KR101363295B1 - A multiflex line laser annealing equipment - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다중 라인 레이저 어닐링장치에 관한 것으로, 그 주된 목적은 높은 광효율과 전체적으로 고르게 분포되는 다수의 라인 레이저 광을 얻고, 국부적으로 어닐링 조건이 다른 모재라 하더라도 한번에 처리가 가능하도록 함으로서 어닐링공정의 생산성을 향상시키는 것이다.
이러한 목적을 이루기 위한 본 발명은,
적어도 하나 이상 구비된 1차 광원부와, 상기 1차 광원부에서 발생한 레이저 빔을 다수의 선형 레이저로 생산하도록 평판 형태로 구비된 격자판과, 상기 격자판 일면에 구비된 격자 반사체가 적어도 하나 이상 구비된 2차 광원부와, 상기 2차 광원부에서 조사되는 다중 레이저에 의해 어닐링될 수 있도록 어닐링모재를 고정하며, XYZ방향으로 구동될 수 있게 구성되고, 구동속도의 조절이 가능한 베이스 플레이트를 포함하는 다중 라인레이저 어닐링장치에 관한 것으로,
상기 1차 광원부는 발광 다이오드 또는 레이저 다이오드중 어느 하나로 이루어진 레이저소스와, 상기 레이저소스에서 생산되는 레이저 빔을 90도 직각 방향으로 투과 또는 반사시켜서 2갈래로 나누어 주도록 일단에 구비된 빔 스프리터와, 상기 빔 스프리터에서 생산되는 두 갈래 레이저 빛을 상기 2차 광원부로 반사시키는 컨트롤 미러로 이루어진다.
이에 따라, 높은 광효율과 전체적으로 고르게 분포되는 다수의 라인 광을 얻도록 하고, 국부적으로 어닐링 조건이 다른 모재라 하더라도 한번에 처리가 가능하도록 함으로서 어닐링공정의 생산성을 향상시키는 이점이 있다.The present invention relates to a multi-line laser annealing device, the main object of which is to obtain a high light efficiency and a plurality of line laser light evenly distributed throughout, and the productivity of the annealing process by allowing processing at a time even if the base material with different annealing conditions are different To improve.
According to an aspect of the present invention,
A secondary light source having at least one primary light source unit, a grid plate provided in the form of a plate to produce a laser beam generated in the primary light source unit with a plurality of linear laser, and at least one grid reflector provided on one surface of the grid plate A multi-line laser annealing device comprising a light source unit, a base plate fixed to an annealing base material to be annealed by the multiple lasers irradiated from the secondary light source unit, and configured to be driven in the XYZ direction, and having an adjustable drive speed. Regarding,
The primary light source unit includes a laser source made of any one of a light emitting diode or a laser diode, a beam splitter provided at one end to transmit or reflect the laser beam produced by the laser source in a 90 degree orthogonal direction, and divide it into two branches; It consists of a control mirror for reflecting the two-pronged laser light produced by the beam splitter to the secondary light source.
Accordingly, there is an advantage to improve the productivity of the annealing process by obtaining a high light efficiency and a plurality of line light evenly distributed as a whole, and by allowing processing at a time even if the base material is locally different annealing conditions.

Description

다중 라인레이저 어닐링장치{A MULTIFLEX LINE LASER ANNEALING EQUIPMENT}MULTIFLEX LINE LASER ANNEALING EQUIPMENT

본 발명은 어닐링장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 적어도 하나 이상 구비된 레이저 광원에서 발생한 1차 광을 빔 스프리터를 통해 두 갈래의 빛으로 컨트롤 미러에 조사하고, 이 컨트롤 미러에서는 2차 광원인 격자 반사체에 1차 광을 조사함으로서, 결맞은 반사광을 얻도록 하여 다양한 형태의 선형(線形)을 얻을 수 있고, 라인 레이저간의 간격을 조절함으로써, 열처리 정도와 결정화 상태의 조절이 가능하도록 한 적어도 2열 이상의 라인 레이저를 생산하는 다중 라인 레이저 어닐링장치에 관한 것이다.The present invention relates to an annealing apparatus, and more particularly, the primary light generated from the laser light source provided with at least one or more is irradiated to the control mirror with a two-way light through a beam splitter, in the control mirror grating By irradiating the primary light to the reflector, it is possible to obtain a linear reflection of various forms by obtaining a consistent reflected light, and at least two columns to adjust the degree of heat treatment and the crystallization state by adjusting the distance between the line lasers The present invention relates to a multi-line laser annealing apparatus for producing the above-mentioned line laser.

