KR101394092B1 - 기판세정장치 - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따른 기판세정장치는 회전 가능한 베이스 및 상기 베이스의 상면에 구비되어 기판을 지지하는 척핀을 포함하는 스핀척, 상기 베이스 내부에서 상기 척핀의 일측까지 연장되어 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급라인, 상기 척핀 내부에 형성되어 상기 퍼지가스가 상기 척핀의 상측으로 분사될 수 있는 제 1 퍼지라인 및 상기 베이스 및 상기 척핀 사이의 공간으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있는 제 2 퍼지라인을 포함하여 베이스 및 척핀 사이 공간으로 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.

Description

기판세정장치{Apparatus to clean substrate}
아래의 실시예들은 기판세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 베이스 및 척핀 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지할 수 있는 기판세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 기판, 예를 들어, 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)를 이용하여 증착, 사진 및 식각 공정 등을 반복 수행함으로써 제조될 수 있다. 공정들을 거치는 동안 기판 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있다. 오염 물질은 반도체 소자의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에, 반도체 제조 시에는 기판에 잔존하는 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 수행된다.
세정 공정을 위한 세정 방식은 크게 건식(dry) 세정 방식 및 습식(wet) 세정 방식으로 구분될 수 있으며, 이 중에서 습식 세정 방식은 여러 가지 약액을 이용한 세정 방식으로서, 복수의 기판을 동시에 세정하는 배치식(batch type) 기판 세정 장치와, 낱장 단위로 기판을 세정하는 매엽식(single wafer type) 기판세정장치로 구분된다.
최근에는 매엽식 기판세정장치가 선호되고 있는 추세이다.
매엽식 기판세정장치는 낱장의 기판 단위로 처리하는 방식으로서, 고속으로 회전시킨 기판 표면에 세정액을 분사함으로써 기판의 회전에 의한 원심력과 세정액의 분사에 따른 압력을 이용하여 오염 물질을 제거하는 스핀 방식으로 세정이 진행된다.
일반적으로 매엽식 기판세정장치는, 기판이 수용되어 세정 공정이 진행되는 챔버와, 기판을 고정시킨 상태로 회전하는 스핀척과, 기판에 약액과 린스액 및 건조가스 등을 포함하는 세정액을 공급하기 위한 노즐 어셈블리를 포함한다. 또한, 챔버 내부에는 기판에서 비산되는 세정액을 포집하는 회수부가 구비되며, 이러한 회수부는 높이 방향으로 마련되는 복수 개의 회수컵을 구비한다.
이때 기판세정장치 내부 또는 스핀척 내부에 화학물질 등의 유입을 방지하기 위해 퍼지가스가 공급될 수 있다.
또한, 2010년 07월 20일에 출원된 선행문헌 2012-0009712에서는 기판처리장치에 대해서 설명되며, 상기 기판처리장치는 장치 내에 퍼지가스를 공급한다.
일 실시예에 따른 목적은 스핀척과 관련하여 다양한 퍼지라인을 구비하여 베이스 및 척핀 사이 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지할 수 있는 기판세정장치를 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 목적은 척핀의 상부에서 약액의 1차 유입을 방지하고, 스핀척 내부에서 약액의 2차 유입을 방지할 수 있는 기판세정장치를 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 목적은 베이스 및 척핀 사이 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지하여 파티클 발생을 방지하고 척핀이 원활하게 구동할 수 있는 기판세정장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 일 실시예에 따른 기판세정장치는 회전 가능한 베이스 및 상기 베이스의 상면에 구비되어 기판을 지지하는 척핀을 포함하는 스핀척 상기 베이스 내부에서 상기 척핀의 일측까지 연장되어 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급라인 상기 척핀 내부에 형성되어 상기 척핀의 상측으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있는 제 1 퍼지라인 및 상기 베이스 및 상기 척핀 사이의 공간으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있는 제 2 퍼지라인을 포함할 수 있다.
