KR101415632B1 - Refractories manufacturing equipment using the crystallization furnace of sapphire made the stabilized zirconia bead minimized the content of yttria - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치에 관한 것이다.
이러한 본 발명에 의하면, 지지대; 상기 지지대 상부에 일방향으로 회동가능하게 구비되어 이트리아를 포함하는 지르코니아를 고주파를 이용한 스컬 용융 방식(Skull Melting Method)으로 용융하는 용융로; 상기 용융로의 하부에 위치되어 상기 용융로로부터 낙하되는 용융된 지르코니아를 향해 고압의 공기를 분사하여 용융 안정화 지르코니아 비드를 생성하는 고압 공기분사유닛; 및 상기 고압 공기분사유닛 하부에 위치하되, 상기 용융로가 기울어지는 방향에 배치되어 상기 용융 안정화 지르코니아 비드를 적층시켜 내화물을 성형하는 내화물 성형유닛; 을 포함하여 구성됨으로써, 사파이어 단결정 성장로 내부에서 초고온의 열을 보온시킴과 아울러 단열을 수행할 수 있게 된다.
The present invention relates to a refractory manufacturing apparatus used in a sapphire single crystal growth furnace made of melt stabilized zirconia beads with minimized yttria content.
According to the present invention, A melting furnace which is rotatable in one direction on the support and melts zirconia containing yttria by a high frequency skull melting method; A high-pressure air injection unit positioned at a lower portion of the melting furnace and injecting high-pressure air toward the molten zirconia falling from the melting furnace to produce melt-stabilized zirconia beads; And a refractory forming unit located below the high-pressure air injection unit, disposed in a direction in which the melting furnace is tilted to form the refractory by laminating the melt-stabilized zirconia beads; So that it is possible to insulate the superheated heat inside the sapphire single crystal growth as well as perform the heat insulation.

Description

이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치{REFRACTORIES MANUFACTURING EQUIPMENT USING THE CRYSTALLIZATION FURNACE OF SAPPHIRE MADE THE STABILIZED ZIRCONIA BEAD MINIMIZED THE CONTENT OF YTTRIA} TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a refractory manufacturing apparatus for use in a sapphire single crystal growth furnace made of a melt-stabilized zirconia bead having a minimized yttria content. BACKGROUND ART [0002]

본 발명은 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 이트리아 함량을 최소화(20wt% → 5wt%)한 용융 안정화 지르코니아 비드로 내화물을 제조할 수 있도록 함으로써, 사파이어 단결정 성장로 내부에서 초고온의 열을 보온시킴과 아울러 단열을 수행하도록 하고, 이트리아 함량을 최소로 하여도 상변태에 의한 부피 팽창이 거의 없으며, 접착제 사용없이 내화물을 제조할 수 있게 하여 기존의 큐빅 지르코니아로 된 내화물에서 접착제로 사용되는 바륨 알루미네이트의 용융온도가 낮아 수명이 짧고 가스(Gas) 방출로 인한 품질 저하를 해소할 수 있고, 제조원가를 대폭 절감할 수 있도록 한 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a refractory manufacturing apparatus for use in a sapphire single crystal growth furnace made of melt stabilized zirconia beads in which the yttria content is minimized, and more particularly, to a refractory manufacturing apparatus for minimizing the yttria content (20 wt%? 5 wt% It is possible to heat the superheated heat inside the sapphire single crystal growth by performing the bead refractory growth and to perform the heat insulation while minimizing the volume expansion due to the phase transformation even when the yttria content is minimized, It is possible to manufacture refractories, so that the melting temperature of the barium aluminate used as an adhesive in the conventional refractory made of cubic zirconia is low, thereby shortening the life span and eliminating the quality deterioration due to gas emission, Melt stabilized zirconia beads with minimized yttria content To a refractory manufacturing apparatus for use in a sapphire single crystal growth furnace.

일반적으로, 내화물(Refractories)은 고온에 견디는 물질로서 적어도 2,000℃이상 고온에서 연화(Softening)하지 않고 그 강도를 충분히 유지하며, 화학적 장용 등에도 견딜수 있는 재료로서, 사파이어 단결정 성장로(Sapphire Single Crystal Growing Apparatus) 등의 내부에서 초고온의 열을 보온하거나 단열을 수행하기 위해 사용되고 있다.Generally, refractories are high temperature resistant materials, which do not soften at a temperature of at least 2,000 ° C or more, maintain their strength sufficiently, and can withstand chemical abuse, etc. As a material of sapphire single crystal growth Apparatus is used to insulate superheated heat or perform insulation.

사파이어 단결정 성장로는 LED 제조에 있어 필수 소재인 사파이어 기판에 증착시킬 수 있는 GaN, GaAIN등 화합물 반도체 단결정 Epi층을 제공하기 위한 것이다. The sapphire single crystal growth is to provide a compound semiconductor single crystal Epi layer such as GaN or GaAIN which can be deposited on a sapphire substrate, which is an essential material for LED manufacturing.

사파이어 단결정 성장에 있어 현재 상용화되고 있는 사파이어 단결정 성장방법으로는 Kyropoulos법, Czochralski법, 열교환법(HEM, Heat Exchange Method), VHGF(Vertical Horizontal Gradient Freezing)법, EFG법(Edge-Defined Film-Fed Growth)법 등이 사용된다. 이러한 방법을 통해 제조된 사파이어 단결정은 고순도(99.99%, 4N급이상) 알루미나(Al2O3) 분말 등을 2,300℃ 이상 고온에 용융시킨 뒤 서서히 결정(Crystal)을 성장시키면서 냉각하여 굳히는 형태로 완성된다.The Sapphire single crystal growth method currently in commercial use for sapphire single crystal growth includes Kyropoulos method, Czochralski method, Heat Exchange Method (HEM), Vertical Horizontal Gradient Freezing (VHGF) method, Edge-Defined Film- ) Method is used. The sapphire single crystal produced by this method is formed by melting a high purity (99.99%, 4N grade or higher) alumina (Al 2 O 3) powder or the like at a temperature of 2,300 ° C. or higher and slowly cooling the crystal by growing it.

상기와 같은, 사파이어 단결정 성장로의 내화물 재료로는 처음에는 금속 몰리브덴이 사용되었다. 이 몰리브덴으로 된 내화물(10)은 두께가 0.5㎜의 몰리브덴 판을 10겹으로 겹쳐서 만들었어도 사용 중 고온으로 인하여 변형이 일어나고, 그 수명이 6개월 내지 1년으로 짧아 경제적이지 못하여 최근에는 큐빅 지르코니아를 분쇄하여 수용성 자재로 접착시켜 브릭(Brick) 상태로 제작하여 사용되고 있다(도 1 참조).Metal molybdenum was first used as a refractory material for sapphire single crystal growth as described above. Even though the molybdenum refractory 10 made of the molybdenum plate having a thickness of 0.5 mm is rolled up to 10 layers, it is deformed due to the high temperature during use and its life is short as 6 months to 1 year, which is not economical. Recently, cubic zirconia And they are ground and bonded with a water-soluble material to produce a brick state (see FIG. 1).

상기와 같이, 큐빅 지르코니아를 이용한 내화물(10) 제조 시 고가(High Price)인 이트리아(Yttria, Y2O3)가 20wt%가 들어가며, 결정(Crystal)으로 성장시키기까지에는 대략 80시간(용융 4시간, 결정성장(Growing) 76시간)이 소요되어 그 생산원가가 높아지게 된다.As described above, 20 wt% of Yttria (Y2O3), which is a high price, is contained in the production of the refractory 10 using cubic zirconia. It takes about 80 hours (melting 4 hours, And 76 hours of crystal growing) are required to increase the production cost.

