KR101394571B1 - Transcription plate for forming alignment layer - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 베이스 필름과; 상기 베이스 필름위에 위치하고, 일측의 제 1 영역과 타측의 제 2 영역과 상기 제 1 및 제 2 영역 사이의 제 3영역으로 나뉘며, 상기 각 영역에는 철부인 다수의 망점이 형성되어 있는 패턴부와; 상기 베이스 필름 위로 상기 패턴부 주변에 상기 패턴부의 두께보다 얇은 두께를 가지며 형성된 바탕부를 포함하며, 각 영역의 전체 면적에 대한 상기 망점 상부면의 면적의 합의 비로 정의되는 개구율이 상기 제 2 영역과 타 영역에서 서로 다른 값을 갖고, 상기 패턴부는 배향막 인쇄장치에 장착되어 기판상에 배향막을 인쇄 시 상기 제 1 영역이 가장 먼저 기판과 접촉하는 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판을 제공한다.The present invention provides a base film comprising: a base film; A pattern portion located on the base film, the pattern portion being divided into a first region on one side and a second region on the other side and a third region between the first and second regions, the plurality of dot portions being convex portions being formed in the respective regions; And an opening ratio defined by a ratio of a sum of the areas of the top surface of the halftone dot to the total area of the respective areas, Wherein the pattern portion is mounted on an alignment film printing apparatus and the first region is first contacted with the substrate when the alignment film is printed on the substrate.

전사판, 망점, 배향막, 홈부, 개구율, 메쉬 Transfer plate, halftone dot, alignment film, groove portion, aperture ratio, mesh

Description

배향막 형성용 전사판{Transcription plate for forming alignment layer} [0001] The present invention relates to a transfer plate for forming alignment layer,

본 발명은 액정표시장치의 배향막 형성을 위한 전사판에 관한 것으로, 더 상세히는 균일한 배향막 형성을 위한 전사판 및 이를 이용한 배향막 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transfer plate for forming an alignment film of a liquid crystal display, and more particularly, to a transfer plate for forming a uniform alignment film and a method of forming an alignment film using the same.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다. Recently, liquid crystal display devices have been attracting attention as next generation advanced display devices with low power consumption, good portability, and high value-added.

이러한 액정표시장치 중에서도 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on),오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.Of these liquid crystal display devices, an active matrix type liquid crystal display device having a thin film transistor, which is a switching device capable of controlling voltage on and off for each pixel, .

일반적으로, 액정표시장치는 박막트랜지스터 및 화소전극을 형성하는 어레이 기판 제조 공정과 컬러필터 및 공통 전극을 형성하는 컬러필터 기판 제조 공정을 통해 각각 어레이 기판 및 컬러필터 기판을 형성하고, 이들 두 기판 사이에 액정을 개재하는 셀 공정을 거쳐 완성된다. In general, a liquid crystal display device forms an array substrate and a color filter substrate through an array substrate manufacturing process for forming thin film transistors and pixel electrodes, and a color filter substrate manufacturing process for forming color filters and common electrodes, And a liquid crystal interposed therebetween.

좀 더 자세히, 일반적인 액정표시장치의 분해사시도인 도 1을 참조하여 설명하면, 도시한 바와 같이, 액정층(30)을 사이에 두고 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)이 대면 합착된 구성을 갖는데, 이중 하부의 어레이 기판(10)은 투명한 기판(12)의 상면으로 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 복수개의 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16)을 포함하며, 이들 두 배선(14, 16)의 교차지점에는 박막트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(18)과 일대일 대응 접속되어 있다.1, which is an exploded perspective view of a general liquid crystal display device, the array substrate 10 and the color filter substrate 20 are bonded to each other with a liquid crystal layer 30 interposed therebetween The lower array substrate 10 includes a plurality of gate wirings 14 and data wirings 16 that are longitudinally and laterally arranged on the upper surface of a transparent substrate 12 to define a plurality of pixel regions P A thin film transistor T is provided at the intersection of these two wirings 14 and 16 and is connected in a one-to-one correspondence with the pixel electrode 18 provided in each pixel region P.

또한, 상기 어레이 기판(10)과 마주보는 상부의 컬러필터 기판(20)은 투명기판(22)의 하면으로 상기 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16) 그리고 박막트랜지스터(T) 등의 비표시영역을 가리도록 각 화소영역(P)을 테두리하는 격자 형상의 블랙매트릭스(25)가 형성되어 있으며, 이들 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 적(R), 녹(G), 청(B)색의 컬러필터 패턴(26a, 26b, 26c)을 포함하는 컬러필터층(26)이 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(25)와 컬러필터층(26)의 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(28)이 구비되어 있다.The upper portion of the color filter substrate 20 opposed to the array substrate 10 is formed with the lower surface of the transparent substrate 22 and the gate wiring 14, the data wiring 16, the thin film transistor T, Shaped black matrix 25 for framing each pixel region P so as to cover the respective pixel regions P in the pixel region P. The red (R), green A color filter layer 26 including color filter patterns 26a, 26b and 26c of blue (G) and blue (B) colors is formed on the front surface of the color filter layer 26, A common electrode 28 is provided.

그리고, 도면상에 도시되지는 않았지만, 이들 두 기판(10, 20)은 그 사이로 개재된 액정층(30)의 누설을 방지하기 위하여 가장자리 따라 씰란트(sealant) 등으로 봉함된 상태에서 각 기판(10, 20)과 액정층(30)의 경계부분에는 액정의 분자배열 방향에 신뢰성을 부여하는 상, 하부 배향막이 개재되며, 각 기판(10, 20)의 적어도 하나의 외측면에는 편광판이 구비되어 있다. Although not shown in the drawing, the two substrates 10 and 20 are bonded to each other with a sealant or the like along their edges in order to prevent leakage of the liquid crystal layer 30 interposed therebetween. 20 and the liquid crystal layer 30 are interposed between the liquid crystal layer 30 and the liquid crystal layer 30, and a polarizing plate is provided on at least one outer side of each of the substrates 10, 20 .

또한, 어레이 기판(10)의 외측면으로는 백라이트(back-light)가 구비되어 빛 을 공급하는 바, 게이트 배선(14)으로 박막트랜지스터(T)의 온(on)/오프(off) 신호가 순차적으로 스캔 인가되어 선택된 화소영역(P)의 화소전극(18)에 데이터배선(16)의 화상신호가 전달되면 이들 사이의 수직전계에 의해 그 사이의 액정분자가 구동되고, 이에 따른 빛의 투과율 변화로 여러 가지 화상을 표시할 수 있다.On the outer side of the array substrate 10, a back-light is provided to supply light. An on / off signal of the thin film transistor T is applied to the gate wiring 14 When image signals of the data lines 16 are transferred to the pixel electrodes 18 of the selected pixel region P sequentially by scanning, the liquid crystal molecules between them are driven by the vertical electric field between them, and the light transmittance Various images can be displayed by the change.

전술한 구성을 갖는 액정표시장치의 제조방법에 대해 간단히 설명한다. A manufacturing method of a liquid crystal display device having the above-described structure will be briefly described.

우선, 어레이 기판은, 투명한 절연기판에 대해 금속 또는 무기물질의 증착(deposition), 노광(photo-lithography), 현상(develop) 및 식각(etching)공정을 거쳐 게이트 및 데이터 배선과, 이들 두 배선과 연결된 박막트랜지스터(thin film transistor)를 형성하고, 상기 각각의 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 형성함으로써 완성하고 있다.First, the array substrate is subjected to a process of depositing, photo-lithography, developing, and etching a metal or an inorganic material on a transparent insulating substrate to form a gate and a data wiring, A connected thin film transistor is formed, and pixel electrodes connected to the respective thin film transistors are formed.

또한, 컬러필터 기판은 상기 어레이 기판과 마주보는 면에 컬러필터층과 공통전극을 형성을 형성함으로써 완성하고 있다. The color filter substrate is completed by forming a color filter layer and a common electrode on a surface facing the array substrate.

전술한 바와 같이 제작된 어레이 기판 및 컬러필터 기판은, 상기 두 기판 사이에 액정층을 개재한 상태에서 합착하여 하나의 액정패널을 형성하는 셀 공정을 진행하여 액정표시장치로 제품화 된다. The array substrate and the color filter substrate fabricated as described above are manufactured into a liquid crystal display device by performing a cell process in which a liquid crystal layer is interposed between the two substrates to form one liquid crystal panel.

