KR101417868B1 - A fountain device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 분수시스템에 관한 것으로서, 오염수를 다중으로 정화하여 분사할 수 있는 버블 정화부를 갖는 분수시스템에 관한 것이다.
The present invention relates to a fractional system, and more particularly to a fractional system having a bubble purifier capable of multiplying and purifying contaminated water.
일반적으로, 분수시스템은 수중의 물을 펌프로 강제 순환시켜 분사 노즐을 통해 공중으로 수직 분출하여 분출된 물이 다시 떨어지는 식으로 연속적인 물의 순환을 통해 분출되는 물 줄기를 보여주는 것으로, 상방 분출되는 하얀 물 줄기에 의해 보는 이에게 시각적인 아름다움과 시원함을 제공하고, 물 입자가 쪼개지면서 방출되는 음 이온에 의해 건강에 유익하도록 하며, 훌륭한 조경미 등을 제공한다.Generally, a fountain system is a system that circulates water in water through a pump and vertically ejects the water vertically through the spray nozzle to show the water stem that is ejected through the circulation of the continuous water in such a manner that the ejected water drops again. Provides visual beauty and coolness to the viewer through the water stem, provides health benefits to negative ions emitted by splitting water particles, and provides excellent beauty.
분수시스템이 설치되는 생태 연못과 같은 인공 수조 내의 물은 담수되어 정체된 채로 고여 있음에 따라 자정 능력이 많이 떨어져 쉽게 오염 및 부패될 수 있음으로써, 악취를 발산하고 탁도가 불량해지는 것에 의해 관람자에게 혐오감을 야기하고, 건강에 유해하도록 하며, 경관을 해치는 등의 문제점이 있다.The water in the artificial water tank, such as the ecological pond where the fountain system is installed, is flooded and stagnant, so that the water can be easily polluted and decayed due to a large capacity of self-purification, thereby disgusting the spectator , Causing harm to health, and harming the landscape.
본 발명과 관련된 선행문헌으로는 대한민국 등록실용 제20-04458830000호 (등록일 : 2009년 08월 31일)가 있으며, 상기 선행문헌에는 물 정화 기능을 갖는 부유식 분수시스템에 대한 기술이 개시된다.
A prior art related to the present invention is the Korean Registered Utility Application No. 20-04458830000 (filed on August 31, 2009), which discloses a floating water system having a water purifying function.
본 발명의 목적은, 공급되는 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하고, 다중의 여과막 및 다공질의 여재를 사용하여 이물질을 제거함과 동시에 산소를 강제 공급하여 외부 오염수를 정화하여 연못으로 분사할 수 있는 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 제공함에 있다.It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for suspending foreign matter contained in supplied polluted water, removing foreign matter using multiple filtration membranes and porous filter media, And a bubble purification unit having a bubble purification unit.
본 발명의 다른 목적은, 연못으로 분사되도록 유동되는 유체가 설정된 이상의 오염도를 형성하는 경우, 정화부를 자체 세척할 수 있는 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 제공함에 있다.
Another object of the present invention is to provide a fractional system having a bubble purification unit capable of cleaning the purification unit itself when the fluid flowing through the pond forms a predetermined degree of contamination.
바람직한 양태에 있어서, 본 발명은 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하여 1차 정화하는 부유 처리부와; 상기 부유 처리부와 연결되며, 부유 처리된 상기 오염수와 외부로부터 공급받은 산소를 동시에 공급받아 버블 발생 및 산소를 포화시켜 상기 오염수를 2차 정화하여 정화수로 형성하는 버블 정화부; 및 상기 버블 정화부와 연결되며, 상기 정화수를 외부로 분사하는 분사부를 포함하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 제공한다.In a preferred embodiment of the present invention, the present invention provides a water treatment system comprising: a floating processing unit for subjecting a foreign matter contained in contaminated water to a float treatment and a primary purification; A bubble purifier connected to the floating processing unit and supplied with the floating water and oxygen supplied from outside to simultaneously generate bubbles and oxygen to purify the contaminated water to form purified water; And a bubble purifier connected to the bubble purifier and including a sprayer for spraying the purified water to the outside.
상기 버블 정화부는, 내부 공간이 형성되는 중공 형상의 버블 정화부 몸체와, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 직립되는 상태로 배치되며, 상기 오염수와 물리적으로 접촉되어 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 상기 오염수를 정화수로 정화하는 정화 부재를 구비한다.The bubble purifying unit includes a hollow bubble purifying body body having an internal space formed therein and a bubble purifying body body disposed in a state in which the internal space of the bubble purifying body body is erected and physically contacted with the contaminated water, And a purifying member for purifying the contaminated water with purified water.
상기 버블 정화부 몸체의 상단부에는, 상기 부유 처리된 상기 오염수를 공급 받는 오염수 공급 라인과, 상기 산소를 공급 받는 산소 공급 라인이 연결되고, 상기 버블 정화부 몸체의 하단에는, 상기 정화수를 상기 분사부로 공급하는 분사 라인이 연결되는 것이 바람직하다.Wherein the bubble purifying unit body is connected to an upper end portion of the bubble purifying unit body by a contaminated water supply line supplied with the flooded polluted water and an oxygen supply line to which the oxygen is supplied, It is preferable that a spray line to be supplied to the spray portion is connected.