일 측에 의하면, 상기 제 1 퍼지라인은, 일단이 상기 퍼지가스 공급라인과 선택적으로 연결되고 타단이 상기 척핀의 내부로 연장하는 제 1 경로, 상기 제 1 경로의 타단과 연결되어 상기 척핀의 상부로 연장하는 제 2 경로 및 일단이 상기 제 2 경로와 연결되고 타단은 상기 척핀의 측면으로 연장되는 제 3 경로를 포함할 수 있다.
일 측에 의하면, 상기 기판이 안착되도록 상기 척핀이 회전한 위치에서 상기 제 1 경로의 일단이 상기 퍼지가스 공급라인과 연결될 수 있다.
일 측에 의하면, 상기 제 3 경로는 상기 베이스를 향해 경사지게 형성되어 상기 척핀의 외측 방사상으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있다.
일 측에 의하면, 상기 퍼지가스 공급라인은 상기 베이스의 중앙으로부터 상기 척핀으로 분기되어 형성될 수 있다.
일 측에 의하면, 상기 퍼지가스 공급라인을 통한 퍼지가스의 공급을 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 기판세정장치는 스핀척과 관련하여 다양한 퍼지라인을 구비하여 베이스 및 척핀 사이 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
일 실시예에 따른 기판세정장치는 척핀의 상부에서 약액의 1차 유입을 방지하고, 스핀척 내부에서 약액의 2차 유입을 방지할 수 있다.
일 실시예에 따른 기판세정장치는 베이스 및 척핀 사이 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지하여 파티클 발생을 방지하고 척핀이 원활하게 구동할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 기판세정장치의 부분 단면도이며, 각각의 퍼지라인이 도시된다.
도 2는 퍼지가스 공급라인을 도시한다.
도 3은 척핀의 측단면도이다.
도 4는 도 3에서 선 A-A에 의해 취해진 단면도이다.
도 5는 척핀에 기판이 안착되지 않은 경우의 퍼지가스의 분사를 도시한다.
이하에서, 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 1은 일 실시예에 따른 기판세정장치의 부분 단면도이며, 각각의 퍼지라인이 도시되고, 도 2는 퍼지가스 공급라인을 도시하고, 도 3은 척핀의 측단면도이고, 도 4는 도 3에서 선 A-A에 의해 취해진 단면도이고, 도 5는 척핀에 기판이 안착되지 않은 경우의 퍼지가스의 분사를 도시한다.
도 1 내지 도 5를 참조하여, 일 실시예에 따른 기판세정장치(10)는 스핀척(100), 퍼지가스 공급라인(200), 제 1 퍼지라인(300) 및 제 2 퍼지라인(400)을 포함할 수 있다.
상기 스핀척(100)은 기판세정장치(10) 내에서 배치될 수 있다.
상기 스핀척(100)은 베이스(110) 및 척핀(120)을 포함할 수 있다.
상기 베이스(110)는 스핀척(100)의 본체를 형성하고, 베이스(110) 하부에는 기판(W)이 고정된 상태에서 소정의 속도로 회전 가능하도록 회전축(미도시) 및 회전 구동부(미도시)가 배치될 수 있다. 예를 들어, 베이스(110)는 상기 기판(W)에 대응되는 원형 플레이트 형태를 갖고, 상기 기판(W)보다 적어도 같거나 큰 크기를 가질 수 있다. 또한, 베이스(110)의 상면에는 상기 기판(W)이 안착될 수 있도록 편평한 표면을 가질 수 있다.
상기 베이스(110)의 상면에는 기판(W)이 안착되고 기판(W)을 선택적으로 고정시키는 척핀(120)이 구비될 수 있다.
상기 척핀(120)은 베이스(110)의 상면에서 돌출되고, 기판(W) 외주연부에 대응하는 원을 따라 배치될 수 있다.
