KR101387739B1 - Transparent resin composition and encapsulant formed using the same and electronec device including the encapsulant - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 제공한다:
[화학식 1]
*-Si-Ar-Si-*
상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다.
It provides a light transmitting resin composition comprising a polysiloxane having a moiety represented by the following formula (1):
[Chemical Formula 1]
* -Si-Ar-Si- *
In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group.

Description

투광성 수지 조성물, 상기 투광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 봉지재 및 상기 봉지재를 포함하는 전자 소자{TRANSPARENT RESIN COMPOSITION AND ENCAPSULANT FORMED USING THE SAME AND ELECTRONEC DEVICE INCLUDING THE ENCAPSULANT}TRANSPARENT RESIN COMPOSITION AND ENCAPSULANT FORMED USING THE SAME AND ELECTRONEC DEVICE INCLUDING THE ENCAPSULANT}

투광성 수지 조성물, 상기 투광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 봉지재 및 상기 봉지재를 포함하는 전자 소자에 관한 것이다.
The present invention relates to a light-transmissive resin composition, an encapsulant formed using the light-transmissive resin composition, and an electronic device including the encapsulant.

발광 다이오드(light emitting diode, LED), 태양전지(Solar cell), 유기 발광 장치(organic light emitting diode device, OLED device) 및 광 루미네선스(photoluminescence, PL) 등의 발광 및 반도체소자는 가정용 가전 제품, 조명 장치, 표시 장치 및 각종 자동화 기기 등의 다양한 분야에서 응용되고 있다. Light emitting diodes such as light emitting diodes (LEDs), solar cells, organic light emitting diode devices (OLED devices), and photoluminescence (PL) devices are used in home appliances. It is applied to various fields, such as a lighting apparatus, a display apparatus, and various automation devices.

이들 발광 소자는 발광체를 사용하여 청색, 적색 및 녹색과 같은 발광 물질의 고유의 색을 표시할 수 있으며 서로 다른 색을 표시하는 발광체를 조합하여 백색을 표시할 수도 있다. These light emitting devices may display inherent colors of light emitting materials such as blue, red, and green using light emitters, and may display white by combining light emitters displaying different colors.

이러한 발광 및 반도체 소자는 일반적으로 패키징(packaging) 또는 밀봉(encapsulation)된 구조로 제조된다. Such light emitting and semiconductor devices are generally manufactured in a packaged or encapsulated structure.

이러한 패키징 또는 밀봉 구조는 발광체로부터 방출된 빛이 외부로 통과할 수 있는 봉지재를 포함할 수 있으며, 이러한 봉지재는 투광성 수지 조성물로 만들어질 수 있다.
Such a packaging or sealing structure may include an encapsulant through which light emitted from the light emitter can pass, and the encapsulant may be made of a light transmitting resin composition.

본 발명의 일 측면은 투광성 수지 조성물을 제공한다.One aspect of the present invention provides a light transmitting resin composition.

본 발명의 다른 측면은 상기 투광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 봉지재를 제공한다.Another aspect of the invention provides an encapsulant formed using the light-transmissive resin composition.

본 발명의 또 다른 측면은 상기 봉지재를 포함하는 전자 소자를 제공한다.
Yet another aspect of the present invention provides an electronic device comprising the encapsulant.

본 발명의 일 측면에 따르면, 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a light transmitting resin composition comprising a polysiloxane having a moiety represented by the following Chemical Formula 1.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

*-Si-Ar-Si-** -Si-Ar-Si- *

상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다.In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group.

상기 폴리실록산은 하기 화학식 2a로 표현되는 부분, 하기 화학식 2b로 표현되는 부분, 그리고 하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The polysiloxane may include at least one of a moiety represented by Chemical Formula 2a, a moiety represented by Chemical Formula 2b, and a moiety represented by Chemical Formula 2c, Chemical Formula 2d, and Chemical Formula 2e.

[화학식 2a](2a)

(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b (OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b

[화학식 2b](2b)

R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

R3SiO(3-d)/2(ORIV)d R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d

[화학식 2d] (2d)

R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e

[화학식 2e][Formula 2e]

R6R7R8SiO1 /2 R 6 R 7 R 8 SiO 1 /2

상기 화학식 2a 내지 화학식 2e에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이다.In Formulas 2a to 2e, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, substituted Or an unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted A C2 to C10 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, a lactone group, a substituted or unsubstituted carboxyl group, a substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d is each independently 0-2, and c and e are each independently 0-1.

상기 폴리실록산은 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.The polysiloxane may be represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

(R6R7R8SiO1 /2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r (R 6 R 7 R 8 SiO 1/2) m [(OR I) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II) b] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r

상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이다.In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are 0 to 1, 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q <0.9 and 0 <R <0.9 and m + n + p + q + r = 1.

상기 폴리실록산은 상기 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 약 50중량% 이상으로 포함될 수 있다.The polysiloxane may be included in about 50% by weight or more based on the total content of the light transmitting resin composition.

상기 폴리실록산은 상기 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 약 50 내지 99.9중량%로 포함될 수 있다.The polysiloxane may be included in an amount of about 50 to 99.9% by weight based on the total content of the light transmitting resin composition.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻어진 봉지재를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an encapsulant obtained by curing a light-transmissive resin composition comprising a polysiloxane having a moiety represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

*-Si-Ar-Si-** -Si-Ar-Si- *

상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group

상기 폴리실록산은 하기 화학식 2a로 표현되는 부분, 하기 화학식 2b로 표현되는 부분, 그리고 하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The polysiloxane may include at least one of a moiety represented by Chemical Formula 2a, a moiety represented by Chemical Formula 2b, and a moiety represented by Chemical Formula 2c, Chemical Formula 2d, and Chemical Formula 2e.

[화학식 2a](2a)

(ORI)a O(3-a)/2Si- Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b (OR I ) a O (3-a) / 2 Si- Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b

[화학식 2b](2b)

R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

R3SiO(3-d)/2(ORIV)d R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d

[화학식 2d] (2d)

R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e

[화학식 2e][Formula 2e]

R6R7R8SiO1 /2 R 6 R 7 R 8 SiO 1 /2

상기 화학식 2a 내지 화학식 2e에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이다.In Formulas 2a to 2e, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, substituted Or an unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted A C2 to C10 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, a lactone group, a substituted or unsubstituted carboxyl group, a substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d is each independently 0-2, and c and e are each independently 0-1.

상기 폴리실록산은 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.The polysiloxane may be represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

(R6R7R8SiO1 /2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r (R 6 R 7 R 8 SiO 1/2) m [(OR I) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II) b] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r

상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이다.In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are each independently 0 to 1, and 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q < 0.9 and 0 ≦ r <0.9 and m + n + p + q + r = 1.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 발광 및 반도체 소자 및 상기 발광 소자를 둘러싸는 봉지재를 포함하고, 상기 봉지재는 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 전자 소자를 제공한다.According to another aspect of the invention, the light emitting and semiconductor device and the encapsulation material surrounding the light emitting device, the encapsulation material is obtained by curing the light-transmissive resin composition comprising a polysiloxane having a part represented by the formula (1) Provided is an element.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

*-Si-Ar-Si-** -Si-Ar-Si- *

상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다.In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group.

상기 폴리실록산은 하기 화학식 2a로 표현되는 부분, 하기 화학식 2b로 표현되는 부분, 그리고 하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The polysiloxane may include at least one of a moiety represented by Chemical Formula 2a, a moiety represented by Chemical Formula 2b, and a moiety represented by Chemical Formula 2c, Chemical Formula 2d, and Chemical Formula 2e.

[화학식 2a](2a)

(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b (OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b

[화학식 2b](2b)

R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

R3SiO(3-d)/2(ORIV)d R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d

[화학식 2d] (2d)

R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e

[화학식 2e][Formula 2e]

R6R7R8SiO1 /2 R 6 R 7 R 8 SiO 1 /2

상기 화학식 2a 내지 화학식 2e에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이다.In Formulas 2a to 2e, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, substituted Or an unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted A C2 to C10 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, a lactone group, a substituted or unsubstituted carboxyl group, a substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d is each independently 0-2, and c and e are each independently 0-1.