이러한 액정표시장치는 액정의 전기 광학적 효과를 이용한 것이고, 이러한 전기 광학적 효과는 액정 자체의 이방성과 액정의 분자배열 상태에 의해 결정되며, 상기 액정의 분자배열에 대한 제어는 액정표시장치에서의 화상 표시품위를 안정화하는데 큰 영향을 미치게 된다. 따라서, 액정 분자의 초기 배열을 고르게 하기 위해서 배향공정을 진행하게 된다. Such an electro-optical effect is determined by the anisotropy of the liquid crystal itself and the molecular arrangement state of the liquid crystal, and the control of the molecular arrangement of the liquid crystal is carried out by the image display in the liquid crystal display It has a great influence on stabilizing the decency. Therefore, the alignment process is performed to uniformize the initial alignment of the liquid crystal molecules.

배향공정은 상기 각각 완성된 어레이 기판 및 컬러필터 기판에 폴리이미드 등의 고분자 물질을 도포하여 배향막을 형성하고, 이의 표면의 고분자 사슬이 일정한 방향성을 갖도록 하기 위해 러빙포라 불리는 특수한 천으로 일정한 방향으로 마찰시켜 상기 배향막 내의 고분자 사슬을 일 방향으로 정렬시킴으로써 액정 분자의 초기배열 상태를 고르게 하는 역할을 하고 있다. In the alignment process, an alignment film is formed by applying a polymer material such as polyimide to each of the completed array substrate and the color filter substrate, and a special cloth called a rubbing foil is rubbed in a predetermined direction to make the polymer chains on the surface thereof have a certain direction Thereby aligning the polymer chains in the alignment film in one direction so as to uniformize the initial alignment state of the liquid crystal molecules.

이러한 배향공정을 진행함에 있어서 가장 중요한 요소는 배향막의 두께에 있다. 배향막이 화상을 표시하는 표시영역에 대해 균일한 두께를 가지며 형성되어야 그 후 공정인 러빙 공정을 진행함에 있어 불량이 발생하지 않기 때문이다. The most important factor in the progress of the alignment process lies in the thickness of the alignment layer. This is because when the alignment film has a uniform thickness with respect to the display region for displaying an image, defects do not occur in the subsequent rubbing process.

도 2는 배향막 인쇄 장치에 있어 판동에 장착된 종래의 전사판으로부터 배향액이 기판으로 전사되는 것을 도시한 도면이며, 도 3은 종래의 전사판과 기판이 접촉함으로써 배향액이 전사되어 배향막이 형성된 상태를 도시한 단면도이다.FIG. 2 is a view showing that alignment liquid is transferred from a conventional transfer plate mounted on a platen in the alignment film printing apparatus to a substrate. FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional transfer plate, Fig.

도시한 바와 같이, 전사판(53)을 개재하여 판동(51)과 기판(60)이 접촉된 상태에서 일정한 압력이 가해짐으로써 기판(60)상에 배향액이 전사되고, 따라서 배향막(63)이 형성됨을 알 수 있다. 즉, 배향액을 머금고 있는 전사판(53)이 기판(60)에 접촉하면서 일정한 힘으로 가압되게 되는데, 이때 가압력에 의해 상기 전사판(53)으로부터 기판(60)으로 전사되는 배향액은 그 도포 두께를 일정하게 하기 위해 상하좌우로 퍼져나가게 되며, 전사판(53) 끝단 더욱 정확히는 전사판(53)에서 실질적으로 기판(60)과 접촉하는 패턴부(미도시)의 끝단부에 있어서는 밀려난 배향액이 가압되는 부분이 없게 되는 바, 타영역 대비 매우 두꺼운 형태를 갖게 된다. The alignment liquid is transferred onto the substrate 60 by applying a certain pressure in the state that the platen 51 and the substrate 60 are in contact with each other via the transfer plate 53. As a result, Is formed. That is, the transfer plate 53 faded with the alignment liquid is pressed with a certain force while contacting the substrate 60. At this time, the alignment liquid, which is transferred from the transfer plate 53 to the substrate 60 by the pressing force, (Not shown) that substantially contacts the substrate 60 at the end of the transfer plate 53 and more precisely at the end of the transfer plate 53, There is no portion in which the alignment liquid is pressed, and it has a very thick shape compared to other regions.

즉, 도 3에 도시한 바와 같이, 기판(60) 상에 최종적으로 형성된 배향막(63) 은 판동(미도시)의 회전에 의해 전사판(53)의 패턴부(54)가 기판(60)에 접촉되는 시작부(63a)를 비롯하여 배향액이 밀려남 현상에 의해 끝단부(63b)가 중앙부(63c) 대비 3-4배 정도 더 두껍게 형성되는 문제가 발생하고 있다. 이렇게 중앙부 대비 그 양끝단에서 그 두께가 두꺼운 부분을 설명의 편의상 배향액 마운트(mount)부라 칭한다.3, the alignment film 63 finally formed on the substrate 60 is transferred to the substrate 60 by the rotation of the platen (not shown) so that the pattern portion 54 of the transfer plate 53 There is a problem that the end portion 63b is formed to be 3-4 times thicker than the center portion 63c due to the pushing of the alignment liquid including the starting portion 63a to be contacted. A portion having a greater thickness at both ends than the center portion is referred to as an orientation liquid mount portion for convenience of explanation.

이러한 문제를 해결하기 위해 전사판의 기판과 접촉하는 패턴부에 있어서 그 중앙부과 주변에 대해 서로 다른 메쉬를 갖는 전사판이 제안되었다. To solve this problem, a transfer plate having different meshes with respect to the central portion and the periphery of the pattern portion in contact with the substrate of the transfer plate has been proposed.

도 4는 종래의 중앙부와 주변부에 있어 배향액을 머금는 양을 달리하도록 설계된 전사판의 하나의 패턴부를 도시한 평면도이며, 도 5a와 도 5b는 도 4에 있어 A, B영역을 각각 확대 도시한 평면도이며, 도 6은 도 4를 절단선 Ⅵ-Ⅵ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다.FIG. 4 is a plan view showing one pattern part of a transfer plate designed to vary the amount of alignment liquid in the conventional central part and peripheral part. FIGS. 5A and 5B are enlarged views of areas A and B, respectively, And FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG.

도 4에 도시한 바와 같이, 전사판(70)은 패턴부(72)와 바탕부(74)로 나뉘고 있으며, 상기 패턴부(72)는 바탕부(74) 대비 1mm 내지 3mm 더 두꺼운 두께를 가지며 형성되고 있으며, 따라서 상기 패턴부(72)만이 배향액 인쇄 장치를 통해 기판과 접촉함으로써 기판 상에 배향막을 형성하게 된다. 4, the transfer plate 70 is divided into a pattern portion 72 and a base portion 74. The pattern portion 72 has a thickness that is 1 mm to 3 mm thicker than the base portion 74 Accordingly, only the pattern unit 72 is brought into contact with the substrate through the alignment liquid printing apparatus to form an alignment film on the substrate.

이때 상기 패턴부(72)를 잘 살펴보면 패턴부(72)는 그 테두리를 따라 1mm 내지 3mm 정도의 폭을 갖는 테두리부(72a)와 상기 테두리부(72a) 내측의 중앙부(72b)로 구성되고 있으며, 이들 두 영역(72a, 72b)은 서로 다른 메쉬(mesh)를 이루고 있음을 알 수 있다. 메쉬(mesh)란 가로세로 1인치인 영역에 대해 돌출되어 있는 망점수를 뜻한다. 도 5a와 도 5b를 참조하면 중앙부(72b)에 대해서는 작은 메쉬를 갖고 테두리부(72b)에 대해서는 큰 메쉬를 갖도록 구성되고 있음을 알 수 있다. The pattern part 72 is composed of a rim 72a having a width of about 1 mm to 3 mm and a central part 72b inside the rim 72a along the rim of the pattern part 72 , It can be seen that the two regions 72a and 72b form a different mesh. A mesh is a network score that is projected over an area of 1 inch in width. Referring to FIGS. 5A and 5B, it can be seen that the center portion 72b has a small mesh and the rim portion 72b has a large mesh.

또한 도 6을 참조하면, 망점(76)과 망점(76) 사이의 홈부(78)라 정의되는 영역에 대해서도 중앙부(72b)에서의 깊이(d1)보다는 테두리부(72a)에서의 깊이(d2)가 낮게 형성되고 있음을 보이고 있다.6, the depth d2 at the rim portion 72a is larger than the depth d1 at the central portion 72b with respect to the region defined by the groove portion 78 between the halftone dot 76 and the halftone dot 76. [ Is low.

