KR101399318B1 - Electrode clean equipment of vortex inducement type - Google Patents

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KR101399318B1
KR101399318B1 KR1020120135481A KR20120135481A KR101399318B1 KR 101399318 B1 KR101399318 B1 KR 101399318B1 KR 1020120135481 A KR1020120135481 A KR 1020120135481A KR 20120135481 A KR20120135481 A KR 20120135481A KR 101399318 B1 KR101399318 B1 KR 101399318B1
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KR
South Korea
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cleaning
washing
electrode
vortex
wash water
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KR1020120135481A
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조수영
하규철
이길용
윤윤열
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한국지질자원연구원
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    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
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Abstract

The present invention relates to an electrode washing device of an eddy induction type and, more specifically, to an electrode washing device for preventing oxidation of an electrode by washing the electrode, whose the surface is changed to a strong alkali state, quickly by an electrolysis process such as tritium concentrated by an electrolytic concentration method, etc. According to the present invention, the electrode washing device induces space for washing an electrode to generate an eddy, so the ability to wash the electrode can be improved. Moreover, the present invention has an effect for manufacturing, using, and maintaining the device easily by simplifying the structure of the device while performing a washing process of an electrode smoothly. Therefore, the reliability and competitiveness of the device can be improved in a similar or related field, such as the washing field of an electrode used in electrolysis, the various fields using the electrolysis, the analysis field of a sample through the electrolysis, etc.

Description

와류 유도 방식의 전극 세척 장치{Electrode clean equipment of vortex inducement type}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a vortex induction type cleaning apparatus,

본 발명은 와류 유도 방식의 전극 세척 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전해농축법에 의한 삼중수소(트리튬, Tritium) 농축 등의 전기분해과정에 의해 표면이 강알칼리 상태로 변화된 전극을 신속하게 세척하여, 전극의 산화를 방지할 수 있도록 한 것이다.More particularly, the present invention relates to an electrode cleaning apparatus for cleaning an electrode whose surface has been changed to a strong alkaline state by an electrolysis process such as concentration of tritium (tritium) by an electrolytic concentration method, , So that oxidation of the electrode can be prevented.

특히, 본 발명은 전극을 세척하는 공간부에 와류가 발생할 수 있도록 유도함으로써, 전극의 세척능력을 향상시킬 수 있는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치에 관한 것이다.
In particular, the present invention relates to a vortex induction type electrode cleaning apparatus capable of improving the cleaning ability of an electrode by inducing a vortex to occur in a space portion for cleaning an electrode.

일반적으로, 전기분해(Electrolysis)는 물질에 전기에너지를 가하여 비자발적인 산화환원반응이 일어나도록 하는 것으로, 공장이나 가정에서 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 2차전지의 충전 및 방전도 산화환원반응에 의한 것이며, 공업적으로는 금속의 도금, 알루미늄의 제련, 구리의 정제, 다운스(Downs) 공정(용융 암염의 전기분해) 등에 널리 이용되고 있다.In general, electrolysis is an application of electric energy to a material to induce an involuntary redox reaction, which is widely used in factories and homes. For example, the charging and discharging of the secondary battery is also caused by the oxidation-reduction reaction, and industrially widely used for metal plating, aluminum smelting, copper refining, downs process (electrolysis of molten salt) .

또한, 액상의 시료를 농축하는 과정에서도 전기분해가 이용되고 있다.Electrolysis is also used in the process of concentrating a liquid sample.

예를 들어, 삼중수소(트리튬, 3H)는 물에 포함되어 자연상태로 존재하는 천연 동위원소로, 100년 미만에서 물의 유동연구 및 연대측정에 가장 이상적인 추적자로서, 지하수의 연대측정에 활용되어 있다. 그러나, 삼중수소는 그 함량이 극히 적기 때문에, 직접적인 분석이 어렵다.For example, tritium (Tritium, 3H) is a natural isotope that exists in water and is a natural isotope. It is the most ideal tracer for water flow studies and dating in less than 100 years and is used for dating of groundwater . However, since the content of tritium is extremely small, direct analysis is difficult.

따라서, 삼중수소의 분석은 전해 농축법에 의한 농축과정을 거쳐 이루어지게 된다.Therefore, the analysis of the tritium is carried out through the concentration process by the electrolytic concentration method.

지하수 시료의 농축과정을 간단히 살펴보면, 먼저 분석하고자 하는 물(지하수) 시료를 파이렉스(Pyrex)의 시료관으로 증류하고, 1차 증류가 끝난 시료 500~600g을 전기분해하여 20g까지 농축한다.A brief overview of the concentration process of groundwater samples is to first distill the water (ground water) sample to be analyzed into a sample tube of Pyrex, and electrolyze 500 ~ 600g of the first distilled sample to 20g.

농축이 완료되면, 도 1에 나타난 바와 같이 시료의 농축에 사용된 시료관(20)으로부터 전극(10)을 분리하고, 시료관(20)에 농축된 삼중수소는 따로 보관하며, 삼중수소의 농축에 사용된 전극은 약 80℃의 물을 이용하여 세척하게 된다.When the concentration is completed, the electrode 10 is separated from the sample tube 20 used for concentration of the sample as shown in FIG. 1, the concentrated tritium in the sample tube 20 is separately stored, and the concentration of tritium The electrode used for the cleaning is washed with water at about 80 캜.

이때, 전기분해에 이용된 전극(10)은 표면이 강알칼리성 상태이므로, 가능한 빠른 시간 안에 세척과정을 수행하는 것이 바람직하다.At this time, since the surface of the electrode 10 used for electrolysis is in a strongly alkaline state, it is desirable to perform the cleaning process as soon as possible.

전극을 세척하는 장치로는, 대한민국 공개특허공보 제10-2011-0061621호 "전극 세척 방법 및 시스템"(이하, 선행기술이라 함)있다.An apparatus for cleaning an electrode is disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2011-0061621 entitled " Electrode Cleaning Method and System "(hereinafter referred to as prior art).

선행기술의 경우, 전체 시스템의 구조가 복잡하고, 크기가 대형이기 때문에 이동에 제약이 있으며, 세척만을 위한 시스템으로서는 제작비용이나 운영비용 및 인력 등이 과도하게 투입되는 문제점이 있다.In the case of the prior art, there is a limitation in movement because the structure of the entire system is complicated and the size is large, and there is a problem that the manufacturing cost, the operating cost, and the manpower are excessively applied as the system for washing only.

특히, 선행기술은 전체 시스템의 크기로 인해 설치장소에 제약이 있으며, 대부분 전기분해를 수행하는 장소와는 별도의 장소에 설치할 수 밖에 없다.In particular, the prior art is limited in the installation site due to the size of the entire system, and most of them can not be installed in a place separate from the place where the electrolysis is performed.

