KR101375106B1 - Silicone Resin Composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실리콘 수지 조성물 및 이를 포함하는 전자소재용 봉지재에 관한 것이다. 본 발명의 실리콘 수지 조성물은 종래의 실리콘 수지 조성물에 비해 높은 투과율을 유지하면서, 보다 우수한 내열성, 경도 및 내크랙성을 가지는 효과가 있다.The present invention relates to a silicone resin composition and an encapsulant for an electronic material including the same. The silicone resin composition of this invention has the effect which has more excellent heat resistance, hardness, and crack resistance, maintaining a high transmittance | permeability compared with the conventional silicone resin composition.

Description

실리콘 수지 조성물{Silicone Resin Composition}Silicone resin composition {Silicone Resin Composition}

본 발명은 실리콘 수지 조성물 및 이를 포함하는 전자소재용 봉지재에 관한 것이다.The present invention relates to a silicone resin composition and an encapsulant for an electronic material including the same.

LED는 기존의 광원과 비교하여 사용 수명이 길며, 사용 전압이 낮고, 발광조절이 용이하며, 스위칭 응답이 빠르고, 크기가 작다는 특징 등을 가지고 있어 LCD TV, 휴대폰 등의 디스플레이 장치의 백라이트로 널리 사용되며, 일반 조명용으로도 사용이 점차 확대되고 있다.
Compared with conventional light sources, LEDs have a long service life, low operating voltage, easy light emission control, fast switching response, and small size, making them widely used as backlights for display devices such as LCD TVs and mobile phones. It is also being used for general lighting.

LED는 반도체 칩이 투명한 수지로 보호 캡슐화 되어 있는데, 종래에는 상기 투명한 수지의 소재로서 에폭시 소재가 주로 사용되어 왔다. 그러나 에폭시 수지는 탄성율이 높아서 온도 변화 시에 와이어, 칩, 에폭시 수지 사이에 균열이 발생하고 와이어가 끊어지는 문제가 발생하는 경우가 있다. 또한, 내열성이 낮아서 장시간 사용 시 수지가 황색으로 변하여 LED의 광학특성을 저하시키는 점이 문제되어 왔다.
LEDs are encapsulated in a semiconductor chip with a transparent resin, and conventionally, an epoxy material has been mainly used as a material of the transparent resin. However, the epoxy resin has a high modulus of elasticity, so that a crack may occur between the wire, the chip, and the epoxy resin and the wire may break when the temperature changes. In addition, the low heat resistance has been a problem that the resin turns yellow when used for a long time to reduce the optical characteristics of the LED.

이에 에폭시 수지보다 투명성이 우수하며, 내열성이 뛰어난 실리콘 수지가 최근 청색, 백색 LED를 중심으로 사용되는 예가 늘어나고 있다. 그러나, 실리콘 수지는 굴곡강도 등의 기계적 특성이 열악하기 때문에 균열이 발생하기 쉽다는 문제가 남아 있다.Accordingly, silicone resins having better transparency than epoxy resins and excellent heat resistance have been increasingly used mainly for blue and white LEDs. However, there remains a problem that silicone resins tend to be cracked because of poor mechanical properties such as bending strength.

이에, 대한민국 특허 제 10-2005-0011195호에서는 실록산/다환식 탄화수소계를 이용한 경도와 강도가 높고 광투과성이 우수한 광학 디바이스 또는 광학 부품용 재료에 적용되는 경화성 실리콘 조성물에 대한 연구가 진행되었다. 그러나, 실리콘과 다환식 탄화수소계의 복합소재로 구성된 물질은 순수 실리콘 재료와 비교 시 내열성이 떨어지며, 황변과 크랙이 발생할 가능성이 높은 단점을 가지고 있다. Thus, Korean Patent No. 10-2005-0011195 has been studied for a curable silicone composition applied to an optical device or an optical component material having high hardness and strength and excellent light transmittance using a siloxane / polycyclic hydrocarbon system. However, a material composed of a composite material of silicon and polycyclic hydrocarbons has a disadvantage in that heat resistance is inferior as compared with pure silicon materials, and yellowing and cracking are more likely to occur.

또한, 대한민국 특허 제 10-2010-0040615호에서는 플루오레닐 알킬기를 포함하는 실리콘 수지를 포함하는 황변과 크랙이 없는 발광 다이오드 소자 봉지재에 대한 연구가 진행되었다. 그러나 상기 플루오레닐 알킬기는 첨가하는 양에 따라 급격한 점도 증가를 유도하기 때문에 액상의 고굴절율 소재를 얻기 어려운 단점이 있다. In addition, Korean Patent No. 10-2010-0040615 has been conducted on a light emitting diode device encapsulant having no yellowing and cracks including a silicone resin containing a fluorenyl alkyl group. However, since the fluorenyl alkyl group induces a rapid increase in viscosity depending on the amount added, there is a disadvantage in that it is difficult to obtain a liquid high refractive index material.

또한, 대한민국 특허 제 10-2009-0134327호에서는 금속화합물을 포함하는 실리콘 화합물을 공중합하여 얻어지는 폴리메탈로실록산(polymetallosiloxane)을 포함하는 봉지재용 투광성 수지 조성물에 대한 연구가 진행되었다. 상기 폴리메탈로실록산의 제조 시에 사용된 게르마늄계 화합물은 희토류 금속으로 합성물 제조 시 원가상승의 문제가 발생할 수 있다.In addition, Korean Patent No. 10-2009-0134327 has been studied for a light-transmissive resin composition for an encapsulant comprising a polymetallosiloxane obtained by copolymerizing a silicon compound containing a metal compound. The germanium-based compound used in the production of the polymetallosiloxane may be a rare earth metal, which may cause a cost increase in manufacturing the composite.

