KR101354008B1 - Photocurable composition, and color filter using the same - Google Patents

Photocurable composition, and color filter using the same Download PDF

Info

Publication number
KR101354008B1
KR101354008B1 KR1020060096998A KR20060096998A KR101354008B1 KR 101354008 B1 KR101354008 B1 KR 101354008B1 KR 1020060096998 A KR1020060096998 A KR 1020060096998A KR 20060096998 A KR20060096998 A KR 20060096998A KR 101354008 B1 KR101354008 B1 KR 101354008B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
photocurable composition
acid
compound
mass
Prior art date
Application number
KR1020060096998A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070038008A (en
Inventor
아츠시 나카야마
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20070038008A publication Critical patent/KR20070038008A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101354008B1 publication Critical patent/KR101354008B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/56Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/24Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/12Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

충분한 색농도, 분광 특성, 감도 및 경화성이 얻이지고, 또 컬러 필터에 이용할 때 화소의 패턴의 직사각형성 및 현상성이 뛰어난 광경화성 조성물 및 그것을 이용하는 컬러 필터를 제공한다.Provided are a photocurable composition having sufficient color density, spectral characteristics, sensitivity, and curability, and excellent in rectangularity and developability of a pattern of a pixel when used in a color filter, and a color filter using the same.

 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제를 포함한 광경화성 조성물에 있어서, 상기 착색제의 함유량은 전체 고형분의 40 질량%이상으로, 또 상기 광중합성 화합물은 알칼리 가용성기를 갖는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition containing a coloring agent, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator WHEREIN: The content of the said coloring agent is 40 mass% or more of total solid, and the said photopolymerizable compound has alkali-soluble group, The photocurable composition characterized by the above-mentioned.

Description

광경화성 조성물 및 이를 사용한 칼라필터{PHOTOCURABLE COMPOSITION, AND COLOR FILTER USING THE SAME}Photocurable composition and color filter using the same {PHOTOCURABLE COMPOSITION, AND COLOR FILTER USING THE SAME}

도 1은 실시예1(카르복실기를 도입한 5관능의 모노머를 사용)의 칼라필터의 화소패턴형상을 도시하는 제1의 도이다.Fig. 1 is a first diagram showing the pixel pattern shape of the color filter of Example 1 (using a 5-functional monomer having a carboxyl group introduced).

도 2는 비교예1(알칼리가용성기를 갖지 않는 6관능의 모노머를 사용)의 칼라필터의 화소패턴형상을 도시하는 제2의 도이다.Fig. 2 is a second diagram showing the pixel pattern shape of the color filter of Comparative Example 1 (using a six-functional monomer having no alkali-soluble group).

본 발명은 액정 표시 소자(LCD)나 고체촬상소자(CCD, CMOS 등) 등에서 사용되는 칼라필터를 구성하는 착색화상을 형성하는데 바람직한 광경화성 조성물 및 상기 광경화성 조성물을 사용한 칼라필터에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition suitable for forming a colored image constituting a color filter used in a liquid crystal display device (LCD), a solid state image pickup device (CCD, CMOS, etc.), and a color filter using the photocurable composition.

액정 표시소자나 고체촬상소자에 사용되는 칼라필터를 제작하는 방법으로는 염료법, 인쇄법, 전착법 및 안료분산법이 공지되어 있다.As a method of manufacturing the color filter used for a liquid crystal display element or a solid-state image sensor, the dye method, the printing method, the electrodeposition method, and the pigment dispersion method are known.

이들 중에서, 안료분산법은 안료를 각종 감광성조성물에 분산시킨 착색감방사선성 조성물을 사용하여 포토리소그래피법에 의해 칼라필터를 제작하는 방법으로, 안료를 사용하고 있기 때문에 광이나 열 등에 안정하다고 하는 이점을 갖고 있다. 또한, 포토리소그래피법에 의해 패터닝을 행하기 때문에, 위치정밀도가 높아서, 대화면, 고정밀도 컬러표시장치용 칼러필터를 제작하는데 바람직한 방법으로 널리 이용되어 왔다.Among them, the pigment dispersion method is a method of producing a color filter by photolithography using a colored radiation-sensitive composition in which the pigment is dispersed in various photosensitive compositions. Have In addition, since patterning is performed by the photolithography method, the positional accuracy is high, and thus it has been widely used as a preferable method for producing color filters for large screens and high-precision color display devices.

안료분산법에 의해 칼라필터를 제작하는 경우, 유리기판상에 감방사선성 조성물을 스핀코터나 롤코터 등으로 도포하고, 건조시켜서 도포막을 형성하고, 상기 도포막을 패턴노광하고, 현상함으로써 착색된 화소가 형성되고, 각 색마다 이 조작을 반복하여 칼라필터를 얻을 수 있다.In the case of producing a color filter by the pigment dispersion method, the radiation-sensitive composition is coated on a glass substrate with a spin coater, a roll coater, or the like, dried to form a coating film, the coating film is subjected to pattern exposure, and developed to produce colored pixels. The color filter can be obtained by repeating this operation for each color.

상기 안료분산법으로는, 알칼리가용성 수지에 광중합성 모노머와 광중합 개시제를 병용한 네가티브형 감광성 조성물이 기재된 것이, 예를 들면 일본 특허공개 평2-181704호 공보, 일본 특허공개 평2-199403호 공보, 일본 특허공개 평5-273411호 공보, 일본 특허공개 평7-140654호 공보, 일본 특허공개 평10-332929호 공보에 기재되어 있다.As said pigment dispersion method, what described the negative photosensitive composition which used together the photopolymerizable monomer and the photoinitiator in alkali-soluble resin is Unexamined-Japanese-Patent No. 2-181704, Unexamined-Japanese-Patent No. 2-199403. , Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-273411, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-140654, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-332929.

최근에 고체촬상 소자용 칼라필터에 있어서는 더욱 고정밀화가 요구되고 있다. 그러나, 종래의 안료분산계로는 해상도를 더 향상시키는 것이 곤란하고, 안료의 조대입자에 의해 색얼룩이 발생하는 등, 화소간 색의 균일성에 문제가 있었다. 이를 위해, 고체촬상소자와 같이 미세패턴이 요구되는 용도에는 적합하지 않았다.In recent years, the color filter for a solid-state image sensor is required to be more precise. However, in the conventional pigment dispersion system, it is difficult to further improve the resolution, and there is a problem in the uniformity of colors between pixels, such as color staining caused by coarse particles of the pigment. For this purpose, it is not suitable for the use which requires a micropattern like a solid-state image sensor.

상기 문제를 해결하기 위해, 종래에 안료 대신에 염료를 사용하는 기술이 일본 특허공개 평6-75375호 공보에 제안되어 있다. 그러나, 일반적으로 염료를 함유하는 경화성 조성물은, 예를 들면 내광성, 내열성, 용해성, 도포균일성 등 다양한 성능에 대해서, 안료를 사용한 경화성 조성물에 비해 열화된다고 하는 문제가 있었 다.In order to solve the above problem, a technique of conventionally using a dye instead of a pigment is proposed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-75375. However, in general, the curable composition containing the dye has a problem of deterioration compared to the curable composition using the pigment with respect to various performances, such as light resistance, heat resistance, solubility, coating uniformity.

특히 고체촬성소자(화상센서)용 칼라필터는 차광의 개선, 장치의 소형화에 대응하기 위해서, 두께를 1.5㎛ 이하로 박막화시키는 경향이 있다. 그러나, 이와같은 박막화를 행하면, 막내에 함유시킨 착색제의 함유량도 필연적으로 저하되기 때문에, 색농도의 면에서 문제가 되고 있다. 이와같은 경향은 착색제로서 안료를 사용하는 경우보다도, 염료를 사용한 경우에 특히 현저하다.In particular, the color filter for a solid state image pickup device (image sensor) tends to have a thickness of 1.5 m or less in order to cope with improvement of light shielding and miniaturization of the device. However, when such thin film is formed, the content of the colorant contained in the film also inevitably decreases, which causes a problem in terms of color concentration. This tendency is particularly remarkable when dyes are used than when pigments are used as colorants.

즉, 유기안료를 사용한 경우에는 결정상에 발색단으로 되는 분자가 칼라필터내에 응집한 상태로 존재하고 있는 것에 대해서, 염료를 사용하는 경우에는 분자가 분산한 상태로 존재하고 있고, 더욱이 내구성이나 내열성을 높이기 위해서 발색단 분자 이외에 이들의 특성을 개량하기 위한 분자쇄가 결합되어 있기 때문에, 발색단으로 이루어진 분자쇄를 더욱 희석시켜서 그 부분만 색농도가 저하해 버린다.In other words, when an organic pigment is used, molecules that become chromophores in the crystal phase are present in agglomerated state in the color filter, and when dyes are used, the molecules are present in a dispersed state, and further increase durability and heat resistance. For this reason, in addition to the chromophore molecules, the molecular chains for improving their properties are combined, so that the molecular chains made of the chromophores are further diluted to reduce the color concentration only in those portions.

이상과 같이 고체촬상소자에 있어서 칼라필터의 박막화의 요구에 대응하기 위해서는 칼라필터중 착색제의 함유비율을 높일 필요가 있다. 이 요구는 착색제로서 안료를 사용한 경우보다도 염료를 사용한 경우에 있어서, 특히 중요하다.As described above, in order to meet the demand for thinning the color filter in the solid state image pickup device, it is necessary to increase the content ratio of the colorant in the color filter. This requirement is particularly important when a dye is used than when a pigment is used as a colorant.

그러나, 착색제의 함유비율을 높이는 것은 필연적으로 조성물중에 함유된 다른 성분의 비율을 감소시키게 된다. 이 경우, 당연한 것으로서 다른 성분의 비율을 감소시키면, 광경화성 및 알칼리 현상성이 저하해 버리는 점에서, 착색제의 함유비율의 향상에도 한계가 있다. 특히, 착색제로서 염료를 사용한 경우에는 안료를 사용한 경우 이상으로 박막화에 따른 색농도의 저하가 현저하고, 색농도 이외의 실용특성과의 밸런스를 도모하는 것이 매우 곤란했다.However, increasing the content of colorants inevitably reduces the proportion of other components contained in the composition. In this case, as a matter of course, when the ratio of other components is reduced, photocurability and alkali developability are lowered, and thus there is a limit to improvement of the content ratio of the colorant. In particular, when a dye is used as the colorant, a decrease in color concentration due to the thinning of the film is remarkable, and it is very difficult to achieve balance with practical characteristics other than the color concentration.

또한, 일본 특허공개 평10-62986호 공보에는 감방사선성 성분, 결착수지, 안료 및 용제를 함유하는 감방사선 착색조성물에 있어서, 상기 감방사선성 성분이 중합성 성분으로서 에틸렌옥사이드쇄나 프로필렌옥사이드쇄를 포함하는 특정 화합물군에서 선택되는 1종 이상의 (메타)아크릴레이트 화합물을 함유하는 감방사선성 착색조성물이 제안되어 있다.Further, Japanese Patent Laid-Open No. 10-62986 discloses a radiation-sensitive coloring composition containing a radiation sensitive component, a binder resin, a pigment, and a solvent, wherein the radiation sensitive component is an ethylene oxide chain or a propylene oxide chain as a polymerizable component. A radiation sensitive coloring composition containing at least one (meth) acrylate compound selected from the group of specific compounds included is proposed.

본 발명의 목적은 충분한 색농도, 분광특성, 감도 및 경화성이 얻어지고, 또 칼라필터를 사용하는 경우에 화소 패턴의 직사각형성 및 현상성이 우수한 광경화성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a photocurable composition having sufficient color density, spectral characteristics, sensitivity, and curability, and excellent in rectangularity and developability of a pixel pattern when a color filter is used.

또한, 본 발명의 목적은 충분한 색농도를 갖고, 화소 패턴의 직사각형성이 우수한 칼라필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is also an object of the present invention to provide a color filter having a sufficient color density and excellent in the rectangularity of the pixel pattern.

본 발명은 하기 수단에 의해 달성된다.The present invention is accomplished by the following means.

<1>착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제를 함유하는 광경화성 조성물에 있어서, 상기 착색제의 함유량이 전체 고형분의 40질량% 이상이고, 또 상기 광중합성 화합물은 알칼리 가용성기를 갖는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.<1> Photocurable composition containing a coloring agent, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator WHEREIN: The content of the said coloring agent is 40 mass% or more of total solid, and the said photopolymerizable compound has an alkali-soluble group, The photocurable property characterized by the above-mentioned. Composition.

<2> 상기 <1>에 있어서, 상기 착색제, 상기 광중합성 화합물 및 상기 광중합 개시제의 총함유량이 상기 광경화성 조성물 중 전체 고형분에 대해 80질량% 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.<2> The photocurable composition according to <1>, wherein a total content of the colorant, the photopolymerizable compound, and the photopolymerization initiator is 80% by mass or more based on the total solids in the photocurable composition.

<3> 상기 <1>에 있어서, 상기 광중합성 화합물의 중합성 관능기의 수가 3이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.<3> The photocurable composition according to <1>, wherein the number of polymerizable functional groups of the photopolymerizable compound is 3 or more.

<4> 상기 <1>에 있어서, 상기 착색제가 실질적으로 염료를 주체로 하는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.<4> The photocurable composition according to <1>, wherein the colorant is mainly composed of a dye.

<5> 상기 <1>에 있어서, 상기 착색제의 25질량% 이상이 산성염료인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.<5> The photocurable composition according to <1>, wherein 25% by mass or more of the colorant is an acid dye.

<6> 상기 <1>에 있어서, 상기 광중합성 화합물의 상기 알칼리 가용성기는 카르복실기, 인산기 및 술폰산기 중 1종 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.<6> The photocurable composition according to <1>, wherein the alkali-soluble group of the photopolymerizable compound is at least one of a carboxyl group, a phosphoric acid group and a sulfonic acid group.

<7> 기판상에 상기 <1>에 기재된 광경화성 조성물로 이루어진 도포막을 형성하고, 알칼리 현상을 사용하는 포토리소그래피법에 의한 패터닝으로 형성된 화소를 갖는 것을 특징으로 하는 칼라필터.The color filter which forms the coating film which consists of a photocurable composition as described in said <1> on a <7> board | substrate, and has formed the pixel by patterning by the photolithographic method using alkali image development.

<8> 상기 <7>에 있어서, 파장 400nm~700nm의 범위에 있어서, 최소 투과율이 10% 이하이고, 또 상기 파장범위에 있어서 최대 투과율과 상기 최소 투과율의 차이는 65% 이상인 것을 특징으로 하는 칼라필터.<8> The color according to <7>, wherein the minimum transmittance is 10% or less in the range of 400 nm to 700 nm, and the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance is 65% or more in the wavelength range. filter.

<9> 상기 <7>에 있어서, 상기 화소의 두께는 0.3㎛ 이상 1.5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 칼라필터.<9> The color filter according to <7>, wherein the pixel has a thickness of 0.3 µm or more and 1.5 µm or less.

<10> 상기 <7>에 있어서, 상기 화소의 최대 변은 5.0㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 칼라필터.<10> The color filter according to <7>, wherein the maximum side of the pixel is 5.0 µm or less.

이하, 본 발명의 광경화성 조성물 및 이를 사용하여 달성되는 칼라필터에 대해 설명한다.Hereinafter, the photocurable composition of the present invention and the color filter achieved using the same will be described.

<<광경화성 조성물>><< photocurable composition >>

본 발명의 광경화성 조성물은 착색제, 광중합성 화합물, 및 광중합 개시제를 함유하고, 상기 착색제의 함유량은 전체 고형분의 40질량% 이상이고, 또 상기 광중합성 화합물은 알칼리 가용성기를 갖는 것을 특징으로 하고, 필요에 따라서 알칼리 가용성수지나 유기용제를 함유하여 구성된다.The photocurable composition of this invention contains a coloring agent, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator, content of the said coloring agent is 40 mass% or more of total solid, and the said photopolymerizable compound has an alkali-soluble group, It is necessary, It is necessary. According to the present invention, an alkali-soluble resin and an organic solvent are contained.

본 발명의 광경화성 조성물은 착색제, 광중합성 화합물, 및 광중합성개시제를 함유하는 광경화성 조성물에 있어서, 상기 착색제의 함유량은 전체 고형분의 40질량% 이상이고, 또 상기 광중합성 화합물은 알칼리가용성기를 갖는다는 점에서, 알칼리 가용성 수지를 실질적으로 사용하지 않기 때문에, 착색제의 함유량이 전체 고형분에 대해 40질량%로 많아져 있어도, 경화성 성분인 광중합성 화합물 및 광중합성 개시제의 함유량을 유지할 수 있다.The photocurable composition of the present invention is a photocurable composition containing a colorant, a photopolymerizable compound, and a photopolymerizable initiator, wherein the content of the colorant is 40% by mass or more of the total solids, and the photopolymerizable compound has an alkali-soluble group. In view of the fact that the alkali-soluble resin is not substantially used, the content of the photopolymerizable compound and the photopolymerization initiator, which are curable components, can be maintained even if the content of the colorant is increased to 40% by mass based on the total solid content.

또한, 본 발명의 광경화성 조성물은 칼라필터의 도포막으로서의 실용특성(색농도, 분광특성, 감도, 경화성 등)을 확보하고, 얻어진 칼라필터의 화소의 투과율 및 패턴프로파일(패턴의 직사각형성)을 양호한 것으로 할 수 있다.In addition, the photocurable composition of the present invention ensures practical characteristics (color density, spectral characteristics, sensitivity, curability, etc.) as a coating film of a color filter, and adjusts the transmittance and pattern profile (pattern rectangularity) of pixels of the obtained color filter. It can be made favorable.

또한, 본 발명의 광경화성 조성물중에 있어서, 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제의 총함유량은 전체 고형분에 대해 80질량% 이상인 것이 바람직하다. 환원하면, 본 발명의 광경화성 조성물중에 있어서, 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제 이외에 고형성분의 총함유량은 20질량% 미만인 것이 바람직하다.Moreover, in the photocurable composition of this invention, it is preferable that the total content of a coloring agent, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator is 80 mass% or more with respect to a total solid. In other words, in the photocurable composition of the present invention, the total content of solid components other than the colorant, the photopolymerizable compound and the photopolymerization initiator is preferably less than 20% by mass.

착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제의 총함유량이 전체 고형분에 대해 80질량% 이상이면, 색농도, 감도 및 경화성 등을 더욱 충분하게 향상시킬 수 있 다.If the total content of the colorant, the photopolymerizable compound, and the photopolymerization initiator is 80% by mass or more based on the total solids, the color concentration, the sensitivity, the curability, and the like can be more sufficiently improved.

이하, 본 발명의 광경화성 조성물에 함유된 각종 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, the various components contained in the photocurable composition of this invention are demonstrated.

<착색제><Colorant>

본 발명에 있어서 착색제는 특별히 제한되지 않지만, 종래에 공지된 각종 염료나 안료를 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Although a coloring agent in particular in this invention is not restrict | limited, Conventionally well-known various dye and pigment can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.

상기 착색제로는 실질적으로 염료를 주체로 하는 것이 바람직하고, 염료를 착색제의 주체로함으로써 색특성의 균일성을 높이고, 화소간 색농도 분포의 불균일을 저하시킬 수 있다.It is preferable that the colorant is mainly composed of a dye, and by using the dye as a main agent of the colorant, the uniformity of color characteristics can be increased and the nonuniformity of the color concentration distribution between pixels can be reduced.

여기서 「실질적으로 염료를 주체」라는 것은 색특성의 면에서 염료의 특성을 저해하지 않는 정도를 가리키고, 구체적으로는 착색제의 총량에 대해 염료의 함유율이 60질량% 이상인 것을 말한다.Here, "substantially the dye is mainly" refers to the extent which does not impair the characteristic of a dye in terms of a color characteristic, Specifically, it means that the content rate of a dye is 60 mass% or more with respect to the total amount of a coloring agent.

상기 착색제 중 염료의 함유량이 60질량% 이상, 바람직하게는 65질량% 이상, 보다 바람직하게는 70질량%이다.Content of dye in the said coloring agent is 60 mass% or more, Preferably it is 65 mass% or more, More preferably, it is 70 mass%.