상기 폴리실록산은 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.The polysiloxane may be represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

(R6R7R8SiO1 /2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r (R 6 R 7 R 8 SiO 1/2) m [(OR I) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II) b] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r

상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이다.In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are 0 to 1, 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q <0.9 and 0 <R <0.9 and m + n + p + q + r = 1.

상기 전자 소자는 발광 다이오드, 유기 발광 소자, 태양 전지 및 광 루미네선스를 포함할 수 있다.
The electronic device may include a light emitting diode, an organic light emitting device, a solar cell, and an optical luminescence.

분자량, 점도, 비닐 함량 및 경도(hardness)를 용이하게 조절할 수 있다.
The molecular weight, viscosity, vinyl content and hardness can be easily controlled.

이하, 본 발명의 구현예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, '치환된' 이란, 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl, 또는 I), 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise defined herein, "substituted" means that a hydrogen atom in a compound is a halogen atom (F, Br, Cl, or I), a hydroxyl group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or Salt, alkyl group, C2 to C16 alkenyl group, C2 to C16 alkynyl group, aryl group, C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, Substituted by a substituent selected from a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group of C3 to C15, a cycloalkynyl group of C6 to C15, a heterocycloalkyl group and a combination thereof.

또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, '헤테로'란 O의 헤테로 원자를 1 내지 3개 함유한 것을 의미한다.In addition, unless otherwise defined herein, "hetero" means containing 1 to 3 heteroatoms of O.

이하 투광성 수지 조성물에 대하여 설명한다.Hereinafter, the light transmitting resin composition will be described.

본 발명의 일 구현예에 따른 투광성 수지 조성물은 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함한다.The light transmissive resin composition according to the embodiment of the present invention includes a polysiloxane having a moiety represented by the following Chemical Formula 1.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

*-Si-Ar-Si-** -Si-Ar-Si- *

상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다.In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group.

상기 폴리실록산은 하기 화학식 2a로 표현되는 부분; 하기 화학식 2b로 표현되는 부분; 그리고 하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The polysiloxane is a part represented by the formula (2a); A moiety represented by the following Chemical Formula 2b; And at least one of the moieties represented by Formula 2c, Formula 2d, and Formula 2e.

[화학식 2a](2a)

(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b (OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b

[화학식 2b](2b)

R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

R3SiO(3-d)/2(ORIV)d R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d

[화학식 2d] (2d)

R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e

[화학식 2e][Formula 2e]

R6R7R8SiO1 /2 R 6 R 7 R 8 SiO 1 /2

상기 화학식 2a 내지 화학식 2e에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이다.In Formulas 2a to 2e, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, substituted Or an unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted A C2 to C10 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, a lactone group, a substituted or unsubstituted carboxyl group, a substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d is each independently 0-2, and c and e are each independently 0-1.

상기 폴리실록산은 예컨대 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.The polysiloxane may be, for example represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

(R6R7R8SiO1 /2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r (R 6 R 7 R 8 SiO 1/2) m [(OR I) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II) b] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r

상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이다.In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are each independently 0 to 1, and 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q < 0.9 and 0 ≦ r <0.9 and m + n + p + q + r = 1.

상기 폴리실록산은 아릴렌기를 가지는 실릴 모노머와 실리콘 모노머를 중합하여 얻어질 수 있다.The polysiloxane may be obtained by polymerizing a silyl monomer having an arylene group and a silicone monomer.

아릴렌기를 가지는 실릴 모노머는 예컨대 하기 화학식 4로 표현될 수 있다.The silyl monomer having an arylene group may be represented by, for example, the following formula (4).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

(X1)3-Si-Ar-Si-(X2)3 (X 1 ) 3 -Si-Ar-Si- (X 2 ) 3

상기 화학식 4에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이고, X1은 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알콕시기, 히드록시기, 할로겐기, 카르복실기 및 이들의 조합에서 선택된 하나이고, X2는 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알콕시기, 히드록시기, 할로겐기, 카르복실기 및 이들의 조합에서 선택된 하나이다.In Formula 4, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group, X 1 is each independently selected from C1 to C6 alkoxy group, hydroxy group, halogen group, carboxyl group and combinations thereof, X 2 is each Independently one selected from a C1 to C6 alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen group, a carboxyl group and a combination thereof.

실리콘 모노머는 예컨대 하기 화학식 5, 하기 화학식 6 및 하기 화학식 7로 표현되는 화합물 중에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.The silicone monomer may be at least one selected from compounds represented by the following Chemical Formula 5, the following Chemical Formula 6, and the following Chemical Formula 7, for example.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

SiX3X4R14R15 SiX 3 X 4 R 14 R 15

[화학식 6][Chemical Formula 6]

SiX5X6X7R16 SiX 5 X 6 X 7 R 16

[화학식 7][Formula 7]

SiX8X9X10X11 SiX 8 X 9 X 10 X 11

상기 화학식 5 내지 화학식 7에서, R14 내지 R16은 각각 규소에 결합되어 있으며 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C6의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20의 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C6의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, X3 내지 X11은 각각 규소에 결합되어 있으며 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알콕시기, 히드록시기, 할로겐기, 카르복실기 및 이들의 조합에서 선택된 하나이다.In Formulas 5 to 7, R 14 to R 16 are each bonded to silicon, and each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or Unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C7 to C20 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C20 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkoxy group, a substituted or unsubstituted carbonyl group, a hydroxy group or a combination thereof, X 3 to X 11 is each bonded to silicon and is each independently selected from a C1 to C6 alkoxy group, a hydroxy group, a halogen group, a carboxyl group, and a combination thereof.

상기 아릴렌기를 가지는 실릴 모노머와 실리콘 모노머는 각각 약 0.01 내지 20중량% 및 약 80 내지 99.9 중량%로 포함될 수 있다.The silyl monomer and the silicon monomer having the arylene group may be included in about 0.01 to 20% by weight and about 80 to 99.9% by weight, respectively.

상기 모노머들을 중합할 때, 말단 보호제(end capping reagent)를 더 포함할 수 있다. 말단 보호제는 실리콘 화합물일 수 있으며, 예컨대 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane), 클로로디메틸비닐실란(chlorodimethylvinylsilane) 일 수 있다.When the monomers are polymerized, an end capping reagent may be further included. The terminal protecting agent may be a silicone compound, for example 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, chlorodimethylvinylsilane.

상기 폴리실록산의 평균중량분자량은 약 800 내지 100,000 g/mol일 수 있으며, 그 중에서 약 3,000 내지 15,000 g/mol 일 수 있다.The average weight molecular weight of the polysiloxane may be about 800 to 100,000 g / mol, of which may be about 3,000 to 15,000 g / mol.

상기 폴리실록산은 상기 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 약 50중량% 이상으로 포함될 수 있으며, 그 중에서 약 50 내지 99.9중량%로 포함될 수 있다.The polysiloxane may be included in about 50% by weight or more based on the total content of the light-transmissive resin composition, and may be included in about 50 to 99.9% by weight.

상기 봉지재용 투광성 수지 조성물은 상기 폴리실록산 외에 수소규소화 (hydrosilylation) 촉매를 더 포함할 수 있다.The transparent resin composition for the encapsulant may further include a hydrosilylation catalyst in addition to the polysiloxane.

수소규소화 촉매는 예컨대 백금, 로듐, 팔라듐, 루테늄, 이리듐 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.Hydrogensilicon catalysts may include, for example, platinum, rhodium, palladium, ruthenium, iridium or combinations thereof.

수소규소화 촉매는 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 약 0.1ppm 내지 1000ppm 으로 포함될 수 있다.Hydrogensilicon catalyst may be included in about 0.1ppm to 1000ppm relative to the total content of the light-transmissive resin composition.