본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 도출된 것으로, 본 발명은 높은 투과율을 가지면서도, 동시에 내열성, 경도 및 내크랙성이 우수한 실리콘 수지 조성물을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention was derived to solve the above problems, the present invention is to provide a silicone resin composition having a high transmittance, and at the same time excellent in heat resistance, hardness and crack resistance.

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 실리콘 수지를 적어도 1종 이상 포함하는 실리콘 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a silicone resin composition comprising at least one silicone resin represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1SiO3 /2)a(R2R3SiO2 /2)b(R4R5R6SiO1 /2)c(SiO4 /2)d(BO(3-h)/2)e(R7BO(2-g)/2)f (R 1 SiO 3/2) a (R 2 R 3 SiO 2/2) b (R 4 R 5 R 6 SiO 1/2) c (SiO 4/2) d (BO (3-h) / 2) e (R 7 BO (2-g) / 2 ) f

상기 화학식 1에서, R1 내지 R7은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, 0<a<1, 0≤b<1, 0≤c<1, 0≤d<1, 0≤e<1, 0≤f<1, 0≤h<1, 0≤g<1이며, a+b+c+d+e+f=1이다.In Chemical Formula 1, R 1 to R 7 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 -30 Aryl group, substituted or unsubstituted arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted carbon atoms An alkenyl group of 2 to 30, a substituted or unsubstituted alkynyl group of 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group of 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbonyl group, a hydroxy group, or a combination thereof, 0 <a <1, 0≤b <1, 0≤c <1, 0≤d <1, 0≤e <1, 0≤f <1, 0≤h <1, 0≤g <1, and a + b + c + d + e + f = 1.

본 발명에서 상기 화학식 1의 보론 단위 구조는 하기 화학식 2 내지 화학식 4로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이다.In the present invention, the boron unit structure of Chemical Formula 1 is any one selected from the group consisting of Chemical Formulas 2 to 4.

화학식 2(2)

Figure 112013115012457-pat00001
Figure 112013115012457-pat00001

화학식 3(3)

Figure 112013115012457-pat00002
Figure 112013115012457-pat00002

화학식 4Formula 4

Figure 112013115012457-pat00003

Figure 112013115012457-pat00003

본 발명에서 상기 실리콘 수지는 분자량이 특별히 제한적인 것은 아니나, 100 내지 10,000 g/mol인 것이 바람직할 수 있다. 본 발명에서, 특별히 규정하지 않는 한, 용어 「분자량」은 중량평균분자량(Weight Average Molecular Weight)을 의미한다.
In the present invention, the silicone resin is not particularly limited in molecular weight, it may be preferably from 100 to 10,000 g / mol. In the present invention, unless otherwise specified, the term "molecular weight" means a weight average molecular weight (Weight Average Molecular Weight).

본 발명에서 상기 실리콘 수지의 점도는 특별히 정해진 것은 아니나, 바람직하게는 25℃에서 500 내지 100,000 cps(centipoise) 일 수 있다.
The viscosity of the silicone resin in the present invention is not particularly defined, but may be preferably 500 to 100,000 cps (centipoise) at 25 ℃.

본 발명에 따른 실리콘 수지 조성물은 상기 실리콘 수지에 수소규소화촉매, 접착향상제, 경화지연제 등을 추가로 포함할 수 있다.The silicone resin composition according to the present invention may further include a hydrogen silicide catalyst, an adhesion promoter, a curing retardant, and the like in the silicone resin.

상기 수소규소화촉매는 주기율표 제8족의 금속이나, 이들 금속을 알루미나 또는 실리카의 담체에 담지 시킨 촉매 또는 이들 금속의 염이나 착제일 수 있으며, 상기 수소규소화촉매의 함량은 수지 조성물 총 중량 대비 0.1 내지 100 ppm(parts per million)인 것이 바람직할 수 있다.The hydrogen silicide catalyst may be a metal of Group 8 of the periodic table, a catalyst in which these metals are supported on a carrier of alumina or silica, or a salt or a complex of these metals, and the content of the hydrogen silicide catalyst is based on the total weight of the resin composition. It may be desirable to be from 0.1 to 100 ppm (parts per million).

상기 접착향상제는 특별히 한정적인 것은 아니나, 알콕시기를 포함하는 실란 화합물을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.
Although the adhesion promoter is not particularly limited, it may be preferable to use a silane compound containing an alkoxy group.

본 발명의 또 다른 양태는 상기 실리콘 수지 조성물을 포함하는 전자소재용 봉지재에 관한 것이다.Still another aspect of the present invention relates to an electronic material encapsulant comprising the silicone resin composition.

본 발명에 따른 실리콘 수지 조성물은 종래의 실리콘 수지 조성물에 비해 높은 투과율을 유지하면서, 보다 우수한 내열성, 경도 및 내크랙성을 가지는 효과가 있다.
The silicone resin composition according to the present invention has an effect of having more excellent heat resistance, hardness and crack resistance while maintaining a high transmittance as compared with the conventional silicone resin composition.

이하에 본 발명을 상세하게 설명하기에 앞서, 본 명세서에 사용된 용어는 특정의 실시예를 기술하기 위한 것일 뿐 첨부하는 특허청구의 범위에 의해서만 한정되는 본 발명의 범위를 한정하려는 것은 아님을 이해하여야 한다. 본 명세서에 사용되는 모든 기술용어 및 과학용어는 다른 언급이 없는 한은 기술적으로 통상의 기술을 가진 자에게 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다.Before describing the present invention in detail, it is to be understood that the terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to limit the scope of the invention, which is defined solely by the appended claims. shall. All technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art unless otherwise stated.