결과적으로, 선행기술은 표면이 개질된 전극을 신속하게 세척하기에 어려움이 있으며, 이로 인해 전극의 성질변형 및 성능저하로 인해 전극수명을 단축시키는 결과를 초래할 뿐만 아니라, 시스템의 설치 및 운영 등에 과도한 비용 및 인력이 요구되는 문제점이 있었다.
As a result, the prior art has difficulties in quickly cleaning the surface-modified electrode, resulting in shortening the life of the electrode due to deformation and deterioration of properties of the electrode, Cost and manpower are required.

대한민국 공개특허공보 제10-2011-0061621호 "전극 세척 방법 및 시스템"Korean Patent Publication No. 10-2011-0061621 "Electrode Cleaning Method and System"

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명은 장치의 이동성을 보장하여 해당 장치를 전기분해과정이 수행된 장소까지 용이하게 이동시킬 수 있도록 함으로써, 전기분해가 완료된 전극을 신속히 세척할 수 있는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치를 제공하는데 목적이 있다. In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a vortex induction device capable of quickly cleaning an electrode that has been electrolyzed by ensuring the mobility of the device and allowing the device to be moved to a place where the electrolysis process is performed. The present invention has been made in view of the above problems.

또한, 본 발명은 장치의 구조를 단순화하면서도 원활한 전극의 세척과정이 수행될 수 있도록 함으로써, 전극세척에 대한 충분한 신뢰성을 얻을 수 있는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치를 제공하는데 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a vortex induction type electrode cleaning apparatus capable of achieving a sufficient reliability for electrode cleaning by simplifying the structure of the apparatus and cleaning the electrode smoothly.

특히, 본 발명은 전극을 세척하는 공간부에 와류가 발생할 수 있도록 유도함으로써, 전극의 세척능력을 향상시킬 수 있는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치를 제공하는데 목적이 있다.
In particular, it is an object of the present invention to provide a vortex induction type electrode cleaning apparatus capable of improving the cleaning ability of an electrode by inducing a vortex to occur in a space for cleaning an electrode.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 따른 와류 유도 방식의 전극 세척 장치는, 상부로 개방된 중공부가 형성되는 하우징; 상기 하우징의 내부에 구성되어 상기 중공부를 상부의 세척공간부와 하부의 배수공간부로 구획하며, 상기 세척공간부에서 배수공간부로 이어지도록 적어도 하나의 배수홀이 관통형성되는 바닥판; 및 상기 세척공간부를 다수 개의 공간으로 분할하도록 상기 하우징의 중공부에 구성되는 칸막이를 포함하는 챔버를 포함하며, 상기 하우징의 내부면 및 칸막이 중 적어도 하나에는, 적어도 하나의 와류형성부재가 형성된다.In order to accomplish the above object, the vortex induction type electrode cleaning apparatus according to the present invention comprises: a housing having a hollow portion opened to the top; A bottom plate which is formed in the housing and divides the hollow portion into an upper washing space and a lower drain hole and at least one drain hole is formed to extend from the washing space to the drain hole; And a chamber including a partition formed in the hollow portion of the housing to divide the cleaning space portion into a plurality of spaces. At least one vortex forming member is formed on at least one of the inner surface and the partition of the housing.

또한, 상기 와류형성부재는, 일측방향으로 경사지게 형성되는 판형의 와류유도편을 포함할 수 있다.In addition, the vortex forming member may include a plate-like vortex induction member formed to be inclined in one direction.

또한, 상기 와류유도편은, 상기 하우징의 내측방향으로 형성된 일측면이 곡면으로 형성될 수 있다.The vortex inducing member may be curved at one side of the vortex guide formed in the inner side of the housing.

또한, 상기 와류형성부재는, 돌출형성된 와류유도돌기를 포함할 수 있다.In addition, the vortex forming member may include protruding vortex inducing protrusions.

또한, 상기 칸막이는, 적어도 하나의 가로막이 및 세로막이가 분리가능하도록 결합되어 구성될 수 있다.In addition, the partition may be constructed such that at least one diaphragm and a vertical membrane are detachably coupled.

또한, 상기 가로막이에는, 일측방향으로 적어도 하나의 제1 끼움홈을 형성하고, 상기 세로막이에는, 다른 일측방향으로 적어도 하나의 제2 끼움홈을 형성하며, 상기 칸막이는, 상기 제1 끼움홈과 제2 끼움홈이 서로 끼워지도록, 상기 가로막이 및 세로막이를 결합하여 구성할 수 있다.At least one first fitting groove is formed in one side of the diaphragm and at least one second fitting groove is formed in the other side of the diaphragm, And the first and second fitting grooves are interdigitated with each other.

또한, 상기 하우징의 내부면에는, 상기 바닥판이 걸려져 지지되도록 지지구가 돌출형성될 수 있다.In addition, a support protrusion may be formed on the inner surface of the housing so that the bottom plate is hooked.

또한, 상기 챔버에 세척수를 공급하는 세척수공급장치; 상기 세척수공급장치에서 상기 세척공간부로 이어져 형성되는 공급라인; 상기 배수공간부에서 상기 챔버의 외부로 관통형성되는 배출라인; 상기 배수공간부에서 상기 세척공간부로 이어져 형성되는 순환라인; 상기 순환라인, 공급라인 및 세척수공급장치와 연결되도록 구성되는 펌프; 상기 펌프와 세척수공급장치, 상기 펌프와 순환라인 및 상기 배출라인에 각각 구성되는 제1 내지 제3 밸브; 및 상기 펌프 및 제1 내지 제3 밸브를 제어하여 상기 순환라인을 통해 상기 배수공간부에서 상기 세척공간부로 세척수를 순환시키는 제어장치를 더 포함할 수 있다.Further, a wash water supply device for supplying wash water to the chamber; A supply line extending from the wash water supply device to the cleaning space part; A discharge line formed to penetrate from the drain hole to the outside of the chamber; A circulation line extending from the drain hole to the washing space part; A pump configured to be connected to the circulation line, the supply line, and the wash water supply device; First to third valves respectively constituted by the pump and the wash water supply device, the pump and the circulation line, and the discharge line; And a controller for controlling the pump and the first to third valves to circulate the wash water from the drain hole to the wash space through the circulation line.

또한, 상기 제어장치는, 상기 제1 밸브를 개방하는 세척수공급모드; 상기 제1 밸브를 닫은 상태에서 상기 제2 밸브를 개방하는 세척수순환모드; 및 상기 제1 및 제2 밸브를 닫은 상태에서 상기 제3 밸브를 개방하는 세척수배출모드를 순차적으로 제어할 수 있다.The control device may further comprise: a wash water supply mode for opening the first valve; A wash water circulation mode for opening the second valve with the first valve closed; And a wash water discharge mode for opening the third valve in a state where the first and second valves are closed.

