KR101371323B1

KR101371323B1 - Refrigerant collecting apparatus

Info

Publication number: KR101371323B1
Application number: KR1020120037684A
Authority: KR
Inventors: 박창기
Original assignee: 박창기
Priority date: 2012-04-12
Filing date: 2012-04-12
Publication date: 2014-03-10
Also published as: KR20130116080A

Abstract

본 발명은 기판 처리 장치 내의 냉매를 회수하는 냉매 회수 장치로서, 기판 처리 장치 내로 유체를 공급하여 상기 기판 처리 장치 내의 냉매를 배출시키는 유체 공급부 및 기판 처리 장치로부터 배출된 냉매를 저장하는 회수 탱크를 구비하는 냉매 회수기를 포함한다.
따라서, 본 발명의 실시형태에 의하면, 냉매 회수기를 이용하여 기판 처리 장치 내로 유체를 공급하여 냉매를 외부로 배출함으로써, 종래에 비해 냉매를 용이하고 안전하게 배출시킬 수 있다. 또한, 냉매가 기판 처리 장치와 연결된 회수관을 통해 회수 탱크로 회수됨에 따라, 종래와 같이 칠러의 도어(door)를 개폐하는 작업 없이 냉매를 배출시킬 수 있다. The present invention is a refrigerant recovery device for recovering the refrigerant in the substrate processing apparatus, comprising a fluid supply unit for supplying a fluid into the substrate processing apparatus to discharge the refrigerant in the substrate processing apparatus and a recovery tank for storing the refrigerant discharged from the substrate processing apparatus. It includes a refrigerant recoverer.
Therefore, according to the embodiment of the present invention, by supplying a fluid into the substrate processing apparatus using a coolant recoverer and discharging the coolant to the outside, the coolant can be discharged easily and safely as compared with the conventional method. In addition, as the refrigerant is recovered to the recovery tank through the recovery pipe connected to the substrate processing apparatus, the refrigerant may be discharged without opening and closing the door of the chiller as in the related art.

Description

Refrigerant collecting apparatus

본 발명은 냉매 회수 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 냉매를 용이하게 회수할 수 있는 냉매 회수 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a refrigerant recovery device, and more particularly to a refrigerant recovery device that can easily recover the refrigerant.

일반적인 기판 처리 장치 예컨데, 박막 증착 장치는 챔버(111), 챔버(111) 내에 배치되며 기판을 지지하는 서셉터, 챔버(111) 내에서 서셉터 상측에 대향 위치하여 기판으로 공정 가스를 분사하는 샤워헤드를 포함한다. 여기서 서셉터의 내부에는 기판을 가열하는 히터가 장착되고, 샤워헤드에는 공정 가스를 가열하는 히터가 장착될 수 있다.General substrate processing apparatus For example, the thin film deposition apparatus is disposed in the chamber 111, the susceptor for supporting the substrate, the shower to inject the process gas to the substrate located opposite the susceptor in the chamber 111 Head. Here, a heater for heating the substrate may be mounted in the susceptor, and a heater for heating the process gas may be mounted in the showerhead.

한편, 기판 처리 장치의 온도가 균일하게 유지되어야만 기판 상에 균일한 박막이 형성된다. 이에, 기판 처리 장치를 냉각시키거나, 소정의 온도로 유지시키기 위한 냉매를 순환시키는 칠러(chiller)가 별도로 마련된다. 또한, 기판 처리 장치 내부에는 칠러로부터 공급된 냉매를 순환시키는 순환 배관이 설치된다. 여기서 순환 배관은 챔버(111) 내벽, 서셉터 내부 또는 샤워헤드 등 기판 처리 장치의 다양한 부품들에 설치될 수 있다. 냉매로는 주로 탈이온수(Deionized water), 에틸렌글리콜, 액체 테프론, 실리콘 오일 또는 탈이온수와 에틸렌글리콜의 혼합물 등의 화학 물질을 이용한다. 그리고 챔버(111) 내부를 순환한 냉매는 칠러로 회수되고, 상기 칠러에서는 냉매를 다시 냉각시켜 챔버(111) 내로 공급한다.On the other hand, a uniform thin film is formed on the substrate only when the temperature of the substrate processing apparatus is kept uniform. Accordingly, a chiller for circulating a refrigerant for cooling the substrate processing apparatus or maintaining the substrate at a predetermined temperature is separately provided. Moreover, the circulation piping which circulates the refrigerant | coolant supplied from the chiller is provided in the inside of a substrate processing apparatus. The circulation pipe may be installed in various components of the substrate processing apparatus such as the inner wall of the chamber 111, the susceptor, or the shower head. As the refrigerant, chemicals such as deionized water, ethylene glycol, liquid teflon, silicone oil, or a mixture of deionized water and ethylene glycol are mainly used. The refrigerant circulated in the chamber 111 is recovered by the chiller, and the chiller is cooled again to be supplied into the chamber 111.

그리고 기판 처리 장치 내부에서 다수번의 공정이 이루어지면, 기판 처리 장치 내부를 유지 보수하는 작업이 실시된다. 이때, 기판 처리 장치의 순환 배관 내부에 잔류하고 있는 냉매를 외부로 배출시켜야 한다. 이를 위해, 종래에는 작업자가 기판 처리 장치의 챔버(111)를 개방하여 순환 배관 내의 냉매를 외부로 배출시켰다. 그런데, 기판 처리 장치 내를 순환한 냉매는 고온 예컨데 70℃의 온도로 가열되어 있기 때문에, 냉매가 승화되어 흄(fume)이 발생된다. 그리고 일반적인 냉매는 인체 및 환경에 유해한 물질이기 때문에, 냉매 교체 작업 시 흄(fume)에 의한 작업자의 안전을 보장할 수 없으며, 환경이 오염되는 문제가 있다.When a plurality of processes are performed in the substrate processing apparatus, the maintenance of the inside of the substrate processing apparatus is performed. At this time, the refrigerant remaining in the circulation pipe of the substrate processing apparatus should be discharged to the outside. To this end, in the past, the operator opened the chamber 111 of the substrate processing apparatus to discharge the refrigerant in the circulation pipe to the outside. By the way, since the refrigerant | coolant which circulated in the substrate processing apparatus is heated at high temperature, for example, 70 degreeC, a refrigerant | coolant sublimes and fumes are generated. In addition, since a general refrigerant is a substance harmful to a human body and the environment, a safety of an operator due to a fume may not be guaranteed when the refrigerant is replaced, and the environment is contaminated.

한국공개특허 제10-2009-0036305호에는 냉매를 수용하는 냉매 탱크, 냉매 탱크와 연통하는 스루 홀이 마련된 개폐 마개를 포함하는 칠러의 냉매 탱크가 개시되어 있다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2009-0036305 discloses a chiller tank of a chiller including a coolant tank accommodating a coolant and an opening and closing stopper provided with a through hole communicating with the coolant tank.