(염료)(dyes)

본 발명에 있어서 착색제로서의 염료로는 유기용제 가용성 염료 등을 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있고, 예를 들면 종래의 칼라필터용으로서 공지의 염료 등을 들 수 있다. 상기 공지의 염료로는, 예를 들면 특허공개 소64-90403호 공보, 일본 특허공개 소64-91102호 공보, 일본 특허공개 평1-94301호 공보, 일본 특허공개 평6-11614호 공보, 일본 특허등록 제2592207호, 미국특허 제4,808,501호 명세서, 미국특허 제5,667,920호 명세서, 미국특허 제5,059,500호 명세서, 일본 특허공 개 평5-333207호 공보, 일본 특허공개 평6-35183호 공보, 일본 특허공개 평6-51115호 공보, 일본 특허공개 평6-194828호 공보에 기재된 색소를 들 수 있다. 또한, 화학구조의 관점에서, 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 벤지리덴계, 옥소놀계, 시아닌계, 페노티아진계, 피롤로피라졸아조메틴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서 염료로서 특히 바람직하게는 피라졸아조계, 아닐리노아조계, 피라졸로트리아졸아조계, 피리돈아조계, 안트라퀴논계, 안트라피리돈계의 염료를 들 수 있다.In this invention, as a dye as a coloring agent, it can use without restrict | limiting especially an organic solvent soluble dye, For example, well-known dye etc. are mentioned as a conventional color filter use. As said well-known dye, For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 64-90403, Unexamined-Japanese-Patent No. 64-91102, Unexamined-Japanese-Patent No. 1-94301, Unexamined-Japanese-Patent No. 6-11614, Japan Patent Registration No. 2592207, US Patent No. 4,808,501, US Patent No. 5,667,920, US Patent No. 5,059,500, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-333207, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-35183 The pigment | dye of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-51115 and Unexamined-Japanese-Patent No. 6-194828 is mentioned. Further, from the viewpoint of the chemical structure, triphenylmethane, anthraquinone, benzilidene, oxonol, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, xanthene, phthalocyanine, benzopyran, and indigo The system etc. are mentioned. In the present invention, dyes of pyrazole azo, anilino azo, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, anthraquinone and anthrapyridone are particularly preferred as the dye.

또한, 물 또는 알칼리 현상을 행하는 레지스트계의 경우에는 현상에 의해 바인더 및/또는 염료를 완전히 제거한다고 하는 관점에서, 본 발명에 있어서의 염료로는 산성염료 및/또는 그 유도체를 바람직하게 사용할 수 있다. 그 이외에 본 발명에 있어서 염료로는 직접염료, 염기성염료, 매염염료, 산성매염염료, 아조익염료, 분산염료, 유용염료, 식품염료 및/또는 이들의 유도체 등도 사용할 수 있다.In the case of a resist system which performs water or alkali development, an acid dye and / or a derivative thereof can be preferably used as the dye in the present invention from the viewpoint of completely removing the binder and / or the dye by development. . In addition, in the present invention, as a dye, a direct dye, a basic dye, a mordant dye, an acid mordant dye, an azoic dye, a disperse dye, a useful dye, a food dye, and / or a derivative thereof may also be used.

본 발명의 광경화성 조성물은 전체 착색제에 대해 25질량% 이상이 산성염료인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 알칼리현상성을 유지할 수 있고, 패턴의 직사각형성 및 현상성으로 할 수 있다.It is preferable that 25 mass% or more of the photocurable composition of this invention is an acid dye with respect to all the coloring agents. Thereby, alkali developability can be maintained and it can be set as rectangularness and developability of a pattern.

이하, 산성염료에 대해서 설명한다.Hereinafter, the acid dye will be described.

(산성염료)(Acid dye)

산성염료는 술폰산이나 카르복실산이나 페놀성 수산기 등의 산성기를 갖는 색소이면 특별히 제한되지 않지만, 유기용제나 현상액에 대해 용해성, 염기성화합물과의 염형성성, 흡광도, 경화성조성물 중 다른 성분과의 상호작용, 내광성, 내열 성 등의 필요로 되는 성능 전체를 고려하여 선택된다.The acid dye is not particularly limited as long as it is a dye having an acidic group such as sulfonic acid, carboxylic acid, or phenolic hydroxyl group, but it is soluble in organic solvents and developing solutions, salt formability with basic compounds, absorbance, and cure with other components. It is selected in consideration of the entire performance required such as action, light resistance and heat resistance.

이하, 상기 산성염료의 구체예를 들 수 있다. 단 본 발명에 있어서 산성염료는 이들로 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 하기의 염료 및 이들 염료의 유도체를 들 수 있다.Hereinafter, the specific example of the said acid dye is mentioned. However, acid dyes in the present invention is not limited to these. For example, the following dyes and derivatives of these dyes are mentioned.

Acid Black 24;Acid Black 24;

Acid Blue 1, 7, 9, 15, 83, 86, 90, 103, 108, 113, 120, 249;Acid Blue 1, 7, 9, 15, 83, 86, 90, 103, 108, 113, 120, 249;

Acid Green 1, 3, 5, 9, 16, 50;Acid Green 1, 3, 5, 9, 16, 50;

Acid Orange 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 63;Acid Orange 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 63;

Acid Red 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 51, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 103, 111, 114, 145, 150, 151;Acid Red 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 51, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 103, 111, 114, 145, 150, 151;

Acid Violet 9, 17, 49;Acid Violet 9, 17, 49;

Acid Yellow 1, 7, 9, 11, 17, 23, 34, 36, 38, 40, 65, 72, 76, 135, 228;Acid Yellow 1, 7, 9, 11, 17, 23, 34, 36, 38, 40, 65, 72, 76, 135, 228;

Direct Yellow 34;Direct Yellow 34;

Direct Orange 41, 61, 70;Direct Orange 41, 61, 70;

Direct Violet 54;Direct Violet 54;

Direct Blue 86, 108, 109, 199;Direct Blue 86, 108, 109, 199;

Mordant Yellow 8, 10, 20;Mordant Yellow 8, 10, 20;

Mordant Red 9, 32; Mordant Red 9, 32;

Mordant Violet 2, 41;Mordant Violet 2, 41;

Mordant Blue 1,3;Mordant Blue 1,3;

Mordant Green 4;Mordant Green 4;

Food Yellow 3;Food Yellow 3;

Solvent Yellow 14;Solvent Yellow 14;

Solvent Orange 2, 7, 15;Solvent Orange 2, 7, 15;

Solvent Red 49;Solvent Red 49;

Valifast Blue 2620Valifast Blue 2620

본 발명에 있어서 착색제로서 사용할 수 있는 산성염료로는 하기의 화합물을 사용할 수 있다.The following compounds can be used as an acid dye which can be used as a coloring agent in this invention.

-헤테로환 아조계 화합물-Heterocyclic Azo Compounds

헤테로환 아조계 화합물은 헤테로환에 아조기(-N=N-)가 직접 결합한 화합물이다.Heterocyclic azo compounds are compounds in which an azo group (-N = N-) is directly bonded to a heterocycle.

여기서, 헤테로환으로는 환내에 헤테로원자(예를 들면, 질소원자, 황원자, 산소원자)를 갖는 것이다. 포화환 및 불포화환 중 어느 것이어도 좋지만, 불포화환인 것이 바람직하다. 또한, 단환 및 축합환 중 어느 것이어도 좋고, 무치환이거나 치환기로 치환되어 있어도 좋다.Here, the hetero ring has a hetero atom (eg, nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom) in the ring. Although any of a saturated ring and an unsaturated ring may be sufficient, it is preferable that it is an unsaturated ring. In addition, any of a monocyclic ring and a condensed ring may be sufficient, and may be unsubstituted or substituted by a substituent.

헤테로환의 구체예로는 푸란, 피롤, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 옥사졸, 티아졸, 트리아졸, 피란, 피리딘, 피리미딘, 피라진, 트리아진, 피리돈, 이소티아졸, 티아디아졸, 벤조티아졸, 벤조옥사졸, 벤조이소티아졸 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 환내에 질소원자를 함유하는 헤테로환(함질소헤테로환)이 바람직하고, 이들 중에서도 피라졸, 피리돈, 피리딘, 피리미딘이 바람직하다.Specific examples of the heterocycle include furan, pyrrole, pyrazole, pyrazoline, imidazole, oxazole, thiazole, triazole, pyran, pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, pyridone, isothiazole, thiadiazole , Benzothiazole, benzoxazole, benzoisothiazole and the like. In these, the heterocyclic ring (nitrogen hetero ring) which contains a nitrogen atom in a ring is preferable, and pyrazole, a pyridone, a pyridine, a pyrimidine is preferable among these.

또한, 헤테로환 아조계 화합물의 임의의 위치에 산기를 함유하는 것이 바람직하다. 여기서 산기로는 알칼리성 수용액에 대해 해리가능한 관능기이면 종류에 상관없지만, 구체적으로는 술폰산기, 카르복실산기, 페놀성수산기, 술폰아미도기, 인산기 등을 들 수 있다. 또한 이들 산기가 2가 이상의 금속염으로 되어 있어도 좋고, 이 경우의 금속으로는 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 아연, 알루미늄, 니켈, 동, 코발트, 철 등을 들 수 있다.Moreover, it is preferable to contain an acidic radical in arbitrary positions of a heterocyclic azo compound. As the acid group, any type of acid group can be used as long as it is a functional group capable of dissociating with an alkaline aqueous solution. Specific examples thereof include a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamido group, and a phosphoric acid group. These acid groups may be a divalent or higher metal salt, and examples of the metal in this case include magnesium, calcium, strontium, barium, zinc, aluminum, nickel, copper, cobalt and iron.

상기 헤테로환 아조계 화합물로는 1)아조기의 일측의 결합수에 직접 결합한 헤테로환이 피라졸환이고, 아조기의 다른 측의 결합수에도 헤테로환이 직접 결합하고, 구조중의 임의의 위치에 산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 또한As the heterocyclic azo compound, 1) a compound in which a heterocyclic ring directly bonded to the number of bonds on one side of the azo group is a pyrazole ring, and a heterocyclic ring is directly bonded to the number of bonds on the other side of the azo group and has an acid group at any position in the structure. Is preferred, and also

2)아조기의 일측의 결합수에 직접 결합한 헤테로환이 피라졸환이고, 아조기의 다른 측의 결합수에 직접 결합한 헤테로환이 피리딘환이고, 구조중의 임의의 위치에 카르복실산 및/또는 술폰아미드를 갖는 화합물,2) The heterocyclic ring directly bonded to the bonding water on one side of the azo group is a pyrazole ring, the heterocyclic bond directly bonded to the bonding water on the other side of the azo group is a pyridine ring, and has a carboxylic acid and / or sulfonamide at any position in the structure. compound,

3)아조기의 일측의 결합수에 직접 결합한 헤테로환이 피라졸환이고, 아조기의 다른 측의 결합수에 직접 결합한 헤테로환이 피리미딘환이고, 구조중의 임의의 위치에 카르복실산환 및/또는 술폰아미드를 갖는 화합물이 바람직하다.3) The heterocyclic ring directly bonded to the bonding water on one side of the azo group is a pyrazole ring, the heterocyclic ring directly bonded to the bonding water on the other side of the azo group is a pyrimidine ring, and a carboxylic acid ring and / or sulfonamide is substituted at any position in the structure. The compound which has is preferable.

이하, 헤테로환 아조계 화합물의 구체예(예시화합물 A1-1~A1-24, A2-1~A2-24, A3-1~A3-24)를 표시한다. 단 본 발명에 있어서는 이러한 구체예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the specific example (example compound A1-1-A1-24, A2-1-A2-24, A3-1-A3-24) of a heterocyclic azo compound is shown. However, in this invention, it is not limited to this specific example.

Figure 112006072066685-pat00001
Figure 112006072066685-pat00001

Figure 112006072066685-pat00002
Figure 112006072066685-pat00002

Figure 112006072066685-pat00003
Figure 112006072066685-pat00003

Figure 112006072066685-pat00004
Figure 112006072066685-pat00004

Figure 112006072066685-pat00005
Figure 112006072066685-pat00005

Figure 112006072066685-pat00006
Figure 112006072066685-pat00006

Figure 112006072066685-pat00007
Figure 112006072066685-pat00007

Figure 112006072066685-pat00008
Figure 112006072066685-pat00008

Figure 112006072066685-pat00009
Figure 112006072066685-pat00009

-프탈로시아닌계 화합물-Phthalocyanine-based compound

프탈로시아닌계 화합물은 일반적으로 하기 일반식1로 표시되는 화합물이다.Phthalocyanine compounds are generally compounds represented by the following general formula (1).

일반식1:Formula 1:

Figure 112006072066685-pat00010
Figure 112006072066685-pat00010

상기 일반식1에 있어서, M은 금속류를 표시하고, 상기 금속류로는 Zn, Mg, Si, Sn, Rh, Pt, Pd, Mo, Mn, Pb, Cu, Ni, Co 및 Fe 등, 및 AlCl, InCl, FeCl, TiCl2, SnCl2, SiCl2, GeCl2등의 금속 염화물, TiO, VO등의 금속 산화물, 및 Si(OH)2등의 금속 수산화물을 포함한다. M으로는 Zn, Pd, Cu, Ni, Co 또는 VO가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 Zn, Cu, Co 또는 VO이고, 가장 바람직하게는 Cu이다.In Formula 1, M represents metals, and Zn, Mg, Si, Sn, Rh, Pt, Pd, Mo, Mn, Pb, Cu, Ni, Co and Fe, and AlCl, InCl, FeCl, TiCl 2, SnCl 2, SiCl 2, GeCl 2, such as a metal chloride, metal oxides such as TiO, VO, and a metal hydroxide such as Si (OH) 2. Z is preferably Zn, Pd, Cu, Ni, Co or VO, more preferably Zn, Cu, Co or VO, most preferably Cu.

Z1, Z2, Z3, 및 Z4는 각각 독립적으로 탄소 원자를 함유하는 6원환을 형성하기 위해 필요한 원자군을 표시한다. 상기 6원환이 포화된 환이거나 불포화된 환이어도 좋고, 질소원자 등을 함유하는 헤테로환이어도 좋고, 미치환되거나 치환기를 갖고 있어도 좋고, 다른 5원환 또는 6원환이 더 축합되어도 좋고, 축환된 환이 치환기를 더 갖고 있어도 좋다. 구체적으로는 벤젠환, 시클로헥산환, 시클로헥센환, 피리딘환, 나프탈렌환 등이 포함된다.Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 each independently represent an atomic group necessary to form a six-membered ring containing a carbon atom. The 6-membered ring may be a saturated ring or an unsaturated ring, a hetero ring containing a nitrogen atom, or the like, may be unsubstituted or have a substituent, other 5- or 6-membered rings may be further condensed, and the ring which is condensed may be a substituent. You may have more. Specifically, a benzene ring, a cyclohexane ring, a cyclohexene ring, a pyridine ring, a naphthalene ring and the like are included.

R101, R102, R103 및 R104는 각각 독립적으로 후술하는 치환기를 표시한다. 본 발명에 있어서, 복수개의 R101~R104로 표시되는 치환기 중 적어도 1개가 후술하는 유기기인 것이 바람직하다. 또한, 상기 유기기로는 황원자를 함유하는 유기기(함황유기기)가 바람직하다.R 101 , R 102 , R 103 and R 104 each independently represent a substituent described later. In the present invention, at least one of the substituents represented by the plurality of R 101 to R 104 is preferably an organic group described later. As the organic group, an organic group (sulfur-containing device) containing a sulfur atom is preferable.

n1, n2, n3 및 n4는 각각 독립적으로 0~4의 정수를 표시한다. n1~n4의 값의 총합은 1 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 이상이다.n1, n2, n3 and n4 respectively independently represent the integer of 0-4. It is preferable that the sum total of n1-n4 is 1 or more, More preferably, it is 2 or more.

또한, 프탈로시아닌계 화합물에는 구조중의 임의의 위치에 산기를 갖는 것이 바람직하다. 산기로는 알칼리성 수용액에 대해서 해리가능한 관능기이면 종류에 상관없지만, 구체적인 예로는 술폰산기, 카르복실산기, 페놀성 수산기, 술폰아미드기, 인산기 등을 들 수 있다.In addition, the phthalocyanine compound preferably has an acid group at any position in the structure. The acid group may be any type as long as it is a functional group capable of dissociating with an alkaline aqueous solution. Specific examples thereof include a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a phosphoric acid group.

또한, 이들의 산기는 2가 이상의 금속염으로 이루어져 있어도 좋고, 그 경우의 금속으로는 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 아연, 알루미늄, 니켈, 동, 코발트, 철 등을 들 수 있다.In addition, these acid groups may consist of a bivalent or more metal salt, and magnesium, calcium, strontium, barium, zinc, aluminum, nickel, copper, cobalt, iron, etc. are mentioned as a metal in that case.

프탈로시아닌계 화합물로는 이하에 표시된 어느 하나의 경우가 바람직하다.As the phthalocyanine compound, any one of the following cases is preferable.

1)M은 Cu이고, Z1, Z2, Z3 및 Z4가 형성하는 6원환이 벤젠환이고, 복수개의 R101~R104 중 적어도 1개가 함황유기기인 화합물,1) M is Cu, a 6-membered ring formed by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is a benzene ring, at least one of a plurality of R 101 ~ R 104 is a sulfur-containing organic compound,

2)M은 Cu이고, Z1, Z2, Z3 및 Z4가 형성하는 6원환이 벤젠환 및/또는 피리딘환이고, 복수개의 R101~R104 중 적어도 1개가 할로겐원자 또는 함황유기기인 화합물이다. 또한,2) M is Cu, the 6-membered ring formed by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is a benzene ring and / or a pyridine ring, and at least one of a plurality of R 101 to R 104 is a halogen atom or a sulfur-containing device; Phosphorus compound. Also,

3)M은 Cu이고, Z1, Z2, Z3 및 Z4가 형성하는 6원환은 벤젠환이고, 복수개의 R101~R104 중 적어도 1개는 -SR(R은 후술한 유기기)이고, 상기 유기기 R의 임의의 위치에 산기를 함유하는 화합물,3) M is Cu, the 6-membered ring formed by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is a benzene ring, and at least one of the plurality of R 101 to R 104 is —SR (R is an organic group described below) A compound containing an acid group at any position of the organic group R,

4)M은 Cu이고, Z1, Z2, Z3 및 Z4가 형성하는 6원환이 벤젠환 및/또는 피리딘환이고, 복수개의 R101~R104 중 적어도 1개가 할로겐원자 또는 술폰아미드기인 화합물이 바람직하다.4) M is Cu, and the six-membered ring formed by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 is a benzene ring and / or a pyridine ring, and at least one of a plurality of R 101 to R 104 is a halogen atom or a sulfonamide group Compound is preferred.

이하, 프탈로시아닌계 화합물의 구체예(예시화합물A4-1~A4-19)를 표시한다. 단, 본 발명에 있어서는 이러한 구체예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the specific example (example compound A4-1-A4-19) of a phthalocyanine type compound is shown. However, in this invention, it is not limited to this specific example.

Figure 112006072066685-pat00011
Figure 112006072066685-pat00011

Figure 112006072066685-pat00012
Figure 112006072066685-pat00012

Figure 112006072066685-pat00013
Figure 112006072066685-pat00013

Figure 112006072066685-pat00014
Figure 112006072066685-pat00014

하기 구체예(A5-1~A5-38)에 있어서는 환A1, 환A2, 환A3 및 환A4는 각각 독립적으로 벤젠환 또는 피리딘환을 나타낸다. 피리딘환의 경우는 그 축환방향에 의해 N의 위치가 다른 위치이성체가 존재한다. 또한, 치환기의 치환위치가 다른 이성체도 각각 존재한다.In the following specific examples (A5-1 to A5-38), ring A1, ring A2, ring A3 and ring A4 each independently represent a benzene ring or a pyridine ring. In the case of a pyridine ring, positional isomers in which the positions of N differ in the axial direction are present. In addition, isomers in which the substituents are substituted at different positions are also present.

Figure 112006072066685-pat00015
Figure 112006072066685-pat00015

Figure 112006072066685-pat00016
Figure 112006072066685-pat00016

-아조메틴계화합물-Azomethine Compounds

아조메틴계화합물로는 분자내에 아조메틴기[RaC(Rb)=N-]를 갖는 화합물을 나타낸다. 여기서 Ra, Rb는 임의의 유기기를 나타낸다.As an azomethine type compound, the compound which has an azomethine group [RaC (Rb) = N-] in a molecule | numerator is shown. Ra and Rb represent arbitrary organic groups here.

아조메틴계 화합물로는 헤테로환을 함유하는 것이 바람직하다. 헤테로환으로 는 기술한 헤테로환 아조계 화합물에 있어서 헤테로환과 동일한 것을 들 수 있다. 이들 중에서는 환내에 질소원자를 함유하는 헤테로환(함질소 헤테로환)이 바람직하다.It is preferable to contain a hetero ring as an azomethine type compound. Examples of the hetero ring include the same ones as the hetero ring in the heterocyclic azo compound described above. In these, the heterocyclic ring (nitrogen-containing heterocyclic ring) containing a nitrogen atom in a ring is preferable.