일반적으로, 레이저(LASER, Light Amplification by the Stimulated Emission of Radiation)는 "유도 방출에 의한 빛의 증폭"의 영어표기를 한글화한 것으로서, 광자를 결맞은 빛으로 방출하는 광원이며 전형적인 레이저 광은 단색, 즉, 오직 하나의 파장이나 색으로 이루어져 있다. In general, the laser (LASER, Light Amplification by the Stimulated Emission of Radiation) is the Korean word for "amplification of light by induction emission", a light source that emits photons as a coherent light, typical laser light is a monochromatic, That is, it consists of only one wavelength or color.

보통의 빛은, 렌즈를 써서 아주 가늘게 만들 수 있기는 하지만 곧 크게 퍼져 버리고, 여러 가지 파장, 즉, 여러 가지 색의 빛이 섞여 있으므로, 비교적 순수한 빛이랄 수 있는 네온사인등의 방전에 의한 빛도 원자의 운동에 의한 도플러 효과로 약간의 파장폭을 가지고 있다.Ordinary light can be made very thin by using a lens, but soon spreads greatly, and because of the light of various wavelengths, that is, various colors, the light by the discharge such as neon sign which can be relatively pure light The Doppler effect caused by the motion of atoms has a slight wavelength width.

이에 비해, 레이저는 좁고 긴 관을 수만번 왕복한 빛이기 때문에 멀리까지 갈 수 있는 상태로 아주 잘 빚어져서 거의 퍼지지 않고 직진하게 되고, 공명상태의 빛을 방출하므로, 거의 단일한 파장을 갖는 순수한 빛을 방출한다. In contrast, lasers are light that reciprocates narrow and long tubes tens of thousands of times, so they can go very far and go straight forward with almost no spread, and emit light in resonance, resulting in pure light with almost a single wavelength. Emits.

이와 같은, 레이저는 일반적으로 열처리 기계에도 많이 활용되고 있다.Such lasers are generally utilized in heat treatment machines in general.

예를 들면, 도 1에 도시한 바와 같이, 특허등록번호 제 1001551호로 등록된 "레이저 어닐링장치"가 그 대표적인 것으로, 그 내용은 다음과 같다.For example, as shown in FIG. 1, the "laser annealing apparatus" registered under patent registration number 1001551 is the representative one, and the content is as follows.

도시한 바를 참조하면, 레이저 어닐링장치(AE)(이하, "어닐링장치"라 칭한다)는, 레이저 빔 발생기(BF)와 빔 균질기(BH), 반사부재(MR) 및 집광렌즈(LL)를 포함하는 2차 광원부(LE)와 상기 집광렌즈의 각도를 조절하는 집광렌즈 조절장치(LC)로 이루어진다.Referring to the drawings, the laser annealing apparatus AE (hereinafter referred to as an annealing apparatus) includes the laser beam generator BF, the beam homogenizer BH, the reflecting member MR, and the condenser lens LL. Consists of a secondary light source unit LE and a condenser lens control device LC for adjusting the angle of the condenser lens.

레이저 빔 발생기(BF)로 부터 발생된 레이저 빔(LB)은 2차 광원부(LE)를 통과하면 선형 레이저 빔(LB)으로 가공된다. The laser beam LB generated from the laser beam generator BF is processed into the linear laser beam LB when passing through the secondary light source unit LE.

상기한 2차 광원부(LE) 내에 마련된 빔 균질기(BH), 반사부재(MR) 및 집광렌즈(LL)는 상기 레이저 빔(LB)을 빔의 폭방향 또는 빔의 길이방향으로 분할하고, 이들을 다시 중첩 균질화시켜, 레이저 빔 내의 에너지 분포를 균질화하는 역할을 하는 것이다.The beam homogenizer BH, the reflection member MR, and the condenser lens LL provided in the secondary light source unit LE divide the laser beam LB in the width direction of the beam or the length direction of the beam, and The overlap homogenization again serves to homogenize the energy distribution in the laser beam.

