KR101365996B1 - Method for evaluating degrading of flexible substrate structure - Google Patents
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Abstract
본 발명은 한 번의 실험으로 다양한 조건에서 유연 기판 구조체의 열화특성을 분석할 수 있는 평가방법을 제공한다. 본 발명의 일 관점에 따르면 적어도 일면에 평가대상체가 형성된 유연 기판 구조체의 상기 일면 또는 상기 일면의 반대면인 타면의 양측부를 서로 대향하도록 배치된 제 1 플레이트와 상기 제 2 플레이트에 각각 결합시키는 단계; 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하며, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안 상기 유연 기판 구조체의 서로 다른 복수의 영역 각각에 서로 다른 응력모드가 인가되는 단계;를 포함하며, 상기 서로 다른 복수의 영역 각각에는 적어도 하나의 평가대상체가 배치되도록 하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법이 제공된다. The present invention provides an evaluation method for analyzing the deterioration characteristics of the flexible substrate structure under various conditions in one experiment. According to an aspect of the present invention, at least one surface of the flexible substrate structure having an object to be formed on the one side or the opposite side of the other surface, which is opposite to the one surface of the first plate and the second plate disposed so as to face each other; The second plate is reciprocally sliding in a direction parallel to the first plate, and a different stress mode is applied to each of a plurality of different regions of the flexible substrate structure while the second plate is reciprocally sliding; Includes, and at least one evaluation object is disposed in each of the plurality of different areas, there is provided a method for evaluating degradation characteristics of the flexible substrate structure.
Description
본 발명은 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법에 대한 것으로서, 구체적으로 반복적으로 굽힘 응력을 받은 유연 기판 구조체의 열화 정도를 평가할 수 있는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure, and more particularly, to a method for evaluating the degree of deterioration of a flexible substrate structure subjected to repeated bending stress.
유연 기판(flexible substrate)은 여러 종류의 칩이나 수동소자와 같은 부품소자들이 장착될 수 있는 기판으로서, 기판을 움직여야 하거나 또는 부품소자를 삽입하기 위하여 기판을 굴곡지게 하는 경우에 유연하게 대응할 수 있는 기판을 포함한다. 유연 기판은 잘 휘어지는 연성을 가지고 있으므로 연성 기판이라고도 지칭되기도 한다. 유연 기판은 고분자 소재를 이용하여 제조할 수 있으며, 배선회로면의 위치 및/또는 개수에 따라 단면 기판, 양면 기판, 다층 기판 등으로 분류될 수 있다. 유연 기판의 일면에는 여러 기능을 위한 박막이 형성될 수 있으며, 더 나아가 전자 소자로서 반도체칩과 같은 능동소자와 저항, 콘덴서와 같은 수동소자가 다수 탑재될 수 있다. A flexible substrate is a substrate on which various components such as chips or passive components can be mounted. A flexible substrate is a substrate that can flexibly respond when the substrate needs to be moved or the substrate is bent to insert component components. It includes. Flexible substrates are also referred to as flexible substrates because they have a flexible flexibility. The flexible substrate may be manufactured using a polymer material, and may be classified into a single-sided substrate, a double-sided substrate, a multi-layered substrate, and the like according to the position and / or number of wiring circuit surfaces. Thin films for various functions may be formed on one surface of the flexible substrate. Furthermore, a plurality of active devices such as semiconductor chips and passive devices such as resistors and capacitors may be mounted as electronic devices.
유연 기판은 외부에 응력에 대응하여 유연하게 변형되게 되며 따라서 유연 기판 상에 형성된 박막 또는 전자 소자들도 다양한 응력상태를 경험하게 된다. 예를 들어, 유연 기판은 반복적으로 굽힘응력을 인가받는 환경에 놓이게 되며, 따라서 이에 따라 유연 기판과 그 상에 형성된 박막 및/또는 전자 소자들을 포함하는 유연 기판 구조체는 다양한 응력을 받게 된다. 이에 유연 기판 상에 형성된 박막 및/또는 전자 소자들이 이러한 반복 굽힘 응력 하에서 열화되는 특성, 예를 들어 열화특성을 미리 예측하고 테스트하는 것은 유연 기판 구조체의 신뢰성 확보에 필수적이다. The flexible substrate is flexibly deformed in response to a stress on the outside, and thus, the thin film or electronic elements formed on the flexible substrate also experience various stress states. For example, the flexible substrate is placed in an environment repeatedly subjected to bending stress, and thus the flexible substrate structure including the flexible substrate and the thin film and / or electronic elements formed thereon is subjected to various stresses. Therefore, it is essential to secure the reliability of the flexible substrate structure in advance to predict and test the properties of the thin film and / or electronic devices formed on the flexible substrate under such repeated bending stress, for example, the degradation characteristic.
그러나 종래의 유연 기판 구조체의 열화특성을 분석하는 방법은 유연 기판을 서로 반대되는 방향으로 구부리면서 한 가지 조건의 응력만을 제공하기 때문에 다양한 조건의 응력에 대한 열화특성을 분석하기 위해서는 시간이 많이 소요되고 분석비용이 증가하는 문제점을 가진다. However, the conventional method of analyzing the deterioration characteristics of the flexible substrate structure is time-consuming to analyze the deterioration characteristics of the stress of various conditions because only one stress is provided while bending the flexible substrate in opposite directions. The problem is that the cost of analysis increases.
이에, 본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 한 번의 실험으로 다양한 조건에서 유연 기판 구조체의 열화특성을 분석할 수 있는 장치 및 방법을 제공한다. 이러한 본 발명의 과제는 예시적으로 제시되었고, 따라서 본 발명이 이러한 과제에 제한되는 것은 아니다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and provides an apparatus and method capable of analyzing the deterioration characteristics of the flexible substrate structure under various conditions in one experiment. This problem of the present invention has been presented by way of example, and therefore, the present invention is not limited to this problem.