또한, 본 발명에 있어서는 기술한 헤테로환이 복수축환한 구조를 갖는 것이 바람직하다. 이 중에서도 특히, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 트리아졸, 옥사졸에서 선택된 헤테로환을 2개 축합한 구조가 바람직하다.In addition, in this invention, it is preferable to have a structure which the hetero ring described above multiply condensed. Especially, the structure which condensed two hetero rings selected from pyrazole, pyrazoline, imidazole, triazole, and oxazole is preferable.

또한, 아조메틴계 화합물에는 구조중의 임의의 위치에 산기를 갖는 것이 바람직하다. 산기로는 알칼리성 수용액에 대해서 해리가능한 관능기이면 종류에 상관없지만, 구체적으로는 술폰산기, 카르복실산기, 페놀성 수산기, 술폰아미드기, 인산기 등을 들 수 있다. 또한, 산기가 2가 이상의 금속염으로 이루어져 있어도 좋고, 그 경우의 금속으로는 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 아연, 알루미늄, 니켈, 동, 코발트, 철 등을 들 수 있다.Moreover, it is preferable to have an acidic radical in the azomethine type compound in arbitrary positions in a structure. The acid group may be any kind as long as it is a functional group capable of dissociating with an alkaline aqueous solution. Specific examples thereof include a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a phosphoric acid group. The acid group may be made of a divalent or higher metal salt, and examples of the metal in that case include magnesium, calcium, strontium, barium, zinc, aluminum, nickel, copper, cobalt and iron.

아조메틴계 화합물로는 1)피라졸린과 트리아졸을 축합한 환구조를 갖고, 아조메틴기의 질소원자에 방향환이 치환되어 있고, 구조중의 임의의 위치에 산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 또한Preferred examples of the azomethine compound include compounds having a ring structure condensed with pyrazoline and triazole, an aromatic ring substituted at the nitrogen atom of the azomethine group, and an acid group at any position in the structure.

2)이하에 표시된 피라졸린과 1,2,4-트리아졸을 축환한 구조[좌측으로부터 7H-피라피라졸로[1,5-b][1,2,4]트리아졸 또는 7H-피라졸로[5,1-c][1,2,4]트리아졸]을 갖고, 아조메틴기의 질소원자에 치환한 방향환이 퀴놀린골격으로, 구조중의 임의의 위치에 카르복실산 및/또는 술폰산아미드를 갖는 화합물이 바람직하다.2) Structures in which pyrazoline and 1,2,4-triazole are condensed below [7H-pyrapyrazolo [1,5-b] [1,2,4] triazole or 7H-pyrazolo [from left] 5,1-c] [1,2,4] triazole], and the aromatic ring substituted by the nitrogen atom of the azomethine group is a quinoline skeleton, and a carboxylic acid and / or sulfonamide is formed at any position in the structure. The compound which has is preferable.

Figure 112006072066685-pat00017
Figure 112006072066685-pat00017

이하, 아조메틴계 화합물의 구체예(예시화합물 A6-1~A6-28)을 표시한다. 단, 본 발명에 있어서는 이들의 구체예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the specific example (example compound A6-1-A6-28) of an azomethine type compound is shown. However, in this invention, it is not limited to these specific examples.

Figure 112006072066685-pat00018
Figure 112006072066685-pat00018

Figure 112006072066685-pat00019
Figure 112006072066685-pat00019

Figure 112006072066685-pat00020
Figure 112006072066685-pat00020

Figure 112006072066685-pat00021
Figure 112006072066685-pat00021

-치환기의 설명-Description of the substituent

본 명세서중의 「치환기」에 대해 설명한다.The "substituent" in this specification is demonstrated.

본 명세서 있어서, 치환기로는 무기, 유기를 일으키는 임의의 기를 표시하 고, 구체적으로는 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 시아노기, 니트로기, 카르복실산기, 술폰산기, 술핀산기, 알킬기(직쇄상, 분기상, 환상을 함유), 알케닐기(직쇄상, 분기상, 환상을 함유), 알키닐기, 아릴기, 헤테로환기, 포르밀기 또는 하기 (A)군에서 선택된 1종의 부분구조와, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 아릴기 및 헤테로환기에서 선택된 1종의 부분구조를 임의로 조합한 기를 들 수 있다.In the present specification, as a substituent, an inorganic or organic group is represented, and specifically, a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group and an alkyl group (linear) , Branched, cyclic), alkenyl group (linear, branched, cyclic), alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, formyl group or one kind of partial structure selected from the following (A) group, and alkyl group The group which arbitrarily combined 1 type of substructures chosen from alkenyl group, alkynyl group, an aryl group, and heterocyclic group is mentioned.

(A)군:에테르기, 아미노기, 티오에테르기, 케톤기, 에스테르기, 아미도기, 우레탄기[카르바모일기 -O-CO-N(R)-], 우레아기[-N(R)-CO-N(R)-], 술피닐기[-SO-], 술포닐기[-SO2-], 술폰산에스테르기[-SO2-O-], 술폰아미도기[-SO2-N(R)-], 이미도기[-CO-N(R)-CO-], 술포닐아미도기[-SO2-N(R)-CO-], 디술포닐이미도기[-SO2-N(R)-SO2-](A) group: ether group, amino group, thioether group, ketone group, ester group, amido group, urethane group [carbamoyl group -O-CO-N (R)-], urea group [-N (R)- CO-N (R)-], sulfinyl group [-SO-], sulfonyl group [-SO 2- ], sulfonic acid ester group [-SO 2 -O-], sulfonamido group [-SO 2 -N (R) -], Imido group [-CO-N (R) -CO-], sulfonyl amido group [-SO 2 -N (R) -CO-], disulfonylimido group [-SO 2 -N (R)- SO 2- ]

상기 (A)군 중에서 질소원자에 결합되어 있는 R은 수소원자, 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 또는 헤테로환기 중 어느 하나를 나타낸다.R bonded to the nitrogen atom in the group (A) represents any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

상기 「치환기」에 대해, 알킬기는 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 하나이어도 좋다. 환상의 경우는 단환, 다환 중 어느 하나이어도 좋다. 알킬기로는 탄소수 1~30의 알킬기가 바람직하고, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 노르보르닐기, 아다만틸기 등을 들 수 있다. 또한 이들 알킬기의 임의의 위치에 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 또한 치환기에는 상기의 알킬기 자신을 포함하고, 상기의 「치환기」의 전체가 포함된다. 또한, 환상의 알킬기의 경우는 환을 구성하는 탄소-탄소 결합의 임의의 위치에 상 술의 (A)군에서 선택된 부분구조가 삽입되어도 있어도 좋다.As for the "substituent", the alkyl group may be any of linear, branched and cyclic. In the case of a cyclic | annular, any of monocyclic and polycyclic may be sufficient. As an alkyl group, a C1-C30 alkyl group is preferable, Specifically, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, norbornyl group, adamantyl group Etc. can be mentioned. Moreover, you may further have a substituent at arbitrary positions of these alkyl groups, and a substituent includes the said alkyl group itself, and the whole of said "substituent" is contained. In addition, in the case of a cyclic alkyl group, the partial structure selected from the group (A) mentioned above may be inserted in the arbitrary position of the carbon-carbon bond which comprises a ring.

상기 「치환기」에 있어서, 알케닐기는 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 하나이어도 좋다. 환상의 경우는 단환, 다환 중 어느 하나이어도 좋다. 알케닐기로는 탄소수 1~30의 알케닐기가 바람직하고, 구체적으로는 비닐기, 알릴기, 1-메틸비닐기, 3-부텐-1-일기, 시클로펜탄-2-엔-1-일기, 시클로헥산-2-엔-1-일기, 시클로헥산-1-엔-1-일기 등을 들 수 있다. 또한 이들은 알케닐기의 임의의 위치에 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 또한 치환기에는 상기의 「치환기」의 전체가 포함된다. 또한 환상의 알케닐기의 경우는 환을 구성하는 탄소-탄소 결합의 임의의 위치에 상술의 (A)군에서 선택된 부분구조가 삽입되어 있어도 좋다.In said "substituent", an alkenyl group may be either linear, branched or cyclic. In the case of a cyclic | annular, any of monocyclic and polycyclic may be sufficient. As an alkenyl group, a C1-C30 alkenyl group is preferable, Specifically, a vinyl group, an allyl group, 1-methylvinyl group, 3-buten-1-yl group, a cyclopentan-2-en-1-yl group, cyclo Hexane-2-en-1-yl group, a cyclohexane-1-en-1-yl group, etc. are mentioned. Moreover, these may further have a substituent at the arbitrary position of an alkenyl group, and the whole of said "substituent" is contained in a substituent. In the case of the cyclic alkenyl group, the partial structure selected from the above-mentioned (A) group may be inserted in arbitrary positions of the carbon-carbon bond which comprises a ring.

상기 「치환기」에 있어서, 알키닐기는 에티닐기이지만, 에티닐기의 수소원자에 치환되어 치환기를 갖고 있어도 좋다. 여기서 치환기로는 상기의 「치환기」의 전체가 포함된다.In said "substituent", the alkynyl group is an ethynyl group, but may be substituted with a hydrogen atom of the ethynyl group and may have a substituent. As a substituent, the whole of said "substituent" is contained here.

상기 「치환기」에 있어서, 아릴기는 방향족이면 단환, 축합환 중 어느 하나이어도 좋고, 탄소수 6~20의 아릴기가 바람직하다. 구체적으로는 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 피레닐기 등을 들 수 있다. 또한, 이들은 아릴기의 임의의 위치에 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 또한 치환기로는 상기의 「치환기」의 전체가 포함된다.In said "substituent", as long as an aryl group is aromatic, any of a monocycle and a condensed ring may be sufficient, and a C6-C20 aryl group is preferable. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, etc. are mentioned. In addition, these may further have a substituent at the arbitrary position of an aryl group, and the whole of said "substituent" is contained as a substituent.

상기 「치환기」에 있어서, 헤테로환기는 환내에 헤테로원자(예를 들면, 질소원자, 황원자, 산소원자)를 갖는 것으로, 포화환이어도 좋고, 불포화환이어도 좋고, 단환이어도 좋고, 축합환이어도 좋다. 예를 들면 테트라히드로푸라닐기, 디히 드로푸라닐기, 디히드로푸라닐기, 테르라히드로피라닐기, 디히드로피라닐기, 옥소카닐기, 디옥사닐기, 테트라히드로티오페닐기, 디티아닐기, 피롤리디닐기, 피롤리닐기, 테트라히드로피리디닐기, 피페라디닐기, 호모피페라디닐기, 피페리디닐기, 피롤일기, 푸릴기, 티오페닐기, 벤조피롤일기, 벤조푸릴기, 벤조티오페닐기, 피라졸일기, 이소크사졸일기, 이소티아졸일기, 이소다졸일기, 벤조이소크사졸일기, 벤조이소티아졸일기, 이미다졸일기, 옥사졸일기, 티아졸일기, 벤조이미다졸일기, 벤조옥사졸일기, 벤조티아졸일기, 피리딜기, 퀴노리닐기, 이소퀴노리닐기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 피라지닐기, 신노리닐기, 프탈라지닐기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹사리닐기, 아크리디닐기, 페난트리디닐기, 프탈라지닐기, 카르바졸일기, 우라실기, 디티오우라실기, 카르보리닐기, 프리닐기, 티아디아졸일기 등을 들 수 있다. 또한 이들 헤테로환기의 임의의 위치에 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 또한 치환기로는 상기의 「치환기」의 전체가 포함된다.In the "substituent", the heterocyclic group has a hetero atom (for example, a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom) in the ring, and may be a saturated ring, an unsaturated ring, a monocyclic ring, or a condensed ring. For example, tetrahydrofuranyl group, dihydrofuranyl group, dihydrofuranyl group, terahydropyranyl group, dihydropyranyl group, oxocanyl group, dioxanyl group, tetrahydrothiophenyl group, dithianil group, pyrrolidinyl group , Pyrrolinyl, tetrahydropyridinyl, piperadinyl, homopiperadinyl, piperidinyl, pyrrolyl, furyl, thiophenyl, benzopyrroyl, benzofuryl, benzothiophenyl, pyrazolyl, iso Xazolyl group, isothiazolyl group, isodazolyl group, benzoisoxazolyl group, benzoisothiazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzoxazolyl group, benzothiazolyl group , Pyridyl, quinolinyl, isoquinolinyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, cinnaolinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, quinoxarinyl, acridinyl, phenantridi Nyl group, phthalazinyl group, Carbazolyl group, uracil group, dithiouracil group, carborylyl group, prinyl group, thiadiazolyl group, etc. are mentioned. Moreover, you may further have a substituent at arbitrary positions of these heterocyclic groups, and the whole of said "substituent" is contained as a substituent.

또한, 상술한 「치환기」라는 것은 상기의 「치환기」 중 적어도 탄소원자를 함유하는 것을 가리킨다.In addition, the above-mentioned "substituent" means the thing containing at least a carbon atom among said "substituents".

상기에 있어서, 상기 프탈로시아닌계 화합물 중 R101~R104로 표시된 유기기로는 함황유기기가 바람직하고, 치환기를 더 갖고 있어도 좋고, 알킬티오기, 아릴티오기, 알킬술포닐기, 아릴술포닐기, 술폰아미드기가 바람직하다. 또한, 상기 아조메틴계 화합물 중 Ra, Rb로 표시된 유기기로는 Ra, Rb가 함께 이루어져 함질소헤테로환을 형성하고 있는 것이 바람직하다.In the above-mentioned phthalocyanine-based compound, as the organic group represented by R 101 to R 104 , a sulfur-containing group is preferable, and may further have a substituent, and an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and sulfone. Amide groups are preferred. In the azomethine compound, Ra and Rb are preferably organic groups represented by Ra and Rb to form a nitrogen-containing heterocyclic ring.

-다른 염료--Other dyes-

다음에 본 발명의 조성물에 함유할 수 있는 상기 이외의 다른 염료에 대해서 설명한다. 더 함유해도 좋은 다른 염료(유기용제 가용성 염료를 함유)로는 특히 제한되지 않지만, 종래부터 칼라필터용으로서 공지된 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 일본 특허공개 소64-90403호 공보, 일본 특허공개 소64-91102호 공보, 일본 특허공개 평1-94301호 공보, 일본 특허공개 평6-11614호 공보, 일본 특허등록 2592207호, 미국특허 제4,808,501호 명세서, 미국특허 제5,667,920호 명세서, 미국특허 제5,059,500호 명에서, 일본 특허공개 평5-333207호 공보, 일본 특허공개 평6-35183호 공보, 일본 특허공개 평6-51115호 공보, 일본 특허공개 평6-194828호 공보 등에 기재된 색소를 사용할 수 있다.Next, the other dyes which can be contained in the composition of this invention are demonstrated. Although it does not restrict | limit especially as another dye which may contain further (containing organic solvent soluble dye), The dye conventionally known for the color filter can be used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-90403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-91102, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 1-94301, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-11614, Japanese Patent Registration 2592207, In the specification of U.S. Patent No. 4,808,501, U.S. Patent No. 5,667,920, U.S. Patent No. 5,059,500, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-333207, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-35183, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-51115 The pigment | dye of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-194828, etc. can be used.

화학구조로는 상기 이외의 아조계 염료 및 트리페닐메탄계, 안트라퀴논계, 벤지리덴계, 옥소놀계, 페노티아진계, 상기 이외의 아조메틴계, 크산텐계, 상기 이외의 프탈로시아닌계, 벤조피란계, 인디고계, 안트라피리돈계 등의 색소를 들 수 있다.Examples of the chemical structure include azo dyes, triphenylmethane, anthraquinone, benzylidene, oxonol, phenothiazine, azomethine, xanthene, phthalocyanine and benzopyran other than those mentioned above. And pigments such as indigo type and anthrapyridone type.

물 또는 알칼리 현상을 행하는 레지스트계로 구성하는 경우에는 현상에 의해 염료를 완전히 제거한다는 점에서, 산성염료 및 그 유도체의 적어도 1종을 바람직하게 사용할 수 있는 경우가 있다. 그 외에 직접염료, 염기성염료, 매염염료, 산성매염염료, 아조익염료, 분산염료, 유용염료, 식품염료 및 이들의 유도체 등 중에서 1종 이상을 적당히 선택하여 사용하는 것도 유용하다.In the case of forming a resist system which performs water or alkali development, at least one of the acid dyes and derivatives thereof may be preferably used since the dye is completely removed by development. In addition, it is also useful to use one or more selected from direct dyes, basic dyes, mordant dyes, acid mordant dyes, azoic dyes, disperse dyes, useful dyes, food dyes and derivatives thereof.

이하, 산성염료 및 그 유도체에 대해서 설명한다. 산성염료는 술폰산이나 카 르복실산이나 페놀성 수산기 등의 산성기를 갖는 색소이면 특별히 제한되지 않지만 조성물의 조제 및 현상처리에 사용하는 유기용제나 현상액에 대한 용해성, 염기성화합물과의 염형성성, 흡광도, 경화성조성물 중 다른 성분과의 상호작용, 내광성, 내열성 등의 필요로 되는 성능의 전체를 고려하여 선택된다.Hereinafter, an acid dye and its derivative are demonstrated. The acid dye is not particularly limited as long as it is a dye having an acidic group such as sulfonic acid, carboxylic acid or phenolic hydroxyl group, but it is soluble in an organic solvent or developer used in the preparation and development of the composition, the salt formability with basic compounds, and the absorbance. And the overall performance required for interaction with other components in the curable composition, light resistance, heat resistance, and the like.

상기 산성염료의 구체예, 바람직한 예로는 일본 특허공개 제2005-227722호 공보에 기재된 염료를 들 수 있지만, 본 발명에 있어서는 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples and preferred examples of the acid dyes include dyes described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-227722, but are not limited thereto.

상기 산성 염료의 유도체로는 술폰산이나 카르복실산 등의 산성기를 갖는 산성염료의 무기염, 산성염료와 함질소화합물과의 염, 산성염료의 술폰아미드체 등을 사용할 수 있다. 상기 산성염료의 유도체는 경화성 조성물 용액으로서 용해시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않지만, 유기용제나 현상액에 대한 용해성, 흡광도, 경화성조성물 중의 다른성분과의 상호작용, 내광성, 내열성 등의 필요로 하는 성능 전체를 고려하여 선택된다.As the derivative of the acid dye, inorganic salts of acid dyes having acid groups such as sulfonic acid and carboxylic acid, salts of acid dyes with nitrogen compounds, sulfonamides of acid dyes and the like can be used. The derivatives of the acid dyes are not particularly limited as long as they can be dissolved as a curable composition solution. However, all of the required performances such as solubility, absorbance, interaction with other components in the curable composition, light resistance, heat resistance, etc. Is selected in consideration of.

상기 산성염료와 함질소화합물과의 염에 대해 설명한다.The salt of the said acid dye and a nitrogen compound is demonstrated.

산성염료와 함질소화합물과의 염을 형성하는 방법은 산성염료의 용해성 개량(유기용제에 용해성부여)이나, 내열성 및 내광성개량에 효과적인 경우가 있다.The method of forming a salt of an acidic dye and a nitrogen-containing compound is sometimes effective in improving the solubility of the acidic dye (solubility in organic solvents) or in improving heat resistance and light resistance.

산성염료와 염을 형성하는 함질소화합물, 및 산성염료와 아미드결합을 형성하는 함질소화합물에 대해 설명한다.The nitrogen compound which forms a salt with an acid dye, and the nitrogen compound which forms an amide bond with an acid dye are demonstrated.

함질소화합물은 염 또는 아미드화합물의 유기용제나 현상액에 대한 용해성, 염형성성, 염료의 흡광도·투과율, 경화성조성물 중 다른성분과의 상화작용, 착색 제로서 내열성 및 내광성 등의 전체를 감안하여 선택된다. 흡광도·투과율의 관점만으로 선택하는 경우에는 상기 함질소화합물로는 가능한 한 분자량이 낮은 것이 바람직하고, 이중에서도 분자량이 300이하인 것이 바람직하고, 분자량이 280이하의 것이 보다 바람직하고, 분자량이 250이하인 것이 특히 바람직하다.Nitrogen-containing compounds are selected in consideration of the solubility of salts or amide compounds in organic solvents or developers, salt formation, absorbance and transmittance of dyes, interaction with other components in the curable composition, and heat and light resistance as colorants. do. When selecting only from the viewpoint of absorbance and transmittance, it is preferable that the molecular weight of the nitrogen compound is as low as possible, and among these, the molecular weight is preferably 300 or less, more preferably 280 or less, and more preferably 250 or less. Particularly preferred.

산성염료와 함질소화합물과의 염에 있어서, 함질소화합물/산성염료의 몰비(이하, 「n」으로 칭한다)에 대해 설명한다.In the salt of the acid dye and the nitrogen compound, the molar ratio of the nitrogen compound / acid dye (hereinafter referred to as “n”) will be described.

