KR101390388B1 - Nano-imprinting method of patterned media and nano-imprinting apparatus - Google Patents

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Abstract

패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법 및 장치에 관하여 개시된다. 개시된 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치는, 소정 폭의 폴리머 필름을 제1방향으로 이동시키는 폴리머 필름 이동수단; 상기 폴리머 필름 상에 배치된 가압수단; 상기 폴리머 필름의 하부에서 마스터 몰드 플레이트를 수직으로 이동하는 제1수직이동장치; 상기 폴리머 필름의 하부에서 미디어 패턴 플레이트를 수직으로 이동시키는 제2수직이동장치; 상기 폴리머 필름 상으로 UV를 조사하는 UV 조사장치;를 구비하는 것을 특징으로 한다.Disclosed are a method and apparatus for nanoimprinting patterned media. The nanoimprinting apparatus of the disclosed patterned media includes: polymer film moving means for moving a polymer film of a predetermined width in a first direction; Pressing means disposed on the polymer film; A first vertical transfer device for vertically moving the master mold plate at the bottom of the polymer film; A second vertical moving device for vertically moving the media pattern plate below the polymer film; And a UV irradiator for irradiating UV onto the polymer film.

Description

패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법 및 장치{Nano-imprinting method of patterned media and nano-imprinting apparatus}Nano-imprinting method of patterned media and nano-imprinting apparatus}

본 발명은 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법 및 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 패턴드 미디어를 제조하기 위한 나노 스케일의 패턴을 미디어 부재에 형성하는 임프린팅 방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for nanoimprinting patterned media, and more particularly, to an imprinting method and apparatus for forming a nanoscale pattern on a media member for producing a patterned media.

임프린트 리소그래피 기술은 프레스로 몰드 패턴을 기판에 직접 전사하는 것으로, 피가공 기판에 복잡한 단차를 비교적 간편하게 형성할 수 있다. 특히, 기판에 직접 프린트함으로써 지금까지 여러 번의 포토 리소그래피 프로세스가 필요하던 것에 비해 한 번의 프레스 전사로 완료되는 장점이 있으므로, 다단계 형상을 전사할 때 매우 효과적이다.Imprint lithography technology transfers a mold pattern directly onto a substrate by press, which allows relatively simple formation of complex steps on the substrate to be processed. In particular, printing directly onto a substrate has the advantage of being completed in one press transfer as compared with the need for several photolithography processes until now, which is very effective when transferring multi-step shapes.

이와 같은 임프린트 리소그래피는 크게 2가지 방법으로 나뉠 수 있다. 첫째는, 열로 고분자층을 유동성 있게 만든 다음 패턴이 있는 몰드를 접촉시키고 물리적으로 눌러서 상기 고분자층에 원하는 패턴을 만들어 내는 방법으로서, 이를 열전사(Hot Embossing) 혹은 서멀 임프린트 리소그래피(Thermal Imprint Lithography)라고 부르기도 한다. Such imprint lithography can be divided in two ways. The first method is to make the polymer layer fluid by heat, and then contact the patterned mold and press it physically to produce the desired pattern on the polymer layer. This is called hot embossing or thermal imprint lithography. Also called.

두 번째는 점도가 낮은 UV 레진을 기판에 코팅하고 패턴이 있는 몰드를 접촉시킨 후, UV를 조사하여 UV 레진을 경화시킴으로써 원하는 패턴을 만들어 내는 방법으로서, 이를 UV 임프린트 리소그래피(UV assisted Imprint Lithography) 라고 한다. UV 임프린트 리소그래피는 UV를 사용하여 경화시켜야 하므로 사용하는 몰드는 석영(Quartz) 등의 투명한 몰드가 사용되어야 한다. The second method is to coat a mold with a low viscosity UV resin, contact a patterned mold, and then irradiate UV to cure the UV resin to produce the desired pattern. This is called UV assisted Imprint Lithography. do. Since UV imprint lithography must be cured using UV, a transparent mold such as quartz must be used.

현재 이 두 가지 임프린트 방법이 세계적으로 양분화되어 사용되고 있으며 각각이 장단점에 따라 다양한 적용 분야에 사용되고 있는 상황이다.Currently, these two imprint methods are divided and used globally, and each of them is used for various applications depending on the advantages and disadvantages.

최근에는 고기록밀도를 위한 차세대 HDD 기술인 패턴드 미디어(Patterned Media)에 Nano Imprint 기술을 적용하여 기록 비트를 물리적으로 분리하여 기록 비트 간 경계 노이즈를 줄이고 비트의 단일 결정립화로 열적 안정성을 향상시키기 위한 시도가 이루어 지고 있다. 특히, 위의 두가지 방법 중에서 UV 임프린트 리소그래피 기술을 적용하기 위한 시도가 많이 진행되고 있다. UV 임프린트 리소그래피 기술은 상온에서 저압으로 사용하므로, 고압 및 고열을 필요로 하는 열전사 방법 보다 유리하며, 특히 나노 스케일의 패터닝에 유리하다. Recently, nanoimprint technology is applied to patterned media, the next generation HDD technology for high recording density, to physically separate recording bits to reduce boundary noise between recording bits, and to improve thermal stability by single graining of bits. Is being done. In particular, many attempts have been made to apply UV imprint lithography technology among the above two methods. Since UV imprint lithography technology is used at low temperatures at room temperature, it is more advantageous than thermal transfer methods requiring high pressure and high heat, and is particularly advantageous for nanoscale patterning.

UV 임프린트 리소그래피 기술은 몰드와 패턴용 레진의 접촉에 의해서 패턴이 형성된다. 이러한 접촉식 Patterning 방법의 경우 반복 사용 시 압력 또는 온도의 영향으로 Mold의 변형 또는 오염되는 문제가 있다. 또한, 미세 패턴의 Mold를 만들기 위해 E-beam Lithography 방법과 이 방법에 의해 Pattern이 Define되어 있는 Quartz 또는 Si 기판의 Dry Etching 공정이 수반되며, 따라서 Mold 제조 비용이 높아진다. In UV imprint lithography, a pattern is formed by contact of a mold with a resin for a pattern. In the case of such a contact patterning method, there is a problem that the mold is deformed or contaminated due to the influence of pressure or temperature during repeated use. In addition, E-beam Lithography method and Dry Etching process of Quartz or Si substrate where pattern is defined by this method are involved to make mold of fine pattern, thus increasing mold manufacturing cost.

또한, UV 임프린트 리소그래피 기술을 패턴드 미디어 제조에 적용시 몰드와 패턴 사이의 접촉면에서의 에어 트랩을 방지하기 위해서 진공챔버에서 제조시 대량생산이 어렵게 된다. In addition, when UV imprint lithography technology is applied to the production of patterned media, mass production becomes difficult when manufacturing in a vacuum chamber to prevent air traps on the contact surface between the mold and the pattern.