본 발명의 일 관점에 따르면 적어도 일면에 평가대상체가 형성된 유연 기판 구조체의 상기 일면 또는 상기 일면의 반대면인 타면의 양측부를 서로 대향하도록 배치된 제 1 플레이트와 상기 제 2 플레이트에 각각 결합시키는 단계; 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하며, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안 상기 유연 기판 구조체의 서로 다른 복수의 영역 각각에 서로 다른 응력모드가 인가되는 단계;를 포함하며, 상기 서로 다른 복수의 영역 각각에는 적어도 하나의 평가대상체가 배치되도록 하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법이 제공된다. According to an aspect of the present invention, at least one surface of the flexible substrate structure having an object to be formed on the one side or the opposite side of the other surface, which is opposite to the one surface of the first plate and the second plate disposed so as to face each other; The second plate is reciprocally sliding in a direction parallel to the first plate, and a different stress mode is applied to each of a plurality of different regions of the flexible substrate structure while the second plate is reciprocally sliding; Includes, and at least one evaluation object is disposed in each of the plurality of different areas, there is provided a method for evaluating degradation characteristics of the flexible substrate structure.
이때 상기 서로 다른 응력모드가 인가되는 단계는, 상기 유연 기판 구조체의 제 1 영역에 대하여 응력이 연속적으로 계속 인가되는 제 1 응력모드 인가 단계; 상기 제 1 영역과 인접한 양측에 배치된 상기 유연 기판 구조체의 제 2 영역에 대하여 응력이 불연속적으로 반복되어 인가되는 제 2 응력모드 인가 단계; 및 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 상기 제 1 영역과 반대방향이고 상기 제 2 영역과 인접한 외측에 배치된 상기 유연 기판 구조체의 제 3 영역에 대하여 응력이 계속하여 인가되지 않는제 3 응력모드 인가 단계;를 포함할 수 있다.In this case, the step of applying the different stress mode, the first stress mode applying step of continuously applying the stress to the first region of the flexible substrate structure; Applying a second stress mode in which stress is discontinuously applied to the second region of the flexible substrate structure disposed on both sides adjacent to the first region; And a third stress in which the stress is not continuously applied to the third region of the flexible substrate structure disposed opposite to the first region and adjacent to the second region during the reciprocating sliding movement of the second plate. It may include a mode applying step.
상기 유연 기판 구조체의 제 1 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 구부러져 휜 상태를 계속 유지하는 영역을 포함할 수 있다. The first region of the flexible substrate structure may include a region that is bent while the second plate is reciprocally sliding, and thus keeps the pinched state.
상기 유연 기판 구조체의 제 2 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 구부러져 휜 상태와 절곡되지 않고 평평한 상태가 교번(交番)되는 영역을 포함할 수 있다. The second region of the flexible substrate structure may include a region in which the flat state is alternately bent without being bent and bent while the second plate is reciprocally sliding.
상기 유연 기판 구조체의 제 3 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 절곡되지 않고 평평한 상태를 계속 유지하는 영역을 포함할 수 있다. The third region of the flexible substrate structure may include a region that is not bent and continues to be flat while the second plate is reciprocally sliding.
상기 유연 기판 구조체의 제 3 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 상기 제 1 플레이트 또는 상기 제 2 플레이트와 계속 접촉하는 영역을 포함할 수 있다. The third region of the flexible substrate structure may include an area in continuous contact with the first plate or the second plate while the second plate is reciprocally sliding.
한편 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는, 상기 제 2 플레이트가 상기 제 1 플레이트에 대하여 일정한 진폭을 가지고 왕복 주기 운동하는 단계를 포함할 수 있다. Meanwhile, the reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate may include the reciprocating period movement of the second plate with a constant amplitude with respect to the first plate.
또한 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는, 상기 제 1 플레이트는 고정된 상태를 유지하면서 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계를 포함할 수 있다. In addition, the step of reciprocating sliding the second plate in a direction parallel to the first plate, the step of reciprocating sliding the second plate in a direction parallel to the first plate while maintaining the first plate fixed state It may include.
또한 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는, 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 상기 제 1 플레이트에 대하여 상대적으로 왕복 슬라이딩 이동하는 단계를 포함할 수 있다. Also, the reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate may include the reciprocating sliding movement of the second plate relative to the first plate in a direction parallel to the first plate. Can be.
한편, 상기 평가대상체는 상기 유연 기판의 적어도 일면에 형성된 박막, 능동소자, 수동소자, 금속배선 또는 태양전지 셀을 포함할 수 있다. Meanwhile, the evaluation object may include a thin film, an active device, a passive device, a metal wiring, or a solar cell formed on at least one surface of the flexible substrate.
한편 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동은 소정의 분위기에서 수행될 수 있으며, 상기 소정의 분위기는 고온 분위기, 고습 분위기, 외부 광원에 의한 광조사 분위기를 포함할 수 있다. Meanwhile, the reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate may be performed in a predetermined atmosphere, and the predetermined atmosphere may include a high temperature atmosphere, a high humidity atmosphere, and a light irradiation atmosphere by an external light source. .
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계가 완료된 후 상기 서로 다른 복수의 영역에 배치된 평가대상체의 특성을 평가하는 단계를 더 포함할 수 있다. After the step of reciprocating sliding the second plate in a direction parallel to the first plate is completed, the step of evaluating the characteristics of the evaluation object disposed in the plurality of different areas.