그러나, 상기한 바와 같은, 종래의 어닐링장치(AE)는 오로지 한 라인의 선형 레이저만을 생산하기 때문에 어닐링 작업 시, 생산성이 떨어지는 문제가 있었다.However, as described above, the conventional annealing device (AE) produces only one line of linear laser, so there is a problem that productivity is lowered during annealing operation.

또한, 국부적으로 어닐링 조건이 다른 금속일 경우, 신속하게 작업이 이루어지지 않음으로서, 이 역시 생산성이 떨어지는 문제로 이어진다. In addition, when the local annealing conditions are different metals, the work is not done quickly, which also leads to a problem of low productivity.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 높은 광효율과 전체적으로 고르게 분포되는 다수의 라인 광을 얻도록 하고, 국부적으로 어닐링 조건이 다른 모재라 하더라도 한번에 처리가 가능하도록 함으로서 어닐링공정의 생산성을 향상시키는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the object of the present invention is to obtain a high light efficiency and a plurality of line light evenly distributed throughout, even if the local annealing conditions are different substrates at once By making it possible to improve the productivity of the annealing process.

이와 같은 목적으로 이루어진 본 발명은, According to the present invention,

적어도 하나 이상 구비된 1차 광원부와, 상기 1차 광원부에서 발생한 레이저 빔을 다수의 선형 레이저로 생산하도록 평판 형태로 구비된 격자판과, 상기 격자판 일면에 구비된 격자 반사체가 적어도 하나 이상 구비된 2차 광원부와, 상기 2차 광원부에서 조사되는 다중 레이저에 의해 어닐링될 수 있도록 어닐링모재를 고정하며, XYZ방향으로 구동될 수 있게 구성되고, 구동속도의 조절이 가능한 베이스 플레이트를 포함하는 다중 라인레이저 어닐링장치에 관한 것으로, A secondary light source having at least one primary light source unit, a grid plate provided in the form of a plate to produce a laser beam generated in the primary light source unit with a plurality of linear laser, and at least one grid reflector provided on one surface of the grid plate A multi-line laser annealing device comprising a light source unit, a base plate fixed to an annealing base material to be annealed by the multiple lasers irradiated from the secondary light source unit, and configured to be driven in the XYZ direction, and having an adjustable drive speed. Regarding,

상기 1차 광원부는 발광 다이오드 또는 레이저 다이오드중 어느 하나로 이루어진 레이저소스와, 상기 레이저소스에서 생산되는 레이저 빔을 90도 직각 방향으로 투과 또는 반사시켜서 2갈래로 나누어 주도록 일단에 구비된 빔 스프리터와, 상기 빔 스프리터에서 생산되는 두 갈래 레이저 빛을 상기 2차 광원부로 반사시키는 컨트롤 미러로 이루어진다.
The primary light source unit includes a laser source made of any one of a light emitting diode or a laser diode, a beam splitter provided at one end to transmit or reflect the laser beam produced by the laser source in a 90 degree orthogonal direction, and divide it into two branches; It consists of a control mirror for reflecting the two-pronged laser light produced by the beam splitter to the secondary light source.

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상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 높은 광효율과 전체적으로 고르게 분포되는 다수의 라인 레이저 광을 얻도록 하고, 국부적으로 어닐링 조건이 다른 모재라 하더라도 한번에 처리가 가능하도록 함으로서 어닐링공정의 생산성을 향상시키는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the effect of improving the productivity of the annealing process by obtaining a high light efficiency and a plurality of line laser light evenly distributed as a whole, and to be able to process at a time even for a base material having different local annealing conditions There is.

도 1은 종래의 레이저 어닐링장치를 보인 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 라인 레이저 어닐링장치를 보인 사시도이고,
도 3과 도 4는 본 발명에 따른 라인 레이저 어닐링장치 2차 광원부의 구성을 평면과 사시도로 보인 도면이고,
도 5는 본 발명에 따른 라인 레이저 어닐링장치의 회동장치 구성을 보인 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 라인 레이저 어니링장치에 의해 생산된 라인 레이저의 다양한 형태를 보인 도면이다. 1 is a view showing a conventional laser annealing apparatus,
2 is a perspective view showing a line laser annealing apparatus according to the present invention,
3 and 4 are a plan view and a perspective view of the configuration of the line laser annealing device secondary light source according to the present invention,
5 is a view showing the configuration of a rotating device of the line laser annealing device according to the present invention,
6 is a view showing various forms of the line laser produced by the line laser annealing apparatus according to the present invention.