이러한 구조를 갖는 전사판(70)을 이용하여 기판 상에 배향막을 형성시는 배양액을 머금는 홈부(78)의 면적 및 깊이 차이에 의해 중앙부(72b)보다는 테두리부(72a)에서 배향액을 머금는 양이 작게되어 기판 상에 형성된 배향막의 마운트부의 높이가 줄어들도록 한 것이다.When the alignment film is formed on the substrate using the transfer plate 70 having such a structure, the amount by which the alignment liquid is deposited at the edge portion 72a rather than the central portion 72b due to the difference in area and depth of the groove portion 78, And the height of the mounting portion of the alignment film formed on the substrate is reduced.

하지만, 이렇게 패턴부(72)에 대해 중앙부(72b)와 이를 감싸는 테두리부(72a)에 대해 메쉬 크기를 달리 형성한 전사판(70)을 이용하여 배향막을 형성한다 할지라도 상기 배향막은 여전히 그 중앙부 대비 그 두께가 두꺼운 마운트부가 발생되고 있는 실정이다.However, even if the alignment layer is formed using the transfer plate 70 having the mesa size different from that of the central portion 72b and the frame portion 72a surrounding the central portion 72b with respect to the pattern portion 72, There is a problem that a mount portion having a thicker thickness than that of the mount portion is generated.

즉, 전사판(70)의 패턴부(72)에 의해 접촉함으로써 형성되는 배향막의 양끝단의 마운트부의 높이를 줄이기 위해 상기 패턴부(70)를 중앙부(72b)와 테두리부(72a) 두 개의 영역으로 나누어 제작하고 있지만, 이러한 구조를 갖는 전사판(70)을 이용하여 배향막을 기판 상에 인쇄하면 상기 배향막의 시작부에 대해서는 어느 정도 마운트부의 높이가 줄어드는 효과가 있지만, 끝단부에 대서는 그 마운트부의 두께가 줄어들지 않고 있는 실정이다. 이는 배향막 인쇄장치를 통한 인쇄방향에 따라 배향액이 패턴부의 끝단으로 밀려나는 유체의 흐름을 고려하지 않았기 때문이다. That is, in order to reduce the height of the mounting portions at both ends of the alignment film formed by the contact with the pattern portion 72 of the transfer plate 70, the pattern portion 70 is divided into two regions, that is, the central portion 72b and the rim portion 72a When the alignment film is printed on the substrate by using the transfer plate 70 having such a structure, the height of the mount portion is reduced to some extent with respect to the start portion of the alignment film. However, The thickness of the part is not reduced. This is because it does not take into consideration the flow of the liquid that the alignment liquid is pushed to the end of the pattern portion according to the printing direction through the alignment film printing apparatus.

도 7a와 도 7b는 2영역을 갖는 패턴부를 포함하는 전사판을 이용하여 기판상에 배향막을 인쇄 시 배향막의 인쇄 시작부와 끝단부에서의 두께를 측정한 그래프이다.FIGS. 7A and 7B are graphs illustrating the thicknesses at the printing start and end portions of the alignment film when the alignment film is printed on a substrate using a transfer plate including pattern portions having two regions. FIG.

도시한 바와 같이, 전사판 패턴부의 중앙부에 대응하는 영역(도 7a의 좌측 및 도 7b의 우측)은 평균적으로 500Å 내지 1000Å 정도의 두께를 가짐을 알 수 있지만, 시작부(도 7a의 돌출부분)의 경우 그 최대치가 2500Å정도가 되고 있으며, 끝단부(도 7b의 돌출부분)에 있어서는 그 최대치가 4500Å정도의 두께를 갖게 됨을 알 수 있다.  As shown in the figure, the regions corresponding to the central portion of the transfer plate pattern portion (the left side in Fig. 7A and the right side in Fig. 7B) have an average thickness of about 500 to 1000 ANGSTROM, The maximum value is about 2500 angstroms, and the maximum value is about 4500 angstroms in the end portion (the protruding portion in FIG. 7B).

이러한 문제를 해결하고자 전사판의 패턴부에 있어 테두리부의 메쉬를 더욱 크게하여 홈부가 차지하는 영역을 줄이게 되면, 인쇄 시작점에서의 배향막 인쇄 특성이 저하되어 뜯김 등이 발생하고 있는 실정이다. In order to solve such a problem, in the pattern portion of the transfer plate, if the mesh portion of the edge portion is further enlarged to reduce the area occupied by the groove portion, the alignment film printing characteristic at the printing start point is lowered,

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 전사판의 구조를 변경하여 기판 상에 인쇄된 배향막의 중앙부와 테두리부에서의 두께의 현격한 차이를 최소화 할 수 있는 전사판을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a transfer plate capable of minimizing a significant difference in thickness between a central portion and an edge portion of an alignment film printed on a substrate by changing the structure of the transfer plate to solve the above- It is for that purpose.

본 발명에 따른 배향막 인쇄용 전사판은, 베이스 필름과; 상기 베이스 필름위에 위치하고, 일측의 제 1 영역과 타측의 제 2 영역과 상기 제 1 및 제 2 영역 사이의 제 3 영역으로 나뉘며, 상기 각 영역에는 철부인 다수의 망점이 형성되어 있는 패턴부와; 상기 베이스 필름 위로 상기 패턴부 주변에 상기 패턴부의 두께보다 얇은 두께를 가지며 형성된 바탕부를 포함하며, 각 영역의 전체 면적에 대한 상기 망점 상부면의 면적의 합의 비로 개구율이 정의되며, 상기 제 1, 2 및 3 영역에서의 상기 개구율을 각각 X1, Y1, Z1라 했을 때, Y1 > X1 > Z1의 관계를 만족하도록 상기 패턴부가 형성되며, 상기 패턴부는 배향막 인쇄장치에 장착되어 기판상에 배향막을 인쇄 시 상기 제 1 영역이 가장 먼저 기판과 접촉하는 것이 특징이다. A transfer plate for printing an alignment film according to the present invention comprises: a base film; A pattern portion located on the base film, the pattern portion being divided into a first region on one side and a second region on the other side and a third region between the first and second regions, the plurality of dot portions being convex portions being formed in the respective regions; And a base portion formed on the base film and having a thickness smaller than a thickness of the pattern portion in the vicinity of the pattern portion, wherein an aperture ratio is defined by a ratio of a sum of the areas of the top surface of the halftone dot to the total area of each region, X1 > Z1, and Y1 > X1 > Z1, respectively, when the opening ratios in the first, second and third regions are X1, Y1 and Z1, respectively, And the first region is first contacted with the substrate.

상기 망점의 단위 면적당 개수를 메쉬로 정의하고, 상기 제 1 내지 제 3 영역에서의 메쉬 크기를 각각 X2, Y2, Z2라 했을 경우, Y2 > X2 > Z2의 관계를 만족하도록 상기 패턴부가 형성된 것이 특징이다. The number of the halftone dots per unit area is defined as a mesh, and when the mesh sizes in the first to third regions are X2, Y2, and Z2, the pattern portion is formed so as to satisfy the relationship of Y2 > to be.

또한, 상기 제 1 내지 제 3 영역 각각에 있어 상기 망점 각각의 상부면 면적을 X3, Y3, Z3라 했을 경우, Y3 > X3 > Z3의 관계를 만족하도록 상기 패턴부가 형성된 것이 특징이다. When the upper surface area of each of the halftone dots in each of the first to third regions is X3, Y3, and Z3, the pattern portion is formed so as to satisfy the relationship of Y3> X3> Z3.

또한, 상기 망점 사이의 요부를 홈부로 정의하고, 상기 제 1 내지 제 3 영역에서의 상기 홈부 깊이를 각각 D1, D2, D3라 했을 경우, D2 < D1 < D3의 부등식을 만족하도록 상기 패턴부가 형성된 것이 특징이다. D2 < D1 < D3, where D2 &lt; D1 &lt; D3, respectively, when depths of the grooves in the first to third regions are D1, D2 and D3, respectively. .

또한, 상기 제 1 및 제 2 영역은 그 폭이 0.3mm 내지 2mm인 것이 특징이며, 상기 베이스 필름은 폴리에틸렌 필름이며, 상기 바탕부와 패턴부는 광경화성 수지 로 이루어진 것이 특징이다. The first and second regions may have a width of 0.3 mm to 2 mm. The base film is a polyethylene film, and the base portion and the pattern portion are made of a photocurable resin.

