceptor is installed in the CVD process chamber. The susceptor seats the substrate on the upper surface, and a heater is embedded therein for performing heating at a temperature suitable for deposition.
선 출원된 대한민국 특허 제10-0831242호 특허등록공보에는 증착 공정에서 사용되는 서셉터가 게시된바 있다. Korean Patent No. 10-0831242 filed in the prior art discloses a susceptor used in a deposition process.
도 1은 플라즈마 화학기상 증착장비의 구성을 개략적으로 도시한 것으로서, 박막 증착반응이 진행되는 공정챔버(1)는 상부 리드(20)와 챔버 바디(30)로 구분된다. 상기 상부 리드(20)의 내부에는 백킹 플레이트와 샤워 헤드로 구성되는 가스분산부(40)가 공정챔버의 상단을 가로질러 형성되는데, 외부의 가스저장부(미도시)로부터 공급된 소스가스는 가스라인(80)을 경유하여 상기 가스분산부(40)로 유입된 뒤, 가스분산부(40)에 다수 설치되는 관통홀(미도시)을 통하여 기판(S)의 상면으로 분사된다. 특히, PECVD 장치에서 상기 가스분산부(40)는 외부의 전원(미도시)과 연결되어 기판 상에 분사된 소스가스를 플라즈마 상태로 활성화시키는 상부전극으로 기능한다. 한편, 상기 챔버 바디(10)의 내부에는 상기 가스분산부(40)와 소정간격 이격되는 서셉터 바디(10)가 설치되어 그 상면으로 기판(S)이 안착된다. 상기 서셉터 바디(10)의 중앙 하단으로는 서셉터 샤프트(13)가 챔버 하단부(32)를 관통하면서 결합되어 서셉터 바디(10)를 지지한다. 상기 서셉터 바디(10)의 내면에는 후술하는 바와 같이 히터가 매설되어 서셉터 상면으로 안치되는 기판을 소정의 온도로 가열시켜 소스가스가 기판의 상면으로 증착될 수 있도록 한다. 이 때, 공급되는 소스가스를 플라즈마 처리하여 여기시키는 경우 상기 서셉터 바디(10)는 전기적으로 접지되어 있다. 즉, 상기 서셉터 바디(10)는 그 상면에 안치되는 기판으로 적절한 온도의 열을 공급함과 동시에 상기 상부전극으로 기능하는 가스분산부(40)에 대응되는 하부전극으로 기능한다.FIG. 1 schematically shows a configuration of a plasma chemical vapor deposition apparatus. A
상기 서셉터 샤프트(13)는 상기 서셉터 바디(10)의 상면으로 기판의 로딩 언로딩에 따라 상하로 승하강하여 그 상단에 결합된 서셉터 바디(10)를 수직 방향으로 연동시킨다. 이와 같은 승하강 운동을 위해서 상기 서셉터 샤프트(13)의 외주변으로는 구동부(70)가 설치되어 모터 등의 구동수단(미도시)과 연결되어 있다. 상기 서셉터 샤프트(13)는 서셉터 바디(10)가 수평을 유지하면서 승강할 수 있도록 지지하는 역할 외에 구동부(70)를 통하여 외부로부터 전달된 동력을 전달하는 축의 역할을 수행한다. 또한, 상기 챔버 하단부(32)와 상기 서셉터 샤프트(13)의 하단 외주변에 설치되는 구동부(70) 사이의 서셉터 샤프트(13)의 외주변으로는 벨로우즈(72)가 구비되어 공정챔버의 하단부(32)를 통해 외부의 불순물이 공정챔버(1) 내부의 반응영역으로 유입되는 것을 방지한다.The
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 서셉터(10)는 서셉터 바디(11)와, 서셉터 바디(11)의 일측으로 연장된 중공의 샤프트(13)와, 서셉터 바디(11) 내에 구비되며 샤프트(13)를 통하여 연장되는 열선 히터부재(12)로 이루어진다. 상기 서셉터 바디(11)는 바디본체(11b)와, 바디본체(11b)를 덮도록 구비되는 덮개부재(11a)로 이루어지며, 샤프트(13)는 덮개부재(11a)에 결합되어 구비된다. 바디본체(11b)에는 오목하게 히터부재(12)가 매립되는 홈이 형성되기도 한다.2 and 3, the
종래 기술에 의한 서셉터(10)는 기판(S)과 열전달이 효율적으로 이루어지지 않고, 기판(S)이 서셉터(10) 상면으로부터 용이하게 분리되지 않는 경우가 있었으며, 아크(Arc) 발생에 의하여 기판(S)이 손상되는 문제점이 있었다.The
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 기판에 효율적으로 열전달이 이루어지며, 아크 발생이 방지되고, 제조가 용이하고, 공정 중 기판의 손상을 방지할 수 있는 서셉터 및 그 제조 방법을 제공한다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a susceptor capable of efficiently transferring heat to a substrate, And a manufacturing method thereof.