본 명세서 및 청구범위의 전반에 걸쳐, 다른 언급이 없는 한, 포함(comprise, comprises, comprising)이라는 용어는 언급된 물건, 단계 또는 일군의 물건, 및 단계를 포함하는 것을 의미하고, 임의의 어떤 다른 물건, 단계 또는 일군의 물건 또는 일군의 단계를 배제하는 의미로 상용된 것은 아니다. Throughout the description and claims, unless the context requires otherwise, the word "comprise" is intended to include the stated article, step or group of articles, and steps; It is not meant to exclude an object, step or group of objects or a group of steps.

한편, 본 발명의 여러 가지 실시예들은 명확한 반대의 지적이 없는 한 그 외의 어떤 다른 실시예들과 결합될 수 있다. 특히, 바람직하거나 유리하다고 지시하는 어떤 특징도 바람직하거나 유리하다고 지시한 그 외의 어떤 특징 및 특징들과 결합될 수 있다.
On the contrary, the various embodiments of the present invention can be combined with any other embodiments as long as there is no clear counterpoint. In particular, any feature that is indicated to be advantageous or advantageous may be combined with any other feature or feature that is indicated to be advantageous or advantageous.

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 실리콘 수지를 적어도 1종 이상 포함하는 실리콘 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a silicone resin composition comprising at least one silicone resin represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1SiO3 /2)a(R2R3SiO2 /2)b(R4R5R6SiO1 /2)c(SiO4 /2)d(BO(3-h)/2)e(R7BO(2-g)/2)f (R 1 SiO 3/2) a (R 2 R 3 SiO 2/2) b (R 4 R 5 R 6 SiO 1/2) c (SiO 4/2) d (BO (3-h) / 2) e (R 7 BO (2-g) / 2 ) f

상기 화학식 1에서, R1 내지 R7은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, 0<a<1, 0≤b<1, 0≤c<1, 0≤d<1, 0≤e<1, 0≤f<1, 0≤h<1, 0≤g<1이며, a+b+c+d+e+f=1이다.
In Chemical Formula 1, R 1 to R 7 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted C 1 -C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 -30 Aryl group, substituted or unsubstituted arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted carbon atoms An alkenyl group of 2 to 30, a substituted or unsubstituted alkynyl group of 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group of 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbonyl group, a hydroxy group, or a combination thereof, 0 <a <1, 0≤b <1, 0≤c <1, 0≤d <1, 0≤e <1, 0≤f <1, 0≤h <1, 0≤g <1, and a + b + c + d + e + f = 1.

본 발명에서 상기 화학식 1의 보론 단위 구조는 하기 화학식 2 내지 화학식 4로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나일 수 있다.In the present invention, the boron unit structure of Chemical Formula 1 may be any one selected from the group consisting of Chemical Formulas 2 to 4.

화학식 2(2)

Figure 112013115012457-pat00004
Figure 112013115012457-pat00004

화학식 3(3)

Figure 112013115012457-pat00005
Figure 112013115012457-pat00005

화학식 4Formula 4

Figure 112013115012457-pat00006
Figure 112013115012457-pat00006

상기 화학식 2는 상기 화학식 1의 보론 단위 구조 중 (BO(3-h)/2)의 h가 0일 때 표현될 수 있다.Formula 2 may be expressed when h of (BO (3-h) / 2 ) in the boron unit structure of Formula 1 is 0.

상기 화학식 3은 상기 화학식 1의 보론 단위 구조 중 (R7BO(2-g)/2)의 g가 0일 때 표현될 수 있다.Formula 3 may be expressed when g of (R 7 BO (2-g) / 2 ) in the boron unit structure of Formula 1 is 0.

상기 화학식 4는 상기 화학식 1의 보론 단위 구조 중 (R7BO(2-g)/2)의 g가 1일 때 표현될 수 있다.
Formula 4 may be expressed when g of (R 7 BO (2-g) / 2 ) in the boron unit structure of Formula 1 is 1.

본 발명에 따른 실리콘 수지는 분자량이 특별히 제한되는 것은 아니나, 바람직하게는 분자량이 100 내지 10,000 g/mol일 수 있다. 실리콘 수지의 분자량을 상기와 같이 조절하여, 봉지재가 우수한 경도를 가지고, 공정성도 우수하게 유지될 수 있다.
The silicone resin according to the present invention is not particularly limited in molecular weight, but preferably may have a molecular weight of 100 to 10,000 g / mol. By adjusting the molecular weight of the silicone resin as described above, the encapsulant has excellent hardness, it can be maintained excellent processability.

또한, 본 발명의 실리콘 수지는 25℃에서 액상 또는 고상일 수 있다. 특히, 전자소재용 봉지재로 사용되기 위해서는 실리콘 수지의 점도가 지나치게 높지 않는 것이 바람직하며, 예를 들면 25℃에서 500 내지 100,000 cps(centipoise), 보다 바람직하게는 1,000 내지 50,000 cps일 수 있다. 이러한 범위에서 본 발명의 실리콘 수지는 가공성 및 경도 특성 등을 우수하게 유지할 수 있다.
In addition, the silicone resin of the present invention may be liquid or solid at 25 ℃. In particular, in order to be used as an encapsulant for an electronic material, it is preferable that the viscosity of the silicone resin is not too high, for example, it may be 500 to 100,000 cps (centipoise), more preferably 1,000 to 50,000 cps at 25 ° C. In this range, the silicone resin of the present invention can maintain excellent processability and hardness characteristics.