상기 정화 부재는, 원통 형상으로 형성되며, 일정의 메쉬를 이루어 상기 오염수를 1차 여과하는 다공성의 금속 메쉬 부재와, 상기 메쉬 부재의 내부 공간에 채워지며, 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 2차 여과하는 정화 그레인을 구비한다.The purifying member may include a porous metal mesh member that is formed in a cylindrical shape and has a predetermined mesh to primarily filter the polluted water and a porous metal mesh member that is filled in the inner space of the mesh member and removes foreign matter contained in the polluted water And a purifying grain for secondary filtration.
상기 금속 메쉬 부재는 내부식성을 갖는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.The metal mesh member is preferably formed of a material having corrosion resistance.
상기 정화 부재는, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 중심축을 따르도록 배치되고, 상기 금속 메쉬 부재의 외주와 상기 버블 정화부 몸체의 내주 사이에는 버블 형성 영역이 형성되고, 상기 오염수 공급 라인과 상기 산소 공급 라인은 상기 버블 형성 영역에 노출되도록 연결되고, 상기 분사 라인은, 상기 정화 그레인에 노출되도록 연결되는 것이 바람직하다.Wherein the purifying member is disposed along a central axis of an inner space of the bubble purifying body and a bubble forming region is formed between an outer periphery of the metal mesh member and an inner periphery of the bubble purifying body, The oxygen supply line is connected to be exposed to the bubble forming region, and the injection line is connected to be exposed to the purifying grain.
상기 금속 메쉬 부재의 외면에는 광촉매 코팅층이 형성되고, 상기 정화 그레인은, 광촉매 그레인인 것이 바람직하다.A photocatalytic coating layer is formed on an outer surface of the metal mesh member, and the purified grained particle is a photocatalytic grain.
상기 버블 정화부는, 다수로 구비될 수 있다.The bubble purification unit may include a plurality of bubble purification units.
여기서, 상기 부유 처리부와 상기 분사부의 사이에서 병렬 또는 직렬로 연결될 수 있다.Here, the floating unit and the jet unit may be connected in parallel or in series.
상기 분사 라인에는, 상기 분사 라인을 따라 유동되어 유입되는 상기 정화수를 살균 처리부가 더 설치된다.The spray line is further provided with a sterilizing treatment unit for flowing the purified water flowing along the spray line.
상기 살균은, 광촉매 또는 오존 또는 금속 여과망을 사용하는 것이 바람직하다.The sterilization is preferably carried out using a photocatalyst or an ozone or metal filter network.
상기 분수시스템는, 세척 유닛을 더 구비한다.The fractional system further comprises a cleaning unit.
상기 세척 유닛은, 상기 버블 정화부 몸체의 하단을 통해, 상기 버블 형성 영역의 내부로 1차 정화 처리된 오염수와 외부 산소를 강제 공급하여 오염수를 부양시키는 공급부와, 상기 버블 형성 영역과 연결되도록 상기 버블 정화부 몸체의 하단에 연결되며, 상기 정화 부재로부터 이물질이 탈락되어 하강되는 오염수를 외부로 배출하는 배출부를 구비하는 것이 바람직하다.The cleaning unit may include a supply unit for supplying the contaminated water to the inside of the bubble forming area through the lower end of the bubble cleaning unit forcibly supplying the contaminated water and the external oxygen to flood the contaminated water, And a discharge unit connected to a lower end of the bubble purifying unit body and discharging the contaminated water dropped from the purifying member to the outside.
상기 세척 유닛은, 오염도 측정부를 더 구비한다.The cleaning unit further includes a pollution degree measuring unit.
상기 오염도 측정부는, 상기 분사 라인 상에 설치되며, 분사되는 상기 정화수의 탁도를 측정하는 탁도 센서와, 측정된 탁도가 기설정되는 기준 탁도 범위에 포함되도록 상기 세척 유닛을 구동하는 제어기를 구비하는 것이 바람직하다.The contamination degree measuring unit may include a turbidity sensor installed on the spray line for measuring the turbidity of the purified water to be sprayed and a controller for driving the cleaning unit such that the measured turbidity is included in the reference turbidity range desirable.
상기 분사 라인은, 제 1분사 라인과 상기 제 1분사 라인과 대응되도록 배치되는 제 2분사 라인을 구비하고, 상기 분사부는, 고속 분사부를 구비한다.The jetting line includes a first jetting line and a second jetting line arranged to correspond to the first jetting line, and the jetting unit has a high-velocity jetting unit.
상기 고속 분사부는, 내부에 유동 공간이 형성되고, 상기 유동 공간을 외부로 노출시키는 분기관을 갖는 고속 분사부 몸체와, 상기 분기관에 설치되는 개폐 밸브를 구비한다.The high-speed jet unit includes a high-speed jet body having a fluid space formed therein and exposing the fluid space to the outside, and an open / close valve installed in the branch.