혹은, 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 과정 중에 상기 서로 다른 복수의 영역에 배치된 평가대상체의 특성을 평가하는 단계를 더 포함할 수 있다. Alternatively, the method may further include evaluating characteristics of evaluation objects disposed in the plurality of different regions during the reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 한 번의 실험으로 반복 굽힘 응력 하에 있는 유연 기판 구조체의 열화특성을 분석할 수 있는 장치 및 방법을 제공할 수 있다. According to one embodiment of the present invention made as described above, it is possible to provide an apparatus and method capable of analyzing the deterioration characteristics of the flexible substrate structure under repeated bending stress in one experiment.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치를 도해하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법을 도해하는 개념도이다.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체의 각 영역에 대한 변형률을 도해하는 그래프들이다.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체의 각 영역에 대한 주사전자현미경 사진들이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 왕복 주기 운동의 횟수(사이클)에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성을 도해하는 그래프 및 주사전자현미경 사진들이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 왕복 주기 운동의 슬라이딩 거리에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성을 도해하는 그래프이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 왕복 주기 운동의 변형률에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성을 도해하는 그래프이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 전자 소자가 배치된 유연 기판 구조체의 평면도이다. 1 is a cross-sectional view illustrating a deterioration characteristic evaluation apparatus of a flexible substrate structure according to an embodiment of the present invention.
2 is a conceptual diagram illustrating a method for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to another embodiment of the present invention.
3 to 5 are graphs illustrating strains of respective regions of the flexible substrate structure on which the deterioration characteristic evaluation method according to another embodiment of the present invention is performed.
6 to 8 are scanning electron micrographs of the respective regions of the flexible substrate structure for performing the degradation characteristic evaluation method according to another embodiment of the present invention.
9 are graphs and scanning electron micrographs illustrating the deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to the number of cycles (cycles) of reciprocating periodic motions in the deterioration characteristics evaluation method according to another embodiment of the present invention.
10 is a graph illustrating the deterioration characteristics of the flexible substrate structure according to the sliding distance of the reciprocating cycle motion in the deterioration characteristics evaluation method according to another embodiment of the present invention.
11 is a graph illustrating the deterioration characteristics of the flexible substrate structure according to the strain of the reciprocating cycle motion in the deterioration characteristics evaluation method according to another embodiment of the present invention.
12 is a plan view of a flexible substrate structure in which an electronic device is disposed in a deterioration characteristic evaluation method according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명함으로써 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 구성 요소들은 설명의 편의를 위하여 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention and to those skilled in the art to fully understand the scope of the invention. It is provided to inform you. In the drawings, the components may be exaggerated or reduced in size for convenience of explanation.
본 실시예를 설명하는 과정에서 언급하는 "상의" 또는 "하의" 와 같은 용어들은 도면에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 상대적인 관계를 기술하기 위해 사용될 수 있다. 즉, 상대적 용어들은 도면에서 묘사되는 방향과 별도로 구조체의 다른 방향들을 포함하는 것으로 이해될 수도 있다. 예를 들어, 도면들에서 구조체의 상하가 뒤집어 진다면, 다른 요소들의 상면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "상의" 및 "하의" 방향 모두를 포함할 수 있다. Terms such as " top "or" bottom "referred to in the description of the present embodiment can be used to describe the relative relationship of certain elements to other elements as illustrated in the figures. That is, relative terms may be understood to include different directions of the structure apart from the directions depicted in the figures. For example, if the top and bottom of the structure are inverted in the figures, the elements depicted as being on the top surface of the other elements will have a direction on the bottom surface of the other elements. The term "topsheet " as used herein, therefore, may include both" top "and" bottom "directions, depending on the particular orientation of the figures.
또한, 본 실시예를 설명하는 과정에서, 어떠한 구성요소가 다른 구성요소 "상에" 위치하거나, 다른 구성요소에 "(전기적으로) 연결"된다고 언급할 때는, 상기 구성요소는 상기 다른 구성요소의 직접 상에 위치하거나, 상기 다른 구성요소에 직접 (전기적으로) 연결되는 것을 의미할 수도 있으나, 나아가, 하나 또는 둘 이상의 개재하는 구성요소들이 그 사이에 존재할 수 있음을 의미할 수도 있다. 하지만, 어떠한 구성요소가 다른 구성요소의 "직접 상에" 위치하거나, 다른 구성요소에 "직접 (전기적으로) 연결"된다거나, 또는 다른 구성요소에"직접 접촉"한다고 언급할 때는, 별도의 언급이 없다면 그 사이에 개재하는 구성요소들이 존재하지 않음을 의미한다. Further, in the process of describing the present embodiment, when it is mentioned that an element is located on another element, or is "electrically connected" to another element, Directly or (directly) electrically connected to the other component, but may also mean that one or more intervening components may be present therebetween. However, when an element is referred to as being "directly on" another element, "directly (electrically) connected" to another element, or "directly in contact" with another element, If there is no, it means that there are no intervening components in between.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.In the following embodiments, the x-axis, the y-axis, and the z-axis are not limited to three axes on the orthogonal coordinate system, and can be interpreted in a broad sense including the three axes. For example, the x-axis, y-axis, and z-axis may be orthogonal to each other, but may refer to different directions that are not orthogonal to each other.
한편 유연 기판 구조체는 유연 기판과 상기 유연 기판 상에 특정한 기능을 수행하기 위하여 형성된 박막이나 금속배선, 전자소자를 모두 포함하는 것으로 정의된다. On the other hand, the flexible substrate structure is defined as including both the flexible substrate and the thin film, metal wiring, electronic devices formed to perform a specific function on the flexible substrate.
