KR101410337B1 - Curable silicone composition and electronic component - Google Patents

Curable silicone composition and electronic component Download PDF

Info

Publication number
KR101410337B1
KR101410337B1 KR1020097013185A KR20097013185A KR101410337B1 KR 101410337 B1 KR101410337 B1 KR 101410337B1 KR 1020097013185 A KR1020097013185 A KR 1020097013185A KR 20097013185 A KR20097013185 A KR 20097013185A KR 101410337 B1 KR101410337 B1 KR 101410337B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
component
curable silicone
silicone composition
group
formula
Prior art date
Application number
KR1020097013185A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20090099060A (en
Inventor
요시쓰구 모리타
도모코 가토
Original Assignee
다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 filed Critical 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드
Publication of KR20090099060A publication Critical patent/KR20090099060A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101410337B1 publication Critical patent/KR101410337B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • H01L23/296Organo-silicon compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/15Heterocyclic compounds having oxygen in the ring
    • C08K5/151Heterocyclic compounds having oxygen in the ring having one oxygen atom in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • C08L83/06Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/18Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/70Siloxanes defined by use of the MDTQ nomenclature
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00011Not relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/095Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
    • H01L2924/097Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
    • H01L2924/09701Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Details Of Resistors (AREA)

Abstract

A curable silicone composition comprising at least the following components: (A) an epoxy-containing organopolysiloxane; (B) a curing agent for epoxy resin; and (C) an epoxy compound represented by the specific general formula; is characterized by excellent handleability and reduced oil-bleeding, and, when cured, forms a cured body of excellent flexibility and adhesion.

Description

경화성 실리콘 조성물 및 전자 부품{Curable silicone composition and electronic component}[0001] Curable silicone composition and electronic component [0002]

본 발명은 경화성 실리콘 조성물 및 전자 부품에 관한 것이다. 보다 특히, 본 발명은 우수한 취급작업성 및 감소된 오일-블리딩(oil-bleeding)을 특징으로 하고, 경화시 우수한 가요성 및 접착성의 경화물을 형성하는 경화성 실리콘 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 언급한 조성물의 경화물에 의해 밀봉되거나 접착되고 우수한 신뢰성을 특징으로 하는 전자 부품에 관한 것이다. The present invention relates to a curable silicone composition and electronic components. More particularly, the present invention relates to a curable silicone composition which is characterized by excellent handling workability and reduced oil-bleeding and which forms a cured product with good flexibility and adhesion upon curing. The present invention also relates to an electronic component which is sealed or bonded by a cured product of the above-mentioned composition and which is characterized by excellent reliability.

종래, 전기 및 전자 부품의 밀봉제 및 접착제에 사용되고 있던 경화성 수지 조성물, 예를 들면, 경화성 에폭시 수지 조성물 등을 경화시켜 수득한 경화물은 높은 탄성률 및 이에 따른 높은 강성을 특징으로 한다. 따라서, 이러한 경화물을 전기 또는 전자 부품과 함께 사용하는 것은, 예를 들면, 열팽창 조건하에 발생되는 높은 응력의 발생과 같은 문제점과 관련된다. 상기 언급한 조성물의 경화물의 사용과 관련된 또 다른 문제점은, 전기 또는 전자 부품 또는 기판의 좌굴(buckling) 및, 수지 경화물의 균열 또는 경화된 수지와 전기 또는 전자 부품 사이의 계면에서의 틈 형성이고, 이는 일부 경우에 각각의 부품의 파괴를 야기할 수 있다. BACKGROUND ART Conventionally, a curable resin composition used for a sealing agent and an adhesive for electric and electronic parts, for example, a cured product obtained by curing a curable epoxy resin composition or the like is characterized by a high elastic modulus and accordingly a high rigidity. Thus, the use of such a cured product with electrical or electronic components is associated with problems such as, for example, the occurrence of high stresses occurring under thermal expansion conditions. Another problem associated with the use of cured products of the above-mentioned compositions is the buckling of electrical or electronic components or substrates and the formation of cracks at the interface between the resin cured product or the cured resin and the electrical or electronic component, Which in some cases can lead to the destruction of each part.

상기 언급한 경화물에서 발생할 수 있는 응력을 감소시키기 위하여, 에폭시-함유 오가노폴리실록산 및 오가노폴리실록산 수지용 경화제로부터 경화성 실리콘 조성물을 제조하는 것이 제안되었다[참조: 일본 미심사 공개특허공보(이후, "공개 공보"라고 함) 제2005-154766호, 제2006-306953호 및 제2006-306954호]. 그러나, 이러한 경화성 실리콘 조성물이 전기 또는 전자 부품의 접착제에 사용되는 경우, 경화물의 외부 표면으로의 조성물의 일부 성분의 오일-블리딩 문제가 발생하고, 이는 부품을 오염시킨다. It has been proposed to prepare a curable silicone composition from a curing agent for an epoxy-containing organopolysiloxane and an organopolysiloxane resin in order to reduce the stress that may occur in the above-mentioned cured product (Japanese Unexamined Patent Application, Quot; Open Publication ") 2005-154766, 2006-306953, and 2006-306954). However, when such a curable silicone composition is used in an adhesive of an electric or electronic component, an oil-bleeding problem of some component of the composition on the external surface of the cured product occurs, which causes contamination of the component.

본 발명의 목적은, 우수한 취급작업성 및, 감소된 오일-블리딩 및 우수한 가요성 및 접착성을 특징으로 하는 경화물의 형성 가능성을 특징으로 하는 경화성 실리콘 조성물을 제공하는 것이다. 또 다른 목적은 신뢰성이 우수한 전자 부품을 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a curable silicone composition characterized by the ability to form a cured article characterized by good handling performance and reduced oil-bleeding and excellent flexibility and adhesion. Another object is to provide an electronic component having high reliability.

발명에 대한 설명DESCRIPTION OF THE INVENTION

보다 특히 본 발명은 하기 성분들을 적어도 포함하는 경화성 실리콘 조성물을 제공한다: More particularly, the present invention provides a curable silicone composition comprising at least the following components:

(A) 1개 분자 내에 2개 이상의 에폭시-함유 1가 유기 그룹을 함유하고, 화학식 1의 평균 단위식으로 나타내는 오가노폴리실록산(A1) 및/또는 화학식 2의 디오가노폴리실록산(A2), (A) an organopolysiloxane (A 1 ) represented by the average unit formula of the formula ( 1 ) and / or a diorganopolysiloxane (A 2 ) represented by the formula (2) containing two or more epoxy-

(B) 에폭시 수지용 경화제 및 (B) a curing agent for an epoxy resin and

(C) 화학식 4의 에폭시 화합물. (C) an epoxy compound of the formula (4).

(R1 3SiO1 /2)a(R2 2SiO2 /2)b(R3SiO3 /2)c (R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2) b (R 3 SiO 3/2) c

위의 화학식 1에서, In the above formula (1)

R1, R2 및 R3은 동일하거나 상이할 수 있고, 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹 또는 에폭시-함유 1가 탄화수소 그룹을 나타내지만, R3으로 나타낸 그룹의 20mole% 이상은 아릴 그룹이고, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and represent a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or an epoxy-containing monovalent hydrocarbon group, but at least 20 mole% of the group represented by R 3 is an aryl group ,

a, b 및 c는 0≤a≤0.8, 0≤b≤0.8, 0.2≤c≤0.9 및 a+b+c=1의 조건을 만족시키는 수이다. a, b, and c satisfy the conditions of 0? a? 0.8, 0? b? 0.8, 0.2? c? 0.9, and a + b + c =

A-R5-(R4 2SiO)mR4 2Si-R5-AAR 5 - (R 4 2 SiO) m R 4 2 Si-R 5 -A

위의 화학식 2에서, In the above formula (2)

R4는 불포화된 지방족 결합을 갖지 않는, 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹이고, R 4 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having no unsaturated aliphatic bond,

R5는 2가 유기 그룹이고, R < 5 > is a divalent organic group,

A는 화학식 3의 평균 단위식으로 나타내는 실록산 잔기 라디칼이고, A is a siloxane residue radical represented by the average unit formula of the formula (3)

m은 1 이상의 정수이다.m is an integer of 1 or more.

(XR4 2SiO1/2)d(SiO4/2)e (XR 4 2 SiO 1/2 ) d (SiO 4/2 ) e

위의 화학식 3에서, In the above formula (3)

R4는 상기 정의한 바와 동일하고, R 4 is the same as defined above,

X는 단일 결합, 수소 원자, R4로 나타낸 그룹, 에폭시-함유 1가 유기 그룹 또는 알콕시실릴알킬 그룹이지만, 1개 분자 내에서 X로 나타낸 1개 이상의 그룹은 단일 결합이고, X로 나타낸 2개 이상의 그룹은 에폭시-함유 1가 유기 그룹이고, X is a single bond, a hydrogen atom, a group represented by R 4 , an epoxy-containing monovalent organic group or an alkoxysilylalkyl group, but one or more groups represented by X in one molecule are single bonds and two The above group is an epoxy-containing monovalent organic group,

d는 양수이고,d is a positive number,

e는 양수이고, e is a positive number,

d/e는 0.2 내지 4 범위의 수이다. d / e is a number in the range of 0.2 to 4.

Figure 112009038449449-pct00001
Figure 112009038449449-pct00001

위의 화학식 4에서, In the above formula (4)

R8은 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 10의 1가 탄화수소 그룹이고, R 8 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms,

f는 0 내지 4의 정수이다.f is an integer of 0 to 4;

또한, 본 발명에 따른 전자 부품은 상기 언급한 경화성 실리콘 조성물을 사용하여 밀봉하거나 접착시킨 것이다. Further, the electronic component according to the present invention is sealed or bonded using the above-mentioned curable silicone composition.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 경화성 실리콘 조성물은, 우수한 취급작업성을 특징으로 하고, 오일-블리딩이 감소됨으로 인해 경화물의 표면의 오염이 적기 때문에 효과적이다. 또한, 조성물의 경화물은 다양한 기판에 접착될 수 있고, 우수한 가요성 및 접착성을 가지며, 열팽창 효과하에 감소된 내부 응력이 발생한다. 또한, 본 발명에 따라 제조된 전자 부품이 상기 기재한 경화성 실리콘 조성물의 경화물을 사용하여 밀봉되거나 접착되기 때문에 이들 부품은 우수한 신뢰성을 특징으로 한다. The curable silicone composition of the present invention is characterized by excellent handling workability and is effective because the contamination of the surface of the cured product due to reduced oil-bleeding is small. Further, the cured product of the composition can be adhered to various substrates, has excellent flexibility and adhesion, and generates a reduced internal stress under the effect of thermal expansion. In addition, these components are characterized by excellent reliability because electronic components manufactured in accordance with the present invention are sealed or adhered using the cured silicone composition compositions described above.

도 1은 본 발명의 전자 부품의 일례로서의 LSI의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an LSI as an example of an electronic component of the present invention.

참조 번호:Reference number:

1 반도체 소자1 semiconductor element

2 기판 2 substrate

3 볼 그리드(ball grid)3 Ball grid

4 히트 스프레더(heat spreader)4 Heat spreader

5 접착재5 Adhesive

6 방열재6 Heat insulating material

7 방열판 7 Heat sink

8 방열재8 Heat insulating material

먼저, 본 발명의 경화성 실리콘 조성물을 보다 상세히 설명한다. First, the curable silicone composition of the present invention will be described in more detail.

조성물의 성분(A)는 조성물의 주 성분이다. 당해 성분은 화학식 1의 평균 단위식으로 나타내는 오가노폴리실록산(A1) 및/또는 화학식 2의 디오가노실록산(A2)이다. Component (A) of the composition is the main component of the composition. The component is an organopolysiloxane (A 1 ) represented by the average unit formula of the formula ( 1 ) and / or a diorganosiloxane (A 2 ) of the formula ( 2 ).