본 발명에 따른 다중 라인 레이저 어닐링장치(10)(이하, "어닐링장치"라 칭한다)에 대해 상세히 설명하기 전에 어닐링(Anealing)에 대해서 간단히 설명한다.Before describing the multi-line laser annealing apparatus 10 (hereinafter, referred to as "annealing apparatus") according to the present invention in detail, annealing will be briefly described.

어닐링이란, 철(Fe) 또는 강의 연화, 다시 말해서, 결정조직의 조성 또는 내부 응력을 제거하기 위하여 적당한 온도로 가열한 후, 대기 온도로 서냉하는 열처리 방법으로서, 풀림이라고도 한다.Annealing is a heat treatment method in which iron (Fe) or steel is softened, that is, heated to an appropriate temperature in order to remove the composition or internal stress of a crystal structure, and then slowly cooled to atmospheric temperature.

이와 같은, 작업을 시행하는 본 발명에 따른 어닐링장치(10)에 대해 설명한다.Such an annealing apparatus 10 according to the present invention for performing the operation will be described.

도 2 내지 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 어닐링장치(10)는 1차 광원부(100)와 2차 광원부(200)와 베이스 플레이트(300)로 이루어진다.(이하, 1, 2차 광원부(100)(200)의 각 구성들이 다수 구비되어 있으나, 어느 하나의 구성에 대해서만 설명한다)2 to 6, the annealing apparatus 10 according to the present invention includes a primary light source unit 100, a secondary light source unit 200, and a base plate 300 (hereinafter, referred to as primary and secondary light source units ( 100, but each configuration of the 200 is provided, but only one configuration will be described)

1차 광원부(100)는 레이저 소스(110)와 빔 스프리터(130)와 컨트롤 미러(250)로 이루어진다.The primary light source unit 100 includes a laser source 110, a beam splitter 130, and a control mirror 250.

레이저 소스(110)는 발광 다이오드(LED) 또는 레이저 다이오드(LD)중 어느 하나로 이루어지며, 그 단부에 빔 스프리터(130)가 구비된다.The laser source 110 is made of either a light emitting diode (LED) or a laser diode (LD), and a beam splitter 130 is provided at an end thereof.

빔 스프리터(Beam Splitter)(130)는 상기한 레이저 소스(110)로 부터 비춰지는 1차 광을 상호 직각 방향으로 반사 및 투과시키는 역할을 함으로서, 2갈래로 나누어 주는 역할을 한다.The beam splitter 130 serves to split and split the primary light emitted from the laser source 110 in the direction perpendicular to each other.

이와 같이, 두 방향으로 나누어진 1차 광은 컨트롤 미러(150)에 조사(照射)되는데, 이 컨트롤 미러(150)는 일단에 힌지(151)가 구비되고, 타단에는 조절레버(153)가 구비되어 있다.In this way, the primary light divided in two directions is irradiated to the control mirror 150, the control mirror 150 is provided with a hinge 151 at one end, the control lever 153 is provided at the other end. It is.

이 힌지(151)는 상기한 빔 스프리터(130)를 통해 조사되는 1차 광의 조사각을 조절레버(153)를 통해 용이하게 조절할 수 있도록 하여 후술하는 2차 광원부(200)를 통해 조사되는 라인 레이저의 균질도를 높일 수 있다.The hinge 151 is a line laser irradiated through the secondary light source unit 200 to be described later to easily adjust the irradiation angle of the primary light irradiated through the beam splitter 130 through the control lever 153. Can increase the homogeneity of

이와 같이, 1차 광원부(100)에서 생산된 두 갈래의 레이저는 대칭형으로 구비된 컨트롤 미러(150)를 통해 2차 광원부(200)에서 선형(線形)으로 재 가공된다.As described above, the two-pronged laser produced by the primary light source unit 100 is reprocessed in a linear manner in the secondary light source unit 200 through the control mirror 150 provided in a symmetrical manner.