특히, 기존의 방식은 큐빅 지르코니아를 분쇄하고, 바륨 알루미네이트(BaAl2O4)가 7wt% 함유된 접착제를 이용하여 제조하나, 이 바륨 알루미네이트의 용융온도가 1,815℃로 낮을 뿐만 아니라 고온에서 녹아 발생되는 가스에 의해 사파이어 결정(Sapphire Crystal)의 품질이 저하되며, 수명이 2년 이하로 기대보다 짧다.Particularly, in the conventional method, cubic zirconia is crushed and an adhesive containing barium aluminate (BaAl 2 O 4) of 7 wt% is used. However, since the melting temperature of barium aluminate is as low as 1,815 ° C., The quality of the sapphire crystal is deteriorated, and the life span is shorter than expected for less than 2 years.

이러한 큐빅 지르코니아로 제조된 내화물은, 도 2에 도시된 바와 같이, 대형 용량일 경우 중량이 160㎏정도로 무거울 뿐만 아니라 제작이 어려워 42개의 조각으로 조립되고 있다.As shown in FIG. 2, the refractory made of cubic zirconia has a weight of about 160 kg in the case of a large capacity, and is difficult to manufacture, so that the refractory is assembled into 42 pieces.

또한, 이 방식은 몰리브덴으로 이루어진 내화물에 비하여 보온 효과가 높아 전기 사용량이 20%정도 절감됨에도 불구하고 사용하는 데 불편을 느끼고 있다.In addition, this method is inconvenient to use even though the electricity consumption is reduced by about 20% due to the high insulation effect compared with the refractory made of molybdenum.

한편, 최근에는 사파이어 단결정 성장로에 급격한 온도의 변화에 견딜수 있는 내화성 물질인 지르코니아(Zirconia, ZrO2)가 사용되고 있다. 이 지르코니아는 온도변화에 따라 다양한 상변화를 보여주는 데, 실온에서는 단사정계(Monoclinic)로 있다가 1,170℃에서 정방정계(Tetragonal)구조로 바뀌며 2,300℃에서 육방정계(Cubic)로 바뀌게 된다. 이러한 상변화시 단사정계에서 정방정계로 변할 때 약 5%의 부피변화가 수반되어 입자(Grain)가 깨지는 현상이 발생되는 바, 이는 내화물을 만들 때 치명적인 결함으로 작용된다.On the other hand, recently, zirconia (ZrO 2), which is a refractory material capable of withstanding rapid temperature changes in a sapphire single crystal growth furnace, has been used. The zirconia shows various phase changes according to the temperature change. At room temperature, the zirconia is in a monoclinic state. The zirconia is transformed into a tetragonal structure at 1,170 ° C. and changed to a hexagonal system at 2,300 ° C. When the phase change is changed from a monoclinic system to a tetragonal system, a grain change is accompanied by a volume change of about 5%, which is a fatal defect in the production of refractory materials.

이와 같은 치명적인 결함은 이트리아(Yttria, Y2O3), Cubic 산화물, Calcia 및 Magnesia 등을 넣어 해결하고 있는 데, 이 중 가장 많이 사용되는 첨가물은 일정량(약20몰%) 첨가시 온도 변화에도 육방정계만을 유지하여 부피변화가 일어나지 않아 고온이 요구되는 내화물을 제조할 수 있는 이트리아를 사용하고 있다.These fatal defects are solved by adding Yttria (Y2O3), Cubic oxide, Calcia and Magnesia. Among them, the most commonly used additives are hexagonal system So that it is possible to manufacture a refractory which requires a high temperature because no volume change occurs.

그러나, 이트리아는 높은 가격으로 인해 생산원가의 대부분을 차지하게 되는 문제점(최근에 들어, US$ 100/Kg 를 호가하고 있으므로 지르코니아가 US$ 8/Kg 수준임을 감안하면 생산원가의 대부분을 이트리아가 차지하게 됨)이 있는 바, 이러한 이트리아의 함유량을 최소화하면서도 급열, 급냉시에도 변형이 일어나지 않는 지르코니아 내화물이 요구되고 있는 실정이다.
However, ytria is the most costly production cost due to its high price. (Considering that zirconia is at US $ 8 / Kg in recent years, it is priced at US $ 100 / Kg. And the zirconia refractory is required to minimize the content of yttria and to prevent deformation even during rapid heating and quenching.

본 발명은 다음과 같은 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a refractory manufacturing apparatus for use in a sapphire single crystal growth furnace made of melt stabilized zirconia beads in which the yttria content is minimized as follows.

1) 고가의 이트리아 사용량을 5wt%로 줄이고, 내화물 제조에 소요되는 시간을 결정 성장 시간 필요없이 단지 용융에 필요한 4시간으로 줄일 수 있어 큐빅 지르코니아를 이용한 시간에 비하여 원가를 절감할 수 있도록 하기 위한 것이다.1) It is possible to reduce the amount of expensive yttria to 5 wt% and to reduce the time required for refractory production to 4 hours required for the melting without the need of the crystal growth time, thereby reducing the cost compared to the time using cubic zirconia will be.

2) 용융된 지르코니아를 용융로를 기울여 내화물 성형유닛 측으로 낙하시키는 과정에서 고압의 공기 분사를 통해 생성된 용융 안정화 지르코니아 비드가 내화물 성형유닛 측에서 적층되고, 적층과정에서 별도의 접착제 없이도 냉각되지 않은 용융 안정화 지르코니아 비드가 자연스럽게 서로 붙게 되어 브릭(Brick)이 되면서 냉각이 이루어지게 되므로, 원가를 크게 절감시킬 수 있고, 사용 중 용해되지 않으며 가스 분출이 없는 우수한 품질의 내화물을 얻을 수 있도록 하기 위한 것이다.2) Melting stabilized zirconia beads produced by high-pressure air injection are stacked on the side of the refractory forming unit in the process of tilting the melted zirconia to the side of the refractory forming unit. In the laminating process, unmelted melt stabilization Zirconia beads are naturally adhered to each other so that they are cooled down as they become bricks, so that it is possible to obtain a refractory of excellent quality which can reduce the cost considerably, is not dissolved during use, and does not spout gas.

3) 이트리아 5wt%가 첨가된 용융 지르코니아를 고압 공기로 급속히 냉각시키면 많은 양의 육방정계 물질을 얻을 수 있는 바, 실제 이의 열팽창계수를 측정하여 보면 온도 변화에 따른 상변태가 거의 나타나지 않음을 확인하여 본 발명에 적용할 수 있도록 하기 위한 것이다(도 3 또는 도 4 참조).3) When the molten zirconia with 5 wt% of yttria is rapidly cooled with high-pressure air, a large amount of hexagonal material can be obtained. When the thermal expansion coefficient is measured, it is confirmed that the phase transformation due to the temperature change is hardly observed So as to be applicable to the present invention (see FIG. 3 or FIG. 4).

4) 내화물 내부에 많은 공극이 있어 중량을 크게 줄일 수 있고, 4개의 대형 조각으로 제조할 수 있도록 함으로서, 재료를 절감할 수 있을 뿐만 아니라 공극(Air Gap)에 의한 보온 효과를 향상시킬 수 있도록 하기 위한 것이다(도 11 참조).4) Since there are many pores inside the refractory, the weight can be greatly reduced, and it is possible to manufacture by four large pieces, so that the material can be saved, and the effect of the insulation by the air gap can be improved (See FIG. 11).

5) 공극(Air)을 통해 사파이어 단결정 성장로 내부에서 초고온의 열을 보온시킴과 아울러 단열을 수행할 수 있도록 하기 위한 것이다.5) It is for inserting the ultra-high temperature heat inside the sapphire single crystal growth through the air and performing the insulation.