한국공개특허 제10-2009-0036305호Korean Patent Publication No. 10-2009-0036305

본 발명의 일 기술적 과제는 기판 처리 장치로부터 냉매를 용이하게 회수할 수 있는 수 냉매 회수 장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a water refrigerant recovery device that can easily recover the refrigerant from the substrate processing apparatus.

본 발명의 다른 일 기술적 과제는 기판 처리 장치로부터 냉매를 안전하게 회수할 수 있는 냉매 회수 장치를 제공하는 데 있다.Another technical problem of the present invention is to provide a refrigerant recovery apparatus capable of safely recovering a refrigerant from a substrate processing apparatus.

본 발명은 기판 처리 장치 내의 냉매를 회수하는 냉매 회수 장치로서, 상기 기판 처리 장치 내로 유체를 공급하여 상기 기판 처리 장치 내의 냉매를 배출시키는 유체 공급부; 및 상기 기판 처리 장치로부터 배출된 냉매를 저장하는 회수 탱크를 구비하는 냉매 회수기를 포함한다.The present invention provides a refrigerant recovery apparatus for recovering a refrigerant in a substrate processing apparatus, comprising: a fluid supply unit supplying a fluid into the substrate processing apparatus to discharge the refrigerant in the substrate processing apparatus; And a recovery tank for storing the refrigerant discharged from the substrate processing apparatus.

상기 냉매 회수기는 이동 가능한 이동 대차이다. The coolant recovery unit is a movable trolley.

상기 냉매 회수기는 내부에 유체 공급부 및 회수 탱크를 수용하며, 이동 가능한 하우징을 포함한다. The refrigerant recovery unit accommodates the fluid supply unit and the recovery tank therein, and includes a movable housing.

상기 유체 공급부는, 유체를 흡입하여 상기 기판 처리 장치로 공급하는 동력원; 및 일단이 상기 동력원과 연결되어, 상기 동력원의 흡입력에 의해 유체를 상기 동력원 내로 공급하는 흡입관을 포함한다.The fluid supply unit may include: a power source for sucking fluid and supplying the fluid to the substrate processing apparatus; And a suction pipe having one end connected to the power source and supplying a fluid into the power source by suction power of the power source.

상기 동력원은 컴프레셔(compressor)인 것이 바람직하다.The power source is preferably a compressor.

상기 흡입관은 타단이 상기 하우징의 외부로 돌출되도록 설치되어 공기 중에 노출되도록 설치되며, 상기 동력원의 동작에 의해 공기가 흡입관으로 흡입한다.The suction pipe is installed so that the other end is protruded to the outside of the housing to be exposed in the air, the air is sucked into the suction pipe by the operation of the power source.

일단이 상기 유체 공급부에 연결되고 타단이 상기 기판 처리 장치에 연결된 유체 공급관; 및 일단이 상기 회수 탱크와 연결되고, 타단이 상기 기판 처리 장치에 연결되어, 상기 기판 처리 장치로부터 배출된 냉매를 상기 회수 탱크로 주입하는 회수관을 포함한다. A fluid supply pipe having one end connected to the fluid supply unit and the other end connected to the substrate processing apparatus; And a recovery pipe, one end of which is connected to the recovery tank and the other end of which is connected to the substrate processing apparatus, for injecting the refrigerant discharged from the substrate processing apparatus into the recovery tank.

상기 유체 공급관의 타단은 상기 기판 처리 장치 내에 설치되어 그 내부에 냉매가 순환하는 순환 배관의 일단과 연결되고, 상기 회수관의 타단은 상기 순환 배관의 타단과 연결된다. The other end of the fluid supply pipe is installed in the substrate processing apparatus and is connected to one end of a circulation pipe through which refrigerant is circulated, and the other end of the recovery pipe is connected to the other end of the circulation pipe.

상기 유체 공급관은 상기 유체 공급부 및 순환 배관과 탈착이 가능하고, 상기 회수관은 상기 회수 탱크 및 순환 배관과 탈착이 가능하다.The fluid supply pipe may be detachable from the fluid supply unit and the circulation pipe, and the recovery pipe may be detachable from the recovery tank and the circulation pipe.

상기 회수 탱크의 상부에 연결되어, 상기 회수 탱크 내에 회수된 냉매로부터 방출된 가스를 필터링하는 필터부를 포함한다.It is connected to the upper portion of the recovery tank, and includes a filter for filtering the gas discharged from the refrigerant recovered in the recovery tank.

상기 회수 탱크 내에 설치되어 냉매의 수위를 검출하는 수위 검출기를 포함한다.And a level detector installed in the recovery tank to detect the level of the refrigerant.

상기 수위 검출기는 상기 냉매의 수위 상승에 따라 상기 냉매의 수면 상에서 상승하는 볼 및 상기 볼과 냉매를 수용하는 내부 공간을 가지는 투광성의 검출 몸체를 포함한다.The level detector includes a transmissive detection body having a ball rising on the surface of the coolant as the level of the coolant rises, and an inner space accommodating the ball and the coolant.

일단이 상기 회수 탱크에 연결되고, 타단이 상기 기판 처리 장치 내로 냉매를 순환시키는 칠러와 연결되어, 상기 기판 처리 장치로부터 회수 탱크 내로 회수된 냉매를 칠러에 충진하는 충진관을 포함한다.One end is connected to the recovery tank, the other end is connected to the chiller for circulating the refrigerant into the substrate processing apparatus, and comprises a filling tube for filling the chiller with the refrigerant recovered from the substrate processing apparatus into the recovery tank.

본 발명의 실시형태에 의하면, 냉매 회수기를 이용하여 기판 처리 장치 내로 유체를 공급하여 냉매를 외부로 배출함으로써, 종래에 비해 냉매를 용이하고 안전하게 배출시킬 수 있다. 또한, 냉매가 기판 처리 장치와 연결된 회수관을 통해 회수 탱크로 회수됨에 따라, 종래와 같이 칠러의 도어(door)를 개폐하는 작업 없이 냉매를 배출시킬 수 있다. 이에, 기판 처리 장치로부터 냉매 배출 시에 작업자가 냉매로부터 발생된 흄(fume)에 직접 노출되거나, 공기 중으로 배출되어 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, by supplying a fluid into the substrate processing apparatus using a coolant recoverer and discharging the coolant to the outside, the coolant can be easily and safely discharged as compared with the conventional method. In addition, as the refrigerant is recovered to the recovery tank through the recovery pipe connected to the substrate processing apparatus, the refrigerant may be discharged without opening and closing the door of the chiller as in the related art. Accordingly, when the refrigerant is discharged from the substrate processing apparatus, the worker may be directly exposed to the fume generated from the refrigerant or may be discharged into the air to prevent the environment from being polluted.

그리고 실시예에 따른 냉매 회수기는 작업장으로 이동 가능하도록 제작되기 때문에, 작업장의 위치에 따라 용이하게 이동할 수 있는 장점이 있다.And since the refrigerant recoverer according to the embodiment is manufactured to be movable to the workplace, there is an advantage that can be easily moved according to the position of the workplace.