여기서, 척핀(120)은 상기 기판(W)에 동일한 힘으로 가압 지지할 수 있도록 복수의 척핀(120)이 동일한 간격으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 척핀(120)은 기판(W)을 안정적으로 지지하기 위해서 적어도 3개 이상 구비될 수 있다. 그러나, 척핀(120)의 개수 및 배치는 이에 한정되지 아니하며, 기판(W)의 균형을 유지할 수 있는 다양한 개수를 구비하여 다양한 형태로 배치될 수 있을 것이다.
또한, 베이스(110)의 내부에는 퍼지가스 공급라인(200)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 퍼지가스 공급라인(200)은 베이스(110) 내부에 빈 공간으로 형성되거나, 베이스(110) 내부에 배관을 삽입하여 형성될 수 있다.
여기서, 퍼지가스는 예를 들어 질소가스(N2) 또는 아르곤 가스(Ar)를 포함하는 불활성 기체일 수 있다.
이러한 퍼지가스에 의해 기판세정장치(10)에서 사용되는 약액의 유입을 방해할 수 있다. 일반적으로 기판세정장치(10)에서 사용되는 약액은 고온의 황산, 알칼리성 약액(오존수 포함), 산성 약액 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 이러한 약액이 척핀(120) 및 베이스(110) 사이 공간에 유입될 경우, 척핀(120)이 원활하게 구동되지 못할 수 있으므로, 퍼지가스에 의해 약액 또는 세정액의 유입을 막을 필요가 있다.
상기 퍼지가스 공급라인(200)은 베이스(110)의 내부에서 척핀(120)의 일측까지 연장되어 퍼지가스를 공급할 수 있다.
특히, 도 2를 참조하여, 퍼지가스 공급라인(200)은 베이스(110)의 중앙으로부터 척핀(120)으로 분기되어 형성될 수 있다. 이에 의해 다방면으로 퍼지가스가 공급될 수 있다.
또한, 퍼지가스 공급라인(200)의 일단에는 퍼지가스를 보관하고 있는 퍼지가스 저장소(미도시)가 배치될 수 있다. 예를 들어, 퍼지가스 저장소는 스핀척(100)의 하부에 배치될 수 있다.
또한, 퍼지가스 공급라인(200)에는 제어부(미도시)가 배치되어 퍼지가스 공급라인(200)을 통한 퍼지가스의 공급을 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부에서 ON으로 할 경우, 퍼지가스 공급라인(200) 내에 퍼지가스가 공급되고, 제어부에서 OFF로 할 경우, 퍼지가스 공급라인(200) 내에 퍼지가스가 공급되지 않을 수 있다.
도 3을 참조하여, 상기 퍼지가스 공급라인(200)에는 제 1 퍼지라인(300)이 연결될 수 있다.
상기 제 1 퍼지라인(300)은 척핀(120)의 내부에 형성되어 척핀(120)의 상측에서 방사상으로 퍼지가스를 분사시킬 수 있다.
상기 제 1 퍼지라인(300)은 제 1 경로(310), 제 2 경로(320) 및 제 3 경로(330)를 포함할 수 있다.
상기 제 1 경로(310)는 척핀(120)의 하부 측면으로부터 척핀(120)의 내부로 연장되도록 형성될 수 있다. 구체적으로, 제 1 경로(310)는 퍼지가스 공급라인(200)과 동일 평면상에 놓이고, 제 1 경로(310)의 일단은 척핀(120)의 측면으로부터 척핀(120)의 내측 중앙부까지 연장된다.