상기 제 1분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 일단부에 설치되고, 상기 제 2분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 타단부에 설치되고, 상기 제 1분사 라인과 상기 제 2분사 라인의 단부는 마주 보는 방향을 따라 유로 면적이 점진적으로 좁아지도록 형성되는 것이 바람직하다.
Wherein an end of the first injection line is installed at one end of the fast injection body and an end of the second injection line is installed at the other end of the body of the fast injection body, It is preferable that the end portion of the line is formed so that the flow path area is gradually narrowed along the facing direction.
본 발명은, 공급되는 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하고, 다중의 여과막 및 다공질의 여재를 사용하여 이물질을 제거함과 동시에 산소를 강제 공급하여 외부 오염수를 정화여 연못으로 분사할 수 있는 효과를 갖는다.The present invention relates to an effect of floating foreign matter contained in supplied polluted water, removing foreign matter by using multiple filtration membranes and a porous filter medium, and simultaneously supplying oxygen to the purified water pond .
또한, 본 발명은, 연못으로 분사되도록 유동되는 유체가 설정된 이상의 오염도를 형성하는 경우, 정화부를 자체 세척할 수 있는 효과를 갖는다.
Further, the present invention has the effect of self-cleaning the purging portion when the fluid flowing through the pond forms a predetermined degree of contamination.
도 1은 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따르는 버블 정화부에서의 정화 과정을 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따르는 버블 정화부에서의 세척 과정을 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 고속 분사부의 구성을 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 다른 실시예의 구성을 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명에 따르는 살균 처리부를 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view showing a configuration of a fractional water system having a bubble purification unit of the present invention. Fig.
2 is a view showing a purifying process in the bubble purifying unit according to the present invention.
3 is a view showing a cleaning process in the bubble purification unit according to the present invention.
4 is a view showing a configuration of a high-speed injection part according to the present invention.
5 is a diagram showing a configuration of another embodiment of a fractional water system having the bubble purification unit of the present invention.
6 is a view showing a sterilizing treatment section according to the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following is a description of a fractional system having a bubble purifier of the present invention with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 구성을 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view showing a configuration of a fractional water system having a bubble purification unit of the present invention. Fig.
도 1을 참조 하여, 본 발명의 분수시스템의 구성을 설명한다.1, the construction of the fractional system of the present invention will be described.
본 발명의 분수시스템은 크게 부유 처리부(100)와, 바블 정화부(200)와, 분사부(400)로 구성된다.The fountain system of the present invention mainly comprises a
도 1을 참조 하면, 연못(1)과 부유 처리부(100)는 연못(1)과 제 1관(10)을 통해 연결되고, 상기 부유 처리부(100)는 버블 정화부(200)와 제 2관(20)을 통해 연결된다.1, the
상기 제 2관(20) 상에서, 상기 부유 처리부(100)와 버블 정화부(200)의 사이에는 펌프(110)와, 컴프레셔(120)가 설치된다.A
상기 컴프레셔(120)는 외부의 산소를 강제로 흡입하여 외부로 공급하는 역할을 한다.The
상기 컴프레셔(120)와 상기 버블 정화부(200)는 오염수 공급 라인(130)과 산소 공급 라인(140)으로 연결된다.The
상기 오염수 공급 라인(130)은 컴프레셔(120)를 통해 제 2관(20)을 통해 유동되는 오염수를 버블 정화부(200)의 내부로 유동시키는 관이다.The contaminated
상기 산소 공급 라인(140)은 컴프레셔(120)를 통해 강제 흡입된 산소를 버블 정화부(200)의 내부로 유입시키는 관이다.The
상기 오염수 공급 라인(130)과 산소 공급 라인(140)의 타단은 버블 정화부(200)의 상단에 연결된다.The other end of the contaminated
그리고, 버블 정화부(200)는 분사 라인(300)을 통해 분사부(400)와 연결된다. 상기 분사부(400)는 버블 정화부(200)를 통해 정화된 정화수를 연못(1)으로 분사하는 역할을 한다.The bubble purifying
여기서, 상술한 버블 정화부(200)의 구성을 설명한다.Here, the configuration of the above-described
도 1 및 도 2를 참조 하면, 상기 버블 정화부(200)는 버블 정화부 몸체(210)와, 정화 부재(220)로 구성된다.1 and 2, the
상기 버블 정화부 몸체(210)는 내부 공간이 형성되며, 상하를 따라 일정 길이를 이루는 중공 형상의 몸체로 구성된다.The
상기 버블 정화부 몸체(210)의 내부에는, 상기 정화 부재(220)가 설치된다.The purifying
상기 정화 부재(220)는 금속 메쉬 부재(221)와, 정화 그레인(222)으로 구성된다.The purifying
상기 금속 메쉬 부재(221)는 원통 형상으로 형성되며, 일정 메쉬를 형성하도록 다공성으로 이루어진다.The
상기 금속 메쉬 부재(221)는 내부식성을 갖도록 스테인레스 재질로 형성되는 것이 좋다.The
상기 금속 메쉬 부재(221)의 내부에는 상기 정화 그레인(222)이 채워진다.The
여기서, 상기 정화 그레인(222)에는 광촉매가 코팅될 수도 있고, 금속 메쉬 부재(221)의 외면에도 역시 광촉매가 코팅될 수 있다.Here, the purifying
이에 더하여, 본 발명에 따르는 정화 그레인(222)은 원적외선 물질로 형성될 수도 있다. 상기 원전외선 물질은 바이오 세라믹으로 형성될 수도 있다.In addition, the purging
또한, 금속 메쉬(221)에는 원적외선 물질이 층을 이루어 코팅될 수 있다.In addition, the
본 발명에서는 원적외선의 방출량을 원적외선 방출량이 600 내지 700㎛가 되도록 제조할 수 있다.In the present invention, the emission amount of the far-infrared ray can be manufactured so that the far-infrared ray emission amount is 600 to 700 mu m.