본 발명의 실시예에 따라 전사판 패턴부의 중앙부와 제 1 및 제 2 에지부 각각에 메쉬 크기 또는 망점 상부면의 면적이 다른 망점 구조를 갖도록 형성한 전사판을 이용하여 기판상에 배향막을 형성하면, 인쇄 방향성이 고려됨으로써 상기 형성된 배향막의 에지부에서의 배향막의 두께가 급격히 증가하는 마운트부의 높이를 줄여, 배향막의 두께 균일도를 향상시키는 효과가 있다. According to an embodiment of the present invention, an alignment layer is formed on a substrate by using a transfer plate formed at the central portion of the transfer plate pattern portion and in each of the first and second edge portions so that the mesh size or the area of the top surface of the halftone dot portion has different dot- And considering the printing directionality, the height of the mounting portion in which the thickness of the alignment layer at the edge portion of the formed alignment layer is increased sharply is reduced, and the uniformity of the thickness of the alignment layer is improved.

이러한 배향막의 마운트부의 두께가 줄어듦으로 해서 러빙 불량을 억제 할 수 있으며, 나아가 씰패턴과의 접촉에 의한 뜯김 불량을 더욱 억제하는 효과가 있다. Reduction in the thickness of the mounting portion of the alignment film can suppress the rubbing failure and further suppress the defective peeling due to the contact with the seal pattern.

이하 본 발명에 따른 실시예에 의한 배향막 형성용 전사판을 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, a transfer plate for forming an alignment film according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

본 발명의 특징은 배향막 인쇄장치를 통해 기판에 전사되는 배향막에 있어서 그 중앙부 대비 테두리부의 막두께가 3배 내지 4배 높게 형성되는 것을 억제할 수 있는 전사판을 제공하는 것이다. It is a feature of the present invention to provide a transfer plate capable of suppressing formation of a film thickness of the edge portion of the alignment film which is transferred to the substrate through the alignment film printing apparatus from 3 to 4 times as high as the center portion.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 전사판의 4개의 패턴부에 대한 평면도이며, 도 9a와 도 9b는 도 8의 A영역과 B영역을 각각 확대 도시한 평면도이며, 도 10은 도 8을 절단선 Ⅹ-Ⅹ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다. FIG. 8 is a plan view of four pattern portions of a transfer plate according to an embodiment of the present invention, FIGS. 9A and 9B are enlarged views of region A and region B of FIG. 8, Sectional view taken along the section line X-X in Fig.

도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 전사판(110)은 베이스 필름(112)과 상기 베이스 필름 상부로 기판(미도시)과 접촉하여 배향액을 상기 기판(미도시)에 전사시키는 다수의 패턴부(120)와, 상기 다수의 패턴부(120) 주변에 위치한 바탕부(115)로 구성된다. 이때, 본 발명의 가장 특징적인 구성으로써 상기 각 패턴부(120)에 있어서, 배향막 인쇄장치(미도시)에 장착되어 기판(미도시) 상에 배향막을 형성 시 가장 먼저 기판(미도시)과 접촉이 되는 패턴부(120)의 일측 테두리부를 제 1 에지부(EA1), 그리고 이와 반대측에 위치하여 가장 나중에 기판(미도시)과 접촉이 이루어지는 제 2 에지부(EA2)와, 이들 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2) 사이에 위치한 중앙부(CA)로 구성되며, 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2)와 상기 중앙부(CA)는 서로 다른 메쉬 크기를 가지며 구성되고 있다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2)는 그 폭(w)이 각각 0.3mm 내지 2mm가 되는 것이 특징이다. As shown, the transfer plate 110 according to the embodiment of the present invention includes a base film 112 and a plurality (not shown) for transferring the alignment liquid onto the substrate (not shown) by contacting the substrate And a background portion 115 located around the plurality of pattern portions 120. The pattern portion 120 includes a plurality of pattern portions 120, At this time, as the most characteristic feature of the present invention, in each of the pattern units 120, when the alignment film is formed on a substrate (not shown) mounted on an alignment film printing apparatus (not shown) And a second edge portion EA2 which is located on the opposite side of the first edge portion EA1 and is in contact with the substrate (not shown) at the last, and a second edge portion EA2, The first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA have different mesh sizes. The first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA have different mesh sizes. The widths w of the first and second edge portions EA1 and EA2 are 0.3 mm to 2 mm, respectively.

메쉬(mesh)란 가로, 세로 각각 1인치 즉 2.54cm의 정사각형에 형성되는 망점수를 의미한다. 예를들어 400 메쉬 전사판이라 하는 것은 상기 패턴부에 있어 가로, 세로 길이가 각각 2.54cm인 정사각형 영역을 정의하였을 때, 상기 정사각형 안에 400개의 망점이 형성된 전사판을 칭한다.The mesh means a mesh score formed in a square of 1 inch or 2.54 cm in each of a width and a length. For example, a 400 mesh transfer plate refers to a transfer plate having 400 halftone dots in the square when a square area having a length and a length of 2.54 cm is defined in the pattern unit.

또한 본 발명의 실시예에 따른 전사판(110)의 패턴부(120)에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2)와 중앙부(CA)는 메쉬 크기 대신에 망점(130) 상부면의 면적 또는 망점(130)의 심도가 서로 다르게 형성되는 것이 특징이다. 여기서, 망점(130)의 개구율이란 각 패턴부(120) 전체 면적 대비 상기 망점(130)의 기판과 접촉하는 상부면(표면)이 차지하는 면적 비를 뜻하며, 망점(130)의 심도는 상기 망점(130)의 높이 또는 망점(130)과 망점(130) 사이에 위치하는 홈부(135)의 깊이를 뜻한다. 이때, 메쉬 크기 또는 망점(130) 상부면의 면적은 상기 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2)와 중앙부(CA)의 개구율을 결정하게 된다. 즉, 동일한 메쉬 크기를 갖는 경우, 망점(130) 상부면의 면적을 크게 하면 개구율이 증가하게 되며, 이는 개구율과 망점(130) 상부면의 면적이 비례함을 뜻한다. 한편, 동일한 망점(130) 상부면의 면적을 갖는 경우, 메쉬 크기를 증가시키면, 즉 동일면적에 망점(130)의 수를 증가시키면, 개구율이 증가하게 되며, 개구율과 메쉬 크기가 서로 비례함을 의미한다. The first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA of the pattern portion 120 of the transfer plate 110 according to the exemplary embodiment of the present invention may be replaced with a plurality of The area of the surface or the depth of the halftone dot 130 are formed to be different from each other. The aperture ratio of the halftone dot 130 is an area ratio of a top surface (surface) of the halftone dot 130 in contact with the substrate with respect to the total area of each pattern 120, 130 or the depth of the groove 135 located between the halftone dot 130 and the halftone dot 130. At this time, the mesh size or the area of the upper surface of the halftone dot 130 determines the aperture ratio of the first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA. That is, when the mesh size is the same, increasing the area of the upper surface of the halftone dot 130 increases the aperture ratio, which means that the aperture ratio is proportional to the area of the upper surface of the halftone dot 130. On the other hand, in the case of having the area of the upper surface of the same halftone dot 130, if the mesh size is increased, that is, if the number of halftone dots 130 is increased in the same area, the aperture ratio is increased and the aperture ratio and the mesh size are proportional to each other it means.

상기 패턴부(120)가 배향막 인쇄 장치의 아니록스롤과 접촉함으로서 머금게 되는 배향액에 있어 그 머금는 양은 패턴부(120)의 개구율이 작아질수록, 망점(130)의 심도가 커질수록 더 커지게 되며, 이 경우 기판 상에 형성되는 배향막은 그 두께가 두껍게 형성되게 된다. The amount of the alignment liquid in which the pattern unit 120 comes into contact with the anilox roll of the alignment film printing apparatus becomes larger as the aperture ratio of the pattern unit 120 becomes smaller and the depth of the halftone dot 130 becomes larger In this case, the thickness of the alignment layer formed on the substrate is increased.

이러한 사실을 바탕으로 하여 본 발명에 따른 배향막 인쇄용 전사판((110))은 그 패턴부(120)가 크게 3개의 영역으로 구성된다. 패턴부(120) 중 인쇄 시 기판과 제일 먼저 닿는 부분의 0.3mm 내지 2mm의 폭을 갖는 제 1 에지부(EA1)에 있어서의 상기 패턴부(120)의 개구율을 x, 중앙부(CA)에 있어서의 상기 패턴부(120)의개구율을 y, 그리고 인쇄 시 기판에 가장 마지막에 닿는 0.3mm 내지 2mm의 폭을 갖는 제 2 에지부(EA2)에 있어서의 상기 패턴부(120)의 개구율을 z라 할 때, z > x ≥ y의 관계가 성립하도록 상기 패턴부(120)가 구성되고 있는 것이 특징이다.Based on this fact, the pattern unit 120 of the transfer plate (110) for alignment film printing according to the present invention is largely composed of three regions. X is the opening ratio of the pattern portion 120 in the first edge portion EA1 having a width of 0.3 mm to 2 mm at the portion of the pattern portion 120 which is first contacted with the substrate during printing, The aperture ratio of the pattern portion 120 in the second edge portion EA2 having the width of 0.3 mm to 2 mm which is the last to touch the substrate at the time of printing is z , The pattern unit 120 is configured such that the relationship of z > x &gt; = y is established.