상기 투광성 수지 조성물은 하기 화학식 8로 표현되는 폴리오가노실록산(polyorganosiloxane)을 더 포함할 수 있다. The light transmitting resin composition may further include a polyorganosiloxane represented by the following Formula 8.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

(R17R18R19SiO1 /2)M1(R20R21SiO2 /2)D1(R22SiO3 /2)T1(SiO4 /2)Q1 (R 17 R 18 R 19 SiO 1/2) M1 (R 20 R 21 SiO 2/2) D1 (R 22 SiO 3/2) T1 (SiO 4/2) Q1

R17 내지 R22는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C6 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C20 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C6 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, 0<M1<1, 0≤D1<1, 0≤T1<1, 0≤Q1<1이고 M1+D1+T1+Q1=1이다. 여기서 M1, D1, T1 및 Q1은 각각 몰비이다.R 17 to R 22 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C1 to C6 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a substituted or unsubstituted C7 to C20 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C20 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, substituted Or an unsubstituted C1 to C6 alkoxy group, a substituted or unsubstituted carbonyl group, a hydroxy group, or a combination thereof, 0 <M1 <1, 0≤D1 <1, 0≤T1 <1, 0≤Q1 <1 and M1 + D1 + T1 + Q1 = 1. Wherein M1, D1, T1 and Q1 are each molar ratios.

상기 폴리오가노실록산은 상기 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 약 50중량% 미만으로 포함될 수 있다.The polyorganosiloxane may be included in less than about 50% by weight based on the total content of the light transmitting resin composition.

상기 투광성 수지 조성물은 상술한 성분 위에 점착 증진제(adhesion promoter)를 더 포함할 수 있으며, 점착 증진제는 예컨대 글리시독시프로필트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 글리시독시프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.The light-transmissive resin composition may further include an adhesion promoter on the above-described component, and the adhesion promoter may be, for example, glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, glycidoxypropyltriethoxysilane, or the like. Can be mentioned.

본 발명의 다른 측면은 상술한 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻어진 봉지재를 제공한다. Another aspect of the present invention provides a sealing material obtained by curing the above-mentioned light-transmissive resin composition.

봉지재는 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻을 수 있다. The encapsulant can be obtained by curing the light-transmissive resin composition comprising a polysiloxane having a moiety represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

*-Si-Ar-Si-** -Si-Ar-Si- *

상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group

상기 폴리실록산은 전술한 바와 같이 하기 화학식 2a로 표현되는 부분; 하기 화학식 2b로 표현되는 부분; 그리고 하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The polysiloxane is a moiety represented by Chemical Formula 2a as described above; A moiety represented by the following Chemical Formula 2b; And at least one of the moieties represented by Formula 2c, Formula 2d, and Formula 2e.

[화학식 2a](2a)

(ORI)a O (3-a)/2Si - Ar - SiO (3-b)/2(ORII)b (OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b

[화학식 2b](2b)

R1R2SiO (2-c)/2(ORIII)c R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

R3SiO (3-d)/2(ORIV)d R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d

[화학식 2d](2d)

R4R5SiO (2-e)/2(ORV)e R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e

[화학식 2e][Formula 2e]

R6R7R8SiO1 /2 R 6 R 7 R 8 SiO 1 /2

상기 폴리실록산은 예컨대 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.The polysiloxane may be, for example represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

(R6R7R8SiO1 /2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r (R 6 R 7 R 8 SiO 1/2) m [(OR I) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II) b] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r

상기 화학식 2a 내지 2e 및 화학식 3에서, RI 내지 RV, R1 내지 R8, a,b,c,d,e,m,n,p,q 및 r의 정의는 전술한 바와 같다.In Formulas 2a to 2e and 3, R I to R V , R 1 To R 8 , a, b, c, d, e, m, n, p, q and r are as defined above.

본 발명의 또 다른 측면은 발광 소자, 반도체 소자 및 상기 발광 소자를 둘러싸는 봉지재를 포함하는 전자 소자를 제공한다.Another aspect of the invention provides an electronic device comprising a light emitting device, a semiconductor device and an encapsulant surrounding the light emitting device.

상기 봉지재는 상술한 바와 같이 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻어질 수 있다.The encapsulant may be obtained by curing a light-transmissive resin composition comprising a polysiloxane having a moiety represented by Formula 1 as described above.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

*-Si-Ar-Si-** -Si-Ar-Si- *

상기 화학식 1에서, Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이다.In Formula 1, Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group.

상기 폴리실록산은 전술한 바와 같이 하기 화학식 2a로 표현되는 부분; 하기 화학식 2b로 표현되는 부분; 그리고 하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The polysiloxane is a moiety represented by Chemical Formula 2a as described above; A moiety represented by the following Chemical Formula 2b; And at least one of the moieties represented by Formula 2c, Formula 2d, and Formula 2e.

[화학식 2a](2a)

(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b (OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b

[화학식 2b](2b)

R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

R3SiO(3-d)/2(ORIV)d R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d

[화학식 2d] (2d)

R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e

[화학식 2e][Formula 2e]

R6R7R8SiO1 /2 R 6 R 7 R 8 SiO 1 /2

상기 폴리실록산은 예컨대 하기 화학식 3으로 표현될 수 있다.The polysiloxane may be, for example represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

(R6R7R8SiO1 /2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r (R 6 R 7 R 8 SiO 1/2) m [(OR I) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II) b] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r

상기 화학식 2a 내지 2e 및 화학식 3에서, RI 내지 RV, R1 내지 R8, a,b,c,d,e,m,n,p,q 및 r은 전술한 바와 같다.In Formulas 2a to 2e and 3, R I to R V , R 1 to R 8 , a, b, c, d, e, m, n, p, q and r are as described above.

여기서 전자 소자는 예컨대 발광 다이오드, 유기 발광 장치, 광 루미네선스 및 태양 전지를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
The electronic device may include, for example, a light emitting diode, an organic light emitting device, an optical luminescence, and a solar cell, but is not limited thereto.

이하, 실시예를 통하여 상술한 본 발명의 구현예를 보다 상세하게 설명한다. 다만 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것이며 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to embodiments. The following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the invention.

폴리실록산의Polysiloxane 합성 synthesis

합성예Synthetic example 1 One

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1822.5g (9.998 mole) 및 1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠(1,4-bis(triethoxysilyl)benzene) 0.84g(0.002 mole)을 넣었다. 여기에 TMAH(tetramethylammonium hydroxide) 0.46g(0.005 mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 180g(10mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 372.8g(2mole) 및 황산(95-98%) 10g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1822.5 g (9.998 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene (1,4-bis) at room temperature (25 ° C.) in a 3 L reactor equipped with a stirrer, condenser and funnel 0.84 g (0.002 mole) of (triethoxysilyl) benzene) was added thereto. To this was added 0.46 g (0.005 mole) (25% solution diluted in water) of tetramethylammonium hydroxide (TMAH) with stirring over 10 minutes. The mixture was then heated to 50 ° C. and 180 g (10 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo and 372.8 g (2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 10 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 중합체의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 9와 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polymer was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 9, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

(SiO3 /2-Ph-SiO3 /2)0.002(MePhSiO2 /2)0.955(ViMe2SiO1 /2)0.043
(SiO 3/2 -Ph-SiO 3/2) 0.002 (MePhSiO 2/2) 0.955 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.043

합성예Synthetic example 2 2

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1821.9g (9.995mole) 및 1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠 2.1g(0.005mole)을 넣었다. 여기에 TMAH 0.46g(0.005mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 180g(10mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 372.8g(2mole) 및 황산(95-98%) 10g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1821.9 g (9.995 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 2.1 g (0.005 mole) of 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene at room temperature (25 ° C.) in a 3 L reactor equipped with a stirrer, condenser and funnel Put it. To this was added 0.46 g (0.005 mole) TMAH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 180 g (10 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo and 372.8 g (2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 10 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 10과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 10, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 10] [Chemical formula 10]

