KR101390829B1 - Environment friendly dielectric amorphous nano-powder and its synthetic method - Google Patents
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Abstract
본 발명은 전자파(RF) 플라즈마 연소 기술을 이용한 인체에 유해한 납 또는 비스무스를 함유하지 않는 BaO 조성계의 유전체 유리 나노 분말의 제조방법을 제공하기 위한 것으로서, 본 발명에 따른 BaO 조성계의 유전체 유리 나노 분말의 제조방법은 BaO, B2O3, SiO2, ZnO, Na2O를 혼합하여 용융시킨후 급냉하여 마이크로 분말의 전구체를 제조하는 단계; 상기 전구체를 15 ~150 kW의 유도 코일에 의해 만들어지는 전자파 플라즈마 내로 보조 가스와 함께 주입하여 플라즈마 처리장치에 원료를 공급하는 단계; 전자파 플라즈마 처리를 통해 상기 공급된 전구체를 기화시킨 후에 급냉 가스를 분사하여 비정질 나노 분말을 제조하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a method for producing a dielectric glass nanopowder of a BaO composition system free from lead or bismuth harmful to the human body by using an RF (radio frequency) plasma burning technique. The dielectric glass nanopowder of the BaO composition system according to the present invention The method comprises the steps of mixing BaO, B 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, and Na 2 O, melting them, and quenching them to prepare a precursor of the micropowder; Injecting the precursor with an auxiliary gas into an electromagnetic plasma produced by an induction coil of 15 to 150 kW to supply a raw material to a plasma processing apparatus; Vaporizing the supplied precursor through electromagnetic wave plasma treatment, and spraying a quench gas to produce an amorphous nano powder.
RF 플라즈마, 비정질, 친환경, 유전체, 나노분말 RF plasma, amorphous, eco-friendly, dielectric, nano powder
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)용 유전체의 유리 나노분말의 제조에 관한 것으로, 상세하게는 인체에 유해한 Pb성분이나 고가의 Bi성분을 함유하지 않는 Ba-O 조성계의 나노분말 및 RF 플라즈마 연소기술에 의한 나노 분말 제조에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a nano powder of a Ba-O composition system which does not contain a Pb component harmful to the human body or a high-priced Bi component, and an RF plasma burning technique ≪ / RTI >
PDP는 투명전도막(ITO)전극, 버스(BUS) 전극, 유전층, 산화마그네슘 보호층 등이 형성된 상면판과 어드레스용 전극, 반사막, 격벽, 형광막이 형성되어 있는 ㅎ하면판으로 구성되며, 상면판과 하면판 사이의 내부 공간에 플라즈마 가스가 주입되어 있다. The PDP is composed of a top plate on which a transparent conductive film (ITO) electrode, a bus (BUS) electrode, a dielectric layer, a magnesium oxide protective layer and the like are formed and an address electrode, a reflective film, a barrier rib, Plasma gas is injected into the inner space between the lower plate and the lower plate.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 사용되는 투명 유전체용 유리 조성물은 전후면 유리기판의 열적 특성에 맞추어서 낮은 소성온도, 기판과 비슷한 선팽창계수, 적당한 유전상수 특성을 지닌 PbO, B2O3 및 SiO2를 주성분으로 한다.The glass composition for a transparent dielectric used in a conventional plasma display panel has PbO, B 2 O 3 and SiO 2 having a low sintering temperature, a linear expansion coefficient similar to that of the substrate, and a proper dielectric constant in accordance with the thermal characteristics of the front and rear glass substrates, .
이 유전체의 조성물로 PbO 계에 견줄만한 무연 조성물은 아직 개발되어 있지 않은 상황이다.A lead-free composition that is comparable to a PbO-based compound as a composition of this dielectric has not yet been developed.