본 명세서 및 특허청구범위에서 유연 기판 상에 형성된 박막 혹은 전자소자는 반복 굽힘 응력 하에서의 특성이 열화되는 정도가 평가되는 객체인바, 이를 모두 평가대상체라 명명할 수 있다. In the present specification and claims, the thin film or the electronic device formed on the flexible substrate is an object to which the degree of deterioration of characteristics under repeated bending stress is evaluated, and all of them may be called evaluation objects.
예를 들어, 평가대상체로서 전자소자는 반도체 소자나 태양전지 셀과 같은 전기적 신호에 의해 작동되는 소자를 포함한다. 일예로서 반도체 소자는 트랜지스터와 같은 능동소자, 혹은 저항, 콘덴서와 같은 수동소자를 포함할 수 있다. 또한 태양전지 셀은 유연 기판의 일면 상에 형성되는 박막형 태양전지를 모두 포함할 수 있다. 그러나 이는 예시적인 것이며, 본 발명의 평가대상체가 이에 한정되는 것은 아님은 물론이다. For example, an electronic device as an evaluation object includes a device that is operated by an electrical signal such as a semiconductor device or a solar cell. As an example, the semiconductor device may include an active device such as a transistor or a passive device such as a resistor or a capacitor. In addition, the solar cell may include all the thin-film solar cells formed on one surface of the flexible substrate. However, this is exemplary, and of course, the subject of evaluation of the present invention is not limited thereto.
유연 기판 상에 형성된 평가대상체에 일정 형태의 응력을 인가하는 경우에는 특성의 열화가 발생될 수 있다. 이러한 열화의 양태로서 박막의 경우에는 밀착성의 열화로 인해 유연 기판으로부터 박막이 떨어지는 현상을 나타낼 수 있다. 평가대상체가 전자소자인 경우에는 전기적 특성이 급격히 나빠지거나 소자 작동이 불가능해지는 경우가 나타날 수 있다. 특히 반복 굽힘 응력 하에서는 크랙의 발생 및 전파에 따른 피로파괴가 나타날 수 있다 .When a certain type of stress is applied to the evaluation object formed on the flexible substrate, deterioration of characteristics may occur. In the case of the thin film as an aspect of such deterioration, it may exhibit a phenomenon that the thin film falls from the flexible substrate due to the deterioration of adhesion. In the case where the object to be evaluated is an electronic device, there may be a case in which the electrical characteristics may deteriorate rapidly or the device may become inoperable. Particularly under repeated bending stresses, fatigue failure may occur due to crack generation and propagation.
한편, 유연 기판은 상술한 평가대상체를 장착할 수 있는 기판으로서, 기판을 움직여야 하거나 또는 전자 소자를 삽입하기 위하여 기판을 굴곡지게 하는 경우에 유연하게 대응할 수 있는 기판을 포함한다. 유연 기판은, 예를 들어, 고분자 소재를 포함할 수 있다On the other hand, the flexible substrate is a substrate on which the above-described evaluation object can be mounted, and includes a substrate that can flexibly respond when the substrate is to be moved or the substrate is bent to insert the electronic device. The flexible substrate may include, for example, a polymer material.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성을 평가하기 위하여 이용가능한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치를 도해하는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view illustrating an apparatus for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure usable for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치는 일정한 거리(d)만큼 이격하여 서로 대향하도록 배치된 제 1 플레이트(22) 및 제 2 플레이트(24)를 포함한다. 제 2 플레이트(24)는 제 1 플레이트(22)에 대하여 왕복 슬라이딩 이동이 가능하다. 예를 들어, 제 1 플레이트(22)는 고정된 상태에서 제 2 플레이트(24)는 + x 방향으로 이동하였다가 다시 - x 방향으로 이동하는 왕복 슬라이딩(sliding) 운동이 가능하다. 물론, 제 1 플레이트(22)가 이동하여도 제 2 플레이트(24)가 제 1 플레이트(22)에 대하여 상대적으로 더 많이 이동함으로써, 제 1 플레이트(22)에 대한 제 2 플레이트(24)의 왕복 슬라이딩 이동을 구현할 수도 있다. 이러한 왕복 슬라이딩 이동은 일정한 진폭을 가지는 왕복 주기 운동을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, the apparatus for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure includes a
제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24) 사이에 유연 기판 구조체(12)가 배치될 수 있다. 본 실시예에서 유연 기판 구조체(12)는 유연 기판(14)과 평가대상체로서 유연 기판(14)의 일면 상에 형성된 박막(16)을 포함할 수 있다. The
유연 기판(14) 상의 박막(16)은 코팅법, 도금법, 물리적 기상 증착법(PVD), 화학적 기상 증착법(CVD) 또는 원자층 증착법(ALD)의 방법에 의하여 유연 기판(14) 상에 형성될 수 있다. 유연 기판(14) 상의 박막(16)은, 예를 들어, 구리 박막을 포함할 수 있다. 또한, 유연 기판(14) 상의 박막(16)은 단일층 뿐만 아니라 다중층으로 구성될 수도 있다. The
유연 기판 구조체(12)의 일면 상의 일측부는 제 1 플레이트(22)에 결합될 수 있으며, 유연 기판 구조체(12)의 상기 일면 상의 타측부는 제 2 플레이트(24)에 결합될 수 있다. 제 1 플레이트(22) 및 제 2 플레이트(24)에 결합되는 유연 기판 구조체(12)의 상기 일면은 유연 기판(14) 상의 박막(16)의 상부면일 수 있다. 여기에서 결합된다는 것은 유연 기판 구조체(12)가 제 1 플레이트(22) 또는 제 2 플레이트(24)와 물리적, 화학적, 구조적, 기계적으로 반응, 부착, 점착, 접착, 지지 또는 고정되는 임의의 구성을 모두 포함할 수 있다. 제 1 플레이트(22) 또는 제 2 플레이트(24)와 결합하는 유연 기판 구조체(12)의 일면 상의 양측부의 각각의 면적 및/또는 폭은 제 2 플레이트(24)의 왕복 슬라이딩 운동의 진폭, 플레이트들(22, 24) 간의 이격거리 등을 감안하여 결정될 수 있다. One side on one side of the
제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24)는 그 사이에 유연 기판 구조체(12)의 일부가 구부러져 휜 상태가 유지될 수 있도록 배치될 수 있다. 제 2 플레이트(24)는 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로(도 1에서 ±x 방향으로) 일정한 진폭을 가지고 왕복 주기 운동을 할 수 있도록 구성될 수 있다. 플레이트들(22, 24) 사이에 유연 기판 구조체(12)의 일부가 구부러져 휜 상태가 유지되면서 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동을 하기 때문에, 유연 기판 구조체(12)는 응력이 계속 인가되는 영역, 응력이 불연속적으로 인가되는 영역 및 응력이 계속하여 인가되지 않는 영역으로 구분될 수 있다. 따라서 본 발명의 일 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치에 의하면, 한 번의 실험으로 다양한 조건의 응력이 인가되는 유연 기판 구조체(12)의 열화특성을 평가할 수 있는 유리한 효과를 기대할 수 있다. The