(SiO3 /2-Ph-SiO3 /2)0.005(MePhSiO2 /2)0.95(ViMe2SiO1 /2)0.045
(SiO 3/2 -Ph-SiO 3/2) 0.005 (MePhSiO 2/2) 0.95 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.045

합성예Synthetic example 3 3

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1821.0g (9.99mole) 및 1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠 4.2g(0.01mole)을 넣었다. 여기에 TMAH 0.46g(0.005mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 180g(10mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 372.8g(2mole) 및 황산(95-98%) 10g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1821.0 g (9.99 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 4.2 g (0.01 mole) of 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene in a 3 L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) Put it. To this was added 0.46 g (0.005 mole) TMAH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 180 g (10 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo and 372.8 g (2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 10 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 11과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 11, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 11] (11)

(SiO3 /2-Ph-SiO3 /2)0.01(MePhSiO2 /2)0.939(ViMe2SiO1 /2)0.051
(SiO 3/2 -Ph-SiO 3/2) 0.01 (MePhSiO 2/2) 0.939 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.051

합성예Synthetic example 4 4

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1820.0g (9.985mole) 및 1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠 6.3g(0.015mole)을 넣었다. 여기에 TMAH 0.46g(0.005mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 180g(10mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 372.8g(2mole) 및 황산(95-98%) 10g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1820.0 g (9.985 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 6.3 g (0.015 mole) of 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene in a 3 L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) Put it. To this was added 0.46 g (0.005 mole) TMAH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 180 g (10 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo and 372.8 g (2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 10 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 12와 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 12, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 12] [Chemical Formula 12]

(SiO3 /2-Ph-SiO3 /2)0.014(MePhSiO2 /2)0.94(ViMe2SiO1 /2)0.046
(SiO 3/2 -Ph-SiO 3/2) 0.014 (MePhSiO 2/2) 0.94 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.046

합성예Synthetic example 5 5

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1093.0g (6.00mole) 및 1,4-비스(트리메톡시실릴에틸)벤젠 5.82g(0.015mole)을 넣었다. 여기에 KOH(potassium hydroxide) 0.17g(0.003mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 108g(6.02mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 226.8g(1.2mole) 및 황산(95-98%) 6g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1093.0 g (6.00 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 5.82 g (0.015 mole) of 1,4-bis (trimethoxysilylethyl) benzene in a 3 L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) ). To this was added 0.17 g (0.003 mole) (25% solution diluted in water) of KOH (potassium hydroxide) with stirring over 10 minutes. The mixture was then heated to 50 ° C. and 108 g (6.02 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo, and then 226.8 g (1.2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 6 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 13과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 13, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 13] [Chemical Formula 13]

(SiO3 /2CH2-Ph-CH2SiO3 /2)0.002(MePhSiO2 /2)0.95(ViMe2SiO1 /2)0.048
(SiO 3/2 CH 2 -Ph -CH 2 SiO 3/2) 0.002 (MePhSiO 2/2) 0.95 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.048

합성예Synthetic example 6 6

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1093.0g (6.00mole) 및 1,4-비스(트리메톡시실릴에틸)벤젠 11.24g(0.03mole)을 넣었다. 여기에 KOH 0.17g(0.003mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 108g(6.02mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 226.8g(1.2mole) 및 황산(95-98%) 6g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1093.0 g (6.00 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 11.24 g (0.03 mole) of 1,4-bis (trimethoxysilylethyl) benzene in a 3 L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) ). To this was added 0.17 g (0.003 mole) of KOH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 108 g (6.02 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo, and then 226.8 g (1.2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 6 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 14와 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 14, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 14] [Chemical Formula 14]

(SiO3 /2CH2-Ph-CH2SiO3 /2)0.005(MePhSiO2 /2)0.955(ViMe2SiO1 /2)0.04
(SiO 3/2 CH 2 -Ph -CH 2 SiO 3/2) 0.005 (MePhSiO 2/2) 0.955 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.04

합성예Synthetic example 7 7

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1093.0g (6.00mole) 및 1,4-비스(트리메톡시실릴에틸)벤젠 22.47g(0.06mole)을 넣었다. 여기에 KOH 0.17g(0.003mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 108g(6.02mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 226.8g(1.2mole) 및 황산(95-98%) 6g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1093.0 g (6.00 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 22.47 g (0.06 mole) of 1,4-bis (trimethoxysilylethyl) benzene in a 3L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) ). To this was added 0.17 g (0.003 mole) of KOH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 108 g (6.02 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo, and then 226.8 g (1.2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 6 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 15와 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 15, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 15] [Chemical Formula 15]

(SiO3 /2CH2-Ph-CH2SiO3 /2)0.01(MePhSiO2 /2)0.945(ViMe2SiO1 /2)0.045
(SiO 3/2 CH 2 -Ph -CH 2 SiO 3/2) 0.01 (MePhSiO 2/2) 0.945 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.045

합성예Synthetic example 8 8

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1093.0g (6.00mole) 및 1,4-비스(트리메톡시실릴에틸)벤젠 33.71g(0.09mole)을 넣었다. 여기에 KOH 0.17g(0.003mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 108g(6.02mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 226.8g(1.2mole) 및 황산(95-98%) 6g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1093.0 g (6.00 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 33.71 g (0.09 mole) of 1,4-bis (trimethoxysilylethyl) benzene in a 3 L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) ). To this was added 0.17 g (0.003 mole) of KOH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 108 g (6.02 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo, and then 226.8 g (1.2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 6 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 16과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 16, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 16] [Chemical Formula 16]

(SiO3 /2CH2-Ph-CH2SiO3 /2)0.014(MePhSiO2 /2)0.936(ViMe2SiO1 /2)0.05
(SiO 3/2 CH 2 -Ph -CH 2 SiO 3/2) 0.014 (MePhSiO 2/2) 0.936 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.05

합성예Synthetic example 9 9

교반기, 응축기 및 깔대기를 구비한 3L 반응기에 실온(25℃)에서 페닐메틸디메톡시실란(phenylmethyldimethoxysilane) 1093.0g (6.00mole) 및 1,4-비스(트리메톡시실릴에틸)벤젠 44.95g(0.12mole)을 넣었다. 여기에 KOH 0.17g(0.003mole)(물에 희석된 25% 용액)을 10분에 걸쳐 교반하면서 넣었다. 이어서 혼합물을 50℃로 가열하고 120분에 걸쳐 물 108g(6.02mole)을 넣었다. 이어서 혼합물을 5시간 동안 65℃로 가열한 후 실온으로 냉각하였다. 상기 결과물을 아세트산으로 중화하고 물로 세정하였다. 생성된 중합체를 진공에서 건조한 후 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(1,3-divinyltetramethyldisiloxane) 226.8g(1.2mole) 및 황산(95-98%) 6g을 넣고 실온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서 혼합물을 물로 세정하고 휘발물을 제거하여 감압 하에서 중합체를 얻었다.1093.0 g (6.00 mole) of phenylmethyldimethoxysilane and 44.95 g (0.12 mole) of 1,4-bis (trimethoxysilylethyl) benzene in a 3 L reactor equipped with a stirrer, a condenser and a funnel at room temperature (25 ° C.) ). To this was added 0.17 g (0.003 mole) of KOH (25% solution diluted in water) over 10 minutes with stirring. The mixture was then heated to 50 ° C. and 108 g (6.02 mole) of water was added over 120 minutes. The mixture was then heated to 65 ° C. for 5 hours and then cooled to room temperature. The result was neutralized with acetic acid and washed with water. The resulting polymer was dried in vacuo, and then 226.8 g (1.2 mole) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane and 6 g of sulfuric acid (95-98%) were added and stirred at room temperature for 12 hours. The mixture was then washed with water and volatiles removed to give a polymer under reduced pressure.