상기와 같은 목적을 이루기 위하여 본 발명은 CVD 공정챔버에서 구비되는 서셉터에 있어서, 판상의 서셉터본체와, 상기 서셉터본체에 결합되며 서셉터본체와 반대 방향으로 향하여 연장되는 중공의 샤프트를 구비하는 커버부재와, 상기 서셉터본체와 커버부재 사이에 구비되며 샤프트를 통하여 연장되는 열선으로 이루어지며; 상기 서셉터본체의 상면에는 복수의 오목홈이 가압되어 오목하게 형성되며; 상기 오목홈의 가장자리에는 상방으로 돌출된 제1 돌출부가 형성된 서셉터를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a susceptor provided in a CVD process chamber, the susceptor including a plate susceptor body, a hollow shaft coupled to the susceptor body and extending in a direction opposite to the susceptor body And a heating wire provided between the susceptor body and the cover member and extending through the shaft; Wherein a plurality of concave grooves are formed on the upper surface of the susceptor body by being pressed and concaved; And a first protrusion protruded upward is formed at an edge of the concave groove.
상기에서, 오목홈은 깊이에 따라 단면적이 감소하여 측면이 경사면으로 형성된 것을 특징으로 한다.In the above, the concave groove has a reduced cross-sectional area along the depth, and the side surface is formed as an inclined surface.
상기에서, 오목홈은 단면이 사각형, 원형 또는 삼각형으로 형성된 것을 특징으로 한다.In the above, the concave groove is characterized by being formed in a rectangular, circular or triangular shape in cross section.
상기에서, 제1 돌출부의 상단부 일부는 연삭 가공되어 끝단이 평면으로 형성된 것을 특징으로 한다.In the above, a part of the upper end of the first projecting portion is formed by grinding so that its end is flat.
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한편, 본 발명은 알루미늄 재질로 이루어진 서셉터본체를 주물에 의하여 성형하는 성형 단계와, 상기 서셉터본체의 상면을 가압하여 상기 서셉터본체의 상면에 복수의 오목홈을 형성하는 오목홈 형성 단계로 이루어지며; 상기 오목홈 형성 단계에서는 외주면에 복수의 가압돌기가 돌출 형성된 성형롤러로 상기 서셉터본체의 상면을 롤링 가압하여 서셉터본체의 상면에 복수의 오목홈을 형성하는 서셉터 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of forming a susceptor body made of an aluminum material by casting, and forming a plurality of concave grooves on the upper surface of the susceptor body by pressing the upper surface of the susceptor body Lt; / RTI > And forming a plurality of concave grooves on the upper surface of the suscepter body by rolling pressing the upper surface of the susceptor main body with a forming roller having a plurality of pressing projections protruding from the outer circumferential surface in the concave groove forming step.
상기에서, 오목홈 형성 단계에서는 하방으로 복수의 가압돌기가 돌출 형성된 성형부재로 상기 서셉터본체의 상면을 하향 가압하여 서셉터본체의 상면에 복수의 오목홈을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the recess groove forming step, the upper surface of the susceptor body is pressed downward by a forming member having a plurality of pressing protrusions protruded downward to form a plurality of concave grooves on the upper surface of the susceptor main body.
상기에서, 오목홈 형성 단계에서 상기 서셉터본체의 상면의 오목홈의 가장자리에 상방으로 돌출된 제1 돌출부가 형성되도록 하는 것을 특징으로 한다.In the above step, a first protruding portion protruding upward is formed at the edge of the concave groove on the upper surface of the susceptor main body in the concave groove forming step.
상기에서, 오목홈 형성 단계 후에, 오목홈의 가장자리에 상방으로 돌출되어 형성된 제1 돌출부의 끝단부 일부를 연삭하여 제1 돌출부의 끝단부를 평면으로 형성하는 연삭 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include a grinding step of grinding a portion of an end of the first projection protruding upward from the edge of the concave groove to form a flat end of the first projection after the concave groove forming step.