본 발명의 실리콘 수지 조성물은 상기 실리콘 수지에 수소규소화촉매, 접착향상제 및 경화지연제로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다.
The silicone resin composition of the present invention may further include any one or more selected from the group consisting of a hydrogen silicide catalyst, an adhesion promoter, and a curing retardant in the silicone resin.

본 발명에서, 상기 수소규소화촉매는 수소규소화반응을 통해 실리콘 수지를 경화하는데 있어 촉매로 작용하는 것으로, 예들 들면 주기율표 제8족의 금속이나, 상기 금속을 알루미나, 실리카 등의 담체에 담지시킨 촉매 또는 상기 금속의 염이나 착제 등일 수 있다. 상기 주기율표 제8족의 금속으로는 백금, 로듐 또는 루테늄 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 백금을 사용할 수 있다.In the present invention, the hydrogen silicide catalyst acts as a catalyst in curing the silicone resin through a hydrogen silicide reaction, for example, a metal of Group 8 of the periodic table or the metal supported on a carrier such as alumina or silica. It may be a catalyst or a salt or a complex of the metal. Platinum, rhodium or ruthenium may be used as the metal of Group 8 of the periodic table, and platinum may be preferably used.

상기 수소규소화촉매는 그 함량이 특별히 제한적인 것은 아니나, 바람직하게는 수지 조성물 총 중량 대비 0.1 내지 100 ppm(parts per million)일 수 있다. 이는 수소규소화촉매를 수지 조성물 총 중량 대비 0.1 ppm 미만 첨가할 경우에는 촉매의 양이 지나치게 적어 수소규소화반응이 잘 진행되지 않으며, 100 ppm을 초과할 경우에는 촉매의 양이 지나치게 많아 경화속도 조절이 어려우며, 경화시 황변(yellowing)이 발생할 가능성이 높기 때문이다.
The hydrogen silicide catalyst is not particularly limited in content, but preferably may be 0.1 to 100 parts per million (ppm) based on the total weight of the resin composition. This is because when the hydrogenation siliconization catalyst is added less than 0.1 ppm to the total weight of the resin composition, the amount of the catalyst is too small, so that the hydrogen siliconization reaction does not proceed well. This is difficult, because yellowing (yellowing) is likely to occur during curing.

본 발명에서, 상기 접착향상제는 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니나, 알콕시기를 포함하는 실란 화합물을 사용하는 것이 바람직할 수 있으며, 예를 들면 비닐트리에톡시실란(vinyltriethoxysilane), γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란(γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane), γ-글리시드옥시프로필트리메톡시실란(γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane) 등이 사용될 수 있다.
In the present invention, the adhesion improving agent is not particularly limited in kind, it may be preferable to use a silane compound containing an alkoxy group, for example vinyltriethoxysilane (vinyltriethoxysilane), γ- methacryloxypropyl Trimethoxysilane (γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane), γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and the like can be used.

본 발명은 상기 실리콘 수지 조성물을 포함하는 전자소재용 봉지재에 관한 것이다.The present invention relates to an encapsulant for an electronic material comprising the silicone resin composition.

본 발명의 실리콘 수지 조성물을 포함하는 봉지재에 의해 봉지될 수 있는 전자소재의 종류로는, 다이오드, 트랜지스터, 사이리스터, 일체식 IC 및 혼성 IC에 사용된 반도체 소자 등이 예시될 수 있다.
Examples of the electronic material that can be encapsulated by the encapsulant including the silicone resin composition of the present invention include diodes, transistors, thyristors, integrated ICs, semiconductor devices used in hybrid ICs, and the like.

이하, 실시예를 통해 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 하지만, 하기 제시된 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 일 예에 지나지 않으며, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples. However, the examples presented below are merely examples for describing the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

하기 실시예에서, 특별한 정의가 없는 한, Vi는 비닐기(vinyl)를 나타내고, Ph는 페닐기(phenyl)를 나타내며, Me는 메틸기(methyl)를 나타낸다.
In the following examples, unless otherwise specified, Vi represents a vinyl group, Ph represents a phenyl group, and Me represents a methyl group.

<실시예><Examples>

실시예Example 1 One

3구 플라스크에 물 100g과 붕산(boric acid) 1.5g을 혼합하여 용해시킨 후, 상기 플라스크에 톨루엔 100g을 투입한 다음 10℃로 유지하면서 페닐트리클로로실란(phenyltrichlorosilane) 65g, 디페닐디클로로실란 (diphenyldichlorosilane) 5g, 트리메틸클로로실란(trimethylchlorosilane) 5g, 비닐디메틸클로로실란 (vinyldimethylchlorosilane) 10g을 혼합한 혼합물을 1시간에 걸쳐 적하하였다. 적하가 완료된 후 80℃로 4시간 가열 환류하면서 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후 물 층을 제거하여 톨루엔에 용해된 고분자 용액을 제조하였다. 얻어진 고분자 용액을 물로 3회 세척하여 반응 부산물인 염산을 제거하였다. 이어서 중성인 고분자 용액을 감압 증류하여 톨루엔을 제거하여 본 발명에 따른 실리콘 수지(화학식 5)를 얻었다. 상기 얻어진 실리콘 수지(화학식 5)를 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography)를 사용하여 분자량을 측정한 결과 폴리스티렌 환산 분자량이 2,700g/mol 이었고, 점도는 브룩필드 점도계(Brookfield Viscometer)로 측정한 결과 37,000cps로 측정되었다.After dissolving 100 g of water and 1.5 g of boric acid in a three-necked flask, 100 g of toluene was added to the flask, and then maintained at 10 ° C., 65 g of phenyltrichlorosilane and diphenyldichlorosilane. ), A mixture of 5 g of trimethylchlorosilane, 5 g of trimethylchlorosilane, and 10 g of vinyldimethylchlorosilane was added dropwise over 1 hour. After the dropping was completed, the reaction was performed while refluxing at 80 ° C. for 4 hours. After the reaction was completed to remove the water layer to prepare a polymer solution dissolved in toluene. The obtained polymer solution was washed three times with water to remove hydrochloric acid, a reaction byproduct. Subsequently, the neutral polymer solution was distilled under reduced pressure to remove toluene to obtain a silicone resin (Formula 5) according to the present invention. The molecular weight of the obtained silicone resin (Formula 5) was measured by gel permeation chromatography, and the polystyrene reduced molecular weight was 2,700 g / mol, and the viscosity was measured by a Brookfield Viscometer. It was measured in cps.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