도 1은 소정의 기판 처리 공정이 진행되는 공정 설비 및 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 도시한 개념도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 도시한 입체 도면
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 이용하여 기판 처리 장치 내의 냉매를 회수 방법을 설명하기 위한 단면도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치의 회수 탱크 및 상기 회수 탱크에 설치된 수위 검출기를 도시한 도면
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치로 회수된 냉매를 칠러 내에 충진하는 동작을 설명하기 위한 단면1 is a conceptual diagram illustrating a process facility in which a predetermined substrate processing process is performed and a refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention;
2 is a three-dimensional view showing a refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention
3 is a cross-sectional view illustrating a method of recovering a refrigerant in a substrate processing apparatus using a refrigerant recovery apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a recovery tank of the refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention and a water level detector installed in the recovery tank.
5 is a cross-sectional view for explaining an operation of filling the chiller with the refrigerant recovered by the refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of other various forms of implementation, and that these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete and will fully convey the concept of invention to those skilled in the art. It is provided to let you know completely.

도 1은 소정의 기판 처리 공정이 진행되는 공정 설비 및 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 도시한 개념도이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 도시한 입체 도면이다. 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 이용하여 기판 처리 장치 내의 냉매를 회수 방법을 설명하기 위한 단면도이다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치의 회수 탱크 및 상기 회수 탱크에 설치된 수위 검출기를 도시한 도면이다. 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수 장치로 회수된 냉매를 칠러 내에 충진하는 동작을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a process facility in which a predetermined substrate processing process is performed and a refrigerant recovery apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a three-dimensional view showing a refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view for describing a method of recovering a refrigerant in a substrate processing apparatus using a refrigerant recovery apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. 4 is a view showing a recovery tank of the refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention and a water level detector installed in the recovery tank. 5 is a cross-sectional view for explaining an operation of filling the chiller with the refrigerant recovered by the refrigerant recovery device according to an embodiment of the present invention.

도 1 을 참조하면, 공정 설비(100)는 기판에 대해 소정의 공정을 진행하는 기판 처리 장치(110), 기판 처리 장치(110) 내부로 냉매를 순환시키는 칠러(120)(chiller)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the process facility 100 includes a substrate processing apparatus 110 that performs a predetermined process on a substrate, and a chiller 120 that circulates a refrigerant into the substrate processing apparatus 110. .

여기서 기판 처리 장치(110)는 예컨데, 내부 공간을 가지는 챔버(111), 챔버(111) 내부에 배치되어 기판을 지지하는 서셉터 및 서셉터와 대향 배치되어 기판에 대해 공정 원료를 분사하는 샤워헤드를 포함할 수 있다. 그리고, 서셉터 내부, 챔버(111) 내벽 및 샤워헤드 중 어느 하나에 설치된 히터를 포함한다. 또한, 기판 처리 장치(110)의 서셉터 내부, 챔버(111) 내벽 및 샤워헤드 중 어느 하나에 설치되어 일단이 칠러(120)로부터 공급된 냉매를 순환시키는 순환 배관(113), 순환 배관(113)의 일단과 후술되는 칠러(120)를 연결하는 제 1 커넥터(112a) 및 순환 배관(113)의 타단과 칠러(120)를 연결하는 제 2 커넥터(112b)를 포함한다. 여기서 제 1 및 제 2 커넥터(112a, 112b)는 챔버(111)에 장착된다.Here, the substrate processing apparatus 110 may include, for example, a chamber 111 having an internal space, a susceptor disposed inside the chamber 111 to support the substrate, and a shower head disposed opposite to the susceptor to inject process raw materials onto the substrate. It may include. And, the heater includes a heater installed in any one of the inside of the susceptor, the chamber 111, the shower head. In addition, the circulation pipe 113 and the circulation pipe 113 installed in one of the inside of the susceptor of the substrate processing apparatus 110, the inner wall of the chamber 111, and the shower head to circulate the refrigerant supplied from the chiller 120 at one end thereof. The first connector 112a for connecting one end of the) and the chiller 120 to be described later, and the second connector 112b for connecting the other end of the circulation pipe 113 and the chiller 120. Here, the first and second connectors 112a and 112b are mounted to the chamber 111.

또한, 제 1 및 제 2 커넥터(112a, 112b)는 냉매 회수 작업시 후술되는 냉매 회수 장치(200)의 유체 공급관(220) 및 회수관(230) 각각과 연결될 수 있다.In addition, the first and second connectors 112a and 112b may be connected to each of the fluid supply pipe 220 and the recovery pipe 230 of the refrigerant recovery device 200 which will be described later during the refrigerant recovery operation.

여기서 서셉터에 설치된 히터는 기판을 가열하고, 챔버(111) 내벽에 설치된 히터는 챔버(111) 내부 공간을 가열하며, 샤워헤드에 설치된 히터는 공정 원료를 가열한다. 그리고 이러한 가열에 의해 기판 처리 공정이 원활하게 이루어지고, 공정 특성이 향상된다. 여기서 기판은 유리 기판, 웨이퍼(wafer), 플라스틱 기판 등을 사용할 수 있으며, 샤워헤드를 통해 분사되는 공정 원료는 증착용 원료, 식각용 원료 또는 표면처리용 원료 등 다양한 원료를 사용할 수 있다. 그리고 기판 처리 장치(110)는 기판 처리 공정의 종류 및 목적에 따라 다양한 구성 및 구조의 것이 사용되어도 무방하다.Here, the heater installed in the susceptor heats the substrate, the heater installed in the inner wall of the chamber 111 heats the space inside the chamber 111, and the heater installed in the showerhead heats the process raw material. And by such heating, a substrate processing process is performed smoothly and a process characteristic improves. Here, the substrate may be a glass substrate, a wafer, a plastic substrate, and the like, and the process raw material sprayed through the shower head may use various raw materials such as deposition raw materials, etching raw materials, or surface treatment raw materials. The substrate processing apparatus 110 may be used in various configurations and structures according to the type and purpose of the substrate processing process.

한편, 원활한 기판 처리 공정과 공정 특성의 향상을 위해서는 기판 처리 장치(110)의 온도를 일정하게 유지할 필요가 있다. 따라서, 통상적으로 기판 처리 장치와 칠러(120)를 연결하여, 기판 처리 장치(110) 내로 냉매를 순환시킴으로써, 기판 처리 장치 내부의 온도를 일정하게 유지한다.On the other hand, in order to smoothly process the substrate and improve the process characteristics, it is necessary to keep the temperature of the substrate processing apparatus 110 constant. Therefore, the substrate processing apparatus and the chiller 120 are typically connected to each other to circulate the refrigerant into the substrate processing apparatus 110, thereby maintaining a constant temperature inside the substrate processing apparatus.