현재 PDP의 상용 투명유전체로 쓰이고 있는 PbO계 유리조성들은 인체에 해롭고 환경오염에도 심각한 영향을 끼치는 PbO 성분을 다량 함유하고 있어 제조공정시 상기 유리의 상당한 양이 폐기되어 폐기시 폐수 중의 산 또는 알칼리 용액과 화학 반응을 일으키게 되면 토양 및 수질 오염에 의한 환경 공해를 유발시키는 문제점이 있다. 또한 종래의 PbO를 다량 함유한 조성의 경우에는 최종제품에 있어서 대면적으로 만들 경우 그 중량에 있어서 상당한 부담으로 작용할 수 있다. 또한 납(Pb) 불함유 저융점유리 대체조성으로 쓰이는 Bi2O3계 유리나 알칼리토류산화물 중 BaO계 유리 역시 독극물로 분류되는 중금속 성분이 포함되어 있어 비환경친화성 물질이므로 이 또한 친환경재료들로 쓰이기는 적절치 못한 조성들이다.PbO-based glass compositions, which are currently used as transparent transparent dielectrics for PDPs, contain a large amount of PbO, which is harmful to the human body and has a serious effect on environmental pollution. And causing chemical pollution by soil and water pollution. Further, in the case of a composition containing a large amount of PbO in the prior art, it can be a considerable burden on the weight when it is made into a large area in the final product. Among Bi 2 O 3 -based glasses and alkaline earth oxides used as a substitute for lead (Pb) -based low melting point glass, BaO-based glass also contains a heavy metal component classified as a toxic substance and is a non-environmentally compatible material. Usage is inappropriate composition.
일본 공개특허 제2000-226231호에 의하면 ZnO가 20 내지 45중량%이고, B2O3가 20 내지 34중량%이고, SiO2가 20 내지 45중량%, R2O(K2O, Na2O 및 Li2O)가 4 내지 12중량%이고, RO(BaO 및 CaO의 합)가 0 내지 3중량%이고, NaF가 0.5 내지 8중량%인 것을 특징으로 하는 무연 유리조성물을 소개하고 있다. 또한 미합중국 등록특허 제6,417,123호는 ZnO가 20 내지 45중량%이고, BaO가 15 내지 45중량%이고, B2O3가 15 내지 35중량%이고, SiO2가 3 내지 15중량%이고, PbO가 0 내지 24.5중량%인 유리조성물을 소개하고 있다. 상기 유리조성물들은 모두 PDP 투명유전체 및 격벽형성제등에 쓰일 유리조성물을 제공하고 있다. 그러나 상기 일본 공개특허의 유리조성물은 R2O(K2O, Na2O, Li2O) 알칼리계 성분을 함유하여 전극과의 반응이 일어날 가능성이 높으며, 상기 미국특허의 유리조성물은 비록 감소된 양이기는 하지만 여전히 PbO계 성분을 사용함으로써 무연 저융점유리의 목적에 부합되지 않는다는 문제점이 제기되고 있다.Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-226231 discloses that ZnO is 20 to 45 wt%, B 2 O 3 is 20 to 34 wt%, SiO 2 is 20 to 45 wt%, R 2 O (K 2 O, Na 2 O and Li 2 O) is 4 to 12 wt%, RO (a sum of BaO and CaO) is 0 to 3 wt%, and NaF is 0.5 to 8 wt%. US Patent No. 6,417,123 also discloses that ZnO is 20 to 45 wt%, BaO is 15 to 45 wt%, B 2 O 3 is 15 to 35 wt%, SiO 2 is 3 to 15 wt%, and PbO 0 to 24.5% by weight. The above glass compositions all provide glass compositions that can be used for PDP transparent dielectrics and barrier formers. However, the glass composition of the Japanese Laid-Open Patent Application (Kokai) discloses that the glass composition containing R 2 O (K 2 O, Na 2 O, Li 2 O) alkaline components is highly likely to react with the electrode, However, the use of the PbO-based component still fails to meet the object of the lead-free low-melting glass.
본 발명은 기존의 유해성분을 포함하는 유전체가 가지는 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 인체에 유해한 납 또는 비스무스를 함유하지 않는 BaO 조성계의 유전체 유리 나노 분말의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.Disclosed herein is a method for producing a dielectric glass nanopowder of a BaO composition system free from lead or bismuth harmful to the human body, which is devised to solve the problems of conventional dielectric materials containing harmful components.