6) 이트리아를 5wt% 내외로 포함하는 용융 안정화 지르코니아 비드 - 상기 '용융 안정화 지르코니아 비드'는, 대부분이 육방정계 지르코니아로 이루어지되 약간의 육방정계 구조 이외의 구조를 가진다 하여도 급냉을 통해 비드(구슬) 형태로 축적되고, 일정한 공극을 가지게 되어 온도 변화시 내화물의 기본 구조를 유지하는 데 지장이 없는 상태를 의미함 - 로 이루어진 내화물을 온도가 2,300℃를 오르내리는 사파이어 단결정 성장로에 적용할 수 있도록 하기 위한 것이다. 6) Melt-stabilized zirconia beads containing 5 wt% or more of yttria - The above-mentioned 'melt-stabilized zirconia beads' are mostly made of hexagonal zirconia, and even if they have a structure other than some hexagonal structure, Beads) and have a constant pore, meaning that there is no problem in maintaining the basic structure of the refractory when the temperature changes - can be applied to a sapphire single crystal growth furnace with a temperature of up to 2,300 ° C .

7) 내화물의 공극율을 20% 이상 유지하게 되므로 자재전체(이트리아 + 지르코니아)를 20% 이상 절감할 수 있도록 하기 위한 것이다.7) The porosity of the refractory is maintained at 20% or more, so that the total material (yttria + zirconia) can be saved by 20% or more.

8) 지르코니아가 비드형으로 축적되어 일정부분만 서로 접착되는 방식으로 큰 공극을 갖게 함으로써 온도 변화시에도 내화물의 기본 구조를 유지하여 이상적인 내화물을 제작할 수 있도록 하기 위한 것이다.8) It is intended to make ideal refractories by maintaining the basic structure of the refractory even when the temperature is changed by allowing the zirconia to accumulate in a bead shape so that only a certain portion of the zirconia is adhered to each other.

9) 도 4에서 보는 바와 같이, 온도 900℃근처에서 약간의 상변태가 나타나기는 하나 이 상변태를 공극이 흡수하여 내화물 파손을 방지할 수 있도록 하기 위한 것이다.
9) As shown in FIG. 4, although slight phase transformation appears at a temperature of about 900 ° C., it is intended to prevent the refractory breakage by absorbing the phase transformation.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치는, 지지대; 상기 지지대 상부에 일방향으로 회동가능하게 구비되어 이트리아를 포함하는 지르코니아를 고주파를 이용한 스컬 용융 방식(Skull Melting Method)으로 용융하는 용융로; 상기 용융로의 하부에 위치되고, 상·하 방향 및 상기 용융로가 회동하는 전·후 방향으로 이동가능하게 구비되며, 상기 용융로로부터 낙하되는 용융된 지르코니아를 향해 고압의 공기를 분사하여 용융 안정화 지르코니아 비드를 생성하는 고압 공기분사유닛; 및 상기 고압 공기분사유닛 하부의 상기 용융로가 기울어지는 방향에 배치되어 상기 용융 안정화 지르코니아 비드를 적층시켜 내화물을 성형하되, 평판형의 받침대와, 상기 받침대 중앙부에 일정 높이로 구비되는 원통형의 내부성형틀과 상기 내부성형틀과 일정간격 이격되어 상기 용융 안정화 지르코니아 비드가 적층되는 적층공간을 형성하는 외부성형틀로 이루어진 성형틀과, 상기 적층공간에 적층된 상기 용융 안정화 지르코니아 비드가 회전되도록 상기 성형틀에 회전동력을 전달하는 회전구동유닛이 구비된 내화물 성형유닛; 을 포함하여 구성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a refractory manufacturing apparatus for use in a sapphire single crystal growth furnace made of melt stabilized zirconia beads with minimized yttria content. A melting furnace which is rotatable in one direction on the support and melts zirconia containing yttria by a high frequency skull melting method; And a high-pressure air is injected toward the molten zirconia falling from the melting furnace so as to move the molten stabilized zirconia bead in the upward and downward directions and in the forward and backward directions in which the molten furnace rotates, A high pressure air injection unit to generate the high pressure air injection unit; And a molten stabilized zirconia bead disposed in a direction in which the molten furnace is tilted under the high-pressure air injection unit to form a refractory by laminating the molten stabilized zirconia beads, wherein the refractory comprises a plate-like pedestal and a cylindrical inner shaping frame And an external mold for forming a lamination space in which the melt-stabilized zirconia beads are spaced apart from the inner mold by a predetermined distance, the molten stabilized zirconia beads being stacked in the lamination space, A refractory forming unit provided with a rotary drive unit for transmitting rotary power; .

상기 고압 공기분사유닛은 상·하 방향 및 상기 용융로가 회동하는 전·후 방향으로 이동가능하게 구비되는 것을 특징으로 한다.And the high-pressure air injection unit is provided so as to be movable in the upward and downward directions and in the forward and backward directions in which the melting furnace rotates.

상기 내화물 성형유닛은, 평판형의 받침대; 상기 받침대 중앙부에 일정 높이로 구비되는 원통형의 내부성형틀과, 상기 내부성형틀과 일정간격 이격되어 용융 안정화 지르코니아 비드가 적층되는 적층공간을 형성하는 외부성형틀로 이루어진 성형틀; 및 상기 적층공간에 적층된 용융 안정화 지르코니아 비드가 회전되도록 상기 성형틀에 회전동력을 전달하는 회전구동유닛; 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The refractory forming unit includes a flat plate-like pedestal; A forming mold having a cylindrical inner forming mold provided at a predetermined height in the center of the pedestal and an outer forming mold spaced apart from the inner forming mold by a predetermined distance to form a lamination space in which molten stabilized zirconia beads are stacked; And a rotation drive unit for transmitting rotational power to the molding die so that the melt-stabilized zirconia beads stacked in the lamination space are rotated; And a control unit.

상기 외부성형틀은 나사식 체결되는 체결편에 의해 분리가능하게 설치되는 것을 특징으로 한다.And the outer mold is detachably installed by a screw-type fastener.

상기 내화물 성형유닛은 듀얼형으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
And the refractory forming unit is of a dual type.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치에 의하면 다음과 같은 효과를 창출할 수 있다.As described above, according to the refractory manufacturing apparatus used in the sapphire single crystal growth furnace made of the melt stabilized zirconia beads with minimized yttria content according to the present invention, the following effects can be produced.

1) 고가의 이트리아 사용량을 5wt%로 줄이고, 내화물 제조에 소요되는 시간을 결정 성장 시간 필요없이 단지 용융에 필요한 4시간으로 줄일 수 있어 큐빅 지르코니아를 이용한 시간에 비하여 원가를 절감할 수 있는 효과가 있다.1) By reducing the amount of expensive yttria to 5 wt% and reducing the time required for refractory production to 4 hours required for the melting process without the need for a crystal growth time, it is possible to reduce the cost compared to the time using cubic zirconia have.

2) 용융된 지르코니아를 용융로를 기울여 내화물 성형유닛 측으로 낙하시키는 과정에서 고압의 공기 분사를 통해 생성된 용융 안정화 지르코니아 비드가 내화물 성형유닛 측에서 적층되고, 적층과정에서 별도의 접착제 없이도 냉각되지 않은 용융 안정화 지르코니아 비드가 자연스럽게 서로 붙게 되어 브릭(Brick)이 되면서 냉각이 이루어지게 되므로, 원가를 크게 절감시킬 수 있고, 사용 중 용해되지 않으며 가스 분출이 없는 우수한 품질의 내화물을 얻을 수 있는 효과가 있다.2) Melting stabilized zirconia beads produced by high-pressure air injection are stacked on the side of the refractory forming unit in the process of tilting the melted zirconia to the side of the refractory forming unit. In the laminating process, unmelted melt stabilization Since the zirconia beads naturally adhere to each other and become a brick, cooling can be performed. Therefore, it is possible to obtain a high quality refractory material which can be reduced in cost, is not dissolved during use, and does not spout gas.