또한, 상기 제어장치는, 상기 제1 밸브 및 제2 밸브를 모두 개방하여 상기 세척수공급모드 및 세척수순환모드를 동시에 수행할 수 있다.In addition, the control device may simultaneously perform both the wash water supply mode and the wash water circulation mode by opening both the first valve and the second valve.

또한, 상기 제어장치는, 최초세척과정, 중간세척과정 및 최종세척과정 각각에 대하여, 상기 세척수공급모드, 세척수순환모드 및 세척수배출모드 중 적어도 하나의 모드를 수행하도록 제어할 수 있다.In addition, the controller may control to perform at least one of the washing water supply mode, the wash water circulation mode, and the wash water discharge mode for each of the initial cleaning process, the intermediate cleaning process, and the final cleaning process.

또한, 상기 세척공간부는 상가 칸막이에 의해 다수 개로 분할된 공간을 적어도 두 개의 세척블록으로 구획형성되며, 상기 제어장치는, 상기 세척블록 중 어느 하나의 세척블록에서 중간세척과정 또는 최종세척과정에 사용된 세척수를, 다른 하나의 세척블록의 최초세척과정에 사용하거나, 상기 세척블록 중 어느 하나의 세척블록에서 최종세척과정에 사용된 세척수를, 다른 하나의 세척블록의 중간세척과정에 사용하도록, 상기 펌프 및 제1 내지 제3 밸브 각각에 대한 동작을 제어할 수 있다.
The cleaning space may be divided into at least two cleaning blocks divided into a plurality of chambers by an upholstery partition, and the control device may be used in an intermediate cleaning process or a final cleaning process in any one of the cleaning blocks The cleaning water used in the first cleaning process of the other cleaning block or the cleaning water used in the final cleaning process in any one of the cleaning blocks is used for the intermediate cleaning process of the other cleaning block, The pump, and the first to third valves, respectively.

상기와 같은 해결수단에 의해, 본 발명은 장치의 이동성을 보장하여 해당 장치를 전기분해과정이 수행된 장소까지 용이하게 이동시킬 수 있도록 함으로써, 전기분해가 완료된 전극을 신속히 세척할 수 있는 장점이 있다.According to the above-mentioned solution, the present invention is advantageous in that the electrode can be quickly cleaned by allowing the device to move to the place where the electrolysis process is performed by ensuring the mobility of the device .

특히, 전해농축법에 의한 삼중수소(트리튬, Tritium) 농축 등의 전기분해과정에 의해 표면이 강알칼리 상태로 변화된 전극의 산화를 방지할 수 있는 효과가 있다.Particularly, oxidation of an electrode whose surface has been changed to a strong alkaline state by an electrolysis process such as concentration of tritium (tritium) by an electrolytic concentration method can be prevented.

결과적으로, 해당 전극의 사용수명을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.As a result, there is an advantage that the useful life of the electrode can be improved.

또한, 본 발명은 장치의 구조를 단순화하면서도 원활한 전극의 세척과정이 수행될 수 있도록 함으로써, 해당 장치의 제작, 사용 및 유지관리를 용이하게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention can simplify the structure of the apparatus and smoothly perform the cleaning process of the electrode, thereby facilitating the manufacture, use, and maintenance of the apparatus.

특히, 본 발명은 본 발명은 전극을 세척하는 공간부에 와류가 발생할 수 있도록 유도함으로써, 전극의 세척능력을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In particular, the present invention is advantageous in that the cleaning ability of the electrode can be improved by inducing a vortex to occur in the space portion for washing the electrode.

따라서, 전기분해에 사용된 전극의 세척분야는 물론, 전기분해를 이용하는 다양한 분야, 전기분해를 통한 시료의 분석분야 등의 유사 내지 연관 분야에서, 장치의 신뢰성 및 경쟁력을 향상시킬 수 있다.
Therefore, it is possible to improve the reliability and competitiveness of the apparatus in the similar or related fields such as various fields using electrolysis, analysis of samples through electrolysis, as well as washing fields used in electrolysis.

도 1은 전기분해에 사용되는 전극을 설명하는 도면이다.
도 2는 본 발명에 의한 와류 유도 방식의 전극 세척 장치의 일 실시예를 설명하는 개념도이다.
도 3은 도 2의 챔버를 설명하는 부분절개 사시도이다.
도 4는 도 3의 분해사시도이다.
도 5는 도 3의 칸막이를 설명하는 분해사시도이다.
도 6은 도 2의 전극 세척 장치에 와류형성부재가 형성된 일 실시예를 설명하는 부분확대 사시도이다.
도 7은 도 2의 전극 세척 장치에 와류형성부재가 형성된 다른 일 실시예를 설명하는 부분확대 사시도이다.
도 8 내지 도 10은 도 2에 나타난 전극 세척 장치의 동작을 설명하는 도면이다.
도 11은 본 발명에 의한 세척수 재순환 방식의 전극 세척 장치의 다른 일 실시예를 설명하는 개념도이다.
도 12 내지 도 15은 도 11에 나타난 전극 세척 장치의 동작을 설명하는 도면이다.
1 is a view for explaining an electrode used for electrolysis.
2 is a conceptual diagram for explaining an embodiment of the vortex induction type electrode cleaning apparatus according to the present invention.
3 is a partially cutaway perspective view illustrating the chamber of Fig.
4 is an exploded perspective view of FIG.
5 is an exploded perspective view illustrating the partition of Fig.
6 is a partially enlarged perspective view illustrating an embodiment in which a vortex forming member is formed in the electrode cleaning apparatus of FIG.
FIG. 7 is a partially enlarged perspective view illustrating another embodiment in which a vortex forming member is formed in the electrode cleaning apparatus of FIG. 2; FIG.
8 to 10 are views for explaining the operation of the electrode cleaning apparatus shown in FIG.
11 is a conceptual diagram for explaining another embodiment of the washing apparatus for recycling the washing water according to the present invention.
FIGS. 12 to 15 are views for explaining the operation of the electrode cleaning apparatus shown in FIG.

본 발명에 따른 와류 유도 방식의 전극 세척 장치에 대한 예는 다양하게 적용할 수 있으며, 이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 가장 바람직한 실시 예에 대해 설명하기로 한다.An example of the vortex induction type electrode cleaning apparatus according to the present invention can be variously applied, and a most preferred embodiment will be described below with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 의한 와류 유도 방식의 전극 세척 장치의 일 실시예를 설명하는 개념도이다.2 is a conceptual diagram for explaining an embodiment of the vortex induction type electrode cleaning apparatus according to the present invention.