따라서, 본 발명에서는 원적외선 방출량이 없는 경우에 비해, 오염수를 활성화함과 아울러, 탈취 효과를 기대할 수 있다.Therefore, in the present invention, the deodorizing effect can be expected in addition to the activation of the contaminated water, as compared with the case where there is no far-infrared ray emission amount.
또한, 상기 금속 메쉬 부재(221)는 버블 정화부 몸체(210)의 내부 공간에서 중심축을 따라 직립되는 상태로 설치된다. In addition, the
그리고, 상기 금속 메쉬 부재(221)의 길이는 버블 정화부 몸체(210)의 내부 상측벽과 하측벽을 잇는 길이로 형성되는 것이 좋다.The length of the
특히, 상기 버블 정화부 몸체(210)의 내주와 금속 메쉬 부재(221)의 외주 사이에는 버블 형성 영역(201)이 형성된다.Particularly, a
상기 버블 형성 영역(201)은 실질적으로 산소와 오염수가 동시에 강제 유입되면서, 버블을 형성하도록 유도하는 공간이다.
The
다음은, 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 작용을 설명한다.Next, the operation of the fractional system having the bubble purifier of the present invention having the above-described configuration will be described.
도 1 및 도 2를 참조 하면, 연못(1)으로부터 이물질이 포함되는 오염수, 예컨대 빗물은 제 1관(10)을 따라 부유 처리부(100)로 유입된다.1 and 2, contaminated water, for example, rainwater containing foreign matter from the
상기 부유 처리부(100)에서는 오염수를 일정 시간 담수한 이후, 이물질을 바닥으로 가라앉게 하는 기능을 갖는다.The floating
이어, 펌프(110)는 부유 처리부(100)로부터 이물질이 가라앉아 1차 정화된 오염수를 펌핑하여 컴프레셔(120)로 유동시킨다.Then, the
상기 컴프레셔(120)는 오염수를 오염수 공급 라인(130)으로 유동시킴과 아울러, 외부의 산소를 강제 유입시켜 산소 공급 라인(140)으로 유동시칸다.The
이와 같이 유동되는 오염수와 산소는 버블 정화부 몸체(210)의 상단을 통해 버블 형성 영역(201)으로 일정 압력을 형성하는 상태로 유입된다.The polluted water and the oxygen flowing in this manner are introduced into the
이때, 버블 형성 영역(201)의 내부 공간에서는 오염수(물)과, 산소(공기)가 상측에서 하측을 따라 유동된다.At this time, in the inner space of the
이와 같이 유동되는 오염수와 물은 하방으로 유동된 이후, 오염수는 상측으로 유동됨과 아울러, 산소 역시 상측으로 유동된다.After the polluted water and the water flow downward as described above, the polluted water flows upward and oxygen also flows upward.
이에 따라, 버블 형성 영역(201)에서는, 오염수와 산소가 서로 혼합되면서 버블이 발생됨으로써, 산소 포화 상태를 이룬다.Thus, in the
즉, 오염수 자체의 용존 산소량이 증가될 수 있다.That is, the dissolved oxygen amount of the polluted water itself can be increased.
이어, 상기와 같이 산소 포화를 이루는 오염수는 금속 메쉬 부재(221)를 통해 이물질이 여과될 수 있고, 그 내부에 채워지는 정화 그레인들(222)에 물리적으로 접촉됨에 따라 고체 성분의 이물질이 탈락될 수 있다.As described above, the contaminated water that is saturated with oxygen as described above can be filtered through the
이에 따라, 본 발명에서는 버블 정화부 몸체(210)로 지속적으로 오염수와 산소를 공급하면서 버블 발생을 유도하고, 이로 인한 차압으로 인해, 분사 라인(300)의 밸브를 자동으로 개방할 수 있다.Accordingly, in the present invention, bubbles are generated while continuously supplying the contaminated water and oxygen to the
따라서, 상기와 같이 산소 포화 및 이물질이 제거된 상태로 2차 정화된 정화수는 버블 정화부 몸체(210)의 하단에 연결되는 분사 라인(300)으로 유동될 수 있다.Accordingly, the purified water, which is secondarily purified in the state where the oxygen saturation and foreign matter are removed as described above, may flow into the
상기와 같이 분사 라인(300)으로 유동되는 정화수는 분사부(400)에 의해 연못(1)으로 분사될 수 있다. 상기 분사부(1)는 인젝터와 같은 장치일 수 있다.