3) 이트리아 5wt%가 첨가된 용융 지르코니아를 고압 공기로 급속히 냉각시키면 많은 양의 육방정계 물질을 얻을 수 있는 바, 실제 이의 열팽창계수를 측정하여 보면 온도 변화에 따른 상변태가 거의 나타나지 않음을 확인하여 본 발명에 적용할 수 있는 효과가 있다(도 3 또는 도 4 참조).3) When the molten zirconia with 5 wt% of yttria is rapidly cooled with high-pressure air, a large amount of hexagonal material can be obtained. When the thermal expansion coefficient is measured, it is confirmed that the phase transformation due to the temperature change is hardly observed There is an effect that can be applied to the present invention (see FIG. 3 or FIG. 4).

4) 내화물 내부에 많은 공극이 있어 중량을 크게 줄일 수 있고, 4개의 대형 조각으로 제조할 수 있도록 함으로서, 재료를 절감할 수 있을 뿐만 아니라 공극(Air Gap)에 의한 보온 효과를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.(도 11 참조).4) Since there are many pores inside the refractory, the weight can be greatly reduced, and it is possible to manufacture four large pieces so that the material can be saved and the effect of improving the thermal effect by the air gap (See Fig. 11).

5) 공극(Air)을 통해 사파이어 단결정 성장로 내부에서 초고온의 열을 보온시킴과 아울러 단열을 수행할 수 있는 효과가 있다.5) There is an effect that the super high temperature heat can be maintained inside the sapphire single crystal growth through the air and the insulation can be performed.

6) 이트리아를 5wt% 내외로 포함하는 용융 안정화 지르코니아 비드 - 상기 '용융 안정화 지르코니아 비드'는, 대부분이 육방정계 지르코니아로 이루어지되 약간의 육방정계 구조 이외의 구조를 가진다 하여도 급냉을 통해 비드(구슬) 형태로 축적되고, 일정한 공극을 가지게 되어 온도 변화시 내화물의 기본 구조를 유지하는 데 지장이 없는 상태를 의미함 - 로 이루어진 내화물을 온도가 2,300℃를 오르내리는 사파이어 단결정 성장로에 적용할 수 있는 효과가 있다.6) Melt-stabilized zirconia beads containing 5 wt% or more of yttria - The above-mentioned 'melt-stabilized zirconia beads' are mostly made of hexagonal zirconia, and even if they have a structure other than some hexagonal structure, Beads) and have a constant pore, meaning that there is no problem in maintaining the basic structure of the refractory when the temperature changes - can be applied to a sapphire single crystal growth furnace with a temperature of up to 2,300 ° C There is an effect.

7) 내화물의 공극율을 20% 이상 유지하게 되므로 자재전체(이트리아 + 지르코니아)를 20% 이상 절감할 수 있는 효과가 있다.7) Since the porosity of the refractory is maintained at 20% or more, the total material (yttria + zirconia) can be saved by 20% or more.

8) 지르코니아가 비드형으로 축적되어 일정부분만 서로 접착되는 방식으로 큰 공극을 갖게 함으로써 온도 변화시에도 내화물의 기본 구조를 유지하여 이상적인 내화물을 제작할 수 있는 효과가 있다.8) Since zirconia is accumulated in a bead shape and only a certain portion of the zirconia is adhered to each other, it has large pores, so that it is possible to manufacture an ideal refractory by maintaining the basic structure of the refractory even when the temperature changes.

9) 도 4에서 보는 바와 같이, 온도 900℃근처에서 약간의 상변태가 나타나기는 하나 이 상변태를 공극이 흡수하여 내화물 파손을 방지할 수 있는 효과가 있다.
9) As shown in FIG. 4, although slight phase transformation appears at a temperature of about 900 ° C., there is an effect of preventing breakage of the refractory by absorbing the phase transformation.

도 1은 종래 기술에 따른 큐빅 지르코니아를 이용한 브릭(Brick)형 내화물을 도시한 구성도이다.
도 2는 종래 기술에 따른 큐빅 지르코니아로 제조된 대형 용량의 내화물을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 이트리아를 포함한 지르코니아의 상태를 도시한 상태도이다.
도 4는 본 발명에 따른 온도 변화시 지르코니아의 열팽창상태를 도시한 그래프이다.
도 5는 본 발명에 따른 용융 안정화 지르코니아 내화물 제조장치를 도시한 개략적인 구성도이다.
도 6은 본 발명에 따른 용융 안정화 지르콘아 내화물 제조장치를 도시한 개략적인 사시도이다.
도 7은 본 발명에 따른 고압 공기분사유닛을 도시한 사시도이다.
도 8은 본 발명에 따른 고압 공기분사유닛의 이동상태를 도시한 사시도이다.
도 9는 본 발명의 일례에 따른 용융로 토출구를 도시한 평면도이다.
도 10은 본 발명의 다른 예에 따른 용융로의 토출구를 도시한 평면도이다.
도 11은 본 발명에 따른 용융 안정화 지르코니아 내화물 제조장치를 통해 제조된 내화물을 도시한 사시도이다.
도 12는 본 발명에 따른 용융 안정화 지르코니아 내화물의 공극을 도시한 구성도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a brick type refractory using cubic zirconia according to the prior art. FIG.
2 is a perspective view showing a refractory of large capacity made of cubic zirconia according to the prior art.
3 is a state diagram showing the state of zirconia containing yttria according to the present invention.
4 is a graph showing a thermal expansion state of zirconia under a temperature change according to the present invention.
FIG. 5 is a schematic structural view showing an apparatus for producing a melt-stabilized zirconia refractory according to the present invention.
FIG. 6 is a schematic perspective view showing an apparatus for producing a zircon oxide refractory according to the present invention.
7 is a perspective view showing a high-pressure air injection unit according to the present invention.
8 is a perspective view showing the moving state of the high-pressure air injection unit according to the present invention.
9 is a plan view showing a melter discharge port according to an example of the present invention.
10 is a plan view showing a discharge port of a melting furnace according to another example of the present invention.
11 is a perspective view showing refractories manufactured through the apparatus for producing a melt-stabilized zirconia refractory according to the present invention.
12 is a schematic view showing the voids of the melt-stabilized zirconia refractory according to the present invention.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명하기로 한다. 또한, 본 발명은 다양한 구조로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여함을 밝혀둔다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, the same reference numbers are used throughout the drawings to refer to the same or like parts.

본 발명은 고가의 이트리아의 사용량을 낮추면서도 내화물을 형성하는 지르코니아가 육방정계(cubic)를 유지할 수 있는 방법을 찾아내는 것에서 출발한다. 이를 위해, ZrO2-Y2O3 상태도에서 이트리아 함량이 5 ~ 8wt%로 용융된 지르코니아를 정방정계(tetragonal) 구조로는 변화되지 않고 냉각되어 육방정계로 유지할 수 있다면 상변태가 거의 없는 “용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)”를 제조할 수 있을 것으로 판단하였다.The present invention is based on finding out how a zirconia forming a refractory can maintain a cubic shape while lowering the use amount of expensive yttria. To this end, if zirconia melted in an amount of 5 to 8 wt% of yttria in the ZrO 2 -Y 2 O 3 phase can be maintained in a hexagonal system without being changed into a tetragonal structure, the melt stabilized zirconia beads B / Z) ". < / RTI >

실제로 온도를 서서히 내릴 경우, ‘이트리아 함량이 5 ~ 8wt%인 지르코니아’는 통상 정방정계(tetragonal) 구조로 바뀌었다가 실온에서는 단사정계(monoclinic)로 바뀌고, 각 결정의 구조에 따라 부피의 차이가 있게 되어 지르코니아가 온도의 변화에 따라 부서지는 원인이 된다. 이 때, 가장 중요한 것은 흘러넘치는 용광로의 용액이 분사되는 고압공기를 만나는 데 까지 걸리는 시간과 고압공기가 분사되어 비드화를 시킨 후 내화물 성형유닛에 쌓여 뭉쳐지는 시간 그리고 비드의 직경으로서 이들의 조화를 잘 이루는 일이 무엇보다도 중요하다.
When the temperature is gradually lowered, zirconia having an eutria content of 5 to 8 wt% is usually converted into a tetragonal structure and then converted to monoclinic at room temperature. Depending on the structure of each crystal, , Which causes zirconia to break down due to changes in temperature. At this time, the most important thing is the time required to meet the high-pressure air injected by the overflowing blast furnace solution, the time for the high-pressure air to be injected and beaded, and then accumulated in the refractory forming unit and the diameter of the bead, What works well is the most important thing.