화학식 1Formula 1

(R1 3SiO1 /2)a(R2 2SiO2 /2)b(R3SiO3 /2)c (R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2) b (R 3 SiO 3/2) c

화학식 2(2)

A-R5-(R4 2SiO)mR4 2Si-R5-AAR 5 - (R 4 2 SiO) m R 4 2 Si-R 5 -A

성분(A1)에서, R1, R2 및 R3은 동일하거나 상이하며, 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹 또는 에폭시-함유 1가 유기 그룹으로 구성된다. 상기 언급한 1가 탄화수소 그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실 또는 유사한 알킬 그룹; 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸 또는 유사한 사이클로알킬 그룹; 비닐, 알릴, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐 또는 유사한 알케닐 그룹; 페닐, 톨릴, 크실릴 또는 유사한 아릴 그룹; 벤질, 펜에틸, 페닐프로필 또는 유사한 아르알킬 그룹; 및 클로로메틸, 3-클로로프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필 또는 유사한 할로겐화 알킬 그룹일 수 있다. 알킬 및 아릴 그룹, 특히 메틸 및 페닐 그룹이 가장 바람직하다. 에폭시-함유 1가 유기 그룹은 2-글리시독시에틸, 3-글리시독시프로필, 4-글리시독시부틸 또는 유사한 글리시독시알킬 그룹; 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸, 3-(3,4-에폭시사이클로헥실)프로필, 2-(3,4-에폭시-3-메틸사이클로헥실)-2-메틸에틸 또는 유사한 에폭시사이클로알킬알킬 그룹; 및 4-옥시라닐부틸, 8-옥시라닐옥틸 또는 유사한 옥시라닐알킬 그룹일 수 있다. 이들 그룹 중에서, 글리시독시알킬 및 에폭시사이클로알킬알킬 그룹, 특히 3-글리시독시프로필 및 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸 그룹이 가장 바람직하다. 화학식 1에서, R1, R2 및 R3으로 나타낸 2개 이상의 그룹은 상기 언급한 에폭시-함유 1가 유기 그룹이다.In component (A 1 ), R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and are composed of a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or an epoxy-containing monovalent organic group. The above-mentioned monovalent hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl or similar alkyl groups; Cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl or similar cycloalkyl groups; Vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, hexenyl or similar alkenyl groups; Phenyl, tolyl, xylyl or similar aryl groups; Benzyl, phenethyl, phenylpropyl or similar aralkyl groups; And chloromethyl, 3-chloropropyl, 3,3,3-trifluoropropyl or similar halogenated alkyl groups. Most preferred are alkyl and aryl groups, especially methyl and phenyl groups. The epoxy-containing monovalent organic groups include 2-glycidoxyethyl, 3-glycidoxypropyl, 4-glycidoxybutyl or similar glycidoxyalkyl groups; (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl, 2- Alkylalkyl groups; And 4-oxiranylbutyl, 8-oxiranyloctyl, or similar oxiranylalkyl groups. Of these groups, glycidoxyalkyl and epoxycycloalkylalkyl groups are most preferred, especially 3-glycidoxypropyl and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl groups. In the formula (1), two or more groups represented by R 1 , R 2 and R 3 are the above-mentioned epoxy-containing monovalent organic groups.

화학식 1에서, R3의 전체 그룹 중의 20mol% 이상, 바람직하게는 50mol% 이상, 가장 바람직하게는 80mol%이상은 아릴 그룹이다. 1개 분자 내의 R3으로 나타낸 전체 그룹에 대한 아릴 그룹의 함유량이 권고된 하한치보다 낮은 경우, 이는 조성물로부터 수득한 경화물의 접착성을 저하시키거나 경화물의 기계적 강도를 감소시킬 것이다. 이러한 아릴 그룹은 페닐 그룹을 포함하는 것이 권고된다. In the general formula (1), at least 20 mol%, preferably at least 50 mol%, and most preferably at least 80 mol% of the total group of R 3 is an aryl group. If the content of aryl groups for the entire group represented by R 3 in one molecule is lower than the recommended lower limit, this will reduce the adhesion of the cured product obtained from the composition or reduce the mechanical strength of the cured product. It is recommended that such aryl groups include phenyl groups.

화학식 1에서, a, b 및 c는 0≤a≤0.8, 0≤b≤0.8, 0.2≤c≤0.9 및 a+b+c=1의 조건을 만족시키는 수이다. 화학식 1에서, a는 화학식 R1 3SiO1/2의 실록산 단위의 비를 나타내는 수이다. 당해 성분이 화학식 R3SiO3/2의 실록산 단위로만 구성되는 경우, 당해 성분은 지나치게 점성이 되고, 이는 수득된 조성물의 취급작업성을 저하시키기 때문에, a는 0<a≤0.8, 바람직하게는 0.3≤a≤0.8의 조건을 만족시키는 것이 권고된다. 화학식 1에서, b는 화학식 R2 2SiO2/2의 실록산 단위의 비를 나타내는 수이다. 당해 성분이 최적의 분자량을 갖도록 하고, 수득된 경화물로부터 당해 성분이 블리딩되는 것을 방지하고, 기계적 강도가 우수한 경화물을 제공하기 위해, b는 0≤b≤0.6의 조건을 만족시키는 수이어야 한다. 화학식 1에서, c는 화학식 R3SiO3/2의 실록산 단위의 비를 나타낸다. 조성물의 우수한 취급작업성을 제공하고 우수한 접착성, 우수한 기계적 강도 및 가요성을 갖는 경화물을 제공하기 위하여, c는 0.4≤c≤0.9의 조건을 만족시키는 수이어야 한다. In formula (1), a, b and c are numbers satisfying the conditions of 0? A? 0.8, 0? B? 0.8, 0.2? C? 0.9 and a + b + c = In Formula 1, a is a number that represents the ratio of siloxane units of the formula R 1 3 SiO 1/2. When the component is composed solely of siloxane units of the formula R 3 SiO 3/2 , the components become excessively viscous, which reduces the handling workability of the resulting composition, so that a satisfies 0 <a ≦ 0.8, It is recommended that the condition of 0.3? A? 0.8 is satisfied. In formula (1), b is a number representing the ratio of siloxane units of the formula R 2 2 SiO 2/2 . B should be a number satisfying the condition of 0? B? 0.6 in order that the component has an optimum molecular weight, prevents the component from bleeding from the obtained cured product, and provides a cured product excellent in mechanical strength . In the formula (1), c represents the ratio of siloxane units of the formula R 3 SiO 3/2 . C is a number satisfying the condition of 0.4 &amp;le; c &amp;le; 0.9 to provide a cured product which provides excellent handling workability of the composition and has excellent adhesion, excellent mechanical strength and flexibility.

성분(A1) 중의 에폭시-함유 1가 유기 그룹의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 그룹을 당해 성분의 에폭시 당량(이는 당해 성분의 질량 평균 분자량을 1개 분자 내의 에폭시 그룹의 수로 나누어 얻은 수이다)이 100 내지 2,000, 바람직하게는 100 내지 1,000, 가장 바람직하게는 100 내지 700의 범위로 되도록 사용할 것이 권고된다. 에폭시 당량이 권고된 하한치 미만인 경우, 조성물로부터 수득된 경화물의 가요성이 저하될 것이다. 반면, 에폭시 당량이 권고된 상한치를 초과하는 경우, 조성물의 경화능이 저하되고, 조성물의 경화에 의해 수득된 경화물의 접착성 및 기계적 강도가 감소될 것이다. 또한, 성분(A1)은 하나의 유형의 오가노폴리실록산 또는 2가지 이상의 유형의 오가노폴리실록산의 혼합물을 포함할 수 있다. 25℃에서의 성분(A1)의 형태는 특별히 한정되지 않으며, 액체 또는 고체 형태일 수 있다. 성분(A1)이 고체 형태인 경우, 다른 성분과 균일하게 혼합하기 위하여 성분(A1)을 유기 용매에 용해시키거나 가열할 수 있다. 우수한 배합성 및 취급작업성의 관점에서 25℃에서 액체 형태인 당해 성분을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 성분(A1)의 질량 평균 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 당해 특성이 500 내지 10,000, 바람직하게는 750 내지 3,000의 범위인 것이 권고될 수 있다. The content of the epoxy-containing monovalent organic group in the component (A 1 ) is not particularly limited, but the epoxy equivalent of the component (the mass average molecular weight of the component is divided by the number of epoxy groups in one molecule) ) Is in the range of 100 to 2,000, preferably 100 to 1,000, and most preferably 100 to 700. [ If the epoxy equivalent is below the recommended lower limit, the flexibility of the cured product obtained from the composition will be reduced. On the other hand, if the epoxy equivalent exceeds the recommended upper limit, the curing ability of the composition will be lowered and the adhesion and mechanical strength of the cured product obtained by curing the composition will be reduced. The component (A 1 ) may also comprise a mixture of one type of organopolysiloxane or two or more types of organopolysiloxanes. The form of the component (A 1 ) at 25 캜 is not particularly limited, and may be in liquid or solid form. When component (A 1 ) is in the solid form, component (A 1 ) may be dissolved or heated in an organic solvent to uniformly mix with other components. It is preferable to use the component in liquid form at 25 DEG C from the viewpoint of excellent pearl synthesis and handling workability. The mass average molecular weight of the component (A 1 ) is not particularly limited, but it is recommended that the properties are in the range of 500 to 10,000, preferably 750 to 3,000.

상기 언급한 성분(A1)은 하기 화학식들의 오가노폴리실록산으로 예시될 수 있고, 하기 화학식들에서, a, b 및 c는 위에서 정의한 바와 같지만, a 및 b는 둘 다 0일 수 없고, c' 및 c"는 0.1<c'<0.8, 0<c"<0.2, 0.2≤(c'+c")≤0.9 및 0.2≤c'/(c'+c")의 조건을 만족시켜야 하는 수이고, G는 3-글리시독시프로필 그룹이고, E는 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸 그룹이다.The above-mentioned component (A 1 ) can be exemplified by organopolysiloxanes of the following formulas, wherein a, b and c are as defined above, but a and b both can not be 0, and c ' And c "are numbers satisfying the condition of 0.1 <c '<0.8, 0 <c"<0.2, 0.2 (c' + c ") ≦ 0.9 and 0.2 ≦ c '/ (c' + c" , G is a 3-glycidoxypropyl group, and E is a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group.

Figure 112009038449449-pct00002
Figure 112009038449449-pct00002

성분(A1)의 제조방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 하기 방법들이 가능하다:The method for producing the component (A 1 ) is not particularly limited. For example, the following methods are possible:

(1) 에폭시-함유 1가 유기 그룹을 갖는 알콕시실란, 예를 들면, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 또는 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란을 페닐트리알콕시실란과 공가수분해 및 축합시키는 방법;(1) an alkoxysilane having an epoxy-containing monovalent organic group, such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane or 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, A method of co-hydrolyzing and condensing silane;

(2) 상기 언급한 에폭시-함유 1가 유기 그룹을 갖는 알콕시실란과, 페닐트리클로로실란 또는 페닐트리알콕시실란을 가수분해 및 축합시켜 수득한 실란올 함유 오가노폴리실록산을, 탈알코올화 반응시키는 방법;(2) a process in which a silanol-containing organopolysiloxane obtained by hydrolysis and condensation of an alkoxysilane having an epoxy-containing monovalent organic group and phenyltrichlorosilane or phenyltrialkoxysilane is subjected to a dealcoholization reaction ;

(3) 페닐트리클로로실란 또는 페닐트리알콕시실란을 디메틸클로로실란의 존재하에 또는 규소 결합된 수소 원자를 갖는 유사한 실란의 존재하에 공가수분해 및 축합시켜 제조한 규소 결합된 수소 원자를 갖는 오가노폴리실록산과 에폭시-함유 1가 유기 그룹을 갖는 올레핀과의 하이드로실릴화 반응을 수행하는 방법;(3) organopolysiloxanes having silicon-bonded hydrogen atoms prepared by cohydrolysis and condensation of phenyltrichlorosilane or phenyltrialkoxysilane in the presence of dimethylchlorosilane or in the presence of a similar silane with silicon-bonded hydrogen atoms And an olefin having an epoxy-containing monovalent organic group;

(4) 페닐트리클로로실란 또는 페닐트리알콕시실란을 가수분해 및 축합시켜 제조한 오가노폴리실록산과, 양쪽 분자 말단이 트리메틸실록시 그룹으로 캡핑된 디메틸실록산과 메틸{2-(3,4-에폭시클로로헥실)에틸}실록산과의 공중합체 또는 양쪽 분자 말단이 트리메틸실록시 그룹으로 캡핑된 디메틸실록산과 메틸(3-글리시독시프로필)실록산의 공중합체를 염기성 촉매의 존재하에 평형 반응시키는 방법;(4) organopolysiloxanes prepared by hydrolyzing and condensing phenyltrichlorosilane or phenyltrialkoxysilane, dimethylsiloxane having both molecular terminals capped with trimethylsiloxy groups and methyl {2- (3,4-epoxychloro Hexyl) ethyl} siloxane or a copolymer of dimethylsiloxane and methyl (3-glycidoxypropyl) siloxane in which both molecular terminals are capped with trimethylsiloxy groups in the presence of a basic catalyst;

(5) 화학식 C6H5SiO3 /2의 실록산 단위로 구성된 오가노폴리실록산과, 사이클릭 메틸{2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸}실록산 또는 사이클릭 메틸(3-글리시독시프로필)실록산을 염기성 촉매의 존재하에 평형 반응시키는 방법 또는(5) the formula C 6 H 5 SiO 3/2 siloxane unit of organopolysiloxane composed of a polysiloxane and a cyclic methyl {2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl} siloxane or a cyclic methyl (3-glycidoxy Propyl) siloxane in the presence of a basic catalyst or

(6) 화학식 C6H5SiO3/2의 실록산 단위로 구성된 오가노폴리실록산과, 사이클릭 {2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸} 실록산 또는 사이클릭 메틸(3-글리시독시프로필)실록산 및 사이클릭 디메틸실록산을 산성 또는 염기성 촉매의 존재하에 평형 반응시키는 방법.(6) an organopolysiloxane consisting of siloxane units of the formula C 6 H 5 SiO 3/2 and cyclic {2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl} siloxane or cyclic methyl (3-glycidoxypropyl ) Siloxane and cyclic dimethylsiloxane in the presence of an acidic or basic catalyst.