이러한 제 1 경로(310)의 형상에 의해, 제 1 경로(310)의 일단은 퍼지가스 공급라인(200)과 선택적으로 연결될 수 있다. 이는 제 1 경로(310)와 퍼지가스 공급라인(200)이 영구적으로 연결되는 것이 아닌, 경우에 따라 연결/단절될 수 있다는 것을 의미할 수 있다. 예를 들어, 도 1과 같이 척핀(120)이 스핀척(100)에 위치될 때는 제 1 경로(310)와 퍼지가스 공급라인(200)은 연결될 수 있으나, 반면 척핀(120)이 스핀척(100)에서 180도 회전되어 위치될 때는 제 1 경로(310)와 퍼지가스 공급라인(200)은 연결되지 않고 단절될 수 있다. 이는 척핀(120)이 스핀척(100)에서 180도 회전되어 위치될 때에는 제 1 경로(310) 또한 180도 회전되어 제 1 경로(310)의 일단이 퍼지가스 공급라인(200)의 반대측에 위치되기 때문이다.
구체적으로, 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 제 1 경로(310)로 퍼지가스가 공급될 때, 퍼지가스는 제 1 경로(310)를 따라 척핀(120)의 일측에서 척핀(120)의 내부로 분사될 수 있다. 그러나, 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 공급됨에도 불구하고, 제 1 경로(310)를 따라 퍼지가스가 분사되지 않을 수 있다. 이는 전술한 제 1 경로(310)와 퍼지가스 공급라인(200)의 선택적인 연결에 기인한다.
또한, 제 1 경로(310)에는 제 2 경로(320)가 연결될 수 있다.
상기 제 2 경로(320)는 제 1 경로(310)의 타단과 연결되어 척핀(120)의 상부로 연장될 수 있다. 구체적으로, 제 2 경로(320)는 척핀(120)의 내부에서 척핀(120)의 길이방향으로 형성될 수 있다.
여기서, 척핀(120)의 상부에 위치되는 제 2 경로(320)의 단부는 베이스(110)보다 높게 위치되어야 하는 것은 당연하다. 이는 제 1 퍼지라인(300)을 통해 분사된 퍼지가스에 의해 척핀(120)과 베이스(110) 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지하기 위해서이다.
이러한 제 2 경로(320)에 의한 퍼지가스의 분사는 제 1 경로(310) 내의 퍼지가스의 분사에 따른다. 예를 들어 제 1 경로(310)에서 퍼지가스가 공급되지 않을 경우, 제 1 경로(310)에 연결된 제 2 경로(320) 또한 퍼지가스가 공급되지 않을 수 있다. 반대로, 제 1 경로(310)에서 퍼지가스가 공급될 경우, 제 1 경로(310)에 연결된 제 2 경로(320) 또한 퍼지가스가 공급될 수 있다.
또한, 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 공급될 때, 퍼지가스는 제 1 경로(310), 제 2 경로(320)를 따라 척핀(120)의 상부로 이동할 수 있다. 구체적으로 퍼지가스는 제 1 경로(310)에 의해 척핀(120)의 일측에서 척핀(120)의 내부로 이동하고, 제 2 경로(320)에 의해 척핀(120)의 상부로 이동할 수 있다.
또한, 제 2 경로(320)에는 제 3 경로(330)가 연결될 수 있다.
상기 제 3 경로(330)는 일단이 제 2 경로(320)와 연결되고 타단은 척핀(120)의 측면으로 연장될 수 있다.
또한, 제 3 경로(330)의 직경, 개수 또는 배치는 도면에 한정되지 아니하며, 척핀(120)의 직경, 퍼지가스 압력 등을 고려하여 다양하게 구비될 수 있다. 예를 들어, 제 3 경로(330)는 척핀(120)의 상부 측면에 복수 개가 원주방향으로 등간격으로 배치됨으로써, 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간 위로 퍼지가스가 고르게 분사되도록 할 수 있다.
