KR101417868B1 - A fountain device - Google Patents

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KR101417868B1
KR101417868B1 KR1020130048346A KR20130048346A KR101417868B1 KR 101417868 B1 KR101417868 B1 KR 101417868B1 KR 1020130048346 A KR1020130048346 A KR 1020130048346A KR 20130048346 A KR20130048346 A KR 20130048346A KR 101417868 B1 KR101417868 B1 KR 101417868B1
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bubble
purifying
unit
water
line
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KR1020130048346A
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최연하
안호성
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한우리(주)
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Abstract

The present invention provides a fountain system having a bubble purification part which includes a floating presses part which firstly purifies contaminated water having a foreign substance by a floating process; a bubble purification part which is connected to the floating process part and secondly purifies the contaminated water by saturating oxygen and generating bubble by receiving and the contaminated water and oxygen supplied from the outside; and a bubble purification part which is connected to the bubble purification part and includes an injection part which injects the purified wafer to the outside.

Description

버블 정화부를 갖는 분수장치{A FOUNTAIN DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a fountain apparatus having a bubble purification unit,

본 발명은 분수시스템에 관한 것으로서, 오염수를 다중으로 정화하여 분사할 수 있는 버블 정화부를 갖는 분수시스템에 관한 것이다.
The present invention relates to a fractional system, and more particularly to a fractional system having a bubble purifier capable of multiplying and purifying contaminated water.

일반적으로, 분수시스템은 수중의 물을 펌프로 강제 순환시켜 분사 노즐을 통해 공중으로 수직 분출하여 분출된 물이 다시 떨어지는 식으로 연속적인 물의 순환을 통해 분출되는 물 줄기를 보여주는 것으로, 상방 분출되는 하얀 물 줄기에 의해 보는 이에게 시각적인 아름다움과 시원함을 제공하고, 물 입자가 쪼개지면서 방출되는 음 이온에 의해 건강에 유익하도록 하며, 훌륭한 조경미 등을 제공한다.Generally, a fountain system is a system that circulates water in water through a pump and vertically ejects the water vertically through the spray nozzle to show the water stem that is ejected through the circulation of the continuous water in such a manner that the ejected water drops again. Provides visual beauty and coolness to the viewer through the water stem, provides health benefits to negative ions emitted by splitting water particles, and provides excellent beauty.

분수시스템이 설치되는 생태 연못과 같은 인공 수조 내의 물은 담수되어 정체된 채로 고여 있음에 따라 자정 능력이 많이 떨어져 쉽게 오염 및 부패될 수 있음으로써, 악취를 발산하고 탁도가 불량해지는 것에 의해 관람자에게 혐오감을 야기하고, 건강에 유해하도록 하며, 경관을 해치는 등의 문제점이 있다.The water in the artificial water tank, such as the ecological pond where the fountain system is installed, is flooded and stagnant, so that the water can be easily polluted and decayed due to a large capacity of self-purification, thereby disgusting the spectator , Causing harm to health, and harming the landscape.

본 발명과 관련된 선행문헌으로는 대한민국 등록실용 제20-04458830000호 (등록일 : 2009년 08월 31일)가 있으며, 상기 선행문헌에는 물 정화 기능을 갖는 부유식 분수시스템에 대한 기술이 개시된다.
A prior art related to the present invention is the Korean Registered Utility Application No. 20-04458830000 (filed on August 31, 2009), which discloses a floating water system having a water purifying function.

본 발명의 목적은, 공급되는 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하고, 다중의 여과막 및 다공질의 여재를 사용하여 이물질을 제거함과 동시에 산소를 강제 공급하여 외부 오염수를 정화하여 연못으로 분사할 수 있는 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 제공함에 있다.It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for suspending foreign matter contained in supplied polluted water, removing foreign matter using multiple filtration membranes and porous filter media, And a bubble purification unit having a bubble purification unit.

본 발명의 다른 목적은, 연못으로 분사되도록 유동되는 유체가 설정된 이상의 오염도를 형성하는 경우, 정화부를 자체 세척할 수 있는 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 제공함에 있다.
Another object of the present invention is to provide a fractional system having a bubble purification unit capable of cleaning the purification unit itself when the fluid flowing through the pond forms a predetermined degree of contamination.

바람직한 양태에 있어서, 본 발명은 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하여 1차 정화하는 부유 처리부와; 상기 부유 처리부와 연결되며, 부유 처리된 상기 오염수와 외부로부터 공급받은 산소를 동시에 공급받아 버블 발생 및 산소를 포화시켜 상기 오염수를 2차 정화하여 정화수로 형성하는 버블 정화부; 및 상기 버블 정화부와 연결되며, 상기 정화수를 외부로 분사하는 분사부를 포함하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 제공한다.In a preferred embodiment of the present invention, the present invention provides a water treatment system comprising: a floating processing unit for subjecting a foreign matter contained in contaminated water to a float treatment and a primary purification; A bubble purifier connected to the floating processing unit and supplied with the floating water and oxygen supplied from outside to simultaneously generate bubbles and oxygen to purify the contaminated water to form purified water; And a bubble purifier connected to the bubble purifier and including a sprayer for spraying the purified water to the outside.

상기 버블 정화부는, 내부 공간이 형성되는 중공 형상의 버블 정화부 몸체와, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 직립되는 상태로 배치되며, 상기 오염수와 물리적으로 접촉되어 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 상기 오염수를 정화수로 정화하는 정화 부재를 구비한다.The bubble purifying unit includes a hollow bubble purifying body body having an internal space formed therein and a bubble purifying body body disposed in a state in which the internal space of the bubble purifying body body is erected and physically contacted with the contaminated water, And a purifying member for purifying the contaminated water with purified water.

상기 버블 정화부 몸체의 상단부에는, 상기 부유 처리된 상기 오염수를 공급 받는 오염수 공급 라인과, 상기 산소를 공급 받는 산소 공급 라인이 연결되고, 상기 버블 정화부 몸체의 하단에는, 상기 정화수를 상기 분사부로 공급하는 분사 라인이 연결되는 것이 바람직하다.Wherein the bubble purifying unit body is connected to an upper end portion of the bubble purifying unit body by a contaminated water supply line supplied with the flooded polluted water and an oxygen supply line to which the oxygen is supplied, It is preferable that a spray line to be supplied to the spray portion is connected.