성분(A2)에서, R4는 지방족 불포화 그룹을 갖지 않는 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹일 수 있다. R4 그룹의 특정 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실 또는 유사한 알킬 그룹; 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸 또는 유사한 사이클로알킬 그룹; 페닐, 톨릴, 크실릴 또는 유사한 아릴 그룹; 벤질, 펜에틸, 페닐프로필 또는 유사한 아르알킬 그룹; 3-클로로프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필 또는 유사한 할로겐화 알킬 그룹이 있다. 알킬 그룹, 특히 메틸 그룹이 가장 바람직하다. 화학식 2에서, R5는 2가 유기 그룹, 예를 들면, 에틸렌, 메틸에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌 또는 유사한 알킬렌 그룹; 에틸렌옥시에틸렌, 에틸렌옥시프로필렌, 에틸렌옥시부틸렌, 프로필렌옥시프로필렌 또는 유사한 알킬렌옥시알킬렌 그룹이다. 알킬렌 그룹, 특히 에틸렌 그룹이 바람직하다. 화학식 2에서, m은 1 이상의 정수이고, 분자의 주쇄에 함유된 디오가노폴리실록산의 중합도를 나타낸다. 조성물의 경화물의 개선된 가요성의 관점에서, m은 10 이상 이어야 한다. m 값의 상한은 특별히 한정되지 않지만, m이 500을 초과하지 않는 값인 것이 바람직하다.In component (A 2 ), R 4 may be a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group that does not have an aliphatic unsaturated group. Specific examples of the R 4 group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl or similar alkyl groups; Cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl or similar cycloalkyl groups; Phenyl, tolyl, xylyl or similar aryl groups; Benzyl, phenethyl, phenylpropyl or similar aralkyl groups; 3-chloropropyl, 3,3,3-trifluoropropyl or similar halogenated alkyl groups. Most preferred are alkyl groups, especially methyl groups. In Formula 2, R 5 is a divalent organic group such as ethylene, methylethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene or similar alkylene groups; Ethyleneoxyethylene, ethyleneoxypropylene, ethyleneoxybutylene, propyleneoxypropylene or similar alkyleneoxyalkylene groups. An alkylene group, particularly an ethylene group, is preferred. In the general formula (2), m is an integer of 1 or more and represents the degree of polymerization of the diorganopolysiloxane contained in the main chain of the molecule. In view of the improved flexibility of the cured product of the composition, m should be 10 or greater. The upper limit of the m value is not particularly limited, but is preferably a value such that m does not exceed 500.

추가로 화학식 2에서, A는 화학식 3의 평균 단위식으로 나타내는 실록산-잔기 라디칼이다. In addition, in formula (2), A is a siloxane-residue radical represented by the average unit formula of formula (3).

화학식 3(3)

(XR4 2SiO1/2)d(SiO4/2)e (XR 4 2 SiO 1/2 ) d (SiO 4/2 ) e

위의 화학식 3에서,In the above formula (3)

R4는 지방족 불포화 그룹을 갖지 않는 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹이다. R 4 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated group.

당해 그룹은 상기 예시된 바와 동일할 수 있고, 이들 중 알킬 그룹, 특히 메틸 그룹이 바람직하다. 화학식 3에서, X는 단일 결합, 수소 원자, R4로 나타낸 그룹, 에폭시-함유 1가 유기 그룹 또는 알콕시실릴알킬 그룹이다. R4로 나타낸 그룹들은 위에 기재한 바와 동일한 그룹으로 예시될 수 있다. 상기한 에폭시-함유 1가 유기 그룹은 R1, R2 및 R3로 나타낸 것들과 동일할 수 있다. 알콕시실릴알킬 그룹은 트리메톡시실릴에틸, 트리메톡시실릴프로필, 디메톡시메틸실릴프로필, 메톡시디메틸실릴프로필, 트리에톡시실릴에틸 또는 트리프로폭시실릴프로필 그룹으로 예시될 수 있다. 그러나, 1개 분자 내에서 1개 이상의 X 그룹은 단일 결합이고, 당해 결합은 상기 언급한 디오가노폴리실록산 중의 R5 그룹에 결합하기 위해 사용된다. 또한, 1개 분자 내의 1개 이상의 X 그룹은 에폭시-함유 1가 유기 그룹, 바람직하게는 글리시독시알킬 그룹, 가장 바람직하게는 3-글리시독시프로필 그룹을 포함해야 한다. 화학식 3에서, d는 양수이고, e는 양수이고, d/e는 0.2 내지 4의 수이다.This group may be the same as that exemplified above, and among these, an alkyl group, particularly a methyl group, is preferable. In Formula (3), X is a single bond, a hydrogen atom, a group represented by R 4 , an epoxy-containing monovalent organic group, or an alkoxysilylalkyl group. The groups represented by R &lt; 4 &gt; can be exemplified in the same group as described above. The above epoxy-containing monovalent organic groups may be the same as those represented by R 1 , R 2 and R 3 . The alkoxysilylalkyl group may be exemplified by trimethoxysilylethyl, trimethoxysilylpropyl, dimethoxymethylsilylpropyl, methoxydimethylsilylpropyl, triethoxysilylethyl or tripropoxysilylpropyl groups. However, within one molecule, at least one X group is a single bond, and the bond is used to bond to the R 5 group in the diorganopolysiloxane mentioned above. In addition, at least one X group in one molecule must contain an epoxy-containing monovalent organic group, preferably a glycidoxyalkyl group, most preferably a 3-glycidoxypropyl group. In the formula (3), d is a positive number, e is a positive number, and d / e is a number of 0.2 to 4. [

성분(A2)의 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 질량 평균 분자량이 500 내지 1,000,000의 범위인 것이 권고된다. 또한, 25℃에서의 성분(A2)의 형태는 특별히 한정되지 않지만, 액체 형태가 바람직하다. 25℃에서의 성분(A2)의 점도는 50 내지 1,000,000mPaㆍs이다. 성분(A2)의 제조방법은, 예를 들면, 일본 공개특허공보 제H06-56999호에 기재되어 있다.The molecular weight of the component (A 2 ) is not particularly limited, but it is recommended that the mass average molecular weight is in the range of 500 to 1,000,000. The form of the component (A 2 ) at 25 캜 is not particularly limited, but a liquid form is preferred. The viscosity of the component (A 2 ) at 25 占 폚 is 50 to 1,000,000 mPa 占 퐏. A method for producing the component (A 2 ) is described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. H06-56999.

본 발명의 조성물에서, 성분(A)는 상기 언급한 성분(A1) 또는 성분(A2) 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 성분(A)가 성분(A1)과 성분(A2)의 혼합물인 경우, 성분(A2)가 사용될 수 있는 양은 특별히 한정되지 않지만, 성분(A2)를 성분(A1) 100질량부당 0.1 내지 800질량부, 바람직하게는 1 내지 500질량부, 가장 바람직하게는 10 내지 200질량부의 양으로 함유되는 것이 권고된다. 성분(A2)가 권고된 하한치보다 적은 양으로 사용되는 경우, 조성물의 경화에 의한 경화물의 가요성이 저하될 것이고, 다른 한편으로, 성분(A2)의 함유량이 권고된 상한치를 초과하는 경우, 수득된 조성물은 증가된 점도를 가지게 될 것이다.In the composition of the present invention, component (A) may comprise the above-mentioned component (A 1 ) or component (A 2 ) or a mixture thereof. Component (A) is component (A 1) and the component case (A 2) is a mixture of component (A 2) a but the amount is not particularly limited, which can be used, component (A 2) a component (A 1) 100 parts by mass per Is preferably contained in an amount of 0.1 to 800 parts by mass, preferably 1 to 500 parts by mass, and most preferably 10 to 200 parts by mass. When the component (A 2 ) is used in an amount lower than the recommended lower limit, the flexibility of the cured product due to curing of the composition will be lowered and, on the other hand, if the content of the component (A 2 ) exceeds the recommended upper limit , The resulting composition will have an increased viscosity.

에폭시 수지용 경화제인 성분(B)는 성분(A)의 에폭시 그룹과 반응하고 조성물의 경화를 위한 제제로서 사용된다. 당해 제제는 에폭시 그룹과 반응하는 관능성 그룹을 1개 분자 내에 2개 이상 함유하는 성분인 것이 권고된다. 상기 언급한 관능성 그룹으로는 1급 아민 그룹, 2급 아민 그룹, 하이드록실 그룹, 페놀성 하이드록실 그룹, 카복실산 그룹, 산 무수물 그룹, 머캅토 그룹 또는 실란올 그룹이 예시된다. 보다 양호한 반응성 및 가사 시간(pot life)의 관점에서, 페놀성 하이드록실 그룹이 바람직하다. 특히, 성분(B)는 페놀성 하이드록실 그룹, 예를 들면, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 비스페놀 A형 화합물 또는 유사한 페놀계 수지; 및 페놀성 하이드록실 그룹을 갖는 오가노폴리실록산을 함유하는 화합물을 포함하는 것이 권고된다. 페놀성 하이드록실 그룹을 1개 분자 내에 2개 이상 함유하는 오가노실록산을 사용하는 것이 바람직하다. 페놀성 하이드록실 그룹의 당량(이는 당해 성분의 질량 평균 분자량을 1개 분자 중에 함유된 페놀성 하이드록실 그룹의 수로 나누어 수득된 값이다)은, 1,000을 초과하지 않으며, 더욱 우수한 반응성을 위해서는 500을 초과하지 않을 것이 권고된다. Component (B) which is a curing agent for an epoxy resin reacts with the epoxy group of the component (A) and is used as a preparation for curing the composition. The preparation is preferably a component containing at least two functional groups reactive with the epoxy group in one molecule. Examples of the above-mentioned functional groups include a primary amine group, a secondary amine group, a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a carboxylic acid group, an acid anhydride group, a mercapto group or a silanol group. In view of better reactivity and pot life, phenolic hydroxyl groups are preferred. In particular, component (B) is selected from the group consisting of phenolic hydroxyl groups, such as phenol novolak resins, cresol novolak resins, bisphenol A type compounds or similar phenolic resins; And a compound containing an organopolysiloxane having a phenolic hydroxyl group. It is preferable to use an organosiloxane containing two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. The equivalent of the phenolic hydroxyl group (this is the value obtained by dividing the mass average molecular weight of the component by the number of phenolic hydroxyl groups contained in one molecule) does not exceed 1,000, and 500 for better reactivity It is recommended not to exceed.

성분(B)의 페놀성 하이드록실 그룹을 갖는 오가노실록산의 제공이 조성물의 경화에 의해 수득된 경화물의 가요성을 개선시키기 때문에, 화학식 5의 오가노실록산이 권고된다. The organosiloxane of formula (5) is recommended because the provision of organosiloxanes having phenolic hydroxyl groups of component (B) improves the flexibility of the cured product obtained by curing the composition.

R6 3Si0(R6 2SiO)nSiR6 3 R 6 3 Si0 (R 6 2 SiO) n SiR 6 3

위의 화학식 5에서, In the above formula (5)

R6은 동일하거나 상이할 수 있고, 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹 또는 페놀성 하이드록실 그룹을 함유하는 1가 유기 그룹이다.R 6 may be the same or different and is a monovalent organic group containing a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or a phenolic hydroxyl group.

상기 언급한 1가 탄화수소 그룹은 상기 예시된 바와 같고, 이들 중 알킬 그룹 및 아릴 그룹이 바람직하고, 특히 메틸 그룹 및 페닐 그룹이 바람직하다. 페놀성 그룹을 함유하는 유기 그룹들은 하기 화학식들로 나타내는 그룹들로 예시될 수있다. 이러한 하기 화학식들에서, R7은 2가 유기 그룹, 예를 들면, 에틸렌, 메틸에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌 또는 유사한 알킬렌 그룹; 에틸렌옥시에틸렌, 에틸렌옥시프로필렌, 에틸렌옥시부틸렌, 프로필렌옥시프로필렌 또는 유사한 알킬렌옥시알킬렌 그룹이다. 알킬렌 그룹, 특히 프로필렌 그룹이 바람직하다.The above-mentioned monovalent hydrocarbon groups are as exemplified above, and among them, alkyl group and aryl group are preferable, and methyl group and phenyl group are particularly preferable. Organic groups containing a phenolic group can be exemplified by groups represented by the following formulas. In these following formulas, R 7 is a divalent organic group such as ethylene, methylethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene or similar alkylene groups; Ethyleneoxyethylene, ethyleneoxypropylene, ethyleneoxybutylene, propyleneoxypropylene or similar alkyleneoxyalkylene groups. An alkylene group, particularly a propylene group, is preferred.