The purified water flowing into the
한편, 도 1을 참조 하면, 본 발명의 분수시스템는, 세척 유닛(500)을 더 가질 수 잇다.1, the fountain system of the present invention may further have a
상기 세척 유닛(500)은 크게 공급부(120)와, 배출부(530)로 구성된다.The
상기 공급부(120)는 상술한 컴프레셔(120) 일 수 있다.The
상기 공급부(120)는 상기 버블 정화부 몸체(210)의 하단과 연결되어 오염수를 공급하는 보조 오염수 공급 라인(131)과, 외부 산소를 강제 흡입하는 보조 산소 공급라인(141)을 갖는다.The
여기서, 상기 보조 산소 공급 라인(141)은 보조 오염수 공급 라인(131)과 연결된다.Here, the auxiliary
또한, 상기 배출부(530)는 상기 버블 형성 영역(201)과 연결되도록 상기 버블 정화부 몸체(210)의 하단에 연결되며, 상기 정화 부재(220)로부터 이물질이 탈락되어 하강되는 오염수를 외부로 배출하는 관이다.The discharging
또한, 본 발명에 따르는 세척 유닛(500)은, 오염도 측정부를 더 가질 수 있다.Further, the
상기 오염도 측정부는 탁도 측정 센서(510)와, 제어기(520)로 구성된다.The contamination level measuring unit includes a
상기 탁도 측정 센서(510)는 분사 라인(300) 상에 설치되어 분사 라인(300)을 따라 유동되는 정화수의 탁도를 측정할 수 있다.The
상기 제어기(520)는 측정된 탁도가 기설정되는 기준 탁도 범위에 포함되도록 상기 세척 유닛(500)을 구동한다.The
상기의 구성을 참조 하여 세척 유닛의 작용을 설명한다.The operation of the cleaning unit will be described with reference to the above configuration.
도 1 및 도 3을 참조 하면, 탁도 측정 센서(510)는 분사 라인(300)을 따라 유동되는 정화수의 탁도를 측정하고, 측정된 탁도를 제어기(520)로 전송한다.1 and 3, the
상기 제어기(520)는 측정된 탁도가 기설정된 기준 탁도 범위에 포함되는 지의 여부를 판단한다.The
상기 제어기(520)는 측정된 탁도가 기설정된 기준 탁도 범위에 포함되지 않는 경우, 밸브들을 사용하여 오염수 공급 라인(130) 및 산소 공급 라인(140), 분사 라인(300)을 차단한다.The
이어, 상기 제어기(520)는 공급부(120)를 통해 오염수를 보조 오염수 공급 라인(131)을 통해 버블 정화부 몸체(210)의 하단을 통해 버블 형성 영역(201)으로 유입시킨다.The
이때, 공급부(120)는 외부 산소를 보조 오염수 공급 라인(141)으로 강제 공급하여 버블 형성 영역(201)으로 오염수를 유입시키기 이전에 버블을 형성하여 산소 포화상태를 이루도록 한다.At this time, the
따라서, 실질적으로 버블 형성 영역(201)의 하부 공간으로 점진적으로 유입되면서 이미 버블을 형성한 상태로 유입된다.Therefore, the liquid is gradually introduced into the lower space of the
이어, 오염수는 버블 형성 영역(201)에서 부양되면서 정화 부재(220)에 의해 이물질이 탈락되고, 버블 형성 영역(201)의 상부로 유동되면서 세척이 완료된다.Then, the contaminated water is floated in the
상기 정화 부재(220)에 의한 정화 방식은 상술한 바와 실질적으로 동일하다.The purifying method by the purifying
그리고, 버블 정화부 몸체(210)의 하단에 연결되는 배출부(530)를 통해, 이물질은 외부로 배출될 수 있다.The foreign matter may be discharged to the outside through the
여기서, 상기 제어기(520)는 세척 과정에서의 오염수의 탁도를 측정할 수 있는 보조 탁도 측정 센서(미도시)와 전기적으로 연결된다.Here, the
따라서, 보조 탁도 측정 센서에 의해 측정된 탁도가 기준 탁도 범위에 포함되면, 상기와 같은 세척 유닛의 구동을 즉시 중지한다.Therefore, if the turbidity measured by the auxiliary turbidity measurement sensor is included in the reference turbidity range, the operation of the cleaning unit as described above is immediately stopped.
이어, 상기 제어기(520)는 상술한 바와 같이 분사 라인(300)을 통해 정화수가 분사되도록 제어할 수 있다.
The
도 4는 본 발명에 따른 고속 분사부의 구성을 보여주는 도면이다.4 is a view showing a configuration of a high-speed injection part according to the present invention.