도 2를 참조하면, 세척수 재순환 방식의 전극 세척 장치는, 챔버(Chamber)(100), 세척수공급장치(200), 공급라인(310), 배출라인(320), 순환라인(330), 펌프(400) 및 제어장치(500)를 포함한다.2, the washing apparatus of the washing water recirculation type includes a chamber 100, a washing water supplying apparatus 200, a supplying line 310, a discharging line 320, a circulating line 330, a pump (not shown) 400 and a control device 500. [

챔버(100)는 세척수를 이용하여 전극을 세척하기 위한 것으로, 상부로 개방된 중공부가 형성된다. 또한, 챔버(100)의 중공부에는 하우징(Housing)(110), 바닥판(120), 칸막이(130) 및 지지구(140)가 구성되고, 챔버(100)의 하부에는 고정식이동바퀴(150)가 구성될 수 있다.The chamber 100 is for cleaning the electrode using washing water, and a hollow portion opened to the top is formed. A housing 110, a bottom plate 120, a partition 130 and a support 140 are formed in the hollow portion of the chamber 100. A stationary movement wheel 150 ) Can be constructed.

하우징(110)은 챔버(100)의 외형을 이루며, 내부에 전극(10)을 세척하는 세척공간부(111)와, 세척공간부(111)의 하부에 배수공간부(112)가 형성된다.The housing 110 forms an outer shape of the chamber 100 and has a washing space part 111 for washing the electrode 10 and a drain hole part 112 at the lower part of the washing space part 111.

바닥판(120)은 세척공간부(111)와 배수공간부(112)의 경계부분에 구성되며, 세척될 전극을 받치면서 세척수가 하부로 배출될 수 있도록 형성된다.The bottom plate 120 is formed at a boundary portion between the washing space portion 111 and the drain hole portion 112 and is formed such that the washing water can be discharged downward while supporting the electrode to be cleaned.

칸막이(130)는 세척공간부(111)를 다수 개의 영역으로 구획하기 위한 것으로, 전극(10)의 형상 및 크기에 대응하여 구획들 영역의 크기를 결정할 수 있다.The partition 130 separates the washing space part 111 into a plurality of areas, and the size of the area of the compartments can be determined according to the shape and size of the electrode 10.

지지구(140)는 바닥판(120)을 고정지지하기 위한 것으로, 도 2에 나타난 바와 같이 하우징(110)의 내부면에 돌출되어 형성될 수 있으며, 당업자의 요구에 따라 하우징(110)의 하부면에 스페이서(도시하지 않음)를 형성하여 바닥판(120)을 지지할 수 있다.As shown in FIG. 2, the support member 140 may protrude from the inner surface of the housing 110 to support the bottom plate 120, and may be formed in the lower portion of the housing 110, A spacer (not shown) may be formed on the surface to support the bottom plate 120.

이상에서 설명된 바닥판(120), 칸막이(130) 및 지지구(140)는 하기에서 보다 상세히 설명하기로 한다.The bottom plate 120, the partition 130 and the support 140 described above will be described in more detail below.

고정식이동바퀴(150)는 챔버(100)를 고정 또는 이동시키기 위한 것으로, 구성 및 작동방법은 당업자의 요구에 따라 다양하게 변형될 수 있으므로, 특정한 것에 한정하지는 않는다.The stationary moving wheel 150 is for fixing or moving the chamber 100, and the construction and operation method can be variously modified according to the needs of the person skilled in the art, so that the present invention is not limited to a specific one.

세척수공급장치(200)는 챔버(100)에 세척수를 공급하기 위한 것으로, 삼중수소 농축의 경우 80℃의 물을 이용하여 전극(10)을 세척하므로, 순간온수기 등을 이용하여 고온의 세척수를 공급할 수 있다.The washing water supplying device 200 supplies the washing water to the chamber 100. In the case of tritium condensation, the washing water is supplied to the electrode 10 by using water at 80 ° C. .

공급라인(310)은 세척수공급장치(200)에서 가열된 세척수를 세척공간부(111)에 공급하기 위한 것으로, 세척수공급장치(200)로부터 챔버(100)의 상부로 이어져 형성된다.The supply line 310 is for supplying the washing water heated in the washing water supplying device 200 to the washing space part 111 and formed from the washing water supplying device 200 to the upper part of the chamber 100.

배출라인(320)은 전극(10)을 세척하고 배수공간부(112)로 모인 세척수를 외부로 배출하기 위한 것으로, 배수공간부(112)에서 챔버(100)의 외부로 관통형성된다.The discharge line 320 is for discharging the washing water collected in the drain hole 112 to the outside and is formed to pass through the drain hole 112 to the outside of the chamber 100. [

순환라인(330)은 배수공간부(112)에 모인 세척수를 재이용하기 위한 것으로, 배수공간부(112)에서 세척공간부(111)로 이어지도록 형성된다.The circulation line 330 is for reusing washing water collected in the drain hole 112 and is formed to extend from the drain hole 112 to the washing space 111. [

펌프(400)는 순환라인(330)을 통해 세척수가 순환되도록 하기 위한 것으로, 순환라인(300)의 일측에 구성된다. 예를 들어, 펌프(400)는 도 2에 나타난 바와 같이 순환라인(330), 공급라인(310) 및 세척수공급장치(200)와 연결되도록 구성될 수 있다.The pump 400 is for circulating the wash water through the circulation line 330 and is formed at one side of the circulation line 300. For example, the pump 400 may be configured to be connected to the circulation line 330, the supply line 310, and the wash water supply device 200 as shown in FIG.

제어장치(500)는 펌프(400)의 동작을 제어하며, 순환라인(330)을 통해 세척수를 순환시킨다.The control device 500 controls the operation of the pump 400 and circulates the wash water through the circulation line 330.

또한, 도 2에 나타난 바와 같이, 펌프(400)와 세척수공급장치(200), 펌프(400)와 순환라인(330) 및 배출라인(430)에 각각 제1 내지 제3 밸브(410 내지 430)가 구성된다.As shown in FIG. 2, the first to third valves 410 to 430 are connected to the pump 400, the washing water supply device 200, the pump 400, the circulation line 330, and the discharge line 430, .

따라서, 제어장치(500)는 펌프(400)와 더불어 제1 내지 제3 밸브(410 내지 430)의 개폐를 제어함으로써, 세척수의 공급, 순환 및 배출 과정을 제어할 수 있다. 이러한 세척수의 공급, 순환 및 배출에 대한 제어방법은 하기에서 보다 상세히 설명하기로 한다.Therefore, the control device 500 can control the supply, circulation, and discharge processes of the wash water by controlling the opening and closing of the first to third valves 410 to 430 together with the pump 400. [ Methods for controlling the supply, circulation and discharge of such wash water will be described in more detail below.