칠러(120)는 기판을 처리하는 기판 처리 장치(110)의 챔버(111) 내부 온도를 적정한 온도로 유지시키기 위해, 냉매를 순환 공급하여 상기 챔버(111) 및 그 내부의 부품(서셉터, 챔버(111) 내벽, 샤워헤드 등)들을 냉각시킨다. 여기서 칠러(120)는 통상적인 기판 처리 장치에 사용되는 칠러(120)와 동일하므로, 칠러(120)에 대한 상세한 설명은 간단히 한다. 칠러(120)는 내부 공간을 가지는 몸체(121-1), 몸체(121-1) 내에 설치되며, 냉매가 저장된 냉매 순환 탱크(121-2), 냉매 순환 탱크(121-2) 내에 설치되어 냉매를 쿨링(cooling) 시키는 쿨러(미도시), 일단이 냉매 순환 탱크(121-2)에 연결되고, 타단이 기판 처리 장치(110)의 순환 배관(113)의 일단과 연결되어 상기 순환 배관(113) 내로 냉매를 공급하는 제 1 배관(122a), 일단이 냉매 순환 탱크(121-2)에 연결되고 타단이 순환 배관(113)의 타단과 연결되어 순환된 냉매를 냉매 순환 탱크(121-2) 내로 배출하는 제 2 배관(122b)을 포함한다. 또한, 제 1 및 제 2 배관(122a, 122b) 각각에 설치되어 기판 처리 장치(110)와 칠러(120) 간의 연통을 제어하는 제 1 및 제 2 밸브(123a, 123b)를 포함한다. 여기서, 냉매는 예컨데, 탈이온수(Deionized water), 에틸렌글리콜, 액체 테프론, 실리콘 오일 또는 탈이온수와 에틸렌글리콜의 혼합물 등일 수 있다.In order to maintain the internal temperature of the chamber 111 of the substrate processing apparatus 110 for processing a substrate at an appropriate temperature, the chiller 120 circulates the refrigerant to supply the chamber 111 and components therein (susceptor, chamber). (111) inner walls, showerheads, etc.) are cooled. Since the chiller 120 is the same as the chiller 120 used in a conventional substrate processing apparatus, a detailed description of the chiller 120 will be simplified. The chiller 120 is installed in the body 121-1 and the body 121-1 having an internal space, and is installed in the refrigerant circulation tank 121-2 in which the refrigerant is stored and the refrigerant circulation tank 121-2. A cooler (not shown) for cooling the liquid, one end is connected to the refrigerant circulation tank 121-2, and the other end is connected to one end of the circulation pipe 113 of the substrate processing apparatus 110, so that the circulation pipe 113 Refrigerant circulation tank 121-2 for supplying refrigerant into the first pipe 122a and one end connected to the refrigerant circulation tank 121-2, and the other end connected to the other end of the circulation pipe 113 to circulate the refrigerant. The second pipe 122b which discharges inward is included. In addition, each of the first and second pipes 122a and 122b may include first and second valves 123a and 123b that control communication between the substrate processing apparatus 110 and the chiller 120. Here, the refrigerant may be, for example, deionized water, ethylene glycol, liquid teflon, silicone oil or a mixture of deionized water and ethylene glycol.

냉매 순환 탱크(121-2) 내부는 예컨데, 저온의 냉매를 수용하는 제 1 공간과 순환 배관(113) 내를 순환하여 가열된 고온의 냉매를 수용하는 제 2 공간으로 분할되며, 이를 위해 냉매 순환 탱크(121-2) 내에는 제 1 공간과 제 2 공간을 분할하는 격벽을 설치한다. 또한, 격벽에는 제 1 공간과 제 2 공간을 연통시키는 관통홀이 형성되거나, 배관이 설치될 수 있다. 그리고, 제 2 공간 내에 쿨러가 설치되며, 상기 쿨러에 의해 제 2 공간에 수용된 냉매가 냉각되면, 냉각된 냉매가 제 1 공간으로 이동한다. 또한, 제 1 배관(122a)에 설치되어 냉매 순환 탱크(121-2)의 저온의 냉매를 챔버(111) 내로 공급하는 동력을 제공하는 제 1 펌프 및 제 2 배관(122b)에 설치되어 챔버(111) 내를 순환한 냉매를 냉매 순환 탱크(121-2)로 회수하는 동력을 제공하는 제 2 펌프를 포함할 수 있다.For example, the inside of the refrigerant circulation tank 121-2 is divided into a first space accommodating a low temperature refrigerant and a second space accommodating a high temperature refrigerant heated by circulating in the circulation pipe 113. The tank 121-2 is provided with a partition wall that divides the first space and the second space. In addition, the partition wall may be formed with a through hole for communicating the first space and the second space, or a pipe may be installed. When the cooler is installed in the second space and the refrigerant contained in the second space is cooled by the cooler, the cooled refrigerant moves to the first space. In addition, the first pump 122a is installed in the first pump and the second pipe 122b for providing power to supply the low temperature refrigerant of the refrigerant circulation tank 121-2 into the chamber 111. A second pump may be provided to provide power for recovering the refrigerant circulated in the 111 to the refrigerant circulation tank 121-2.

칠러(120)는 상기에서 설명한 구조 및 구성에 한정되지 않고, 기판 처리 장치(110)에 냉매를 공급하고, 이를 순환시켜 상기 기판 처리 장치(110)를 일정한 온도로 유지시킬 수 있는 다양한 수단의 칠러(120)가 사용되어도 무방하다.The chiller 120 is not limited to the structure and configuration described above, and the chiller 120 may be supplied with a coolant to the substrate processing apparatus 110 and circulated therein to maintain the substrate processing apparatus 110 at a constant temperature. 120 may be used.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 냉매 회수 장치(200)는 기판 처리 장치(110) 내로 유체를 공급하여 기판 처리 장치(110)로부터 냉매를 배출시키는 것으로, 작업 장소로 이동 가능한 이동 대차 형태로 제작된다. 이러한 냉매 회수 장치(200)는 이동 가능한 냉매 회수기(210), 각각의 일단이 냉매 회수기(210)에 연결된 유체 공급관(220) 및 회수관(230)을 포함한다. 여기서, 유체 공급관(220)은 기판 처리 장치(110) 내의 순환 배관(113) 내로 유체를 공급하는 것으로, 냉매 회수 작업시 타단이 상기 순환 배관(113)의 일단과 연결된다. 또한, 회수관(230)은 순환 배관(113)을 통해 흐르는 유체에 의해 밀려나와 배출되는 냉매를 회수하는 것으로, 냉매 회수 작업시 타단이 상기 기판 처리 장치(110)의 순환 배관(113)의 타단과 연결된다. 그리고, 냉매 회수 작업 시에, 순환 배관(113)의 일단과 유체 공급관(220)은 제 1 커넥터(112a)에 의해 연결되고, 순환 배관(113)의 타단과 회수관(230)은 제 2 커넥터(112b)에 의해 연결된다.1 to 4, the refrigerant recovery device 200 discharges the refrigerant from the substrate processing apparatus 110 by supplying a fluid into the substrate processing apparatus 110, and manufactured in the form of a mobile truck that can move to a work place. do. The refrigerant recovery device 200 includes a movable refrigerant recovery unit 210, a fluid supply pipe 220 and a recovery tube 230, each end of which is connected to the refrigerant recovery unit 210. Here, the fluid supply pipe 220 supplies fluid into the circulation pipe 113 in the substrate processing apparatus 110, and the other end of the fluid supply pipe 220 is connected to one end of the circulation pipe 113. In addition, the recovery pipe 230 recovers the refrigerant that is pushed out by the fluid flowing through the circulation pipe 113 and discharged, and the other end of the recovery pipe 230 is the other end of the circulation pipe 113 of the substrate processing apparatus 110. Connected to the stage. In the refrigerant recovery operation, one end of the circulation pipe 113 and the fluid supply pipe 220 are connected by the first connector 112a, and the other end of the circulation pipe 113 and the recovery pipe 230 are connected to the second connector. Connected by 112b.