상기에서, 오목홈 형성 단계에서는 회전하는 드릴바이트를 접촉시켜 절삭하여 서셉터본체의 상면에 복수의 오목홈을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the step of forming the concave groove, a plurality of concave grooves are formed on the upper surface of the susceptor main body by cutting the rotating drill bit in contact with each other.
본 발명에 따른 서셉터 및 그 제조 방법에 의하면, 기판으로의 열전달 효율이 증가되며, 서셉터로부터 기판을 용이하게 분리할 수 있으며, 아크 발생이 억제되며, 제조가 간단하고 불량 발생이 감소하게 되는 효과가 있다.According to the susceptor and the method of manufacturing the same according to the present invention, the heat transfer efficiency to the substrate is increased, the substrate can be easily separated from the susceptor, arc generation is suppressed, It is effective.
도 1은 플라즈마 화학기상 증착장비의 구성을 개략적으로 도시한 것이고,
도 2는 종래의 서셉터를 도시한 사시도이며,
도 3은 도 2에 도시한 서셉터의 단면도이며,
도 4는 본 발명에 따르는 서셉터의 개략적인 분해 사시도이며,
도 5는 본 발명에 따르는 서셉터의 개략적인 단면도이며,
도 6은 본 발명에 따르는 서셉터에 구비되는 서셉터본체의 표면 일부를 도시한 것이며,
도 7은 본 발명에 따르는 서셉터에 구비되는 서셉터본체에 형성되는 오목홈의 변형 예를 도시한 것이며,
도 8 및 도 9는 본 발명에 따르는 서셉터에 구비되는 서셉터본체에 오목홈을 형성하는 공정을 설명하기 위하여 도시한 단면도이며,
도 10은 오목홈부를 확대 도시한 단면도이다.1 schematically shows the structure of a plasma chemical vapor deposition apparatus,
2 is a perspective view showing a conventional susceptor,
3 is a cross-sectional view of the susceptor shown in Fig. 2,
4 is a schematic exploded perspective view of a susceptor according to the present invention,
5 is a schematic cross-sectional view of a susceptor according to the present invention,
6 shows a part of the surface of the susceptor main body provided in the susceptor according to the present invention,
7 shows a modified example of the concave groove formed in the susceptor body of the susceptor according to the present invention,
8 and 9 are cross-sectional views illustrating a process of forming a concave groove in a susceptor body of a susceptor according to the present invention,
10 is an enlarged sectional view of the concave groove portion.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따르는 서셉터 및 그 제조 방법에 대하여 상세하게 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a susceptor according to the present invention and a method of manufacturing the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따르는 서셉터의 개략적인 분해 사시도이며, 도 5는 본 발명에 따르는 서셉터의 개략적인 단면도이며, 도 6은 본 발명에 따르는 서셉터에 구비되는 서셉터본체의 표면 일부를 도시한 것이며, 도 7은 본 발명에 따르는 서셉터에 구비되는 서셉터본체에 형성되는 오목홈의 변형 예를 도시한 것이며, 도 8 및 도 9는 본 발명에 따르는 서셉터에 구비되는 서셉터본체에 오목홈을 형성하는 공정을 설명하기 위하여 도시한 단면도이며, 도 10은 오목홈부를 확대 도시한 단면도이다.Fig. 4 is a schematic exploded perspective view of a susceptor according to the present invention, Fig. 5 is a schematic cross-sectional view of a susceptor according to the present invention, Fig. 6 is a cross- FIG. 7 is a view showing a modified example of the concave groove formed in the susceptor body of the susceptor according to the present invention, and FIGS. 8 and 9 are views showing a modification of the concave groove formed in the susceptor body, And FIG. 10 is a cross-sectional view showing an enlarged depression of the concave groove portion. As shown in FIG.