상기 n은 산성염료분자와 대이온인 아민화합물과의 몰비율을 결정한 값으로, 산성염료-아민화합물의 염형성 조건에 의해 자유롭게 선택할 수 있다. 구체적으로는 산성염료 중 산의 관능기의 수 0<n≤5의 사이의 수치가 실용상 많이 사용되고, 유기용제나 현상액에 대한 용해성, 염형성성, 흡광도, 경화성조성물중 다른 성분과의 상호작용, 내광성, 내열성 등의 필요로 하는 성능 전체를 고려하여 선택된다. 흡광도만의 관점에서 선택하는 경우에는 상기 n은 0<n≤4.5의 사이의 수치를 취하는 것이 바람직하고, 0<n≤4 사이의 수치를 취하는 것이 보다 바람직하고, 0<n≤3.5 사이의 수치를 취하는 것이 특히 바람직하다.N is a value for determining a molar ratio between an acid dye molecule and an amine compound which is a large ion, and can be freely selected according to salt forming conditions of the acid dye-amine compound. Specifically, numerical values between 0 <n≤5 of the number of functional groups of the acid in acid dyes are practically used, and the solubility, salt formation, absorbance of the organic solvent or developer, interaction with other components in the curable composition, It selects in consideration of all the required performances, such as light resistance and heat resistance. When selecting from the viewpoint of absorbance only, n preferably takes a value between 0 <n≤4.5, more preferably takes a value between 0 <n≤4, and a value between 0 <n≤3.5 It is particularly desirable to take

상기 표시된 산성염료는 그 제조상 산성기를 도입하는 것에 의해 산성염료로 되어 있다는 점에서, 그 치환기를 변경하는 것에 의해 비산성염료로 할 수 있다.Since the acid dyes indicated above are acid dyes by introducing an acid group in preparation thereof, the acid dyes can be converted into a non acid dye by changing the substituent.

산성염료는 알칼리 현상의 경우에 바람직하게 작용하는 경우도 있지만, 한편 과현상되어 버리는 것도 있으므로, 비산성염료를 사용하는 것이 바람직한 경우도 있다.The acid dye may act preferably in the case of alkali development. On the other hand, since it may be overdeveloped, it may be preferable to use a non acid dye.

이러한 염료는 보색계인 옐로우, 마젠타 및 시안을 구성시킬 때에는 각각 단 색의 염료를 사용하지만, 원색계인 레드, 그린, 블루를 구성시킬 경우에는, 2종 이상의 염료를 조합시켜서 사용한다. 본 발명에 있어서 2종 이상의 염료를 조합시켜서 원색계를 구성하는 것이 바람직하다These dyes use monochromatic dyes when composing the complementary colors yellow, magenta and cyan, respectively. However, when composing the primary colors red, green and blue, two or more dyes are used in combination. In the present invention, it is preferable to combine two or more dyes to form a primary color system.

(안료)(Pigment)

본 발명에 있어서 착색제로서 사용할 수 있는 안료로는 종래에 공지된 각종 무기안료 또는 유기안료를 사용할 수 있다. 또한 무기안료이거나 유기안료이어도, 고투과율인 것이 바람직한다는 것을 고려하면, 가능한 미세한 것을 사용하는 것이 바람직하고, 취급성을 고려하면 상기 안료의 평균입자직경은 0.01㎛~0.1㎛가 바람직하고, 0.01㎛~0.05㎛가 보다 바람직하다.As a pigment which can be used as a coloring agent in this invention, various inorganic pigments or organic pigments conventionally known can be used. In addition, even if it is an inorganic pigment or an organic pigment, considering that it is desirable to have a high transmittance, it is preferable to use as fine as possible, and considering the handleability, the average particle diameter of the pigment is preferably 0.01 μm to 0.1 μm, and 0.01 μm -0.05 micrometer is more preferable.

또한, 상기 무기안료로는 금속산화물, 금속착염 등으로 표시된 금속화합물을 들 수 있다. 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속산화물, 및 상기 금속의 복합산화물을 들 수 있다.In addition, the inorganic pigments include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like. Specific examples thereof include metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony, and composite oxides of the above metals.

상기 유기안료로는 예를 들면 이하의 안료를 들 수 있다.As said organic pigment, the following pigments are mentioned, for example.

C.I.피그멘트 옐로우 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199;Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199;

C.I. 피그멘트 오렌지 36, 38, 43, 71;C.I. Pigment orange 36, 38, 43, 71;

C.I. 피그멘트 레드 81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;C.I. Pigment red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;

C.I.피그멘트 바이올렛 19, 23, 32, 39;C.I. pigment violet 19, 23, 32, 39;

C.I.피그멘트 블루 1, 2, 15, 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66;Pigment blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66;

C.I. 피그멘트 그린 7, 36, 37;C.I. Pigment green 7, 36, 37;

C.I. 피그멘트 브라운 25, 28;C.I. Pigment brown 25, 28;

C.I. 피그멘트 블랙 1,7;C.I. Pigment black 1,7;

본 발명에 있어서 바람직하게 사용할 수 있는 안료로서 이하의 것을 들 수 있다. 단 본 발명은 이들로 한정되지 않는다.Examples of pigments that can be preferably used in the present invention include the following pigments. However, the present invention is not limited to these.

C.I.피그멘트 옐로우 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,

C.I.피그멘트 오렌지 36,71,C.I. pigment orange 36,71,

C.I.피그멘트 레드 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,

C.I.피크멘트 바이올렛 19, 23, 32,C.I. peakment violet 19, 23, 32,

C.I.피그멘트 블루 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66,Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,

C.I.피그멘트 그린 7, 36, 37;Pigment green 7, 36, 37;

C.I.피그멘트 블랙 1C.I.Pigment Black 1

본 발명에 있어서 광경화성 착색수지 조성물은 상기 유기안료로서 녹색, 적색 또는 청색의 유기안료를 함유하는 것이 바람직하다.In the present invention, the photocurable colored resin composition preferably contains green, red or blue organic pigments as the organic pigments.

이들 각각의 유기안료는 단독 또는 색순도를 높이기 위해 각종 조합으로 사용할 수 있다.Each of these organic pigments may be used alone or in various combinations to increase color purity.

이하에 상기 조합 등의 구체예를 표시한다.Specific examples, such as the said combination, are shown below.

적색안료로는 안트라퀴논계 안료, 페리렌계안료, 디케토피롤로피롤계 안료 단독 또는 이들의 적색안료 끼리 조합한 혼합계 안료, 이들의 적어도 1종과 JIS계 황색안료와, 이소인돌린계황색안료, 퀴노프탈론계 황색안료와의 혼합계 안료 등을 사용할 수 있다.Examples of the red pigment include anthraquinone pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments alone or mixed pigments of red pigments thereof, at least one of these pigments and JIS yellow pigments and isoindolin yellow pigments. And mixed pigments with a quinophthalone yellow pigment can be used.

예를 들면, 안트라퀴논계 안료로는 C.I피크멘트 레드 177을 들 수 있고, 페리렌계 안료로는 C.I.피그멘트 레드 155, C.I.피크멘트 레드 224를 들 수있고, 디케토피롤로피롤계안료로는 C.I.피크멘트 레드 254를 들 수 있고, 색재현성의 점에서 C.I.피크멘트 옐로우 139와의 혼합이 바람직하다.Examples of the anthraquinone pigments include CI peakment red 177, perirene pigments include CI pigment red 155 and CI peakment red 224, and diketopyrrolopyrrole pigments include CI. Picment Red 254 is mentioned, and mixing with CI peakment yellow 139 is preferable at the point of color reproducibility.

또한 적색안료와 황색안료의 질량비는 100:5~100:75가 바람직하다. 이 범위를 벗어나면 투과율을 억제하는 것이 곤란하고, 색순도를 올릴 수 없는 경우가 있다. 또한 바람직한 질량비로는 100:10~100:50이다.In addition, the mass ratio of the red pigment and the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 75. If it is out of this range, it is difficult to suppress transmittance | permeability and color purity may not be raised. Moreover, as a preferable mass ratio, it is 100: 10-100: 50.

또한, 녹색안료로는 할로겐화 프탈로시아닌계 안료를 단독으로 또는 이것과 JIS 아조계 황색안료, 퀴노프탈론계 황색안료, 아조메틴계 황색안료 또는 이소인돌린계 황색안료와 혼합하여 사용할 수 있다.As the green pigment, a halogenated phthalocyanine pigment may be used alone or in combination with a JIS azo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindolin yellow pigment.

예를 들면, 이와같은 예로는 C.I. 피크멘트 그린 36을 단독 또는 C.I.피크멘트 그린 7, 36,37과 C.I. 피크멘트 옐로우 83, C.I.피크멘트 옐로우 138, C.I.피크멘트 옐로우 139, C.I.피그메트 옐로우 150, C.I.피그멘트 옐로우 180 또는 C.I.피그멘트 옐로우 185의 혼합이 바람직하다.For example, such examples include C.I. Peakment green 36 alone or in C.I. peakment green 7, 36,37 and C.I. Preference is given to mixing peakment yellow 83, C. I. peakment yellow 138, C. I. peakment yellow 139, C. I. pigmet yellow 150, C. I. pigment yellow 180 or C. I. pigment yellow 185.

녹색안료와 황색안료의 질량비는 100:5~100:150이 바람직하다.The mass ratio of green pigment and yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150.

청색안료로는 프탈로시아닌계 안료를 단독으로, 또는 이것과 디옥사진계 자 색안료의 혼합을 사용할 수 있다.As the blue pigment, a phthalocyanine-based pigment may be used alone, or a mixture of this and a dioxazine-based purple pigment may be used.

예를 들면, C.I.피그멘트 블루 15:6과 C.I.피그멘트 바이올렛23과의 혼합이 바람직하다.For example, mixing of C.I. Pigment Blue 15: 6 with C.I.Pigment Violet 23 is preferred.

청색안료와 자색안료와의 질량비는 100:0~100:30이 바람직하다.The mass ratio between the blue pigment and the purple pigment is preferably 100: 0 to 100: 30.

또한, 본 발명의 광경화성 조성물에 있어서, 전체 고형분 중에 있어서 상기 착색제의 함유량은 40질량% 이상이다. 상기 착색제의 함유량이 40질량% 미만이면, 화소의 막두께를 1.5㎛ 이하로 하는 경우에, 충분한 색농도를 얻을 수 없고, 예를 들면, 이를 사용한 화상센서(고체촬상소자)의 색분리성을 저하시켜 버린다.Moreover, in the photocurable composition of this invention, content of the said coloring agent is 40 mass% or more in total solid. If the content of the colorant is less than 40 mass%, sufficient color concentration cannot be obtained when the film thickness of the pixel is 1.5 µm or less, and for example, color separation of the image sensor (solid-state image sensor) using the same It will lower.

상기 착색제의 함유량으로는 전체 고형분에 대해 40질량% 이상이고, 바람직하게는 45질량%이상이고, 더욱 바람직하게는 50질량% 이상이다. 또한 상기 착색제의 함유량의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 경화성 및 감도의 저하를 방지하기 위해, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제의 함유량을 어느 정도 확보한다는 점에서 80질량% 이하인 것이 바람직하고, 70질량% 이하가 더욱 바람직하다.As content of the said coloring agent, it is 40 mass% or more with respect to whole solid content, Preferably it is 45 mass% or more, More preferably, it is 50 mass% or more. Moreover, although the upper limit of content of the said coloring agent is not specifically limited, In order to prevent the fall of curability and a sensitivity, it is preferable that it is 80 mass% or less from the point which ensures content of a photopolymerizable compound and a photoinitiator to some extent, and is 70 mass% or less More preferred.

(광중합성 화합물)(Photopolymerizable compound)

다음에 상기 광중합성 화합물에 대해 설명한다.Next, the photopolymerizable compound will be described.

본 발명에 있어서 광중합성 화합물은 분자내에 알칼리 가용성기를 갖는 것이 필요하다. 여기서 분자내에 알칼리 가용성기를 갖는다는 것은 종래 공지의 광중합 성화합물의 주쇄에 알칼리 가용성기가 결합해도, 측쇄에 알칼리가용성기가 결합한 형태의 화합물이어도 특히 한정되는 것은 아니다.In the present invention, the photopolymerizable compound needs to have an alkali-soluble group in the molecule. Here, the alkali-soluble group in the molecule is not particularly limited even if the alkali-soluble group is bonded to the main chain of a conventionally known photopolymerizable compound or the compound in which the alkali-soluble group is bonded to the side chain.

본 발명의 광경화성 조성물은 분자내에 알칼리 가용성기를 갖는 광중합성 화 합물을 사용함으로써 일반적으로 사용하는 알칼리 가용성 수지를 사용할 필요가 없어지고, 그 결과 상기 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합성 개시제의 총함유량을 증가시킬 수 있고, 또한 광조사하는 것에 의해 막경화성을 확보할 수 있다.The photocurable composition of the present invention eliminates the need to use an alkali-soluble resin generally used by using a photopolymerizable compound having an alkali-soluble group in a molecule, and as a result, the total content of the colorant, the photopolymerizable compound and the photopolymerizable initiator is reduced. It can increase and also film hardenability can be ensured by light irradiation.

또한, 본 발명의 칼라필터의 박막화에 있어서도, 본 발명의 상기 광경화성 조성물을 사용하는 것에 의해 충분한 색순도를 갖고, 알칼리 현상성을 유지하고, 또 화소의 패턴 프로파일의 직사각형성이 우수한 것으로 할 수 있다.Moreover, also in the thinning of the color filter of this invention, by using the said photocurable composition of this invention, it has sufficient color purity, maintains alkali developability, and is excellent in the rectangularity of the pattern profile of a pixel. .

상기 알칼리가용성기로는 특별히 한정되지 않고, 카르복실기, 인산기, 술폰산기 등의 산성기이다. 이중에서도 카르복실기가 바람직하다.It does not specifically limit as said alkali-soluble group, It is acidic groups, such as a carboxyl group, a phosphoric acid group, and a sulfonic acid group. Of these, carboxyl groups are preferred.

상기 알칼리 가용성기가 결합한 상기 측쇄로는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 에틸렌옥사이드쇄, 비닐알코올, 비닐피롤리돈, 히드록시기, 스티렌기 등을 들 수 있다.The side chain to which the alkali-soluble group is bonded is not particularly limited, and examples thereof include ethylene oxide chain, vinyl alcohol, vinylpyrrolidone, hydroxy group, and styrene group.

상기 알칼리가용성기가 결합한 상기 측쇄의 위치로는 측쇄의 말단부분에 있어서도, 또는 측쇄의 중앙부분에 있어서도, 특별히 한정되는 것은 아니다.The position of the side chain to which the alkali-soluble group is bonded is not particularly limited at the end portion of the side chain or at the center portion of the side chain.

상기 공지의 중합성화합물로는 예를 들면 라디칼중합성 모노머 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서 사용되는 광중합성 화합물로는 적어도 1개의 부가중합 가능한 에틸렌성 2중결합(중합성 관능기)을 갖는 것이 바람직하고, 또한 상기 중합성 관능기의 수는 2개 이상이고, 바람직하게는 3개 이상 20개 이하이고, 보다 바람직하게는 3개 이상 15개 이하, 가장 바람직하게는 3개 이상 10개 이하이다. 관능기의 수가 너무 많으면 반응성이 저하하므로 바람직하지 않다.As said well-known polymeric compound, a radically polymerizable monomer etc. are mentioned, for example. The photopolymerizable compound used in the present invention preferably has at least one ethylenic double bond (polymerizable functional group) capable of addition polymerization, and the number of the polymerizable functional groups is two or more, preferably 3 It is 20 or more pieces, More preferably, they are 3 pieces or more and 15 or less, Most preferably, they are 3 or more and 10 or less. If the number of functional groups is too large, the reactivity decreases, which is undesirable.

또한 상기 광중합성 화합물은 상압하에서 100℃ 이상의 비점을 갖는 화합물도 바람직하고, 상기 중합성 관능기와 조합하는 것이 보다 바람직하다.Moreover, the compound which has a boiling point of 100 degreeC or more under normal pressure is also preferable, and, as for the said photopolymerizable compound, it is more preferable to combine with the said polymerizable functional group.

상기 라디칼중합성 모노머로는 폴리에틸렌글리콜모노 (메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 모노 (메타)아크릴레이트, 페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 등의 단관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트;폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타) 아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 헥산디올 (메타)아크릴레이트, Examples of the radically polymerizable monomer include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxy ethyl (meth) acrylate, and polyethylene glycol di; (Meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth ) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate,

트리메틸올프로판 트리(아크릴로일옥시 프로필) 에테르, 트리(아크릴로일옥시에틸) 이소시아누레이트, 글리세린이나 트리메틸올에탄 등의 다관능 알코올에 에틸렌옥사이드나 프로필렌 옥사이드를 부가시킨 후 (메타) 아크릴레이트화한 것;일본 특허공고 소 48-41708호, 일본 특허공고 소 50-6034호, 일본 특허공개 소 51-37193호의 각 공보에 기재되어 있는 우레탄 아크릴레이트류;일본 특허공개 소 48-64183호, 일본 특허공개 소 49-43191호, 일본 특허공고 소52-30490호 각 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르 아크릴레이트류;에폭시 수지와 (메타)아크릴산과의 반응 생성물인 에폭시 아크릴레이트류 등의 다관능의 아크릴레이트나 메타아크릴레이트 및 이러한 혼합물을 들 수 있다. 또한, 일본 접착 협회지 Vol.20, No.7, 300~308페이지에 광경화성 모노머 및 올리고머로서 소개되어 있는 것도 들 수 있다.After adding ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane tri (acryloyloxy propyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, glycerin or trimethylol ethane and then (meth) acrylic The urethane acrylates described in Japanese Patent Application Publication No. 48-41708, Japanese Patent Publication No. 50-6034, and Japanese Patent Publication No. 51-37193; Japanese Patent Publication No. 48-64183 , Polyester acrylates described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 49-43191 and Japanese Patent Laid-Open No. 52-30490; multifunctional compounds such as epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resins and (meth) acrylic acid. And acrylates thereof, and mixtures thereof. Moreover, the thing introduced as a photocurable monomer and an oligomer can be mentioned in Japanese adhesive association Vol.20, No. 7, page 300-308.

본 발명에 있어서의 상기 광중합성 화합물로서 하기에 구체예를 들 수 있다. 단, 본 발명에 있어서 광중합성 화합물은 이들로 한정되는 것은 아니다.Specific examples are given below as the photopolymerizable compound in the present invention. However, in this invention, a photopolymerizable compound is not limited to these.

Figure 112006072066685-pat00022
Figure 112006072066685-pat00022

본 발명의 광경화성 조성물중에 있어서의 상기 광중합성 화합물의 함유량은, 상술한 대로, 착색제 및 광중합 개시제와의 총함유량이 80 질량% 이상이 되도록 결정되는 것이 바람직하고, 색농도 등의 관점에서, 전체 고형분에 대해서 85 질량% 이상이 보다 바람직하고, 90 질량% 이상이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the said photopolymerizable compound in the photocurable composition of this invention is determined so that the total content of a coloring agent and a photoinitiator may be 80 mass% or more as mentioned above, From a viewpoint of color concentration etc., the whole 85 mass% or more is more preferable with respect to solid content, and 90 mass% or more is especially preferable.

<광중합 개시제><Photopolymerization initiator>

상기 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 일본 특허공개 평57-6096호 공보에 기재의 할로메틸옥사디아졸;일본 특허공고 소59-1281호 공보, 일본 특허공개 소 53-133428호 공보 등에 기재된 할로 메틸-s-트리아진 등 활성 할로겐 화합물;미국 특허 USP-4318791, 유럽 특허 공개 EP-88050A등에 기재된 케탈, 아세탈 또는 벤조인알킬에테르류 등의 방향족 카르보닐 화합물; 미국 특허 USP-4199420에 기재된 벤조페논류 등의 방향족 케톤 화합물;Fr-2456741에 기재된 (티오)크산톤류 또는 아크리딘류 화합물;일본 특허공개 평10-62986호 공보에 기재된 쿠마린 또는 로핀다이머류 등의 화합물;일본 특허공개 평8-015521호 공보 등의 술포늄 유기 붕소 착체 등을 이용할 수 있다.As said photoinitiator, For example, halomethyloxadiazole of Unexamined-Japanese-Patent No. 57-6096; Halomethyl of Unexamined-Japanese-Patent No. 59-1281, Unexamined-Japanese-Patent No. 53-133428, etc. are mentioned, for example. active halogen compounds such as -s-triazine; aromatic carbonyl compounds such as ketal, acetal or benzoin alkyl ethers described in US Patent USP-4318791, European Patent Publication EP-88050A, etc .; benzophenones described in US Patent USP-4199420 Aromatic ketone compounds such as; (thio) xanthones or acridine compounds described in Fr-2456741; compounds such as coumarin or ropindimers described in JP-A-10-62986; JP-A-8-015521 Sulfonium organoboron complexes such as those described in Japanese Patent Application Laid-Open.