냉매 회수기(210)는 내부 공간을 가지는 하우징(213), 하우징(213) 내에 설치되며, 기판 처리 장치(110) 내로 유체 예컨데, 공기(air)를 공급하는 유체 공급부(211) 및 기판 처리 장치(110)로부터 회수된 냉매를 저장하는 회수 탱크(212), 회수 탱크(212)에 장착되어 냉매의 수위를 확인할 수 있는 수위 검출기(217) 및 냉매로부터 발생된 흄(fume)을 필터링하는 필터부(216)를 포함한다. 또한, 일단이 회수 탱크(212)에 연결되어 상기 회수 탱크(212)로 회수된 냉매를 배출하여 칠러(120)에 충진시키는 충진관(240), 충진관(240)과 회수 탱크(212) 간의 연통을 제어하는 충진 밸브(241)을 포함한다. 여기서, 하우징(213)은 유체 공급부(211) 및 회수 탱크(212)를 수용하기 위한 것으로, 내부 공간을 가지는 통 형상으로 제작된다. 실시예에 따른 하우징(213)은 그 단면이 사각형인 통 형상으로 제작되나, 이에 한정되지 않고 유체 공급부(211) 및 회수 탱크(212)를 수용하는 내부 공간을 가지는 다양한 통 형상으로 제작될 수 있다. 그리고 하우징(213)은 유체 공급부(211) 및 회수 탱크(212)를 작업 장소 즉, 기판 처리 장치(110)의 위치로 이동시키는 이동 대차 역할을 하는데, 이를 위해 하우징(213)의 하부에 이동 부재(214)가 설치된다. 실시예에 따른 이동 부재(214)는 원형의 바퀴(wheel)이나, 이에 한정되지 않고 하우징(213)을 이동시킬 수 있는 다양한 수단이 사용될 있다. 또한, 도 3에 도시된 바와 같이 하우징(213) 상부의 일측에는 손잡이(216)이가 장착되는데, 상기 손잡이(216) 작업자가 하우징(213) 즉, 냉매 회수기(210)를 이동시키기 위한 것이다.The coolant recovery unit 210 is installed in the housing 213 having an internal space, the housing 213, and includes a fluid supply unit 211 and a substrate processing apparatus for supplying air, for example, air, into the substrate processing apparatus 110. A recovery tank 212 for storing the refrigerant recovered from the 110, a water level detector 217 mounted on the recovery tank 212 to check the level of the refrigerant, and a filter unit for filtering the fume generated from the refrigerant ( 216). In addition, one end is connected to the recovery tank 212 between the filling tube 240, the filling tube 240 and the recovery tank 212 to discharge the refrigerant recovered in the recovery tank 212 to fill the chiller 120 And a filling valve 241 for controlling communication. Here, the housing 213 is for accommodating the fluid supply part 211 and the recovery tank 212, and is manufactured in a cylindrical shape having an internal space. The housing 213 according to the embodiment may be manufactured in a cylindrical shape having a rectangular cross section, but is not limited thereto. The housing 213 may be manufactured in various cylindrical shapes having an inner space for accommodating the fluid supply part 211 and the recovery tank 212. . In addition, the housing 213 serves as a moving cart for moving the fluid supply unit 211 and the recovery tank 212 to a location of the working place, that is, the substrate processing apparatus 110. 214 is installed. The moving member 214 according to the embodiment is a circular wheel, but not limited thereto, various means for moving the housing 213 may be used. In addition, as shown in Figure 3, the handle 216 is mounted on one side of the upper portion of the housing 213, the handle 216 for the operator to move the housing 213, that is, the refrigerant recovery unit 210.

유체 공급부(211)는 칠러(120) 내로 유체를 공급하여, 상기 기판 처리 장치(110) 내의 냉매를 배출시키는 것으로, 유체를 흡입하여 유체 공급관(220)으로 제공하는 동력원(211a) 및 일단이 동력원(211a)과 연결된 흡입관(211b)을 포함한다. 실시예에 따른 동력원(211a)은 유체를 흡입하여 압축 공급하는 컴프레셔(compressor) 일 수 있다. 흡입관(211b)은 내부 공간을 가지는 파이프(pipe)의 형상이며, 일단은 상술한 바와 같이 동력원(211a)과 연결되고 타단은 하우징(213) 외부로 돌출되도록 설치되어, 대기에 노출된다. 이에, 동력원(211a)이 작동하면, 대기 중의 공기(air)가 흡입관을 동력원(211a) 내로 흡입되며, 상기 공기는 동력원(211a) 내에서 압축되어 유체 공급관(220)으로 배출된다.The fluid supply unit 211 supplies a fluid into the chiller 120 to discharge the refrigerant in the substrate processing apparatus 110, and a power source 211a and one end of the fluid supply pipe 220 that suck the fluid and provide the fluid to the fluid supply pipe 220. And a suction pipe 211b connected to the 211a. The power source 211a according to the embodiment may be a compressor for sucking and supplying fluid. The suction pipe 211b is a shape of a pipe having an internal space, and one end is connected to the power source 211a and the other end is installed to protrude out of the housing 213 as described above, and is exposed to the atmosphere. Accordingly, when the power source 211a is operated, air in the atmosphere is sucked into the intake pipe into the power source 211a, and the air is compressed in the power source 211a and discharged into the fluid supply pipe 220.

상기에서는 기판 처리 장치(110) 내로 공급되는 유체로 공기를 예를 들어 설명하였다. 하지만, 이에 한정되지 않고, 냉매와 반응하지 않는 다양한 불활성 가스를 이용할 수 있다. 이를 위해, 하우징(213)의 외부 또는 내부에 불활성 가스가 저장된 유체 저장부(미도시)를 마련하고, 별도의 배관을 통해 동력원(211a)과 유체 저장부를 연결한다.In the above, air has been described as an example of the fluid supplied into the substrate processing apparatus 110. However, the present invention is not limited thereto, and various inert gases that do not react with the refrigerant may be used. To this end, a fluid storage unit (not shown) in which an inert gas is stored outside or inside the housing 213 is provided, and connects the power source 211a and the fluid storage unit through a separate pipe.

또한, 실시예에 따른 동력원(211a)으로 컴프레셔를 예를 들어 설명하였으나, 유체를 유체 공급관(220)으로 공급할 수 있는 다양한 수단이 사용될 수 있다.In addition, although the compressor has been described as an example of the power source 211a according to the embodiment, various means for supplying the fluid to the fluid supply pipe 220 may be used.