구체적으로, 제 3 경로(330)는 척핀(120)의 중심부에서 척핀(120)의 외측 방사상으로 형상되는데, 베이스(110)를 향해 경사지게 형성되어 있다. 이러한 제 3 경로(330)의 형상에 의해 제 3 경로(330)를 통과한 퍼지가스는 척핀(120)의 상부에서 베이스(110)를 향해 분사될 수 있다. 퍼지가스가 척핀(120)의 상부에서 베이스(110)를 향해 경사지게 됨으로써, 척핀(120)과 베이스(110) 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
간략하게, 제 1 퍼지라인(300)을 통한 퍼지가스의 분사는 다음과 같다. 퍼지가스 공급원(200)으로부터 제 1 경로(310)로 퍼지가스가 공급되면, 퍼지가스는 제 1 경로(310), 제 2 경로(320) 및 제 3 경로(330)를 따라 순차적으로 척핀(120)의 일측에서, 척핀(120)의 상부로 그리고 베이스(110)를 향해 외부로 분사될 수 있다. 예를 들어, 척핀(120) 상에 기판(W)이 안착된 경우, 제 1 경로(310)가 퍼지가스 공급라인(220)에 연결되어 제 1 경로(310)를 통해 퍼지가스가 공급될 수 있으며, 제 1 경로(310)를 통과한 퍼지가스는 제 2 경로(320)를 따라 척핀(120)의 상부로 이동하고 제 3 경로(330)를 따라 척핀(120)의 외부로 분사될 수 있다.
이러한 제 1 퍼지라인(300)을 통해 분사되는 퍼지가스에 의해 스핀척(120)의 상부에서 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 1차적으로 방지할 수 있다.
또한, 퍼지가스 공급라인(200)에는 제 2 퍼지라인(400)이 연결될 수 있다.
상기 제 2 퍼지라인(400)은 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간에 형성될 수 있다. 이에 의해 제 2 퍼지라인(400)은 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 공급된 퍼지가스를 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 분사시킬 수 있다. 여기서, 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간에 의해 척핀(120)은 베이스(110)에 대해 회전할 수 있다. 그러므로 척핀(120)의 둘레를 감싸도록 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간이 형성되어 있다.
퍼지가스 공급라인(200)으로부터 제 2 퍼지라인(400)으로 퍼지가스가 공급되는 경우, 퍼지가스는 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 퍼지가스가 유입되어 척핀(120)의 상부로 분사될 수 있다.
또한, 척핀(120)에 기판(W)의 안착 여부에 상관없이, 제 2 퍼지라인(400)에 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 공급되는 경우, 제 2 퍼지라인(400)을 통해 퍼지가스가 분사될 수 있다.
이러한 제 2 퍼지라인(400)을 통해 분사되는 퍼지가스에 의해 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 유입되는 약액을 2차적으로 차단할 수 있다. 구체적으로 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 직접적으로 퍼지가스를 분사하여 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 유입되는 약액을 막을 수 있다. 이에 의해 약액이 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 유입되어 척핀(120)의 구동을 방해하는 것을 방지할 수 있다.
이와 같이 일 실시예에 따른 기판세정장치(10)는 제 1 퍼지라인(300) 및 제 2 퍼지라인(400) 을 포함함으로써, 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 효율적으로 방지할 수 있다. 스핀척(100)의 상부 및 스핀척(100)의 내부에서 2단으로 약액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
이하에서는 도 1 및 5를 참조하여, 척핀(120)에 기판(W)이 안착되는 경우와, 척핀(120)에 기판(W)이 안착되지 않은 경우에 퍼지가스의 분사가 설명된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 척핀(120)에 기판(W)이 안착된 경우에는 다음과 같이 퍼지가스가 분사될 수 있다.
우선 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 공급된다.
이어서 제 1 퍼지라인(300) 및 제 2 퍼지라인(400)을 통해 동시적으로 퍼지가스가 분사될 수 있다.
제 1 퍼지라인(300)의 경우, 퍼지가스 공급라인(200)과 연결된 제 1 경로(310)로 퍼지가스가 유입되어, 제 2 경로(320)를 따라 퍼지가스가 척핀(120)의 상부로 전달되어, 제 3 경로(330)를 따라 척핀(120)의 외부로 분사될 수 있다. 이렇게 분사된 퍼지가스는 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간을 상부에서 막을 수 있다. 또한, 복수 개의 제 3 경로(330)가 구비되어 척핀(120)의 상부에서 척핀(120)의 둘레 방향으로 다방면으로 퍼지가스가 분사될 수 있다. 이에 의해 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 스핀척(100)의 상부에서 방지할 수 있다.