도 3은 도 2의 챔버를 설명하는 부분절개 사시도이고, 도 4는 도 3의 분해사시도이다.FIG. 3 is a partially cutaway perspective view illustrating the chamber of FIG. 2, and FIG. 4 is an exploded perspective view of FIG.

도 3 및 도 4를 참조하면, 칸막이(130)는 세척공간부(111)를 다수 개의 영역으로 구획할 수 있다.Referring to FIGS. 3 and 4, the partition 130 can divide the washing space part 111 into a plurality of areas.

또한, 칸막이(130)는 적어도 하나의 가로막이(131) 및 세로막(132)를 포함할 수 있다.In addition, the partition 130 may include at least one diaphragm 131 and a vertical membrane 132.

또한, 하우징(110)의 내측면에는 가로막이(131) 및 세로막(132)의 양측종단부가 끼워지도록 가이드홈(160)이 형성될 수 있다. 이와 같은 가이드홈(160)은 세척수가 공급되는 과정에서 칸막이(130)가 안정적으로 위치할 수 있도록 지지하는 역할을 수행할 수 있다.A guide groove 160 may be formed in the inner surface of the housing 110 so that both end portions of the diaphragm 131 and the vertical membrane 132 are fitted. The guide groove 160 may serve to support the partition 130 in a stable position during the supply of the washing water.

또한, 가이드홈(160)은 도 12에 나타난 바와 같이 바닥판(120)이 걸려져 지지되도록 돌출형성된 지지구(140)에도 이어지도록 형성될 수 있다.The guide groove 160 may be formed so as to extend to the support 140 protruding to support the bottom plate 120 as shown in FIG.

또한, 바닥판(120)에는 세척공간부(111)로 공급된 세척수가 배수공간부(112)로 원활하게 이동할 수 있도록 복수 개의 배수홀(121)이 형성될 수 있다,A plurality of drain holes 121 may be formed on the bottom plate 120 so that the washing water supplied to the washing space 111 can smoothly move to the drain hole 112.

도 5는 도 3의 칸막이를 설명하는 분해사시도이다.5 is an exploded perspective view illustrating the partition of Fig.

도 5를 참조하면, 칸막이(130)는 가로막이(131)와 세로막이(132)가 분리가능하도록 구성되어 결합될 수 있다.Referring to FIG. 5, the partition 130 may be constructed so that the diaphragm 131 and the diaphragm 132 are detachable.

이를 위하여, 가로막이(131)에는 일측방향(도 5에서는 하부방향)으로 적어도 하나의 제1 끼움홈(131a)이 형성될 수 있고, 세로막이(132)에는 다른 일측방향(도 5에서 상부방향)으로 적어도 하나의 제2 끼움홈(132a)이 형성될 수 있으며, 상기 제1 끼움홈(131a)과 제2 끼움홈(132a)이 서로 끼워지도록 하여, 가로막이(131)와 세로막이(132)를 결합할 수 있다. 여기서, 가로막이(131)와 세로막이(132)의 결합 방식이나 구조는 당업자의 요구에 따라 다양하게 변형될 수도 있음은 물론이다.5, at least one first fitting groove 131a may be formed in the diaphragm 131 and at least one first fitting groove 131a may be formed in the diaphragm 131 in the other direction At least one second fitting groove 132a may be formed in the first fitting groove 131a and the second fitting groove 132a so that the diaphragm 131 and the vertical membrane 132 ) Can be combined. It is needless to say that the manner and structure of the combination of the diaphragm 131 and the lid 132 may be variously modified according to the needs of those skilled in the art.

한편, 본 발명에서는 다수 개의 영역으로 구획된 세척공간부(111)에 대하여, 세척수가 공급 및 배출되는 과정에서 각 영역 내의 세척수에 와류를 형성함으로써, 전극(10)의 세척효율을 향상시킬 수 있다.Meanwhile, in the present invention, the cleaning efficiency of the electrode 10 can be improved by forming a vortex in the washing water in each region in the process of supplying and discharging the washing water to the washing space part 111 divided into a plurality of areas .

이와 같은 세척수의 와류는 와류형성부재(미부호)를 이용하여 형성될 수 있으며, 와류형성부재의 구체적인 실시예는 하기에서 보다 상세히 설명하기로 한다.The vortex of the washing water may be formed using a vortex forming member (not shown), and specific embodiments of the vortex forming member will be described in more detail below.

도 6은 도 2의 전극 세척 장치에 와류형성부재가 형성된 일 실시예를 설명하는 부분확대 사시도이다.6 is a partially enlarged perspective view illustrating an embodiment in which a vortex forming member is formed in the electrode cleaning apparatus of FIG.

도 6을 참조하면, 상기 와류형성부재는 하우징(110)의 내부면이나 칸막이(130)의 가로막이(131) 및 세로막이(132)에 형성될 수 있다. 예를 들어, 와류형성부재는 일측방향(도 6에서 반시계방향)으로 경사지게 형성되는 판형의 와류유도편(610)으로 형성될 수 있다.6, the vortex forming member may be formed on the inner surface of the housing 110 or on the diaphragm 131 and the vertical membrane 132 of the partition 130. For example, the vortex forming member may be formed of a plate-like vortex guide piece 610 formed to be inclined in one direction (counterclockwise in Fig. 6).

또한, 와류유도편(610)은 세척수의 와류형성을 보다 향상시키기 위하여, 와류의 형상에 대응하여 하우징(1110)의 내측방향으로 형성된 일측면(611)을 곡면으로 형성할 수 있다.The vortex induction piece 610 may have a curved surface at one side 611 formed in the inner direction of the housing 1110 in correspondence with the shape of the vortex so as to further improve vortex formation of the washing water.

결과적으로, 세척수는 도 6에 나타난 바와 같이 와류유도편(610)을 따라 반시계방향으로 회전하면서 공급 또는 배출될 수 있으며, 이러한 와류(a)에 의해 전극(10)에 대한 세척효율을 크게 향상시킬 수 있다.As a result, the washing water can be supplied or discharged while being rotated counterclockwise along the vortex induction piece 610 as shown in FIG. 6, and the cleaning efficiency for the electrode 10 is greatly improved by the vortex (a) .

도 7은 도 2의 전극 세척 장치에 와류형성부재가 형성된 다른 일 실시예를 설명하는 부분확대 사시도이다.FIG. 7 is a partially enlarged perspective view illustrating another embodiment in which a vortex forming member is formed in the electrode cleaning apparatus of FIG. 2; FIG.