이러한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치는 제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24)에 각각 연결되어 유연 기판 구조체(12)의 전기 저항을 측정할 수 있는 측정부(26)를 더 포함할 수 있다. 피로가 발생한 유연 기판 구조체(12), 예를 들어, 유연 기판(14) 상의 박막(16)은 내부에 크랙(crack)이 생성되어 박막(16)의 전기 저항이 변할 수 있다. 따라서 유연 기판 구조체(12)의 전기 저항을 측정함으로써, 유연 기판 구조체(12)의 열화특성을 간접적으로 평가할 수 있다. The apparatus for evaluating deterioration characteristics of the flexible substrate structure may further include a measuring
이하에서는, 본 발명의 다른 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가 방법을 설명한다. 본 발명의 다른 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법은 상술한 본 발명의 일 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치를 이용하여 구현할 수 있으므로, 이를 위주로 설명하지만, 본 발명의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, a method for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to another embodiment of the present invention will be described. Degradation characteristics evaluation method of the flexible substrate structure according to another embodiment of the present invention can be implemented using the degradation characteristics evaluation apparatus of the flexible substrate structure according to an embodiment of the present invention described above, but the description will be mainly focused on this, The technical idea is not limited thereto.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법을 도해하는 개념도이다. 제 1 플레이트(22), 제 2 플레이트(24) 및 유연 기판 구조체(12)에 대한 설명은 도 1을 참조하여 설명한 영역과 동일하므로 중복되는 영역은 생략한다. 2 is a conceptual diagram illustrating a method for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to an embodiment of the present invention. Since the description of the
도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 의한 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법은, 서로 이격하여 대향하는 제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24)를 준비하고, 유연 기판 구조체(12)를 준비하는 제 1 단계, 유연 기판 구조체(12)의 일부가 구부러져 휜 상태를 유지하면서, 유연 기판 구조체(12)의 일면 상의 양측부가 제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24)에 각각 결합되도록, 유연 기판 구조체(12)를 제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24) 사이에 배치하는 제 2 단계 및 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 제 3 단계를 포함한다. Referring to FIG. 2, in the method for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to an exemplary embodiment of the present invention, a
제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는 제 2 플레이트(24)가 제 1 플레이트(22)에 대하여 일정한 진폭을 가지고 왕복 주기 운동하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 플레이트(24)가 제 1 플레이트(22)에 대하여 일정한 진폭을 가지고 왕복 주기 운동하면, 제 1 플레이트(22)와 제 2 플레이트(24) 사이에 배치된 유연 기판 구조체(12)는 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번(예를 들어, (a) → (b) → (a) → (b) (a) → (b) → (a) → (b)...)할 수 있다. The reciprocating sliding movement of the
제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는 제 1 플레이트(22)는 고정된 상태를 유지하면서 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계를 포함할 수 있다. 변형된 실시예로서, 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는 제 1 플레이트(22)가 이동하더라도 제 2 플레이트(24)가 제 1 플레이트(22)에 대하여 상대적으로 더 많이 이동함으로써, 제 2 플레이트(24)가 제 1 플레이트(22)에 대하여 상대적인 왕복 슬라이딩 이동하는 단계를 포함할 수도 있다. The reciprocating sliding movement of the
유연 기판 구조체(12)는, 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 서로 다른 복수의 영역 각각에 서도 다른 응력모드(stress mode)가 인가될 수 있다. 여기서 응력모드는 제 2 플레이트(24)의 왕복 슬라이딩 이동 동안 유연 기판 구조체(12)의 특정 영역에서 반복적으로 인가받게 되는 응력형태를 말한다. The
본 실시예에서는 유연 기판 구조체(12)는 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 서로 상이한 응력모드가 나타나는 복수의 영역이 존재할 수 있다. In the present exemplary embodiment, the
예를 들어, 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 구부러져 휜(bended) 상태를 계속 유지하는 제 1 영역(16c)을 포함할 수 있다. For example, it may include a
또한, 유연 기판 구조체(12)는, 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 즉, 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 절곡되지 않고 평평한 상태를 계속 유지하는 제 3 영역(16a, 16e)을 포함할 수 있다. Further, the
나아가, 유연 기판 구조체(12)는, 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 즉, 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 구부러져 휜 상태와 절곡되지 않고 평평한 상태가 교번되는 제 2 영역(16b, 16d)을 포함할 수 있다. Furthermore, the
유연 기판 구조체(12)의 제 2 영역(16b, 16d)은 제 1 영역(16c)과 제 3 영역(16a, 16e) 사이에 배치되며, 제 1 영역(16c)과 인접한 양측에 배치될 수 있다. 유연 기판 구조체(12)의 제 3 영역(16a, 16e)은 제 2 영역(16b, 16d)을 기준으로 제 1 영역(16c)과 반대방향이고 제 2 영역(16b, 16d)에 인접한 외측에 배치될 수 있다. The
유연 기판 구조체(12)의 제 3 영역(16a, 16e)은, 제 1 플레이트(22)에 나란한 방향으로 제 2 플레이트(24)가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 제 1 플레이트(22) 또는 제 2 플레이트(24)와 계속 접촉하는 영역을 포함할 수 있다. 이와 같이 서로 다른 복수의 영역에서는 서로 다른 응력모드가 인가될 수 있다. The
도 3 내지 도 5는 본 발명의 실시예를 따르는 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체의 각 영역에 대한 변형률을 도해하는 그래프들이다. 한편, 도 6 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체의 각 영역에 대한 주사전자현미경 사진들이다. 3 to 5 are graphs illustrating strains of respective regions of the flexible substrate structure on which the degradation characteristic evaluation method according to the embodiment of the present invention is performed. 6 to 8 are scanning electron micrographs of respective regions of the flexible substrate structure on which the deterioration characteristic evaluation method according to another embodiment of the present invention is performed.