또 한편, 본 발명의 분사부(400)는 도 4에 도시된 바와 같은 고속 분사부(410)를 더 구비할 수 있다.In addition, the jetting
여기서, 본 발명에 따르는 분사 라인(300)은 제 1분사 라인(310)과 상기 제 1분사 라인(310)과 대응되도록 배치되는 제 2분사 라인(320)로 구성된다.Here, the
상기 고속 분사부(410)는 고속 분사부 몸체(411)와, 개폐 밸브(413)로 구성된다.The high-
상기 고속 분사부 몸체(411)는 내부에 유동 공간이 형성되고, 상기 유동 공간을 외부로 노출시키는 분기관(412)을 갖는다.The
그리고, 상기 분기관(412)에 상기 개폐 밸브(413)가 설치된다.The branch pipe (412) is provided with the on-off valve (413).
여기서, 상기 제 1분사 라인(310)의 단부는 상기 고속 분사부 몸체(410)의 일단부에 설치된다.Here, the end of the
상기 제 2분사 라인(320)의 단부는 상기 고속 분사부 몸체(411)의 타단부에 설치된다.The end of the
상기 제 1분사 라인(310)과 상기 제 2분사 라인(320)의 단부는 마주 보는 방향을 따르고 서로 이격된 상태를 형성한다.The ends of the
또한, 상기 제 1분사 라인(310)과 상기 제 2분사 라인(320)의 단부는 마주 보는 방향을 따라 유로 면적이 점진적으로 좁아지도록 형성된다.In addition, the ends of the
따라서, 제 1분사 라인(310)의 단부로 토출되는 정화수는 유속이 증가되고, 이와 같이 유속이 증가되는 상태로 제 2분사 라인(320)의 단부로 속도가 더 증가되면서 유입될 수 있다.Therefore, the purified water discharged to the end of the
이때, 고속 분사부 몸체(411) 내부에 형성되는 산소가 유동되는 정화수에 추가적으로 용해될 수 있다.At this time, the oxygen formed inside the high-
그리고, 제 2분사 라인(320)에서 유동되는 정화수는 상기와 같이 증가된 유속을 기준으로 가속을 이루어 연못(1)으로 분사될 수 있다.The purified water flowing in the
또한, 상기 제 1,2분사 라인(310,320)의 단부 사이의 이격 거리는 조절될 수 있다.In addition, the distance between the ends of the first and
예컨대, 제 1,2분사 라인(310,320)이 고속 분사부 몸체(411)의 일단부 및 타단부에 스크류 결합되는 경우, 길이 조절이 가능할 수 있다.For example, when the first and
이에 따라, 상기와 같이 고속 분사부 몸체(411) 내에서의 제 1,2분사 라인(310,320) 단부 간의 거리를 조절하거나, 개폐 밸브(413)의 개폐 정도를 조절함으로써, 정화수에 공급되어 용해되는 산소의 양을 효율적으로 조절할 수 있다.Accordingly, by adjusting the distance between the ends of the first and
이에 더하여, 상기 개폐 밸브(413)를 자동 밸브로 구성하고, 제 2분사 리인(320)에서 유동되는 정화수에 용해되는 용존 산소량을 측정하는 센서(미도시)를 설치할 수도 있다.In addition, the on-off
이러한 경우,센서는 제 2분사 라인(320)에서 유동하는 정화수에 포함되는 용존 산소량을 측정하여, 이를 제어기(520)로 전송한다.In this case, the sensor measures the amount of dissolved oxygen contained in the purified water flowing in the
상기 제어기(520)는 측정한 용존 산소량이 기설정되는 용존 산소량의 범위에 포함될 수 있도록 자동 밸브(413)의 개폐 정도를 조절하여, 공급되는 산소의 양을 조절하도록 할 수 있다.The
도 5는 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 다른 실시예의 구성을 보여주는 도면이다.5 is a diagram showing a configuration of another embodiment of a fractional water system having the bubble purification unit of the present invention.
또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 상술한 본 발명에 따르는 버블 정화부들(200,200')을 병렬로 관들을 통해 연결할 수도 있다.In addition, as shown in FIG. 5, the
이에 더하여, 분사 라인(300)에는 상기 분사 라인(300)을 따라 유동되어 유입되는 상기 정화수를 도 6에 도시된 바와 같은 살균 처리부(600)가 더 설치된다.In addition, a
상기 살균 처리부(600)는 내부에 살균 공간이 형성되는 살균 처리부 몸체(610)를 갖는다.The
상기 살균 공간에는 살균 처리 부재들(620)이 간격을 이루어 설치된다.
상기 살균 처리 부재(620)는 광촉매 또는 오존 또는 금속 여과망을 사용할 수 있다.The sterilizing
따라서, 분사 라인(300)을 따라 유동되는 정화수는 살균 처리 부재들(620)에 접촉되면서 추가적으로 정화되어 분사부로 유동될 수 있다.Accordingly, the purified water flowing along the
상기의 구성 및 작용에 따라 본 발명에 따르는 실시예는 공급되는 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하고, 다중의 여과막 및 다공질의 여재를 사용하여 이물질을 제거함과 동시에 산소를 강제 공급하여 외부 오염수를 정화여 연못으로 분사할 수 있는 효과를 갖는다.According to the above-described configuration and operation, in the embodiment of the present invention, foreign matter contained in the supplied polluted water is subjected to a floating treatment, foreign matters are removed using multiple filtration membranes and porous filter media, So that it can be sprayed to the cleaning pond.