또한, 상기 망점(130)의 심도의 경우는, 제 1 에지부(EA1)와 중앙부(CA)와 제 2 에지부(EA2)에서의 망점의 심도를 각각 D1, D2, D3라 할 때, D3 < D1 ≤ D2의 관계가 성립되도록 형성되고 있는 것이 또 다른 특징이다.In the case of the depth of the halftone dot 130, when the depths of the halftone dots at the first edge EA1, the central portion CA, and the second edge EA2 are D1, D2, and D3, respectively, D3 &Lt; D1 &lt; D2.

도 9a 및 도 9b에는, 망점(130)의 크기(s)가 상기 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2) 및 중앙부(CA)에서 동일한 경우(망점(130)이 원형인 경우가 도시되어 있으며 망점(130) 상부면의 면적은 크기(s)에 비례하게 된다), 메쉬 크기를 달리하는 구성이 도시되어 있다. 즉, 동일한 면적을 기준으로 볼때, 중앙부(CA)에는 가장 적은 수의 망점(130)이 형성되어 있고, 제 2 에지부(EA2)에는 가장 많은 수의 망점(130)이 형성되어 있다. 따라서, 제 2 에지부(EA2)의 개구율이 가장 크며, 중앙부(CA)의 개구율이 가장 작게 된다. 도면에는 제 1 에지부(EA1)의 개구율이 중앙부(CA)보다 큰 경우를 도시하고 있으나, 제 1 에지부(EA1)와 중앙부(CA)의 개구율은 동일할 수 있다.9A and 9B show the case where the size s of the halftone dot 130 is the same at the first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA And the area of the upper surface of the halftone dot 130 is proportional to the size (s)). That is, the minimum number of dots 130 is formed in the central portion CA and the largest number of dots 130 is formed in the second edge portion EA2, on the basis of the same area. Therefore, the aperture ratio of the second edge portion EA2 is the largest, and the aperture ratio of the center portion CA is the smallest. Although the figure shows the case where the opening ratio of the first edge portion EA1 is larger than the center portion CA, the opening ratios of the first edge portion EA1 and the center portion CA may be the same.

일례로써 패턴부(120)의 중앙부(CA)는 400 메쉬로 형성된다고 하면, 제 1 에지부(EA1)는 400 메쉬와 같거나 이보다 큰 400 내지 600 메쉬로 형성되며, 제 2 에지부(EA2)에 대해서는 제 1 에지부(EA1)의 메쉬보다 큰 메쉬를 갖도록 형성되는 것이 특징이다. For example, if the central portion CA of the pattern unit 120 is formed of 400 meshes, the first edge portion EA1 is formed to have a mesh size of 400 to 600, which is greater than or equal to 400 mesh, Is formed to have a larger mesh than the mesh of the first edge EA1.

도 10에는 서로 다른 망점(130)의 심도를 갖는 패턴부(120)를 포함하고 있는 전사판(110)의 단면도가 도시되어 있다. 전술한 바와 같이, 전사판(110)의 베이스 필름(112) 상에는 바탕부(115), 상기 바탕부(115)보다 큰 높이를 갖는 패턴부(120)가 형성되어 있으며, 상기 패턴부(120)는 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2)와 그 사 이의 중앙부(CA)로 구성된다. 그리고, 상기 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2)와 중앙부(CA) 각각에는 철(凸)부인 다수의 망점(130)과, 상기 다수의 망점(130) 사이에 요(凹)부인 다수의 홈부(135)가 형성되어 있다.FIG. 10 shows a cross-sectional view of a transfer plate 110 including a pattern portion 120 having a depth of a different halftone dot 130. The pattern part 120 having a height greater than that of the base part 115 is formed on the base film 112 of the transfer plate 110, Is composed of first and second edge portions (EA1, EA2) and a central portion (CA) thereof. The first and second edge portions EA1 and EA2 and the central portion CA are provided with a plurality of halftone dots 130 which are convex portions and a plurality of concave dots 130 between the plurality of halftone dots 130. [ The groove portion 135 of the second substrate 110 is formed.

여기서, 상기 망점(130)의 크기(s)는 동일하며 서로 다른 메쉬 크기를 갖는 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2) 및 중앙부(CA)에 있어서, 제 1 에지부(EA1)의 홈부(135)의 심도(d1)는 상기 제 2 에지부(EA2)의 심도(d3)보다 크고, 상기 중앙부(CA)의 심도(d2)보다 작다. 심도의 크기는 패턴부(120)의 각 영역에서 머금는 배향액의 양 및 형성될 배향막의 두께에 비례하기 때문에, 제 2 에지부(EA2)에 대응하는 배향막의 두께를 가장 작게 할 수 있게 된다.In the first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA having the same size s of the halftone dots 130 and having different mesh sizes, The depth d1 of the second edge portion 135 is larger than the depth d3 of the second edge portion EA2 and smaller than the depth d2 of the center portion CA. Since the depth of the pattern portion 120 is proportional to the amount of alignment liquid and the thickness of the alignment film to be formed in each region of the pattern portion 120, the thickness of the alignment film corresponding to the second edge portion EA2 can be minimized.

한편, 망점(130)의 심도의 경우, 전사판(110)의 제조 특성상 자유도가 높지않아 임의적으로 조절될 수 없지만, 전사판(110)의 개구율(A/R)과 메쉬에 따른 망점 심도를 변화를 나타낸 그래프인 도 11을 참조하면, 망점 심도의 크기의 변화 추이는 메쉬 크기가 증가할수록 그리고 개구율이 증가할수록 작아지는 경향을 갖게 됨을 알 수 있다. On the other hand, in the case of the depth of the halftone dot 130, the degree of freedom due to the manufacturing characteristics of the transfer plate 110 is not high enough to be arbitrarily adjusted, but the aperture ratio A / R of the transfer plate 110 and the halftone depth 11, it can be seen that the change in the size of the dotted line tends to decrease as the mesh size increases and as the aperture ratio increases.

따라서, 본 발명에 따른 전사판에 있어서, 도 8, 9a, 9b 및 10을 참조하면, 망점(130) 심도는 메쉬 크기 및 개구율에 반비례하는 경향을 갖게 되므로, 메쉬 크기 또는 개구율을 '제 2 에지부(EA2) > 제 1 에지부(EA1) ≥ 중앙부(CA)'순이 되도록 형성하는 경우, 자연적으로 망점 심도는'제 2 에지부(EA2) < 제 1 에지부(EA1) ≤ 중앙부(CA)'순으로 그 크기를 갖게 됨을 알 수 있다. 8, 9A, 9B and 10, since the depth of the halftone dot 130 has a tendency to be inversely proportional to the mesh size and the aperture ratio, the mesh size or the aperture ratio is set to be ' (EA2) > first edge portion (EA1) &lt; (CA) &gt; central portion (CA) when the first edge portion EA2, the first edge portion EA1, 'In order of magnitude.

도 12a와 도 12b는 본 발명에 따른 전사판을 장착한 배향막 인쇄 장치를 통 해 기판 상에 배향막을 형성했을 경우, 제 1 에지부와 중앙부의 경계와, 중앙부와 제 2 에지부의 경계에서의 배향막의 두께를 각각 측정한 그래프이다. 12A and 12B are diagrams showing a case where an alignment film is formed on a substrate through an alignment film printing apparatus equipped with a transfer plate according to the present invention, Respectively.

우선, 제 1 에지부와 중앙부의 경계에서 배향막의 두께를 나타낸 도 12a를 참조하면, 인쇄 시 가장 먼저 닿은 제 1 에지부에서의 배향막의 두께는 최대치가 2500Å정도가 되고 있으며, 이는 종래와 비교할 때 유사한 수준이라 할 수 있다.12A showing the thickness of the alignment layer at the boundary between the first edge portion and the center portion, the maximum value of the thickness of the alignment layer at the first edge portion that is first contacted at the time of printing is about 2500 ANGSTROM, This is a similar level.