회수 탱크(212)는 기판 처리 장치(110)로부터 배출된 냉매를 수용하는 내부 공간을 가지며, 하우징(213) 내에 설치된다. 실시예에 따른 회수 탱크(212)는 사각형의 통 형상으로 제작되나, 이에 한정되지 않고, 냉매를 수용할 수 있는 내부 공간을 가지는 다양한 형상으로 제작될 수 있다.The recovery tank 212 has an internal space for receiving the refrigerant discharged from the substrate processing apparatus 110 and is installed in the housing 213. The recovery tank 212 according to the embodiment may be manufactured in a rectangular cylindrical shape, but is not limited thereto and may be manufactured in various shapes having an internal space capable of accommodating a refrigerant.

수위 검출기(217)는 도 3에 도시된 바와 같이, 회수 탱크(212) 내에 위치하여 냉매의 수위 상승에 따라 상승하는 볼(217b), 회수 탱크(212) 내벽에 장착되어 상기 회수 탱크(212)의 내부 공간과 연통되며, 볼(217b)을 수용하는 내부 공간을 가지는 검출 몸체(217a) 및 검출 몸체(217a) 상에 형성된 스케일(scale)(217c)을 포함한다. 여기서 검출 몸체(217a)는 회수 탱크(212)의 내부와 연통되도록 하부가 개방된 통 형상이며, 투광성 재료 예컨데, 유리로 제조되는 것이 바람직하다. 이는, 회수 탱크(212)의 외부에서 검출 몸체(217a) 내부에 수용된 볼(217b)의 위치를 육안으로 확인할 수 있도록 하기 위함이다. 또한, 수위 검출기(217)가 장착될 회수 탱크(212)의 적어도 일측면의 일부에 투과창을 설치하고, 상기 회수 탱크(212) 내부에서 투과창과 대응하는 영역에 수위 검출기(217)를 설치한다. 이에, 작업자는 회수 탱크(212) 내로 냉매가 회수되는 동안 수위에 따라 상승하는 볼(217b)의 위치에 따라 상기 회수 탱크(212) 내에 수용된 냉매의 양을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 3, the water level detector 217 is located in the recovery tank 212 and mounted on the inner wall of the recovery tank 212 and the ball 217b which rises as the level of the refrigerant rises. It includes a detection body 217a in communication with the internal space of and having an internal space for receiving the ball 217b and a scale 217c formed on the detection body 217a. In this case, the detection body 217a has a cylindrical shape in which a lower portion thereof is opened to communicate with the inside of the recovery tank 212, and is preferably made of a light-transmissive material, for example, glass. This is to allow the naked eye to check the position of the ball 217b accommodated inside the detection body 217a from the outside of the recovery tank 212. In addition, a transmission window is provided in a part of at least one side of the recovery tank 212 on which the water level detector 217 is to be mounted, and the water level detector 217 is installed in an area corresponding to the transmission window in the recovery tank 212. . Thus, the operator may check the amount of the refrigerant contained in the recovery tank 212 according to the position of the ball 217b that rises with the water level while the refrigerant is recovered into the recovery tank 212.

필터부(216)는 회수 탱크(212)의 상부에 연결되어, 냉매로부터 배출되는 가스를 필터링 한다. 이러한 필터부(216)는 회수 탱크(212)의 상부에 장착되어 상기 회수 탱크(212) 내부와 연통되는 연결관(216a) 및 회수 탱크(212)의 상측에서 연결관(216a)의 상부에 연결되어 상기 회수 탱크(212)로부터 발생된 가스 즉, 흄(fume)이 외부로 나가지 않도록 포집한다. 따라서, 흄(fume)에 작업자가 노출되거나, 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있다.The filter unit 216 is connected to the upper portion of the recovery tank 212 to filter the gas discharged from the refrigerant. The filter unit 216 is mounted on the upper part of the recovery tank 212 and connected to the upper part of the connection pipe 216a and the upper part of the recovery tank 212 communicating with the inside of the recovery tank 212. The gas generated from the recovery tank 212, that is, the fume (fume) is collected so as not to go out. Therefore, it is possible to prevent the worker from being exposed to the fume or to contaminate the environment.

유체 공급관(220)은 내부 공간을 가지는 파이프(pipe) 형상으로 제작되어, 유체 공급부(211)와 기판 처리 장치(110)의 순환 배관(113) 사이를 연결한다. 보다 상세하게는 유체 공급관(220)의 일단은 유체 공급부(211)의 동력원(211a)과 연결되고, 타단이 제 1 커넥터(112a)를 통해 순환 배관(113)과 연결된다. 그리고 유체 공급관(220)은 유체 공급부(211) 및 순환 배관(113)과 탈착 가능하도록 장착된다. 이에, 유체 공급관(220)의 일단 및 타단 각각이 유체 공급부(211) 및 순환 배관(113)과 연결되면, 유체 공급부(211)로부터 제공된 공기(air)는 유체 공급관(220)을 통해 순환 배관(113) 내로 공급된다. 이때 순환 배관(113) 내로 공급되는 공기에 의해 상기 순환 배관(113) 내에 잔류하고 있는 냉매가 순환 배관(113)의 타단을 향해 밀려나면서, 회수관(230)을 통해 배출된다.The fluid supply pipe 220 is manufactured in a pipe shape having an internal space, and connects the fluid supply part 211 and the circulation pipe 113 of the substrate processing apparatus 110. More specifically, one end of the fluid supply pipe 220 is connected to the power source 211a of the fluid supply unit 211, and the other end is connected to the circulation pipe 113 through the first connector 112a. In addition, the fluid supply pipe 220 is mounted to be detachable from the fluid supply part 211 and the circulation pipe 113. Thus, once one end and the other end of the fluid supply pipe 220 is connected to the fluid supply unit 211 and the circulation pipe 113, the air (air) provided from the fluid supply unit 211 is circulated through the fluid supply pipe 220 ( 113). At this time, the refrigerant remaining in the circulation pipe 113 is pushed toward the other end of the circulation pipe 113 by the air supplied into the circulation pipe 113, and is discharged through the recovery pipe 230.

회수관(230)은 내부 공간을 가지는 파이프(pipe) 형상으로 제작되어, 일단이 회수 탱크(212)와 연결되고 타단이 순환 배관(113)의 타단과 연결된다. 이러한 회수관(230)은 회수 탱크(212) 및 순환 배관(113)과 탈착 가능하도록 장착된다. 이에, 회수관(230)의 일단 및 타단 각각이 회수 탱크(212) 및 순환 배관(113)과 연결되면, 순환 배관(113)으로부터 배출된 냉매는 회수관(230)을 통해 회수 탱크(212) 내로 주입된다.The recovery pipe 230 is manufactured in a pipe shape having an internal space, one end of which is connected to the recovery tank 212 and the other end of which is connected to the other end of the circulation pipe 113. The recovery pipe 230 is mounted to be detachable from the recovery tank 212 and the circulation pipe 113. Thus, once one end and the other end of the recovery pipe 230 is connected to the recovery tank 212 and the circulation pipe 113, the refrigerant discharged from the circulation pipe 113 is the recovery tank 212 through the recovery pipe 230 Is injected into.