또한, 본 발명은, 연못으로 분사되도록 유동되는 유체가 설정된 이상의 오염도를 형성하는 경우, 정화부를 자체 세척할 수 있는 효과를 갖는다.Further, the present invention has the effect of self-cleaning the purging portion when the fluid flowing through the pond forms a predetermined degree of contamination.
이상, 본 발명의 버블 형성부를 갖는 분수시스템에 관한 구체적인 실시예들에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 실시 변형이 가능함은 자명하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it should be understood that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention.
그러므로 본 발명의 범위에는 설명된 실시예에 국한되어 전해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims and equivalents thereof.
즉, 전술된 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술될 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 그 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
It is to be understood that the foregoing embodiments are illustrative and not restrictive in all respects and that the scope of the present invention is indicated by the appended claims rather than the foregoing description, It is intended that all changes and modifications derived from the equivalent concept be included within the scope of the present invention.
10 : 제 1관 20 : 제 2관
100 : 부유 처리부 110 : 펌프
120 : 컴프레셔(공급부) 130 : 오염수 공급 라인
131 : 보조 오염수 공급 라인 140 : 산소 공급 라인
141 : 보조 산소 공급 라인 200 : 버블 정화부
201 : 버블 형성 공간 210 : 버블 정화부 몸체
220 : 정화 부재 221 : 금속 메쉬 부재
222 : 정화 그레인 300 : 분사 라인
310 : 제 1분사 라인 320 : 제 2분사 라인
400 : 분사부 410 : 고속 분사부
411 : 고속 분사부 몸체 412 : 분기관
413 : 개폐 밸브 500 : 세척 장치
510 : 탁도 측정 센서 520 : 제어기
530 : 배출부 600 : 살균 처리부
610 : 살균 처리부 몸체 620 : 살균 처리 부재10: first pipe 20: second pipe
100: Floating unit 110: Pump
120: compressor (supply part) 130: contaminated water supply line
131: auxiliary polluted water supply line 140: oxygen supply line
141: auxiliary oxygen supply line 200: bubble purification unit
201: bubble forming space 210: bubble purifying body
220: purge member 221: metal mesh member
222: purge grain 300: injection line
310: first injection line 320: second injection line
400: jetting part 410: high-speed jetting part
411: High-speed jetting body 412:
413: opening / closing valve 500: cleaning device
510: turbidity measurement sensor 520: controller
530: discharging part 600: sterilizing treatment part
610: Sterilization treatment body 620: Sterilization treatment member
Claims (10)
상기 부유 처리부와 연결되며, 부유 처리된 상기 오염수와 외부로부터 공급받은 산소를 동시에 공급받아 버블 발생 및 산소를 포화시켜 상기 오염수를 2차 정화하여 정화수로 형성하는 버블 정화부; 및
상기 버블 정화부와 연결되며, 상기 정화수를 외부로 분사하는 분사부를 포함하고,
상기 버블 정화부는, 내부 공간이 형성되는 중공 형상의 버블 정화부 몸체와, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 직립되는 상태로 배치되며, 상기 오염수와 물리적으로 접촉되어 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 상기 오염수를 정화수로 정화하는 정화 부재를 구비하되, 상기 버블 정화부 몸체의 상단부에는, 상기 부유 처리된 상기 오염수를 공급 받는 오염수 공급 라인과, 상기 산소를 공급 받는 산소 공급 라인이 연결되고, 상기 버블 정화부 몸체의 하단에는, 상기 정화수를 상기 분사부로 공급하는 분사 라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
A floating processing unit for floating the foreign matters contained in the contaminated water to perform primary purification;
A bubble purifier connected to the floating processing unit, for simultaneously supplying the flooded polluted water and oxygen supplied from the outside to generate bubbles and oxygen to purify the contaminated water to form purified water; And
And a jetting part connected to the bubble cleaning part and spraying the purified water to the outside,
The bubble purifying unit includes a hollow bubble purifying body body having an internal space formed therein and a bubble purifying body body disposed in a state in which the internal space of the bubble purifying body body is erected and physically contacted with the contaminated water, And a purifying member for purifying the contaminated water by purifying the contaminated water, wherein an upper part of the bubble purifying body is provided with a polluted water supply line supplied with the flooded polluted water and an oxygen supply line supplied with oxygen, And a spray line for supplying the purified water to the spray part is connected to the lower end of the bubble purifying part body.
상기 정화 부재는,
원통 형상으로 형성되며, 일정의 메쉬를 이루어 상기 오염수를 1차 여과하는 다공성의 금속 메쉬 부재와,
상기 금속 메쉬 부재의 내부 공간에 채워지며, 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 2차 여과하는 정화 그레인을 구비하되,
상기 금속 메쉬 부재는 내부식성을 갖는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the purifying member comprises:
A porous metal mesh member formed into a cylindrical shape and having a predetermined mesh to primarily filter the contaminated water;
And a purifying grain which is filled in the inner space of the metal mesh member and which removes foreign matter contained in the polluted water and performs secondary filtration,
Wherein the metal mesh member is made of a material having corrosion resistance.