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 17과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is as shown in Formula 17, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 17] [Chemical Formula 17]

(SiO3 /2CH2-Ph-CH2SiO3 /2)0.02(MePhSiO2 /2)0.935(ViMe2SiO1 /2)0.045
(SiO 3/2 CH 2 -Ph -CH 2 SiO 3/2) 0.02 (MePhSiO 2/2) 0.935 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.045

비교합성예Comparative Synthetic Example 1 One

1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠을 사용하지 않고 페닐메틸디메톡시실란 및 디비닐테트라메틸디실록산을 96.9:3.1 몰비로 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 폴리실록산을 제조하였다.Polysiloxane was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1, except that phenylmethyldimethoxysilane and divinyltetramethyldisiloxane were used in a molar ratio of 96.9: 3.1 without using 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene. .

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 18과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 18, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 18] [Chemical Formula 18]

(MePhSiO2 /2)0.969(ViMe2SiO1 /2)0.031
(MePhSiO 2/2) 0.969 ( ViMe 2 SiO 1/2) 0.031

비교합성예Comparative Synthetic Example 2 2

1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠을 사용하지 않고 페닐메틸디메톡시실란 및 디비닐테트라메틸디실록산을 97.3:2.7 몰비로 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 폴리실록산을 제조하였다.Polysiloxane was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1, except that phenylmethyldimethoxysilane and divinyltetramethyldisiloxane were used in a 97.3: 2.7 molar ratio without using 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene. .

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 19와 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is as shown in Formula 19, where Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 19] [Chemical Formula 19]

(MePhSiO2 /2)0.973(ViMe2SiO1 /2)0.027
(MePhSiO 2/2) 0.973 ( ViMe 2 SiO 1/2) 0.027

비교합성예Comparative Synthetic Example 3 3

1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠을 사용하지 않고 페닐메틸디메톡시실란 및 디비닐테트라메틸디실록산을 97.6:2.4 몰비로 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 폴리실록산을 제조하였다.Polysiloxane was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that phenylmethyldimethoxysilane and divinyltetramethyldisiloxane were used in a molar ratio of 97.6: 2.4 without using 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene. .

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 20과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is shown in Formula 20, wherein Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 20] [Chemical Formula 20]

(MePhSiO2 /2)0.976(ViMe2SiO1 /2)0.024
(MePhSiO 2/2) 0.976 ( ViMe 2 SiO 1/2) 0.024

비교합성예Comparative Synthetic Example 4 4

1,4-비스(트리에톡시실릴)벤젠을 사용하지 않고 페닐메틸디메톡시실란 및 디비닐테트라메틸디실록산을 98.0:2.0 몰비로 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 폴리실록산을 제조하였다.Polysiloxane was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that phenylmethyldimethoxysilane and divinyltetramethyldisiloxane were used in a 98.0: 2.0 molar ratio without using 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene. .

H-NMR, Si-NMR 및 원소분석기를 사용하여 상기 폴리실록산의 구조를 확인하였다. 구조는 화학식 21과 같으며, 여기서 Me는 메틸기, Ph는 페닐기, Vi는 비닐기, Si는 실리콘, O는 산소를 가리킨다.The structure of the polysiloxane was confirmed using H-NMR, Si-NMR and elemental analyzer. The structure is as shown in Formula 21, where Me is methyl, Ph is phenyl, Vi is vinyl, Si is silicon, and O is oxygen.

[화학식 21] [Chemical Formula 21]

(MePhSiO2 /2)0.980(ViMe2SiO1 /2)0.020
(MePhSiO 2/2) 0.980 ( ViMe 2 SiO 1/2) 0.020

폴리실록산의Polysiloxane 물성 Properties

합성예 1 내지 9와 비교합성예 1 내지 4에 따른 폴리실록산의 분자량, 점도 및 구조 내 비닐기 함유율을 측정하였다. 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography)를 사용하여 측정하였으며, 점도는 브룩필드 점도계(Brookfield viscometer)를 사용하여 측정하였으며, 구조 내 비닐기 당량은 1H NMR을 사용하여 측정하였다.The molecular weight, viscosity, and vinyl group content in the structures of the polysiloxanes according to Synthesis Examples 1 to 9 and Comparative Synthesis Examples 1 to 4 were measured. The molecular weight was measured using gel permeation chromatography, the viscosity was measured using a Brookfield viscometer, and the vinyl group equivalent in the structure was measured using 1 H NMR.

결과는 표 1과 같다.The results are shown in Table 1.

분자량(Mw)Molecular Weight (Mw) 점도(25℃, cP)Viscosity (25 ° C, cP) 비닐기 당량
(mmol/g)
Vinyl equivalent
(mmol / g)
합성예 1Synthesis Example 1 7,7097,709 7,7427,742 0.510.51 합성예 2Synthesis Example 2 8,2388,238 9,9639,963 0.530.53 합성예 3Synthesis Example 3 9,4629,462 11,32711,327 0.600.60 합성예 4Synthesis Example 4 11,16111,161 14,47014,470 0.540.54 합성예 5Synthesis Example 5 5,0575,057 3,2053,205 0.560.56 합성예 6Synthesis Example 6 6,1956,195 6,3906,390 0.470.47 합성예 7Synthesis Example 7 7,1777,177 8,1008,100 0.530.53 합성예 8Synthesis Example 8 8,1338,133 8,9008,900 0.590.59 합성예 9Synthesis Example 9 10,94510,945 19,05319,053 0.540.54 비교합성예 1Comparative Synthesis Example 1 7,0007,000 6,0006,000 0.2860.286 비교합성예 2Comparative Synthesis Example 2 8,0008,000 7,2007,200 0.2500.250 비교합성예 3Comparative Synthesis Example 3 9,0009,000 8,5008,500 0.2220.222 비교합성예 4Comparative Synthesis Example 4 11,00011,000 10,00010,000 0.1820.182

표 1을 참고하면, 합성예 1 내지 9에 따른 폴리실록산은 분자량에 관계없이 비닐기 당량이 일정한데 반해, 비교합성예 1 내지 4에 따른 폴리실록산은 분자량이 커질수록 비닐기 당량이 변하는 것을 알 수 있다. 따라서 합성예 1 내지 4에 따른 폴리실록산은 분자량에 관계없이 비닐기 당량을 일정하게 유지할 수 있으며 이에 따라 점도도 용이하게 조절할 수 있음을 알 수 있다.
Referring to Table 1, polysiloxanes according to Synthesis Examples 1 to 9 have a constant vinyl group equivalent regardless of molecular weight, whereas polysiloxanes according to Comparative Synthesis Examples 1 to 4 show that vinyl group equivalents change as the molecular weight increases. . Therefore, it can be seen that the polysiloxane according to Synthesis Examples 1 to 4 can maintain the vinyl group equivalent constant regardless of molecular weight, and thus the viscosity can be easily adjusted.

투광성Translucency 수지 조성물 제조 - 1 Resin Composition Preparation-1

실시예Example 1 One

합성예 1에 따른 폴리실록산 90중량부 및 비닐 보호된 폴리페닐실세스퀴옥산(vinyl capped polyphenylsilsequioxane)(비닐기 함량 1.000mmol/g) 10중량부를 배합하고, 수소 대 비닐기 비율(H/Vi)을 1로 유지하도록 수소 보호된 폴리페닐메틸실록산(hydrogen capped polyphenylmethylsiloxane)(수소 함량 5.0 mmol/g)을 첨가하였다. 이후 진공으로 탈포하여 액상의 수지 조성물을 제조하였다.90 parts by weight of polysiloxane according to Synthesis Example 1 and 10 parts by weight of vinyl-protected polyphenylsilsequioxane (vinyl group content of 1.000 mmol / g) were blended, and hydrogen to vinyl group ratio (H / Vi) was added. Hydrogen capped polyphenylmethylsiloxane (hydrogen content 5.0 mmol / g) was added to maintain 1. After degassing in vacuum to prepare a liquid resin composition.