도 2, 도 3 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체(12)의 제 2 영역(16b)은, 도 2의 (a)에 도시된 상태를 초기 상태로 하여 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 응력이 불연속적으로 반복되어 인가되므로 일정한 값(k)을 가지는 변형률(strain)도 불연속적으로 반복되어 나타난다. 이를 제 2 응력모드라 한다. 이 경우 유연 기판 구조체(12)의 제 2 영역(16b)에서는 반복적인 굽힘 응력의 인가에 따른 피로 손상(fatigue damage)이 나타난다. 2, 3, and 6, the
도 2, 도 4 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체(12)의 제 1 영역(16c)은, 도 2의 (a)에 도시된 상태를 초기 상태로 하여 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 응력이 연속적으로 계속 인가되므로 일정한 값(k)을 가지는 변형률(strain)도 연속적으로 계속 나타난다. 이를 제 1 응력 모드라 한다. 이 경우 유연 기판 구조체(12)의 제 1 영역(16c)에서는 반복적인 굽힘 응력에 따른 피일정한 하중이 연속적으로 인가됨에 따른 특성의 열화가 나타나지 않는다. 다만, 일정한 하중이 인가됨에 따른 특성의 열화는 나타날 수 있다. 2, 4, and 7, the
도 2, 도 5 및 도 8 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체(12)의 제 2 영역(16d)은, 도 2의 (a)에 도시된 상태를 초기 상태로 하여 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 응력이 불연속적으로 반복되어 인가되므로 일정한 값(k)을 가지는 변형률(strain)도 불연속적으로 반복되어 나타난다. 이 경우 유연 기판 구조체(12)의 제 2 영역(16d)에서는 반복적인 굽힘 응력의 인가에 따른 피로 손상(fatigue damage)이 나타난다. 2, 5, and 8, the
한편, 도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법을 수행한 유연 기판 구조체(12)의 제 3 영역(16a, 16e)은, 도 2의 (a)에 도시된 상태를 초기 상태로 하여 도 2의 (a)에 도시된 상태와 (b)에 도시된 상태를 복수회 반복하여 교번하는 동안, 응력이 계속하여 인가되지 않으므로 변형률(strain)도 계속 제로(0)의 값이 나타난다. 이를 제 3 응력모드라 한다. 이 경우 유연 기판 구조체(12)의 제 3 영역(16a, 16e)에서는 일정한 응력이 연속적으로 인가됨에 다른 특성의 열화나 반복적인 굽힘 응력의 인가에 따른 피로 손상(fatigue damage)이 나타나지 않는다. Meanwhile, referring to FIG. 2, the
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 왕복 주기 운동의 횟수(사이클)에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성을 도해하는 그래프 및 주사전자현미경 사진들이다. 도 9를 참조하면, 왕복 주기 운동의 횟수(사이클)가 소정의 임계값에 이를 때까지는 크랙이 발생하지 않지만(crack initation), 상기 임계값 이상에서 크랙 전파(crack propagation)에 따른 발생은 기하급수적으로 증가하게 된다. 이에 따라 박막의 저항(R/R0)은 급격히 증가하게 된다. 여기서 R0는 평가 전의 박막 저항이며, R은 평가 후의 박막 저항이다.9 are graphs and scanning electron micrographs illustrating the deterioration characteristics of a flexible substrate structure according to the number of cycles (cycles) of reciprocating periodic motions in the deterioration characteristics evaluation method according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 9, cracking does not occur until the number of cycles (cycles) of reciprocating cycles reaches a predetermined threshold value, but the occurrence of crack propagation above the threshold value is exponential. To increase. As a result, the resistance R / R0 of the thin film is rapidly increased. R 0 is a thin film resistance before evaluation, and R is a thin film resistance after evaluation.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 왕복 주기 운동시 제 2 플레이트(24)의 슬라이딩 거리에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성을 도해하는 그래프이다. 도 10을 참조하면, 슬라이딩 거리가 클수록 크랙이 발생하는 왕복 주기 운동의 횟수(사이클)가 작아진다. 이는 반복적인 굽힘 응력을 받는 제 2 영역(16b, 16d)의 크기가 증가함에 따른 것으로 판단된다. 10 is a graph illustrating deterioration characteristics of the flexible substrate structure according to the sliding distance of the
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 왕복 주기 운동의 변형률에 따른 유연 기판 구조체의 열화특성을 도해하는 그래프이다. 도 11을 참조하면, 왕복 주기 운동의 변형률이 클수록 크랙이 발생하는 왕복 주기 운동의 횟수(사이클)가 작아진다. 11 is a graph illustrating the deterioration characteristics of the flexible substrate structure according to the strain of the reciprocating cycle motion in the deterioration characteristics evaluation method according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 11, the larger the strain of the reciprocating periodic motion, the smaller the number of cycles (cycles) of the reciprocating periodic motion that a crack occurs.