중앙부와 제 2 에지부의 경계에서 배향막의 두께를 나타낸 도 12b를 참조하면, 인쇄 시 가장 나중에 기판과 접촉하는 제 2 에지부에서의 배향막 두께는 최대치가 3300Å정도가 됨을 알 수 있으며, 이는 종래의 중앙부와 에지부로 패턴부를 달리 설계한 전사판을 이용하여 배향막을 형성한 경우대비 1000Å 정도 더 낮은 두께를 가지고 형성되었음을 알 수 있다. Referring to FIG. 12B showing the thickness of the alignment layer at the boundary between the central portion and the second edge portion, it can be seen that the maximum thickness of the alignment layer at the second edge portion that comes into contact with the substrate at the time of printing is about 3300 ANGSTROM, And the transfer plate having the pattern portion at the edge portion was designed to have a thickness of about 1000 Å lower than that in the case of forming the alignment layer.

도 13a 및 도 13b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전사판의 패턴부에 대한 부분 확대도이며, 각각 도 8의 A 및 B 부분에 해당된다.13A and 13B are partial enlarged views of a pattern portion of a transfer plate according to another embodiment of the present invention, and correspond to portions A and B of FIG. 8, respectively.

도시한 바와 같이, 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2) 및 중앙부(CA)에 있어서 메쉬의 크기는 동일하다. 즉, 동일한 면적에 형성되어 있는 망점(130)의 개수는 동일하다. 반면, 상기 제 1 및 제 2 에지부(EA1, EA2) 및 중앙부(CA)에 있어서 망점(130) 상부면의 면적은 모두 상이하다. 원형의 망점(130)을 보면, 상기 제 1 에지부(EA1)에서의 망점(130)의 크기(s2)는 상기 중앙부(CA)에서의 망점(130)의 크기(s1)보다 크고, 상기 제 1 에지부(EA2)에서의 망점(130)의 크기(s3)보다 작다. 전술한 바와 같이, 망점(130)의 크기는 개구율에 비례하며, 개구율은 형성될 배향막의 두께에 반비례하게 된다. 따라서, 망점(130)의 크기(s3)가 가장 큰 제 1 에지 부(EA2)의 개구율이 가장 크며, 형성될 배향막의 두께는 가장 작게 된다.As shown in the figure, the mesh sizes of the first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA are the same. That is, the number of halftone dots 130 formed in the same area is the same. On the other hand, the areas of the upper surface of the halftone dot 130 in the first and second edge portions EA1 and EA2 and the center portion CA are all different. The size s2 of the halftone dot 130 in the first edge portion EA1 is larger than the size s1 of the halftone dot 130 in the center portion CA, 1 is smaller than the size s3 of the halftone dot 130 at the edge EA2. As described above, the size of the halftone dot 130 is proportional to the aperture ratio, and the aperture ratio is inversely proportional to the thickness of the alignment layer to be formed. Therefore, the aperture ratio of the first edge portion EA2 having the largest size s3 of the halftone dot 130 is the largest, and the thickness of the alignment layer to be formed is the smallest.

위와 같은 구성의 패턴부가 형성된 전사판을 이용하여 배향막을 형성하는 경우, 앞선 도 12a 및 도 12b에서와 동일한 경향을 갖는 배향막을 얻을 수 있게 된다. 즉, 인쇄시 가장 나중에 기판과 접촉하는 제 2 에지부에서의 배향막 두께가 종래보다 작게 되며, 배향막의 두께 균일도가 향상된다.When an alignment film is formed using a transfer plate on which a pattern portion with the above-described configuration is formed, an alignment film having the same tendency as in FIGS. 12A and 12B can be obtained. That is, the thickness of the alignment layer at the second edge portion, which is the last to come into contact with the substrate at the time of printing, becomes smaller than in the prior art, and the uniformity of the thickness of the alignment layer is improved.

이후에는 전술한 구조를 갖는 전사판의 제작 방법에 대해 간단히 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing the transfer plate having the above structure will be briefly described.

배향막 인쇄에 이용되는 전사판은 APR(Asahi kasei Photosensitive Resin)이라고 말하는 광경화성 수지를 베이스 필름이라 불리우는 폴리에틸렌 필름과 접착하여 형성한다. The transfer plate used for the alignment film printing is formed by adhering a photo-curable resin called APR (Asahi Kasei Photosensitive Resin) to a polyethylene film called a base film.

우선, 그 하부에 UV램프가 위치하고, 상기 UV램프 위에 평탄한 표면을 가지며 투명한 석영 또는 크리스탈 재질의 두꺼운 베이스 기판이 구비되며, 상기 베이스 기판에 대응하여 다수의 UV 램프 및 평탄하며 투명한 표면을 갖는 커버를 구비한 노광 장치의 상기 베이스 기판 위에 전사판의 패턴부에 형성될 메쉬 크기에 대응하는 개수의 원형 투과부와 그 이외의 영역은 빛의 투과를 차단하는 차단부로 이루어진 네가티브 필름을 위치시킨다. First, a UV lamp is disposed under the UV lamp, a thick base substrate made of transparent quartz or crystal having a flat surface on the UV lamp, a plurality of UV lamps corresponding to the base substrate, and a cover having a flat and transparent surface A negative film consisting of a number of circular transparent portions corresponding to the mesh size to be formed in the pattern portion of the transfer plate and a blocking portion for blocking transmission of light are positioned on the base substrate of the provided exposure apparatus.

패턴부에 있어서의 메쉬 크기가 동일한 경우를 전제로 할 때, 상기 네가티브 필름은 전사판의 패턴부의 중앙부와 제 1 및 제 2 에지부에 대응하는 부분에서 상기 빛을 투과시키는 투과부의 크기가 서로 다르게 형성되어 있는 것이 특징이다. 전사판 패턴부의 제 1 에지부(인쇄 시 가장 먼저 기판과 접촉하는 부분)에 대응하는 부분을 제 1 영역, 중앙부에 대응하는 부분을 제 2 영역, 제 2 에지부(인쇄 시 가장 나중에 기판과 접촉이 이루어지는 부분)에 대응하는 부분을 제 3 영역이라 정의할 때, 즉, 제 2 영역의 원 패턴의 크기가 가장 작고, 제 1 영역의 원 패턴은 중간 크기를 가지며, 제 3 영역의 원 패턴 크기가 가장 크게 형성되고 있는 것이 특징이다. It is preferable that the size of the transmissive portion that transmits the light in the central portion of the pattern portion of the transfer plate and the portions corresponding to the first and second edge portions are different from each other in the case where the mesh size in the pattern portion is the same Is formed. A portion corresponding to the first edge portion of the transfer plate pattern portion (a portion contacting with the substrate at the time of printing first) is referred to as a first region, a portion corresponding to the center portion is referred to as a second region, a second edge portion Is defined as the third area, that is, the size of the original pattern of the second area is the smallest, the original pattern of the first area has the medium size, and the area corresponding to the original pattern size of the third area Is the largest.

이후, 전술한 구조를 갖는 네가티브 필름 위로 광경화성 수지인 APR을 일정한 두께로 도포하여 광경화성 수지층을 형성하고, 상기 광경화성 수지층 위에 폴리에틸렌 재질의 투명한 베이스 필름을 접착시킨다. Thereafter, a photocurable resin layer is formed by applying APR, which is a photocurable resin, to a negative film having the above-described structure to a predetermined thickness, and a transparent base film made of polyethylene is adhered to the photocurable resin layer.

다음, 상기 베이스 필름이 부착된 광경화성 수지층에 대해 상기 커버를 위치시킨 후, 상기 노광 장치의 베이스 기판 하부 및 상기 커버 내에 위치한 UV 램프를 온(on) 상태로 점등하여 자외선 노광을 실시한다. 이때, 상기 노광장치 하부에 위치한 UV램프를 통해 나온 자외선은 상기 네가티브 필름내의 다수의 원 형태의 투과부를 통해 상기 광경화성 수지층에 도달하게 되고, 이때 상기 광경화성 수지층 중 상기 원 형태의 투과부를 통과하여 자외선이 조사되는 부분은 상기 자외선에 의해 경화된다. 또한, 상기 커버 내부의 UV램프에 의해 베이스 필름이 부착된 부분에 대응해서는 전면에 자외선이 조사되게 되며, 이러한 자외선의 전면 조사에 의해 상기 베이스 필름과 접촉하는 부분이 전면적으로 경화되게 된다. Next, after the cover is positioned with respect to the photocurable resin layer to which the base film is attached, ultraviolet exposure is performed by lighting the UV lamp located under the base substrate of the exposure apparatus and the cover in an on state. At this time, the ultraviolet rays emitted through the UV lamp located under the exposure apparatus reach the photocurable resin layer through a plurality of circular transmitting portions in the negative film. At this time, the circular transmitting portion of the photocurable resin layer And a portion through which the ultraviolet ray is irradiated is cured by the ultraviolet ray. In addition, ultraviolet rays are irradiated to the entire surface of the cover corresponding to the portion to which the base film is adhered by the UV lamp, and the portion contacting the base film is entirely cured by irradiation of the entire surface of the ultraviolet ray.