Figure 112009038449449-pct00003
Figure 112009038449449-pct00003

Figure 112009038449449-pct00004
Figure 112009038449449-pct00004

화학식 5에서, n은 0 내지 1,000, 바람직하게는 0 내지 100, 가장 바람직하게는 0 내지 20의 범위의 정수이다. n이 권고된 상한치를 초과하는 경우, 이는 성분(A)와의 배합성 및 산업적 취급작업성을 저하시킬 것이다.In formula (5), n is an integer ranging from 0 to 1,000, preferably from 0 to 100, and most preferably from 0 to 20. If n exceeds the recommended upper limit, this will reduce the compatibility with component (A) and the industrial handling workability.

상기 언급한 성분(B)는 아래에 제시된 화학식들의 오가노실록산(여기서, x는 1 내지 20의 정수이고, y는 2 내지 10의 정수이다)들로 예시된다. The above-mentioned component (B) is exemplified by the organosiloxanes of the formulas shown below, wherein x is an integer from 1 to 20 and y is an integer from 2 to 10.

Figure 112009038449449-pct00005
Figure 112009038449449-pct00005

Figure 112009038449449-pct00006
Figure 112009038449449-pct00006

Figure 112009038449449-pct00007
Figure 112009038449449-pct00007

Figure 112009038449449-pct00008
Figure 112009038449449-pct00008

성분(B)의 제조에 사용될 수 있는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 성분(B)는 규소 결합된 수소 원자를 갖는 오가노폴리실록산과 알케닐 함유 페놀 화합물을 하이드로실릴화 반응시켜 수득할 수 있다.The method which can be used for the production of the component (B) is not particularly limited. For example, component (B) can be obtained by hydrosilylation of an organopolysiloxane having a silicon-bonded hydrogen atom with an alkenyl-containing phenol compound.

25℃에서의 성분(B)의 형태는 특별히 한정되지 않으며, 이는 액체 또는 고체 형태일 수 있다. 다른 성분들과의 더욱 용이한 취급작업성의 관점에서 액체 형태가 바람직하다. 25℃에서의 액체 성분(B)의 점도는 1 내지 1,000,000mPaㆍs, 바람직하게는 10 내지 5,000mPaㆍs의 범위인 것이 권고된다. 25℃에서의 점도가 권고된 하한치보다 낮은 경우, 수득한 경화물은 기계적 강도가 저하될 것이다. 반면, 점도가 권고된 상한치를 초과하는 경우, 이는 조성물의 산업적 취급작업성을 저하시킬 것이다.The form of the component (B) at 25 DEG C is not particularly limited, and it may be in a liquid or solid form. A liquid form is preferable from the viewpoint of easier handling workability with other components. It is recommended that the viscosity of the liquid component (B) at 25 占 폚 is in the range of 1 to 1,000,000 mPa 占 퐏, preferably 10 to 5,000 mPa 占 퐏. If the viscosity at 25 占 폚 is lower than the recommended lower limit, the resulting cured product will have a reduced mechanical strength. On the other hand, if the viscosity exceeds the recommended upper limit, this will reduce the industrial handling workability of the composition.

성분(B)가 조성물에 사용될 수 있는 양은 특별히 한정되지 않지만, 성분(B)를 성분(A) 100질량부당 일반적으로 0.1 내지 500질량부, 바람직하게는 0.1 내지 200질량부의 양으로 사용하는 것이 권고된다. 성분(B)가 페놀성 하이드록실 그룹을 함유하는 경우, 조성물에 함유된 전체 에폭시 그룹에 대한 성분(B)에 함유된 페놀성 하이드록실 그룹의 몰 비는 0.2 내지 5, 바람직하게는 0.3 내지 2.5, 가장 바람직하게는 0.8 내지 1.5인 것이 권고된다. 조성물에 함유된 전체 에폭시 그룹에 대한 성분(B)에 함유된 페놀성 하이드록실 그룹의 몰 비가 권고된 하한치보다 낮은 경우, 수득된 조성물의 완전한 경화를 보장하기 어려울 것이다. 반면, 상기 언급한 비가 권고된 상한치를 초과하는 경우, 이는 조성물로부터 수득한 경화물의 기계적 성질을 저하시킬 것이다.The amount by which the component (B) can be used in the composition is not particularly limited, but it is recommended to use the component (B) in an amount of generally 0.1 to 500 parts by mass, preferably 0.1 to 200 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (A) do. When component (B) contains a phenolic hydroxyl group, the molar ratio of the phenolic hydroxyl groups contained in component (B) to the total epoxy groups contained in the composition is from 0.2 to 5, preferably from 0.3 to 2.5 , And most preferably 0.8 to 1.5. If the molar ratio of the phenolic hydroxyl groups contained in component (B) to the total epoxy groups contained in the composition is lower than the recommended lower limit, it will be difficult to ensure complete curing of the resulting composition. On the other hand, if the above-mentioned ratio exceeds the recommended upper limit, it will degrade the mechanical properties of the cured product obtained from the composition.

에폭시 화합물인 성분(C)는 접착을 개선하고 경화물의 표면으로의 오일-블리딩을 제한하기 위해 조성물에 사용된다. 성분(C)는 화학식 4의 화합물이다. Component (C), which is an epoxy compound, is used in the composition to improve adhesion and to limit oil-bleeding to the surface of the cured product. Component (C) is a compound of formula (4).

화학식 4Formula 4

Figure 112009038449449-pct00009
Figure 112009038449449-pct00009

위의 화학식 4에서, In the above formula (4)

R8은 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 10의 1가 탄화수소 그룹이다.R 8 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms.

상기 언급한 1가 탄화수소 그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실 또는 유사한 알킬 그룹; 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸 또는 유사한 사이클로알킬 그룹; 메톡시에틸, 에톡시에틸 또는 유사한 에톡시-치환된 알킬 그룹; 비닐, 알릴, 부테닐 또는 유사한 알케닐 그룹; 사이클로펜테닐, 사이클로헥세닐 또는 유사한 사이클로알케닐 그룹; 페닐, 톨릴, 크실릴, 에틸페닐, 부틸페닐, t-부틸페닐, 디메틸나프틸 또는 유사한 아릴 그룹; 벤질, 펜에틸, 페닐프로필 또는 유사한 아르알킬 그룹; 3-클로로프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필 또는 유사한 할로겐화된 알킬 그룹; 메톡시페닐, 에톡시페닐, 부톡시페닐, t-부톡시페닐, 메톡시나프틸 또는 유사한 알콕시-치환된 아릴 그룹으로 예시될 수 있다. 또한, 화학식 4에서, f는 0 내지 4의 정수이다. The above-mentioned monovalent hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl or similar alkyl groups; Cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl or similar cycloalkyl groups; Methoxyethyl, ethoxyethyl or similar ethoxy-substituted alkyl groups; Vinyl, allyl, butenyl or similar alkenyl groups; Cyclopentenyl, cyclohexenyl or similar cycloalkenyl group; Phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, butylphenyl, t-butylphenyl, dimethylnaphthyl or similar aryl groups; Benzyl, phenethyl, phenylpropyl or similar aralkyl groups; 3-chloropropyl, 3,3,3-trifluoropropyl or similar halogenated alkyl groups; Methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, t-butoxyphenyl, methoxynaphthyl or similar alkoxy-substituted aryl groups. In the formula (4), f is an integer of 0 to 4.

상기 언급한 성분(C)는 재팬 에폭시 레진 컴퍼니(Japan Epoxy Resin Company)에 의해 제조된 상표명 에피코트(Epicoat) 630으로 알려진 시판 제품으로서 구입할 수 있다 .The above-mentioned component (C) is available as a commercial product known under the trade name Epicoat 630 manufactured by Japan Epoxy Resin Company.

조성물에 사용될 수 있는 성분(C)의 양에 관하여 특정한 제한은 없지만, 당해 성분은 0.01 내지 50질량%, 바람직하게는 0.01 내지 20질량%, 가장 바람직하게는 0.01 내지 10질량%의 양으로 가하는 것이 권고될 수 있다. 성분(C)의 함유량이 권고된 하한치 보다 낮은 경우, 표면으로의 오일-블리딩을 제한하는 것이 어려워질 것이다. 다른 한편으로는, 성분(C)의 함유량이 권고된 상한치를 초과하는 경우, 이는 조성물로부터 수득된 경화물의 탄성률을 증가시킬 것이다. Although there is no particular limitation with respect to the amount of the component (C) that can be used in the composition, it is preferable to add the component in an amount of 0.01 to 50 mass%, preferably 0.01 to 20 mass%, and most preferably 0.01 to 10 mass% It can be recommended. If the content of component (C) is lower than the recommended lower limit, it will be difficult to limit oil-bleeding to the surface. On the other hand, if the content of component (C) exceeds the recommended upper limit, it will increase the modulus of the cured product obtained from the composition.

본 발명의 조성물은 임의 성분으로서 경화 촉진제(D)를 함유할 수 있다. 이러한 성분(D)는 3급 아민 화합물; 알루미나, 지르코니아 또는 유사한 유기금속 화합물; 포스핀 또는 유사한 유기인 화합물; 뿐만 아니라 헤테로사이클릭 아민 화합물, 붕소 착화합물, 유기 암모늄염, 유기 설포늄염, 유기 과산화물, 및 상기 화합물들의 반응 생성물로 예시될 수 있다. 이러한 화합물의 특정 예로는 트리페닐포스핀, 트리부틸포스핀, 트리(p-메틸페닐)포스핀, 트리(노닐페닐)포스핀, 트리페닐포스핀-트리페닐보레이트, 테트라페닐포스핀-테트라페닐보레이트 또는 유사한 인 화합물; 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, α-메틸벤질디메틸아민, 1,8-디아조비사이클로[5,4,0]운데센-7 또는 유사한 3급 아민; 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸 또는 유사한 이미다졸 화합물이 있다. 본 발명의 조성물의 가사 시간을 연장시키기 위해, 경화 촉진제는 캡슐화된 형태일 수 있다. 이러한 캡슐화된 경화 촉진제는 아민계 경화 촉진 물질을 함유하는 비스페놀-A 에폭시 수지로부터 제조한 캡슐화된 아민계 경화 촉진제를 포함할 수 있다. 캡슐화된 경화 촉진제는 아사히 가세이 캄파니 리미티드(Asahi Kasei Co., Ltd.)로부터 상표명 HX-3088로 구입할 수 있다.The composition of the present invention may contain a curing accelerator (D) as an optional component. Such component (D) is a tertiary amine compound; Alumina, zirconia or similar organometallic compounds; Phosphine or similar organic phosphorus compounds; As well as heterocyclic amine compounds, boron complexes, organic ammonium salts, organic sulfonium salts, organic peroxides, and reaction products of such compounds. Specific examples of such compounds include triphenylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, triphenylphosphine-triphenylborate, tetraphenylphosphine-tetraphenylborate Or similar phosphorus compounds; Triethylamine, benzyldimethylamine,? -Methylbenzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 or similar tertiary amines; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole or similar imidazole compounds. To prolong the pot life of the compositions of the present invention, the cure accelerator may be in encapsulated form. Such an encapsulated curing accelerator may comprise an encapsulated amine based curing accelerator made from a bisphenol-A epoxy resin containing an amine based curing accelerator. The encapsulated curing accelerator can be purchased from Asahi Kasei Co., Ltd. under the trade name HX-3088.

성분(D)가 조성물에 첨가될 수 있는 양은 특별히 한정되지 않지만, 성분(A) 100질량부 당 일반적으로 50질량부를 초과하지 않는 양, 특히 0.01 내지 50질량부, 가장 바람직하게는 0.1 내지 5질량부의 양으로 함유되는 것이 권고될 수 있다. The amount by which the component (D) can be added to the composition is not particularly limited, but it is generally not more than 50 parts by mass, particularly 0.01 to 50 parts by mass, and most preferably 0.1 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A) It can be recommended that it is contained in a negative amount.