도 4 내지 도 7, 및 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르는 서셉터(100)는 서섭터본체(110)와, 상기 서셉터본체(110)에 결합되는 판상의 커버부재(120)를 구비한다. 상기 커버부재(120)에는 중공의 샤프트(121)가 결합되어 구비된다. 상기 샤프트(121)는 서셉터본체(110)의 반대 방향으로 연장되어 구비된다. 서셉터본체(110)와 커버부재(120) 사이에 열선이 구비되며, 열선은 샤프트(121)를 통하여 연장된다. 상기 서셉터본체(110)와 커버부재(120) 사이에 공간부가 형성되고, 열선은 공간부에 위치하며, 샤프트(121)를 통하여 연장된다. 상기 서셉터본체(110)에는 오목하게 열선이 위치하는 열선홈이 형성될 수 있다.4 to 7 and 10, a
상기 서셉터본체(110)는 대략 판상으로서 알루미늄 재질로 이루어지며, 주물에 의하여 사각형 판상으로 제조되며, 주물 공정에서 주형에 돌출부를 형성하여 일측면에 오묵하게 열선홈을 형성할 수 있다(성형 단계). 이하의 설명에서, 서셉터본체(110)에서 커버부재(120)와 반대로 향하는 면을 상면이라고 하며 커버부재(120)를 향하는 면을 내면이라고 한다. 상기 열선홈은 내면에 형성되며, 증착 공정에서 기판은 서셉터본체(110)의 상면에 접촉된다.The
본 발명에 따르는 서셉터(100)에 구비되는 서섭터본체(110)의 상면에는 복수의 오목홈(113)이 형성된다. 주물 공정을 거쳐 제조된 판상의 서섭터본체(110)는 연삭 공정으로 통하여 내면과 상면이 다듬질되고, 기판과 접촉할 상면에는 도 5 및 도 6에 도시한 바와 같이 복수의 오목홈(113)을 형성한다(오목홈 형성 단계).A plurality of
상기 오목홈(113)은 깊어질수록 단면적이 감소하는 형태인 사각뿔형, 원뿔형 또는 삼각뿔형으로 형성되어, 측면이 경사면(113a)으로 형성될 수 있다. 그리고 사각형, 원형 또는 삼각형의 바닥면(113b)을 가질 수 있다.The
상기 오목홈(113)은 도 8에 도시된 바와 같이 외경면에 돌출 형성된 가압돌기(210)를 가지는 성형롤러(200)를 상면에 구름 운동시켜, 가압돌기(210)가 상면을 가압하게 함으로써 소성 변형시켜 형성하는 것이 가능하다. 상기 가압돌기(210)는 단부로 갈수록 단면적이 감소하는 형태로 형성되며, 단면이 사각형이나 원형 또는 삼각형으로 형성된다.The
성형롤러(200)로 가압할 때, 가압돌기(210)에 의하여 오목홈(113)이 형성되면서, 오목홈(113)의 가장자리에는 오목홈(113) 형성에 의한 체적 이동에 의하여 도 10에 도시된 바와 같이 상향 돌출되는 제1 돌출부(113c)가 형성된다. 상기 제1 돌출부(113c) 사이에는 제2 오목부가 형성된다. 1회의 가압 성형 가공에 의하여 깊이가 다른 2개의 오목부가 형성된다. 상기 제1 돌출부(113c)의 상단부 일부를 연삭 가공하여 제1 돌출부(113c)의 끝단을 기판과 접촉되는 평면으로 형성할 수 있다.10 by the movement of the
실험을 위한 제조에 있어서, 상기 오목홈(113)은 상단부 폭과 깊이는 0.5∼5.0㎜ 범위로 형성하였다. 단면이 원형으로 형성하는 경우에는 상단부의 지름을 0.5∼5.0㎜ 범위로 형성하였다.In manufacturing for the experiment, the
상기 오목홈(113)의 형성에 있어서, 성형롤러(200)를 하면에 하방 돌출된 복수의 가압돌기(210)를 구비한 판상의 성형부재(200)로 하고, 성형부재(200)를 하방 이동시켜 서섭터본체(110)의 상면이 프레스 가압되도록 하여 오목홈(113)을 형성하는 것이 가능하다. 그리고 회전하는 드릴바이트를 사용하여 절삭 가공 형성하는 것도 가능하다.The forming
상기와 같이 가압돌기(210)를 구비한 성형롤러나 판상의 성형부재로 가압하여 오목홈(113)을 형성함으로써 규칙적인 간격과 형상을 가지는 오목홈(113)을 형성할 수 있어 품질이 균등한 서섭터본체(110)를 제조할 수 있으며, 가압돌기(210)에 의한 가압에 의하여 오목홈(113)을 형성하고, 오목홈(113) 주위로 제1 돌출부(113c)가 형성됨으로써 제1 돌출부(113c) 사이에 또 다른 오목부가 형성되어, 1회의 가압에 의하여 깊이가 다른 오목부가 복수로 형성되도록 하는 것이 가능하였다.As described above, the
100: 서셉터 110: 서셉터본체
120: 커버부재 200: 성형롤러
210: 가압돌기100: susceptor 110: susceptor body
120: cover member 200: forming roller
210: pressing projection
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