2차 광원부(200)는 상기한 1차 광원부(100)의 1차 광이 반사되어 보강간섭에 의해 증폭된 균질한 반사광인 2차 광을 출사시키는 격자체로서, 이, 2차 광원부(200)는 격자판(210)과 격자 반사체(230)로 대별된다.The secondary light source unit 200 is a lattice body which emits secondary light, which is a homogeneous reflected light amplified by constructive interference by reflecting the primary light of the primary light source unit 100, and the secondary light source unit 200. Are roughly divided into the grating plate 210 and the grating reflector 230.

격자 반사체(230)는 다중 반사체로서, 평판으로 이루어진 격자판(210)의 상부에 일정한 간격, 예를 들면, 1차 광 파장의 정수 배에 해당하는 0.1㎛ 이상~10mm 이하의 간격으로 형성하는 것이 바람직하다.The grating reflector 230 is a multiple reflector, and is preferably formed on the grating plate 210 made of a flat plate at a constant interval, for example, an interval of 0.1 μm or more to 10 mm or less corresponding to an integer multiple of the primary light wavelength. Do.

그 이유로는, 상호 이웃한 격자점에서 나온 광들이 위상차로 인해 서로 보강간섭하게 됨으로, 상기한 격자 반사체(230)에 의해 형성된 2차 광들이 서로 중첩하여 증폭되며, 200nm 내지 1100nm 영역범위에서 사용이 가능하나, 반드시 이파장범위에 한정되는 것은 아니며, 레이저 원의 종류에 따라 다른 범위의 파장도 사용 가능함은 물론이다.The reason is that the light emitted from the adjacent grid points are constructively interfered with each other due to the phase difference, so that the secondary lights formed by the grid reflector 230 are amplified by overlapping each other. It can be used in the range of 200nm to 1100nm, but is not necessarily limited to this wavelength range, it is of course also possible to use a different range of wavelengths depending on the type of laser source.

또한, 상기한 격자 반사체(230)의 간격을 가능하면 작게 조절함으로서, 2차광의 회절현상을 효과적으로 나타나게 하여 빛의 확산 및 중첩효과를 증대시킬 수 있고, 상기한 1차 광원부(100)의 컨트롤 미러(150)를 통해 입력되는 레이저 광이 다수의 격자 반사체(230)를 통해 결맞은 빛으로 변하며 선형으로 재 가공되는 것이다.In addition, by controlling the spacing of the grating reflector 230 as small as possible, the diffraction phenomenon of the secondary light can be effectively shown to increase the diffusion and superposition of light, the control mirror of the primary light source unit 100 The laser light input through 150 is transformed into a coherent light through the plurality of grating reflectors 230 and linearly reprocessed.

한편, 상기한 격자판(210)은 회동수단(220)을 더 포함한다.On the other hand, the grating plate 210 further includes a rotating means 220.

도 3과 도 를 참조하면, 회동수단(220)은 격자판(210)의 양단에 대칭형으로 구비된 회동축(221)과, 상기 회동축(221)과 출력축(223c)이 커플러(225)에 의해 축결합된 감속장치(223)로 이루어진다.Referring to FIGS. 3 and 3, the rotation means 220 includes a rotation shaft 221 symmetrically provided at both ends of the grating plate 210, and the rotation shaft 221 and the output shaft 223c are connected by the coupler 225. It consists of a reduction gear 223 coupled.

감속장치(223)는 일측에 구비된 모터(223a)의 회전을 감속기(223b)에서 감속하여 격자 반사체(230)가 일면에 구비된 격자판(210)을 회동함으로서, 격자 반사체(230)에 반사되며 재가공된 선형 레이저의 조사각도를 조절하는 것이다.The reduction device 223 decelerates the rotation of the motor 223a provided at one side by the reduction gear 223b to rotate the grating plate 210 having the grating reflector 230 on one surface thereof, thereby being reflected by the grating reflector 230. It is to adjust the irradiation angle of the reprocessed linear laser.

상기한 바와 같은 감속장치(223)의 회동은 도시하지 않은 스위치와 컨트롤러에 의해 소망하는 각도가 되도록 움직인다. The rotation of the reduction device 223 as described above is moved to a desired angle by a switch and a controller (not shown).