상기 정화 부재는, 원통 형상으로 형성되며, 일정의 메쉬를 이루어 상기 오염수를 1차 여과하는 다공성의 금속 메쉬 부재와, 상기 메쉬 부재의 내부 공간에 채워지며, 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 2차 여과하는 정화 그레인을 구비한다.The purifying member may include a porous metal mesh member that is formed in a cylindrical shape and has a predetermined mesh to primarily filter the polluted water and a porous metal mesh member that is filled in the inner space of the mesh member and removes foreign matter contained in the polluted water And a purifying grain for secondary filtration.

상기 금속 메쉬 부재는 내부식성을 갖는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.The metal mesh member is preferably formed of a material having corrosion resistance.

상기 정화 부재는, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 중심축을 따르도록 배치되고, 상기 금속 메쉬 부재의 외주와 상기 버블 정화부 몸체의 내주 사이에는 버블 형성 영역이 형성되고, 상기 오염수 공급 라인과 상기 산소 공급 라인은 상기 버블 형성 영역에 노출되도록 연결되고, 상기 분사 라인은, 상기 정화 그레인에 노출되도록 연결되는 것이 바람직하다.Wherein the purifying member is disposed along a central axis of an inner space of the bubble purifying body and a bubble forming region is formed between an outer periphery of the metal mesh member and an inner periphery of the bubble purifying body, The oxygen supply line is connected to be exposed to the bubble forming region, and the injection line is connected to be exposed to the purifying grain.

상기 금속 메쉬 부재의 외면에는 광촉매 코팅층이 형성되고, 상기 정화 그레인은, 광촉매 그레인인 것이 바람직하다.A photocatalytic coating layer is formed on an outer surface of the metal mesh member, and the purified grained particle is a photocatalytic grain.

상기 버블 정화부는, 다수로 구비될 수 있다.The bubble purification unit may include a plurality of bubble purification units.

여기서, 상기 부유 처리부와 상기 분사부의 사이에서 병렬 또는 직렬로 연결될 수 있다.Here, the floating unit and the jet unit may be connected in parallel or in series.

상기 분사 라인에는, 상기 분사 라인을 따라 유동되어 유입되는 상기 정화수를 살균 처리부가 더 설치된다.The spray line is further provided with a sterilizing treatment unit for flowing the purified water flowing along the spray line.

상기 살균은, 광촉매 또는 오존 또는 금속 여과망을 사용하는 것이 바람직하다.The sterilization is preferably carried out using a photocatalyst or an ozone or metal filter network.

상기 분수시스템는, 세척 유닛을 더 구비한다.The fractional system further comprises a cleaning unit.

상기 세척 유닛은, 상기 버블 정화부 몸체의 하단을 통해, 상기 버블 형성 영역의 내부로 1차 정화 처리된 오염수와 외부 산소를 강제 공급하여 오염수를 부양시키는 공급부와, 상기 버블 형성 영역과 연결되도록 상기 버블 정화부 몸체의 하단에 연결되며, 상기 정화 부재로부터 이물질이 탈락되어 하강되는 오염수를 외부로 배출하는 배출부를 구비하는 것이 바람직하다.The cleaning unit may include a supply unit for supplying the contaminated water to the inside of the bubble forming area through the lower end of the bubble cleaning unit forcibly supplying the contaminated water and the external oxygen to flood the contaminated water, And a discharge unit connected to a lower end of the bubble purifying unit body and discharging the contaminated water dropped from the purifying member to the outside.

상기 세척 유닛은, 오염도 측정부를 더 구비한다.The cleaning unit further includes a pollution degree measuring unit.

상기 오염도 측정부는, 상기 분사 라인 상에 설치되며, 분사되는 상기 정화수의 탁도를 측정하는 탁도 센서와, 측정된 탁도가 기설정되는 기준 탁도 범위에 포함되도록 상기 세척 유닛을 구동하는 제어기를 구비하는 것이 바람직하다.The contamination degree measuring unit may include a turbidity sensor installed on the spray line for measuring the turbidity of the purified water to be sprayed and a controller for driving the cleaning unit such that the measured turbidity is included in the reference turbidity range desirable.

상기 분사 라인은, 제 1분사 라인과 상기 제 1분사 라인과 대응되도록 배치되는 제 2분사 라인을 구비하고, 상기 분사부는, 고속 분사부를 구비한다.The jetting line includes a first jetting line and a second jetting line arranged to correspond to the first jetting line, and the jetting unit has a high-velocity jetting unit.

상기 고속 분사부는, 내부에 유동 공간이 형성되고, 상기 유동 공간을 외부로 노출시키는 분기관을 갖는 고속 분사부 몸체와, 상기 분기관에 설치되는 개폐 밸브를 구비한다.The high-speed jet unit includes a high-speed jet body having a fluid space formed therein and exposing the fluid space to the outside, and an open / close valve installed in the branch.

상기 제 1분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 일단부에 설치되고, 상기 제 2분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 타단부에 설치되고, 상기 제 1분사 라인과 상기 제 2분사 라인의 단부는 마주 보는 방향을 따라 유로 면적이 점진적으로 좁아지도록 형성되는 것이 바람직하다.
Wherein an end of the first injection line is installed at one end of the fast injection body and an end of the second injection line is installed at the other end of the body of the fast injection body, It is preferable that the end portion of the line is formed so that the flow path area is gradually narrowed along the facing direction.

본 발명은, 공급되는 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하고, 다중의 여과막 및 다공질의 여재를 사용하여 이물질을 제거함과 동시에 산소를 강제 공급하여 외부 오염수를 정화여 연못으로 분사할 수 있는 효과를 갖는다.The present invention relates to an effect of floating foreign matter contained in supplied polluted water, removing foreign matter by using multiple filtration membranes and a porous filter medium, and simultaneously supplying oxygen to the purified water pond .

또한, 본 발명은, 연못으로 분사되도록 유동되는 유체가 설정된 이상의 오염도를 형성하는 경우, 정화부를 자체 세척할 수 있는 효과를 갖는다.
Further, the present invention has the effect of self-cleaning the purging portion when the fluid flowing through the pond forms a predetermined degree of contamination.