제 2 퍼지라인(400)의 경우, 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 유입되어 제 2 퍼지라인(400)을 따라 외부로 분사될 수 있다. 이때 퍼지가스는 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간에 채워질 수 있다. 이에 의해 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 약액 이 유입되는 것을 직접적으로 방지할 수 있다.
또한, 도 5를 참조하여, 척핀(120)에 기판(W)이 안착되지 않은 경우에는 다음과 같이 퍼지가스가 분사될 수 있다.
우선 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 공급된다.
이어서 제 2 퍼지라인(400)을 통해 퍼지가스가 분사될 수 있다. 이때 제 1 퍼지라인(300)을 통해 퍼지가스가 분사될 수 없는데, 이는 제 1 퍼지라인(300)의 제 1 경로(310)와 퍼지가스 공급라인(200)이 연결되지 않기 때문이다. 이와 같이 제 1 퍼지라인(300)을 통해 퍼지가스가 분사되지 않음으로써 베이스(110) 및 척핀(120) 사이 공간을 포함하는 내부의 압력이 상승하게 되어 약액이 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있다.
또한, 퍼지가스 공급라인(200)으로부터 퍼지가스가 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 유입되어 제 2 퍼지라인(400)을 따라 외부로 분사될 수 있다. 이때 퍼지가스는 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간에 채워질 수 있다. 이에 의해 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 약액이 유입되는 것을 직접적으로 방지할 수 있다.
이와 같이 일 실시예에 따른 기판세정장치(10)는 다양한 퍼지라인으로 퍼지가스를 분사함으로써, 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간으로 약액이 유입되지 않게 할 수 있다. 이에 의해 베이스(110) 및 척핀(120) 사이의 공간에 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있으며, 척핀(120)이 보다 원활하게 구동될 수 있다.
이상과 같이 본 발명의 실시예에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
10: 기판세정장치
100: 스핀척
110: 베이스
120: 척핀
200: 퍼지가스 공급라인
300: 제 1 퍼지라인
310: 제 1 경로
320: 제 2 경로
330: 제 3 경로
400: 제 2 퍼지라인

Claims (6)

  1. 회전 가능한 베이스 및 상기 베이스의 상면에 구비되어 기판을 지지하는 척핀을 포함하는 스핀척;
    상기 베이스 내부에서 상기 척핀의 일측까지 연장되어 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급라인;
    상기 척핀 내부에 형성되어 상기 척핀의 상측으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있는 제 1 퍼지라인; 및
    상기 베이스 및 상기 척핀 사이의 공간으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있는 제 2 퍼지라인;
    을 포함하고,
    상기 제 1 퍼지라인은,
    일단이 상기 퍼지가스 공급라인과 선택적으로 연결되고 타단이 상기 척핀의 내부로 연장하는 제 1 경로;
    상기 제 1 경로의 타단과 연결되어 상기 척핀의 상부로 연장하는 제 2 경로; 및
    일단이 상기 제 2 경로와 연결되고 타단은 상기 척핀의 측면으로 연장되는 제 3 경로;
    를 포함하는 기판세정장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기판이 안착되도록 상기 척핀이 회전한 위치에서 상기 제 1 경로의 일단이 상기 퍼지가스 공급라인과 연결되는 기판세정장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제 3 경로는 상기 베이스를 향해 경사지게 형성되어 상기 척핀의 외측 방사상으로 상기 퍼지가스가 분사될 수 있는 기판세정장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 퍼지가스 공급라인은 상기 베이스의 중앙으로부터 상기 척핀으로 분기되어 형성되는 기판세정장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 퍼지가스 공급라인을 통한 퍼지가스의 공급을 제어하는 제어부를 더 포함하는 기판세정장치.
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