본 발명에 대하여, 상기 광중합 개시제로서는 아세토페논계, 케탈계, 벤조페논계, 벤조인계, 벤조일계, 크산톤계, 트리아진계, 할로메틸옥사디아졸계, 아크리딘류계, 쿠마린계, 로핀다이머류계, 비이미다졸계 등의 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, as the photopolymerization initiator, acetophenone series, ketal series, benzophenone series, benzoin series, benzoyl series, xanthone series, triazine series, halomethyloxadiazole series, acridine series, coumarin series, and ropin dimer series It is preferable to use photoinitiators, such as a biimidazole type.

상기 아세토페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2, 2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, p-디메틸 아미노아세토페논, 4'-이소프로필-2-히드록시-2-메틸-프로피오페논 등을 바람직하게 들 수 있다.As said acetophenone type photoinitiator, 2, 2- diethoxy acetophenone, p-dimethylamino acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, p-dimethyl, for example Aminoacetophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methyl- propiophenone, etc. are mentioned preferably.

상기 케탈계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤질디메틸케탈, 벤질-β-메톡시-에틸아세탈 등을 바람직하게 들 수 있다.As said ketal type photoinitiator, benzyl dimethyl ketal, benzyl- (beta)-methoxy- ethyl acetal, etc. are mentioned preferably, for example.

상기 벤조페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조페논, 4, 4'-(비스 디메틸 아미노) 벤조페논, 4, 4'-(비스디에틸 아미노) 벤조페논, 4, 4'-디클로로벤조페논, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부타논-1, 2-트릴-2-디메틸 아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부타논 1,2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-몰포리노프로파논-1 등을 바람직하게 들 수 있다.As said benzophenone type photoinitiator, a benzophenone, 4, 4'- (bis dimethyl amino) benzophenone, 4, 4'- (bisdiethyl amino) benzophenone, 4, 4'- dichloro benzophenone, for example , 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-tril-2-dimethyl amino-1- (4 -Morpholinophenyl) -butanone 1,2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropaneone-1, etc. are mentioned preferably.

상기 벤조인계 또는 벤조일계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인메틸에테르, 메틸 o-벤조일벤조에이트 등을 바람직하게 들 수 있다.As said benzoin type or benzoyl type photoinitiator, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, methyl o-benzoyl benzoate, etc. are mentioned preferably, for example.

상기 크산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 디에틸티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤, 모노이소프로필티옥산톤, 클로로티옥산톤 등을 바람직하게 들 수 있다.As said xanthone type photoinitiator, diethyl thioxanthone, diisopropyl thioxanthone, monoisopropyl thioxanthone, chloro thioxanthone, etc. are mentioned preferably, for example.

상기 트리아진계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2, 4-비스(트리클로로 메틸)-6-p-메톡시페닐-s-트리아진, 2, 4-비스(트리클로로 메틸)-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로 메틸)-6-(1-p-디메틸아미노페닐)-1,3-부타디에닐-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로 메틸)-6-비페닐-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(p-메틸비페닐)-s-트리아진, p-히드록시에톡시스티릴-2,6-디(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 메톡시스티릴-2,6-디(트리클로로 메틸-s-트리아진, 3,4-디메톡시스티릴-2,6-디(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 4-벤즈옥소란-2,6-디(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 4-(o-브로모-p-N, N-(디에톡시카르보닐아미노)-페닐)-2,6-디(클로로메틸)-s-트리아진, 4-(p-N,N-(디에톡시카르보닐아미노)-페닐)-2,6-디(클로로메틸)-s-트리아진 등을 바람직하게 들 수 있다.As said triazine type photoinitiator, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxyphenyl-s-triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6-p- Methoxystyryl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl-s-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6-biphenyl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methylbiphenyl) -s-triazine, p-hydroxyethoxysty Reyl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, methoxystyryl-2,6-di (trichloromethyl-s-triazine, 3,4-dimethoxystyryl-2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4-benzoxolane-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN, N- (diethoxy Carbonylamino) -phenyl) -2,6-di (chloromethyl) -s-triazine, 4- (pN, N- (diethoxycarbonylamino) -phenyl) -2,6-di (chloromethyl) -s-triazine etc. are mentioned preferably.

상기 할로메틸옥사디아졸계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2-트리클로로메틸-5-스티릴-1,3,4-옥소디아졸, 2-트리클로로메틸-5-(시아노스티릴)-1, 3, 4-옥소 디아졸, 2-트리클로로 메틸-5-(나프토-1-일)-1, 3, 4-옥소 디아졸, 2-트리클로로 메틸-5-(4-스티릴)스티릴-1, 3, 4-옥소디아졸 등을 바람직하게 들 수 있다.As said halomethyloxadiazole type photoinitiator, 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole and 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1, for example , 3, 4-oxo diazole, 2-trichloro methyl-5- (naphtho-1-yl) -1, 3, 4-oxo diazole, 2-trichloro methyl-5- (4-styryl) Styryl-1, 3, 4-oxodiazole etc. are mentioned preferably.

상기 아크리딘류계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 9-페닐 아크리딘, 1, 7 비스(9-아크리디닐)헵탄 등을 바람직하게 들 수 있다.As said acridine type photoinitiator, 9-phenyl acridine, 1, 7 bis (9-acridinyl) heptane, etc. are mentioned preferably, for example.

상기 쿠마린류계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 3-메틸-5-아미노-((s-트리아진-2-일) 아미노)-3-페닐 쿠마린, 3-클로로-5-디에틸아미노-((s-트리아진-2-일) 아미노)-3-페닐 쿠마린, 3-부틸-5-디메틸아미노-((s-트리아진-2-일)아미노)-3-페닐 쿠마린 등을 바람직하게 들 수 있다.As said coumarin-type photoinitiator, it is 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenyl coumarin, 3-chloro-5-diethylamino- (( s-triazin-2-yl) amino) -3-phenyl coumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenyl coumarin, etc. are mentioned preferably. have.

상기 로핀다이마류계 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2-(o-클로로페닐)-4, 5-디페닐이미다졸일 2량체, 2-(o-메톡시페닐)-4, 5-디페닐이미다졸일 2량체, 2-(2, 4-디메톡시 페닐)-4, 5-디페닐이미다졸일 2량체 등을 바람직하게 들 수 있다.As said lopindimer type | system | group photoinitiator, 2- (o-chlorophenyl) -4, 5-diphenyl imidazolyl dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4, 5-diphenyl, for example Imidazolyl dimer, 2- (2, 4-dimethoxy phenyl) -4, 5-diphenyl imidazolyl dimer, etc. are mentioned preferably.

상기 비이미다졸계 광중합 개시제로는, 예를 들면, 2-메르캅토 벤즈 이미다졸, 2, 2'-벤조티아졸일디술파이드 등을 바람직하게 들 수 있다.As said biimidazole type photoinitiator, 2-mercapto benz imidazole, 2, 2'- benzo thiazolyl disulfide, etc. are mentioned preferably, for example.

그 외에, 상기 광중합 개시제로서는, 1-페닐-1, 2-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, O-벤조일-4'-(벤즈메르캅토)벤조일-헥실-케톡심, 2, 4, 6-트리메틸페닐카르보닐디페닐포스포닐옥사이드, 헥사플루오로포스포로트리알킬페닐포스포늄염 등을 들 수 있다.In addition, as said photoinitiator, 1-phenyl- 1, 2-propanedione- 2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, O-benzoyl-4'- (benz mercapto) benzoyl-hexyl- ketoxime, 2, 4, 6-trimethylphenyl carbonyl diphenyl phosphonyl oxide, hexafluoro phosphoro trialkyl phenyl phosphonium salt, etc. are mentioned.

본 발명에서는, 이상의 광중합 개시제에 한정되는 것은 아니고, 다른 공지의 것도 사용할 수 있다. 예를 들면, 미국 특허 제 2, 367, 660호 명세서에 개시되어 있는 비시날폴리케톨알도닐 화합물, 미국 특허 제 2, 367, 661호 및 제2, 367, 670호 명세서에 개시되어 있는α-카르보닐 화합물, 미국 특허 제 2, 448, 828호 명세서에 개시되어 있는 아실로인 에테르, 미국 특허 제 2, 722, 512호 명세서에 개시되어 있는α-탄화수소로 치환된 방향족 아실로인 화합물, 미국 특허 제 3, 046, 127호 및 제2, 951, 758호 명세서에 개시되어 있는 다핵퀴논 화합물, 미국 특허 제 3, 549, 367호 명세서에 개시되어 있는 트리알릴이미다졸다이머/p-아미노 페닐 케톤의 조합, 일본 특허공고 소51-48516호 공보에 개시되어 있는 벤조티아졸계 화합물/트리할로메틸-s-트리아진계 화합물 등을 들 수 있다.In this invention, it is not limited to the above photoinitiator, Another well-known thing can also be used. For example, bisinalpolyketolaldonyl compounds disclosed in US Pat. Nos. 2,367,660 and α- disclosed in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670. Carbonyl Compound, Acyloin Ether, as disclosed in US Pat. No. 2, 448, 828, Aromatic Hydrocarbon Substituted with α-Hydrocarbon, as disclosed in US Pat. No. 2, 722, 512, USA Polynuclear quinone compounds disclosed in the specification of Patent Nos. 3, 046, 127 and 2, 951, 758, and triallylimidazole dimer / p-amino phenyl disclosed in US Pat. No. 3, 549, 367 And a benzothiazole compound / trihalomethyl-s-triazine compound disclosed in a combination of ketones and JP-A-51-48516.

또, 이러한 광중합 개시제를 병용할 수도 있다.Moreover, these photoinitiators can also be used together.

상기 광중합 개시제의 사용량은 광경화성 착색수지조성물의 전체 고형분의 0.1~10.0질량%, 바람직하게는 0.5~5.0질량%이다. 광중합 개시제의 사용량이 0.1질량% 보다 작으면 중합이 진행되는 것이 곤란한 경우가 있고, 또한 10.0질량%을 넘으면 막강도가 약해지는 경우가 있다.The usage-amount of the said photoinitiator is 0.1-10.0 mass% of the total solid of a photocurable colored resin composition, Preferably it is 0.5-5.0 mass%. When the usage-amount of a photoinitiator is less than 0.1 mass%, it may be difficult for superposition | polymerization to advance, and when it exceeds 10.0 mass%, film strength may become weak.

(그 외의 첨가제)(Other additives)

본 발명의 광경화성 조성물에 대해서는, 상술의 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제 이외에 첨가물을 함유시킬 수 있다. 단, 상기 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제 이외의 총함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대해서 20 질량% 미만인 것이 바람직하고, 15 질량% 미만인 것이 더욱 바람직하고, 10 질량% 미만인 것이 특히 바람직하다.About the photocurable composition of this invention, an additive can be contained other than the above-mentioned coloring agent, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator. However, it is preferable that total content other than the said coloring agent, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator is less than 20 mass% with respect to the total solid of a composition, It is more preferable that it is less than 15 mass%, It is especially preferable that it is less than 10 mass%.

이하에, 본 발명의 광경화성 조성물에 있어서, 사용할 수 있는 상기 착색제, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제 이외에 첨가물에 대해 설명한다.Below, in the photocurable composition of this invention, an additive other than the said coloring agent which can be used, a photopolymerizable compound, and a photoinitiator is demonstrated.

-알칼리 가용성 바인더-Alkali-soluble binder

우선, 알칼리 가용성 바인더에 대해 설명한다.First, an alkali-soluble binder is demonstrated.

본 발명의 광경화성 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 알칼리 가용성 바인더를 첨가할 수 있다.The photocurable composition of this invention can add an alkali-soluble binder in the range which does not impair the effect of this invention.

상기 알칼리 가용성 바인더는, 알칼리 가용성이면 특별히 한정되지 않지만, 내열성, 현상성, 입수성 등의 관점에서 선택되는 것이 바람직하다.The alkali-soluble binder is not particularly limited as long as it is alkali-soluble, but is preferably selected from the viewpoints of heat resistance, developability, availability, and the like.

상기 알칼리 가용성 바인더로서는, 선상 유기 고분자 집합체이며, 또, 유기용제에 용해되고, 약알칼리 수용액으로 현상할 수 있는 것이 바람직하다. 이러한 선상 유기 고분자 집합체로서는, 측쇄에 카르복실산을 갖는 폴리머, 예를 들면 일본 특허공개 소 59-44615호, 일본 특허공고 소 54-34327호, 일본 특허공고 소 58-12577호, 일본 특허공고 소 54-25957호, 일본 특허공개 소 59-53836호, 일본 특허공개 소 59-71048호의 각 공보에 기재되어 있는, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레인산 공중합체, 부분 에스 테르화 말레인산 공중합체 등을 들 수 있고, 동일하게 측쇄에 카르복실산을 갖는 산성 셀룰로오스 유도체가 유용하다.As said alkali-soluble binder, it is a linear organic polymer aggregate, and what melt | dissolves in the organic solvent and can develop with a weak alkali aqueous solution is preferable. As such linear organic polymer aggregates, polymers having a carboxylic acid in the side chain, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-44615, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 58-12577, and Japanese Patent Publication Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid described in each of Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-25957, Japanese Patent Laid-Open No. 59-53836, and Japanese Patent Laid-Open No. 59-71048 The copolymer, the partial ester maleic acid copolymer, etc. are mentioned, The acidic cellulose derivative which has a carboxylic acid in the side chain similarly is useful.

상기 이외에, 상기 알칼리 가용성 바인더로는, 수산기를 갖는 폴리머에 산무수물을 부가시킨 것 등이나, 폴리히드록시 스티렌계 수지, 폴리실록산계 수지, 폴리(2-히드록시 에틸(메타)아크릴레이트), 폴리비닐피롤리돈이나 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리비닐 알코올 등도 유용하다.In addition to the above, examples of the alkali-soluble binder include an acid anhydride added to a polymer having a hydroxyl group, a polyhydroxy styrene resin, a polysiloxane resin, poly (2-hydroxyethyl (meth) acrylate), poly Vinylpyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol and the like are also useful.

또, 상기 선상 유기 고분자 집합체는, 친수성을 갖는 모노머를 공중합한 것이어도 좋다. 이 예로는, 알콕시알킬(메타)아크릴레이트, 히드록시알킬(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴 아미드, N-메틸올 아크릴 아미드, 2급 혹은 3급의 알킬 아크릴 아미드, 디알킬아미노알킬 (메타)아크릴레이트, 몰포린(메타)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, 비닐이미다졸, 비닐트리아졸, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 분기 혹은 직쇄의 프로필(메타)아크릴레이트, 분기 혹은 직쇄의 부틸(메타)아크릴레이트, 또는 페녹시 히드록시 프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.In addition, the linear organic polymer aggregate may be a copolymer of a monomer having hydrophilicity. Examples include alkoxyalkyl (meth) acrylates, hydroxyalkyl (meth) acrylates, glycerol (meth) acrylates, (meth) acrylamides, N-methylol acrylamides, secondary or tertiary alkyl acrylamides. , Dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, morpholine (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, vinylimidazole, vinyltriazole, methyl (meth) acrylate, ethyl ( Meth) acrylate, branched or linear propyl (meth) acrylate, branched or linear butyl (meth) acrylate, or phenoxy hydroxy propyl (meth) acrylate, etc. are mentioned.

-가교제-Bridge

본 발명에 있어서는, 보완적으로 가교제를 이용하여 더욱 고도로 경화시킨 막을 얻을 수 있다. 이하, 가교제에 대해 설명한다.In this invention, the film | membrane hardened | cured even more highly using a crosslinking agent can be obtained complementarily. Hereinafter, a crosslinking agent is demonstrated.

본 발명에서 사용 가능한 가교제로는, 가교 반응에 의해 막경화를 실시할 수 있는 것이면, 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, (a) 에폭시 수지, (b) 메틸올기, 알콕시 메틸기, 및 아실록시메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환된, 멜라민 화합물, 구아나민 화합물, 글리콜우릴 화합물 또는 우레아 화합물, (c) 메틸올기, 알콕시 메틸기, 및 아실록시 메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환된, 페놀 화합물, 나프톨 화합물 또는 히드록시안트라센 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 다관능 에폭시 수지가 바람직하다.The crosslinking agent usable in the present invention is not particularly limited as long as the film can be cured by a crosslinking reaction, and examples thereof include (a) an epoxy resin, (b) a methylol group, an alkoxy methyl group, and an acyloxymethyl group. Phenol substituted with at least one substituent selected from melamine compound, guanamine compound, glycoluril compound or urea compound, (c) methylol group, alkoxy methyl group, and acyloxy methyl group, substituted with at least one substituent selected from A compound, a naphthol compound, or a hydroxyanthracene compound is mentioned. Especially, polyfunctional epoxy resin is preferable.

상기(a) 에폭시 수지로서는, 에폭시기를 갖고, 또 가교성을 갖는 것이면 어느 것이어도 좋고, 예를 들면, 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 부탄디올디글리시딜에테르, 헥산디올디글리시딜에테르, 디히드록시비페닐디글리시딜에테르, 프탈산디글리시딜에스테르, N, N-디글리시딜아닐린 등의 2값의 글리시딜기함유 저분자화합물, 동일하게 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, 트리메틸올페놀 트리글리시딜에테르, TrisP-PA 트리글리시딜에테르 등으로 대표되는 3값의 글리시딜기 함유 저분자화합물, 동일하게 펜타에리스리톨 테트라글리시딜에테르, 테트라 메틸올 비스페놀 A 테트라글리시딜에테르 등으로 대표되는 4값의 글리시딜기 함유 저분자화합물, 동일하게 디펜타에리스리톨 펜타글리시딜에테르, 디펜타에리스리톨 헥사글리시딜에테르 등의 다가 글리시딜기 함유 저분자화합물, 폴리글리시딜 (메타)아크릴레이트, 2, 2-비스(히드록시 메틸)-1-부탄올의 1, 2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로 헥산 부가물 등으로 대표되는 글리시딜기함유 고분자 화합물 등을 들 수 있다.As said (a) epoxy resin, as long as it has an epoxy group and has crosslinkability, any may be sufficient, For example, bisphenol A diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, Glycidyl group-containing low-molecular weight compounds such as hexanediol diglycidyl ether, dihydroxybiphenyl diglycidyl ether, phthalic acid diglycidyl ester, N, N-diglycidyl aniline, and the like Glycidyl group-containing low-molecular weight compounds of the three values represented by olpropane triglycidyl ether, trimethylolphenol triglycidyl ether, TrisP-PA triglycidyl ether, and the like, pentaerythritol tetraglycidyl ether, tetramethylol bisphenol Glycidyl group-containing low-molecular weight compounds of four values represented by A tetraglycidyl ether and the like, dipentaerythritol pentaglycidyl ether and dipentaerythr Polyhydric glycidyl group-containing low molecular weight compounds, such as hexaglycidyl ether, polyglycidyl (meth) acrylate, 1, 2-epoxy-4- (2 of 2, 2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol A glycidyl group containing high molecular compound etc. represented by -oxyranyl) cyclohexane addition product etc. are mentioned.

상기 가교제(b)에 포함되는 메틸올기, 알콕시메틸기, 아실록시 메틸기가 치환하고 있는 수로는, 멜라민 화합물의 경우 2~6, 글리콜우릴 화합물, 구아나민 화합물, 우레아 화합물의 경우는 2~4이지만, 바람직하게는 멜라민 화합물의 경우 5~6, 글리콜우릴 화합물, 구아나민 화합물, 우레아 화합물의 경우는 3~4이다.As the number substituted by the methylol group, the alkoxy methyl group, and the acyloxy methyl group contained in the said crosslinking agent (b), it is 2-6 in the case of a melamine compound, 2-4 in the case of a glycoluril compound, a guanamine compound, and a urea compound, Preferably it is 5-6 for a melamine compound, and 3-4 for a glycoluril compound, a guanamine compound, and a urea compound.

이하, 상기(b)의 멜라민 화합물, 구아나민 화합물, 글리콜우릴 화합물 및 우레아 화합물을 전체적으로, (b)와 관련된(메틸올기, 알콕시 메틸기 또는 아실록시 메틸기함유) 화합물이라고 한다.Hereinafter, the melamine compound, guanamine compound, glycoluril compound, and urea compound of the above (b) are collectively referred to as the compound (containing methylol group, alkoxy methyl group or acyloxy methyl group) associated with (b).