본 발명에 따른 BaO 조성계의 유전체 유리 나노 분말의 제조방법은 BaO, B2O3, SiO2, ZnO, Na2O를 혼합하여 용융시킨후 급냉하여 마이크로 분말의 전구체를 제조하는 단계; 상기 전구체를 15 ~150 kW의 유도 코일에 의해 만들어지는 전자파 플라즈마 내로 보조 가스와 함께 주입하여 플라즈마 처리장치에 원료를 공급하는 단계; 전자파 플라즈마 처리를 통해 상기 공급된 전구체를 기화시킨 후에 급냉 가스를 분사하여 비정질 나노 분말을 제조하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The method for preparing a dielectric glass nanopowder according to the present invention comprises the steps of mixing and melting BaO, B 2 O 3 , SiO 2 , ZnO and Na 2 O, followed by quenching to prepare a precursor of a micropowder; Injecting the precursor with an auxiliary gas into an electromagnetic plasma produced by an induction coil of 15 to 150 kW to supply a raw material to a plasma processing apparatus; Vaporizing the supplied precursor through electromagnetic wave plasma treatment, and spraying a quench gas to produce an amorphous nano powder.
상기 비정질 나노분말의 BaO 함량이 10 ~ 50 중량%인 것을 특징으로 한다.And the amorphous nano powder has a BaO content of 10 to 50% by weight.
상기 원료를 공급하는 단계는 상기 보조가스로서 쉴드(sheath gas), 중앙 가스(central gas) 및 분말주입 가스(powder feeding gas)가 분사노즐을 통해 주입되고, 상기 쉴드 가스는 불활성 기체 10 ~ 120 SLPM 및 산소 10 ~ 120 SLPM이 혼합 주입되고, 상기 중앙 가스는 불활성 기체 5 ~ 50 SLPM이 주입되는 것을 특징으로 한다.In the step of supplying the raw material, a sheath gas, a central gas, and a powder feeding gas are injected through the injection nozzle as the auxiliary gas, and the shield gas is supplied to the
본 발명에 의해 제조된 비정질 유리 나노분말은 환경오염 문제를 해결하고 낮은 소성온도, 높은 내수성, 유효한 선팽창계수를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 유리층의 기본 특성을 모두 만족하는 유리조성물을 제조할 수 있는 효과가 있다. 따라서 PDP 상판 또는 하판 유전체 후막 형성을 위해 페이스트나 잉크의 원료로 사용되거나, 전도성 페이스트나 전도성 잉크에 첨가제로 사용될 수 있다.The amorphous glass nano powder prepared according to the present invention can solve the environmental pollution problem and can produce a glass composition which satisfies all the basic characteristics of a dielectric glass layer for a plasma display panel having a low sintering temperature, a high water resistance and an effective linear expansion coefficient It is effective. Therefore, it can be used as a raw material for a paste or an ink for forming a PDP top plate or a bottom plate dielectric thick film, or can be used as an additive in a conductive paste or a conductive ink.
이하에서 첨부된 도면과 실시예를 참조로 본 발명에 따른 전자파 플라즈마 장치를 이용한 비정질 나노 분말의 제조방법에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing an amorphous nano-powder using the electromagnetic plasma apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and embodiments.
먼저 도1를 참조로 연소 기상법 중 하나인 전자파(RF) 플라즈마 장치에 대해간단히 설명한다. 도1은 RF 플라즈마 장치의 토치 발생부의 도식도이다. 토치 발생부 상부에서 전구체 분말이 투입되고, 플라즈마의 처리 효율을 향상시키기 위한 보조 가스를 함께 투입한다. 전구체 분말과 함께 공급되는 보조 가스에는 차단가스, 중앙가스, 분말주입가스 등이 있고, 아르곤과 같은 불활성가스, 산소 및 이들을 혼합한 기체가 주로 이용된다.Referring first to FIG. 1, an RF (radio frequency) plasma apparatus, which is one of the combustion gas-phase methods, will be briefly described. 1 is a schematic diagram of a torch generating unit of an RF plasma apparatus. The precursor powder is injected into the upper portion of the torch generating portion and the auxiliary gas is introduced together to improve the plasma treatment efficiency. The auxiliary gas supplied together with the precursor powder includes a blocking gas, a central gas, a powder injection gas, etc., and an inert gas such as argon, oxygen, and a gas mixture thereof are mainly used.