경화물의 기계적 강도를 개선시키기 위해, 조성물은 충전제(E)를 함유할 수 있다. 이러한 성분(E)는 유리 섬유, 알루미나 섬유, 알루미나와 실리카를 성분으로 하는 세라믹 섬유, 붕소 섬유, 지르코니아 섬유, 탄화규소 섬유, 금속 섬유 또는 유사한 섬유상 충전제; 용융 실리카, 결정성 실리카, 침강 실리카, 퓸드 실리카, 소성 실리카, 산화아연, 소성 클레이, 카본 블랙, 유리 비드, 알루미나, 탈크, 탄산칼슘, 클레이, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 황산바륨, 질화알루미늄, 질화붕소, 탄화규소, 마그네시아, 티타니아, 산화베릴륨, 카올린, 운모, 지르코니아, 황산바륨 또는 유사한 무기 충전제; 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 팔라듐 및 이들 금속의 합금, 브라스(brass), 솔더(solder), 형상 기억 합금의 분말 또는 기타 금속 미분말: 최종적으로 분쇄될 세라믹, 유리, 석영 또는 유기 수지 등의 표면에 증착되거나 도금을 통해 침착된 금, 은, 니켈 또는 구리 또는 기타 금속 분말이 예시될 수 있다. 상기 충전제는 개별적으로 사용되거나 이들의 2개 이상의 배합물로서 사용될 수 있다. 수득된 경화물의 우수한 열전도성 관점에서, 하기 충전제가 바람직하다: 전도성 분말, 예를 들면, 알루미나, 결정성 실리카, 질화알루미나, 질화붕소 또는 유사한 열전도성 분말; 뿐만 아니라 용융 실리카, 침강 실리카, 퓸드 실리카, 콜로이드 실리카 등으로부터 제조된 보강성 분말. 경화물에 우수한 열 전 도성 및 전기 전도성을 부여하기 위하여, 은 분말을 사용하는 것이 바람직하다. 조성물의 경화물에 열 전도성을 부여하기 위하여, 알루미나 분말을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 분말 입자는 파쇄된 입자 형태를 가질 수 있거나, 구형, 섬유상, 막대기형, 플레이크형, 비늘형, 플레이트형, 코일형 등일 수 있다. 입자 크기에 관한 특정한 제한은 없지만, 이의 최대 직경은 일반적으로 200㎛를 초과하지 않아야 하고, 평균 입자 크기는 0.001 내지 50㎛ 범위이어야 한다.To improve the mechanical strength of the cured product, the composition may contain filler (E). Such component (E) may be selected from the group consisting of glass fibers, alumina fibers, ceramic fibers comprising alumina and silica, boron fibers, zirconia fibers, silicon carbide fibers, metal fibers or similar fibrous fillers; Silica glass, fused silica, fired silica, zinc oxide, fired clay, carbon black, glass beads, alumina, talc, calcium carbonate, clay, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, Boron, silicon carbide, magnesia, titania, beryllium oxide, kaolin, mica, zirconia, barium sulfate or similar inorganic fillers; Brass, solder, shape memory alloy powder or other metal powder: gold, silver, copper, aluminum, nickel, palladium and alloys of these metals, ceramic, glass, quartz or organic resin etc. Silver, nickel, or copper or other metal powder deposited on the surface of the substrate or deposited by plating. The fillers can be used individually or as a combination of two or more thereof. From the standpoint of good thermal conductivity of the resulting cured product, the following fillers are preferred: conductive powder such as alumina, crystalline silica, alumina nitride, boron nitride or similar thermally conductive powder; As well as reinforcing powder prepared from fused silica, precipitated silica, fumed silica, colloidal silica and the like. In order to impart excellent thermal conductivity and electrical conductivity to the cured product, it is preferable to use silver powder. In order to impart thermal conductivity to the cured product of the composition, it is preferable to use alumina powder. The powder particles may have a crushed particle form or may be spherical, fibrous, rod shaped, flaked, scaly, plate shaped, coiled, and the like. There are no particular limitations on particle size, but the maximum diameter thereof should generally not exceed 200 占 퐉, and the average particle size should be in the range of 0.001 to 50 占 퐉.

또한, 성분(E)의 함유량에 대한 특정한 제한은 없지만, 당해 성분을 성분(A) 100질량부 당 5,000질량부를 초과하지 않는 양, 바람직하게는 10 내지 4,000질량부의 범위, 보다 바람직하게는 50 내지 4,000질량부의 양으로 가하는 것이 권고된다. 성분(E)가 상기 언급한 금속 미분말 또는 열 전도성 분말 물질 이외의 충전제를 함유하는 경우, 성분(E)는 성분(E)는 성분(A) 100질량부 당 2,000질량부를 초과하지 않는 양, 바람직하게는 10 내지 2,000질량부 범위, 보다 바람직하게는 50 내지 1,000질량부 범위의 양으로 사용되어야 한다. 분말 입자가 플레이트형 또는 비늘형인 경우, 수득된 경화물에서 입자들의 특정한 방향성을 사용함으로 인한 경화시의 수축을 감소시킬 수 있다. There is no particular restriction on the content of the component (E), but the amount of the component is not more than 5,000 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A), preferably in the range of 10 to 4,000 parts by mass, It is recommended that the amount is 4,000 parts by mass. When component (E) contains a filler other than the above-mentioned metallic fine powder or thermally conductive powder material, component (E) is preferably used in an amount not exceeding 2,000 parts by weight per 100 parts by weight of component (A) Should be used in an amount in the range of 10 to 2,000 parts by mass, more preferably in the range of 50 to 1,000 parts by mass. When the powder particles are in the form of plates or scales, the shrinkage upon curing due to the use of the specific orientation of the particles in the resultant cured product can be reduced.

조성물의 경화성 및 작업성을 개선시키고 조성물의 경화물의 접착성을 개선시키거나 탄성률을 조절하기 위하여, 조성물은 유기 에폭시 화합물(F)과 추가로 배합될 수 있다. 25℃에서 성분(F)의 형태에 관한 특정한 제한은 없고, 이는 액체 또는 고체일 수 있지만, 액체 형태가 바람직하다. 당해 성분은 에폭시 수지의 비스페놀 A형, 에폭시 수지의 비스페놀 F형 또는 지환족 에폭시 수지로 예시될 수 있 다. 성분(F)가 조성물에 첨가되는 양에는 특정한 제한은 없지만, 일반적으로 당해 조성물의 함유량은 성분(A) 100질량부 당 500질량부를 초과하지 않아야 하며, 바람직하게는 0.1 내지 500질량부 범위이어야 한다. In order to improve the curability and workability of the composition and to improve the adhesion of the cured product of the composition or to control the modulus of elasticity, the composition may be further compounded with the organic epoxy compound (F). There are no particular restrictions on the form of component (F) at 25 DEG C, which may be liquid or solid, but liquid form is preferred. This component can be exemplified by bisphenol A type of epoxy resin, bisphenol F type of epoxy resin or alicyclic epoxy resin. There is no particular limitation on the amount of the component (F) added to the composition, but generally, the content of the composition should not exceed 500 parts by mass, preferably 0.1 to 500 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A) .

성분(A) 중의 성분(E)의 분산성을 개선시키거나 반도체 칩, 기판 등에 대한 수득된 경화물의 접착성을 개선시키기 위해, 조성물은 커플링제와 배합될 수 있다. 당해 커플링제는 티타네이트 커플링제, 실란 커플링제 또는 유사한 커플링제로 예시될 수 있다. 티타네이트 커플링제는 i-프로폭시티탄 트리(이소스테아레이트)를 포함할 수 있다. 실란 커플링제는 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필 메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 또는 유사한 에폭시-함유 알콕시실란; N-(2~아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필 트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란 또는 유사한 아민-함유 알콕시실란; 3-머캅토프로필트리메톡시실란 또는 유사한 머캅토-함유 알콕시실란; 옥타데실트리메톡시실란 또는 유사한 장쇄 알킬-함유 실란을 포함할 수 있다. 상기 언급한 실란 커플링제의 사용량에는 특정한 제한은 없지만, 일반적으로 성분(A) 100질량부 당 10질량부를 초과하지 않는 양, 바람직하게는 0.01 내지 10질량부 범위의 양으로 당해 제제를 첨가하는 것이 권고된다. To improve the dispersibility of component (E) in component (A) or to improve the adhesion of the resulting cured product to semiconductor chips, substrates, etc., the composition may be combined with a coupling agent. The coupling agent may be exemplified by a titanate coupling agent, a silane coupling agent or a similar coupling agent. The titanate coupling agent may comprise i-propoxytitanium tri (isostearate). Silane coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane or similar epoxy-containing alkoxysilane; N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane or similar amine-containing alkoxysilanes; 3-mercaptopropyltrimethoxysilane or similar mercapto-containing alkoxysilane; Octadecyltrimethoxysilane or similar long chain alkyl-containing silanes. The amount of the above-mentioned silane coupling agent is not particularly limited, but it is generally preferable to add the agent in an amount in an amount not exceeding 10 parts by mass, preferably in an amount of 0.01 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A) Recommended.

조성물의 기타 임의 성분은 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 메틸페닐디메톡시실란, 메틸페닐디에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 알릴트리메톡시 실란, 알릴트리에톡시실란 또는 유사한 알콕시실란으로 예시될 수 있다. Other optional components of the composition include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyl Trimethoxysilane, trimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, or similar alkoxysilane.

본 발명의 조성물은 성분(A), 성분(B) 및 성분(C)를, 필요한 경우, 기타 성분을 첨가하여 혼합해서 제조한다. 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 성분(A), 성분(B) 및 성분(C) 및, 필요한 경우, 임의 성분을 동시에 혼합하거나, 성분(A), 성분(B) 및 성분(C)를 미리 혼합한 다음 상기 기재된 임의 성분을 가할 수 있다. 또한, 혼합에 사용될 수 있는 장치에 대한 특정한 제한은 없다. 예를 들면, 이는 1축형 또는 2축형 연속 믹서, 2롤 밀, 3롤 밀, 로스(Ross®) 믹서, 호바트(Hobart) 믹서, 치과용 믹서, 플레네터리 믹서, 혼련기 믹서 또는 분쇄 믹서일 수 있다.The composition of the present invention is prepared by mixing component (A), component (B) and component (C), if necessary, with other components. The method of mixing the components is not particularly limited. For example, the components (A), (B) and (C) and, if necessary, optional components are mixed at the same time, or the components (A), (B) Any of the ingredients listed may be added. There is also no particular limitation on the apparatus that can be used for mixing. For example, this first single shaft or two-shaft type continuous mixer, two roll mill, three-roll mill, Ross (Ross ®) mixer, Hobart (Hobart) mixer, dental mixer, play four planetary mixer, a kneader mixer or a milling mixer days for .

반도체 칩 또는 전기 배선을 위한 보호제로서 사용되는 것 이외에, 본 발명의 조성물의 경화물은 반도체 칩 또는 인쇄된 회로 기판 상의 절연층 또는 완충층에 사용될 수 있다. 조성물로부터 수득된 경화물의 형태에 관한 특정한 제한은 없고, 경화물은 고무, 경질 고무 또는 수지의 형태로 제조될 수 있지만, 가장 바람직하게는 복소 탄성률이 2GPa를 초과하지 않는다. In addition to being used as a protective agent for semiconductor chips or electrical wiring, the cured product of the composition of the present invention may be used in an insulating layer or buffer layer on a semiconductor chip or a printed circuit board. There are no particular restrictions as to the form of the cured product obtained from the composition, and the cured product may be prepared in the form of a rubber, a hard rubber or a resin, but most preferably the complex elastic modulus does not exceed 2 GPa.

본 발명의 조성물은 이송 성형, 사출 성형, 폿팅(potting), 캐스팅(casting), 분말 피복, 침적 피복, 적하 도포 등에 적합하다. 사용 방법은 폿팅, 디스펜싱, 스크린 인쇄, 피복 등으로부터 선택될 수 있지만, 물질의 사용을 용이하게 하고 소비를 감소시키는 관점에서, 조성물은 액체 또는 페이스트 형태가 바람직하다. 본 발명의 조성물은 우수한 가요성 및 접착성을 특징으로 하는 경화물을 형성하는데 적합하기 때문에, 조성물은 전기 장치 또는 전자 소자와 함께 사용하기 위한 밀봉제, 주형제, 피복제, 접착제 등으로서 사용되기에 가장 적합하다. The composition of the present invention is suitable for transfer molding, injection molding, potting, casting, powder coating, deposition coating, dropping coating, and the like. The method of use can be selected from potting, dispensing, screen printing, coating and the like, but from a viewpoint of facilitating the use of the material and reducing consumption, the composition is preferably in liquid or paste form. Since the composition of the present invention is suitable for forming a cured article characterized by excellent flexibility and adhesion, the composition can be used as an encapsulant, a casting agent, a coating agent, an adhesive, etc. for use with an electric device or an electronic device .

다음은 본 발명의 전자 부품에 대한 상세한 설명이다. 본 발명의 전자 부품은 본 발명의 조성물의 경화물을 사용하여 밀봉되고 접착된다는 사실을 특징으로 한다. 이러한 부품은 다이오드, 트랜지스터, 사이리스터, 모놀리틱 IC, 하이브리드 IC, LSI 또는 VLSI를 포함할 수 있다. The following is a detailed description of the electronic component of the present invention. The electronic component of the present invention is characterized by the fact that it is sealed and adhered using a cured product of the composition of the present invention. Such components may include diodes, transistors, thyristors, monolithic ICs, hybrid ICs, LSIs, or VLSIs.