상기 (b)와 관련된 메틸올기함유 화합물은, (b)와 관련되는 알콕시 메틸기함유 화합물을 알코올중에서 염산, 황산, 질산, 메탄 술폰산 등의 산촉매 존재하에서 가열함으로써 얻을 수 있다. 상기 (b)와 관련되는 아실록시 메틸기함유 화합물은, (b)와 관련되는 메틸올기함유 화합물을 염기성 촉매 존재하에서 아실 염화물과 혼합교반함으로써 얻을 수 있다.The methylol group-containing compound related to (b) can be obtained by heating the alkoxy methyl group-containing compound related to (b) in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid or methane sulfonic acid in alcohol. The acyloxy methyl group containing compound which concerns on said (b) can be obtained by mixing and stirring the methylol group containing compound which concerns on (b) with an acyl chloride in presence of a basic catalyst.

이하, 상기 치환기를 갖는 (b)와 관련되는 화합물의 구체적인 예를 들 수 있다.Hereinafter, the specific example of the compound which concerns on (b) which has the said substituent is mentioned.

상기 멜라민 화합물로서 예를 들면, 헥사 메틸올 멜라민, 헥사 메톡시 메틸 멜라민, 헥사 메틸올 멜라민의 메틸올기의 1~5개가 메톡시 메틸화한 화합물 또는 그 혼합물, 헥사 메톡시 에틸 멜라민, 헥사 아실록시 메틸 멜라민, 헥사 메틸올 멜라민의 메틸올기의 1~5개가 아실록시 메틸화한 화합물 또는 그 혼합물 등을 들 수 있다.Examples of the melamine compound include compounds in which 1 to 5 of the methylol groups of hexamethylol melamine, hexamethoxy methyl melamine, and hexamethylol melamine are methoxy methylated, or mixtures thereof, hexamethoxy ethyl melamine, and hexa acyloxy methyl. The compound in which 1-5 of the methylol groups of melamine and the hexamethylol melamine acyloxylated, or its mixture, etc. are mentioned.

상기 구아나민 화합물로서 예를 들면, 테트라 메틸올 구아나민, 테트라 메톡시 메틸 구아나민, 테트라 메틸올 구아나민의 1~3개의 메틸올기를 메톡시 메틸화한 화합물 또는 그 혼합물, 테트라 메톡시 에틸 구아나민, 테트라 아실록시 메틸 구아나민, 테트라 메틸올 구아나민의 1~3개의 메틸올기를 아실록시 메틸화한 화합물 또 는 그 혼합물 등을 들 수 있다.Examples of the guanamine compound include compounds in which methoxy methylated 1 to 3 methylol groups of tetramethylol guanamine, tetramethoxy methyl guanamine, and tetra methylol guanamine are mixed, and tetramethoxy ethyl guanamine And tetraacyloxy methyl guanamine, a compound obtained by acyloxy methylation of one to three methylol groups of tetramethylol guanamine, or a mixture thereof.

상기 글리콜우릴 화합물로서는, 예를 들면, 테트라메틸올 글리콜우릴, 테트라메톡시메틸 글리콜우릴, 테트라메틸올 글리콜우릴의 메틸올기의 1~3개를 메톡시 메틸화한 화합물 또는 그 혼합물, 테트라메틸올 글리콜우릴의 메틸올기의 1~3개를 아실록시 메틸화한 화합물 또는 그 혼합물 등을 들 수 있다.As said glycoluril compound, the compound in which methoxymethylated 1-3 of the methylol groups of tetramethylol glycoluril, tetramethoxymethyl glycoluril, and tetramethylol glycoluril, or its mixture, tetramethylol glycol is mentioned, for example. The compound which carried out 1-3 acyloxy methylation of the methylol group of usyl, or its mixture, etc. are mentioned.

상기 우레아 화합물로서 예를 들면, 테트라메틸올 우레아, 테트라메톡시메틸 우레아, 테트라메틸올 우레아의 1~3개의 메틸올기를 메톡시 메틸화한 화합물 또는 그 혼합물, 테트라메톡시에틸 우레아 등을 들 수 있다.Examples of the urea compound include tetramethylol urea, tetramethoxymethyl urea, a compound obtained by methoxy methylation of 1 to 3 methylol groups of tetramethylol urea, a mixture thereof, tetramethoxyethyl urea and the like. .

 이것들(b)과 관련되는 화합물은, 단독으로 사용해도 좋고, 조합해서 사용해도 좋다.The compounds related to these (b) may be used alone or in combination.

상기(c)의 가교제, 즉, 메틸올기, 알콕시 메틸기, 및 아실록시 메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 기로 치환된, 페놀 화합물, 나프톨 화합물 또는 히드록시안트라센 화합물은, 상기 가교제(b)의 경우와 동일하게, 열가교에 의해 상부도포 포토레지스트와의 혼합을 억제함과 동시에, 막강도를 더욱 높이는 것이다. 이하, 이것들 화합물을 전체적으로, (c)와 관련되는(메틸올기, 알콕시 메틸기 또는 아실록시 메틸기함유) 화합물이라고 하는 것이다.The phenol compound, the naphthol compound, or the hydroxyanthracene compound substituted with at least one group selected from the crosslinking agent of (c), ie, methylol group, alkoxy methyl group, and acyloxy methyl group, is the same as that of the crosslinking agent (b). In other words, the thermal crosslinking suppresses mixing with the upper coating photoresist and at the same time increases the film strength. Hereinafter, these compounds are collectively referred to as compounds (containing methylol group, alkoxy methyl group or acyloxy methyl group) associated with (c).

상기 가교제(c)에 포함되는 메틸올기, 아실록시 메틸기 또는 알콕시 메틸기가 수로는, 1분자당 최저 2개 필요하고, 열가교성 및 보존 안정성의 관점으로부터, 골격이 되는 페놀 화합물의 2위치, 4위치가 모두 치환되고 있는 화합물이 바람직하다. 또, 골격이 되는 나프톨 화합물, 히드록시안트라센 화합물도, OH기의 오르토 위치, 파라위치가 모두 치환되어 있는 화합물이 바람직하다. 상기 페놀 화합물의 3위치 또는 5위치는, 미치환이거나 치환기를 가지고 있어도 좋다.As the number of methylol groups, acyloxy methyl groups or alkoxy methyl groups contained in the crosslinking agent (c), at least two are required per molecule, and from the viewpoints of thermal crosslinkability and storage stability, two-position and four-position of the phenol compound to be a skeleton The compound in which all are substituted is preferable. Moreover, as for the naphthol compound and the hydroxyanthracene compound which become skeleton, the compound in which both the ortho position and para position of an OH group are substituted is preferable. The 3-position or 5-position of the said phenol compound may be unsubstituted or may have a substituent.

상기 나프톨 화합물에 있어서도, OH기의 오르토 위치 이외에는, 미치환이어도 치환기를 갖고 있어도 좋다.Also in the said naphthol compound, it may be unsubstituted or may have a substituent except the ortho position of an OH group.

상기 (c)와 관련되는 메틸올기함유 화합물은, 페놀성 OH기의 2위치 또는 4위치가 수소 원자인 화합물을 원료에 이용하고, 이것을 수산화 나트륨, 수산화칼륨, 암모니아, 테트라 알킬 암모늄 수산화물 등의 염기성 촉매의 존재하에서 포르말린과 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The methylol group-containing compound according to the above (c) uses a compound in which the 2-position or 4-position of the phenolic OH group is a hydrogen atom as a raw material, which is basic such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, tetraalkyl ammonium hydroxide and the like. Obtained by reacting with formalin in the presence of a catalyst.

 상기 (c)와 관련되는 알콕시 메틸기함유 화합물은, (c)와 관련되는 메틸올기함유 화합물을 알코올중에서 염산, 황산, 질산, 메탄 술폰산 등의 산촉매의 존재하에서 가열함으로써 얻을 수 있다.The alkoxy methyl group containing compound which concerns on said (c) can be obtained by heating the methylol group containing compound which concerns on (c) in presence of acid catalysts, such as hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid, methane sulfonic acid, in alcohol.

상기 (c)와 관련되는 아실록시 메틸기함유 화합물은, (c)와 관련되는 메틸올기함유 화합물을 염기성 촉매의 존재하에서 아실 염화물과 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The acyloxy methyl group-containing compound related to (c) can be obtained by reacting the methylol group-containing compound related to (c) with an acyl chloride in the presence of a basic catalyst.

가교제(c)에 있어서의 골격 화합물로서는, 페놀성 OH기의 오르토 위치 또는 파라위치가 미치환의, 페놀 화합물, 나프톨, 히드록시안트라센 화합물 등을 들 수 있고, 예를 들면, 페놀, 크레졸의 각 이성체, 2, 3-크실레놀, 2,5-크실레놀, 3,4-크실레놀, 3, 5-크실레놀, 비스페놀 A등의 비스페놀류, 4, 4'비스히드록시비페닐, TrisP-PA(혼슈 가까꾸 고교 가부시키가이샤 제품), 나프톨, 디히드록시 나프탈렌, 2, 7-디히드록시안트라센 등이 사용된다.As a skeletal compound in a crosslinking agent (c), a phenolic compound, a naphthol, a hydroxyanthracene compound, etc. which are unsubstituted in the ortho position or para position of a phenolic OH group are mentioned, for example, each of phenol and cresol Bisphenols, such as an isomer, 2, 3- xylenol, 2, 5- xylenol, 3, 4- xylenol, 3, 5- xylenol, bisphenol A, 4, 4 'bishydroxy biphenyl , TrisP-PA (manufactured by Honshu Kagaku Kogyo KK), naphthol, dihydroxy naphthalene, 2, 7-dihydroxyanthracene, and the like are used.

상기 가교제(c)의 구체예로서는, 페놀 화합물로서 예를 들면, 트리메틸올 페놀, 트리(메톡시 메틸) 페놀, 트리메틸올 페놀의 1~2개의 메틸올기를 메톡시 메틸화한 화합물, 트리메틸올-3-크레졸, 트리(메톡시 메틸)-3-크레졸, 트리메틸올 -3-크레졸의 1~2개의 메틸올기를 메톡시 메틸화한 화합물, 2,6-디메틸올-4-크레졸 등의 디메틸올크레졸, 테트라 메틸올 비스페놀 A, 테트라 메톡시 메틸 비스페놀 A, 테트라 메틸올 비스페놀 A의 1~3개의 메틸올기를 메톡시 메틸화한 화합물, 테트라 메틸올 4, 4'-비스히드록시비페닐, 테트라 메톡시 메틸 4, 4'-비스히드록시비페닐, TrisP-PA의 헥사 메틸올체, TrisP-PA의 헥사 메톡시 메틸체, TrisP-PA의 헥사 메틸올체의 1~5개의 메틸올기를 메톡시 메틸화한 화합물, 비스 히드록시 메틸 나프탈렌 디올 등을 들 수 있다.As a specific example of the said crosslinking agent (c), For example, the compound which methoxy methylated 1-2 methylol groups of trimethylol phenol, a tri (methoxy methyl) phenol, and a trimethylol phenol, trimethylol-3- as a phenol compound Dimethylolcresol, such as a compound which methoxymethylated 1-2 methylol groups of cresol, tri (methoxymethyl) -3-cresol, trimethylol-3-cresol, and 2,6-dimethylol-4-cresol, tetra Methylol bisphenol A, tetramethoxy methyl bisphenol A, the compound which methoxymethylated 1-3 methylol groups of tetramethylol bisphenol A, tetra methylol 4, 4'-bishydroxybiphenyl, tetramethoxy methyl 4 , A compound in which 1 to 5 methylol groups of 4′-bishydroxybiphenyl, hexamethylol of TrisP-PA, hexamethoxymethyl of TrisP-PA, and hexamethylol of TrisP-PA are methoxy methylated; Hydroxy methyl naphthalene diol and the like.

또, 히드록시안트라센 화합물로서 예를 들면, 1, 6-디히드록시 메틸-2, 7-디히드록시안트라센 등을 들 수 있고, 아실록시 메틸기함유 화합물로서 예를 들면, 상기 메틸올기함유 화합물의 메틸올기를, 일부 또는 전부 아실록시 메틸화한 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxyanthracene compound include 1, 6-dihydroxy methyl-2, 7-dihydroxyanthracene, and the like. Examples of the acyloxy methyl group-containing compound include the compounds of the methylol group-containing compound. The compound etc. which carried out partial or all the acyloxy methylation of the methylol group are mentioned.

이러한 화합물 중에서 바람직한 것으로는, 트리메틸올 페놀, 비스히드록시 메틸-p-크레졸, 테트라 메틸올 비스페놀 A, TrisP-PA(혼슈 가까꾸 고교 가부시키가이샤 제)의 헥사 메틸올체 또는 그러한 메틸올기가 알콕시 메틸기 및 메틸올기와 알콕시 메틸기와의 양쪽 모두로 치환된 페놀 화합물을 들 수 있다.Preferred among these compounds are hexamethylol bodies of trimethylol phenol, bishydroxy methyl-p-cresol, tetra methylol bisphenol A, TrisP-PA (manufactured by Honshu Chemical Industries, Ltd.) or such methylol groups are alkoxy methyl groups. And phenol compounds substituted with both methylol groups and alkoxy methyl groups.

 이것들(c)과 관련되는 화합물은, 단독으로 사용해도 좋고, 조합하여 사용해도 좋다.The compounds related to these (c) may be used alone or in combination.

상기 가교제의 광경화성 조성물에 있어서의 총함유량으로서는, 소재에 의해 다르지만, 경화성을 향상시키는 관점으로부터, 상기 광경화성 조성물의 고형분 (질량)에 대해서, 0.1~7 질량%가 바람직하고, 0.1~6 질량%가 보다 바람직하고, 0.15~5 질량%가 가장 바람직하다.As total content in the photocurable composition of the said crosslinking agent, although it changes with a raw material, 0.1-7 mass% is preferable with respect to solid content (mass) of the said photocurable composition from a viewpoint of improving sclerosis | hardenability, and 0.1-6 mass % Is more preferable, and 0.15-5 mass% is the most preferable.

-열중합 방지제-- Thermal polymerization inhibitor -

 본 발명의 광경화성 조성물에는, 이상 이외에, 더욱 열중합 방지제를 가하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 하이드로퀴논, p-메톡시 페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로갈롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4, 4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2, 2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸 페놀), 2 메르캅토벤조이미다졸 등이 유용하다.In addition to the above, it is preferable to add a thermal-polymerization inhibitor to the photocurable composition of this invention further. For example, hydroquinone, p-methoxy phenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4, 4′-thiobis (3-methyl-6-t -Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butyl phenol), 2 mercaptobenzoimidazole and the like are useful.

열중합 방지제의 함유량으로서는, 광경화성 조성물의 안정성의 관점에서, 상기 광경화성 조성물의 고형분(질량)에 대해서, 0.1~15 질량%가 바람직하다.As content of a thermal-polymerization inhibitor, 0.1-15 mass% is preferable with respect to solid content (mass) of the said photocurable composition from a viewpoint of the stability of a photocurable composition.

-유기용제-Organic solvents

본 발명에 이용할 수 있는 유기용제는, 각 성분의 용해성이나 광경화성 조성물의 도포성을 만족하면 기본적으로 특별히 한정되지 않지만, 특히 착색제 등의 용해성, 도포성, 안전성을 고려해서 선택되는 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 광경화성 조성물을 조제할 때, 적어도 2 종의 유기용제를 포함하는 것이 바람직하다.Although the organic solvent which can be used for this invention satisfy | fills solubility of each component and the applicability | paintability of a photocurable composition is not specifically limited fundamentally, It is preferable to select especially in consideration of the solubility, coating property, and safety of a coloring agent. Moreover, when preparing the photocurable composition of this invention, it is preferable to contain at least 2 type of organic solvent.

상기 유기용제로서는, 에스테르류, 예를 들면, 초산에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸, 포름산아밀, 초산 이소아밀, 초산 이소부틸, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 알킬 에스테르류, 유산 메틸, 유산 에 틸, 옥시 초산메틸, 옥시 초산에틸, 옥시 초산 부틸, 메톡시 초산메틸, 메톡시 초산에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산메틸, 에톡시 초산에틸 등;As said organic solvent, ester, For example, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl Esters, methyl lactate, ethyl lactate, oxy methyl acetate, ethyl oxy acetate, oxy butyl acetate, methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, ethyl ethoxy acetate and the like;

3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류, 예를 들면, 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 등;2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류, 예를 들면, 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-메톡시 프로피온산 프로필, 2-에톡시 프로피온산 메틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸, 2-메톡시 2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등;피루빈산메틸, 피루빈산에틸, 피루빈산프로필, 아세토 초산메틸, 아세토 초산에틸, 2-옥소 부탄산메틸, 2-옥소 부탄산에틸 등;3-oxy propionic acid alkyl esters, such as 3-oxy methyl propionate and 3-oxy ethyl ethyl, for example, 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy methyl propionate, 3-ethoxy Ethyl propionate, and the like; 2-oxy propionic acid alkyl esters such as 2-oxy methyl propionate, 2-oxy ethyl propionate, 2-oxy propionic acid propyl, for example, 2-methoxy methyl propionate, 2-methoxy ethyl propionate, 2-methoxy propionic acid propyl, 2-ethoxy methyl propionate, 2-ethoxy propionate ethyl, 2-oxy-2-methyl propionate, 2-oxy-2-methyl ethyl propionate, 2-methoxy 2-methyl methyl propionate , 2-ethoxy-2-methyl ethyl propionate; methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl aceto acetate, ethyl aceto acetate, methyl 2-oxo butyrate, ethyl 2-oxo butyrate, etc. ;

에테르류, 예를 들면, 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 테트라 히드로 푸란, 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노 에틸 에테르, 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌글리콜 모노 에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 모노 부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트 등;Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetra hydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono ethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol mono Ethyl ether, diethylene glycol mono butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate and the like;

케톤류, 예를 들면, 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 등;방향족 탄화수소류, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌 등이 바람직하다.Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, and the like; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and the like are preferable.

상술한 대로 이러한 유기용제는, 본 발명의 광경화성 조성물의 함유 성분의 용해성, 도포면상의 개량 등의 관점으로부터, 2종 이상을 혼합해도 좋고, 특히, 상기 3-에톡시 프로피온산 메틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 유산 에틸, 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 초산 부틸, 3-메톡시 프로피온산 메틸, 2-헵타논, 시클로헥사논, 에틸 카르비톨 아세테이트, 부틸 카르비톨 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 및 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트로부터 선택되는 2종 이상으로 구성되는 혼합 용액이 바람직하게 이용된다.As mentioned above, such an organic solvent may mix 2 or more types from a viewpoint of the solubility of the containing component of the photocurable composition of this invention, the improvement on an application surface, etc. Especially, the said 3-ethoxy methyl propionate and 3-ethoxy Ethyl propionate, ethyl cellosolve acetate, lactic acid ethyl, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, 3-methoxy propionate methyl, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether , And a mixed solution composed of two or more selected from propylene glycol methyl ether acetate is preferably used.

본 발명에 있어서의 유기용제의 사용량은, 도포성의 관점으로부터, 본 발명의 광경화성 조성물의 전체 고형분 농도가 5~80 질량%가 되는 양으로 하는 것이 바람직하고, 5~60 질량%가 더욱 바람직하고, 10~50 질량%가 특히 바람직하다.It is preferable to make the usage-amount of the organic solvent in this invention into the quantity which becomes 5-80 mass% of total solid content concentration of the photocurable composition of this invention from a viewpoint of applicability | painting, 5-60 mass% is more preferable, , 10-50 mass% is especially preferable.

-각종첨가물-Various Additives

본 발명의 광경화성 조성물에는, 또한 각종첨가물, 예를 들면 충전제, 상기 이외의 고분자 화합물, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 배합할 수 있다.In the photocurable composition of the present invention, various additives, for example, fillers, polymer compounds other than those described above, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-agglomerating agents, and the like can be blended.

상기 각종첨가물의 구체예로서는, 유리, 알루미나등의 충전제;폴리비닐 알코올, 폴리 아크릴산, 폴리에틸렌 글리콜 모노알킬 에테르, 폴리플루오로알킬 아크릴레이트 등의 결착수지 이외의 고분자 화합물;비이온계, 양이온계, 음이온계 등의 계면활성제;비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시 에톡시)실란, N-(2-아미노 에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2- 아미노 에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시 프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시 시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제;2, 2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸 페놀), 2, 6-디-t-부틸 페놀 등의 산화 방지제;2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등의 자외선 흡수제;및 폴리 아크릴산 나트륨 등의 응집 방지제를 들 수 있다.Specific examples of the various additives include fillers such as glass and alumina; high molecular compounds other than binder resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate; nonionic, cationic and anionic Surfactants, such as type; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyl tris (2-methoxy ethoxy) silane, N- (2-amino ethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-amino ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxy propyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- ( 3,4-epoxy cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimeth Adhesion promoters such as oxysilane Antioxidants such as 2, 2-thiobis (4-methyl-6-t-butyl phenol) and 2, 6-di-t-butyl phenol; 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydride Ultraviolet absorbers such as oxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone; and anti-aggregation agents such as sodium polyacrylate.