도 1은 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따르는 버블 정화부에서의 정화 과정을 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따르는 버블 정화부에서의 세척 과정을 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 고속 분사부의 구성을 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 다른 실시예의 구성을 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명에 따르는 살균 처리부를 보여주는 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view showing a configuration of a fractional water system having a bubble purification unit of the present invention. Fig.
2 is a view showing a purifying process in the bubble purifying unit according to the present invention.
3 is a view showing a cleaning process in the bubble purification unit according to the present invention.
4 is a view showing a configuration of a high-speed injection part according to the present invention.
5 is a diagram showing a configuration of another embodiment of a fractional water system having the bubble purification unit of the present invention.
6 is a view showing a sterilizing treatment section according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템을 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following is a description of a fractional system having a bubble purifier of the present invention with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 구성을 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view showing a configuration of a fractional water system having a bubble purification unit of the present invention. Fig.

도 1을 참조 하여, 본 발명의 분수시스템의 구성을 설명한다.1, the construction of the fractional system of the present invention will be described.

본 발명의 분수시스템은 크게 부유 처리부(100)와, 바블 정화부(200)와, 분사부(400)로 구성된다.The fountain system of the present invention mainly comprises a floating processing unit 100, a bubble purification unit 200, and a jetting unit 400.

도 1을 참조 하면, 연못(1)과 부유 처리부(100)는 연못(1)과 제 1관(10)을 통해 연결되고, 상기 부유 처리부(100)는 버블 정화부(200)와 제 2관(20)을 통해 연결된다.1, the pond 1 and the floating processing unit 100 are connected to the pond 1 through a first pipe 10, and the floating processing unit 100 is connected to the bubble purification unit 200, (20).

상기 제 2관(20) 상에서, 상기 부유 처리부(100)와 버블 정화부(200)의 사이에는 펌프(110)와, 컴프레셔(120)가 설치된다.A pump 110 and a compressor 120 are installed on the second pipe 20 between the floating unit 100 and the bubble purification unit 200.

상기 컴프레셔(120)는 외부의 산소를 강제로 흡입하여 외부로 공급하는 역할을 한다.The compressor 120 serves to forcibly suck external oxygen and supply it to the outside.

상기 컴프레셔(120)와 상기 버블 정화부(200)는 오염수 공급 라인(130)과 산소 공급 라인(140)으로 연결된다.The compressor 120 and the bubble purification unit 200 are connected to the contaminated water supply line 130 and the oxygen supply line 140.

상기 오염수 공급 라인(130)은 컴프레셔(120)를 통해 제 2관(20)을 통해 유동되는 오염수를 버블 정화부(200)의 내부로 유동시키는 관이다.The contaminated water supply line 130 is a pipe for flowing the polluted water flowing through the second pipe 20 through the compressor 120 into the bubble purification unit 200.

상기 산소 공급 라인(140)은 컴프레셔(120)를 통해 강제 흡입된 산소를 버블 정화부(200)의 내부로 유입시키는 관이다.The oxygen supply line 140 is a pipe for introducing oxygen forced into the bubble purification unit 200 through the compressor 120.

상기 오염수 공급 라인(130)과 산소 공급 라인(140)의 타단은 버블 정화부(200)의 상단에 연결된다.The other end of the contaminated water supply line 130 and the oxygen supply line 140 are connected to the upper end of the bubble purification unit 200.

그리고, 버블 정화부(200)는 분사 라인(300)을 통해 분사부(400)와 연결된다. 상기 분사부(400)는 버블 정화부(200)를 통해 정화된 정화수를 연못(1)으로 분사하는 역할을 한다.The bubble purifying unit 200 is connected to the jetting unit 400 through the jetting line 300. The sprayer 400 injects the purified water purified through the bubble purifier 200 into the pond 1.

여기서, 상술한 버블 정화부(200)의 구성을 설명한다.Here, the configuration of the above-described bubble purifier 200 will be described.

도 1 및 도 2를 참조 하면, 상기 버블 정화부(200)는 버블 정화부 몸체(210)와, 정화 부재(220)로 구성된다.1 and 2, the bubble purification unit 200 includes a bubble purification unit body 210 and a purification member 220.

상기 버블 정화부 몸체(210)는 내부 공간이 형성되며, 상하를 따라 일정 길이를 이루는 중공 형상의 몸체로 구성된다.The bubble purification body 210 includes a hollow body having an inner space and a predetermined length along the upper and lower sides.

상기 버블 정화부 몸체(210)의 내부에는, 상기 정화 부재(220)가 설치된다.The purifying member 220 is installed inside the bubble purifying body 210.

상기 정화 부재(220)는 금속 메쉬 부재(221)와, 정화 그레인(222)으로 구성된다.The purifying member 220 includes a metal mesh member 221 and a purifying grain 222.

상기 금속 메쉬 부재(221)는 원통 형상으로 형성되며, 일정 메쉬를 형성하도록 다공성으로 이루어진다.The metal mesh member 221 is formed in a cylindrical shape and is made porous to form a predetermined mesh.

상기 금속 메쉬 부재(221)는 내부식성을 갖도록 스테인레스 재질로 형성되는 것이 좋다.The metal mesh member 221 may be made of stainless steel so as to have corrosion resistance.

상기 금속 메쉬 부재(221)의 내부에는 상기 정화 그레인(222)이 채워진다.The purge grain 222 is filled in the metal mesh member 221.

여기서, 상기 정화 그레인(222)에는 광촉매가 코팅될 수도 있고, 금속 메쉬 부재(221)의 외면에도 역시 광촉매가 코팅될 수 있다.Here, the purifying grain 222 may be coated with a photocatalyst, and the outer surface of the metal mesh member 221 may also be coated with a photocatalyst.

이에 더하여, 본 발명에 따르는 정화 그레인(222)은 원적외선 물질로 형성될 수도 있다. 상기 원전외선 물질은 바이오 세라믹으로 형성될 수도 있다.In addition, the purging grain 222 according to the present invention may be formed of a far infrared ray material. The nuclear foreign matter may be formed of a bioceramic material.

또한, 금속 메쉬(221)에는 원적외선 물질이 층을 이루어 코팅될 수 있다.In addition, the metal mesh 221 may be coated with a far infrared ray material layer.