(PhSiO3 /2)0.64(Ph2SiO2 /2)0.04(Me3SiO1 /2)0.1(ViMe2SiO1 /2)0.17(BO3 /2)0.05
(PhSiO 3/2) 0.64 ( Ph 2 SiO 2/2) 0.04 (Me 3 SiO 1/2) 0.1 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.17 (BO 3/2) 0.05

실시예Example 2 2

붕산(boric acid)의 투입량을 0.6g으로 하는 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 하기 화학식 6과 같은 실리콘 수지를 얻었다. 상기 얻어진 실리콘 수지(화학식 6)의 분자량은 2,500g/mol 이었고, 점도는 25,000cps로 측정되었다.Except that the amount of boric acid is 0.6g was carried out in the same manner as in Example 1, to obtain a silicone resin of the formula (6). The molecular weight of the obtained silicone resin (Formula 6) was 2,500g / mol, the viscosity was measured to 25,000cps.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

(PhSiO3 /2)0.66(Ph2SiO2 /2)0.04(Me3SiO1 /2)0.1(ViMe2SiO1 /2)0.18(BO3 /2)0.02
(PhSiO 3/2) 0.66 ( Ph 2 SiO 2/2) 0.04 (Me 3 SiO 1/2) 0.1 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.18 (BO 3/2) 0.02

실시예Example 3 3

붕산(boric acid)의 투입량을 0.3g으로 하는 것을 제외하고는 상기 실시 예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 하기 화학식 7과 같은 실리콘 수지를 얻었다. 상기 얻어진 실리콘 수지(화학식 7)의 분자량은 2,400g/mol 이었고, 점도는 18,000cps로 측정되었다.Except that the amount of boric acid (0.3 g) was carried out in the same manner as in Example 1, to obtain a silicone resin of the formula (7). The molecular weight of the obtained silicone resin (Formula 7) was 2,400g / mol, the viscosity was measured to 18,000cps.

[화학식 7][Formula 7]

(PhSiO3 /2)0.67(Ph2SiO2 /2)0.04(Me3SiO1 /2)0.1(ViMe2SiO1 /2)0.18(BO3 /2)0.01
(PhSiO 3/2) 0.67 ( Ph 2 SiO 2/2) 0.04 (Me 3 SiO 1/2) 0.1 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.18 (BO 3/2) 0.01

실시예Example 4 4

3구 플라스크에 물 100g과 붕산(boric acid) 0.35g을 혼합하여 용해시킨 후, 상기 플라스크에 톨루엔 100g을 투입한 다음 10℃로 유지하면서 페닐트리클로로실란(phenyltrichlorosilane) 65g, 디페닐디클로로실란(diphenyldichlorosilane) 5g, 트리메틸클로로실란(trimethylchlorosilane) 2g, 테트라메틸디실록산(tetramethyldisiloxane) 14g을 혼합한 혼합물을 1시간에 걸쳐 적하하였다. 적하가 완료된 후 80℃로 4시간 가열 환류하면서 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후 물 층을 제거하여 톨루엔에 용해된 고분자 용액을 제조하였다. 얻어진 고분자 용액을 물로 3회 세척하여 반응 부산물인 염산을 제거하였다. 이어서 중성인 고분자 용액을 감압 증류하여 톨루엔을 제거하여 하기 화학식 8과 같은 실리콘 수지를 얻었다. 상기 얻어진 실리콘 수지(화학식 8)의 분자량은 1,800g/mol 이었고, 점도는 2,500cps로 측정되었다.After dissolving 100 g of water and 0.35 g of boric acid in a three-necked flask, 100 g of toluene was added to the flask and then maintained at 10 ° C., 65 g of phenyltrichlorosilane and diphenyldichlorosilane. A mixture of 5 g), 2 g of trimethylchlorosilane and 14 g of tetramethyldisiloxane was added dropwise over 1 hour. After the dropping was completed, the reaction was performed while refluxing at 80 ° C. for 4 hours. After the reaction was completed to remove the water layer to prepare a polymer solution dissolved in toluene. The obtained polymer solution was washed three times with water to remove hydrochloric acid, a reaction byproduct. Subsequently, the neutral polymer solution was distilled under reduced pressure to remove toluene to obtain a silicone resin as shown in the following formula (8). The molecular weight of the obtained silicone resin (Formula 8) was 1,800 g / mol, the viscosity was measured to 2,500 cps.