지금까지 설명한 실시예에서는 유연 기판 구조체(12)는 유연 기판(14)과 유연 기판(14) 상의 박막(16)으로 이루어진 구조체에 적용될 수 있지만, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. In the embodiments described so far, the
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 의한 열화특성 평가방법에서 전자 소자가 배치된 유연 기판 구조체의 평면도이다. 도 12를 참조하면, 본 발명의 변형된 실시예에서 열화특성 평가장치 및 평가방법이 적용될 수 있는 유연 기판 구조체(12)는 유연 기판(14), 유연 기판(14) 상의 박막(16) 및 박막(16) 상에 배치된 전자소자 박막 트랜지스터(thin film transistor,34)를 포함할 수 있다. 이때 유연 기판 구조체(12)는 박막 트랜지스터(34)에 연결되는 배선회로 및 패드부(32)를 더 포함할 수 있다. 12 is a plan view of a flexible substrate structure in which an electronic device is disposed in a deterioration characteristic evaluation method according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 12, in the modified embodiment of the present invention, the
이러한 박막 트랜지스터(34)는 유연 기판 구조체의 제 1 영역(16c), 제 2 영역(16b, 16d) 및 제 3 영역(16a, 16e) 상에 각각 배치될 수 있다. 따라서 이러한 유연 기판 구조체(12)를 상술한 방법을 이용하여 테스트 할 경우 제 1 영역 내지 제 3 영역(16c, 16b, 16d, 16a, 16e)에 배치된 박막 트랜지스터(34)는 제 1 응력모드 내지 제 3 응력모드 하에 있게 된다. The
이 경우 소정 시간 동안 테스트를 수행한 후 각 영역에서 배치된 박막 트랜지스터(34)의 전기적 특성을 평가함으로써 한번의 테스트에 의해 서로 다른 3가지 응력모드 하에 있던 박막 트랜지스터(34)의 특성열화를 평가할 수 있다. 예를 들어, 박막 트랜지스터(34)의 게이트 문턱 전압이나 콘택저항 혹은 게이트 절연막의 절연파괴전압 등을 서로 비교할 수 있다. In this case, by performing the test for a predetermined time and evaluating the electrical characteristics of the
이 경우 제 3 영역(16a, 16b)에 배치된 박막 트랜지스터의 경우에는 반복 굽힘 응력이나 일정하게 연속되는 응력을 인가받지 않은 상태이므로 정상작동이 예측되는바, 상기 박막 트랜지스터에서 측정한 전기적 특성을 기준값을 가정할 수 있다. 따라서 이를 기준으로 하여 제 2 영역(16b, 16d) 및 제 3 영역(16a, 16e)에 배치된 박막 트랜지스터의 전기적 특성을 측정하여 서로 비교함으로써 일정한 응력이 인가될 때 및 반복적인 굽힘 응력이 인가되었을 때의 박막 트랜지스터의 열화 양상을 평가할 수 있게 된다. In this case, since the thin film transistors disposed in the
한편 변형된 실시예로서 유연 기판 구조체의 열화특성 평가장치의 측정부(26)를 이용하여 테스트 과정 중에 직접(in-situ)로 박막 트랜지스터의 전기적 특성을 모니터링함으로써 실시간으로 박막 트랜지스터의 열화정도를 평가할 수 있다. Meanwhile, as a modified embodiment, the degree of degradation of the thin film transistor may be evaluated in real time by monitoring the electrical properties of the thin film transistor in-situ during the test process by using the measuring
위 실시예에서는 일반적인 실온 하의 대기 중에서의 평가방법에 대해서 설명하였으며, 변형된 실시예로서 평가결과의 가속화 또는 특정 분위기에서의 열화특성을 평가하기 위해 특정한 분위기를 조성하는 것도 가능하다. 예를 들어 외부 열원을 이용하여 고온 분위기를 조성하거나, 수증기 등을 공급하여 고습 분위기를 제공할 수 있다. 다른 예로서 외부 광원을 설치하여 광조사 분위기를 제공할 수 있다.In the above embodiment, the evaluation method in the air under normal room temperature has been described. As a modified embodiment, it is also possible to create a specific atmosphere in order to accelerate the evaluation result or to evaluate deterioration characteristics in a specific atmosphere. For example, an external heat source may be used to create a high temperature atmosphere, or water vapor may be supplied to provide a high humidity atmosphere. As another example, an external light source may be installed to provide a light irradiation atmosphere.
발명의 특정 실시예들에 대한 이상의 설명은 예시 및 설명을 목적으로 제공되었다. 따라서 본 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 상기 실시예들을 조합하여 실시하는 등 여러 가지 많은 수정 및 변경이 가능함은 명백하다.The foregoing description of specific embodiments of the invention has been presented for purposes of illustration and description. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. Do.