이후, 상기 자외선 노광을 마친 광경화성 수지층이 형성된 베이스 필름에 대해 세정을 실시하면, 상기 광경화성 수지층 중 자외선에 반응하여 경화된 부분은 남기고 나머지 광조사가 이루어지지 않은 부분은 세정 시 제거된다. 따라서, 양면에 대해 자외선 조사가 실시된 부분에 대해서는 광경화성 수지층 두께 그대로를 유 지한 상태로 패턴부를 이루며 남게 되고, 커버에 의해 자외선이 조사된 부분은 상기 패턴부보다 얇은 두께를 갖는 바탕부를 이루게 된다.  Thereafter, when the base film on which the ultraviolet ray-exposed photocurable resin layer is formed is cleaned, a portion of the photocurable resin layer that remains in the photocurable resin layer in response to ultraviolet radiation remains and remains unexposed . Therefore, the portion irradiated with ultraviolet rays on both sides remains as a pattern portion while maintaining the thickness of the photocurable resin layer as it is, and a portion irradiated with ultraviolet rays by the cover forms a base portion having a thickness thinner than that of the pattern portion do.

다음, 상기 전술한 바와같이 세정에 의해 패턴부와 바탕부를 이루게 된 전사판은 건조공정을 통해 건조한 후, 후노광 공정을 진행하여 상기 패턴부와 바탕부의 표면을 더욱 경화시킴으로서 완성되게 된다. Next, as described above, the transfer plate, which has been formed with the pattern portion by the cleansing, is dried through a drying process, and then is subjected to a post-exposure process to further complete the surface of the pattern portion and the base portion.

전술한 바와같은 공정을 통해 제작된 전사판은 그 패턴부에 있어 중앙부와 제 1 및 제 2 에지부에서 각각 메쉬 또는 망점 상부면의 면적(망점의 크기) 나아가 망점의 심도까지 서로 다른 구조를 이루게 된다. The transfer plate manufactured through the above-described process has different structures from the central portion and the first and second edge portions to the area of the mesh or the upper surface of the halftone dot (the size of the halftone dot) and the depth of the halftone dot in the pattern portion do.

상기 망점의 크기 및 망점의 심도는 자외선 노광 시, 노광 시간과 네가티브 필름상의 원 패턴의 크기에 의해 결정되게 되며, 네가티브 필름 상에 구현된 원형태의 투과부 크기가 작을수록 망점의 크기가 작아지며, 또한 망점의 심도 또는 홈의 깊이가 깊게 형성된다. The size of the halftone dot and the depth of the halftone dot are determined by the exposure time and the size of the original pattern on the negative film upon ultraviolet exposure. The size of the halftone dot becomes smaller as the size of the circular transmission area implemented on the negative film is smaller, Also, the depth of the halftone dot or the depth of the groove is formed deep.

이후에는 전술한 구조를 갖는 본 발명에 따른 전사판을 이용하여 기판상에 배향막을 형성하는 방법에 대해 간단히 설명한다. Hereinafter, a method of forming an alignment film on a substrate using the transfer plate according to the present invention having the above-described structure will be briefly described.

도 14a 및 14b는 각각 본 발명에 따른 전사판을 장착한 배향막 인쇄장치를 이용하여 기판상에 배향막을 형성하는 공정을 간략히 도시한 도면이다. 14A and 14B are views showing a step of briefly showing a step of forming an alignment film on a substrate by using an alignment film printing apparatus equipped with a transfer plate according to the present invention.

도시한 바와 같이, 일 실시예에 따른 배향막 인쇄장치(150)는 일방향으로 왕복 운동하는 인쇄 테이블(152)과, 상기 인쇄 테이블(152)과 맞물려 회전하는 판동(155)과 상기 판동(155)상에 장착된 전사판(110)과, 상기 전사판(110)에 배향액(160)을 전사시키는 아니록스롤(158)과, 상기 아니록스롤(158)에 배향액(160)을 고르게 발라주는 닥터롤(165)과, 상기 닥터롤(165)과 아니록스롤(158) 사이에 배향액(160)을 공급하는 디스펜서(168)를 포함하여 구성되고 있으며, 또 다른 인쇄장치는 전술한 구성에서 상기 아니록스롤(158)에 배향액을 고르게 발라주는 닥터롤(165)을 대신하여 닥터 블레이드(169)가 구성되고 있음을 알 수 있다. 상기 닥터롤(165)과 닥터 블레이드(169)는 모두 상기 아니록스롤(158)과 접촉하며 상기 아니록스롤(158)의 표면에 배향액(160)이 고르게 일정한 두께를 갖도록 하는 역할을 하는 것이다. As shown in the drawing, the alignment film printing apparatus 150 according to one embodiment includes a printing table 152 that reciprocates in one direction, a platen 155 that rotates in engagement with the printing table 152, An anilox roll 158 for transferring the alignment liquid 160 to the transfer plate 110 and a transfer roll 160 for transferring the alignment liquid 160 evenly to the anilox roll 158. [ A doctor roll 165 and a dispenser 168 for supplying the alignment liquid 160 between the doctor roll 165 and the anilox roll 158. Another printing apparatus is constituted by the above- It can be seen that the doctor blade 169 is formed instead of the doctor roll 165 which uniformly fills the anolyte roll 158 with the alignment liquid. Both the doctor roll 165 and the doctor blade 169 are in contact with the anilox roll 158 and serve to make the orientation liquid 160 have a uniform thickness on the surface of the anilox roll 158 .

한편, 상기 인쇄 테이블(152)에 기판(170)을 위치시키면, 상기 인쇄 테이블(152)이 일방향으로 일정한 속도로 움직이고, 상기 인쇄 테이블(152)과 맞물려 있는 판동(155)이 등속도로 회전하게 되며, 이때, 상기 판동(155)상에 장착된 전사판(110)이 상기 아니록스롤(158)과 접촉하여 배향액(160)을 상기 전사판(110)에 발라주게 되고, 이러한 상태에서 상기 전사판(110)이 상기 인쇄 테이블(152)상에 위치한 기판(170)과 접촉하며, 상기 전사판(110)에 머금어진 배향액(160)을 상기 기판(170)에 전사시킴으로써 상기 기판(170)상에 배향막(173)이 형성된다. When the substrate 170 is placed on the printing table 152, the printing table 152 is moved in one direction at a constant speed and the printing plate 152 engaged with the printing table 152 is rotated at a constant speed At this time, the transfer plate 110 mounted on the platen 155 contacts the anilox roll 158 to apply the alignment liquid 160 to the transfer plate 110. In this state, The substrate 110 is contacted with the substrate 170 placed on the printing table 152 and the alignment liquid 160 deposited on the transfer plate 110 is transferred to the substrate 170, An alignment film 173 is formed.

이 경우, 본 발명에 따른 전사판(110)은 기판(170)과 접촉하는 패턴부(미도시)에 있어서 기판(170)과의 접촉이 시작되는 제 1 에지부(미도시)와, 중앙부(미도시)와 그리고 가장 마지막에 접촉하는 제 2 에지부(미도시)에서 각각 그 개구율(메쉬 크기 또는 망점의 크기) 또는 망점의 심도를 달리하고 있는 바, 제 2 에지부(미도시)에 의해 형성되는 배향막 부분에서의 두께가 종래의 이중 구조 패턴부를 갖는 전사판을 이용하여 형성된 배향막 형성 대비 현저히 줄어들게 되어 배향막의 두께 균일도가 향상된다. In this case, the transfer plate 110 according to the present invention includes a first edge portion (not shown) in which a contact with the substrate 170 starts in a pattern portion (not shown) in contact with the substrate 170, (The size of the mesh size or the halftone dot) or the depth of the halftone dots in the second edge portion (not shown) that is the last to come into contact with the second edge portion (not shown) The thickness of the formed alignment film is significantly reduced compared with the alignment film formed using the transfer plate having the conventional double structure pattern portion, and the uniformity of the thickness of the alignment film is improved.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 분해사시도.1 is an exploded perspective view of a general liquid crystal display device.