이와 같이, 격자판(210)의 각도를 다양하게 조절하여 그 일면에 구비된 격자 반사체(230)를 통해 생산되는 2차 광원이 도 6에 도시한 바와 같은 다양한 패턴의 조사각도로 조절이 가능하여 후술하는 어닐링 공정에서 생산성이 향상되었다.As described above, the secondary light source produced through the grating reflector 230 provided on one surface of the grating plate 210 may be variously adjusted to irradiation angles of various patterns as shown in FIG. 6. Productivity was improved in the annealing process.

이와 같이, 선형으로 재 가공된 레이저 빛은 베이스 플레이트(300)의 상부에 구비된 모재(미도시)에 조사되며 어닐링작업이 이루어진다.As such, the linearly reprocessed laser light is irradiated to the base material (not shown) provided on the base plate 300 and annealing is performed.

상기한 베이스 플레이트(300)는 2차 광원부(200)에서 조사되는 다중 레이저에 의해 어닐링될 수 있도록 어닐링모재(5)가 상부에 구비된다.The base plate 300 is provided with an annealing base material 5 thereon to be annealed by multiple lasers irradiated from the secondary light source unit 200.

또한, 베이스 플레이트(300)에는 X,Y,Z축으로 구동되는 축과연결되어 이동됨으로서, 모재(5)의 어닐링 속도와 조건을 조절할 수 있다.In addition, the base plate 300 is moved in connection with the axis driven by the X, Y, Z axis, it is possible to adjust the annealing speed and conditions of the base material (5).

계속 해서, 도시한 바를 참조로 하여 본 발명에 따른 어닐링장치(10)의 작용, 효과를 설명한다.Subsequently, the operation and effect of the annealing apparatus 10 according to the present invention will be described with reference to the drawings.

우선, 1차 광원부(100)의 레이저 소스(110)에서 1차 광이 조사(照射)되면, 이 1차 광은 본 발명에 따른, 빔 스프리터(130)를 통해 상호 직각방향으로 반사 및 투과되는 두 갈래의 빛으로 나누어진다.First, when primary light is irradiated from the laser source 110 of the primary light source unit 100, the primary light is reflected and transmitted in a direction perpendicular to each other through the beam splitter 130 according to the present invention. It is divided into two branches of light.

이와 같이, 나누어진 1차 광은 대칭형으로 구비된 컨트롤 미러(150)를 통해 2차 광원부(200)에 다수 구비된 격자 반사체(230)에 반사되며, 2차 광, 즉, 라인 레이저를 생산하는 것이다.As such, the divided primary light is reflected by the grating reflector 230 provided in the secondary light source unit 200 through the control mirror 150 provided in a symmetrical manner, and produces secondary light, that is, a line laser. will be.

상기한 격자 반사체(230)를 통해 생산된 라인 레이저는 서로 중첩하여 증폭됨으로서, 높은 광효율과 전체적으로 고르게 분포되는 라인 광을 얻었으며, 중앙부위와 가장자리 부위의 빛의 균질도가 고르게 나타나도록 함으로서, 빛의 균질도 편차가 거의 없도록 하였다.The line lasers produced through the grating reflector 230 are amplified by overlapping each other, thereby obtaining high light efficiency and uniformly distributed line light, and by uniformizing the light uniformity at the center and edges, There was little variation in the homogeneity of.

이와 같은, 2차 광은 200nm 내지 1100nm의 파장 영역범위에서 사용이 가능하며, 베이스 플레이트(300) 상부에 구비된 모재(5)에 조사되며 어닐링(Anealing) 작업이 이루어진다.As such, the secondary light may be used in the wavelength range of 200 nm to 1100 nm, and is irradiated to the base material 5 provided on the base plate 300 to perform annealing.

또한, 상기한 다수의 격자판(210) 일측에 구비된 회동장치(220)를 작동하여 각 격자판(210)을 한 곳으로 모이도록 회동시키면 어느 한 부분만 집중적으로 어닐링할 수 있다.(어닐링영역은 도 6의 점선부분 참조) In addition, by operating the rotating device 220 provided on one side of the plurality of gratings 210 to rotate each grating 210 into one place, only one portion can be annealed intensively. See dashed line in FIG. 6)

나아가, 모재(5)의 특성상 국부적으로 어닐링조건이 다를 경우는 상기한 회동장치(220)에 의해 격자판(210)의 회동각도를 조절하면 소망하는 부위만 어닐링 작업이 가능하다.In addition, when the annealing conditions are locally different due to the characteristics of the base material 5, the annealing operation may be performed only on a desired part by adjusting the angle of rotation of the grating plate 210 by the rotating device 220.