도 7을 참조하면, 하우징(110)의 내부면이나 칸막이(130)의 가로막이(131) 및 세로막이(132)에 적어도 하나의 와류유도돌기(620)를 형성할 수 있다.7, at least one vortex inducing protrusion 620 may be formed on the inner surface of the housing 110 or the diaphragm 131 and the vertical membrane 132 of the partition 130. [

이러한 와류유도돌기(620)는, 와류유도편(610)에 의해 형성되는 주 와류(a)와 더불어 보조 와류(b)를 형성할 수 있다.The vortex guiding protrusion 620 can form the auxiliary vortex b together with the main vortex a formed by the vortex guiding piece 610.

결과적으로, 세척수는 와류유도돌기(620)에 의해 형성되는 보조 와류(b)가 형성되면서 의해 전극(10)의 세세한 부분까지 효율적으로 세척할 수 있다.As a result, the washing water can be efficiently cleaned to the fine portion of the electrode 10 by forming the auxiliary vortex b formed by the vortex inducing protrusion 620.

도 8 내지 도 10은 도 2에 나타난 전극 세척 장치의 동작을 설명하는 도면으로서, 도 8은 세척수공급모드를 나타낸 것이고, 도 9는 세척수순환모드를 나타낸 것이며, 도 10은 세척수배출모드를 나타낸 것이다.8 to 10 are views for explaining the operation of the electrode cleaning apparatus shown in Fig. 2, wherein Fig. 8 shows a washing water supply mode, Fig. 9 shows a washing water circulation mode, and Fig. 10 shows a washing water discharging mode .

먼저, 제어장치(500)는 도 8에 나타난 바와 같이 제2 밸브(420) 및 제3 밸브(430)를 닫은 상태에서, 제1 밸브(410)를 개방하여 세척수공급장치(200)로부터 세척수를 세척공간부(111)로 공급할 수 있다. 8, the control device 500 opens the first valve 410 in a state where the second valve 420 and the third valve 430 are closed as shown in FIG. 8, to discharge the washing water from the washing water supplying device 200 And may be supplied to the washing space part 111.

세척수가 충분히 공급되면, 제어장치(500)는 도 9에 나타난 바와 같이 제1 밸브(410)를 차단하여 세척수의 공급을 중단하며, 제2 밸브(420)를 개방하고 펌프(400)를 작동시킴으로써, 배수공간부(112)에 저장된 세척수를 세척공간부(111)의 상부로 재공급할 수 있다.When the washing water is sufficiently supplied, the controller 500 stops the supply of the washing water by shutting off the first valve 410 as shown in FIG. 9, and by opening the second valve 420 and operating the pump 400 , The washing water stored in the drain hole 112 may be supplied to the upper portion of the washing space 111 again.

상기와 같은 세척수의 순환에 의해 전극(10)이 세척되면, 제어장치(500)는 도 10에 나타난 바와 같이 제2 밸브(420)를 차단하고 펌프(400)의 동작을 중지시킨 후, 제3 밸브(430)를 개방하여, 배출라인(320)을 통해 세척수를 배출할 수 있다.When the electrode 10 is cleaned by circulation of the washing water as described above, the controller 500 cuts off the second valve 420 and stops the operation of the pump 400 as shown in FIG. 10, The valve 430 may be opened to discharge the wash water through the discharge line 320.

또한, 제어장치(500)는 제1 밸브(410) 및 제2 밸브(420)를 모두 개방하고, 펌프(400)를 동작시킴으로써, 세척수공급모드 및 세척수순환모드를 동시에 수행할 수 있다.The control device 500 can simultaneously perform both the washing water supply mode and the washing water circulation mode by opening both the first valve 410 and the second valve 420 and operating the pump 400. [

한편, 강알칼리성으로 표면이 개질된 전극(10)을 세척하게 되면, 세척수도 알칼리성으로 변질될 수 있으며, 알칼리성으로 변질된 세척수를 순환시키는 경우, 순환라인(330)이나 펌프(400) 및 제2 밸브(420)에 악영향을 미칠 수 있다.On the other hand, if the electrode 10 having the surface modified with strong alkalinity is washed, the washing water may be altered to be alkaline. In the case of circulating the alkaline washing water, the circulation line 330, the pump 400, The valve 420 may be adversely affected.

따라서, 제어장치(500)는 최초 공급되는 세척수에 대해서는 순환시키지 않고 바로 배출할 수 있고, 이후 공급되는 세척수에 대해서는 공급된 횟수에 따라 순환횟수를 조절할 수 있다.Therefore, the control device 500 can directly discharge the washing water to be supplied first without circulating the washing water, and the number of circulation can be adjusted according to the number of times the washing water is supplied.

도 11은 본 발명에 의한 세척수 재순환 방식의 전극 세척 장치의 다른 일 실시예를 설명하는 개념도이다.11 is a conceptual diagram for explaining another embodiment of the washing apparatus for recycling the washing water according to the present invention.

도 11을 참조하면, 세척공간부(111)는 칸막이(130)에 의해 다수 개의 영역으로 구획되는 바, 일측방향으로 나란히 구획된 영역에 대해서는 하나의 세척블록(R1 내지 R3)으로 구분하여 설정할 수 있다.Referring to FIG. 11, the cleaning space part 111 is divided into a plurality of areas by the partition 130, and the area divided in one direction may be divided into one cleaning block R1 to R3 have.

또한, 구분된 각 세척블록(R1 내지 R3)별로 도 6에 나타난 바와 같이, 복수 개의 펌프(401 내지 403) 및 공급라인(311 내지 313)을 구성할 수 있으며, 순환라인(330)은 일측이 다수 개로 분기되어 복수 개의 펌프(401 내지 403)에 각각 연결될 수 있다.6, a plurality of pumps 401 to 403 and supply lines 311 to 313 can be formed for each of the divided cleaning blocks R1 to R3, And may be connected to the plurality of pumps 401 to 403, respectively.

또한, 복수 개의 펌프(401 내지 403)와 세척수공급장치(200) 사이에는 복수 개의 제1 펌프(411 내지 413)가 구성될 수 있고, 복수 개의 펌프(401 내지 403)와 분기된 순환라인(330)의 사이에는 복수 개의 제2 펌프(421 내지 423)가 구성될 수 있다.A plurality of first pumps 411 to 413 may be formed between the plurality of pumps 401 to 403 and the washing water supply device 200. A plurality of pumps 401 to 403 and branched circulation lines 330 A plurality of second pumps 421 to 423 can be configured.

제어장치(500)는 각 세척블록(R1 내지 R3)별로 도 8 내지 도 10에 따라 제어할 수 있다.The control device 500 can be controlled according to FIGS. 8 to 10 for each of the cleaning blocks R1 to R3.

또한, 제어장치(500)는 각 세척블록(R1 내지 R3)별로 최초세척과정, 중간세척과정 및 최종세척과정을 수행할 수 있다.In addition, the controller 500 may perform an initial cleaning process, an intermediate cleaning process, and a final cleaning process for each of the cleaning blocks R1 to R3.