상기에서 살펴 본 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 본 발명의 목적은, 패턴드 미디어의 제조방법에 있어서 몰드의 변형 및 오염을 최소화하기 위해 저가의 폴리머 몰드를 양산 스케일로 제조하여 상기 폴리머 몰드로 미디어 부재용 레진에 패턴을 형성하는 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법을 제공하는 것이다. In order to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to produce a low-cost polymer mold on a mass production scale to minimize deformation and contamination of the mold in the method of producing a patterned media, the polymer mold The present invention provides a method for nanoimprinting patterned media that forms a pattern on a resin for a media member.

본 발명의 다른 목적은 상기 방법에 적용되는 나노 임프린팅 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a nanoimprinting apparatus applied to the method.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법은, In order to achieve the above object, the nanoimprinting method of the patterned media according to an embodiment of the present invention,

소정 폭의 폴리머 필름의 하부에 몰드용 UV 경화 레진이 도포된 복수의 마스터 몰드를 배치하는 제1 단계;Disposing a plurality of master molds coated with a UV curing resin for a mold under a predetermined width of the polymer film;

상기 폴리머 필름 상에서 상기 마스터 몰드 상으로 상기 폴리머 필름을 압착하는 제2 단계;Pressing the polymer film onto the master mold onto the polymer film;

상기 압착된 몰드용 UV 경화 레진에 UV를 조사하는 제3 단계;A third step of irradiating UV to the compressed UV curing resin for mold;

상기 복수의 마스터 몰드를 상기 폴리머 필름으로부터 이격시켜서 상기 폴리머 필름의 하부에 복수의 중간 패턴을 형성하는 제4 단계;A fourth step of forming the plurality of intermediate patterns under the polymer film by separating the plurality of master molds from the polymer film;

상기 복수의 중간 패턴 하부에 자성막과 상기 자성막 위에 패턴용 UV 경화레진이 도포된 복수의 기판을 배치하는 제5 단계;A fifth step of disposing a magnetic film and a plurality of substrates on which the UV curable resin is applied on the magnetic film under the plurality of intermediate patterns;

상기 폴리머 필름 상에서 상기 복수의 기판 상으로 상기 폴리머 필름을 압착하는 제6 단계;Compressing the polymer film onto the plurality of substrates on the polymer film;

상기 압착된 미디어 패턴용 UV 경화 레진에 UV를 조사하는 제7 단계; 및Irradiating UV to the UV cured resin for the compressed media pattern; And

상기 복수의 기판을 상기 폴리머 필름으로부터 이격시키는 제8 단계;를 구비하는 것을 특징으로 한다. And an eighth step of separating the plurality of substrates from the polymer film.

본 발명에 따르면, 상기 제1 단계는, 상기 복수의 마스터 몰드 상에 SAM (self assembled monolayer) 코팅을 형성하는 단계;를 포함할 수 있다. According to the present invention, the first step may include forming a self assembled monolayer (SAM) coating on the plurality of master molds.

본 발명의 일 국면에 따르면, 상기 제2 단계는, 상기 폴리머 필름의 폭 방향으로 압착롤러를 구동하며, 제3 단계는, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV를 조사한다. According to one aspect of the invention, the second step, the driving roller in the width direction of the polymer film, the third step, UV irradiation sequentially in the driving direction of the compression roller.

또한, 상기 제6 단계는, 상기 폴리머 필름의 폭 방향으로 압착롤러를 구동하며, 상기 제7 단계는, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV를 한다. In addition, the sixth step, the pressing roller is driven in the width direction of the polymer film, and the seventh step is sequentially UV in the driving direction of the pressing roller.

본 발명의 다른 국면에 따르면, 상기 제2 단계는, 상기 폴리머 필름의 길이 방향으로 압착롤러를 구동하며, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV를 조사한다. According to another aspect of the present invention, in the second step, the pressing roller is driven in the longitudinal direction of the polymer film, and UV is sequentially irradiated along the driving direction of the pressing roller.

또한, 상기 제6 단계는, 상기 폴리머 필름의 길이 방향으로 압착롤러를 구동 하며, 상기 제7 단계는 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV를 조사한다. In addition, the sixth step, the pressing roller is driven in the longitudinal direction of the polymer film, and the seventh step is sequentially irradiated with UV along the driving direction of the pressing roller.

본 발명에 따르면, 상기 제5 단계는, 상기 자성막과 상기 미디어 패턴용 레진 사이에 점착 프로모터(adhesion promoter)를 미리 도포하는 단계를 더 포함할 수 있다. According to the present invention, the fifth step may further include applying an adhesion promoter in advance between the magnetic layer and the resin for the media pattern.

그리고, 상기 제5 단계는, 상기 폴리머 필름을 상기 폴리머 필름의 길이방향으로 소정 거리 이동시킨 후 실시한다. The fifth step is performed after the polymer film is moved a predetermined distance in the longitudinal direction of the polymer film.

상기의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치는:In order to achieve the above another object, the nano-imprinting apparatus of the patterned media according to another embodiment of the present invention:

소정 폭의 폴리머 필름을 제1방향으로 이동시키는 폴리머 필름 이동수단;Polymer film moving means for moving a polymer film having a predetermined width in a first direction;

상기 폴리머 필름 상에 배치된 가압수단;Pressing means disposed on the polymer film;

상기 폴리머 필름의 하부에서 마스터 몰드 플레이트를 수직으로 이동하는 제1수직이동장치;A first vertical transfer device for vertically moving the master mold plate at the bottom of the polymer film;

상기 폴리머 필름의 하부에서 미디어 패턴 플레이트를 수직으로 이동시키는 제2수직이동장치; 및A second vertical moving device for vertically moving the media pattern plate below the polymer film; And

상기 폴리머 필름 상으로 UV를 조사하는 UV 조사장치;를 구비하는 것을 특징으로 한다. And a UV irradiator for irradiating UV onto the polymer film.

상기 제1수직이동장치 및 상기 제2수직이동장치는 하나의 수직이동장치일 수 있다. The first vertical moving device and the second vertical moving device may be one vertical moving device.

상기 폴리머 필름 이동수단은, 상기 폴리머 필름이 감겨져 있는 피동롤; 및 The polymer film moving means may include: a driven roll on which the polymer film is wound; And

상기 아이들롤로부터 상기 폴리머 필름을 당겨서 감는 구동롤;을 구비할 수 있다. And a driving roll for pulling the polymer film from the idle roll.

본 발명의 일 국면에 따르면, 상기 가압수단은, 상기 제1방향과 직교하는 제2방향으로 설치된 제1 및 제2 리니어 가이드; 및According to one aspect of the invention, the pressing means, the first and second linear guides installed in a second direction orthogonal to the first direction; And

상기 제1 및 제2 리니어 가이드에 회전축이 슬라이딩되도록 각각 설치된 제1 및 제2 가압롤러;를 구비한다. And first and second pressure rollers respectively installed on the first and second linear guides so that the rotating shaft slides.

또한, 상기 UV 조사장치는, 상기 제1 및 제2 리니어 가이드에 슬라이딩되도록 각각 설치되어 상기 제1 및 제2 가압롤러가 지나간 부분에 한정되게 UV를 조사하는 제1 UV 조사장치 및 제2 UV 조사장치를 구비한다. In addition, the UV irradiation apparatus, the first UV irradiation apparatus and the second UV irradiation which is installed so as to slide on the first and second linear guide, respectively, to irradiate the UV limited to the portion passed by the first and second pressure rollers. With a device.