[화학식 8][Formula 8]

(PhSiO3 /2)0.68(Ph2SiO2 /2)0.04(Me3SiO1 /2)0.04(HMe2SiO1 /2)0.23(BO3 /2)0.01
(PhSiO 3/2) 0.68 ( Ph 2 SiO 2/2) 0.04 (Me 3 SiO 1/2) 0.04 (HMe 2 SiO 1/2) 0.23 (BO 3/2) 0.01

비교예Comparative Example 1 :  One : 페닐비닐실리콘Phenyl vinyl silicone 수지 Suzy

3구 플라스크에 물 100g과 톨루엔 100g을 플라스크에 투입한 후 10℃로 유지하면서 페닐트리클로로실란(phenyltrichlorosilane) 65g, 디페닐디클로로실란(diphenyldichlorosilane) 5g, 트리메틸클로로실란(trimethylchlorosilane) 5g, 비닐디메틸클로로실란(vinyldimethylchlorosilane) 10g을 혼합한 혼합물을 1시간에 걸쳐 적하하였다. 적하가 완료된 후 80℃로 4시간 가열 환류하면서 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후 물 층을 제거하여 톨루엔에 용해된 고분자 용액을 제조하였다. 얻어진 고분자 용액을 물로 3회 세척하여 반응 부산물인 염산과 초산을 제거하였다. 이어서 중성인 고분자 용액을 감압 증류하여 톨루엔을 제거하여 하기 화학식 9와 같은 페닐비닐실리콘 수지를 얻었다. 상기 얻어진 페닐비닐실리콘 수지(화학식 9)의 분자량은 2,300g/mol 이었고, 점도는 15,000cps로 측정되었다.Into a three-necked flask, 100 g of water and 100 g of toluene were added to the flask, and then maintained at 10 ° C., 65 g of phenyltrichlorosilane, 5 g of diphenyldichlorosilane, 5 g of trimethylchlorosilane, and vinyl dimethylchlorosilane. The mixture which mixed 10 g of (vinyldimethylchlorosilane) was dripped over 1 hour. After the dropping was completed, the reaction was performed while refluxing at 80 ° C. for 4 hours. After the reaction was completed to remove the water layer to prepare a polymer solution dissolved in toluene. The obtained polymer solution was washed three times with water to remove hydrochloric acid and acetic acid as byproducts. Subsequently, the neutral polymer solution was distilled under reduced pressure to remove toluene, thereby obtaining a phenylvinylsilicone resin represented by the following formula (9). The molecular weight of the obtained phenyl vinyl silicone resin (Formula 9) was 2,300 g / mol, the viscosity was measured to 15,000 cps.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

(PhSiO3 /2)0.68(Ph2SiO2 /2)0.04(Me3SiO1 /2)0.1(ViMe2SiO1 /2)0.18
(PhSiO 3/2) 0.68 ( Ph 2 SiO 2/2) 0.04 (Me 3 SiO 1/2) 0.1 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.18

비교예Comparative Example 2 :  2 : 페닐하이드로겐실리콘Phenylhydrogensilicone 수지 Suzy

3구 플라스크에 물 100g과 톨루엔 100g을 플라스크에 투입한 후 10℃로 유지하면서 페닐트리클로로실란(phenyltrichlorosilane) 65g, 디페닐디클로로실란(diphenyldichlorosilane) 5g, 테트라메틸디실록산(tetramethyldisiloxane) 14g을 혼합한 혼합물을 1시간에 걸쳐 적하하였다. 적하가 완료된 후 80℃로 4시간 가열 환류하면서 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후 물 층을 제거하여 톨루엔에 용해된 고분자 용액을 제조하였다. 얻어진 고분자 용액을 물로 3회 세척하여 반응 부산물인 염산을 제거하였다. 이어서 중성인 고분자 용액을 감압 증류하여 톨루엔을 제거하여 하기 화학식 10과 같은 페닐하이드겐실리콘 수지를 얻었다. 상기 얻어진 페닐하이드로겐실리콘 수지(화학식 10)의 분자량은 1,800g/mol 이었고, 점도는 2,500cps로 측정되었다.Into a three-necked flask, 100 g of water and 100 g of toluene were added to the flask, and then maintained at 10 ° C., where 65 g of phenyltrichlorosilane, 5 g of diphenyldichlorosilane, and 14 g of tetramethyldisiloxane were mixed. Was added dropwise over 1 hour. After the dropping was completed, the reaction was performed while refluxing at 80 ° C. for 4 hours. After the reaction was completed to remove the water layer to prepare a polymer solution dissolved in toluene. The obtained polymer solution was washed three times with water to remove hydrochloric acid, a reaction byproduct. Subsequently, the neutral polymer solution was distilled under reduced pressure to remove toluene, thereby obtaining a phenylhydrogensilicone resin represented by the following Chemical Formula 10. The obtained phenylhydrogensilicone resin (Formula 10) had a molecular weight of 1,800 g / mol and a viscosity of 2,500 cps.

[화학식 10][Formula 10]

(PhSiO3 /2)0.68(Ph2SiO2 /2)0.04(HMe2SiO1 /2)0.24
(PhSiO 3/2) 0.68 ( Ph 2 SiO 2/2) 0.04 (HMe 2 SiO 1/2) 0.24

물성평가 실험Property evaluation experiment

상기의 실시예 1 내지 4 의 본 발명에 따른 실리콘 수지 중 실시예 1과 실시예 4의 실리콘 수지를 조성물 전체 중량 대비 각각 66.99 중량%, 43 중량% 혼합하고, 백금촉매(알드리치社)를 0.01 중량% 첨가하여 조성물 1을 제조하였고, 실시예 2와 실시예 4의 실리콘 수지를 조성물 전체 중량 대비 각각 66.99 중량%, 43 중량% 혼합하고, 백금촉매(알드리치社)를 0.01 중량% 첨가하여 조성물 2를 제조하였으며, 실시예 3과 실시예 4의 실리콘 수지를 조성물 전체 중량 대비 각각 66.99 중량%, 43 중량% 혼합하고, 백금촉매(알드리치社)를 0.01 중량% 첨가하여 조성물 3을 제조하였다.Of the silicone resins according to the present invention of Examples 1 to 4 above, the silicone resins of Examples 1 and 4 were mixed with respect to the total weight of the composition, respectively 66.99% by weight and 43% by weight, and 0.01% by weight of a platinum catalyst (Aldrich). % Was added to prepare composition 1, and the silicone resins of Examples 2 and 4 were mixed with 66.99% by weight and 43% by weight, respectively, and 0.01% by weight of platinum catalyst (Aldrich) was added to composition 2. The silicone resins of Examples 3 and 4 were mixed with 66.99 wt% and 43 wt% of the total weight of the composition, and 0.01 wt% of a platinum catalyst (Aldrich) was added to prepare composition 3.