본 발명에 따른 이트리아 함량을 최소화한 초저변형성 지르코니아 내화물 제조장치(100)에 의하면, 지지대(110)와, 지지대(110) 상부에 일방향으로 회동가능하게 구비되어 이트리아가 첨가된 지르코니아를 고주파를 이용한 스컬 용융 방식으로 용융하는 용융로(120)와, 용융로(120)의 하부에 위치되어 용융로(120)로부터 낙하되는 용융된 지르코니아를 향해 고압의 공기를 분사하여 용융 안정화 지르코니아 비드를 생성하는 고압 공기분사유닛(130)과, 고압 공기분사유닛(130)의 하부에 위치하되 용융로가 기울어지는 방향에 배치되어 용융 안정화 지르코니아 비드를 적층시켜 내화물을 생성하는 내화물 성형유닛(140)을 포함하여 구성된다.According to an apparatus 100 for manufacturing a super low transformation forming zirconia refractory according to the present invention, zirconia refractory manufacturing apparatus 100 includes support base 110 and zirconia which is rotatable in one direction on support base 110, And a high-pressure air stream, which is located at a lower portion of the melting furnace 120 and injects high-pressure air toward the molten zirconia falling from the melting furnace 120, to generate molten stabilized zirconia beads, And a refractory forming unit 140 disposed below the high-pressure air injecting unit 130 and disposed in a direction in which the melting furnace is inclined to form molten stabilized zirconia beads to produce refractory.

지지대(110)는 바닥면에 지지가능하게 설치되어 용융로(120)를 회동가능하게 지지한다. 이 지지대(110)는 사각 프레임 등으로 이루어져 수직하는 방향에서 일정 높이에 위치되는 용융로(120)를 지지하게 된다.The support base 110 is supported on the bottom surface to support the melting furnace 120 in a rotatable manner. The supporting frame 110 is made of a rectangular frame or the like and supports a melting furnace 120 positioned at a predetermined height in a vertical direction.

용융로(120)는 지지대(110) 상부에 일방향으로 회동가능하게 구비되어 이트리아가 첨가된 지르코니아를 고주파를 이용한 스컬 용융 방식(Skull Melting Method)으로 용융하는 역할을 수행한다.The melting furnace 120 serves to melt the zirconia added with yttria by a skull melting method using a high frequency so as to be rotatable in one direction on the support base 110.

이러한 용융로(120)를 통해 용융되는 지르코니아(산화지르코늄)는 흰색의 결정체로서, 분자량이 123.22이고, 녹는점이 약 2,700℃이며, 단사정계로 보기 드문 광물이다. 지르코니아는 굴절률이 크고 녹는점이 높아서 내식성이 크고 물에 녹지 않으며, 급격한 온도의 변화에 견디므로 급열·급냉의 기구류(예를 들면, 용융로) 및 요업용(窯業用)으로도 중요한 원료로 사용된다. 지르코니아는 실온에서 단사정계로 있다가 1,170℃에서 정방정계 구조로 바뀌며, 2,300℃에서 육방정계로 바뀌는 상변화를 일으키는 바, 지르코니아는 단사정계에서 정방정계로 변할 때 약 5%의 부피변화가 수반되어 입자가 깨지게 되고, 제품화 과정에서 치명적인 결함으로 작용하게 된다.Zirconia (zirconium oxide) melted through the melting furnace 120 is a white crystalline substance having a molecular weight of 123.22 and a melting point of about 2,700 ° C, which is a rare mineral in a monoclinic system. Since zirconia has a high refractive index and a high melting point, it is highly resistant to corrosion and does not dissolve in water, and is resistant to rapid temperature changes. Therefore, it is also used as an important raw material for a rapidly heating and quenching apparatus (for example, a melting furnace) and for ceramics. Zirconia is a monoclinic system at room temperature. It changes into a tetragonal structure at 1,170 ° C and causes a phase change that changes to a hexagonal system at 2,300 ° C. When zirconia is changed from a monoclinic system to a tetragonal system, a volume change of about 5% The particles are broken and act as fatal defects in the production process.

이트리아는 상기와 같이 지르코니아의 상변화 과정에서 입자가 깨지는 것을 방지하기 위해 용융로(120)를 통해 용융되는 지르코니아에 첨가되는 안정화 물질로 사용된다. 이러한 이트리아는 지르코니아 총wt% 대비 약 5 ~ 8wt%를 최소량으로 하여 첨가함이 바람직하다. 이와 같이, 이트리아를 지르코니아 총 wt% 대비 약 5 ~ 8wt%로 첨가하게 되면, 온도 변화에도 육방정계만을 유지하게 되므로 부피변화가 일어나지 않아 훼손되지 않는 내화물(150)을 제조할 수 있게 된다.The yttria is used as a stabilizing material to be added to zirconia that is melted through the melting furnace 120 to prevent particles from breaking during the phase change process of zirconia as described above. The yttria is preferably added in a minimum amount of about 5 to 8 wt% based on the total wt% of zirconia. When the yttria is added in an amount of about 5 to 8 wt% based on the total wt% of zirconia, the refractory 150 can be manufactured without causing any volume change because the hexagonal system is maintained even when the temperature changes.

이와 같이, 지르코니아에 첨가되는 이트리아의 함량을 약 5 ~ 8wt% 정도로 하여 최소화하는 것 외에, 상태도(Phase Diagram) 상 동일조건을 충족한다면 Cubic 산화물, Calcia 및 Magnesia 등 다양한 재료를 지르코니아에 첨가할 수도 있다. 이에 의해, 소요되는 비용을 크게 절감할 수 있다.In addition to minimizing the content of yttria added to zirconia to about 5 to 8 wt%, various materials such as Cubic oxide, Calcia and Magnesia may be added to zirconia if the same conditions are satisfied in the phase diagram It is possible. Thus, the cost required can be greatly reduced.

상기의 용융로(120)는 지르코니아 총중량% 대비 약 5 ~ 8wt%로 첨가된 이트리아를 용융시킨 후, 일방향으로 회동되어 용융된 지르코니아를 공기 중으로 낙하시키는 작업을 수행한다(도 5의 화살표ⓐ 방향 참조). 이러한 용융로(120)에는 융융된 지르코니아를 토출하기 위한 토출구(122)가 형성되는 바, 토출구(122)는 도 9 또는 도 10에 도시된 바와 같이, 역삼각형 또는 평판형 등의 형태를 이루어 용융된 지르코니아를 낙하시키기 용이하도록 하향으로 함몰되게 형성함이 바람직하다.The melting furnace 120 melts yttria added in an amount of about 5 to 8 wt% based on the total weight% of zirconia, and then rotates in one direction to perform the operation of dropping molten zirconia into the air (see arrow ⓐ in FIG. 5) ). A discharge port 122 for discharging fused zirconia is formed in the melting furnace 120. The discharge port 122 is formed in an inverted triangle or flat plate shape as shown in FIG. 9 or 10, It is preferable to form the zirconia so as to sink downward so as to facilitate falling.