본 발명의 전자 부품의 예는 LSI의 단면도로서 도 1에 도시한다. 당해 도면은 방열재 또는 접착재가 본 발명의 경화성 실리콘 조성물을 사용하여 형성되는 전자 부품을 설명한다. 도 1에 도시한 전자 부품은, 회로를 갖는 기판(2) 위에 설치되고 반도체 소자(1) 위에 제공된 볼 그리드(3)와 같은 솔더 범프를 통하여 기판 회로에 전기전으로 접속된 반도체 소자(1)를 갖는다. 기판의 재질은 유리 강화된 에폭시 수지, 바켈라이트(Bakelite) 수지, 페놀 수지 또는 유사한 유기 수지; 알루미나 또는 유사한 세라믹; 구리, 알루미늄 또는 유사한 금속을 포함할 수 있다. 반도체 소자(1) 이외에, 전자 부품은 레지스터, 캐패시터, 코일 또는 기타 전자 부품을 함유할 수 있다. 도 1에는 반도체 소자(1)와 기판(2) 사이의 스페이스가 언더필러(underfiller) 물질로 충전된 것이 도시되어 있지만, 이러한 언더필러 물질의 사용은 임의적이다.An example of an electronic component of the present invention is shown in Fig. 1 as a sectional view of an LSI. This figure illustrates an electronic component in which a heat-radiating material or an adhesive is formed using the curable silicone composition of the present invention. The electronic component shown in Fig. 1 includes a semiconductor element 1 which is provided on a substrate 2 having a circuit and is electrically connected to the substrate circuit through a solder bump such as a ball grid 3 provided on the semiconductor element 1, . The substrate may be made of glass reinforced epoxy resin, Bakelite resin, phenolic resin or similar organic resin; Alumina or similar ceramics; Copper, aluminum or similar metals. In addition to the semiconductor element 1, the electronic component may contain a resistor, a capacitor, a coil or other electronic component. Although the space between the semiconductor element 1 and the substrate 2 is shown filled with an underfiller material in Fig. 1, the use of such an underfiller material is arbitrary.

반도체 장치(1)는 방열재(6)를 통해 히트 스프레더(4)에 연결된다. 히트 스프레더(4)는 접착재(5)를 통해 기판(2)에 접착된다. 또한, 히트 스프레더(4)는 방열재(8)를 통해 방열판(7)에 연결된다. 히트 스프레더(4) 및 방열판(7)은 알루미늄, 구리, 니켈 또는 유사한 금속으로 제조될 수 있다. 도 1에 도시한 전자 장치에서, 접착재(5)는 본 발명의 경화성 실리콘 조성물의 경화물로 제조된다. 또한, 도 1의 전자 부품에서, 방열재(6) 및/또는 방열재(8)는 또한 본 발명의 경화성 실리콘 조성물의 경화물로 제조될 수 있다. 본 발명의 경화성 실리콘 조성물의 경화물은 반도체 소자(1)를 히트 스프레더(4)에 접착시키거나 히트 스프레더(4)를 기판(2)에 접착시키는데 사용할 수 있다. 유지의 편의를 위하여, 방열재(8)는 열 전도성 그리스로 교체할 수 있다. The semiconductor device 1 is connected to the heat spreader 4 through the heat dissipating member 6. The heat spreader 4 is bonded to the substrate 2 through the adhesive 5. Further, the heat spreader 4 is connected to the heat radiating plate 7 through the heat radiating member 8. The heat spreader 4 and the heat sink 7 may be made of aluminum, copper, nickel or similar metals. In the electronic device shown in Fig. 1, the adhesive 5 is made of a cured product of the curable silicone composition of the present invention. Further, in the electronic component of Fig. 1, the heat radiating member 6 and / or the heat radiating member 8 may also be made of a cured product of the curable silicone composition of the present invention. The cured product of the curable silicone composition of the present invention can be used to adhere the semiconductor element 1 to the heat spreader 4 or adhere the heat spreader 4 to the substrate 2. [ For the convenience of maintenance, the heat dissipating member 8 can be replaced with a thermal conductive grease.

본 발명의 전자 부품을 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 도 1에 도시한 구조는 하기에 따라 제조할 수 있다. 먼저, 반도체 소자(1)를 기판(2) 위에 배치하고, 반도체 장치(1)를 볼 그리드(3)를 사용하여 기판(2)에 전기적으로 접속시킨다. 그 다음, 필요한 경우, 언더필러 물질을 사용한다. 다음 단계에서, 반도체 소자(1)의 표면을 열 전도성을 갖는 경화성 실리콘 조성물로 피복하고, 히트 스프레더(4)를 부착하고, 경화성 실리콘 조성물을 경화시킨다. 이로써, 히트 스프레더(4)가 히트 스프레더에 피복된 경화된 실리콘 조성물을 통해 기판(2)에 접착된다. 다음 단계에서, 열 전도 특성 또는 열 전도성 그리스를 갖는 경화성 실리콘 조성물을 히트 스프레더(4) 상에 도포하고, 방열판(7)을 부착시킨다. 히트 스프레더를 경화성 실리콘 조성물로 피복하는 경우, 후자를 경화시킨다. The method for producing the electronic component of the present invention is not particularly limited. For example, the structure shown in Fig. 1 can be manufactured as follows. First, the semiconductor element 1 is placed on the substrate 2, and the semiconductor device 1 is electrically connected to the substrate 2 by using the ball grid 3. Then, if necessary, underfiller material is used. In the next step, the surface of the semiconductor element 1 is coated with a curable silicone composition having thermal conductivity, the heat spreader 4 is attached, and the curable silicone composition is cured. Thereby, the heat spreader 4 is bonded to the substrate 2 through the cured silicone composition coated on the heat spreader. In the next step, a curable silicone composition having a heat conductive property or a thermal conductive grease is applied onto the heat spreader 4 and the heat sink 7 is attached. When the heat spreader is coated with a curable silicone composition, the latter is cured.

본 발명의 경화성 실리콘 조성물 및 전자 부품을 실시예 및 비교 실시예를 참조로 하여 보다 상세히 설명한다. 실시예에 사용된 모든 점도 값은 25℃에서의 점도 값에 상응한다. 질량 평균 분자량은 용매로서 톨루엔을 사용하여 겔 투과 크 로마토그래피로 측정하고 폴리스티렌을 표준으로 하여 계산한 값이다. The curable silicone composition and electronic components of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. All viscosity values used in the Examples correspond to the viscosity values at 25 占 폚. The mass average molecular weight was determined by gel permeation chromatography using toluene as a solvent and calculated by using polystyrene as a standard.

[점도][Viscosity]

당해 특성은 25℃에서 회전속도 2.5rpm으로 E형 점도계(Digital Viscometer DV-U-E II-Type, 도키멕 캄파니 리미티드(Tokimec Company, Ltd.) 제품)를 사용하여 측정하였다.This property was measured using an E-type viscometer DV-U-E II-Type (manufactured by Tokimec Company, Ltd.) at 25 ° C at a rotation speed of 2.5 rpm.

[접착성][Adhesiveness]

알루미나 패널 상의 50㎛ 두께 층의 경화성 실리콘 조성물을 정사각형 횡단면이 10mm x 10mm인 규소 칩에 접착시킨 다음, 1시간 동안 150℃에서 가열하여 상기 기재된 경화성 실리콘 조성물을 경화시킴으로써 시편을 제조하였다. 수득된 시편을 본드 테스터(Model SS-100KP, 세이신 트레이딩 캄파니 리미티드(Seishin Trading Company, Ltd.) 제품)에서 25℃ 및 50mm/분에서의 박리 강도(kgf/cm2)에 대해 시험하였다. A specimen was prepared by adhering a 50 탆 thick layer of a curable silicone composition on an alumina panel to a silicon chip having a square cross section of 10 mm x 10 mm and then heating at 150 캜 for 1 hour to cure the curable silicone composition described above. The obtained specimens were tested for peel strength (kgf / cm 2 ) at 25 ° C and 50 mm / min in a bond tester (Model SS-100KP, Seishin Trading Company, Ltd.).

[복소 탄성률] [Complex modulus of elasticity]

공기 제거 후, 경화성 실리콘 조성물을 폭 10mm×길이 50mm×깊이 2mm의 금형 공동에 충전하고, 60분 동안 15O℃에서 2.5MPa의 압력하에 프레스 경화시킨 다음, 2시간 동안 180℃의 오븐에서 2차 가열하여 조성물의 경화물의 시편을 수득하였다. 당해 시편의 복소 탄성률을 레오메트릭 사이언티픽 인코포레이티 드(Rheometric Scientific, Inc.)의 ARES 점탄성 분석기를 사용하여 측정하였다. 25℃에서 0.05%의 변형률 및 1Hz의 진동수를 사용하여 측정을 수행하였다. After removing the air, the curable silicone composition was filled in a mold cavity having a width of 10 mm, a length of 50 mm and a depth of 2 mm, press curing at 150 DEG C for 60 minutes under a pressure of 2.5 MPa, To obtain a specimen of the cured product of the composition. The complex modulus of the specimen was measured using an ARES viscoelastic analyzer from Rheometric Scientific, Inc. Measurements were made at 25 DEG C with a strain of 0.05% and a frequency of 1 Hz.

[오일-블리딩성][Oil-Bleeding Property]

경화성 실리콘 조성물 0.2g을 그라운드-글래스 플레이트의 표면에 적하한 다음, 48시간 동안 25℃에서 방치하고, 오일-블리딩성을 하기 수학식으로 평가하였다. 0.2 g of the curable silicone composition was dropped on the surface of the ground-glass plate and left at 25 캜 for 48 hours. The oil-bleeding property was evaluated by the following formula.

10O x (L1 - L0) / L0 10O x (L 1 - L 0 ) / L 0

위의 수학식에서, In the above equation,

L0은 경화성 실리콘 고무의 직경이고, L 0 is the diameter of the curable silicone rubber,

L1은 오일-블리딩으로 인해 형성된 직경이다. L 1 is the diameter formed by oil-bleeding.

[실시예 1][Example 1]

하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 4.38질량부4.38 parts by weight of an organopolysiloxane having the following average unit formula:

Figure 112009038449449-pct00010
Figure 112009038449449-pct00010

(질량 평균 분자량 = 1,000; 점도 = 1,290mPa·s; 에폭시 당량 = 267); (Mass average molecular weight = 1,000; viscosity = 1,290 mPa 占 퐏; epoxy equivalent = 267);

하기 화학식의 오가노트리실록산 8.46질량부8.46 parts by mass of organotrisiloxane of the following formula

Figure 112009038449449-pct00011
Figure 112009038449449-pct00011

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330);

하기 화학식의 에폭시 화합물 0.99질량부; 0.99 parts by mass of an epoxy compound of the following formula:

Figure 112009038449449-pct00012
Figure 112009038449449-pct00012

옥타데실트리메톡시실란 0.43질량부; 평균 입자 크기가 8.6㎛인 구형 알루미나 입자 68.64질량부; 평균 입자 크기가 3㎛인 불규칙한 형태의 알루미나 입자 15.92질량부; 및 캡슐화된 아민계 촉매(HX-3941HP, 아사히 가세이 캄파니 리미티드 제품) 35질량%를 함유하는 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물 1.19질량부를 혼합하여 경화성 실리콘 조성물을 제조하였다. 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물의 특성을 표 1에 기재한다. 0.43 parts by mass of octadecyltrimethoxysilane; 68.64 parts by mass of spherical alumina particles having an average particle size of 8.6 占 퐉; 15.92 parts by mass of irregularly shaped alumina particles having an average particle size of 3 占 퐉; And 1.19 parts by mass of a mixture of a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin containing 35 mass% of an encapsulated amine-based catalyst (HX-3941HP, product of Asahi Kasei Corporation) were mixed to prepare a curable silicone composition. The properties of the curable silicone composition and its cured product are shown in Table 1.

[비교 실시예 1][Comparative Example 1]

하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 6.43질량부6.43 parts by weight of an organopolysiloxane having the following average unit formula:

Figure 112009038449449-pct00013
Figure 112009038449449-pct00013

(질량 평균 분자량 = 1,000; 점도 = 1,290mPa·s; 에폭시 당량 = 267); (Mass average molecular weight = 1,000; viscosity = 1,290 mPa 占 퐏; epoxy equivalent = 267);

하기 화학식의 오가노트리실록산 7.57질량부 7.57 parts by mass of organotrisiloxane of the following formula

Figure 112009038449449-pct00014
Figure 112009038449449-pct00014

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); 옥타데실트리메톡시실란 0.43질량부; 평균 입자 크기가 8.6㎛인 구형 알루미나 입자 68.54질량부; 평균 입자 크기가 3㎛인 불규칙한 형태의 알루미나 입자 15.89질량부; 및 캡슐화된 아민계 촉매(HX-3941HP, 아사히 가세이 캄파니 리미티드 제품) 35질량%를 함유하는 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물 1.14질량부를 혼합하여 경화성 실리콘 조성물을 제조하였다. 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물의 특성을 표 1에 기재한다. (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330); 0.43 parts by mass of octadecyltrimethoxysilane; 68.54 parts by mass of spherical alumina particles having an average particle size of 8.6 占 퐉; 15.89 parts by mass of irregularly shaped alumina particles having an average particle size of 3 占 퐉; And 1.14 parts by mass of a mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin containing 35% by mass of an encapsulated amine-based catalyst (HX-3941HP, product of Asahi Kasei Corporation) were mixed to prepare a curable silicone composition. The properties of the curable silicone composition and its cured product are shown in Table 1.