본 발명에서는 원적외선의 방출량을 원적외선 방출량이 600 내지 700㎛가 되도록 제조할 수 있다.In the present invention, the emission amount of the far-infrared ray can be manufactured so that the far-infrared ray emission amount is 600 to 700 mu m.

따라서, 본 발명에서는 원적외선 방출량이 없는 경우에 비해, 오염수를 활성화함과 아울러, 탈취 효과를 기대할 수 있다.Therefore, in the present invention, the deodorizing effect can be expected in addition to the activation of the contaminated water, as compared with the case where there is no far-infrared ray emission amount.

또한, 상기 금속 메쉬 부재(221)는 버블 정화부 몸체(210)의 내부 공간에서 중심축을 따라 직립되는 상태로 설치된다. In addition, the metal mesh member 221 is installed upright along the central axis in the inner space of the bubble purification body 210.

그리고, 상기 금속 메쉬 부재(221)의 길이는 버블 정화부 몸체(210)의 내부 상측벽과 하측벽을 잇는 길이로 형성되는 것이 좋다.The length of the metal mesh member 221 may be a length connecting the inner upper side wall and the lower side wall of the bubble purification body 210.

특히, 상기 버블 정화부 몸체(210)의 내주와 금속 메쉬 부재(221)의 외주 사이에는 버블 형성 영역(201)이 형성된다.Particularly, a bubble forming region 201 is formed between the inner periphery of the bubble purification body 210 and the outer periphery of the metal mesh member 221.

상기 버블 형성 영역(201)은 실질적으로 산소와 오염수가 동시에 강제 유입되면서, 버블을 형성하도록 유도하는 공간이다.
The bubble forming region 201 is a space for inducing bubbles to be formed while substantially forcedly introducing oxygen and contaminated water.

다음은, 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 작용을 설명한다.Next, the operation of the fractional system having the bubble purifier of the present invention having the above-described configuration will be described.

도 1 및 도 2를 참조 하면, 연못(1)으로부터 이물질이 포함되는 오염수, 예컨대 빗물은 제 1관(10)을 따라 부유 처리부(100)로 유입된다.1 and 2, contaminated water, for example, rainwater containing foreign matter from the pond 1 flows into the floatation treatment unit 100 along the first pipe 10.

상기 부유 처리부(100)에서는 오염수를 일정 시간 담수한 이후, 이물질을 바닥으로 가라앉게 하는 기능을 갖는다.The floating unit 100 has a function of sinking foreign matter to the floor after dirty water is drained for a predetermined time.

이어, 펌프(110)는 부유 처리부(100)로부터 이물질이 가라앉아 1차 정화된 오염수를 펌핑하여 컴프레셔(120)로 유동시킨다.Then, the pump 110 pumps the contaminated water that has been firstly purified and flows into the compressor 120 while the foreign substance is scattered from the floating processing unit 100.

상기 컴프레셔(120)는 오염수를 오염수 공급 라인(130)으로 유동시킴과 아울러, 외부의 산소를 강제 유입시켜 산소 공급 라인(140)으로 유동시칸다.The compressor 120 flows the polluted water to the polluted water supply line 130 and forcedly flows the oxygen into the oxygen supply line 140.

이와 같이 유동되는 오염수와 산소는 버블 정화부 몸체(210)의 상단을 통해 버블 형성 영역(201)으로 일정 압력을 형성하는 상태로 유입된다.The polluted water and the oxygen flowing in this manner are introduced into the bubble forming region 201 through the upper end of the bubble purification body 210 to form a certain pressure.

이때, 버블 형성 영역(201)의 내부 공간에서는 오염수(물)과, 산소(공기)가 상측에서 하측을 따라 유동된다.At this time, in the inner space of the bubble forming area 201, the contaminated water (water) and oxygen (air) flow along the lower side from the upper side.

이와 같이 유동되는 오염수와 물은 하방으로 유동된 이후, 오염수는 상측으로 유동됨과 아울러, 산소 역시 상측으로 유동된다.After the polluted water and the water flow downward as described above, the polluted water flows upward and oxygen also flows upward.

이에 따라, 버블 형성 영역(201)에서는, 오염수와 산소가 서로 혼합되면서 버블이 발생됨으로써, 산소 포화 상태를 이룬다.Thus, in the bubble forming region 201, the contaminated water and oxygen are mixed with each other to generate bubbles, thereby achieving the oxygen saturation state.

즉, 오염수 자체의 용존 산소량이 증가될 수 있다.That is, the dissolved oxygen amount of the polluted water itself can be increased.

이어, 상기와 같이 산소 포화를 이루는 오염수는 금속 메쉬 부재(221)를 통해 이물질이 여과될 수 있고, 그 내부에 채워지는 정화 그레인들(222)에 물리적으로 접촉됨에 따라 고체 성분의 이물질이 탈락될 수 있다.As described above, the contaminated water that is saturated with oxygen as described above can be filtered through the metal mesh member 221, and the foreign substances of the solid component are removed as they are physically contacted with the purifying grains 222 filled in the metal mesh member 221 .

이에 따라, 본 발명에서는 버블 정화부 몸체(210)로 지속적으로 오염수와 산소를 공급하면서 버블 발생을 유도하고, 이로 인한 차압으로 인해, 분사 라인(300)의 밸브를 자동으로 개방할 수 있다.Accordingly, in the present invention, bubbles are generated while continuously supplying the contaminated water and oxygen to the bubble purification body 210, and the valve of the injection line 300 can be automatically opened due to the differential pressure.

따라서, 상기와 같이 산소 포화 및 이물질이 제거된 상태로 2차 정화된 정화수는 버블 정화부 몸체(210)의 하단에 연결되는 분사 라인(300)으로 유동될 수 있다.Accordingly, the purified water, which is secondarily purified in the state where the oxygen saturation and foreign matter are removed as described above, may flow into the spray line 300 connected to the lower end of the bubble purification body 210.

상기와 같이 분사 라인(300)으로 유동되는 정화수는 분사부(400)에 의해 연못(1)으로 분사될 수 있다. 상기 분사부(1)는 인젝터와 같은 장치일 수 있다.
The purified water flowing into the injection line 300 may be injected into the pond 1 by the injection unit 400 as described above. The jetting section 1 may be a device such as an injector.