상기와 같이, 이트리아가 첨가된 지르코니아를 용융하기 위한 용융로(120)의 크기는 직경이 760㎜, 높이 800㎜로 마련하는 것이 적절하고, 용융방식은 고주파 방식을 이용한다. 아울러, 주파수는 45㎑, 출력전력은 180㎾이 바람직하다. As described above, it is preferable that the size of the melting furnace 120 for melting the yttria-added zirconia is 760 mm in diameter and 800 mm in height, and a high-frequency system is used for the melting method. It is preferable that the frequency is 45 kHz and the output power is 180 kW.

고압 공기분사유닛(130)은 용융로(120)의 하부에 위치되어 용융로(120)로부터 낙하되는 용융된 지르코니아를 향해 고압의 공기(Air)를 분사하여 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)를 생성하는 역할을 수행한다.The high-pressure air injection unit 130 is located below the melting furnace 120 and injects high-pressure air toward the molten zirconia falling from the melting furnace 120 to generate melt stabilized zirconia beads (B / Z) Role.

이를 위해, 고압 공기분사유닛(130)은 공기공급부(132)를 통해 공급된 공기를 공기분사노즐(134)를 이용하여 낙하되는 용융 지르코니아 측으로 분사할 수 있도록 한다.For this purpose, the high-pressure air injection unit 130 allows air supplied through the air supply unit 132 to be injected toward the molten zirconia falling by using the air injection nozzle 134.

이러한 고압 공기분사유닛(130)은 설치환경 또는 용융된 지르코니아의 급냉조건에 따라 실린더(131) 방식에 의해 상·하 방향으로 이동가능하게 설치될 수 있고, 용융로(120)가 회동하는 전·후 방향으로 이동가능하게 구비될 수 있다(도 8의 화살표 ⓑ, ⓒ방향 참조). 고압 공기분사유닛(130)의 상·하·전·후 방향 이동은 실린더(131) 방식외에 기어를 통한 이동방식 등 다양하게 구현할 수도 있다.The high-pressure air injection unit 130 can be installed to be movable in the upward and downward directions by the cylinder 131 system in accordance with the installation environment or the quenching conditions of the molten zirconia. (Refer to the arrows b and c in Fig. 8). The high-pressure air injection unit 130 may be moved upward, downward, backward, and backward in various manners such as a method of moving the high-pressure air injection unit 130 through gears in addition to the cylinder 131 method.

고압 공기분사유닛(130)을 이용하여 용융된 지르코니아를 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)로 형성하는 과정에서, 지르코니아의 결정구조를 결정함과 아울러 내화물(150)을 성형하는 내화물 성형유닛(140)에 적층되는 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 별도의 접착제 없이 서로 접착되는 성질을 가지도록 하는 시간이 매우 중요하다.The refractory forming unit 140 (FIG. 1) for determining the crystal structure of zirconia and forming the refractory 150 in the process of forming the molten zirconia into the melt stabilized zirconia bead (B / Z) by using the high-pressure air injection unit 130 (B / Z) to be laminated on the heat-resistant zirconia beads (B / Z) are bonded together without a separate adhesive.

이와 같은 조건을 충족시킬 수 있도록 이트리아가 포함되어 용융된 지르코니아를 급냉하는 것이 필요한 데, 이를 위해, 용융로(120)와 고압 공기분사유닛(130)과의 거리는 30 ~ 200㎜로 이루어지도록 하고, 고압 공기분사유닛(130)으로부터 분사되는 고압의 공기 압력은 5 ~ 30㎏/㎠을 유지할 수 있도록 함이 바람직하다.In order to satisfy such a condition, it is necessary to quench the molten zirconia containing yttria. To this end, the distance between the melting furnace 120 and the high-pressure air injection unit 130 is set to 30 to 200 mm, It is preferable that the high-pressure air pressure injected from the high-pressure air injection unit 130 can be maintained at 5 to 30 kg / cm 2.

또한, 고압 공기분사유닛(130)으로부터 분사되는 고압의 공기에 의해 생성되는 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)의 직경은 0.2 ~ 7Φ이고, 더욱 바람직하게는 0.7 ~ 4.5Φ이며, 가장 바람직하기로는 1.5 ~ 3.0Φ이다. 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)의 직경을 7Φ이상으로 형성하면 온전히 육방정계가 유지되지 않아 제품이 제대로 만들어지지 않고, 직경이 0.2Φ보다 적은 것은 실질적으로 문제가 되지는 않았지만 바람에 지나치게 날려 작업을 원활히 할 수 없다. 용융 안정화 지르코니아 비드의 직경은 공기의 압력과 공기구멍의 크기에 따라 차이가 있으나 대체로 공기의 압력에 좌우되는 경향이 있다. 본 발명의 장치로는 7Kg/cm2 압력 하에서는 비드의 직경이 평균 3Φ 수준이며, 150 Kg/cm2 경우에는 0.2Φ 내외의 직경을 가진 비드를 얻게 된다. In addition, the diameter of the melt stabilized zirconia beads (B / Z) generated by the high-pressure air injected from the high-pressure air injection unit 130 is 0.2 to 7, more preferably 0.7 to 4.5, 1.5 to 3.0 ?. If the diameter of the melt-stabilized zirconia bead (B / Z) is formed to 7Φ or more, the hexagonal system is not maintained completely and the product is not properly formed. If the diameter is less than 0.2Φ, Can not be smoothly performed. The diameter of the melt stabilized zirconia beads differs depending on the air pressure and the size of the air holes, but generally tends to depend on the air pressure. With the apparatus of the present invention, the diameter of the beads is 3? On the average at a pressure of 7 kg / cm < 2 >, and in the case of 150 kg / cm < 2 >

이와 같이, 낙하되는 용융 지르코니아를 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)로 형성하는 방식은 생산원가를 획기적으로 절감할 수 있고, 낙하되는 용융 지르코니아 전체에 적용할 수 있어 거의 대부분의 지르코니아를 육방정계로 유지할 수 있게 된다.The method of forming the molten zirconia to be dropped from the melt stabilized zirconia beads (B / Z) can remarkably reduce the production cost and can be applied to the entire molten zirconia to be dropped. Thus, almost all zirconia is converted into hexagonal system .

내화물 성형유닛(140)은 고압 공기분사유닛(130) 하부에 위치하되, 용융로(120)가 기울어지는 방향에 배치되어 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)를 적층시켜 내화물(150)을 성형하는 역할을 수행한다.The refractory forming unit 140 is disposed below the high-pressure air injection unit 130 and is disposed in a direction in which the melting furnace 120 is tilted to form a refractory 150 by laminating molten stabilized zirconia beads (B / Z) .

이러한 내화물 성형유닛(140)은, 받침대(142)와, 받침대(142) 상부에 구비되는 성형틀(144)과, 성형틀(144)에 회전동력을 전달하는 회전구동유닛(146)을 포함하여 구성된다.The refractory forming unit 140 includes a pedestal 142, a forming frame 144 provided on the pedestal 142 and a rotation driving unit 146 for transmitting rotational power to the forming frame 144 .

받침대(142)는 평판형을 이루어 성형틀(144)을 구성하는 내부성형틀(144a)과 외부성형틀(144b)을 지지함과 아울러 내부성형틀(144a)과 외부성형틀(144b)에 의해 형성된 적층공간(144c)에 적층되는 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)를 지지하게 된다.The pedestal 142 is formed into a flat plate shape to support the inner forming mold 144a and the outer forming mold 144b constituting the forming mold 144 and the outer forming mold 144a and the outer forming mold 144b Stabilized zirconia beads (B / Z) to be laminated in the formed stacked space 144c.