또, 비화상부의 알칼리 용해성을 촉진하고, 본 발명의 광경화성 조성물의 현상성의 향상을 한층 더 도모하는 경우에는, 상기 조성물에 유기 카르복실산, 바람직하게는 분자량 1000 이하의 저분자량 유기 카르복실산의 첨가를 실시할 수 있다.Moreover, when promoting alkali solubility of a non-image part and further improving developability of the photocurable composition of this invention, organic carboxylic acid, low molecular weight organic carboxylic acid of molecular weight 1000 or less is preferably used for the said composition. Can be added.

 구체적으로는, 예를 들면, 포름산, 초산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프론산, 디에틸초산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족모노카르복실산;옥살산, 말론산, 숙신산산, 글루탈산, 아디핀산, 피메린산, 스베린산, 아제라인산, 세바신산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸 숙신산, 테트라 메틸 숙신산, 시트라콘산 등의 지방족디카르복실산, 트리카르바릴산, 아코니트산, 칸호론산 등의 지방족트리카르복실산;안식향산, 톨루일산, 쿠민산, 헤메리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르복실산;프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메신산, 메로판산, 피로멜리트산 등의 방향족 폴리카르복실산;페닐 초산, 히드로아트로파산, 히드로신남산, 만델산, 페닐 숙신산, 아트로파산, 신남산, 신남산메틸, 신남산벤질, 신나미리덴 초산, 쿠말산, 운벨산 등의 그 외의 카르복실산을 들 수 있다.Specifically, For example, aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, capronic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid and caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, pimeric acid, sublinic acid, azeline acid, sebacic acid, brasyl acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methyl succinic acid, tetramethyl succinic acid and citraconic acid Aliphatic tricarboxylic acids such as carboxylic acid, tricarbaric acid, aconitic acid and canhoronic acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemeric acid, and mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid Aromatic polycarboxylic acids such as terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, meropanic acid and pyromellitic acid; phenyl acetic acid, hydroatroic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atroic acid, cinnamic acid, Methyl Cinnamic Acid, Cinnamic And other carboxylic acids such as acid benzyl, cinnamilidene acetic acid, coumalic acid and unbelic acid.

<<칼라필터>><< color filter >>

다음에, 본 발명의 칼라 필터에 대해서, 그 제조방법을 통해서 상술한다.Next, the color filter of this invention is explained in full detail through the manufacturing method.

본 발명의 칼라 필터의 제조방법에 있어서는, 기술의 본 발명의 광경화성 조성물이 이용된다.In the manufacturing method of the color filter of this invention, the photocurable composition of this invention of technology is used.

본 발명의 칼라 필터는, 기판상에, 상기 광경화성 조성물로 이루어지는 도포막을 형성하고, 상기 도포막을, 알칼리 현상을 이용한 포트리소그래피법에 따라 패터닝 하여 형성된 화소를 갖는 것을 특징으로 한다.The color filter of this invention forms the coating film which consists of said photocurable composition on a board | substrate, and has the pixel formed by patterning the said coating film by the port lithography method using alkali image development.

이러한 구성으로 함으로써, 본 발명의 칼라 필터는 화소간의 색 균일성이 우수하고 화소의 패턴 프로파일의 직사각형성도 우수한 것으로 할 수 있다.By setting it as such a structure, the color filter of this invention can be made excellent in the color uniformity between pixels, and also excellent in the rectangularity of the pattern profile of a pixel.

본 발명의 칼라 필터는, 파장 400 nm~700nm의 범위에 있어서, 최소 투과율이 10% 이하로, 또 상기 파장 범위에 있어서 최대 투과율과 상기 최소 투과율의 차이가 65% 이상인 것이 바람직하다.In the color filter of this invention, it is preferable that the minimum transmittance | permeability is 10% or less in the range of wavelength 400 nm-700 nm, and the difference of the maximum transmittance and the said minimum transmittance is 65% or more in the said wavelength range.

그 중에서도, 칼라 필터의 색분리성과 투과율의 관점으로부터 상기 최소 투과율은 8% 이하가 바람직하고, 6% 이하가 특히 바람직하다.Especially, from the viewpoint of color separation and transmittance of the color filter, the minimum transmittance is preferably 8% or less, particularly preferably 6% or less.

또, 상기 파장 범위에 있어서 최대 투과율과 상기 최소 투과율의 차이가, 보다 바람직하게는 70%이상, 특히 바람직하게는 75%이상이다.Moreover, the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance in the wavelength range is more preferably 70% or more, particularly preferably 75% or more.

이러한 조합에서는, 보다 바람직한 조합이 보다 바람직하다.In such a combination, a more preferable combination is more preferable.

본 발명의 칼라 필터에 있어서, 기판상에 형성되는 화소의 두께는, 칼라 필터의 박막화의 관점으로부터, 1.5μm 이하인 것이 바람직하고, 1.3μm 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1.2μm 이하인 것이 특히 바람직하다.In the color filter of this invention, it is preferable that the thickness of the pixel formed on a board | substrate is 1.5 micrometers or less from a viewpoint of thinning of a color filter, It is more preferable that it is 1.3 micrometers or less, It is especially preferable that it is 1.2 micrometers or less.

상기 화소의 두께의 하한치는, 특별히 한정되지 않지만, 칼라 필터로서의 기능, 생산성, 평활성의 관점으로부터, 0.3μm 이상, 더욱 0.5μm 이상인 것이 바람직하다.Although the lower limit of the thickness of the said pixel is not specifically limited, It is preferable that it is 0.3 micrometer or more and 0.5 micrometer or more from a viewpoint of the function as a color filter, productivity, and smoothness.

또한, 상기 화소의 최대변(화소를 윗쪽으로부터 관찰했을 경우에 있어서의 최대변)의 길이는, 화소를 고밀도로 하고, 고해상도를 실현하는 관점으로부터, 5.0μm 이하인 것이 바람직하고, 4μm 이하인 것이 더욱 바람직하고, 3.5μm 이하인 것이 특히 바람직하다.Moreover, it is preferable that it is 5.0 micrometers or less, and, as for the length of the largest side (maximum side in the case of observing a pixel from the top) of said pixel from a viewpoint of making a pixel high density and realizing a high resolution, it is more preferable that it is 4 micrometers or less. And it is especially preferable that it is 3.5 micrometers or less.

상기 화소의 최대변의 하한치는, 특별히 한정되지 않지만, 가시광선을 투과 시키는 필터의 기능의 성격상, 0.4μm이상인 것이 바람직하다.Although the lower limit of the maximum side of the said pixel is not specifically limited, It is preferable that it is 0.4 micrometer or more from the nature of the function of the filter which permeate | transmits visible light.

또, 본 발명의 칼라 필터의 제조 방법은, 구체적으로는, 우선, 본 발명의 광경화성 조성물을 기판상에 회전 도포, 유연도포, 롤 도포 등의 도포 방법에 의해 도포하여 도포층(광경화성 조성물층)을 형성하고, 상기 층을 소정의 마스크 패턴을 개재하여 노광하고, 알칼리성 수용액등의 현상액으로 알칼리 현상함으로써, 네가티브형의 착색 패턴(화소)을 형성할 수 있다(화상 형성 공정).Moreover, specifically, the manufacturing method of the color filter of this invention apply | coats the photocurable composition of this invention on the board | substrate by application | coating methods, such as rotation coating, casting | flow_spread coating, roll coating, etc., and an application layer (photocurable composition). Layer), the layer is exposed through a predetermined mask pattern, and alkali developed by a developing solution such as an alkaline aqueous solution to form a negative colored pattern (pixel) (image forming step).

 또, 필요에 의해, 형성된 착색 패턴을 가열 및/또는 노광에 의해 경화하는 경화 공정을 포함하고 있어도 좋다.Moreover, the hardening process which hardens | cures the formed coloring pattern by heating and / or exposure as needed may be included.

또, 본 발명의 칼라 필터의 제작에 있어서는, 상기 화상 형성 공정(및 필요에 의해 경화 공정)을 소망의 색상수만큼 반복함으로써, 소망의 색상으로 되는 칼라 필터를 제작할 수 있다. 이 때에 사용되는 빛 혹은 방사선으로서는, 특히 g선, h선, i선 등의 자외선이 바람직하게 이용된다.Moreover, in manufacture of the color filter of this invention, the color filter which becomes a desired color can be manufactured by repeating the said image forming process (and the hardening process as needed) by a desired number of colors. As light or radiation used at this time, particularly ultraviolet rays such as g-rays, h-rays, and i-rays are preferably used.

상기 기판으로서는, 예를 들면, 액정 표시 소자 등에 이용되는 소다 유리, 파이렉스(등록상표) 유리, 석영 유리 및 이들에 투명 도전막을 부착시킨 것이나, 촬상자 등에 이용되는 광전 변환 소자 기판, 예를 들면 실리콘 기판 등이나, 상보성 금속산화막 반도체(CMOS) 등을 들 수 있다. 이러한 기판은, 각 화소를 격리하는 블랙 스트라이프가 형성되어 있는 경우도 있다.Examples of the substrate include soda glass, pyrex (registered trademark) glass, quartz glass and a transparent conductive film attached thereto, or a photoelectric conversion element substrate used for an imager, for example, silicon. A substrate, a complementary metal oxide film semiconductor (CMOS), and the like. Such a board | substrate may be provided with the black stripe which isolate | separates each pixel.

 또, 이러한 기판상에는, 필요에 따라, 상부의 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위해서 하부도포층을 설치해도 좋다Further, on the substrate, a lower coating layer may be provided, if necessary, in order to improve adhesion to the upper layer, to prevent diffusion of substances, or to planarize the substrate surface.

상기 현상액으로는, 본 발명의 광경화성 조성물의 미조사부(미경화부)를 용해하는 한편, 조사부(경화부)는 용해하지 않는 조성으로 이루어진 것이면 어떠한 것도 이용할 수 있다.As the developer, any one can be used as long as it is made of a composition in which the unirradiated portion (uncured portion) of the photocurable composition of the present invention is dissolved while the irradiated portion (cured portion) is not dissolved.

 구체적으로는, 각종 유기용제의 조합이나 알칼리성의 수용액을 이용할 수 있다. 상기 유기용제로서는, 본 발명의 광경화성 조성물을 조제할 때에 사용되는 상술의 유기용제를 들 수 있다.Specifically, combinations of various organic solvents and alkaline aqueous solutions can be used. As said organic solvent, the above-mentioned organic solvent used when preparing the photocurable composition of this invention is mentioned.

상기 알칼리성의 수용액으로서는, 예를 들면, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산나트륨, 규산 나트륨, 메타 규산 나트륨, 암모니아수, 에틸아민, 디에틸 아민, 디메틸 에탄올 아민, 테트라 메틸 암모늄 수산화물, 테트라 에틸 암모늄 수산화물, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1, 8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센 등의 알칼리성 화합물을, 농도가 0.001~10 질량%, 바람직하게는 0.01~1 질량%가 되도록 용해해는 알칼리성 수용액이 바람직하다. 또한, 이러한 알칼리성 수용액으로 이루어진 현상액을 사용했을 경우는, 일반적으로, 현상후 물로 세정한다.Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, ammonia water, ethylamine, diethyl amine, dimethyl ethanol amine, tetramethyl ammonium hydroxide, tetraethyl ammonium hydroxide, choline, Alkaline compounds such as pyrrole, piperidine and 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene are dissolved in a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. Alkaline aqueous solution is preferable. In addition, when the developing solution which consists of such alkaline aqueous solution is used, it generally washes with water after image development.

본 발명의 칼라 필터는, 액정 표시 소자나 CCD등의 고체 촬상 소자에 이용할 수 있고, 특히 100만 화소를 넘는 고해상도의 CCD 소자나 CMOS등에 바람직하다. 본 발명의 칼라 필터는, 예를 들면, CCD를 구성하는 각 화소의 수광부와 집광하기 위한 마이크로 렌즈와의 사이에 배치되는 칼라 필터로서 이용할 수 있다.The color filter of this invention can be used for solid-state image sensors, such as a liquid crystal display element and CCD, and it is especially preferable for a CCD element, CMOS, etc. of high resolution exceeding 1 million pixels. The color filter of this invention can be used as a color filter arrange | positioned, for example between the light-receiving part of each pixel which comprises CCD, and the micro lens for condensing.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 주지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또한, 특히 언급이 없는 한, 「부」는 「질량부」이다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example, unless the meaning is exceeded. In addition, "part" is a "mass part" unless there is particular notice.

[실시예1][Example 1]

1) 투명층의 제작1) Preparation of Transparent Layer

포토 다이오드가 형성된 6 인치지름의 실리콘 기판상에 스핀코트법에 의해 투명층용 도포액 CT-2000L(후지 필름 일렉트로닉스 머티리얼즈 가부시키가이샤 제)를 도포하고, 그 후, 오븐중에서 220℃×1 hr 가열건조시키고, 막두께 2μm의 투명층을 얻었다.Coating liquid CT-2000L (manufactured by Fujifilm Electronics Co., Ltd.) for transparent layers was applied on a 6-inch-diameter silicon substrate on which a photodiode was formed by spin coating, and then heated in an oven at 220 ° C for 1 hr. It dried and the transparent layer of 2 micrometers of film thicknesses was obtained.

2) 광경화성 조성물의 조제2) Preparation of Photocurable Composition

용제:시클로헥사논                     800부Solvent: Cyclohexanone # 800 parts

광중합성 화합물 A                        70부Photopolymerizable Compound A 70Part

광중합 개시제:o-아실 옥심계 화합물(CGI-124:치바·스페셜티·케미컬즈 가부시키가아샤 제품)                       30부Photoinitiator: o-acyl oxime compound (CGI-124: Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) # 30 parts

산성염료 A:Valifast Blue 2620(오리엔트 가까꾸 고교 가부시키가이샤 제품)     25부   염료 B:하기 염료(B)          75부   를 혼합하여 용해하고, 광경화성 조성물을 조제했다.Acid dye A: Balifast # Blue # 2620 (made by Orient Chemical Co., Ltd.) "25 parts" dye B: 75 parts of following dye (B) was mixed and dissolved, and the photocurable composition was prepared.

Figure 112006072066685-pat00023
Figure 112006072066685-pat00023

상기 염료 B는 하기와 같은 스킴에 따라서 합성했다.The dye B was synthesized according to the following scheme.

스킴Scheme

Figure 112006072066685-pat00024
Figure 112006072066685-pat00024

(화합물의B의 합성)(Synthesis of Compound B)

상기 화합물A 25.5g(0.162몰)을 메탄올100ml, 트리에틸아민 23ml에 용해하고, 5℃의 냉각교반하에서 30% 과산화수소 9ml를 실내온도 25℃까지 유지하면서 적하했다. 반응액을 25℃에서 30분간 더 교반하고, 다시 5℃로 냉각하고, 교반하에서 농염산 15ml를 적하하고, 물 200ml를 더 첨가하고, 25℃에서 1시간동안 교반했다. 석출한 결정을 여과하고, 물로 충분히 세정하고, 얻어진 결정을 건조하여, 백색결정(화합물B) 24.7g을 얻었다. 수율은 99.5%이었다.25.5 g (0.162 mole) of Compound A was dissolved in 100 ml of methanol and 23 ml of triethylamine, and 9 ml of 30% hydrogen peroxide was added dropwise while maintaining 5 ml of 30% hydrogen peroxide at 5 ° C under cooling stirring. The reaction solution was further stirred at 25 ° C for 30 minutes, cooled to 5 ° C again, 15 ml of concentrated hydrochloric acid was added dropwise under stirring, 200 ml of water was further added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 1 hour. Precipitated crystals were filtered off, washed sufficiently with water, and the obtained crystals were dried to obtain 24.7 g of a white crystal (Compound B). The yield was 99.5%.

(화합물 C, D, E의 합성)(Synthesis of Compounds C, D, E)

상기 화합물B 17.5질량부(0.114몰)에 톨루엔 100ml, 디메틸아세토아미드 0.25m를 가하고, 환류하에서 염화티오닐 25ml를 10분간 적하했다. 1시간 더 가열환류한 후, 감압하에서 농축하고, 점조액체를 얻었다. 한편 디에톡시에틸아민 38.0질량부(0.235몰)에 디메틸아세토아미드 10ml, 아세토니트릴 100ml를 첨가하고 10℃에서 교반하에서, 상기 점조액체를 15분간 15℃까지 유지하면서 적하했다. 30분간 더 교반한 후 물100ml, 초산에틸 100ml에 주입하고, 초산에틸층을 분액하고, 물100ml로 2회 세정했다. 초산에틸층을 황산마그네슘으로 건조하고, 초산에틸을 감압증류제거하고, 담황색 점조액체(화합물C)를 얻었다.100 ml of toluene and 0.25 m of dimethylacetoamide were added to 17.5 parts by mass (0.114 mol) of the compound B, and 25 ml of thionyl chloride was added dropwise for 10 minutes under reflux. After further refluxing for 1 hour, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain a viscous liquid. On the other hand, 10 ml of dimethylacetoamide and 100 ml of acetonitrile were added to 38.0 parts by mass (0.235 mol) of diethoxyethylamine, and the viscous liquid was added dropwise while maintaining the mixture at 15 ° C for 15 minutes while stirring. After further stirring for 30 minutes, the mixture was poured into 100 ml of water and 100 ml of ethyl acetate, the ethyl acetate layer was separated, and washed twice with 100 ml of water. The ethyl acetate layer was dried over magnesium sulfate, ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain a pale yellow viscous liquid (Compound C).

이 담황색 점조액체(화합물C)에 물50ml, 에탄올 200ml, 아연분말 12질량부(0.200 몰)을 첨가하고, 가열환류하에서 황산 10ml를 물40ml에 희석한 용액을 20분간 적하했다. 30분간 더 가열교반하고, 그 후 냉각하고, 불용물을 여과했다. 얻어진 용액에 포화식염수 50ml, 초산에틸 100ml를 첨가하고, 분액하고, 초산에틸층을 물100ml로 2회 세정했다. 초산에틸층을 황산마그네슘으로 건조하고, 초산에틸을 감압증류제거하고, 담황색 점조액체(화합물D)를 얻었다.To this pale yellow viscous liquid (Compound C), 50 ml of water, 200 ml of ethanol and 12 parts by mass (0.200 mol) of zinc powder were added, and a solution of 10 ml of sulfuric acid diluted in 40 ml of water was added dropwise for 20 minutes under reflux. The mixture was further heated and stirred for 30 minutes, then cooled, and the insolubles were filtered out. 50 ml of saturated saline and 100 ml of ethyl acetate were added to the obtained solution, the solution was separated, and the ethyl acetate layer was washed twice with 100 ml of water. The ethyl acetate layer was dried over magnesium sulfate, and ethyl acetate was distilled off under reduced pressure to obtain a pale yellow viscous liquid (Compound D).

이 점조액체(화합물D)를 질소분위기하에서 교반하에서 디메틸아세트아미드 70ml, 탄산칼륨 15질량부(0.108몰)을 첨가하고, 20℃에서 교반하에서, 3-니트로부타로니트릴 19.7질량부(0.113몰)을 25℃ 이하에서 서서히 첨가했다. 30분간 더 교반한 후, 물 300ml 교반하에서 주입하고, 얻어진 결정을 여과하고, 충분히 세정하였다. 얻어진 결정을 메탄올 70ml를 재결정하고, 석출한 결정을 냉메탄올 30ml로 세정하고, 건조하고, 백색결정(화합물E)을 35.0질량부(0.082몰)얻었다. 화합물E의 수율은 72.6%이었다.70 ml of dimethylacetamide and 15 parts by mass (0.108 mol) of potassium carbonate were added to the viscous liquid (compound D) under stirring in a nitrogen atmosphere, and 19.7 parts by mass of 3-nitrobutaronitrile (0.113 moles) under stirring at 20 ° C. Was added slowly at 25 ° C or lower. After further stirring for 30 minutes, the mixture was poured under stirring with 300 ml of water, and the obtained crystal was filtered and thoroughly washed. The obtained crystals were recrystallized from 70 ml of methanol, the precipitated crystals were washed with 30 ml of cold methanol, dried and 35.0 parts by mass (0.082 mol) of white crystals (Compound E) were obtained. The yield of compound E was 72.6%.

<염료 B의 합성>Synthesis of Dye B

화합물 E 34.4 질량부(0.081 몰)에 부탄올 150 ml, 탄산암모늄 6.7 질량부(0.070 몰), 염화동 4.7 질량부(0.035 몰)를 첨가하고, 7시간 가열교반 했다. 그 후 부탄올을 감압증류제거하고, 얻어진 고체를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제하고, 상기 염료 B의 분말 25 질량부(0.020몰)를 얻었다. 수율은 72.7%였다.150 ml of butanol, 6.7 parts by mass of ammonium carbonate (0.070 moles) and 4.7 parts by mass of copper chloride (0.035 moles) were added to 34.4 parts by mass (0.081 moles) of compound E, and the mixture was heated and stirred for 7 hours. Then, butanol was distilled off under reduced pressure, and the obtained solid was purified by silica gel column chromatography to obtain 25 parts by mass (0.020 mol) of the powder of the dye B. The yield was 72.7%.