예를 들어, 최초세척과정에서 제어장치(500)는 도 8 및 도 10에 따라 전극(10)을 처음 1회 세척할 수 있고, 중간세척과정에서 제어장치(500)는 도 8 내지 도 10에 따라 전극(10)을 2회 내지 5회 세척할 수 있으며, 최종세척과정에서 제어장치(500)는 도 8 및 도 10에 따라 전극(10)을 처음 1회 세척할 수 있다.For example, in the initial cleaning process, the controller 500 may clean the electrode 10 for the first time in accordance with FIGS. 8 and 10, and in the intermediate cleaning process, The electrode 10 may be cleaned twice to five times. In the final cleaning process, the controller 500 may clean the electrode 10 for the first time according to FIGS. 8 and 10.

한편, 전극(10)의 세척이 진행됨에 따라, 후반에 이루어지는 세척과정에서는 세척수의 변질정도가 미비할 수 있으며, 이러한 세척수는 최초세척과정에서 이용할 수 있다.Meanwhile, as the electrode 10 is washed, the degree of deterioration of the washing water may be insufficient in the washing process performed in the latter half, and such washing water can be used in the initial washing process.

도 12 내지 도 15은 도 11에 나타난 전극 세척 장치의 동작을 설명하는 도면이다.FIGS. 12 to 15 are views for explaining the operation of the electrode cleaning apparatus shown in FIG.

제어장치(500)는 도 12에 나타난 바와 같이, 1열에 대응하는 제1 밸브(411) 및 제2 밸브(421)를 개방하고, 펌프(401)를 동작시켜, 1열의 세척블록에 대하여 최초세척과정을 수행할 수 있으며, 최초세척과정을 거친 세척수는 변질정도가 크므로 그대로 배출시킬 수 있다.The control device 500 opens the first valve 411 and the second valve 421 corresponding to the first column and operates the pump 401 to perform the first cleaning And the washing water having undergone the initial washing process may be discharged as it is because the degree of deterioration is high.

이후, 제어장치(500)는 도 13에 나타난 바와 같이, 1열에 대응하는 제1 밸브(411)를 개방하고 펌프(401)를 동작시켜, 1열의 세척블록에 대하여 중간세척과정을 수행할 수 있으며, 1열에 대한 중간세척과정을 거친 세척수는 변질정도가 낮아지게 되므로, 2열에 대응하는 제2 밸브(422)를 개방하고 펌프(402)를 동작시켜 2열의 최초세척과정에 이용할 수 있다.13, the control device 500 can perform the intermediate cleaning process for one row of the cleaning block by opening the first valve 411 corresponding to the first column and operating the pump 401 The degree of deterioration of the washing water subjected to the intermediate washing process for one row is lowered so that the second valve 422 corresponding to the second row is opened and the pump 402 is operated to use the washing water for the first row of two rows.

동일한 방법으로, 제어장치(500)는 도 14에 나타난 바와 같이, 2열에 대응하는 제1 밸브(412)를 개방하고 펌프(402)를 동작시켜, 2열의 세척블록에 대하여 중간세척과정을 수행할 수 있으며, 3열에 대응하는 제3 밸브(423)를 개방하고 펌프(403)를 동작시켜 3열의 최초세척과정에 이용할 수 있다. 물론, 3열의 최초세척과정에 대하여 1열에 대한 중간세척과정을 거친 세척수를 이용할 수 있음은 당연하다.In the same manner, the controller 500 opens the first valve 412 corresponding to the second column and operates the pump 402 to perform an intermediate cleaning process on the two rows of the cleaning block, as shown in Fig. 14 And the third valve 423 corresponding to the third column may be opened and the pump 403 may be operated to use the first cleaning process in three rows. Needless to say, it is natural that the washing water subjected to the intermediate washing process for one row can be used for the first washing process of three rows.

상기와 같은 과정에 의해, 1열 내지 3열의 세척블록에 대한 최초세척과정 및 중간세척과정이 완료되면, 제어장치(500)는 도 15에 나타난 바와 같이 제3 밸브(430)를 개방하여 세척공간부(111) 및 배수공간부(112)에 저장된 세척수를 모두 배출하고, 복수 개의 제1 밸브(411 내지 413)를 동시에 개방하고, 복수 개의 펌프(401 내지 403)를 모두 동작시킴으로써, 세척수공급장치(200)로부터 새로운 세척수를 공급받아 1열 내지 3열의 세척블록에 대한 최종세척과정을 수행할 수 있다.When the first cleaning process and the intermediate cleaning process for the first to third rows of cleaning blocks are completed, the controller 500 opens the third valve 430 as shown in FIG. 15, By discharging all of the washing water stored in the washing water supply unit 111 and the drain hole 112 and simultaneously opening the plurality of first valves 411 to 413 and operating all of the plurality of pumps 401 to 403, 200) to perform a final cleaning process on the one to three rows of wash blocks.

이상에서 본 발명에 의한 와류 유도 방식의 전극 세척 장치에 대하여 설명하였다. 이러한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.The vortex induction type electrode cleaning apparatus according to the present invention has been described above. It will be understood by those skilled in the art that the technical features of the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지는 것이므로, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
Therefore, it is to be understood that the embodiments described above are intended to be illustrative, and not restrictive, in all respects, and that the scope of the invention is indicated by the appended claims rather than the foregoing description, And all equivalents and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are to be embraced within their scope.

100 : 챔버(Chamber)
110 : 하우징(Housing) 111 : 세척공간부
112 : 배수공간부
120 : 바닥판 121 : 배수홀
130 : 칸막이 131 : 가로막이
132 : 세로막이
140 : 지지구 150 : 고정식이동바퀴
160 : 가이드홈
200 : 세척수공급장치
310 : 공급라인 320 : 배출라인
330 : 순환라인
400 : 펌프 410 : 제1 밸브
420 : 제2 밸브 430 : 제3 밸브
500 : 제어장치
610 : 와류유도편 620 : 와류유도돌기
100: Chamber
110: housing 111: cleaning space part
112: drainage officer
120: bottom plate 121: drain hole
130: partition 131: barrier
132:
140: ground 150: stationary moving wheel
160: Guide groove
200: Wash water supply device
310: supply line 320: discharge line
330: circulation line
400: Pump 410: First valve
420: second valve 430: third valve
500: control device
610: vortex induction piece 620: vortex induction projection

Claims (12)