도 2는 종래의 배향막 인쇄 장치에 있어 판동에 장착된 전사판으로부터 배향액이 기판으로 전사되는 것을 도시한 도면.2 is a view showing transfer of alignment liquid from a transfer plate mounted on a platen to a substrate in a conventional alignment film printing apparatus;

도 3은 전사판과 기판이 접촉함으로써 배향막이 형성된 상태를 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view showing a state in which an alignment film is formed by contact between a transfer plate and a substrate.

도 4는 종래의 중앙부와 주변부에 있어 배향액을 머금는 양을 달리하도록 설계된 전사판의 하나의 패턴부를 도시한 평면도.4 is a plan view showing one pattern part of a transfer plate designed to have a different amount of alignment liquid in a conventional central part and peripheral part.

도 5a와 도 5b는 도 4에 있어 A, B영역을 각각 확대 도시한 평면도.5A and 5B are plan views showing areas A and B in FIG. 4, respectively, in an enlarged scale.

도 6은 도 4를 절단선 Ⅵ-Ⅵ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도.Fig. 6 is a cross-sectional view of a portion cut along line VI-VI of Fig. 4; Fig.

도 7a와 도 7b는 2영역을 갖는 패턴부를 포함하는 전사판을 이용하여 기판상에 배향막을 인쇄 시 배향막의 인쇄 시작부와 끝단부에서의 두께를 측정한 그래프.FIGS. 7A and 7B are graphs showing the thicknesses at the printing start and end portions of the alignment film when the alignment film is printed on the substrate using the transfer plate including pattern portions having two regions. FIG.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 전사판의 4개의 패턴부에 대한 평면도.8 is a plan view of four pattern units of a transfer plate according to an embodiment of the present invention.

도 9a와 도 9b는 도 8의 A영역과 B영역을 각각 확대 도시한 평면도.Figs. 9A and 9B are enlarged views of the area A and the area B, respectively, of Fig. 8; Fig.

도 10은 도 8을 절단선 Ⅹ-Ⅹ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.Fig. 10 is a cross-sectional view of a portion cut along the cutting line X-X in Fig. 8; Fig.

도 11은 전사판의 개구율과 메쉬에 따른 망점 심도를 변화를 나타낸 그래프.11 is a graph showing changes in the aperture ratio of the transfer plate and the depth of a dot according to the mesh.

도 12a와 도 12b는 본 발명에 따른 전사판을 장착한 배향막 인쇄장치를 통해 기판 상에 배향막을 형성했을 경우, 제 1 에지부와 중앙부의 경계와, 중앙부와 제 2 에지부의 경계에서의 배향막의 두께를 각각 측정한 그래프. FIGS. 12A and 12B are views showing a case where an alignment film is formed on a substrate through an alignment film printing apparatus equipped with a transfer plate according to the present invention, the boundary between the first edge portion and the center portion and the alignment film at the boundary between the central portion and the second edge portion The thickness of each graph.

도 13a 및 도 13b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전사판의 패턴부 일부에 대한 각각의 평면도.13A and 13B are plan views of respective portions of the pattern portion of the transfer plate according to another embodiment of the present invention.

도 14a 및 14b는 각각 본 발명에 따른 전사판을 장착한 배향막 인쇄장치를 이용하여 기판상에 배향막을 형성하는 공정을 간략히 도시한 도면.14A and 14B are views briefly showing a step of forming an alignment film on a substrate by using an alignment film printing apparatus equipped with a transfer plate according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>Description of the Related Art

110 : 전사판 115 : 바탕부110: transfer plate 115:

120 : 패턴부 CA : (패턴부의)중앙부120: pattern portion CA: central portion (of pattern portion)

EA1 : (패턴부의)제 1 에지부 EA2 : (패턴부의)제 2 에지부EA1: first edge portion (of the pattern portion) EA2: second edge portion (of the pattern portion)

Claims (7)

베이스 필름과;A base film; 상기 베이스 필름위에 위치하고, 일측의 제 1 영역과 타측의 제 2 영역과 상기 제 1 및 제 2 영역 사이의 제 3 영역으로 나뉘며, 상기 각 영역에는 철부인 다수의 망점이 형성되어 있는 패턴부와;A pattern portion located on the base film, the pattern portion being divided into a first region on one side and a second region on the other side and a third region between the first and second regions, the plurality of dot portions being convex portions being formed in the respective regions; 상기 베이스 필름 위로 상기 패턴부 주변에 상기 패턴부의 두께보다 얇은 두께를 가지며 형성된 바탕부를 포함하며, And a base portion formed on the base film and having a thickness thinner than a thickness of the pattern portion around the pattern portion, 각 영역의 전체 면적에 대한 상기 망점 상부면의 면적의 합의 비로 개구율이 정의되며, 상기 제 1, 2 및 3 영역에서의 상기 개구율을 각각 X1, Y1, Z1라 했을 때, Y1 > X1 > Z1의 관계를 만족하도록 상기 패턴부가 형성되며, 상기 패턴부는 배향막 인쇄장치에 장착되어 기판상에 배향막을 인쇄 시 상기 제 1 영역이 가장 먼저 기판과 접촉하는 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판.Wherein an aperture ratio is defined by a ratio of the sum of the areas of the upper surface of the halftone dot to the total area of the respective areas, and the aperture ratios in the first, second and third areas are X1, Y1 and Z1, respectively. Wherein the pattern unit is mounted on the alignment film printing apparatus and the first area is first contacted with the substrate when the alignment film is printed on the substrate. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 망점의 단위 면적당 개수를 메쉬로 정의하고, 상기 제 1 내지 제 3 영역에서의 메쉬 크기를 각각 X2, Y2, Z2라 했을 경우,If the number of the halftone dots per unit area is defined as a mesh and the mesh sizes in the first to third areas are X2, Y2, and Z2, respectively, Y2 > X2 > Z2의 관계를 만족하도록 상기 패턴부가 형성된 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판.Y2 > X2 > Z2. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 내지 제 3 영역 각각에 있어 상기 망점 각각의 상부면 면적을 X3, Y3, Z3라 했을 경우,If the upper surface area of each of the halftone dots in each of the first to third regions is X3, Y3, Z3, Y3 > X3 > Z3의 관계를 만족하도록 상기 패턴부가 형성된 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판.And Y3 > X3 > Z3. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 망점 사이의 요부를 홈부로 정의하고, 상기 제 1 내지 제 3 영역에서의 상기 홈부 깊이를 각각 D1, D2, D3라 했을 경우,And recesses between the halftone dots are defined as groove portions, and depths of the groove portions in the first to third regions are D1, D2, and D3, respectively, D2 < D1 < D3의 부등식을 만족하도록 상기 패턴부가 형성된 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판.D2 < D1 < D3. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 및 제 2 영역은 그 폭이 0.3mm 내지 2mm인 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판.Wherein the first and second regions have a width of 0.3 mm to 2 mm. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 베이스 필름은 폴리에틸렌 필름이며, 상기 바탕부와 패턴부는 광경화성 수지로 이루어진 것이 특징인 배향막 인쇄용 전사판.Wherein the base film is a polyethylene film, and the base portion and the pattern portion are made of a photocurable resin.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104317110A (en) * 2014-11-21 2015-01-28 合肥京东方光电科技有限公司 Transfer printing plate

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102161586B1 (en) * 2013-12-30 2020-10-05 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display panel and method of fabricating thereof
JP6278942B2 (en) * 2015-10-21 2018-02-14 日本航空電子工業株式会社 Method for forming an insulating film by flexographic printing

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003043487A (en) * 2001-08-01 2003-02-13 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and apparatus for manufacturing the same
JP2004078222A (en) 2002-08-19 2004-03-11 Boe-Hydis Technology Co Ltd Transfer plate for forming alignment layer
KR20040062016A (en) * 2002-12-31 2004-07-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Method for fabricating an alignment film of a liquid crystal display device
KR20060134694A (en) * 2005-06-23 2006-12-28 삼성전자주식회사 Mother glass, apparatus and method for fabricating alignment layer formed on the mother glass

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003043487A (en) * 2001-08-01 2003-02-13 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and apparatus for manufacturing the same
JP2004078222A (en) 2002-08-19 2004-03-11 Boe-Hydis Technology Co Ltd Transfer plate for forming alignment layer
KR20040062016A (en) * 2002-12-31 2004-07-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Method for fabricating an alignment film of a liquid crystal display device
KR20060134694A (en) * 2005-06-23 2006-12-28 삼성전자주식회사 Mother glass, apparatus and method for fabricating alignment layer formed on the mother glass

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104317110A (en) * 2014-11-21 2015-01-28 合肥京东方光电科技有限公司 Transfer printing plate
US10139657B2 (en) 2014-11-21 2018-11-27 Boe Technology Group Co., Ltd. Transfer plate

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