또한, 상기 비교예 1과 비교예 2의 본 발명에 따르지 않은 실리콘 수지를 조성물 전체 중량 대비 각각 66.99 중량%, 43 중량% 혼합하고, 백금촉매(알드리치社)를 0.01 중량% 첨가하여 비교조성물 1을 제조하였다.
In addition, the silicone resin not according to the present invention of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 was mixed 66.99% by weight, 43% by weight relative to the total weight of the composition, and 0.01% by weight of a platinum catalyst (Aldrich Co., Ltd.) was added to Comparative Composition 1 Prepared.

상기 조성물 1 내지 3 및 비교조성물 1에 대해 굴절율, 투과도, 내열성, 경도 및 내크랙성을 측정하여 비교하였으며, 그 결과는 하기 [표 1]에 나타난 바와 같다.The compositions 1 to 3 and Comparative Composition 1 were compared by measuring the refractive index, transmittance, heat resistance, hardness and crack resistance, and the results are shown in the following [Table 1].

상기 굴절율 측정은 아베굴절계(Abbe refractometer)를 사용하여 589nm에서 측정하였고, 상기 투과도 측정은 150℃에서 2시간 동안 가열 경화한 시편을 시마즈사의 UV-spectrometer 를 사용하여 600nm 파장에서 측정하였다. 또한, 상기 내열성 측정은 경화된 시편들을 150℃ 오븐에서 1000시간 동안 체류시킨 후 투과도를 측정하였으며, 상기 내크랙성 측정은 시편을 1m 높이에서 떨어뜨린 후, 크랙이 발생한 시료의 비율을 측정하였다.
The refractive index was measured at 589 nm using an Abbe refractometer, and the transmittance was measured at 600 nm using a Shimadzu UV-spectrometer for 2 hours. In addition, the heat resistance measurement was measured for permeability after the cured specimens stay in the oven at 150 ℃ for 1000 hours, the crack resistance measurement was measured by dropping the specimen at a height of 1m, then measured the ratio of the cracked sample.

하기 [표 1]에서 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 실리콘 수지를 포함하는 조성물 1, 2 및 3은 내열성, 경도, 내크랙성에서 비교조성물 1에 비해 우수한 특성이 나타남을 확인할 수 있다. 특히, 비교조성물 1의 경우 150℃ 오븐에서 1000시간동안 체류 후 황변(yellowing) 현상이 나타나 내열 투과도가 크게 낮아졌으며, 내크랙성도 떨어지는 것으로 나타났다.
As shown in the following [Table 1], the compositions 1, 2 and 3 comprising the silicone resin according to the present invention can be seen that the excellent properties compared to the comparative composition 1 in heat resistance, hardness, crack resistance. Particularly, in Comparative Composition 1, yellowing occurred after 1000 hours in an oven at 150 ° C., resulting in a significantly lower heat resistance and a lower crack resistance.

구분division 조성물 1Composition 1 조성물 2Composition 2 조성물 3Composition 3 비교조성물 1Comparative Composition 1 실시예 1의 실리콘 수지 (중량%)Silicone resin of Example 1 (% by weight) 66.9966.99 실시예 2의 실리콘 수지 (중량%)Silicone resin of Example 2 (% by weight) 66.9966.99 실시예 3의 실리콘 수지 (중량%)Silicone resin of Example 3 (% by weight) 66.9966.99 실시예 4의 실리콘 수지 (중량%)Silicone resin of Example 4 (% by weight) 4343 4343 4343 비교예 1의 실리콘 수지 (중량%)Silicone resin of Comparative Example 1 (% by weight) 66.9966.99 비교예 2의 실리콘 수지 (중량%)Silicone resin of Comparative Example 2 (% by weight) 4343 백금촉매 (중량%)Platinum Catalyst (wt%) 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 굴절율Refractive index 1.5281.528 1.5291.529 1.5321.532 1.5281.528 투과도(%)Permeability (%) 9898 9999 9999 9797 내열성Heat resistance 9292 8989 9090 8585 경도(shore D)Hardness (shore D) 6565 6060 5555 4545 크랙(%)crack(%) 00 00 00 4040

이상에 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 본 발명의 범위는 상기의 상세한 설명보다는 후술할 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As described above, those skilled in the art will understand that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or scope of the invention as defined by the appended claims and their equivalents. .