본 발명의 다른 국면에 따르면, 상기 가압수단은, 상기 제1 방향으로 설치된 제1 및 제2 리니어 가이드; 및According to another aspect of the invention, the pressing means, the first and second linear guides installed in the first direction; And

상기 제1 및 제2 리니어 가이드에 회전축이 슬라이딩되도록 각각 설치된 제1 및 제2 가압롤러;를 구비한다. And first and second pressure rollers respectively installed on the first and second linear guides so that the rotating shaft slides.

또한, 상기 UV 조사장치는, 상기 제1 및 제2 리니어 가이드에 슬라이딩되도록 각각 설치되어 상기 제1 및 제2 가압롤러가 지나간 부분에 한정되게 UV를 조사하는 제1 UV 조사장치 및 제2 UV 조사장치를 구비한다. In addition, the UV irradiation apparatus, the first UV irradiation apparatus and the second UV irradiation which is installed so as to slide on the first and second linear guide, respectively, to irradiate the UV limited to the portion passed by the first and second pressure rollers. With a device.

상기와 같은 과제해결수단에서 개시하는 본 발명에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법 및 장치는, 저가의 유연한 폴리머 몰드를 중간 몰드로 사용하여 시퀀셜 콘택(sequential contact)으로 나노 임프린팅을 수행하여 에어트랩의 생 성을 방지한다. 이러한 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법 및 장치는 하드 디스크 드라이브(HDD)의 나노 스케일의 패턴드 미디어(Patterned Media) 제작에 적용시, 패턴을 균일하게 형성할 수 있다. The method and apparatus for nanoimprinting patterned media according to the present invention disclosed in the above problem solving means, by using a low-cost flexible polymer mold as an intermediate mold to perform nanoimprinting by sequential contact (air) Prevent trap generation. The nanoimprinting method and apparatus of the patterned media may form a pattern uniformly when applied to the production of nanoscale patterned media of a hard disk drive (HDD).

이하, 첨부된 도면들을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 아래에 예시되는 실시예는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니며, 본 발명을 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 충분히 설명하기 위해 제공되는 것이다. 이하의 도면들에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 도면상에서 각 구성요소의 크기는 설명의 명료성과 편의상 과장되어 있을 수 있다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments illustrated below are not intended to limit the scope of the invention, but rather to provide a thorough understanding of the invention to those skilled in the art. In the following drawings, like reference numerals refer to like elements, and the size of each element in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치(100)의 개략적 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a nanoimprinting apparatus 100 of a patterned media according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치(100)는 소정 폭의 폴리머 필름(102)을 X 방향으로 이동시키는 폴리머 필름 이동수단과, 상기 폴리머 필름(102)의 저면과 선택적으로 마스터 몰드 플레이트(122) 및 패턴 플레이트(132)를 각각 접촉시키는 제1수직이동장치(120) 및 제2수직이동장치(130)와, 상기 폴리머 필름(102) 상에서 상기 마스터 몰드 플레이트(122) 및 미디어 패턴 플레이트(132)와 대응되게 설치되어 상기 폴리머 필름(102)을 상기 마스터 몰드 플레이트(122) 및 패턴 플레이트(132)에 대해서 가압하는 제1가압롤러(140) 및 제2가압롤러(150)와, 상기 제1가압롤러(140) 및 제2가압롤러(150)에 각각 대응되게 설 치되는 제1 및 제2 UV 조사장치(148, 158)를 구비한다. Referring to FIG. 1, the nanoimprinting apparatus 100 for patterned media according to the present invention includes a polymer film moving unit for moving a polymer film 102 having a predetermined width in the X direction, and a bottom surface of the polymer film 102. And a first vertical transfer unit 120 and a second vertical transfer unit 130 which selectively contact the master mold plate 122 and the pattern plate 132, respectively, and the master mold plate (on the polymer film 102). 122 and the first pressure roller 140 and the second pressure roller which are installed to correspond to the media pattern plate 132 to press the polymer film 102 against the master mold plate 122 and the pattern plate 132. 150 and first and second UV irradiation devices 148 and 158 installed corresponding to the first pressure roller 140 and the second pressure roller 150, respectively.

상기 폴리머 필름(102)은 투명한 재질로서 자외선을 통과시키는 물질, 예컨대 PET(Poly(Ethylene Terephthalate))가 사용될 수 있다. 상기 폴리머 필름(102)은 유연하므로 나노 임프린팅시 몰드와 레진 사이의 시퀀셜 콘택트(sequential contact)를 제공하여 몰드와 레진 사이의 에어 트랩을 방지할 수 있다. The polymer film 102 may be made of a transparent material, such as PET (polyethylene terephthalate) (PET). Since the polymer film 102 is flexible, it may provide a sequential contact between the mold and the resin during nanoimprinting to prevent an air trap between the mold and the resin.

상기 폴리머 필름 이동수단은, 상기 폴리머 필름(102)을 당겨서 그 외부에 감는 구동롤(112)과, 상기 폴리머 필름(102)이 감겨져서 상기 구동롤(112)로 폴리머 필름(102)을 공급하는 피동롤(114)을 구비한다. 상기 폴리머 필름(102)은 상기 피동롤(114)로부터 상기 구동롤(112) 사이에 설치된 아이들 롤러들(116)에 의해서 이동경로가 한정될 수 있다. 또한, 도 1에는 도시되어 있지 않지만 테이블(미도시)과 테이블 상의 아이들 롤러에 의해 그 이동경로가 한정될 수도 있다. The polymer film moving unit includes a driving roll 112 that pulls the polymer film 102 and winds the outside thereof, and the polymer film 102 is wound to supply the polymer film 102 to the driving roll 112. A driven roll 114 is provided. The movement path of the polymer film 102 may be defined by idle rollers 116 installed between the driven roll 114 and the driving roll 112. In addition, although not shown in FIG. 1, the movement path may be defined by a table (not shown) and an idle roller on the table.

도 2는 마스터 몰드 플레이트(122)의 형상을 보여주는 사시도이다. 도 2를 참조하면, 마스터 몰드 플레이트(122)에는 마스터 몰드(126)가 들어가는 홈(124)이 형성되어 있다. 상기 마스터 몰드 플레이트(122)는 상기 미디어 패턴 플레이트(132)와 동일한 형상일 수 있으며, 미디어 패턴 플레이트(132)에도 상기 홈(124)와 같은 형상의 홈(134)가 형성되어 있다. 2 is a perspective view showing the shape of the master mold plate 122. Referring to FIG. 2, a groove 124 through which the master mold 126 enters is formed in the master mold plate 122. The master mold plate 122 may have the same shape as the media pattern plate 132, and the groove 134 having the same shape as the groove 124 is formed in the media pattern plate 132.