실시예Example 2 2

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 합성예 2에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Synthesis Example 2 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

실시예Example 3 3

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 합성예 3에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Synthesis Example 3 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

실시예Example 4 4

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 합성예 4에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Synthesis Example 4 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 1 One

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 1에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 1 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 2 2

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 2에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 2 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 3 3

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 3에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 3 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 4 4

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 4에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 4 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

투광성Translucency 수지 조성물의 물성 - 1 Physical Properties of Resin Compositions-1

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 따른 수지 조성물에서 수소 대 비닐기 비율(H/Vi)을 1로 유지하도록 첨가된 수소 보호된 폴리페닐메틸실록산(HC-PS)의 첨가량은 표 2와 같다.In the resin compositions according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, the amount of hydrogen-protected polyphenylmethylsiloxane (HC-PS) added to maintain the hydrogen to vinyl group ratio (H / Vi) at 1 is shown in Table 2 Same as

HC-PS (중량부)HC-PS (part by weight) 실시예 1Example 1 8.038.03 실시예 2Example 2 8.038.03 실시예 3Example 3 8.038.03 실시예 4Example 4 8.038.03 비교예 1Comparative Example 1 7.157.15 비교예 2Comparative Example 2 6.506.50 비교예 3Comparative Example 3 6.006.00 비교예 4Comparative Example 4 5.285.28

또한 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 따른 수지 조성물의 경도 및 점도는 표 3과 같다. 여기서 경도는 우에시마 브룩스 경도계로 측정하였고, 점도는 브룩필드 점도계를 사용하여 측정하였다.In addition, the hardness and viscosity of the resin composition according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 3. The hardness was measured using a Ueshima Brooks hardness tester, and the viscosity was measured using a Brookfield viscometer.

경도(Shore A)Hardness (Shore A) 점도(cP)Viscosity (cP) 실시예 1Example 1 5050 15001500 실시예 2Example 2 5050 18501850 실시예 3Example 3 5151 21302130 실시예 4Example 4 5151 24202420 비교예 1Comparative Example 1 4848 17001700 비교예 2Comparative Example 2 4343 18001800 비교예 3Comparative Example 3 4141 18201820 비교예 4Comparative Example 4 3939 20002000

표 2 및 표 3에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 4에 따른 수지 조성물은 수소 대 비닐기 비율(H/Vi)을 1로 유지하는 경우 첨가되는 수소 보호된 폴리페닐메틸실록산의 함량이 일정한 반면, 비교예 1 내지 4에 따른 수지 조성물은 첨가되는 수소 보호된 폴리페닐메틸실록산의 함량이 줄어드는 것을 알 수 있다. 또한 실시예 1 내지 4에 따른 수지 조성물은 경도가 거의 일정하고 점도가 거의 일정하게 상승하는데 반해 비교예 1 내지 4에 따른 수지 조성물은 경도가 떨어지고 점도의 상승 또한 일정하지 않음을 알 수 있다. As shown in Tables 2 and 3, the resin compositions according to Examples 1-4 had a constant content of hydrogen-protected polyphenylmethylsiloxane added when the hydrogen to vinyl group ratio (H / Vi) was kept at 1 , The resin composition according to Comparative Examples 1 to 4 can be seen that the content of the hydrogen-protected polyphenylmethylsiloxane is reduced. In addition, the resin compositions according to Examples 1 to 4 have a nearly constant hardness and a nearly constant rise in viscosity, whereas the resin compositions according to Comparative Examples 1 to 4 have a low hardness and a rise in viscosity is also not constant.

이에 따라 실시예들에 따른 수지 조성물은 점도를 조절할 수 있는 반면, 비교예들에 따른 수지 조성물은 점도 조절이 용이하지 않음을 알 수 있다.
Accordingly, it can be seen that the resin composition according to the embodiments can adjust the viscosity, whereas the resin composition according to the comparative examples is not easy to adjust the viscosity.

투광성Translucency 수지 조성물 제조 - 2 Resin Composition Preparation-2

실시예Example 5 5

합성예 1에 따른 폴리실록산 90중량부, 비닐 보호된 폴리페닐실세스퀴옥산(비닐기 함량 1.000mmol/g) 10중량부 및 수소 보호된 폴리페닐메틸실록산(수소 함량 5.0 mmol/g) 8.03 중량부를 배합한 후 진공으로 탈포하여 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
90 parts by weight of polysiloxane according to Synthesis Example 1, 10 parts by weight of vinyl-protected polyphenylsilsesquioxane (vinyl group content 1.000 mmol / g) and 8.03 parts by weight of hydrogen-protected polyphenylmethylsiloxane (hydrogen content 5.0 mmol / g) After blending, defoaming was performed in vacuo to prepare a liquid resin composition.

실시예Example 6 6

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 합성예 2에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5, except that polysiloxane according to Synthesis Example 2 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

실시예Example 7 7

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 합성예 3에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5 except that the polysiloxane according to Synthesis Example 3 was used instead of the polysiloxane according to Synthesis Example 1.

실시예Example 8 8

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 합성예 4에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5, except that polysiloxane according to Synthesis Example 4 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 5 5

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 1에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 1 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 6 6

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 2에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 2 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 7 7

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 3에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5, except that polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 3 was used instead of polysiloxane according to Synthesis Example 1.

비교예Comparative Example 8 8

합성예 1에 따른 폴리실록산 대신 비교합성예 4에 따른 폴리실록산을 사용한 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 액상의 수지 조성물을 제조하였다.
A liquid resin composition was prepared in the same manner as in Example 5 except for using the polysiloxane according to Comparative Synthesis Example 4 instead of the polysiloxane according to Synthesis Example 1.

투광성Translucency 수지 조성물의 물성 - 2 Physical properties of the resin composition-2

실시예 5 내지 8 및 비교예 5 내지 8에 따른 수지 조성물의 수소 대 비닐기 비율(H/Vi), 경도 및 점도를 측정하였다. 경도는 우에시마 브룩스 경도계로 측정하였고, 점도는 브룩필드 점도계를 사용하여 측정하였다. 내열성 측정은 실시예 5 내지 8의 각 액상의 수지 조성물을 150℃에서 1000시간 가열 전후 투과도를 측정하여 투과도 감소율로써 내열성을 판단하였다. 투과도는 실시예 5 내지 8의 각 액상의 수지 조성물에 대해서 UV-spectrophotometer (시마즈사 UV-3600)를 사용하여 450nm 파장에서 측정하였다.The hydrogen to vinyl group ratio (H / Vi), hardness and viscosity of the resin compositions according to Examples 5 to 8 and Comparative Examples 5 to 8 were measured. Hardness was measured with a Ueshima Brooks hardness meter and viscosity was measured using a Brookfield viscometer. Heat resistance measurement measured the permeability before and after heating each liquid resin composition of Examples 5-8 at 150 degreeC for 1000 hours, and judged heat resistance as the rate of permeability reduction. The transmittance | permeability was measured at 450 nm wavelength using the UV-spectrophotometer (Shimadzu Corporation UV-3600) with respect to each liquid resin composition of Examples 5-8.

그 결과는 표 4와 같다.The results are shown in Table 4.