차단 가스는 전구체가 공급되는 플라즈마 토치 발생부의 유토 코일이 설치된 벽체의 내부 표면에 기화된 분말이 부착되는 것을 방지하기 위해 주입된다. 중앙가스는 전구체가 균일하게 플러싱(Flushing)되도록 하기 위해 토치발생부 내벽에 주입된다. 분말주입가스는 전구체 분말을 원할하게 공급되도록 하기 위해 주입된다.The blocking gas is injected to prevent vaporized powder from adhering to the inner surface of the wall provided with the muffler coil of the plasma torch generating portion to which the precursor is supplied. The central gas is injected into the inner wall of the torch generator to cause the precursor to flush uniformly. The powder injection gas is injected so as to provide uniform supply of the precursor powder.
상기 토치 발생부로 주입된 전구체 분말은 전자파 플라즈마 내에서 기화 또 는 융해되고, 그 하단부에서 분사되는 급냉가스(quenching gas)에 의하여 응축 또는 급냉되어 나노 분말로 제조되는 일련의 반응이 일어난다.The precursor powder injected into the torch generator is vaporized or melted in an electromagnetic wave plasma, condensed or quenched by a quenching gas injected from a lower end thereof, and a series of reactions are performed.
전자파 플라즈마 장치에 원료로서 공급하기 위해 BaO, B2O3, SiO2, ZnO, Na2O 분말들을 잘 혼합하여 용융 한 후 급냉 하여 볼밀을 이용하여 기계적인 분쇄과정을 거쳐 마이크로 크기의 전구체를 제조한다. 상기 BaO의 함량은 10 ~ 50 중량%인 것이 바람직하다. In order to supply as raw material to the electromagnetic plasma apparatus, BaO, B 2 O 3 , SiO 2 , ZnO and Na 2 O powders were well mixed and melted and then quenched and mechanically pulverized using a ball mill to prepare a micro-sized precursor do. The content of BaO is preferably 10 to 50% by weight.
상기 마이크로 분말 형태의 전구체는 분말 주입부를 통해 유도 플라즈마 토치(Induction plasma torch)부분으로 분사된다. 전자파 플라즈마 의 유도코일은 15 ~ 150 kW로 조절하는 것이 바람직하다. 상기 유도코일에 공급되는 전력이 150kW보다 크면 전구체가 과기화되어 미세 분말의 생산량 자체가 작아질 뿐 만 아니라 경제성이 떨어진다. 한편, 공급 전력이 20kW보다 작게 되면 플라즈마가 생성되지 않아 조대한 분말이 다량으로 만들어 지기 때문에 나노 분말의 생산성이 크게 저하된다.The precursor in the form of a micropowder is injected into the induction plasma torch through a powder injector. The induction coil of the electromagnetic plasma is preferably adjusted to 15 to 150 kW. If the electric power supplied to the induction coil is higher than 150 kW, the precursor becomes excessively large, so that the production amount of the fine powder itself becomes small, and the economical efficiency decreases. On the other hand, when the supplied power is less than 20 kW, the plasma is not generated and the coarse powder is produced in a large amount, so that the productivity of the nano powder is greatly deteriorated.
유도 플라즈마 토치 부에는 분말 주입 가스(powder feeding gas), 중앙가스(central gas)와 차단 가스(sheath gas)가 공급되며, 유도 플라즈마 하단부에서 급냉가스(quenching gas)가 공급된다. 이들 가스의 종류와 비율을 조절하게 되면 입자의 크기 및 화학조성을 조절할 수 있다. 따라서, 이들 보조 가스에 대한 최적의 조건을 정립할 필요가 있다.A powder feeding gas, a central gas and a sheath gas are supplied to the induction plasma torch, and a quenching gas is supplied at the lower end of the induction plasma. Controlling the type and ratio of these gases can control particle size and chemical composition. Therefore, it is necessary to establish optimal conditions for these auxiliary gases.