제1수직이동장치(120)는 상기 마스터 몰드 플레이트(122)가 장착된 상태에서 마스터 몰드 플레이트(122)를 폴리머 필름(102)의 저면에 접촉시키거나 또는 폴리머 필름(102)의 저면으로부터 하방으로 이격시킨다. 제1수직이동장치(120)는 일반적인 실린더와 모터로 구성될 수 있으며, 상세한 설명은 생략한다. The first vertical transfer device 120 contacts the master mold plate 122 to the bottom of the polymer film 102 or downwards from the bottom of the polymer film 102 in a state where the master mold plate 122 is mounted. Space it apart. The first vertical movement device 120 may be composed of a general cylinder and a motor, a detailed description thereof will be omitted.

제2수직이동장치(130)도 제1수직이동장치(120)와 실질적으로 동일한 구성으로 이루어질 수 있으며, 상세한 설명은 생략한다. The second vertical movement device 130 may also have substantially the same configuration as the first vertical movement device 120, and a detailed description thereof will be omitted.

도 3은 도 1의 제1가압롤러와 제1 UV 조사장치의 일 예를 도시한 사시도이다. 3 is a perspective view illustrating an example of the first pressure roller and the first UV irradiation device of FIG. 1.

도 3을 참조하면, 서로 평행한 제1 리니어 가이드(142)에 제1가압롤러(140)의 회전축(141)이 슬라이딩이 가능하도록 결합되어 있다. 그리고 제1 리니어 가이드(142)는 실린더(144)에 연결된 수직이동장치(146)에 의해서 폴리머 필름(102)에 접촉될 수 있다. 한편, 제1 UV 조사장치(148)는 제1가압롤러(140)가 지나 간 영역만 한정되게 자외선을 조사하여 가압되어 마스터 몰드(126)의 패턴이 전사된 중간 패턴용 레진(128)을 경화시킨다. 이를 위해서 제1 UV 조사장치(148)는 그 양단이 제1 리니어 가이드(142)에 슬라이딩 가능하도록 결합되고 별도의 실린더 및 모터에 의해서 제1가압롤러(140)와 같은 방향으로 이동되게 구성될 수 있다. Referring to FIG. 3, the rotation shaft 141 of the first pressing roller 140 is coupled to the first linear guide 142 parallel to each other to allow sliding. The first linear guide 142 may be in contact with the polymer film 102 by the vertical moving device 146 connected to the cylinder 144. On the other hand, the first UV irradiation device 148 is irradiated with ultraviolet rays to be limited to only the region passed by the first pressure roller 140 is pressed to cure the resin for the intermediate pattern 128, the pattern of the master mold 126 is transferred. Let's do it. To this end, the first UV irradiation device 148 may be configured such that both ends thereof are slidably coupled to the first linear guide 142 and moved in the same direction as the first pressing roller 140 by a separate cylinder and a motor. have.

도 3의 제2가압롤러(150) 및 제2 UV 조사장치(158)의 구성은 제1가압롤러(140) 및 제1 UV 조사장치(148)의 구성과 실질적으로 동일할 수 있으며 상세한 설명은 생략한다. The configuration of the second pressing roller 150 and the second UV irradiation device 158 of FIG. 3 may be substantially the same as the configuration of the first pressing roller 140 and the first UV irradiation device 148. Omit.

상기 제1 리니어 가이드(142)가 하강하여 제1가압롤러(140)가 폴리머 필름(102)의 상면에 접촉하고, 상술한 마스터 몰드 플레이트(122) 상에 마스터 몰드(126)가 배치된 상태에서 마스터 몰드 플레이트(122)가 폴리머 필름(102)의 저면에 접촉한 경우, 상기 제1가압롤러(140)의 회전으로 제1가압롤러(140)는 제1 리니어 가이드(142)를 따라서 진행되면서 폴리머 필름(102)을 마스터 몰드 플레이 트(122)에 가압할 수 있다. 이때, 제1가압롤러(140)의 진행방향으로 마스터 몰드(126)과 중간패턴용 레진(128)이 순차적으로 압착되어 시퀀셜 접촉을 이룬다. 마스터 몰드(126) 상에 미리 도포된 중간패턴용 레진(128)은 마스터 몰드(126)의 형상과 반대되는 형상으로 바뀐다. In a state where the first linear guide 142 is lowered so that the first pressure roller 140 contacts the upper surface of the polymer film 102 and the master mold 126 is disposed on the master mold plate 122 described above. When the master mold plate 122 is in contact with the bottom surface of the polymer film 102, the first pressure roller 140 is moved along the first linear guide 142 by the rotation of the first pressure roller 140. The film 102 may be pressed onto the master mold plate 122. At this time, the master mold 126 and the intermediate pattern resin 128 are sequentially compressed in the advancing direction of the first pressing roller 140 to form sequential contact. The intermediate pattern resin 128 previously applied on the master mold 126 is changed into a shape opposite to that of the master mold 126.

제2가압롤러(150) 및 제2 UV 조사장치(158)의 구성은 제1가압롤러(140) 및 제1 UV 조사장치(148)의 구성과 실질적으로 동일할 수 있다. 제2가압롤러(150)의 위치의 폴리머 필름(102)의 하부에는 전단계의 공정에서 형성된 중간패턴(128)이 부착되어 있다. 중간패턴(128)과 마주보는 위치에는 미디어 패턴 플레이트(132)가 배치된다. 미디어 패턴 플레이트(132)의 홈(134)에는 미디어 패턴용 레진(136)이 도포되어 있다. 미디어 패턴용 레진(136)의 하부에는 자성막이 형성된 기판(미도시)이 배치된다. The configuration of the second pressing roller 150 and the second UV irradiation device 158 may be substantially the same as the configuration of the first pressing roller 140 and the first UV irradiation device 148. The intermediate pattern 128 formed in the previous step is attached to the lower portion of the polymer film 102 at the position of the second pressing roller 150. The media pattern plate 132 is disposed at a position facing the intermediate pattern 128. Resin 136 for a media pattern is coated in the groove 134 of the media pattern plate 132. A substrate (not shown) on which a magnetic film is formed is disposed under the media pattern resin 136.

미디어 패턴 플레이트(132)는 제2수직이동장치(130)에 의해서 수직으로 이동된다. The media pattern plate 132 is vertically moved by the second vertical moving device 130.

제2가압롤러(150)의 회전축은 제2 리니어 가이드(152)에 회전가능하게 결합된다. 그리고 제2 리니어 가이드(152)는 실린더(154)에 연결된 수직이동장치(156)에 의해서 폴리머 필름(102)에 접촉될 수 있다. 한편, 제2 UV 조사장치(158)는 제1가압롤러(150)가 지나 간 영역만 한정되게 자외선을 조사하여 가압되어 중간 패턴(156)의 패턴이 전사된 미디어 패턴용 레진(138)을 경화시킨다. 이를 위해서 제1 UV 조사장치(158)는 그 양단이 제2 리니어 가이드(152)에 슬라이딩 가능하도록 결합되고 별도의 실린더 및 모터에 의해서 제2가압롤러(150)와 같은 방향으로 이동되 게 구성될 수 있다. The rotating shaft of the second pressing roller 150 is rotatably coupled to the second linear guide 152. The second linear guide 152 may be in contact with the polymer film 102 by a vertical transfer device 156 connected to the cylinder 154. Meanwhile, the second UV irradiator 158 cures the resin for a media pattern 138 on which the pattern of the intermediate pattern 156 is transferred by pressing ultraviolet rays to be limited to the area where the first pressing roller 150 passes. Let's do it. To this end, the first UV irradiator 158 is coupled so that both ends thereof are slidable to the second linear guide 152 and is moved in the same direction as the second press roller 150 by a separate cylinder and a motor. Can be.