H/ViH / Vi 경도(Shore A)Hardness (Shore A) 점도(cP)Viscosity (cP) 투명도(T%)
@ 450nm, 0시간
@ 150℃
Transparency (T%)
@ 450nm, 0 hours
@ 150 ℃
투명도(T%)
@ 450nm, 1000시간
@ 150℃
Transparency (T%)
@ 450nm, 1000 hours
@ 150 ℃
실시예 5Example 5 1.001.00 5050 15001500 98.3%98.3% 94.1%94.1% 실시예 6Example 6 1.001.00 5050 18501850 98.2%98.2% 94.0%94.0% 실시예 7Example 7 1.001.00 5151 21302130 98.3%98.3% 93.5%93.5% 실시예 8Example 8 1.001.00 5151 24202420 98.0%98.0% 93.0%93.0% 비교예 5Comparative Example 5 1.121.12 5353 13101310 98.0%98.0% 90.3%90.3% 비교예 6Comparative Example 6 1.241.24 5656 14001400 97.8%97.8% 89.5%89.5% 비교예 7Comparative Example 7 1.341.34 5959 17501750 97.7%97.7% 85.3%85.3% 비교예 8Comparative Example 8 1.521.52 6565 202202 97.7%97.7% 82.1%82.1%

표 4에서 보는 바와 같이, 실시예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 일정량의 수소 보호된 폴리페닐메틸실록산에 대하여 일정한 수소 대 비닐기 비율(H/Vi)를 나타내는 반면, 비교예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 수소 대 비닐기 비율(H/Vi)이 변화는 것을 알 수 있다. 여기서 수소 대 비닐기 비율(H/Vi)은 경화 후 경도 및 모듈러스(modulus) 등의 물성을 결정하는 인자로, 실시예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 물성의 조절이 용이한 반면 비교예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 물성의 조절에 어려움이 있음을 알 수 있다.As shown in Table 4, the resin compositions according to Examples 5 to 8 exhibit a constant hydrogen to vinyl group ratio (H / Vi) relative to a certain amount of hydrogen protected polyphenylmethylsiloxane, while according to Comparative Examples 5 to 8 The resin composition can be seen that the hydrogen-to-vinyl group ratio (H / Vi) changes. Here, the ratio of hydrogen to vinyl group (H / Vi) is a factor for determining physical properties such as hardness and modulus after curing. The resin compositions according to Examples 5 to 8 are easy to control, whereas Comparative Examples 5 to 8 It can be seen that the resin composition according to 8 has difficulty in controlling physical properties.

또한 실시예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 경도가 거의 일정하고 점도가 거의 일정하게 상승하는데 반해, 비교예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 경도의 변화가 크고 점도의 상승 또한 일정하지 않음을 알 수 있다. 따라서 실시예 5 내지 8에 따른 수지 조성물은 비교예 5 내지 8에 따른 수지 조성물에 비해 일정한 경도를 유지하면서 점도의 조절이 용이함을 알 수 있다.In addition, while the resin compositions according to Examples 5 to 8 had a nearly constant hardness and a nearly constant rise in viscosity, the resin compositions according to Comparative Examples 5 to 8 had a large change in hardness and a rise in viscosity was also not constant. have. Therefore, it can be seen that the resin composition according to Examples 5 to 8 is easier to control the viscosity while maintaining a constant hardness than the resin composition according to Comparative Examples 5 to 8.

내열성의 경우 150℃에서 1000시간 경과 후 450nm 파장에서 투과도(T%)를 관찰하여 가열전 초기 수지 조성물의 투과도와 비교하였다. 150℃에서 1000시간 경과 후 450nm 파장의 투과도(T%)를 관찰한 결과 비교예 5 내지 8에 따른 수지 조성물에서는 초기 투과도 대비 8~15% 이내의 감소를 보이는 반면, 실시예 5 내지 8에 따른 수지 조성물에서는 초기 투과도 대비 5% 이내 감소를 보여 고온에서 장시간 노출에도 황변이 거의 일어나지 않고 초기 투과도를 비교적 잘 유지하여 다소 내열성이 우수한 조성물임을 알 수 있다.In the case of heat resistance, the transmittance (T%) was observed at 450 nm after 1000 hours at 150 ° C., and compared with the transmittance of the initial resin composition before heating. As a result of observing transmittance (T%) of 450 nm wavelength after 1000 hours at 150 ° C., the resin composition according to Comparative Examples 5 to 8 showed a decrease within 8 to 15% compared to the initial transmittance, whereas according to Examples 5 to 8 The resin composition shows a decrease within 5% of the initial permeability, and it can be seen that the composition has excellent heat resistance by maintaining the initial permeability relatively well even after long exposure at high temperature.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구 범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리 범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, And falls within the scope of the invention.

Claims (12)

하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하고,
상기 폴리실록산은
하기 화학식 2a로 표현되는 부분,
하기 화학식 2b로 표현되는 부분, 그리고
하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나
를 포함하는 투광성 수지 조성물:
[화학식 1]
*-Si-Ar-Si-*
[화학식 2a]
(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b
[화학식 2b]
R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c
[화학식 2c]
R3SiO(3-d)/2(ORIV)d
[화학식 2d]
R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e
[화학식 2e]
R6R7R8SiO1/2
상기 화학식 1, 화학식 2a 내지 화학식 2e에서,
Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이고,
RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이고,
여기서 치환이란 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.


To include a polysiloxane having a part represented by the formula (1),
The polysiloxane is
A moiety represented by the following Chemical Formula 2a,
The moiety represented by Formula 2b, and
At least one of the moieties represented by the following formula (2c), (2d) and (2e)
Translucent resin composition comprising:
[Chemical Formula 1]
* -Si-Ar-Si- *
(2a)
(OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b
(2b)
R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c
[Chemical Formula 2c]
R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d
(2d)
R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e
[Formula 2e]
R 6 R 7 R 8 SiO 1/2
In Formula 1, Formula 2a to Formula 2e,
Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group,
R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycle Alkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 alkenyl group, substituted or Unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d are each independently 0 to 2 C and e are each independently 0 to 1,
Substituted herein means that the hydrogen atom in the compound is a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or a salt thereof, an alkyl group, an alkenyl group of C2 to C16, an alkynyl group of C2 to C16, an aryl group, or C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, cycloalkyl group, C3 to C15 cycloalkenyl group, C6 to C15 cycloalkynyl group, heterocycloalkyl group and Substituted with a substituent selected from a combination thereof.


삭제delete 제1항에서,
상기 폴리실록산은 하기 화학식 3으로 표현되는 투광성 수지 조성물.
[화학식 3]
(R6R7R8SiO1/2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r
상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이고,
여기서 치환이란 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.
In claim 1,
The polysiloxane is a light transmitting resin composition represented by the following formula (3).
(3)
(R 6 R 7 R 8 SiO 1/2 ) m [(OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b ] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r
In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are 0 to 1, 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q <0.9 and 0 ≤ r <0.9, m + n + p + q + r = 1,
Substituted herein means that the hydrogen atom in the compound is a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or a salt thereof, an alkyl group, an alkenyl group of C2 to C16, an alkynyl group of C2 to C16, an aryl group, or C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, cycloalkyl group, C3 to C15 cycloalkenyl group, C6 to C15 cycloalkynyl group, heterocycloalkyl group and Substituted with a substituent selected from a combination thereof.
제3항에서,
상기 폴리실록산은 상기 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 50중량% 이상으로 포함되어 있는 투광성 수지 조성물.
4. The method of claim 3,
The polysiloxane is translucent resin composition is contained in 50% by weight or more based on the total content of the translucent resin composition.
제4항에서,
상기 폴리실록산은 상기 투광성 수지 조성물의 총 함량에 대하여 50 내지 99.9중량%로 포함되어 있는 투광성 수지 조성물.
5. The method of claim 4,
The polysiloxane is a light-transmissive resin composition containing 50 to 99.9% by weight relative to the total content of the light-transmissive resin composition.
하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻어지고,
상기 폴리실록산은 하기 화학식 2a로 표현되는 부분,
하기 화학식 2b로 표현되는 부분, 그리고
하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함하는
봉지재.
[화학식 1]
*-Si-Ar-Si-*
[화학식 2a]
(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b
[화학식 2b]
R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c
[화학식 2c]
R3SiO(3-d)/2(ORIV)d
[화학식 2d]
R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e
[화학식 2e]
R6R7R8SiO1/2
상기 화학식 1, 화학식 2a 내지 화학식 2e에서,
Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이고,
RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이고,
여기서 치환이란 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.