Claims (11)

하기 화학식 1-1로 표시되는 실리콘 수지 및 하기 화학식 1-2로 표시되는 실리콘 수지를 포함하는 전자소자 봉지용 실리콘 수지 조성물:
[화학식 1-1]
(R1SiO3/2)a(R2R3SiO2/2)b(R4R5R6SiO1/2)c(SiO4/2)d(BO(3-h)/2)e(R7BO(2-g)/2)f
(상기 화학식 1-1에서, R1 내지 R7은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, 0<a<1, 0≤b<1, 0≤c<1, 0≤d<1, 0≤e<1, 0≤f<1, 0≤h<1, 0≤g<1이며, a+b+c+d+e+f=1이다.)
[화학식 1-2]
(R1SiO3/2)a(R2R3SiO2/2)b(R4R5R6SiO1/2)c(SiO4/2)d(BO(3-h)/2)e(R7BO(2-g)/2)f
(상기 화학식 1-2에서, R1 내지 R7은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 카르보닐기, 히드록시기 또는 이들의 조합이고, 상기 R4 내지 R6중 적어도 하나는 수소이고, 0<a<1, 0≤b<1, 0≤c<1, 0≤d<1, 0≤e<1, 0≤f<1, 0≤h<1, 0≤g<1이며, a+b+c+d+e+f=1이다.)
A silicone resin composition for encapsulating an electronic device comprising a silicone resin represented by Formula 1-1 and a silicone resin represented by Formula 1-2:
[Formula 1-1]
(R 1 SiO 3/2 ) a (R 2 R 3 SiO 2/2 ) b (R 4 R 5 R 6 SiO 1/2 ) c (SiO 4/2 ) d (BO (3-h) / 2 ) e (R 7 BO (2-g) / 2 ) f
(In Formula 1-1, R 1 to R 7 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon atom 6 to 30 aryl group, substituted or unsubstituted arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted An alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms substituted or unsubstituted, a substituted or unsubstituted carbonyl group, a hydroxy group or a combination thereof, 0 < a <1, 0≤b <1, 0≤c <1, 0≤d <1, 0≤e <1, 0≤f <1, 0≤h <1, 0≤g <1, a + b + c + d + e + f = 1.)
[Formula 1-2]
(R 1 SiO 3/2 ) a (R 2 R 3 SiO 2/2 ) b (R 4 R 5 R 6 SiO 1/2 ) c (SiO 4/2 ) d (BO (3-h) / 2 ) e (R 7 BO (2-g) / 2 ) f
(In the above formula 1-2, R 1 to R 7 are each independently hydrogen, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted carbon number 6 to 30 aryl groups, substituted or unsubstituted arylalkyl groups having 7 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heteroalkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocycloalkyl groups having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted A substituted C2-C30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkoxy group, a substituted or unsubstituted carbonyl group, a hydroxy group, or a combination thereof, At least one of R 4 to R 6 is hydrogen, 0 <a <1, 0≤b <1, 0≤c <1, 0≤d <1, 0≤e <1, 0≤f <1, 0 ≦ h <1, 0 ≦ g <1, and a + b + c + d + e + f = 1.)
제 1항에 있어서,
상기 화학식 1-1 및 상기 화학식 1-2의 보론 단위 구조는 하기 화학식 2 내지 화학식 4로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 실리콘 수지 조성물:
화학식 2
Figure 112013115012457-pat00007

화학식 3
Figure 112013115012457-pat00008

화학식 4
Figure 112013115012457-pat00009

The method of claim 1,
The boron unit structures of Formula 1-1 and Formula 1-2 are any one selected from the group consisting of Formulas 2 to 4 below:
Formula 2
Figure 112013115012457-pat00007

(3)
Figure 112013115012457-pat00008

Formula 4
Figure 112013115012457-pat00009

제 1항에 있어서,
상기 실리콘 수지는 분자량이 100 내지 10,000 g/mol인 실리콘 수지 조성물.
The method of claim 1,
The silicone resin has a molecular weight of 100 to 10,000 g / mol silicone resin composition.
제 1항에 있어서,
상기 실리콘 수지의 점도는 25℃에서 500 내지 100,000 cps 인 실리콘 수지 조성물.
The method of claim 1,
The silicone resin has a viscosity of 500 to 100,000 cps at 25 ° C.
제 1항에 있어서,
상기 실리콘 수지에 수소규소화촉매, 접착향상제 및 경화지연제로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 추가로 포함하는 실리콘 수지 조성물.
The method of claim 1,
The silicone resin composition further comprises any one or more selected from the group consisting of a hydrogen silicide catalyst, an adhesion promoter and a curing retardant to the silicone resin.
제 5항에 있어서,
상기 수소규소화촉매는 주기율표 제8족의 금속이나, 이들 금속을 알루미나, 실리카의 담체에 담지 시킨 촉매 또는 이들 금속의 염이나 착제인 실리콘 수지 조성물.
6. The method of claim 5,
The hydrogen silicide catalyst is a metal of Group 8 of the periodic table, a catalyst having these metals supported on an alumina or silica carrier, or a salt or a complex of these metals.
제 6항에 있어서,
상기 주기율표 제8족의 금속은 백금인 실리콘 수지 조성물.
The method according to claim 6,
The silicon resin composition of the periodic table group 8 metal is platinum.
제 5항에 있어서,
상기 수소규소화촉매는 수지 조성물 총 중량 대비 0.1 내지 100 ppm인 실리콘 수지 조성물.
6. The method of claim 5,
The hydrogen silicide catalyst is 0.1 to 100 ppm relative to the total weight of the resin composition.
제 5항에 있어서,
상기 접착향상제는 알콕시기를 포함하는 실란 화합물인 실리콘 수지 조성물.
6. The method of claim 5,
The adhesion promoter is a silicone resin composition which is a silane compound containing an alkoxy group.
제 5항에 있어서,
상기 접착향상제는 비닐트리에톡시실란(vinyltriethoxysilane), γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란(γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane), 및 γ-글리시드옥시프로필트리메톡시실란(γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane) 중 적어도 어느 하나인 실리콘 수지 조성물.
6. The method of claim 5,
The adhesion improving agent is at least one of vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. Silicone resin composition.
제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항의 실리콘 수지 조성물을 포함하는 전자소재용 봉지재.An electronic material sealing material comprising the silicone resin composition of any one of claims 1 to 10.
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