상기 실시예에서는 두개의 가압롤러 및 UV 경화장치를 사용하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 하나의 가압롤러 및 UV 경화장치를 사용하여 중간패턴 형성과 미디어 패턴 형성을 위해 마스터 몰드 플레이트와 미디어 패턴 플레이트를 교환할 수도 있다. In the above embodiment, two pressure rollers and a UV curing device are used, but the present invention is not limited thereto. For example, one press roller and a UV curing apparatus may be used to exchange the master mold plate and the media pattern plate for intermediate pattern formation and media pattern formation.

이하에서는 본 발명에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치(100)를 사용하여 나노 임프린팅 방법을 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the nanoimprinting method using the nanoimprinting apparatus 100 of the patterned media according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4a 내지 도 4f는 본 발명에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법을 개략적으로 설명하는 도면이다. 4A to 4F are diagrams schematically illustrating a method for nanoimprinting patterned media according to the present invention.

도 4a를 참조하면, 마스터 몰드(126)를 마스터 몰드 플레이트(122) 상에 배치한다. 상기 마스터 몰드(126) 표면에는 이형성 코팅인 SAM(self assembled monolayer) 코팅을 도포하고, 그 위에 중간패턴용 레진(128)을 도포한다. 상기 중간 패턴용 레진(128)은 UV 경화성을 지녀야 하며, 5 cPs이하의 점도를 지닌 것이 바람직하다. 상기 마스터 몰드(126)는 quartz, Si 또는 니켈로 형성될 수 있다. SAM 코팅에 사용되는 반응 물질인 리간드 또는 프리커서는 기판의 종류에 따라 다양한 물질이 사용될 수 있다. Referring to FIG. 4A, the master mold 126 is disposed on the master mold plate 122. The surface of the master mold 126 is coated with a self-assembled monolayer (SAM) coating, which is a releasable coating, and a resin for intermediate pattern 128 is applied thereon. The intermediate pattern resin 128 should have UV curability, and preferably has a viscosity of 5 cPs or less. The master mold 126 may be formed of quartz, Si, or nickel. Ligand or precursor, which is a reactant used for SAM coating, may be used in various materials depending on the type of substrate.

마스터 몰드(126)으로 Quartz를 사용하는 경우에는 리간드로 RSiCl3 또는 RSi(OR')3을 사용할 수 있다. 여기서, 기판과 화학적 결합을 이루는 Anchoring Group은 -SiCl3 또는 -Si(OR')3이며, Head Group R-은 발유 및 발수 특성이 우수한 Fluorine 계열이 주로 사용할 수 있다. 한 가지 예로 Tridecafluoro-1,1,2,2-Tetrahydrooctyl)-Trichlorosilane[CF3-(CF2)5-CH2-CH2-SiCl3](FOTCS) (Gelest, Inc.)이 사용될 수 있는데, Anhydrous n-Heptane(C7H6) 용매(solvent)에 녹여 1ppm 용액 형태로 사용해야 한다. n-Heptane은 증발해서 증기상태에서 SAM 리간드가 기판에 흡착을 도와주는 매개체이다. When quartz is used as the master mold 126, RSiCl 3 or RSi (OR ′) 3 may be used as a ligand. Here, the anchoring group forming a chemical bond with the substrate is -SiCl 3 or -Si (OR ') 3 , the head group R- can be mainly used by Fluorine series having excellent oil and water repellency characteristics. As an example, Tridecafluoro-1,1,2,2-Tetrahydrooctyl) -Trichlorosilane [CF 3- (CF 2 ) 5 -CH 2 -CH 2 -SiCl 3 ] (FOTCS) (Gelest, Inc.) can be used. It should be dissolved in anhydrous n-Heptane (C 7 H 6 ) solvent and used as a 1 ppm solution. n-Heptane is a medium that evaporates and helps the SAM ligand adsorb to the substrate in the vapor state.

그리고, 구동롤(112)을 구동하여 폴리머 필름(102)을 X 방향으로 소정 거리 이동시킨다. Then, the driving roll 112 is driven to move the polymer film 102 a predetermined distance in the X direction.

도 4b를 참조하면, 미리 준비된 마스터 몰드 플레이트(122)를 제1수직이동장치(120)로 폴리머 필름(102)의 하부에 접촉하도록 상방으로 이동한다. 이어서, 제1가압롤러(140)를 수직이동장치(148)을 사용하여 하방으로 이동하여 폴리머 필름(102)의 상면과 접촉하도록 한다. Referring to FIG. 4B, the prepared master mold plate 122 is moved upward to contact the lower portion of the polymer film 102 by the first vertical transfer device 120. Subsequently, the first pressing roller 140 is moved downward using the vertical transfer device 148 to be in contact with the top surface of the polymer film 102.

이어서, 제1가압롤러(140)를 구동시키면, 제1가압롤러(140)는 제1 리니어 가이드(142)를 따라서 Y 방향으로 회전하면서 폴리머 필름(102)을 마스터 몰드 플레이트(122)에 대해서 압착한다. 이에 따라, 마스터 몰드(126)의 패턴과 맞물리는 패턴이 중간 패턴용 레진(128)에 형성된다. 이때 제1 UV 조사장치(148)로 제1가압롤러(140)에 의해 패턴이 형성된 레진(128)에 자외선을 조사하면, 중간 패턴용 레진(128)이 경화되면서 중간 패턴(128)이 형성된다. 이 중간 패턴(128)은 미디어 패턴용 레진(136)에 나노임프린트를 하기 위한 것이다. Subsequently, when the first press roller 140 is driven, the first press roller 140 compresses the polymer film 102 against the master mold plate 122 while rotating in the Y direction along the first linear guide 142. do. As a result, a pattern engaging with the pattern of the master mold 126 is formed in the resin for intermediate pattern 128. At this time, when ultraviolet rays are irradiated onto the resin 128 having the pattern formed by the first pressure roller 140 by the first UV irradiation device 148, the intermediate pattern 128 is formed while the intermediate pattern resin 128 is cured. . This intermediate pattern 128 is for nanoimprinting the resin 136 for the media pattern.