한편, 도 1을 참조 하면, 본 발명의 분수시스템는, 세척 유닛(500)을 더 가질 수 잇다.1, the fountain system of the present invention may further have a cleaning unit 500.

상기 세척 유닛(500)은 크게 공급부(120)와, 배출부(530)로 구성된다.The cleaning unit 500 mainly includes a supply unit 120 and a discharge unit 530.

상기 공급부(120)는 상술한 컴프레셔(120) 일 수 있다.The supply unit 120 may be the compressor 120 described above.

상기 공급부(120)는 상기 버블 정화부 몸체(210)의 하단과 연결되어 오염수를 공급하는 보조 오염수 공급 라인(131)과, 외부 산소를 강제 흡입하는 보조 산소 공급라인(141)을 갖는다.The supply unit 120 has an auxiliary polluted water supply line 131 connected to the lower end of the bubble purification body 210 to supply polluted water and an auxiliary oxygen supply line 141 for forcedly sucking external oxygen.

여기서, 상기 보조 산소 공급 라인(141)은 보조 오염수 공급 라인(131)과 연결된다.Here, the auxiliary oxygen supply line 141 is connected to the auxiliary polluted water supply line 131.

또한, 상기 배출부(530)는 상기 버블 형성 영역(201)과 연결되도록 상기 버블 정화부 몸체(210)의 하단에 연결되며, 상기 정화 부재(220)로부터 이물질이 탈락되어 하강되는 오염수를 외부로 배출하는 관이다.The discharging unit 530 is connected to the lower end of the bubble purifying unit body 210 to be connected to the bubble forming area 201. The discharging unit 530 discharges contaminated water dropped from the purifying member 220, .

또한, 본 발명에 따르는 세척 유닛(500)은, 오염도 측정부를 더 가질 수 있다.Further, the cleaning unit 500 according to the present invention may further have a pollution degree measuring unit.

상기 오염도 측정부는 탁도 측정 센서(510)와, 제어기(520)로 구성된다.The contamination level measuring unit includes a turbidity measuring sensor 510 and a controller 520.

상기 탁도 측정 센서(510)는 분사 라인(300) 상에 설치되어 분사 라인(300)을 따라 유동되는 정화수의 탁도를 측정할 수 있다.The turbidity measurement sensor 510 may be installed on the spray line 300 to measure the turbidity of the purified water flowing along the spray line 300.

상기 제어기(520)는 측정된 탁도가 기설정되는 기준 탁도 범위에 포함되도록 상기 세척 유닛(500)을 구동한다.The controller 520 drives the cleaning unit 500 such that the measured turbidity is included in the reference turbidity range to be set.

상기의 구성을 참조 하여 세척 유닛의 작용을 설명한다.The operation of the cleaning unit will be described with reference to the above configuration.

도 1 및 도 3을 참조 하면, 탁도 측정 센서(510)는 분사 라인(300)을 따라 유동되는 정화수의 탁도를 측정하고, 측정된 탁도를 제어기(520)로 전송한다.1 and 3, the turbidity measurement sensor 510 measures the turbidity of the purified water flowing along the jet line 300 and transmits the measured turbidity to the controller 520. [

상기 제어기(520)는 측정된 탁도가 기설정된 기준 탁도 범위에 포함되는 지의 여부를 판단한다.The controller 520 determines whether the measured turbidity is included in the predetermined reference turbidity range.

상기 제어기(520)는 측정된 탁도가 기설정된 기준 탁도 범위에 포함되지 않는 경우, 밸브들을 사용하여 오염수 공급 라인(130) 및 산소 공급 라인(140), 분사 라인(300)을 차단한다.The controller 520 blocks the polluted water supply line 130 and the oxygen supply line 140 and the spray line 300 using valves when the measured turbidity is not included in the preset reference turbidity range.

이어, 상기 제어기(520)는 공급부(120)를 통해 오염수를 보조 오염수 공급 라인(131)을 통해 버블 정화부 몸체(210)의 하단을 통해 버블 형성 영역(201)으로 유입시킨다.The controller 520 causes the contaminated water to flow into the bubble forming area 201 through the lower part of the bubble purification body 210 through the auxiliary polluted water supply line 131 through the supply part 120.

이때, 공급부(120)는 외부 산소를 보조 오염수 공급 라인(141)으로 강제 공급하여 버블 형성 영역(201)으로 오염수를 유입시키기 이전에 버블을 형성하여 산소 포화상태를 이루도록 한다.At this time, the supply unit 120 forcibly supplies external oxygen to the auxiliary polluted water supply line 141 to form bubbles before the contaminated water is introduced into the bubble forming area 201, thereby achieving an oxygen saturation state.

따라서, 실질적으로 버블 형성 영역(201)의 하부 공간으로 점진적으로 유입되면서 이미 버블을 형성한 상태로 유입된다.Therefore, the liquid is gradually introduced into the lower space of the bubble forming region 201 and flows into the bubble forming region 201.

이어, 오염수는 버블 형성 영역(201)에서 부양되면서 정화 부재(220)에 의해 이물질이 탈락되고, 버블 형성 영역(201)의 상부로 유동되면서 세척이 완료된다.Then, the contaminated water is floated in the bubble forming area 201, the foreign matter is removed by the cleaning member 220, and the washing water is moved to the upper part of the bubble forming area 201 to complete the washing.

상기 정화 부재(220)에 의한 정화 방식은 상술한 바와 실질적으로 동일하다.The purifying method by the purifying member 220 is substantially the same as that described above.

그리고, 버블 정화부 몸체(210)의 하단에 연결되는 배출부(530)를 통해, 이물질은 외부로 배출될 수 있다.The foreign matter may be discharged to the outside through the discharge portion 530 connected to the lower end of the bubble purification body 210.

여기서, 상기 제어기(520)는 세척 과정에서의 오염수의 탁도를 측정할 수 있는 보조 탁도 측정 센서(미도시)와 전기적으로 연결된다.Here, the controller 520 is electrically connected to an auxiliary turbidity measuring sensor (not shown) capable of measuring the turbidity of the contaminated water during the washing process.