상부로 개방된 중공부가 형성되는 하우징;
상기 하우징의 내부에 구성되어 상기 중공부를 상부의 세척공간부와 하부의 배수공간부로 구획하며, 상기 세척공간부에서 배수공간부로 이어지도록 적어도 하나의 배수홀이 관통형성되는 바닥판; 및
상기 세척공간부를 다수 개의 공간으로 분할하도록 상기 하우징의 중공부에 구성되는 칸막이를 포함하는 챔버;를 포함하며,
상기 하우징의 내부면 및 칸막이 중 적어도 하나에는, 적어도 하나의 와류형성부재가 형성되고,
상기 칸막이는,
적어도 하나의 가로막이 및 세로막이가 분리가능하도록 결합되어 구성되며,
상기 가로막이에는, 일측방향으로 적어도 하나의 제1 끼움홈을 형성하고,
상기 세로막이에는, 다른 일측방향으로 적어도 하나의 제2 끼움홈을 형성하며,
상기 칸막이는,
상기 제1 끼움홈과 제2 끼움홈이 서로 끼워지도록, 상기 가로막이 및 세로막이를 결합하여 구성하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
A housing having a hollow portion opened to an upper portion thereof;
A bottom plate which is formed in the housing and divides the hollow portion into an upper washing space and a lower drain hole and at least one drain hole is formed to extend from the washing space to the drain hole; And
And a chamber including a partition formed in a hollow portion of the housing to divide the cleaning space portion into a plurality of spaces,
At least one vortex forming member is formed on at least one of the inner surface and the partition of the housing,
The partition,
At least one diaphragm and a diaphragm being detachably coupled,
At least one first fitting groove is formed in the diaphragm in one direction,
Wherein at least one second fitting groove is formed in the other longitudinal direction of the vertical film,
The partition,
Wherein the diaphragm and the vertical membrane are combined so that the first fitting groove and the second fitting groove are interdigitated with each other.
제 1항에 있어서,
상기 와류형성부재는,
일측방향으로 경사지게 형성되는 판형의 와류유도편을 포함하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
The method according to claim 1,
The vortex-
And a plate-like vortex induction piece formed to be inclined in one direction.
제 2항에 있어서,
상기 와류유도편은,
상기 하우징의 내측방향으로 형성된 일측면이 곡면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
3. The method of claim 2,
The vortex induction member
Wherein the one side of the housing is formed as a curved surface.
제 1항에 있어서,
상기 와류형성부재는,
돌출형성된 와류유도돌기를 포함하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
The method according to claim 1,
The vortex-
And a protruding vortex inducing protrusion.
삭제delete 삭제delete 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하우징의 내부면에는,
상기 바닥판이 걸려져 지지되도록 지지구가 돌출형성되는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
On the inner surface of the housing,
Wherein the bottom plate is protruded so as to be hung on the bottom plate.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 챔버에 세척수를 공급하는 세척수공급장치;
상기 세척수공급장치에서 상기 세척공간부로 이어져 형성되는 공급라인;
상기 배수공간부에서 상기 챔버의 외부로 관통형성되는 배출라인;
상기 배수공간부에서 상기 세척공간부로 이어져 형성되는 순환라인;
상기 순환라인, 공급라인 및 세척수공급장치와 연결되도록 구성되는 펌프;
상기 펌프와 세척수공급장치, 상기 펌프와 순환라인 및 상기 배출라인에 각각 구성되는 제1 내지 제3 밸브; 및
상기 펌프 및 제1 내지 제3 밸브를 제어하여 상기 순환라인을 통해 상기 배수공간부에서 상기 세척공간부로 세척수를 순환시키는 제어장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
A wash water supply device for supplying wash water to the chamber;
A supply line extending from the wash water supply device to the cleaning space part;
A discharge line formed to penetrate from the drain hole to the outside of the chamber;
A circulation line extending from the drain hole to the washing space part;
A pump configured to be connected to the circulation line, the supply line, and the wash water supply device;
First to third valves respectively constituted by the pump and the wash water supply device, the pump and the circulation line, and the discharge line; And
Further comprising a controller for controlling the pump and the first to third valves to circulate the wash water from the drain hole to the wash space through the circulation line.
제 8항에 있어서,
상기 제어장치는,
상기 제1 밸브를 개방하는 세척수공급모드;
상기 제1 밸브를 닫은 상태에서 상기 제2 밸브를 개방하는 세척수순환모드; 및
상기 제1 및 제2 밸브를 닫은 상태에서 상기 제3 밸브를 개방하는 세척수배출모드를 순차적으로 제어하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
9. The method of claim 8,
The control device includes:
A wash water supply mode for opening the first valve;
A wash water circulation mode for opening the second valve with the first valve closed; And
And a washing water discharge mode for opening the third valve in a state where the first and second valves are closed.
제 9항에 있어서,
상기 제어장치는,
상기 제1 밸브 및 제2 밸브를 모두 개방하여 상기 세척수공급모드 및 세척수순환모드를 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
10. The method of claim 9,
The control device includes:
Wherein both the first valve and the second valve are opened to simultaneously perform the wash water supply mode and the wash water circulation mode.
제 10항에 있어서,
상기 제어장치는,
최초세척과정, 중간세척과정 및 최종세척과정 각각에 대하여, 상기 세척수공급모드, 세척수순환모드 및 세척수배출모드 중 적어도 하나의 모드를 수행하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
11. The method of claim 10,
The control device includes:
Wherein at least one of the washing water supplying mode, the washing water circulating mode, and the washing water discharging mode is performed for each of the first cleaning process, the intermediate cleaning process, and the final cleaning process.
제 11항에 있어서,
상기 세척공간부는
상가 칸막이에 의해 다수 개로 분할된 공간을 적어도 두 개의 세척블록으로 구획형성되며,
상기 제어장치는,
상기 세척블록 중 어느 하나의 세척블록에서 중간세척과정 또는 최종세척과정에 사용된 세척수를, 다른 하나의 세척블록의 최초세척과정에 사용하거나,
상기 세척블록 중 어느 하나의 세척블록에서 최종세척과정에 사용된 세척수를, 다른 하나의 세척블록의 중간세척과정에 사용하도록, 상기 펌프 및 제1 내지 제3 밸브 각각에 대한 동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 와류 유도 방식의 전극 세척 장치.
12. The method of claim 11,
The washing space portion
A space partitioned into a plurality of chambers by a partition wall is divided into at least two cleaning blocks,
The control device includes:
The cleaning water used in the intermediate cleaning process or the final cleaning process in any one of the cleaning blocks may be used for the first cleaning process of the other one of the cleaning blocks,
And the operation of each of the pump and the first to third valves is controlled so as to use the wash water used in the final wash process in any one of the wash blocks for the intermediate wash process of the other wash block Wherein the electrode cleaning device comprises:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH11114449A (en) * 1997-10-15 1999-04-27 Shinwa Tec Kk Electrode washing mechanism for electric precipitator
KR20120028512A (en) * 2010-09-15 2012-03-23 두진엔지니어링 주식회사 Spray nozzle for washer

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