[실시예 2][Example 2]

하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 8.0질량부 8.0 parts by weight of an organopolysiloxane having the following average unit formula:

Figure 112009038449449-pct00015
Figure 112009038449449-pct00015

(질량 평균 분자량 = 1,000; 점도 = 1,290mPa·s; 에폭시 당량 = 267); (Mass average molecular weight = 1,000; viscosity = 1,290 mPa 占 퐏; epoxy equivalent = 267);

하기 화학식의 오가노트리실록산 10.7질량부10.7 parts by mass of organotrisiloxane of the following formula

Figure 112009038449449-pct00016
Figure 112009038449449-pct00016

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330);

하기 화학식의 에폭시 화합물 0.5질량부0.5 parts by mass of an epoxy compound of the following formula

Figure 112009038449449-pct00017
Figure 112009038449449-pct00017

평균 입자 크기가 8.6㎛인 구형 알루미나 입자 62.9질량부; 평균 입자 크기가 3㎛인 불규칙한 형태의 알루미나 입자 17.1질량부; 및 캡슐화된 아민계 촉매(HX-3941HP, 아사히 가세이 캄파니 리미티드 제품) 35질량%를 함유하는 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물 0.8질량부를 혼합하여 경화성 실리콘 조성물을 제조하였다. 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물의 특성 을 표 1에 기재한다. 62.9 parts by mass of spherical alumina particles having an average particle size of 8.6 占 퐉; 17.1 parts by mass of irregularly shaped alumina particles having an average particle size of 3 占 퐉; And 0.8 mass part of a mixture of a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin containing 35 mass% of an encapsulated amine-based catalyst (HX-3941HP, product of Asahi Kasei Corporation) were mixed to prepare a curable silicone composition. The properties of the curable silicone composition and its cured product are shown in Table 1.

[비교 실시예 2][Comparative Example 2]

하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 7.7질량부 7.7 parts by weight of an organopolysiloxane having the following average unit formula:

Figure 112009038449449-pct00018
Figure 112009038449449-pct00018

(질량 평균 분자량 = 1,000; 점도 = 1,290mPa·s; 에폭시 당량 = 267); (Mass average molecular weight = 1,000; viscosity = 1,290 mPa 占 퐏; epoxy equivalent = 267);

하기 화학식의 오가노트리실록산 10.7질량부10.7 parts by mass of organotrisiloxane of the following formula

Figure 112009038449449-pct00019
Figure 112009038449449-pct00019

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330);

하기 화학식의 오가노트리실록산 1.5질량부 1.5 parts by weight of organotrisiloxane of the following formula

(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]25Si(CH3)2-Z(CH 3 ) 3 SiO [(CH 3 ) 2 SiO] 25 Si (CH 3 ) 2 -Z

(여기서, Z는 화학식 (Wherein Z is a group represented by the formula

Figure 112009038449449-pct00020
의 디메틸폴리실록산이다)(질량 평균 분자량 = 2,500; 점도 = 75mPa·s); 평균 입자 크기가 8.6㎛인 구형 알루미나 입자 62.9질량부; 평균 입자 크기가 3㎛인 불규칙한 형태의 알루미나 입자 17.1질량부; 및 캡슐화된 아민계 촉매(HX-3941HP, 아사히 가세이 캄파니 리미티드 제품) 35질량%를 함유하는 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물 0.8질량부를 혼합하여 경화성 실리콘 조성물을 제조하였다. 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물의 특성을 표 1에 기재한다.
Figure 112009038449449-pct00020
(Mass average molecular weight = 2,500; viscosity = 75 mPa 占 퐏); 62.9 parts by mass of spherical alumina particles having an average particle size of 8.6 占 퐉; 17.1 parts by mass of irregularly shaped alumina particles having an average particle size of 3 占 퐉; And 0.8 mass part of a mixture of bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin containing 35 mass% of an encapsulated amine-based catalyst (HX-3941HP, product of Asahi Kasei Corporation) were mixed to prepare a curable silicone composition. The properties of the curable silicone composition and its cured product are shown in Table 1.

[실시예 3] [Example 3]

하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 6.2질량부 6.2 parts by weight of an organopolysiloxane having the following average unit formula:

Figure 112009038449449-pct00021
Figure 112009038449449-pct00021

(질량 평균 분자량 = 1,000; 점도 = 1,290mPa·s; 에폭시 당량 = 267); (Mass average molecular weight = 1,000; viscosity = 1,290 mPa 占 퐏; epoxy equivalent = 267);

하기 화학식의 오가노트리실록산 10.5질량부 10.5 parts by mass of organotrisiloxane of the following formula

Figure 112009038449449-pct00022
Figure 112009038449449-pct00022

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330);

하기 화학식의 에폭시 화합물 2.0질량부2.0 parts by mass of an epoxy compound of the following formula

(CH3)3SiO[(CH3)2SiO]25Si(CH3)2-Z(CH 3 ) 3 SiO [(CH 3 ) 2 SiO] 25 Si (CH 3 ) 2 -Z

(여기서, Z는 화학식 (Wherein Z is a group represented by the formula

Figure 112009038449449-pct00023
의 디메틸폴리실록산이다)(질량 평균 분자량 = 2,500; 점도 = 75mPa·s);
Figure 112009038449449-pct00023
(Mass average molecular weight = 2,500; viscosity = 75 mPa 占 퐏);

화학식The

Figure 112009038449449-pct00024
의 에폭시 화합물 0.5 질량부;
Figure 112009038449449-pct00024
0.5 parts by mass of an epoxy compound;

평균 입자 크기가 8.6㎛인 구형 알루미나 입자 62.9질량부; 평균 입자 크기가 3㎛인 불규칙한 형태의 알루미나 입자 17.1질량부; 및 캡슐화된 아민계 촉매(HX-3941HP, 아사히 가세이 캄파니 리미티드 제품) 35질량%를 함유하는 비스페놀A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물 0.8질량부를 혼합하여 경화성 실리콘 조성물을 제조하였다. 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물의 특성을 표 1에 기재한다. 62.9 parts by mass of spherical alumina particles having an average particle size of 8.6 占 퐉; 17.1 parts by mass of irregularly shaped alumina particles having an average particle size of 3 占 퐉; And 0.8 mass part of a mixture of a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin containing 35 mass% of an encapsulated amine-based catalyst (HX-3941HP, product of Asahi Kasei Corporation) were mixed to prepare a curable silicone composition. The properties of the curable silicone composition and its cured product are shown in Table 1.

[실시예 4][Example 4]

하기 평균 단위 화학식의 디메틸폴리실록산 3.3질량부3.3 parts by mass of dimethylpolysiloxane having the following average unit formula:

X-CH2CH2(CH3)2SiO[(CH3)2SiO]162Si(CH3)2CH2CH2-X
{여기서, X는 하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 잔기 라디칼이다:
X-CH 2 CH 2 (CH 3 ) 2 SiO [(CH 3 ) 2 SiO] 162 Si (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 -X
Wherein X is an organopolysiloxane residue radical of the following average unit formula:

삭제delete

[Y(CH3)2SiO1/2]1.6(SiO4/2)1.0
(여기서, Y는 단일 결합, 트리메톡시실릴프로필 그룹 및 3-글리시독시프로필 그룹으로 이루어지고, 1개 분자 중의 1개 이상의 Y는 단일 결합이고 나머지 Y는 몰 비율이 1:4로 사용된 트리메톡시실릴프로필 및 3-글리시독시프로필 그룹으로 이루어진다)}(질량 평균 분자량 = 51,000; 점도 = 12,000mPa·s);
[Y (CH 3) 2 SiO 1/2] 1.6 (SiO 4/2) 1.0
Wherein Y is a single bond, a trimethoxysilylpropyl group and a 3-glycidoxypropyl group, at least one Y in one molecule is a single bond and the other Y is used in a molar ratio of 1: 4 Trimethoxysilylpropyl and 3-glycidoxypropyl groups)} (mass average molecular weight = 51,000; viscosity = 12,000 mPa 占 퐏);

삭제delete

하기 평균 단위 화학식의 오가노폴리실록산 6.0질량부 6.0 parts by weight of an organopolysiloxane having the following average unit formula:

Figure 112009038449449-pct00025
Figure 112009038449449-pct00025

(질량 평균 분자량 = 1,000; 점도 = 1,290mPa·s; 에폭시 당량 = 267); (Mass average molecular weight = 1,000; viscosity = 1,290 mPa 占 퐏; epoxy equivalent = 267);

하기 화학식 오가노트리실록산 9.4질량부 9.4 parts by mass of the following organotin siloxane

Figure 112009038449449-pct00026
Figure 112009038449449-pct00026

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330);

하기 화학식의 에폭시 화합물 0.5질량부0.5 parts by mass of an epoxy compound of the following formula

Figure 112009038449449-pct00027
Figure 112009038449449-pct00027

(점도 = 2,600mPa·s; 페놀성 하이드록실 그룹 당량 = 330); (Viscosity = 2,600 mPa · s; phenolic hydroxyl group equivalent = 330);

평균 입자 크기가 8.6㎛인 구형 알루미나 입자 62.9질량부; 평균 입자 크기가 3㎛인 불규칙한 형태의 알루미나 입자 17.1질량부; 및 캡슐화된 아민계 촉매(HX-3941HP, 아사히 가세이 캄파니 리미티드 제품) 35질량%를 함유하는 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물 0.8질량부를 혼합하여 경 화성 실리콘 조성물을 제조하였다. 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물의 특성을 표 1에 기재한다. 62.9 parts by mass of spherical alumina particles having an average particle size of 8.6 占 퐉; 17.1 parts by mass of irregularly shaped alumina particles having an average particle size of 3 占 퐉; And 0.8 mass part of a mixture of a bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin containing 35 mass% of an encapsulated amine-based catalyst (HX-3941HP, product of Asahi Kasei Corporation) were mixed to prepare a curable silicone composition. The properties of the curable silicone composition and its cured product are shown in Table 1.

실시예

특성
Example

characteristic
실시예                 Example 비교 실시예     Comparative Example
1     One 2    2 3    3 4     4 1     One 2     2 점도
(Paㆍs)
Viscosity
(Pa.s)
226   226 42    42 73    73 100   100 159   159 120   120
접착성
(kgf/cm2)
Adhesiveness
(kgf / cm 2 )
80    80 >100  > 100 95    95 87    87 53    53 68    68
오일-블리딩성Oil-bleeding property 0.5    0.5 0.5   0.5 12    12 8    8 18    18 20    20 복소 탄성률
(MPa)
Complex modulus
(MPa)
510    510 1800   1800 250   250 400  400 330   330 111   111

본 발명의 경화성 실리콘 조성물은 우수한 취급작업성을 특징으로 하기 때문에, 이송 성형, 사출 성형, 폿팅, 캐스팅, 분체 도장, 침적 도포, 적하 도포 등에 적합하다. 또한, 경화 후, 당해 조성물은 우수한 가요성 및 접착성을 특징으로 하는 경화물을 형성하므로, 당해 조성물은 전기 및 전자 장치의 부품의 밀봉제, 주형제, 피복제, 접착제 등으로 사용되기에 적합하다. 특히, 당해 조성물이 열전도성 충전제를 함유하는 경우, 당해 조성물은 방열 부재 및 방열 인터페이스 재료(TIM)로서 사용될 수 있다. Since the curable silicone composition of the present invention is characterized by excellent handling workability, it is suitable for transfer molding, injection molding, potting, casting, powder coating, deposition coating, dropping coating and the like. Further, after curing, the composition forms a cured product characterized by excellent flexibility and adhesiveness, so that the composition is suitable for use as a sealant, a casting agent, a coating agent, an adhesive, etc. for parts of electric and electronic devices Do. In particular, when the composition contains a thermally conductive filler, the composition can be used as a heat dissipating member and a heat dissipation interface material (TIM).