따라서, 보조 탁도 측정 센서에 의해 측정된 탁도가 기준 탁도 범위에 포함되면, 상기와 같은 세척 유닛의 구동을 즉시 중지한다.Therefore, if the turbidity measured by the auxiliary turbidity measurement sensor is included in the reference turbidity range, the operation of the cleaning unit as described above is immediately stopped.

이어, 상기 제어기(520)는 상술한 바와 같이 분사 라인(300)을 통해 정화수가 분사되도록 제어할 수 있다.
The controller 520 may control the injection of the purified water through the injection line 300 as described above.

도 4는 본 발명에 따른 고속 분사부의 구성을 보여주는 도면이다.4 is a view showing a configuration of a high-speed injection part according to the present invention.

또 한편, 본 발명의 분사부(400)는 도 4에 도시된 바와 같은 고속 분사부(410)를 더 구비할 수 있다.In addition, the jetting unit 400 of the present invention may further include the high-speed jetting unit 410 as shown in FIG.

여기서, 본 발명에 따르는 분사 라인(300)은 제 1분사 라인(310)과 상기 제 1분사 라인(310)과 대응되도록 배치되는 제 2분사 라인(320)로 구성된다.Here, the injection line 300 according to the present invention includes a first injection line 310 and a second injection line 320 arranged to correspond to the first injection line 310.

상기 고속 분사부(410)는 고속 분사부 몸체(411)와, 개폐 밸브(413)로 구성된다.The high-speed jetting unit 410 includes a high-speed jetting body 411 and an opening / closing valve 413.

상기 고속 분사부 몸체(411)는 내부에 유동 공간이 형성되고, 상기 유동 공간을 외부로 노출시키는 분기관(412)을 갖는다.The fast injection body 411 has a flow space formed therein and a branch pipe 412 for exposing the flow space to the outside.

그리고, 상기 분기관(412)에 상기 개폐 밸브(413)가 설치된다.The branch pipe (412) is provided with the on-off valve (413).

여기서, 상기 제 1분사 라인(310)의 단부는 상기 고속 분사부 몸체(410)의 일단부에 설치된다.Here, the end of the first injection line 310 is installed at one end of the fast injection body 410.

상기 제 2분사 라인(320)의 단부는 상기 고속 분사부 몸체(411)의 타단부에 설치된다.The end of the second injection line 320 is installed at the other end of the fast injection body 411.

상기 제 1분사 라인(310)과 상기 제 2분사 라인(320)의 단부는 마주 보는 방향을 따르고 서로 이격된 상태를 형성한다.The ends of the first injection line 310 and the second injection line 320 form a state in which they are spaced apart from each other along the opposite direction.

또한, 상기 제 1분사 라인(310)과 상기 제 2분사 라인(320)의 단부는 마주 보는 방향을 따라 유로 면적이 점진적으로 좁아지도록 형성된다.In addition, the ends of the first injection line 310 and the second injection line 320 are formed to gradually narrow the flow path area along the opposite direction.

따라서, 제 1분사 라인(310)의 단부로 토출되는 정화수는 유속이 증가되고, 이와 같이 유속이 증가되는 상태로 제 2분사 라인(320)의 단부로 속도가 더 증가되면서 유입될 수 있다.Therefore, the purified water discharged to the end of the first injection line 310 can be introduced while the flow velocity is increased and the velocity is further increased to the end of the second injection line 320 in such a state that the flow velocity is increased.

이때, 고속 분사부 몸체(411) 내부에 형성되는 산소가 유동되는 정화수에 추가적으로 용해될 수 있다.At this time, the oxygen formed inside the high-speed jet body 411 may be further dissolved in the purified water flowing.

그리고, 제 2분사 라인(320)에서 유동되는 정화수는 상기와 같이 증가된 유속을 기준으로 가속을 이루어 연못(1)으로 분사될 수 있다.The purified water flowing in the second injection line 320 can be injected into the pond 1 by accelerating based on the increased flow rate as described above.

또한, 상기 제 1,2분사 라인(310,320)의 단부 사이의 이격 거리는 조절될 수 있다.In addition, the distance between the ends of the first and second injection lines 310 and 320 may be adjusted.

예컨대, 제 1,2분사 라인(310,320)이 고속 분사부 몸체(411)의 일단부 및 타단부에 스크류 결합되는 경우, 길이 조절이 가능할 수 있다.For example, when the first and second injection lines 310 and 320 are screwed to one end and the other end of the fast injection body 411, the length can be adjusted.

이에 따라, 상기와 같이 고속 분사부 몸체(411) 내에서의 제 1,2분사 라인(310,320) 단부 간의 거리를 조절하거나, 개폐 밸브(413)의 개폐 정도를 조절함으로써, 정화수에 공급되어 용해되는 산소의 양을 효율적으로 조절할 수 있다.Accordingly, by adjusting the distance between the ends of the first and second injection lines 310 and 320 in the fast injection body 411 as described above, or by adjusting the opening / closing degree of the opening / closing valve 413, The amount of oxygen can be efficiently controlled.

이에 더하여, 상기 개폐 밸브(413)를 자동 밸브로 구성하고, 제 2분사 리인(320)에서 유동되는 정화수에 용해되는 용존 산소량을 측정하는 센서(미도시)를 설치할 수도 있다.In addition, the on-off valve 413 may be an automatic valve, and a sensor (not shown) may be provided to measure the amount of dissolved oxygen dissolved in the purified water flowing in the second injection line 320.

이러한 경우,센서는 제 2분사 라인(320)에서 유동하는 정화수에 포함되는 용존 산소량을 측정하여, 이를 제어기(520)로 전송한다.In this case, the sensor measures the amount of dissolved oxygen contained in the purified water flowing in the second injection line 320 and transmits it to the controller 520.

상기 제어기(520)는 측정한 용존 산소량이 기설정되는 용존 산소량의 범위에 포함될 수 있도록 자동 밸브(413)의 개폐 정도를 조절하여, 공급되는 산소의 양을 조절하도록 할 수 있다.The controller 520 may adjust the amount of oxygen supplied by adjusting the degree of opening and closing of the automatic valve 413 so that the measured dissolved oxygen amount may be included in the predetermined range of dissolved oxygen amount.

도 5는 본 발명의 버블 정화부를 갖는 분수시스템의 다른 실시예의 구성을 보여주는 도면이다.5 is a diagram showing a configuration of another embodiment of a fractional water system having the bubble purification unit of the present invention.