도 4c를 참조하면, 제1수직이동장치(120)로 마스터 몰드 플레이트(122)를 하 방으로 이동하면, 중간 패턴(128)은 폴리머 필름(102)의 하부에 부착된다. 이는 중간 패턴(128)이 폴리머 필름(102)과의 접착성이 좋으며, 또한, SAM 코팅에 의해서 중간 패턴(128)이 마스터 몰드(126)로부터 쉽게 이탈된다. Referring to FIG. 4C, when the master mold plate 122 is moved downward by the first vertical transfer device 120, the intermediate pattern 128 is attached to the lower portion of the polymer film 102. This is because the intermediate pattern 128 has good adhesion with the polymer film 102, and the intermediate pattern 128 is easily detached from the master mold 126 by SAM coating.

도 4d를 참조하면, 자성막과 미디어 패턴용 UV 경화 레진(136)이 순차적으로 형성된 기판을 미디어 패턴 플레이트(132)의 홈(134)에 배치한다. 상기 자성막 상에는 미리 점착 프로모터(adhesion promoter)를 스핀코팅한 후, 그 위에 상기 미디어 패턴용 레진(136)을 형성한다. 상기 점착 프로모터는 자성막과 미디어 패턴용 레진(136) 사이의 접착성을 증가시킨다. 상기 미디어 패턴용 레진(136)은 UV 경화성을 지녀야 하며, 5 cPs이하의 점도를 지닌 것이 바람직하다. 그리고, 스핀 코팅 공정시 대기 중으로 쉽게 기화되지 않는 것이 바람직하다. Referring to FIG. 4D, the substrate on which the magnetic film and the UV curable resin 136 for the media pattern are sequentially formed is disposed in the groove 134 of the media pattern plate 132. After spin-coating an adhesion promoter on the magnetic film, the resin for a media pattern 136 is formed thereon. The adhesion promoter increases adhesion between the magnetic layer and the resin 136 for the media pattern. The media pattern resin 136 should have UV curability, and preferably has a viscosity of 5 cPs or less. In addition, it is preferable that the spin coating process is not easily evaporated to the atmosphere.

그리고, 구동롤(112)을 구동하여 폴리머 필름(102)을 X 방향으로 소정 거리 이동시켜서 폴리머 필름(102) 하부에 형성된 중간 패턴(128)이 제2가압롤러(150)와 제2수직이동장치(130)에 대응되는 위치로 이동한다. 이어서, 미리 준비된 미디어 패턴 플레이트(132)를 제2수직이동장치(130)로 폴리머 필름(102)의 하부에 접촉하도록 상방으로 이동한다. 이어서, 제2가압롤러(150)를 하방으로 이동하여 폴리머 필름(102)의 상면과 접촉하도록 한다. Then, the driving pattern 112 is moved to move the polymer film 102 a predetermined distance in the X direction so that the intermediate pattern 128 formed under the polymer film 102 has the second pressing roller 150 and the second vertical moving device. Move to a position corresponding to 130. Subsequently, the previously prepared media pattern plate 132 is moved upwardly to contact the lower portion of the polymer film 102 with the second vertical transfer device 130. Subsequently, the second pressing roller 150 is moved downward to be in contact with the top surface of the polymer film 102.

도 4e를 참조하면, 제2가압롤러(150)를 구동시키면, 제2가압롤러(150)는 제2 리니어 가이드(152)를 따라서 Y 방향으로 회전하면서 폴리머 필름(102)을 미디어 패턴 플레이트(122)에 대해서 압착한다. 이에 따라, 중간 패턴(128)과 맞물리는 패턴이 미디어 패턴용 레진(136)에 형성된다. 이때 제2 UV 조사장치(158)로 제2가압 롤러(150)에 의해 패턴이 형성된 레진(136)에 자외선을 조사하면, 미디어 패턴용 레진(136)이 경화되면서 미디어 패턴(136)이 형성된다. 이 미디어 패턴(136)은 하부에 있는 자성막을 식각하여 분리된 비트를 형성하기 위한 것이다. Referring to FIG. 4E, when the second pressure roller 150 is driven, the second pressure roller 150 rotates in the Y direction along the second linear guide 152 to move the polymer film 102 to the media pattern plate 122. ) Is pressed. As a result, a pattern engaging with the intermediate pattern 128 is formed in the resin 136 for the media pattern. At this time, when ultraviolet rays are irradiated to the resin 136 on which the pattern is formed by the second pressing roller 150 by the second UV irradiator 158, the media pattern resin 136 is cured to form the media pattern 136. . The media pattern 136 is for etching the magnetic film at the bottom to form separated bits.

도 4f를 참조하면, 제2수직이동장치(130)로 미디어 패턴 플레이트(132)를 하방으로 이동하면, 미디어 패턴(136)은 대응되는 자성막에 부착된 상태로 폴리머 필름(102)으로부터 이격된다. 상기 점착 프로모터 코팅이 미디어 패턴(136)이 폴리머 필름(102)으로부터 이탈되는 것을 도와준다. Referring to FIG. 4F, when the media pattern plate 132 is moved downward by the second vertical transfer device 130, the media pattern 136 is spaced apart from the polymer film 102 in a state of being attached to the corresponding magnetic film. . The adhesion promoter coating helps the media pattern 136 to break away from the polymer film 102.

이어서, 상기 중간 패턴(128)을 이용하여 미디어 패턴용 레진에 전사하는 과정을 반복한다. 이러한 전사과정은 중간 패턴(128)이 오염될 때까지 반복할 수 있다. 상기 중간 패턴(128)이 오염된 경우는, 마스터 몰드(126)을 이용한 중간 패턴(128) 형성과정을 다시 한다. Subsequently, the process of transferring the resin to the media pattern resin is repeated using the intermediate pattern 128. This transfer process may be repeated until the intermediate pattern 128 is contaminated. When the intermediate pattern 128 is contaminated, the intermediate pattern 128 is formed again using the master mold 126.

상기 실시예에서는 중간패턴 형성과 미디어 패턴 형성을 순차적으로 형성하는 것으로 설명하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 중간패턴 형성과정과 미디어 패턴 형성과정을 동시에 할 수도 있다. In the above embodiment, the intermediate pattern formation and the media pattern formation are sequentially described, but the present disclosure is not limited thereto. For example, the intermediate pattern formation process and the media pattern formation process may be performed at the same time.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치(200)의 개략적 사시도이며, 제1 실시예의 나노 임프린팅 장치(100)과 실질적으로 동일한 부재에는 동일한 참조번호를 사용하고 상세한 설명은 생략하였으며, 제1 실시에의 나노 임프린팅 장치(100)과 다른 부분을 설명한다. 5 is a schematic perspective view of a nanoimprinting apparatus 200 for patterned media according to a second embodiment of the present invention, and the same reference numerals are used for members substantially the same as the nanoimprinting apparatus 100 of the first embodiment. The detailed description is omitted, and different portions from the nanoimprinting apparatus 100 of the first embodiment will be described.