충진관(240)은 일단이 냉매 회수 장치(200)의 회수 탱크(212)에 연결되며, 상기 충진관(240) 상에는 충진 밸브(241)가 설치된다. 이에, 회수 탱크(212)로 회수된 냉매는 이후, 충진관(240)을 통해 칠러(120)로 충진되며, 상기 칠러(120)로 충진된 냉매는 기판 처리 장치(110)를 냉각시키기 위한 냉매로 다시 사용된다.
One end of the filling tube 240 is connected to the recovery tank 212 of the refrigerant recovery device 200, and a filling valve 241 is installed on the filling tube 240. Accordingly, the refrigerant recovered in the recovery tank 212 is then filled with the chiller 120 through the filling tube 240, and the refrigerant filled with the chiller 120 is a refrigerant for cooling the substrate processing apparatus 110. To be used again.

하기에서는 도 1 내지 도 5를 참조하여, 실시예에 따른 냉매 회수 장치를 이용하여 칠러 내의 냉매를 회수하는 동작을 설명한다.Hereinafter, referring to FIGS. 1 to 5, an operation of recovering a coolant in a chiller using a coolant recovery device according to an embodiment will be described.

기판 처리 장치(110) 내에서 다수번의 공정이 진행되면 상기 기판 처리 장치(110)의 유지 보수 작업을 실시한다. 이를 위해서는 기판 처리 장치(110) 내부에 잔류하고 있는 냉매를 외부로 배출시켜야 한다.When a plurality of processes are performed in the substrate processing apparatus 110, maintenance work of the substrate processing apparatus 110 is performed. To this end, the refrigerant remaining in the substrate processing apparatus 110 must be discharged to the outside.

이를 위해 기판 처리 장치의 작동을 멈추고, 칠러(120)의 제 1 및 제 2 밸브를 동작시켜, 칠러(120)와 기판 처리 장치(110) 간의 연통을 해제한다. 이후, 칠러(120)의 제 1 및 제 2 배관(122a, 122b) 각각과 제 1 및 제 2 커넥터(112a, 112b)를 분리시킨다.To this end, the operation of the substrate processing apparatus is stopped, and the first and second valves of the chiller 120 are operated to release communication between the chiller 120 and the substrate processing apparatus 110. Thereafter, the first and second pipes 122a and 122b of the chiller 120 and the first and second connectors 112a and 112b are separated from each other.

이후, 본 발명의 실시예에 따른 냉매 회수기(210)를 이용하여 챔버(111) 내부에 잔류하고 있는 냉매를 회수한다. 이를 순서적으로 설명하면 하기와 같다.Thereafter, the refrigerant remaining in the chamber 111 is recovered by using the refrigerant recoverer 210 according to the embodiment of the present invention. This will be described in order.

먼저, 작업자가 냉매 회수기(210)를 기판 처리 장치(110)가 위치한 작업장으로 이동시킨다. 이때, 실시예에 따른 냉매 회수기(210)는 상술한 바와 같이 이동 대차 형태이므로, 작업장으로의 이동이 용이하다. 그리고 유체 공급관(220)의 일단을 냉매 회수기(210)의 동력원(211a)에 연결하고, 타단을 기판 처리 장치(110)의 제 1 커넥터(112a)와 연결한다. 이에 유체 공급관(220)의 타단이 순환 배관(113)의 일단과 연결되어 상호 연통된다. 또한, 회수관(230)의 일단을 냉매 회수기(210)의 회수 탱크(212)에 연결하고, 타단을 제 2 커넥터(112b)와 연결한다. 이에 회수관(230)의 타단이 순환 배관(113)의 타단과 연결되어 상호 연통된다.First, an operator moves the refrigerant recoverer 210 to a workplace where the substrate processing apparatus 110 is located. At this time, since the refrigerant recovery unit 210 according to the embodiment is in the form of a moving truck as described above, it is easy to move to the workplace. One end of the fluid supply pipe 220 is connected to the power source 211a of the refrigerant recovery unit 210, and the other end thereof is connected to the first connector 112a of the substrate processing apparatus 110. The other end of the fluid supply pipe 220 is connected to one end of the circulation pipe 113 is in communication with each other. In addition, one end of the recovery pipe 230 is connected to the recovery tank 212 of the refrigerant recovery unit 210, and the other end is connected to the second connector 112b. The other end of the recovery pipe 230 is connected to the other end of the circulation pipe 113 is in communication with each other.

유체 공급관(220) 및 회수관(230)의 연결 작업이 종료되면, 유체 공급부(211)의 동력원(211a)을 동작시킨다. 이에, 도 3에 도시된 바와 같이, 흡입관(211b)을 통해 외부의 공기가 동력원(211a) 내로 흡입되며, 상기 동력원(211a) 내에서 공기가 압축되어 유체 공급관(220)을 통해 순환 배관(113)으로 공급된다. 이때, 한정된 내부 공간을 가지는 순환 배관(113) 내로 연속하여 공기가 공급되기 때문에, 상기 순환 배관(113) 내에서 공기가 차지하는 부피가 점차 커진다. 따라서, 공기의 부피 팽창에 따라 순환 배관(113) 내에 잔류하고 있던 냉매가 상기 순환 배관(113)의 타단이 위치한 방향으로 밀려나게 된다. 이에, 냉매는 순환 배관(113)의 타단 및 회수관(230)을 통해 회수 탱크(212)로 이동한다.When the connection between the fluid supply pipe 220 and the recovery pipe 230 is completed, the power source 211a of the fluid supply unit 211 is operated. Thus, as shown in FIG. 3, outside air is sucked into the power source 211a through the suction pipe 211b, and air is compressed in the power source 211a to circulate the piping 113 through the fluid supply pipe 220. Is supplied. At this time, since air is continuously supplied into the circulation pipe 113 having a limited internal space, the volume occupied by the air in the circulation pipe 113 gradually increases. Therefore, the refrigerant remaining in the circulation pipe 113 is pushed in the direction in which the other end of the circulation pipe 113 is located as the volume of air expands. Thus, the refrigerant moves to the recovery tank 212 through the other end of the circulation pipe 113 and the recovery pipe 230.

그리고, 상기와 같이 공기를 계속하여 냉매 순환 탱크(121-2) 내로 공급하면, 상기 순환 배관 내의 냉매를 모두 회수 탱크(212)로 회수할 수 있다. 또한, 회수 탱크(212)로 냉매가 주입됨에 따라 수위 검출기의 볼(217b)이 냉매의 수면 상에서 부유하면서 상승한다. 이에, 작업자는 냉매를 회수하는 작업 중에, 회수 탱크(212)에 장착된 볼(217b)의 위치를 스케일(217c)를 통해 확인하면서, 냉매의 양을 확인할 수 있다.If air is continuously supplied into the refrigerant circulation tank 121-2 as described above, all of the refrigerant in the circulation pipe can be recovered to the recovery tank 212. In addition, as the refrigerant is injected into the recovery tank 212, the ball 217b of the level detector rises while floating on the water surface of the refrigerant. Accordingly, the operator can check the amount of the refrigerant while checking the position of the ball 217b mounted on the recovery tank 212 through the scale 217c during the operation of recovering the refrigerant.