Claims (15)

(A) 1개 분자 내에 2개 이상의 에폭시-함유 1가 유기 그룹을 함유하는, 화학식 1의 평균 단위식으로 나타내는 오가노폴리실록산(A1) 및/또는 화학식 2의 디오가노폴리실록산(A2), (A) an organopolysiloxane (A 1 ) represented by the average unit formula of the formula ( 1 ) and / or a diorganopolysiloxane (A 2 ) represented by the formula (2) containing two or more epoxy-containing monovalent organic groups in one molecule, (B) 에폭시 수지용 경화제 및 (B) a curing agent for an epoxy resin and (C) 화학식 4의 에폭시 화합물을 적어도 포함하는 경화성 실리콘 조성물. (C) an epoxy compound of the formula (4). 화학식 1Formula 1 (R1 3SiO1/2)a(R2 2SiO2/2)b(R3SiO3/2)c (R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c 위의 화학식 1에서, In the above formula (1) R1, R2 및 R3은 동일하거나 상이할 수 있고, 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹 또는 에폭시-함유 1가 탄화수소 그룹을 나타내지만, R3으로 나타낸 그룹의 20mole% 이상은 아릴 그룹이고, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and represent a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or an epoxy-containing monovalent hydrocarbon group, but at least 20 mole% of the group represented by R 3 is an aryl group , a, b 및 c는 0≤a≤0.8, 0≤b≤0.8, 0.2≤c≤0.9 및 a+b+c=1의 조건을 만족시키는 수이다. a, b, and c satisfy the conditions of 0? a? 0.8, 0? b? 0.8, 0.2? c? 0.9, and a + b + c = 화학식 2(2) A-R5-(R4 2SiO)mR4 2Si-R5-AAR 5 - (R 4 2 SiO) m R 4 2 Si-R 5 -A 위의 화학식 2에서, In the above formula (2) R4는 불포화된 지방족 결합을 갖지 않는, 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹이고, R 4 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having no unsaturated aliphatic bond, R5는 2가 유기 그룹이고, R &lt; 5 &gt; is a divalent organic group, A는 화학식 3의 평균 단위식으로 나타내는 실록산 잔기 라디칼이고, A is a siloxane residue radical represented by the average unit formula of the formula (3) m은 1 이상의 정수이다.m is an integer of 1 or more. 화학식 3(3) (XR4 2SiO1/2)d(SiO4/2)e (XR 4 2 SiO 1/2 ) d (SiO 4/2 ) e 위의 화학식 3에서, In the above formula (3) R4는 상기 정의한 바와 동일하고, R 4 is the same as defined above, X는 단일 결합, 수소 원자, R4로 나타낸 그룹, 에폭시-함유 1가 유기 그룹 또는 알콕시실릴알킬 그룹이지만, 1개 분자 내에 X로 나타낸 1개 이상의 그룹은 단일 결합이고, X로 나타낸 2개 이상의 그룹은 에폭시-함유 1가 유기 그룹이고, X is a single bond, a hydrogen atom, a group represented by R 4 , an epoxy-containing monovalent organic group or an alkoxysilylalkyl group, but at least one group represented by X in one molecule is a single bond and two or more Group is an epoxy-containing monovalent organic group, d는 양수이고, d is a positive number, e는 양수이고, e is a positive number, d/e는 0.2 내지 4 범위의 수이다. d / e is a number in the range of 0.2 to 4. 화학식 4Formula 4
Figure 112012101956885-pct00028
Figure 112012101956885-pct00028
위의 화학식 4에서, In the above formula (4) R8은 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 10의 1가 탄화수소 그룹이고, R 8 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, f는 0 내지 4의 정수이다.f is an integer of 0 to 4;
제1항에 있어서, 상기 성분(B)가 페놀성 하이드록실 그룹을 갖는 화합물인, 경화성 실리콘 조성물. The curable silicone composition of claim 1, wherein said component (B) is a compound having a phenolic hydroxyl group. 제2항에 있어서, 상기 성분(B)가 1개 분자 내에 2개 이상의 페놀성 하이드록실 그룹을 함유하는 오가노실록산인, 경화성 실리콘 조성물. The curable silicone composition according to claim 2, wherein the component (B) is an organosiloxane containing two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. 제3항에 있어서, 상기 성분(B)가 화학식 5의 오가노실록산인, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition of claim 3, wherein said component (B) is an organosiloxane of formula (5). 화학식 5Formula 5 R6 3Si0(R6 2SiO)nSiR6 3 R 6 3 Si0 (R 6 2 SiO) n SiR 6 3 위의 화학식 5에서, In the above formula (5) R6은 치환되거나 치환되지 않은 1가 탄화수소 그룹 또는 페놀성 하이드록실 그룹을 함유하는 1가 유기 그룹이지만, 1개 분자 내에 2개 이상의 R6 그룹이 페놀성 하이드록실 그룹을 함유하는 1가 유기 그룹이고, R &lt; 6 &gt; is a monovalent organic group containing a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or a phenolic hydroxyl group, but a monovalent organic group in which at least two R &lt; 6 &gt; groups in one molecule contain a phenolic hydroxyl group ego, n은 0 내지 1000의 범위의 정수이다. and n is an integer ranging from 0 to 1000. 제1항에 있어서, 상기 성분(B)가 성분(A) 100질량부 당 0.1 내지 500질량부의 양으로 함유되는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 1, wherein the component (B) is contained in an amount of 0.1 to 500 parts by mass per 100 parts by mass of the component (A). 제1항에 있어서, 상기 성분(C)가 경화성 실리콘 조성물의 0.01 내지 50질량%의 양으로 함유되는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 1, wherein the component (C) is contained in an amount of 0.01 to 50 mass% of the curable silicone composition. 제1항에 있어서, 경화 촉진제(D)를 추가로 함유하는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 1, further comprising a curing accelerator (D). 제7항에 있어서, 상기 성분(D)가 캡슐화된 아민계 경화 촉진제인, 경화성 실리콘 조성물.8. The curable silicone composition of claim 7, wherein said component (D) is an encapsulated amine-based cure accelerator. 제7항에 있어서, 상기 성분(D)가 성분(A) 100질량부 당 50질량부를 초과하지 않는 양으로 함유되는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 7, wherein said component (D) is contained in an amount not exceeding 50 parts by mass per 100 parts by mass of component (A). 제1항에 있어서, 충전제(E)를 추가로 함유하는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition of claim 1, further comprising a filler (E). 제10항에 있어서, 상기 성분(E)가 성분(A) 100질량부 당 5,000질량부를 초과하지 않는 양으로 함유되는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 10, wherein said component (E) is contained in an amount not exceeding 5,000 parts by mass per 100 parts by mass of component (A). 제10항에 있어서, 상기 성분(E)가 열 전도성 충전제인, 경화성 실리콘 조성물.11. The curable silicone composition of claim 10, wherein said component (E) is a thermally conductive filler. 제1항에 있어서, 유기 에폭시 수지(F)를 추가로 함유하는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 1, further comprising an organic epoxy resin (F). 제13항에 있어서, 상기 성분(F)가 성분(A) 100질량부 당 500질량부를 초과하지 않는 양으로 함유되는, 경화성 실리콘 조성물.The curable silicone composition according to claim 13, wherein said component (F) is contained in an amount not exceeding 500 parts by weight per 100 parts by weight of component (A). 제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 따른 경화성 실리콘 조성물의 경화물에 의해 밀봉되거나 접착된 전자 부품.An electronic component which is sealed or bonded by a cured product of a curable silicone composition according to any one of claims 1 to 14.
KR1020097013185A 2006-12-25 2007-12-14 Curable silicone composition and electronic component KR101410337B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006346865A JP5238157B2 (en) 2006-12-25 2006-12-25 Curable silicone composition and electronic component
JPJP-P-2006-346865 2006-12-25
PCT/JP2007/074607 WO2008078663A1 (en) 2006-12-25 2007-12-14 Curable silicone composition and electronic component

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090099060A KR20090099060A (en) 2009-09-21
KR101410337B1 true KR101410337B1 (en) 2014-06-23

Family

ID=39135290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097013185A KR101410337B1 (en) 2006-12-25 2007-12-14 Curable silicone composition and electronic component

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7994246B2 (en)
EP (1) EP2099867B1 (en)
JP (1) JP5238157B2 (en)
KR (1) KR101410337B1 (en)
CN (1) CN101563425B (en)
AT (1) ATE466903T1 (en)
DE (1) DE602007006345D1 (en)
MY (1) MY148111A (en)
TW (1) TWI426106B (en)
WO (1) WO2008078663A1 (en)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4931366B2 (en) * 2005-04-27 2012-05-16 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition and electronic component
JP5207591B2 (en) * 2006-02-23 2013-06-12 東レ・ダウコーニング株式会社 Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
JP5285846B2 (en) * 2006-09-11 2013-09-11 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition and electronic component
JP5547369B2 (en) * 2007-09-28 2014-07-09 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable liquid epoxy resin composition and cured product thereof
KR101195674B1 (en) * 2009-01-29 2012-10-30 야마하 가부시키가이샤 Heat exchange unit
KR101863884B1 (en) * 2010-12-27 2018-06-01 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 Curable epoxy resin composition
CN103608408B (en) 2011-06-17 2016-04-13 Lg化学株式会社 Curable compositions
CN104981517B (en) 2012-12-07 2017-09-15 第一毛织株式会社 Curable polysiloxane composition, encapsulating material and optics for optical instrument
KR101556274B1 (en) 2012-12-28 2015-09-30 제일모직 주식회사 Composition for encapsulant and encapsulant and electronic device
KR20170106404A (en) * 2015-01-21 2017-09-20 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 The room temperature curable organopolysiloxane composition
US9659844B2 (en) * 2015-08-31 2017-05-23 Texas Instruments Incorporated Semiconductor die substrate with integral heat sink
TW202132467A (en) * 2019-12-18 2021-09-01 美商陶氏有機矽公司 Curable silicone composition and cured product thereof
JP7321081B2 (en) * 2019-12-26 2023-08-04 株式会社藤商事 game machine

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000355622A (en) 1999-04-15 2000-12-26 Shin Etsu Chem Co Ltd Epoxy resin composition and laminated film and semiconductor device using same
US6512031B1 (en) * 1999-04-15 2003-01-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition, laminate film using the same, and semiconductor device
WO2006118335A1 (en) 2005-04-27 2006-11-09 Dow Corning Toray Co., Ltd. Curable silicone composition and electronic components
JP2006306953A (en) 2005-04-27 2006-11-09 Dow Corning Toray Co Ltd Curable silicone composition and its cured product

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3251655B2 (en) 1992-08-05 2002-01-28 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 Diorganopolysiloxane and method for producing the same
AU2941100A (en) * 1999-03-11 2000-09-28 Toray Industries, Inc. Epoxy resin composition, epoxy resin composition for fiber-reinforced composite,and fiber-reinforced composite containing the same
TWI345576B (en) 2003-11-07 2011-07-21 Dow Corning Toray Silicone Curable silicone composition and cured product thereof
JP2005146104A (en) * 2003-11-14 2005-06-09 Shin Etsu Chem Co Ltd Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP5166677B2 (en) * 2005-03-15 2013-03-21 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition and electronic component
JP2006316250A (en) * 2005-04-12 2006-11-24 Shin Etsu Chem Co Ltd Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP4017645B2 (en) * 2005-12-22 2007-12-05 横浜ゴム株式会社 Moisture curable resin composition

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000355622A (en) 1999-04-15 2000-12-26 Shin Etsu Chem Co Ltd Epoxy resin composition and laminated film and semiconductor device using same
US6512031B1 (en) * 1999-04-15 2003-01-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition, laminate film using the same, and semiconductor device
WO2006118335A1 (en) 2005-04-27 2006-11-09 Dow Corning Toray Co., Ltd. Curable silicone composition and electronic components
JP2006306953A (en) 2005-04-27 2006-11-09 Dow Corning Toray Co Ltd Curable silicone composition and its cured product

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090099060A (en) 2009-09-21
US7994246B2 (en) 2011-08-09
CN101563425B (en) 2012-07-04
TW200835749A (en) 2008-09-01
EP2099867A1 (en) 2009-09-16
CN101563425A (en) 2009-10-21
EP2099867B1 (en) 2010-05-05
WO2008078663A1 (en) 2008-07-03
JP5238157B2 (en) 2013-07-17
MY148111A (en) 2013-02-28
TWI426106B (en) 2014-02-11
JP2008156474A (en) 2008-07-10
US20100063185A1 (en) 2010-03-11
ATE466903T1 (en) 2010-05-15
DE602007006345D1 (en) 2010-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101410337B1 (en) Curable silicone composition and electronic component
EP1858983B1 (en) Curable silicone composition and electronic device produced therefrom
EP2061839B1 (en) Curable silicone composition and electronic component
EP2097483B1 (en) Curable silicone composition
KR101244203B1 (en) Curable silicone composition and cured product therefrom
JP4931366B2 (en) Curable silicone composition and electronic component
EP2201068B1 (en) Curable silicone composition and cured product thereof
KR20070004594A (en) Curing silicone composition and cured product thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180516

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190515

Year of fee payment: 6