얻어진 염료 B의 초산에틸 중의 흡수는 λmax 70, 6.8 nm,ε55.600이었다.Absorption of the obtained dye B in ethyl acetate was (lambda) max 70, 6.8 nm, (epsilon) 55.600.

3) 광경화성 도포막의 제작과 노광·현상3) Preparation, exposure and development of photocurable coating film

상기 2) 광경화성 조성물의 도포액을 1)으로 얻어진 투명층상에 스핀코트법에 의해 도포하고, 핫 플레이트에 의해 100℃×120초로 가열(프리베이크) 처리하고, 막두께가 1μm가 되도록 하여 광경화성 도포막을 얻었다.The coating liquid of the said 2) photocurable composition is apply | coated to the transparent layer obtained by 1) by the spin coat method, it heats (prebakes) by 100 degreeC * 120 second by a hotplate, and makes a film thickness into 1 micrometer A chemical conversion coating film was obtained.

그 다음에, i선 스텝퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(Canon 가부시키가이샤 제)를 사용하고, 그 도포막에 365 nm의 파장에서 최대변 2μm의 섬패턴 마스크를 통해 3000 mJ/cm2의 노광량으로 조사했다.Then, i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Corporation) was used, and the coating film was irradiated at an exposure dose of 3000 mJ / cm 2 through an island pattern mask having a maximum side 2 μm at a wavelength of 365 nm. did.

노광 후, 스핀·샤워 현상기(DW-30형 케미트로닉스 가부시키가이샤 제)의 수평 회전 테이블상에 광경화성 도포막을 형성시킨 기판을 실장하고, 현상액 CD-2000(후지 필름 일렉트로닉스 머티리얼즈 가부시키가이샤 제)를 사용하고, 23℃에서 60초간 패들 현상을 실시했다.After exposure, the board | substrate which formed the photocurable coating film on the horizontal rotating table of the spin shower developing machine (made by DW-30 type chemistry company) was mounted, and it developed developer CD-2000 (made by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.). ), Paddle development was carried out at 23 ° C. for 60 seconds.

 그 후, 진공 지퍼 방식으로 상기 수평 회전 테이블에 고정하고, 회전 장치 에 의해 50 rpm로 기판을 회전하면서, 그 회전 중심의 윗쪽에서 순수를 분출 노즐로부터 샤워장에 공급하고, 세정처리한 후, 스프레이 건조하여, 칼라 필터를 얻었다.Thereafter, the water is fixed to the horizontal rotating table by a vacuum zipper method, while the substrate is rotated at 50 rpm by a rotating device, pure water is supplied from the jet nozzle to the shower stall above the center of rotation, washed, and then sprayed. It dried and the color filter was obtained.

4) 칼라 필터의 패턴 프로파일 및 잔사의 평가방법4) Pattern profile of color filter and evaluation method of residue

상기 칼라 필터에 대해서, 각각 1개의 패턴을 SEM(Hitachi Ltd.,의 제, S-9260A)를 이용해 바로 위에서 관찰하고, 패턴 프로파일에 대해서는 직사각형인 것을 「○」, 직사각형성이 나쁜 것을 「△」, 희미해져 윤곽이 확실치 않은 것을 「×」이라고 평가했다. 그 화소 패턴의 형상을 도 1에 도시한다. 도 1에 있어서, (1)은 화소를 표시하고, (2)는 투명층면을 나타낸다. 또, 잔사에 대해서는 미노광부에 잔사가 없는 것을 「○」, 잔사가 조금 남는 것을 「△」, 잔사가 남는 것을 「×」이라고 평가했다. 평가 결과를 표 2에 표시한다About each said color filter, one pattern is observed directly from the top using SEM (made by Hitachi Ltd., S-9260A), and it is "(circle)" that a rectangle is bad about a pattern profile, "△" It evaluated that it was blurred and whose contour was not sure as "x". The shape of the pixel pattern is shown in FIG. In FIG. 1, (1) shows a pixel, and (2) shows a transparent layer surface. Moreover, about the residue, "(circle)" that there was no residue in the unexposed part, "△" that the residue remained a little, and evaluated that the residue remained as "x" were evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

5) 칼라 필터용 도포막의 흡수 극대 투과율, 흡수 극소 투과율의 평가방법5) Evaluation method of absorption maximum transmittance and absorption minimum transmittance of the coating film for color filters

 광경화성 조성물을 유리 기판상에 스핀코트법에 의해 도포하고, 핫 플레이트에 의해 100℃×120초로 가열 처리(프리베이크)하고, 막두께가 1.0μm가 되도록 하여 칼라 필터용 도포막을 얻었다.The photocurable composition was apply | coated on the glass substrate by the spin-coating method, it heat-processed (prebaked) by 100 degreeC x 120 second with a hot plate, and the film thickness became 1.0 micrometer, and the coating film for color filters was obtained.

 상기 칼라 필터용 도포막을 분광 광도계(Otsuka Electronic Co. Ltd.의 제품, MCPD-2000)를 이용해 파장 400 nm~700nm의 투과율을 측정했다.The transmittance | permeability of wavelength 400nm-700nm was measured for the said coating film for color filters using the spectrophotometer (The product of Otsuka Electronic Co. Ltd., MCPD-2000).

상기 투과율 중, 최소 투과율을 흡수 극소 투과율로 하고, 최대 투과율을 흡수 극대 투과율로 하여, 그 차이를 계산했다. 그 평가 기준은, 65% 미만이면 실용상 문제가 있고, 65% 이상 75% 미만이면 실용상 문제 없고, 75% 이상이면 우수하다 고 하였다. 평가 결과는, 표 2에 나타낸다.The difference was calculated as the minimum transmittance as the absorption minimum transmittance and the maximum transmittance as the absorption maximum transmittance among the above transmittances. If the evaluation criteria are less than 65%, there is a problem in practical use, if it is 65% or more and less than 75%, there is no problem in practical use, and if it is 75% or more, it is excellent. The evaluation results are shown in Table 2.

[실시예 2~7][Examples 2-7]

실시예 1에 있어서, 광경화성 조성물에 포함되는 각 조성물을 하기 표 1에 표시되는 조성으로 각각 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광경화성 조성물을 조제하고, 또, 칼라 필터를 제작하고, 실시예 1과 동일하게 평가했다.In Example 1, the photocurable composition was prepared like Example 1 except having changed each composition contained in the photocurable composition into the composition shown in following Table 1, and producing a color filter And it evaluated similarly to Example 1.

또한, 실시예 1의 평가방법에 있어서의 레지스터층은, 상기 광경화성 조성물을 이용하여 칼라 필터용 도포막을 형성하고 평가했다.In addition, the resist layer in the evaluation method of Example 1 formed and evaluated the coating film for color filters using the said photocurable composition.

[비교예 1~4][Comparative Examples 1-4]

실시예 1에 있어서, 광경 화성 조성물에 포함되는 각 조성물을 하기 표1에 표시되는 조성으로 각각 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교용의 광경화성 조성물을 조제하고, 또 비교용의 칼라 필터를 제작하여, 실시예 1과 동일하게 평가했다. 비교예 1에 있어서의 화소 패턴의 형상을 도 2에 도시한다. 도 2에 있어서, (1)은 화소를 나타내, (2)는 투명층면을 나타낸다.In Example 1, the comparative photocurable composition was prepared like Example 1 except having changed each composition contained in the photocurable composition into the composition shown in following Table 1, and comparing A color filter was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The shape of the pixel pattern in the comparative example 1 is shown in FIG. In FIG. 2, (1) shows a pixel and (2) shows a transparent layer surface.

또, 실시예 1의 평가방법에 있어서의 칼라 필터용 도포막은, 상기 광경화성 조성물을 이용하여 칼라 필터용 도포막을 형성하고, 실시예 1과 동일하게 평가했다.Moreover, the coating film for color filters in the evaluation method of Example 1 formed the coating film for color filters using the said photocurable composition, and evaluated it similarly to Example 1.

Figure 112011073835664-pat00031
Figure 112011073835664-pat00031

표 1에 있어서 각 화합물은 이하와 같다.In Table 1, each compound is as follows.

광중합성 화합물 C:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(Nippon Kayaku Co.Ltd.의 제품)Photopolymerizable compound C: dipentaerythritol hexaacrylate (product of Nippon Kayaku Co.Ltd.)

산성염료 A:Valifast Blue 2620(Orient Chemical Industries Ltd.의 제품)Acid dye A : Valifast Blue 2620 (product of Orient Chemical Industries Ltd.)

염료 B:상기 염료 BDye B: The dye B

수지 A:벤질 메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(70/30 공중합비 평균 분자량 30, 000)Resin A: Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (70/30 copolymerization ratio average molecular weight 30,000)

상기 표 1중, 광중합성 화합물 A, 광중합성 화합물 B 및 광중합성 화합물 D는 아래와 같이에 나타내는 대로이다.In the said Table 1, photopolymerizable compound A, photopolymerizable compound B, and photopolymerizable compound D are as showing below.

Figure 112006072066685-pat00026
Figure 112006072066685-pat00026

Figure 112006072066685-pat00027
Figure 112006072066685-pat00027

또한 표1에 표시된 실시예7에서 사용되는 안료분산액은 하기와 같이 조제하였다.In addition, the pigment dispersion used in Example 7 shown in Table 1 was prepared as follows.

<안료분산액의 조제><Preparation of pigment dispersion>

하기 조성을 3000rpm의 조건으로 호모지나이저를 사용하여 1시간동안 교반하였다. 얻어진 혼합용액을 0.1mm 지르코니아 비즈를 사용한 비즈분산기(상품명:DISPERMAT, GETZMANN사 제품)로 4시간 분산처리를 실시하여 분산물을 얻었다.The following composition was stirred for 1 hour using a homogenizer under the condition of 3000 rpm. The obtained mixed solution was dispersed for 4 hours using a beads disperser (trade name: DISPERMAT, manufactured by GETZMANN Co., Ltd.) using 0.1 mm zirconia beads to obtain a dispersion.

-안료분산액의 조성-Composition of pigment dispersion

피그멘트 블루 15:6 15부Pigment Blue 15: 6 Part 15

분산수지:벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체(=75/25[질량비], 중량 평균 분자량Mw:16000)의 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 용액(고형분:50질량%) 9부Dispersion resin: 9 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate solutions (solid content: 50 mass%) of the benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (= 75/25 [mass ratio], weight average molecular weight Mw: 16000)

분산제(상품명:Disperbyk-161, BYK-Chemie Japan K.K의 제품)의 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(30%)용액 3부3 parts of a propylene glycol monomethyl ether acetate (30%) solution of a dispersant (brand name: Disperbyk-161, product of BYK-Chemie Japan K.K)

프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 73부Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate 73 Parts

Figure 112006072066685-pat00028
Figure 112006072066685-pat00028

본 발명의 실시예에서는, 표 2에 나타내듯이 패턴 프로파일이 양호한 직사각형을 나타고, 현상잔사도 없고, 색농도(흡수극대 투과율과 흡수극소 투과율과의 차이)가 높은 화소를 얻을 수 있었다.In the embodiment of the present invention, as shown in Table 2, a pixel having a good pattern profile was obtained, there was no developing residue, and a high color density (difference between absorption maximum transmittance and absorption minimum transmission) was obtained.

또, 도 1 및 2로부터 분명한 것처럼, 도 1의 본 발명의 실시예 1에서는 화소의 윤곽이 샤프하고, 위에서 본 화소의 각보다도 각져 있는데 대해서, 도 2의 비교예 1에서는, 화소의 윤곽이 희미해지고 있고, 기초의 투명층면과의 계면에서 스커트가 퍼진 형상으로 되어 있어, 본 화소의 각 보다 둥글림을 띠고 있는 것을 알았다.1 and 2, the outline of the pixel is sharp in the first embodiment of the present invention of FIG. 1, and is sharper than the angle of the pixel viewed from above. In the comparative example 1 of FIG. 2, the outline of the pixel is blurred. It turned out that the skirt became the shape which spread | disconnected at the interface with the transparent layer surface of a base, and it turned out that it was rounder than each angle of this pixel.

본 발명에 의하면 충분한 색농도, 분광특성, 감도 및 경화성이 얻어지고, 또 칼라필터에 사용되는 경우 화소의 패턴의 직사각형성 및 현상성이 우수한 광경화성 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a photocurable composition having sufficient color density, spectral characteristics, sensitivity and curability, and excellent in the rectangularity and developability of the pattern of the pixel when used in a color filter.

또한, 본 발명에 의하면 충분한 색농도를 갖고, 화소의 패턴의 직사각형성이 우수한 칼라필터를 제공할 수 있다.Further, according to the present invention, it is possible to provide a color filter having a sufficient color density and excellent in the rectangularity of the pattern of the pixel.

Claims (16)

착색제, 라디칼중합성 모노머 및 광중합 개시제를 함유하는 광경화성 조성물에 있어서, In the photocurable composition containing a coloring agent, a radically polymerizable monomer, and a photoinitiator, 상기 착색제의 함유량이 전체 고형분의 40질량% 이상이고, Content of the said coloring agent is 40 mass% or more of all solid content, 상기 착색제는 착색제의 총량에 대해 산성염료가 25질량% 이상이고,The coloring agent has an acid dye of 25% by mass or more based on the total amount of the coloring agent, 상기 라디칼중합성 모노머는 알칼리 가용성기를 갖는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The radically polymerizable monomer has an alkali soluble group. 제1항에 있어서, 상기 착색제, 상기 라디칼중합성 모노머 및 상기 광중합 개시제의 총함유량이 상기 광경화성 조성물 중 전체 고형분에 대해 80질량% 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the total content of the colorant, the radically polymerizable monomer, and the photopolymerization initiator is 80% by mass or more based on the total solids in the photocurable composition. 제1항에 있어서, 상기 라디칼중합성 모노머의 중합성 관능기의 수가 3이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the number of polymerizable functional groups of the radically polymerizable monomer is three or more. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 라디칼중합성 모노머의 상기 알칼리 가용성기는 카르복실기, 인산기 및 술폰산기 중 1종 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the alkali-soluble group of the radically polymerizable monomer is at least one of a carboxyl group, a phosphoric acid group and a sulfonic acid group. 기판상에 제1항에 기재된 광경화성 조성물로 이루어진 도포막을 형성하고, 알칼리 현상을 사용하는 포토리소그래피법에 의한 패터닝으로 형성된 화소를 갖는 것을 특징으로 하는 칼라필터.A color filter comprising a pixel formed by forming a coating film made of the photocurable composition according to claim 1 on a substrate, and patterning by a photolithography method using alkali development. 제7항에 있어서, 파장 400nm~700nm의 범위에 있어서, 최소 투과율이 10% 이하이고, 또 상기 파장범위에 있어서 최대 투과율과 상기 최소 투과율의 차이는 65% 이상인 것을 특징으로 하는 칼라필터.The color filter according to claim 7, wherein the minimum transmittance is 10% or less in the range of 400 nm to 700 nm, and the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance is 65% or more in the wavelength range. 제7항에 있어서, 상기 화소의 두께는 0.3㎛ 이상 1.5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 칼라필터.8. The color filter according to claim 7, wherein the pixel has a thickness of 0.3 µm or more and 1.5 µm or less. 제7항에 있어서, 상기 화소의 최대 변은 5.0㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 칼라필터.8. The color filter of claim 7, wherein a maximum side of the pixel is 5.0 mu m or less. 제1항에 있어서, 상기 산성염료는 술폰산기, 카르복실산기 또는 페놀성 수산기를 갖는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the acid dye has a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or a phenolic hydroxyl group. 제1항에 있어서, 상기 착색제의 총량에 대해 상기 산성염료를 포함하는 염료의 함유량이 60질량% 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition of Claim 1 whose content of the dye containing the said acid dye is 60 mass% or more with respect to the total amount of the said coloring agent. 제1항에 있어서, 상기 라디칼중합성 모노머는 하기 광중합성 화합물 A 또는 광중합성 화합물 B인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the radically polymerizable monomer is the following photopolymerizable compound A or photopolymerizable compound B.
Figure 112013077343844-pat00032
Figure 112013077343844-pat00032
제1항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 o-아실 옥심계 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is an o-acyl oxime compound. 제1항에 있어서, 상기 라디칼중합성 모노머의 중합성 관능기의 수가 3이상 10이하인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition according to claim 1, wherein the number of polymerizable functional groups of the radically polymerizable monomer is 3 or more and 10 or less. 제1항에 있어서, 상기 라디칼중합성 모노머의 함유량이 상기 광경화성 조성물 중 전체 고형분에 대해 90질량% 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.The photocurable composition of Claim 1 whose content of the said radically polymerizable monomer is 90 mass% or more with respect to the total solid in the said photocurable composition.
KR1020060096998A 2005-10-04 2006-10-02 Photocurable composition, and color filter using the same KR101354008B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005291030 2005-10-04
JPJP-P-2005-00291030 2005-10-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070038008A KR20070038008A (en) 2007-04-09
KR101354008B1 true KR101354008B1 (en) 2014-01-22

Family

ID=38159538

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060096998A KR101354008B1 (en) 2005-10-04 2006-10-02 Photocurable composition, and color filter using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101354008B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5164409B2 (en) * 2006-09-28 2013-03-21 富士フイルム株式会社 PHOTOCURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1010718A (en) * 1996-06-25 1998-01-16 Hitachi Chem Co Ltd Color image forming material, photosensitive liquid, photosensitive element, production of color filter, and color filter
KR20040077466A (en) * 2003-02-27 2004-09-04 후지 필름 아치 가부시키가이샤 Photo curable colored resin composition and color filter prepared using the same
KR20050020666A (en) * 2003-08-21 2005-03-04 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 Colorant-containing curable composition, color filter and method of producing the same
JP2007024983A (en) 2005-07-12 2007-02-01 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd Photosetting composition, color filter and method for manufacturing the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1010718A (en) * 1996-06-25 1998-01-16 Hitachi Chem Co Ltd Color image forming material, photosensitive liquid, photosensitive element, production of color filter, and color filter
KR20040077466A (en) * 2003-02-27 2004-09-04 후지 필름 아치 가부시키가이샤 Photo curable colored resin composition and color filter prepared using the same
KR20050020666A (en) * 2003-08-21 2005-03-04 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 Colorant-containing curable composition, color filter and method of producing the same
JP2007024983A (en) 2005-07-12 2007-02-01 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd Photosetting composition, color filter and method for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070038008A (en) 2007-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5646702B2 (en) Photopolymerizable composition, color filter and method for producing the same
JP4689442B2 (en) Colored curable composition, color filter and method for producing the same
US8343365B2 (en) Method for producing color filter
JP2009031713A (en) Dipyrromethene-based boron complex compound and its tautomer, colored photosensitive curing composition, color filter, and method for producing the same
JP2008083416A (en) Photosensitive colored curable composition, color filter and method for producing the same
JP5085489B2 (en) Colored curable composition, color filter, method for producing the same, and pigment
JP2010084141A (en) Colored curable composition, color filter and method for producing the same, and dipyrromethene metal complex compound and tautomer thereof
JP2006071822A (en) Colored hardenability composition, color filter, and its manufacturing method
JP4518862B2 (en) Colored curable composition, color filter and method for producing the same
KR20070047815A (en) Colored curable compositions, color filters and process for production thereof
JP4524155B2 (en) Colored curable composition, color filter and method for producing the same
JP2005250420A (en) Colored curable composition, and color filter and its production method using the same
JP2005281329A (en) Colorant monomer, curable composition containing the same, color filter, and method for producing the color filter
JP2007241148A (en) Colored curable composition, color filter and method for producing same
KR101354008B1 (en) Photocurable composition, and color filter using the same
JP5473239B2 (en) Metal phthalocyanine dye mixture, curable composition, color filter, and method for producing color filter
JP4332042B2 (en) Color filter and manufacturing method thereof
JP2007277386A (en) Colored curable composition, color filter and manufacturing method thereof
JP2006091190A (en) Colored curable composition, color filter and manufacturing method therefor
JP4359541B2 (en) Colorant-containing curable composition, color filter using the same, and method for producing the same
JP2007094187A (en) Colored curable composition, and color filter and method for producing the same
JP2007128060A (en) Photocurable composition and color filter obtained by using the same
JP4384585B2 (en) Dye-containing negative curable composition, color filter and method for producing the same
JP4202977B2 (en) Colored curable composition, color filter and method for producing the same
JP4153474B2 (en) Colored curable composition, color filter, and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161219

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171219

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200107

Year of fee payment: 7