성형틀(144)은 받침대(142) 중앙부에 일정 높이로 구비되는 원통형의 내부성형틀(144a)과, 내부성형틀(144a) 외부에 위치하되 내부성형틀(144a)로부터 일정간격 이격되어 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 적층되는 적층공간(144c)을 형성하는 외부성형틀(144b)로 이루어진다.The mold 144 includes a cylindrical inner mold 144a having a predetermined height at a central portion of the pedestal 142 and an outer mold 144a located outside the inner mold 144a, And an outer mold frame 144b for forming a lamination space 144c in which zirconia beads (B / Z) are laminated.

이 중, 외부성형틀(144b)은 나사식 체결되는 체결편(144d)에 의해 분리가능하게 설치되도록 함이 바람직하다. 적층공간(144c) 내에서 성형된 내화물(150)은 체결편(144d)을 분리하여 외부성형틀(144b)을 벗겨내는 방식으로 쉽고 편리하게 원하는 위치로 이동시킬 수 있다. 외부성형틀(144b)의 상부에는 낙하되는 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)를 이탈됨없이 모아줄 수 있도록 하는 상광하협(上廣下狹)의 포집편(144b-1)을 구비함이 바람직하다.It is preferable that the outer mold frame 144b is detachably installed by a screwed fastener 144d. The refractory 150 formed in the laminated space 144c can be easily and conveniently moved to a desired position by separating the fastening piece 144d and peeling off the outer forming frame 144b. It is preferable that the upper end of the outer shaping mold 144b is provided with a collecting piece 144b-1 of a superfluous lower compartment so that the molten stabilized zirconia bead (B / Z) Do.

회전구동유닛(146)은 적층공간(144c)에 적층된 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 회전되도록 성형틀(144)에 회전동력을 전달하는 역할을 수행한다. 이러한 회전구동유닛(146)의 회전동력을 전달받아 회전하는 성형틀(144)은 기 설정된 일정시간동안 회전됨으로서 목적하는 내화물(150)을 제조할 수 있게 된다(도 5의 화살표ⓓ 방향 참조).  The rotation drive unit 146 serves to transmit the rotational power to the mold frame 144 so that the melt-stabilized zirconia beads (B / Z) stacked in the laminate space 144c are rotated. The molding frame 144 that rotates by receiving the rotational power of the rotation driving unit 146 rotates for a predetermined period of time to produce the desired refractory 150 (see the direction of arrow D in FIG. 5).

상기의 구성을 갖는 내화물 성형유닛(140)은 듀얼형으로 이루어지는 등 설치 및 제작조건에 따라 다양하게 구현할 수 있다.The refractory forming unit 140 having the above-described structure can be variously implemented according to the installation and manufacturing conditions such as a dual type.

한편, 본 발명에서 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)의 직경만큼이나 중요한 것이 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 공기 중에 얼마나 노출되어 급냉되는지에 대한 것이다. 본 발명은 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)를 냉각하는 수단으로 공기(Air)를 사용한다. 따라서, 고압의 공기 분사에 의해 형성된 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 공기 중에 노출되는 시간이 곧 급냉되는 시간이 된다. 상태도를 보면 지르코니아가 용융상태에서 약간 온도가 떨어져 큐빅 상태가 되고, 그 상태에서 급냉하여 큐빅상태를 유지하도록 하는 것이 본 발명의 핵심적 기술 중 하나이다.On the other hand, what is important in the present invention as much as the diameter of the melt stabilized zirconia beads (B / Z) is how much the melt stabilized zirconia beads (B / Z) are exposed to air and quenched. The present invention uses air as means for cooling melt stabilized zirconia beads (B / Z). Therefore, the time for which the melt-stabilized zirconia beads (B / Z) formed by high-pressure air injection is exposed to air is immediately quenched. From the state diagram, it is a core technology of the present invention that the zirconia is in a cubic state in which the temperature is slightly lowered in a molten state, and quenched to maintain the cubic state.

이와 같이, 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)의 급냉을 위한 조건으로 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 내화물 성형유닛(140)으로 낙하되는 거리는 0.5 ~ 3m로 형성함이 바람직하다. 이러한 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)의 낙하 거리는 급냉이 일어나는 거리로 주위 조건에 따라 당업자가 실시를 통해 다양하게 정할 수 있다.Thus, it is preferable that the distance for dropping the melt stabilized zirconia beads (B / Z) into the refractory forming unit 140 is 0.5 to 3 m as a condition for rapid quenching of the melt stabilized zirconia beads (B / Z). The falling distance of the melt-stabilized zirconia beads (B / Z) can be variously determined by those skilled in the art depending on the ambient conditions at which quenching occurs.

이와 같이, 낙하되는 용융 지르코니아를 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)로 형성하는 방식은 생산원가를 획기적으로 절감할 수 있고, 낙하되는 용융 지르코니아 전체에 적용할 수 있어 거의 대부분이 지르코니아를 육방정계로 유지할 수 있게 된다는 점에서 효과적이라 할 수 있다.The method of forming the molten zirconia to be dropped by using the melt stabilized zirconia beads (B / Z) can remarkably reduce the production cost and can be applied to the entire molten zirconia to be dropped. It can be said to be effective.

상기와 같은 본 발명에 의하면, 도 3의 상태도에 나타난 바와 같이, 이트리아의 함량이 20% 이하일 경우 일반적으로 냉각을 하면 정방정계의 구조가 같이 형성되고, 이를 내화물(150)로 만들 때 온도의 변화에 따라 부피의 변화가 일어날 수 밖에 없어 내화물이 부서지는 원인을 획기적으로 개선할 수 있게 된다. According to the present invention, as shown in the state diagram of FIG. 3, when the content of yttria is 20% or less, a tetragonal structure is generally formed by cooling, and when the refractory 150 is formed, It is possible to dramatically improve the cause of breakage of the refractory because the change of the volume is caused by the change.

또한, 본 발명은 각각의 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 일정 부분만 접착되므로 공극(Air Gap)이 커서 단열성을 향상시킬 수 있고, 급냉과정에서 소량의 정방정계나 단사정계가 생길 수 있으나 최종적으로 만들어진 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)는 공극(Air Gap)이 큰 내화물(150)로서 공극(Air Gap)이 없을 때 보다 온도변화에 따른 부피차이를 큰 영향없이 견딜 수 있게 되므로 이상적인 내화물로서의 역할을 수행할 수 있게 된다.
Further, since each of the melt-stabilized zirconia beads (B / Z) is adhered only to a certain portion, the air gap is increased to improve the heat insulating property, and a small amount of tetragonal or monoclinic system may be generated during the quenching Since the finally formed melt stabilized zirconia beads (B / Z) are capable of withstanding a volume difference due to temperature change without a significant effect as compared with when there is no air gap as the refractory 150 having a large air gap, It is possible to perform a role as a user.

본 발명에 따른 이트리아 함량을 최소화한 초저변형성 지르코니아 내화물 제조장치에 의해 제조된 내화물은, 아래의 표에서 보는 바와 같이 각 실시예를 통해 얻어진 것임을 첨언한다.
It is noted that the refractories produced by the apparatus for manufacturing an ultralow-shaped zirconia refractory material with minimized yttria content according to the present invention are obtained through the respective examples as shown in the following table.