이와 같이, 본 발명에 따른 어닐링장치(10)에 의하면, 높은 광효율과 전체적으로 고르게 분포되는 다수의 라인 광을 얻도록 하고, 국부적으로 어닐링 조건이 다른 모재라 하더라도 한번에 처리가 가능하도록 함으로서 어닐링공정의 생산성을 향상시켰다.As described above, according to the annealing apparatus 10 according to the present invention, the productivity of the annealing process is achieved by obtaining a high light efficiency and a plurality of lines of light uniformly distributed throughout, and allowing processing at once even with different base materials having different annealing conditions. Improved.

본 발명은 상술한 특정 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변형실시는 본 발명의 청구범위 기재 범위 내에 있게 된다.It is to be understood that the present invention is not limited to the specific exemplary embodiments described above and that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. And such modified embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

10 : 라인 레이저 어닐링장치 100 : 1차 광원부
110 : 레이저 소스 130 : 빔 스프리터
150 : 컨트롤 미러 200 : 2차 광원부
210 : 격자판 220 : 회동장치
230 : 격자 반사체 300 : 베이스 플레이트10: line laser annealing device 100: primary light source
110: laser source 130: beam splitter
150: control mirror 200: secondary light source
210: grid 220: rotating device
230: lattice reflector 300: base plate

Claims (6)

삭제delete 적어도 하나 이상 구비된 1차 광원부와, 상기 1차 광원부에서 발생한 레이저 빔을 다수의 선형 레이저로 생산하도록 평판 형태로 구비된 격자판과, 상기 격자판 일면에 구비된 격자 반사체가 적어도 하나 이상 구비된 2차 광원부와, 상기 2차 광원부에서 조사되는 다중 레이저에 의해 어닐링될 수 있도록 어닐링모재를 고정하며, XYZ방향으로 구동될 수 있게 구성되고, 구동속도의 조절이 가능한 베이스 플레이트를 포함하는 다중 라인레이저 어닐링장치에 있어서,
상기 1차 광원부는 발광 다이오드 또는 레이저 다이오드중 어느 하나로 이루어진 레이저소스와, 상기 레이저소스에서 생산되는 레이저 빔을 90도 직각 방향으로 투과 또는 반사시켜서 2갈래로 나누어 주도록 일단에 구비된 빔 스프리터와, 상기 빔 스프리터에서 생산되는 두 갈래 레이저 빛을 상기 2차 광원부로 반사시키는 컨트롤 미러로 이루어진 것을 특징으로 하는 다중 라인레이저 어닐링장치. A secondary light source having at least one primary light source unit, a grid plate provided in the form of a plate to produce a laser beam generated in the primary light source unit with a plurality of linear laser, and at least one grid reflector provided on one surface of the grid plate A multi-line laser annealing device comprising a light source unit, a base plate fixed to an annealing base material to be annealed by the multiple lasers irradiated from the secondary light source unit, and configured to be driven in the XYZ direction, and having an adjustable drive speed. To
The primary light source unit includes a laser source made of any one of a light emitting diode or a laser diode, a beam splitter provided at one end to transmit or reflect the laser beam produced by the laser source in a 90 degree orthogonal direction, and divide it into two branches; The multi-line laser annealing device, characterized in that consisting of a control mirror for reflecting the two-pronged laser light produced by the beam splitter to the secondary light source. 삭제delete 제 2항에 있어서,
상기 격자판은 길이방향 양단에 구비된 회동수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 라인레이저 어닐링장치.3. The method of claim 2,
The lattice plate further comprises a rotating means provided in both ends in the longitudinal direction. 제 4항에 있어서,
상기 회동수단은 상기 격자판의 양단에 대칭형으로 구비된 회동축과, 상기 회동축과 출력축이 축결합된 감속장치로 이루어진 것을 특징으로 하는 다중 라인레이저 어닐링장치.5. The method of claim 4,
And said rotating means comprises a rotating shaft provided symmetrically at both ends of said grating plate, and a deceleration device in which said rotating shaft and said output shaft are axially coupled. 삭제delete
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