It is obtained by hardening the translucent resin composition containing polysiloxane which has a part represented by following General formula (1),
The polysiloxane is a part represented by the formula (2a),
The moiety represented by Formula 2b, and
At least one of the moieties represented by Formula 2c, Formula 2d, and Formula 2e:
Encapsulant.
[Chemical Formula 1]
* -Si-Ar-Si- *
(2a)
(OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b
(2b)
R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c
[Chemical Formula 2c]
R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d
(2d)
R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e
[Formula 2e]
R 6 R 7 R 8 SiO 1/2
In Formula 1, Formula 2a to Formula 2e,
Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group,
R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycle Alkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 alkenyl group, substituted or Unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d are each independently 0 to 2 C and e are each independently 0 to 1,
Substituted herein means that the hydrogen atom in the compound is a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or a salt thereof, an alkyl group, an alkenyl group of C2 to C16, an alkynyl group of C2 to C16, an aryl group, or C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, cycloalkyl group, C3 to C15 cycloalkenyl group, C6 to C15 cycloalkynyl group, heterocycloalkyl group and Substituted with a substituent selected from a combination thereof.

삭제delete 제6항에서,
상기 폴리실록산은 하기 화학식 3으로 표현되는 봉지재.
[화학식 3]
(R6R7R8SiO1/2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r
상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이고,
여기서 치환이란 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.
The method of claim 6,
The polysiloxane is an encapsulant represented by the following formula (3).
(3)
(R 6 R 7 R 8 SiO 1/2 ) m [(OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b ] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r
In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are 0 to 1, 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q <0.9 and 0 ≤ r <0.9, m + n + p + q + r = 1,
Substituted herein means that the hydrogen atom in the compound is a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or a salt thereof, an alkyl group, an alkenyl group of C2 to C16, an alkynyl group of C2 to C16, an aryl group, or C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, cycloalkyl group, C3 to C15 cycloalkenyl group, C6 to C15 cycloalkynyl group, heterocycloalkyl group and Substituted with a substituent selected from a combination thereof.
발광 소자, 반도체 소자, 그리고
상기 발광 소자를 둘러싸는 봉지재
를 포함하고,
상기 봉지재는 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 폴리실록산을 포함하는 투광성 수지 조성물을 경화하여 얻어지고,
상기 폴리실록산은 하기 화학식 2a로 표현되는 부분,
하기 화학식 2b로 표현되는 부분, 그리고
하기 화학식 2c, 하기 화학식 2d 및 하기 화학식 2e로 표현되는 부분들 중 적어도 하나를 포함하는
전자 소자:
[화학식 1]
*-Si-Ar-Si-*
[화학식 2a]
(ORI)a O(3-a)/2Si - Ar - SiO(3-b)/2(ORII)b
[화학식 2b]
R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c
[화학식 2c]
R3SiO(3-d)/2(ORIV)d
[화학식 2d]
R4R5SiO(2-e)/2(ORV)e
[화학식 2e]
R6R7R8SiO1/2
상기 화학식 1, 화학식 2a 내지 화학식 2e에서,
Ar은 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴렌기이고,
RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이고,
여기서 치환이란 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.
Light emitting devices, semiconductor devices, and
Encapsulation material surrounding the light emitting element
Lt; / RTI &gt;
The encapsulant is obtained by curing a light-transmissive resin composition comprising a polysiloxane having a portion represented by the following formula (1),
The polysiloxane is a part represented by the formula (2a),
The moiety represented by Formula 2b, and
At least one of the moieties represented by Formula 2c, Formula 2d, and Formula 2e:
Electronic device:
[Chemical Formula 1]
* -Si-Ar-Si- *
(2a)
(OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b
(2b)
R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c
[Chemical Formula 2c]
R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d
(2d)
R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR V ) e
[Formula 2e]
R 6 R 7 R 8 SiO 1/2
In Formula 1, Formula 2a to Formula 2e,
Ar is a substituted or unsubstituted C6 to C30 arylene group,
R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycle Alkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 alkenyl group, substituted or Unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, a, b and d are each independently 0 to 2 C and e are each independently 0 to 1,
Substituted herein means that the hydrogen atom in the compound is a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or a salt thereof, an alkyl group, an alkenyl group of C2 to C16, an alkynyl group of C2 to C16, an aryl group, or C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, cycloalkyl group, C3 to C15 cycloalkenyl group, C6 to C15 cycloalkynyl group, heterocycloalkyl group and Substituted with a substituent selected from a combination thereof.
삭제delete 제9항에서,
상기 폴리실록산은 하기 화학식 3으로 표현되는 전자 소자.
[화학식 3]
(R6R7R8SiO1/2)m[(ORI)aO(3-a)/2Si-Ar-SiO(3-b)/2(ORII)b]n[R3SiO(3-d)/2(ORIV)d]p[R1R2SiO(2-c)/2(ORIII)c]q[R4R5SiO(2-e)/2(ORIII)e]r
상기 화학식 3에서, RI 내지 RV은 각각 독립적으로 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고, R1 내지 R8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 히드록시알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C10 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알콕시기, 락톤기, 치환 또는 비치환된 카르복실기, 치환 또는 비치환된 글리시딜에테르기, 히드록시 또는 이들의 조합이고, Ar은 C6 내지 C30 아릴기이고, a, b 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 2이고, c 및 e는 각각 독립적으로 0 내지 1이고, 0<m<0.9, 0<n<0.2, 0≤p<0.9, 0<q<0.9 및 0≤r<0.9이고, m+n+p+q+r=1이고,
여기서 치환이란 화합물 중의 수소 원자가 할로겐 원자, 히드록시기, 알콕시기, 카르보닐기, 카르바밀기, 에스테르기, 카르복실기나 그의 염, 알킬기, C2 내지 C16의 알케닐기, C2 내지 C16의 알키닐기, 아릴기, C7 내지 C13의 아릴알킬기, C1 내지 C4의 옥시알킬기, C1 내지 C20의 헤테로알킬기, C3 내지 C20의 헤테로아릴알킬기, 사이클로알킬기, C3 내지 C15의 사이클로알케닐기, C6 내지 C15의 사이클로알키닐기, 헤테로사이클로알킬기 및 이들의 조합에서 선택된 치환기로 치환된 것을 의미한다.
The method of claim 9,
The polysiloxane is an electronic device represented by the following formula (3).
(3)
(R 6 R 7 R 8 SiO 1/2 ) m [(OR I ) a O (3-a) / 2 Si-Ar-SiO (3-b) / 2 (OR II ) b ] n [R 3 SiO (3-d) / 2 (OR IV ) d ] p [R 1 R 2 SiO (2-c) / 2 (OR III ) c ] q [R 4 R 5 SiO (2-e) / 2 (OR III ) e ] r
In Formula 3, R I to R V are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, and R 1 to R 8 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted group C3 to C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 hydroxyalkyl group, substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C2 to C10 Alkenyl group, substituted or unsubstituted C1 to C10 alkoxy group, lactone group, substituted or unsubstituted carboxyl group, substituted or unsubstituted glycidyl ether group, hydroxy or a combination thereof, Ar is a C6 to C30 aryl group A, b and d are each independently 0 to 2, c and e are each independently 0 to 1, and 0 <m <0.9, 0 <n <0.2, 0≤p <0.9, 0 <q < 0.9 and 0 ≦ r <0.9, m + n + p + q + r = 1,
Substituted herein means that the hydrogen atom in the compound is a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbamyl group, an ester group, a carboxyl group or a salt thereof, an alkyl group, an alkenyl group of C2 to C16, an alkynyl group of C2 to C16, an aryl group, or C7 to C13 arylalkyl group, C1 to C4 oxyalkyl group, C1 to C20 heteroalkyl group, C3 to C20 heteroarylalkyl group, cycloalkyl group, C3 to C15 cycloalkenyl group, C6 to C15 cycloalkynyl group, heterocycloalkyl group and Substituted with a substituent selected from a combination thereof.
제9항에서,
상기 전자 소자는 발광 다이오드, 유기 발광 소자, 태양 전지 및 광 루미네선스를 포함하는 전자 소자.
The method of claim 9,
The electronic device includes a light emitting diode, an organic light emitting device, a solar cell and an optical luminescence.
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