상기 차단 가스는 불활성가스 및 산소가 각각 10~120 SLPM, 10~120 SLPM으로 혼합 주입되고, 상기 중앙가스는 불활성가스가 5~50 SLPM으로 주입되는 것이 가장 바람직하다. 여기서 SLPM(Standard Liters Per Minute)는 일정한 조건에서 공급되는 기체의 유량을 나타내는 단위로서 20℃ 및 대기압에서 분당 공급되는 유체량을 의미한다. It is most preferable that the inert gas and the oxygen are mixed and injected at 10 to 120 SLPM and 10 to 120 SLPM, respectively, and the center gas is injected with an inert gas at 5 to 50 SLPM. Here, Standard Liters Per Minute (SLPM) means a flow rate of gas supplied at 20 ° C and atmospheric pressure as a unit representing the flow rate of gas supplied under a certain condition.
최종 생산물인 비정질 나노 분말은 표면적이 매우 커 기체와의 반응성이 높기 때문에 불활성기체를 사용하여야 하고 산소 가스는 비정질 나노 분말의 응축성을 높여주는 바, 차단 가스는 상기한 비율로 불활성가스와 산소 가스를 혼합하여 사용하는 것이 플라즈마를 안정화시키는데 적당하다.Since the final product, amorphous nano powder, has a very high surface area and is highly reactive with gases, an inert gas must be used. Oxygen gas improves the condensability of the amorphous nano powder. Is suitably used for stabilizing the plasma.
상기 센트럴 가스 또한 차단 가스와 더불어 플라즈마를 안정화시키는 역할을 하는데 상기 유량범위에서 가장 우수한 효과를 가진다.The central gas also serves to stabilize the plasma along with the blocking gas, and has the most excellent effect in the flow rate range.
유도 플라즈마 토치에서 생성되는 플라즈마의 온도는 5,000 ~ 10,000K으로서 반응 챔버 안을 고온 환경을 형성하여 전구체를 열분해 시켜 나노 입자 상태로 변화시킨다. 생성된 나노 입자는 반응챔버에서 수초 동안의 화학 및 재배열 반응을 거친 후 급냉가스에 의해 냉각되고 최종 나노크기의 분말로 제조된다. The temperature of the plasma generated in the induction plasma torch is 5,000 to 10,000K, and the precursor is thermally decomposed into a nanoparticle state by forming a high temperature environment in the reaction chamber. The resulting nanoparticles are chemically and rearranged in the reaction chamber for several seconds, cooled by quench gas, and made into final nano-sized powders.
이하 실시예에 의해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
[실시예1][Example 1]
산화바륨(BaO), 산화아연(ZnO), 산화규소(SiO2), 산화붕소(B2O3), 산화나트륨(Na2O)을 각각 25, 15, 5, 40, 15 중량%로 혼합하였다. 혼합분말은 지르코니아 볼을 이용한 볼밀링(ball milling) 방법으로 기계적으로 분쇄, 혼합하였다. 상기 분쇄된 혼합물을 백금 도가니에서 1200℃의 고온 열처리 노에서 2시간동안 열처리 하여 완전히 용융 및 화학반응을 시킨 후 용융물을 두께 5mm의 스테인리스 강판위에 부어서 냉각시켰다. 제조된 판유리는 기계적인 볼밀링 분쇄과정을 거쳐서 1 ~ 35 ㎛ 크기의 마이크로 분말로 된다. 상기 마이크로 분말의 전구체를 분말주입통(powder feeder)에 넣고 아르곤 가스를 흘려보내 반응챔버안으로 주입시켰다. 플라즈마 토치부에 RF 플라즈마를 발생시키기 위해 아르곤 가스를 주입하였고, 플라즈마의 파워는 30kW가 되도록 조절하였다. Barium oxide (BaO), zinc oxide (ZnO), silicon oxide (SiO2), boron oxide (B2O3) and sodium oxide (Na2O) were mixed at 25, 15, 5, 40 and 15 weight%, respectively. The mixed powders were mechanically pulverized and mixed by a ball milling method using a zirconia ball. The pulverized mixture was heat-treated in a platinum crucible at 1200 ° C for 2 hours to completely melt and chemically react. The melt was then poured onto a stainless steel plate having a thickness of 5 mm and cooled. The produced plate glass is subjected to a mechanical ball milling process to obtain micro powder having a size of 1 to 35 μm. The precursor of the micropowder was put into a powder feeder and an argon gas was poured into the reaction chamber. The plasma was injected with argon gas to generate RF plasma at the toothed portion, and the plasma power was adjusted to 30 kW.