또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 상술한 본 발명에 따르는 버블 정화부들(200,200')을 병렬로 관들을 통해 연결할 수도 있다.In addition, as shown in FIG. 5, the bubble purifiers 200 and 200 'according to the present invention may be connected in parallel through pipes.

이에 더하여, 분사 라인(300)에는 상기 분사 라인(300)을 따라 유동되어 유입되는 상기 정화수를 도 6에 도시된 바와 같은 살균 처리부(600)가 더 설치된다.In addition, a sterilization treatment unit 600 as shown in FIG. 6 is installed in the injection line 300 to flow the purified water flowing along the injection line 300.

상기 살균 처리부(600)는 내부에 살균 공간이 형성되는 살균 처리부 몸체(610)를 갖는다.The sterilization treatment unit 600 has a sterilization treatment unit body 610 in which a sterilization space is formed.

상기 살균 공간에는 살균 처리 부재들(620)이 간격을 이루어 설치된다.Sterilization treatment members 620 are installed at intervals in the sterilization space.

상기 살균 처리 부재(620)는 광촉매 또는 오존 또는 금속 여과망을 사용할 수 있다.The sterilizing member 620 may be a photocatalyst or an ozone or metal filter.

따라서, 분사 라인(300)을 따라 유동되는 정화수는 살균 처리 부재들(620)에 접촉되면서 추가적으로 정화되어 분사부로 유동될 수 있다.Accordingly, the purified water flowing along the injection line 300 can be additionally purified while being contacted with the sterilizing treatment members 620 to flow into the spray part.

상기의 구성 및 작용에 따라 본 발명에 따르는 실시예는 공급되는 오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하고, 다중의 여과막 및 다공질의 여재를 사용하여 이물질을 제거함과 동시에 산소를 강제 공급하여 외부 오염수를 정화여 연못으로 분사할 수 있는 효과를 갖는다.According to the above-described configuration and operation, in the embodiment of the present invention, foreign matter contained in the supplied polluted water is subjected to a floating treatment, foreign matters are removed using multiple filtration membranes and porous filter media, So that it can be sprayed to the cleaning pond.

또한, 본 발명은, 연못으로 분사되도록 유동되는 유체가 설정된 이상의 오염도를 형성하는 경우, 정화부를 자체 세척할 수 있는 효과를 갖는다.Further, the present invention has the effect of self-cleaning the purging portion when the fluid flowing through the pond forms a predetermined degree of contamination.

이상, 본 발명의 버블 형성부를 갖는 분수시스템에 관한 구체적인 실시예들에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 실시 변형이 가능함은 자명하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it should be understood that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention.

그러므로 본 발명의 범위에는 설명된 실시예에 국한되어 전해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims and equivalents thereof.

즉, 전술된 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술될 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 그 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
It is to be understood that the foregoing embodiments are illustrative and not restrictive in all respects and that the scope of the present invention is indicated by the appended claims rather than the foregoing description, It is intended that all changes and modifications derived from the equivalent concept be included within the scope of the present invention.

10 : 제 1관 20 : 제 2관
100 : 부유 처리부 110 : 펌프
120 : 컴프레셔(공급부) 130 : 오염수 공급 라인
131 : 보조 오염수 공급 라인 140 : 산소 공급 라인
141 : 보조 산소 공급 라인 200 : 버블 정화부
201 : 버블 형성 공간 210 : 버블 정화부 몸체
220 : 정화 부재 221 : 금속 메쉬 부재
222 : 정화 그레인 300 : 분사 라인
310 : 제 1분사 라인 320 : 제 2분사 라인
400 : 분사부 410 : 고속 분사부
411 : 고속 분사부 몸체 412 : 분기관
413 : 개폐 밸브 500 : 세척 장치
510 : 탁도 측정 센서 520 : 제어기
530 : 배출부 600 : 살균 처리부
610 : 살균 처리부 몸체 620 : 살균 처리 부재
10: first pipe 20: second pipe
100: Floating unit 110: Pump
120: compressor (supply part) 130: contaminated water supply line
131: auxiliary polluted water supply line 140: oxygen supply line
141: auxiliary oxygen supply line 200: bubble purification unit
201: bubble forming space 210: bubble purifying body
220: purge member 221: metal mesh member
222: purge grain 300: injection line
310: first injection line 320: second injection line
400: jetting part 410: high-speed jetting part
411: High-speed jetting body 412:
413: opening / closing valve 500: cleaning device
510: turbidity measurement sensor 520: controller
530: discharging part 600: sterilizing treatment part
610: Sterilization treatment body 620: Sterilization treatment member

Claims (10)