22 : 제 1 플레이트
24 : 제 2 플레이트
12 : 유연 기판 구조체
14 : 유연 기판
16 : 박막22: first plate
24: second plate
12: flexible substrate structure
14: flexible substrate
16: thin film
Claims (14)
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하며, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안 상기 유연 기판 구조체의 서로 다른 복수의 영역 각각에 서로 다른 응력모드가 인가되는 단계;를 포함하며,
상기 서로 다른 복수의 영역 각각에는 적어도 하나의 평가대상체가 배치되도록 하고,
상기 서로 다른 응력모드가 인가되는 단계는,
상기 유연 기판 구조체의 제 1 영역에 대하여 응력이 연속적으로 계속 인가되는 제 1 응력모드 인가 단계;
상기 제 1 영역과 인접한 양측에 배치된 상기 유연 기판 구조체의 제 2 영역에 대하여 응력이 불연속적으로 반복되어 인가되는 제 2 응력모드 인가 단계; 및
상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 상기 제 1 영역과 반대방향이고 상기 제 2 영역과 인접한 외측에 배치된 상기 유연 기판 구조체의 제 3 영역에 대하여 응력이 계속하여 인가되지 않는제 3 응력모드 인가 단계;
를 포함하고,
상기 유연 기판 구조체의 제 1 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 구부러져 휜 상태를 계속 유지하는 영역을 포함하고,
상기 유연 기판 구조체의 제 2 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 구부러져 휜 상태와 절곡되지 않고 평평한 상태가 교번(交番)되는 영역을 포함하고,
상기 유연 기판 구조체의 제 3 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 절곡되지 않고 평평한 상태를 계속 유지하는 영역을 포함하고,
상기 제3 영역에 배치된 평가대상체의 측정 특성을 기준으로 상기 제1 영역에 배치된 평가대상체의 측정 특성 또는 상기 제2 영역에 배치된 평가대상체의 측정 특성을 비교하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.Coupling both side portions of the one surface of the flexible substrate structure having at least one surface to which the evaluation object is formed or opposite surfaces of the other surface to the first plate and the second plate disposed to face each other;
The second plate is reciprocally sliding in a direction parallel to the first plate, and a different stress mode is applied to each of a plurality of different regions of the flexible substrate structure while the second plate is reciprocally sliding; Include,
At least one evaluation object is disposed in each of the plurality of different regions,
The step of applying the different stress mode,
Applying a first stress mode in which stress is continuously applied to the first region of the flexible substrate structure;
Applying a second stress mode in which stress is discontinuously applied to the second region of the flexible substrate structure disposed on both sides adjacent to the first region; And
A third stress mode during which the second plate is reciprocally sliding, in which stress is not continuously applied to the third region of the flexible substrate structure disposed opposite to the first region and disposed outwardly adjacent the second region Applying step;
Lt; / RTI >
The first region of the flexible substrate structure includes a region that is bent and continues to be in a rest state while the second plate is reciprocally sliding,
The second region of the flexible substrate structure includes a region in which the flat state is alternately bent without being bent and bent while the second plate is reciprocally sliding,
The third region of the flexible substrate structure includes a region that is maintained while being flat without being bent while the second plate is reciprocally sliding,
Degradation characteristics of the flexible substrate structure comparing the measurement characteristics of the evaluation object disposed in the first region or the measurement characteristics of the evaluation object disposed in the second region based on the measurement characteristics of the evaluation object disposed in the third region. Assessment Methods.
상기 유연 기판 구조체의 제 3 영역은, 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 동안, 상기 제 1 플레이트 또는 상기 제 2 플레이트와 계속 접촉하는 영역을 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.The method of claim 1,
And the third region of the flexible substrate structure includes a region in continuous contact with the first plate or the second plate while the second plate is reciprocally sliding.
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는,
상기 제 2 플레이트가 상기 제 1 플레이트에 대하여 일정한 진폭을 가지고 왕복 주기 운동하는 단계를 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.The method of claim 1,
The reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate,
And the second plate reciprocating cyclically having a constant amplitude with respect to the first plate.
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는,
상기 제 1 플레이트는 고정된 상태를 유지하면서 상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계를 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.The method of claim 1,
The reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate,
And the second plate reciprocally sliding in a direction parallel to the first plate while maintaining the fixed state of the first plate.
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계는,
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 상기 제 1 플레이트에 대하여 상대적으로 왕복 슬라이딩 이동하는 단계를 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.The method of claim 1,
The reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate,
And reciprocating sliding the second plate relative to the first plate in a direction parallel to the first plate.
상기 평가대상체는 상기 유연 기판의 적어도 일면에 형성된 박막, 능동소자, 수동소자, 금속배선 또는 태양전지 셀을 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.The method of claim 1,
The evaluation target object includes a thin film formed on at least one surface of the flexible substrate, an active device, a passive device, a metal wiring, or a solar cell, deterioration characteristics evaluation method of a flexible substrate structure.
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동은 소정의 분위기에서 수행되는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법.The method of claim 1,
A method for evaluating deterioration characteristics of a flexible substrate structure, wherein the reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate is performed in a predetermined atmosphere.
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 단계가 완료된 후 상기 서로 다른 복수의 영역에 배치된 평가대상체의 특성을 평가하는 단계를 더 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법. The method of claim 1,
Evaluating deterioration characteristics of the flexible substrate structure after the step of reciprocating sliding the second plate in a direction parallel to the first plate is completed, evaluating characteristics of evaluation objects disposed in the plurality of different regions. Way.
상기 제 1 플레이트에 나란한 방향으로 상기 제 2 플레이트가 왕복 슬라이딩 이동하는 과정 중에 상기 서로 다른 복수의 영역에 배치된 평가대상체의 특성을 평가하는 단계를 더 포함하는, 유연 기판 구조체의 열화특성 평가방법. The method of claim 1,
And evaluating characteristics of evaluation objects disposed in the plurality of different regions during the reciprocating sliding movement of the second plate in a direction parallel to the first plate.
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