도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치(200)는 폴리머 필름(202) 상에서 상기 마스터 몰드 플레이트(222) 및 패턴 플레이 트(232)와 대응되게 설치되어 상기 폴리머 필름(202)을 상기 마스터 몰드 플레이트(222) 및 패턴 플레이트(232)에 대해서 가압하는 제1가압롤러(240) 및 제2가압롤러(250)와, 상기 제1가압롤러(240) 및 제2가압롤러(250)에 각각 대응되게 설치되는 제1 및 제2 UV 조사장치(248, 258)를 구비한다. Referring to FIG. 5, the nanoimprinting apparatus 200 for patterned media according to the present invention is installed on the polymer film 202 so as to correspond to the master mold plate 222 and the pattern plate 232. A first pressing roller 240 and a second pressing roller 250 for pressing 202 against the master mold plate 222 and the pattern plate 232, and the first pressing roller 240 and the second pressing First and second UV irradiation devices 248 and 258 are installed to correspond to the roller 250, respectively.

폴리머 필름(202)의 길이 방향으로 제1 리니어 가이드(242)와 제2 리니어 가이드(252)가 설치되어 있다. 상기 제1 리니어 가이드(242)에는 제1가압롤러(240)의 회전축이 회전가능하게 설치되며, 제2 리니어 가이드(252)에는 제2가압롤러(250)의 회전축이 슬라이딩이 가능하도록 결합되어 있다. 그리고 제1 리니어 가이드(242) 및 제2 리니어 가이드(252)는 각각 실린더(244, 254)에 연결된 수직이동장치(246, 256)에 의해서 폴리머 필름(202)에 접촉될 수 있다. The first linear guide 242 and the second linear guide 252 are provided in the longitudinal direction of the polymer film 202. The rotating shaft of the first pressing roller 240 is rotatably installed on the first linear guide 242, and the rotating shaft of the second pressing roller 250 is coupled to the second linear guide 252 so as to be slidable. . In addition, the first linear guide 242 and the second linear guide 252 may be in contact with the polymer film 202 by the vertical transfer devices 246 and 256 connected to the cylinders 244 and 254, respectively.

한편, 제1 UV 조사장치(248) 및 제2 UV 조사장치(258)은 각각 제1가압롤러(240) 및 제2가압롤러(250)가 지나 간 영역만 한정되게 자외선을 조사하여 가압되어 형성된 중간 패턴용 레진(128) 및 미디어 패턴용 레진(136)을 경화시킨다. 이를 위해서 제1 UV 조사장치(248) 및 제2 UV 조사장치(258)는 각각 그 양단이 제1 리니어 가이드(242) 및 제2 리니어 가이드(252)에 슬라이딩 가능하도록 결합되고 별도의 실린더 및 모터에 의해서 제1가압롤러(240) 및 제2가압롤러(250)과 같은 방향으로 이동되게 구성될 수 있다. On the other hand, the first UV irradiator 248 and the second UV irradiator 258 is formed by pressing and irradiating ultraviolet rays to be limited to only the region where the first pressure roller 240 and the second pressure roller 250 has passed, respectively. The intermediate pattern resin 128 and the media pattern resin 136 are cured. To this end, the first UV irradiator 248 and the second UV irradiator 258 are coupled to the first linear guide 242 and the second linear guide 252 so that both ends thereof are slidable, respectively, and separate cylinders and motors. By the first pressing roller 240 and the second pressing roller 250 may be configured to be moved in the same direction.

제2 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치(200)의 작용은 제1 실시예의 패턴드 나노 임프린팅 장치(100)의 작용으로부터 잘 알 수 있으므로 생략된다. The operation of the nanoimprinting apparatus 200 of the patterned media according to the second embodiment is omitted since it is well understood from the operation of the patterned nanoimprinting apparatus 100 of the first embodiment.

이러한 본 발명의 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법 및 장치는 이해를 돕기 위하여 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.The nanoimprinting method and apparatus of the patterned media of the present invention have been described with reference to the embodiments shown in the drawings for clarity, but these are merely exemplary, and those skilled in the art will appreciate It will be appreciated that variations and other equivalent embodiments are possible. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the appended claims.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치의 개략적 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a nano imprinting apparatus of patterned media according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 마스터 몰드 플레이트의 형상을 보여주는 사시도이다.2 is a perspective view showing the shape of the master mold plate.

도 3은 도 1의 제1가압롤러와 제1 UV 조사장치의 일 예를 도시한 사시도이다. 3 is a perspective view illustrating an example of the first pressure roller and the first UV irradiation device of FIG. 1.

도 4a 내지 도 4f는 본 발명에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법을 개략적으로 설명하는 도면이다. 4A to 4F are diagrams schematically illustrating a method for nanoimprinting patterned media according to the present invention.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치의 개략적 사시도이다. 5 is a schematic perspective view of the nanoimprinting apparatus of the patterned media according to the second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100, 200: 나노 임프린팅 장치 102: 폴리머 필름100, 200: nanoimprinting apparatus 102: polymer film

112: 구동롤 114: 피동롤112: driving roll 114: driven roll

116: 아이들롤러 120,130: 수직이동장치116: idle roller 120,130: vertical moving device

122: 마스터 몰드 플레이트 128: 중간 패턴122: master mold plate 128: intermediate pattern

132: 미디어 패턴 몰드 140, 150, 240, 250: 가압롤러132: media pattern mold 140, 150, 240, 250: pressure roller

148,158,248,258: UV 경화장치 148,158,248,258: UV Curing Device

Claims (23)