오염수에 포함되는 이물질을 부유 처리하여 1차 정화하는 부유 처리부;
상기 부유 처리부와 연결되며, 부유 처리된 상기 오염수와 외부로부터 공급받은 산소를 동시에 공급받아 버블 발생 및 산소를 포화시켜 상기 오염수를 2차 정화하여 정화수로 형성하는 버블 정화부; 및
상기 버블 정화부와 연결되며, 상기 정화수를 외부로 분사하는 분사부를 포함하고,
상기 버블 정화부는, 내부 공간이 형성되는 중공 형상의 버블 정화부 몸체와, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 직립되는 상태로 배치되며, 상기 오염수와 물리적으로 접촉되어 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 상기 오염수를 정화수로 정화하는 정화 부재를 구비하되, 상기 버블 정화부 몸체의 상단부에는, 상기 부유 처리된 상기 오염수를 공급 받는 오염수 공급 라인과, 상기 산소를 공급 받는 산소 공급 라인이 연결되고, 상기 버블 정화부 몸체의 하단에는, 상기 정화수를 상기 분사부로 공급하는 분사 라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
A floating processing unit for floating the foreign matters contained in the contaminated water to perform primary purification;
A bubble purifier connected to the floating processing unit, for simultaneously supplying the flooded polluted water and oxygen supplied from the outside to generate bubbles and oxygen to purify the contaminated water to form purified water; And
And a jetting part connected to the bubble cleaning part and spraying the purified water to the outside,
The bubble purifying unit includes a hollow bubble purifying body body having an internal space formed therein and a bubble purifying body body disposed in a state in which the internal space of the bubble purifying body body is erected and physically contacted with the contaminated water, And a purifying member for purifying the contaminated water by purifying the contaminated water, wherein an upper part of the bubble purifying body is provided with a polluted water supply line supplied with the flooded polluted water and an oxygen supply line supplied with oxygen, And a spray line for supplying the purified water to the spray part is connected to the lower end of the bubble purifying part body.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 정화 부재는,
원통 형상으로 형성되며, 일정의 메쉬를 이루어 상기 오염수를 1차 여과하는 다공성의 금속 메쉬 부재와,
상기 금속 메쉬 부재의 내부 공간에 채워지며, 상기 오염수에 포함되는 이물질을 탈락시켜 2차 여과하는 정화 그레인을 구비하되,
상기 금속 메쉬 부재는 내부식성을 갖는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the purifying member comprises:
A porous metal mesh member formed into a cylindrical shape and having a predetermined mesh to primarily filter the contaminated water;
And a purifying grain which is filled in the inner space of the metal mesh member and which removes foreign matter contained in the polluted water and performs secondary filtration,
Wherein the metal mesh member is made of a material having corrosion resistance.
제 3항에 있어서,
상기 정화 부재는, 상기 버블 정화부 몸체의 내부 공간 중심축을 따르도록 배치되고,
상기 금속 메쉬 부재의 외주와 상기 버블 정화부 몸체의 내주 사이에는 버블 형성 영역이 형성되고,
상기 오염수 공급 라인과 상기 산소 공급 라인은 상기 버블 형성 영역에 노출되도록 연결되고,
상기 분사 라인은, 상기 정화 그레인에 노출되도록 연결되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method of claim 3,
Wherein the purifying member is disposed along an inner space central axis of the bubble purifying body,
A bubble forming region is formed between the outer periphery of the metal mesh member and the inner periphery of the bubble purification body,
The contaminated water supply line and the oxygen supply line are connected to be exposed to the bubble forming region,
Wherein the spray line is connected to be exposed to the purging grain.
제 4항에 있어서,
상기 금속 메쉬 부재의 외면에는 광촉매 코팅층이 형성되고,
상기 정화 그레인은, 광촉매 그레인인 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
5. The method of claim 4,
A photocatalytic coating layer is formed on an outer surface of the metal mesh member,
Wherein the purifying grain is a photocatalytic grain.
제 4항에 있어서,
상기 버블 정화부는, 다수로 구비되어
상기 부유 처리부와 상기 분사부의 사이에서 병렬 또는 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
5. The method of claim 4,
The bubble purifying unit may include a plurality of bubble purifying units
And the bubble purification unit is connected in parallel or in series between the floating unit and the injection unit.
제 4항 또는 제 6항에 있어서,
상기 분사 라인에는, 상기 분사 라인을 따라 유동되어 유입되는 상기 정화수를 정화시키는 살균 처리부가 더 설치되고,
상기 살균은, 광촉매 또는 오존 또는 금속 여과망을 사용하는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method according to claim 4 or 6,
Wherein the spray line further includes a sterilizing treatment unit for cleaning the purified water flowing along the spray line,
Characterized in that the sterilization uses a photocatalyst or an ozone or metal filter network.
제 4항에 있어서,
상기 분수시스템는, 세척 유닛을 더 구비하되,
상기 세척 유닛은,
상기 버블 정화부 몸체의 하단을 통해, 상기 버블 형성 영역의 내부로 1차 정화 처리된 오염수와 외부 산소를 강제 공급하여 오염수를 부양시키는 공급부와,
상기 버블 형성 영역과 연결되도록 상기 버블 정화부 몸체의 하단에 연결되며, 상기 정화 부재로부터 이물질이 탈락되어 하강되는 오염수를 외부로 배출하는 배출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
5. The method of claim 4,
The fractional system further comprises a cleaning unit,
The cleaning unit includes:
A supply unit for supplying the contaminated water and the external oxygen to the inside of the bubble forming area through the lower end of the bubble cleaning unit body to forcibly supply the contaminated water,
And a discharge unit connected to a lower end of the bubble purifying unit body to be connected to the bubble forming area and discharging the contaminated water dropped from the purifying member to the outside.
제 8항에 있어서,
상기 세척 유닛은, 오염도 측정부를 더 구비하되,
상기 오염도 측정부는,
상기 분사 라인 상에 설치되며, 분사되는 상기 정화수의 탁도를 측정하는 탁도 센서와,
측정된 탁도가 기설정되는 기준 탁도 범위에 포함되도록 상기 세척 유닛을 구동하는 제어기를 구비하는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
9. The method of claim 8,
The cleaning unit may further include a pollution degree measuring unit,
The pollution degree measuring unit may measure,
A turbidity sensor installed on the spray line for measuring the turbidity of the purified water to be sprayed,
And a controller for driving the cleaning unit such that the measured turbidity is included in a predetermined reference turbidity range.
제 1항에 있어서,
상기 분사 라인은, 제 1분사 라인과 상기 제 1분사 라인과 대응되도록 배치되는 제 2분사 라인을 구비하고,
상기 분사부는, 고속 분사부를 구비하고,
상기 고속 분사부는, 내부에 유동 공간이 형성되고, 상기 유동 공간을 외부로 노출시키는 분기관을 갖는 고속 분사부 몸체와, 상기 분기관에 설치되는 개폐 밸브를 구비하되,
상기 제 1분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 일단부에 설치되고,
상기 제 2분사 라인의 단부는 상기 고속 분사부 몸체의 타단부에 설치되고,
상기 제 1분사 라인과 상기 제 2분사 라인의 단부는 마주 보는 방향을 따라 유로 면적이 점진적으로 좁아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 버블 정화부를 갖는 분수시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the injection line includes a first injection line and a second injection line arranged to correspond to the first injection line,
Wherein the jetting section has a high-speed jetting section,
The high-speed jetting unit includes a high-speed jetting body having a fluidizing space formed therein and exposing the fluidizing space to the outside, and an on-off valve installed in the branching duct,
Wherein an end of the first injection line is installed at one end of the fast injection body,
The end of the second injection line is installed at the other end of the high-speed jet body,
Wherein the end of the first injection line and the end of the second injection line are formed such that the flow passage area is gradually narrowed along the opposite direction.
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