본 발명의 각 실시예에서, 용융로(120)의 크기는 직경이 760㎜, 높이 800㎜인 것을 사용하였다. 이 때, 지르코니아를 녹이는 방식은 고주파 방식을 채택하였고, 주파수는 45㎑, 출력전력은 180㎾이었다. 용융로로부터 분사되는 용융 지르코니아는 150㎏/hr에 맞추어 실시되었다.In each embodiment of the present invention, the size of the melting furnace 120 was 760 mm in diameter and 800 mm in height. At this time, the method of melting zirconia adopts a high frequency method, the frequency was 45 kHz, and the output power was 180 kW. The molten zirconia injected from the melting furnace was adjusted to 150 kg / hr.

또한, 고압 공기분사유닛(130)로부터 내화물 성형유닛(140)의 바닥면까지의 거리는 원칙적으로 1.5m가 유지되도록 하였다. 이 과정에서, 고압 공기분사유닛(130)로부터 내화물 성형유닛(140) 바닥까지의 거리는 이후 다양하게 실시하였는 데, 1m가 넘어 거리가 달라짐에도 큰 영향없이 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 적층될 때 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)간 접착력을 일정하게 유지할 수 있음을 알 수 있었다.In addition, the distance from the high-pressure air injection unit 130 to the bottom surface of the refractory forming unit 140 was maintained to be 1.5 m in principle. In this process, the distance from the high-pressure air injection unit 130 to the bottom of the refractory forming unit 140 has been variously carried out. However, since the melt-stabilized zirconia beads (B / Z) It was found that the adhesion between the melt-stabilized zirconia beads (B / Z) can be maintained constant.

실시예Example 공극율(%)Porosity (%) 중심비드의 크기(㎜)Size of center bead (mm) 노즐의 공기 압력(㎏/㎠)The air pressure of the nozzle (kg / cm2) 용융로 분사구에서 노즐까지의 수직거리(㎝)Vertical distance from the nozzle to the nozzle (㎝) 노즐입구에서 용융 지르코니아까지의
수평거리(㎝)
From nozzle inlet to molten zirconia
Horizontal distance (cm)
1One 1616 2.52.5 1010 55 55 22 2020 2.82.8 1010 1010 55 33 2828 4.54.5 88 1010 1010 44 1010 1.21.2 2020 1010 55 55 1212 2.02.0 2020 1010 1010

(실시예 1 ~ 5)(Examples 1 to 5)

상기 표1에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치에 의하면, 용융로에서 낙하되는 이트리아가 첨가된 지르코니아의 양, 고압의 공기분사압력과 형태, 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)의 평균 직경, 용융 안정화 지르코니아 비드(B/Z)가 내화물 성형유닛(140)내에 낙하되는 거리 및 소요 시간 등 제조 조건을 정확히 구현함이 대단히 중요하다.
As shown in Table 1, according to the refractory manufacturing apparatus used in the sapphire single crystal growth furnace made of the melt stabilized zirconia beads with minimized yttria content according to the present invention, the amount of yttria-added zirconia dropped in the melting furnace, Precise manufacturing conditions such as high-pressure air injection pressure and shape, average diameter of melt stabilized zirconia bead (B / Z), distance of melt-stabilized zirconia bead (B / Z) falling into refractory forming unit 140, It is very important.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본원 발명의 권리 범위는 이같은 특정 실시예에만 한정되는 것이 아니며, 본원 발명이 속하는 당업자에게 자명한 범위는 본원 발명의 특허청구범위내에 기재된 범주내에 속하는 것으로 해석하여야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. As shown in FIG.

100 : 지르코니아 내화물 제조장치, 110 : 지지대,
120 : 용융로, 122 : 토출구,
130 : 고압 공기분사유닛, 131 : 실린더,
132 : 공기공급부, 134 : 공기분사노즐,
140 : 내화물 성형유닛, 142 : 받침대,
144 : 성형틀, 144a : 내부성형틀,
144b : 외부성형틀, 144b-1 : 포집편,
144c : 적층공간, 144d : 체결편,
146 : 회전구동유닛, 150 : 내화물,
B/Z : 용융 안정화 지르코니아 비드.
100: a zirconia refractory manufacturing apparatus, 110: a support,
120: melting furnace, 122: discharge port,
130: high-pressure air injection unit, 131: cylinder,
132: air supply part, 134: air jet nozzle,
140: refractory forming unit, 142: pedestal,
144: forming mold, 144a: inner forming mold,
144b: external molding frame, 144b-1: collecting piece,
144c: a lamination space, 144d: a fastening piece,
146: rotation drive unit, 150: refractory,
B / Z: melt stabilized zirconia beads.

Claims (5)

삭제delete 삭제delete 지지대;
상기 지지대 상부에 일방향으로 회동가능하게 구비되어 이트리아를 포함하는 지르코니아를 고주파를 이용한 스컬 용융 방식(Skull Melting Method)으로 용융하는 용융로;
상기 용융로의 하부에 위치되고, 상·하 방향 및 상기 용융로가 회동하는 전·후 방향으로 이동가능하게 구비되며, 상기 용융로로부터 낙하되는 용융된 지르코니아를 향해 고압의 공기를 분사하여 용융 안정화 지르코니아 비드를 생성하는 고압 공기분사유닛; 및
상기 고압 공기분사유닛 하부의 상기 용융로가 기울어지는 방향에 배치되어 상기 용융 안정화 지르코니아 비드를 적층시켜 내화물을 성형하되, 평판형의 받침대와, 상기 받침대 중앙부에 일정 높이로 구비되는 원통형의 내부성형틀과 상기 내부성형틀과 일정간격 이격되어 상기 용융 안정화 지르코니아 비드가 적층되는 적층공간을 형성하는 외부성형틀로 이루어진 성형틀과, 상기 적층공간에 적층된 상기 용융 안정화 지르코니아 비드가 회전되도록 상기 성형틀에 회전동력을 전달하는 회전구동유닛이 구비된 내화물 성형유닛;
을 포함하는 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치.
support fixture;
A melting furnace which is rotatable in one direction on the support and melts zirconia containing yttria by a high frequency skull melting method;
And a high-pressure air is injected toward the molten zirconia falling from the melting furnace so as to move the molten stabilized zirconia bead in the upward and downward directions and in the forward and backward directions in which the molten furnace rotates, A high pressure air injection unit to generate the high pressure air injection unit; And
And the molten stabilized zirconia beads are stacked in a direction in which the melting furnace is tilted under the high-pressure air injection unit to form a refractory, wherein the refractory is formed by a plate-like pedestal and a cylindrical inner forming mold provided at a predetermined height in the center of the pedestal A molding die made of an outer molding die which is spaced apart from the inner molding die by a predetermined distance to form a lamination space in which the melt-stabilized zirconia beads are laminated; and a rotary mold rotatably supported on the molding die so as to rotate the melt- A refractory forming unit provided with a rotary drive unit for transmitting power;
Wherein the molten stabilized zirconia beads have a minimized yttria content.
제3항에 있어서,
상기 외부성형틀은 나사식 체결되는 체결편에 의해 분리가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치.
The method of claim 3,
Wherein the outer mold is removably installed by threaded fasteners. The apparatus for manufacturing a refractory for use in a sapphire single crystal growth furnace according to claim 1, wherein the molten stabilized zirconia beads have a minimum yttria content.
제3항에 있어서,
상기 내화물 성형유닛은 듀얼형으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이트리아 함량을 최소화한 용융 안정화 지르코니아 비드로 만든 사파이어 단결정 성장로에 사용되는 내화물 제조장치.
The method of claim 3,
Characterized in that the refractory forming unit is of a dual type. The apparatus for manufacturing a refractory for use in a sapphire single crystal growth furnace made of melt-stabilized zirconia beads with minimized yttria content.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20060024021A (en) * 2006-02-27 2006-03-15 동명산업 주식회사 Manufacturing device of zircon bead
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