상기 정화 부재는, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 중심축을 따르도록 배치되고,
상기 금속 메쉬 부재의 외주와 상기 버블 정화부 몸체의 내주 사이에는 버블 형성 영역이 형성되고,
상기 오염수 공급 라인과 상기 산소 공급 라인은 상기 버블 형성 영역에 노출되도록 연결되고,
상기 분사 라인은, 상기 정화 그레인에 노출되도록 연결되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method of claim 3,
Wherein the purifying member is disposed along an inner space central axis of the bubble purifying body,
A bubble forming region is formed between the outer periphery of the metal mesh member and the inner periphery of the bubble purification body,
The contaminated water supply line and the oxygen supply line are connected to be exposed to the bubble forming region,
Wherein the spray line is connected to be exposed to the purging grain.
상기 금속 메쉬 부재의 외면에는 광촉매 코팅층이 형성되고,
상기 정화 그레인은, 광촉매 그레인인 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
5. The method of claim 4,
A photocatalytic coating layer is formed on an outer surface of the metal mesh member,
Wherein the purifying grain is a photocatalytic grain.
상기 버블 정화부는, 다수로 구비되어
상기 부유 처리부와 상기 분사부의 사이에서 병렬 또는 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
5. The method of claim 4,
The bubble purifying unit may include a plurality of bubble purifying units
And the bubble purification unit is connected in parallel or in series between the floating unit and the injection unit.
상기 분사 라인에는, 상기 분사 라인을 따라 유동되어 유입되는 상기 정화수를 정화시키는 살균 처리부가 더 설치되고,
상기 살균은, 광촉매 또는 오존 또는 금속 여과망을 사용하는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method according to claim 4 or 6,
Wherein the spray line further includes a sterilizing treatment unit for cleaning the purified water flowing along the spray line,
Characterized in that the sterilization uses a photocatalyst or an ozone or metal filter network.
상기 분수시스템는, 세척 유닛을 더 구비하되,
상기 세척 유닛은,
상기 버블 정화부 몸체의 하단을 통해, 상기 버블 형성 영역의 내부로 1차 정화 처리된 오염수와 외부 산소를 강제 공급하여 오염수를 부양시키는 공급부와,
상기 버블 형성 영역과 연결되도록 상기 버블 정화부 몸체의 하단에 연결되며, 상기 정화 부재로부터 이물질이 탈락되어 하강되는 오염수를 외부로 배출하는 배출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
5. The method of claim 4,
The fractional system further comprises a cleaning unit,
The cleaning unit includes:
A supply unit for supplying the contaminated water and the external oxygen to the inside of the bubble forming area through the lower end of the bubble cleaning unit body to forcibly supply the contaminated water,
And a discharge unit connected to a lower end of the bubble purifying unit body to be connected to the bubble forming area and discharging the contaminated water dropped from the purifying member to the outside.
상기 세척 유닛은, 오염도 측정부를 더 구비하되,
상기 오염도 측정부는,
상기 분사 라인 상에 설치되며, 분사되는 상기 정화수의 탁도를 측정하는 탁도 센서와,
측정된 탁도가 기설정되는 기준 탁도 범위에 포함되도록 상기 세척 유닛을 구동하는 제어기를 구비하는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
9. The method of claim 8,
The cleaning unit may further include a pollution degree measuring unit,
The pollution degree measuring unit may measure,
A turbidity sensor installed on the spray line for measuring the turbidity of the purified water to be sprayed,
And a controller for driving the cleaning unit such that the measured turbidity is included in a predetermined reference turbidity range.
상기 분사 라인은, 제 1분사 라인과 상기 제 1분사 라인과 대응되도록 배치되는 제 2분사 라인을 구비하고,
상기 분사부는, 고속 분사부를 구비하고,
상기 고속 분사부는, 내부에 유동 공간이 형성되고, 상기 유동 공간을 외부로 노출시키는 분기관을 갖는 고속 분사부 몸체와, 상기 분기관에 설치되는 개폐 밸브를 구비하되,
상기 제 1분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 일단부에 설치되고,
상기 제 2분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 타단부에 설치되고,
상기 제 1분사 라인과 상기 제 2분사 라인의 단부는 마주 보는 방향을 따라 유로 면적이 점진적으로 좁아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.The method according to claim 1,
Wherein the injection line includes a first injection line and a second injection line arranged to correspond to the first injection line,
Wherein the jetting section has a high-speed jetting section,
The high-speed jetting unit includes a high-speed jetting body having a fluidizing space formed therein and exposing the fluidizing space to the outside, and an on-off valve installed in the branching duct,
Wherein an end of the first injection line is installed at one end of the fast injection body,
The end of the second injection line is installed at the other end of the high-speed jet body,
Wherein the end of the first injection line and the end of the second injection line are formed such that the flow passage area is gradually narrowed along the opposite direction.
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