소정 폭의 폴리머 필름의 하부에 제1 레진이 코팅된 마스터 몰드를 배치하는 제1 단계;Disposing a master mold coated with a first resin on a lower portion of the polymer film having a predetermined width; 상기 마스터 몰드를 상기 폴리머 필름에 압착하여 상기 폴리머 필름의 하부에 중간 패턴을 형성하는 제2 단계;Pressing the master mold onto the polymer film to form an intermediate pattern under the polymer film; 상기 중간 패턴이 형성된 폴리머 필름 하부에 제2 레진이 코팅된 미디어 기판을 배치하는 제3 단계; 및Placing a media substrate coated with a second resin on the lower portion of the polymer film having the intermediate pattern formed thereon; And 상기 제2 레진을 상기 중간 패턴에 압착시켜 상기 미디어 기판 상에 미디어 패턴을 형성하는 제4 단계를 포함하고,Compressing the second resin onto the intermediate pattern to form a media pattern on the media substrate, 상기 제4 단계는, 상기 미디어 기판과 상기 미디어 패턴용 레진 사이에 점착 프로모터(adhesion promoter)를 미리 도포하는 단계를 포함하는,The fourth step includes applying in advance an adhesion promoter between the media substrate and the resin for the media pattern. 임프린팅 방법.Imprinting method. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2 단계 및 제3 단계는 UV 선을 조사하는 단계를 포함하는,The second and third steps include irradiating UV rays, 임프린팅 방법.Imprinting method. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 단계는, 상기 마스터 몰드 상에 SAM (self assembled monolayer) 코팅을 형성하는 단계를 포함하는,The first step includes forming a self assembled monolayer (SAM) coating on the master mold, 임프린팅 방법. Imprinting method. 삭제delete 소정 폭의 폴리머 필름의 하부에 몰드용 UV 경화 레진이 도포된 복수의 마스터 몰드들을 배치하는 제1 단계;Disposing a plurality of master molds coated with a UV curing resin for a mold under a predetermined width of the polymer film; 상기 폴리머 필름 상에서 상기 마스터 몰드들 상으로 상기 폴리머 필름을 압착하는 제2 단계;Pressing the polymer film onto the master molds on the polymer film; 압착된 상기 몰드용 UV 경화 레진에 UV 선들을 조사하는 제3 단계;Irradiating UV rays to the UV cured resin for pressing; 상기 복수의 마스터 몰드들을 상기 폴리머 필름으로부터 이격시켜서 상기 폴리머 필름의 하부에 복수의 중간 패턴들을 형성하는 제4 단계;A fourth step of forming the plurality of intermediate patterns below the polymer film by separating the plurality of master molds from the polymer film; 상기 복수의 중간 패턴들 하부에 복수의 기판들을 배치하는 제5 단계 ― 상기 복수의 기판들은 자성막(magnetic film) 및 상기 자성막 위의 패턴용 UV 경화 레진으로 코팅됨 ―;Placing a plurality of substrates under the plurality of intermediate patterns, the plurality of substrates being coated with a magnetic film and a UV curable resin for patterning on the magnetic film; 상기 폴리머 필름 상에서 상기 복수의 기판들에 상기 폴리머 필름을 압착하는 제6 단계;Compressing the polymer film onto the plurality of substrates on the polymer film; 미디어 패턴용의 압착된 상기 UV 경화 레진에 UV 선을 조사하는 제7 단계; 및Irradiating UV rays to the compressed UV cured resin for a media pattern; And 상기 복수의 기판들을 상기 폴리머 필름으로부터 이격시키는 제8 단계를 포함하는,An eighth step of separating the plurality of substrates from the polymer film, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법.Nano imprinting method of patterned media. 제 5 항에 있어서, 6. The method of claim 5, 상기 제1 단계는, 상기 복수의 마스터 몰드들 상에 SAM (self assembled monolayer) 코팅을 형성하는 단계를 포함하는,The first step includes forming a self assembled monolayer (SAM) coating on the plurality of master molds. 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 5 항에 있어서, 6. The method of claim 5, 상기 제2 단계는, 상기 폴리머 필름의 폭 방향으로 압착롤러를 구동하는,The second step is to drive the pressing roller in the width direction of the polymer film, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 제3 단계는, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV 선을 조사하는,In the third step, sequentially irradiating UV rays along the driving direction of the pressing roller, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 8 항에 있어서, 9. The method of claim 8, 상기 제6 단계는, 상기 폴리머 필름의 폭 방향으로 압착롤러를 구동하는,The sixth step is to drive the pressing roller in the width direction of the polymer film, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 9 항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 제7 단계는, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV 선을 조사하는,In the seventh step, irradiating UV rays sequentially along the driving direction of the pressing roller, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 5 항에 있어서, 6. The method of claim 5, 상기 제2 단계는, 상기 폴리머 필름의 길이 방향으로 압착롤러를 구동하는, The second step, the driving roller in the longitudinal direction of the polymer film, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11, 상기 제3 단계는, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV 선을 조사하는,In the third step, sequentially irradiating UV rays along the driving direction of the pressing roller, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 12 항에 있어서, 13. The method of claim 12, 상기 제6 단계는, 상기 폴리머 필름의 길이 방향으로 압착롤러를 구동하는,The sixth step is to drive the pressing roller in the longitudinal direction of the polymer film, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 13 항에 있어서, 14. The method of claim 13, 상기 제7 단계는, 상기 압착롤러의 구동방향을 따라 순차적으로 UV 선을 조사하는,In the seventh step, irradiating UV rays sequentially along the driving direction of the pressing roller, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 5 항에 있어서, 6. The method of claim 5, 상기 제5 단계는, 상기 자성막과 미디어 패턴용의 상기 레진 사이에 점착 프로모터(adhesion promoter)를 미리 도포하는 단계를 더 포함하는,The fifth step further includes the step of applying in advance an adhesion promoter between the magnetic film and the resin for the media pattern. 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 제 5 항에 있어서, 6. The method of claim 5, 상기 제5 단계는, 상기 폴리머 필름을 상기 폴리머 필름의 길이방향으로 소정 거리 이동시킨 후 실시되는,The fifth step is performed after moving the polymer film a predetermined distance in the longitudinal direction of the polymer film, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 방법. Nano imprinting method of patterned media. 소정 폭의 폴리머 필름을 제1방향으로 이동시키는 폴리머 필름 이동수단;Polymer film moving means for moving a polymer film having a predetermined width in a first direction; 상기 폴리머 필름 상에 배치된 가압수단;Pressing means disposed on the polymer film; 상기 폴리머 필름의 하부에서 마스터 몰드 플레이트를 수직으로 이동하는 제1수직이동장치;A first vertical transfer device for vertically moving the master mold plate at the bottom of the polymer film; 상기 폴리머 필름의 하부에서 미디어 패턴 플레이트를 수직으로 이동시키는 제2수직이동장치;A second vertical moving device for vertically moving the media pattern plate below the polymer film; 상기 폴리머 필름 상으로 UV 선을 조사하는 UV 조사장치를 포함하고,A UV irradiation apparatus for irradiating UV rays onto the polymer film, 상기 가압수단은, Wherein the pressing means comprises: 상기 제1방향으로 또는 상기 제1방향과 직교하는 제2방향으로 설치된 제1 및 제2 리니어 가이드들; 및First and second linear guides installed in the first direction or in a second direction perpendicular to the first direction; And 상기 제1 및 제2 리니어 가이드들에, 회전축이 슬라이딩 가능하도록 각각 설치된 제1 및 제2 가압롤러들을 포함하는, In the first and second linear guides, comprising a first and second pressure rollers, respectively installed so that the rotation axis is slidable, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치. Nano imprinting device of patterned media. 제 17 항에 있어서, 18. The method of claim 17, 상기 제1수직이동장치 및 상기 제2수직이동장치는 하나의 수직이동장치에 포함되는,The first vertical moving device and the second vertical moving device are included in one vertical moving device, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치. Nano imprinting device of patterned media. 제 17 항에 있어서, 18. The method of claim 17, 상기 폴리머 필름 이동수단은, The polymer film moving means, 상기 폴리머 필름이 감겨져 있는 피동롤; 및 A driven roll on which the polymer film is wound; And 상기 피동롤로부터 상기 폴리머 필름을 당겨서 감는 구동롤을 구비하는,And a driving roll for pulling the polymer film from the driven roll. 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치. Nano imprinting device of patterned media. 삭제delete 제 17 항에 있어서, 18. The method of claim 17, 상기 UV 조사장치는, 상기 제1 및 제2 리니어 가이드들에 슬라이딩 가능하도록 각각 설치되어 상기 제1 및 제2 가압롤러들이 지나간 부분에 한정되게 UV 선을 조사하는 제1 UV 조사장치 및 제2 UV 조사장치를 포함하는,The UV irradiator is installed on the first and second linear guides so as to be slidable, respectively. Including the irradiation device, 패턴드 미디어의 나노 임프린팅 장치. 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