또한, 회수 탱크(212)로 냉매가 주입되는 동안 상기 냉매로부터 발생된 흄(fume)은 필터부(216)에 의해 포집 된다. 이에, 인체 및 환경에 해로운 흄(fume)이 작업자 및 환경에 노출되지 않는다.In addition, while the refrigerant is injected into the recovery tank 212, the fume generated from the refrigerant is collected by the filter unit 216. Thus, fumes harmful to humans and the environment are not exposed to workers and the environment.

챔버(111) 내의 냉매가 회수 탱크(212)로 모두 회수되면, 유체 공급관(220) 및 회수관(230) 각각에 설치된 밸브를 잠그고, 제 1 및 제 2 커넥터(112a, 112b)로부터 분리한다. 이어서, 냉매 회수 장치(200)를 칠러(120)가 위치한 공간으로 이동킨 후, 상기 냉매 회수 장치(200)의 충진관(240)을 칠러(120)의 냉매 순환 탱크(121-2)와 연결한다. 그리고, 충진 밸브(241)를 열어 회수 탱크(212) 내로 회수된 냉매를 칠러(120) 내 냉매 순환 탱크(121-2)로 충진 한다. 칠러(120) 내로 충진된 냉매는 다시 기판 처리 장치(110)를 냉각시키기 위한 냉매로 재활용 된다. When all of the refrigerant in the chamber 111 is recovered to the recovery tank 212, the valves provided at the fluid supply pipes 220 and the recovery pipes 230 are locked and separated from the first and second connectors 112a and 112b. Subsequently, the refrigerant recovery device 200 is moved to the space where the chiller 120 is located, and the filling pipe 240 of the refrigerant recovery device 200 is connected to the refrigerant circulation tank 121-2 of the chiller 120. do. Then, the filling valve 241 is opened to fill the refrigerant recovered in the recovery tank 212 with the refrigerant circulation tank 121-2 in the chiller 120. The refrigerant charged into the chiller 120 is recycled as a refrigerant for cooling the substrate processing apparatus 110 again.

이와 같이 실시예에서는 종래와 같이 기판 처리 장치(110)를 직접 개폐하지 않고, 폐쇄한 상태로 냉매를 기판 처리 장치(110)로부터 배출시킬 수 있다. 따라서, 냉매의 교체 작업 시에 작업자가 냉매로부터 발생된 흄(fume)에 직접 노출되거나, 상기 흄(fume)이 외부로 배출되어 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있다.As described above, in the exemplary embodiment, the refrigerant may be discharged from the substrate processing apparatus 110 in a closed state without directly opening and closing the substrate processing apparatus 110 as in the related art. Therefore, the worker may be directly exposed to the fume generated from the refrigerant during the replacement operation of the refrigerant, or the fume may be discharged to the outside to prevent the environment from being polluted.

또한, 실시예에 따른 냉매 회수기(210)는 작업장으로 이동 가능하도록 제작되고, 유체 공급관(220) 및 회수관(230)이 냉매 회수기(210), 기판 처리 장치(110) 및 칠러(120)와 탈착 가능하기 때문에, 다양한 작업장에 위치하는 칠러(120)의 냉매 회수가 가능한 장점이 있다.In addition, the refrigerant recovery unit 210 according to the embodiment is manufactured to be movable to the workplace, the fluid supply pipe 220 and the recovery pipe 230 is a refrigerant recovery unit 210, the substrate processing apparatus 110 and the chiller 120 and Since it is removable, there is an advantage that the refrigerant recovery of the chiller 120 located in various workplaces.

120: 칠러 200: 냉매 회수 장치
210: 냉매 회수기 220: 유체 공급관
230: 회수관120: chiller 200: refrigerant recovery device
210: refrigerant recovery unit 220: fluid supply pipe
230: recovery pipe

Claims

A chamber having an internal space for processing a substrate, a susceptor installed in the chamber to support the substrate, a showerhead provided in the chamber to spray process raw materials toward the substrate, an inner wall of the chamber, and the susceptor And a heater installed at at least one of the shower heads to heat the substrate, one of the inner wall of the chamber, the susceptor, and the inside of the shower head, wherein one end circulates the refrigerant into the substrate processing apparatus. A circulation pipe connected to a chiller to circulate the refrigerant supplied from the chiller A refrigerant recovery apparatus for recovering a refrigerant that has cooled the substrate processing apparatus by circulating a substrate processing apparatus comprising:
A fluid supply unit supplying a fluid into the substrate processing apparatus to discharge the refrigerant in the substrate processing apparatus; And
A refrigerant recoverer having a recovery tank for storing the refrigerant discharged from the substrate processing apparatus;
A filling tube having one end connected to the recovery tank and the other end connected to the chiller to fill the chiller with the refrigerant recovered from the substrate processing apparatus into the recovery tank;
And a filter unit connected to an upper portion of the recovery tank to filter a fume gas discharged from the refrigerant recovered in the recovery tank.

The method according to claim 1,
The refrigerant recovery device is a refrigerant recovery device that is movable moving cart.

The method according to claim 1 or 2,
The coolant recovery unit receives a fluid supply and a recovery tank therein, the refrigerant recovery device comprising a movable housing.

The method of claim 3,
Wherein the fluid supply portion includes:
A power source that sucks fluid and supplies the fluid to the substrate processing apparatus; And
And a suction pipe having one end connected to the power source and supplying a fluid into the power source by the suction force of the power source.

The method of claim 4,
And the power source is a compressor.

The method of claim 4,
The suction pipe is installed so that the other end is projected to the outside of the housing is exposed to the air,
Refrigerant recovery device in which air is sucked into the suction pipe by the operation of the power source.

The method according to claim 1,
A fluid supply pipe having one end connected to the fluid supply unit and the other end connected to the substrate processing apparatus; And
And a recovery tube having one end connected to the recovery tank and the other end connected to the substrate processing apparatus to inject the refrigerant discharged from the substrate processing apparatus into the recovery tank.

The method of claim 7,
The other end of the fluid supply pipe is installed in the substrate processing apparatus, and is connected to one end of a circulation pipe in which a refrigerant circulates therein,
And the other end of the recovery pipe is connected to the other end of the circulation pipe.

The method according to claim 8,
The fluid supply pipe is removable from the fluid supply unit and the circulation pipe,
The recovery pipe is a refrigerant recovery device that can be removable from the recovery tank and the circulation pipe.

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The method according to claim 1,
And a water level detector installed in the recovery tank to detect the level of the refrigerant.

The method of claim 11,
The water level detector,
And a light transmitting detection body having a ball rising on the surface of the coolant as the level of the coolant rises and an inner space accommodating the ball and the coolant.

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