[시험예 1] 입자 모양 및 크기 분석[Test Example 1] Analysis of particle shape and size
유전체 마이크로 분말 전구체와 RF 플라즈마를 이용하여 제조한 유전체 나노 분말의 입자크기와 모양을 비교하기 위하여 전자 주사현미경(SEM)을 사용하여 분석하였다. 전자주사현미경으로 찍은 표면 사진을 도2에 나타내었다. 도2에 나타난 바와 같이 전구체인 마이크로 분말은 표면이 거칠고 불규칙한 모양이며, 5 ~ 20 ㎛의 크기를 가진다. 반면에 RF 플라즈마를 이용해 제조된 분말은 표면이 매끄러우며 완전한 구형이며 80 ~ 120 nm의 크기를 가진다.The dielectric micropowder precursors were analyzed by scanning electron microscopy (SEM) to compare the particle sizes and shapes of the dielectric nanopowders prepared using RF plasma. A photograph of the surface taken with an electron microscope is shown in Fig. As shown in FIG. 2, the micropowder as a precursor has a rough and irregular surface and a size of 5 to 20 μm. On the other hand, the powder produced by RF plasma has a smooth surface and a perfect spherical shape with a size of 80 ~ 120 nm.
[시험예 2] 결정구조 분석[Test Example 2] Analysis of crystal structure
유전체 마이크로 분말 전구체와 RF 플라즈마를 이용하여 제조한 유전체 나노 분말의 결정구조를 확인하기 위하여 X-선 회절 분석기(XRD)를 이용하여 그 결과를 도3에 도시하였다. 도3에 도시한 바와 같이 상기 두 물질 모두 완벽한 비정질 구조를 갖는 것으로 확인되었다. The X-ray diffractometer (XRD) was used to confirm the crystal structure of the dielectric nanopowder prepared by using the dielectric micropowder precursor and the RF plasma. The results are shown in FIG. As shown in FIG. 3, it was confirmed that both of the above materials have a perfect amorphous structure.
[시험예3] 유리화 온도 측정[Test Example 3] Measurement of vitrification temperature
유전체 마이크로 분말 전구체와 RF 플라즈마를 이용하여 제조한 유전체 나노 분말의 유리화 온도를 측정하기 위해 독일네츠사의 시차주사열량계(DSC)를 사용하여 승온 속도 5℃/min, 20 ~ 800 ℃ 의 온도범위에서 열분석 실험을 하였다. 그 실험 결과를 도4에 도시하였다. 측정된 유리화 온도는 마이크로 분말 전구체가 502.4℃, RF 플라즈마를 이용하여 제조한 유전체 나노분말이 498.2℃로 측정되었다.In order to measure the vitrification temperature of the dielectric nanopowder prepared by using the dielectric micropowder precursor and the RF plasma, the temperature was raised at a rate of 5 ° C./min and a temperature of 20 to 800 ° C. using a differential scanning calorimeter (DSC) Analysis was performed. The results of the experiment are shown in Fig. The measured vitrification temperature was 502.4 ℃ for micropowder precursor, and 498.2 ℃ for dielectric nanopowder prepared by RF plasma.
도1은 전자파(RF) 플라즈마 토치부의 개략도,1 is a schematic diagram of an electromagnetic (RF) plasma torch,
도2는 유전체 마이크로 분말(전구체 분말)과 본 발명에 의해 제조된 유전체 나노분말의 전자주사현미경(SEM) 사진,FIG. 2 is a scanning electron micrograph (SEM) photograph of the dielectric micropowder (precursor powder) and the dielectric nanopowder produced by the present invention,
도3은 유전체 마이크로 분말(전구체 분말)과 본 발명에 의해 제조된 유전체 나노분말의 X-선 회절도,3 is an X-ray diffraction diagram of a dielectric micropowder (precursor powder) and a dielectric nanopowder produced by the present invention,
도4는 유전체 마이크로 분말(전구체 분말)과 본 발명에 의해 제조된 유전체 나노분말의 유리화 전이온도를 나타내는 시차주사열량계의 열분석 그래프이다.4 is a thermal analysis graph of a differential scanning calorimeter showing the transition temperature of the dielectric micropowder (precursor powder) and the dielectric nanopowder prepared according to the present invention.
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