KR101297289B1 - 광학시스템 제조방법 - Google Patents

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소 질르 르
쟝 삐에르 쇼보
드니 마쥐
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에씰로아 인터내셔날/콩파니에 제네랄 도프티크
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Abstract

본 발명은 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부(F2)를 포함하는 광학시스템(OS)을 계산하는 방법으로서, 가상 광학시스템(VOS)이 가상함수(VOF)를 만들기 위해 사용되는 생성단계(GEN)와, 상기 가상함수(VOF)가 상기 광학함수(OF)를 얻도록 변형되는 변형단계(MOD)와, 상기 제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF)로부터 계산되고 상기 수식(EF1)도 상기 광학함수(OF)로부터 계산되는 계산단계(CAL)를 포함하는 광학시스템 계산방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 광학시스템(OS) 제조방법에 관한 것이다.
광학시스템 제조방법, 누진굴절력렌즈, 반가공 누진렌즈 블랭크

Description

광학시스템 제조방법{Method Of Manufacturing An Optical System}
본 발명의 태양은 광학시스템 계산방법 및/또는 광학시스템 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 누진굴절력렌즈(progressive power lens)에 관한 것이다. 본 발명의 다른 태양은 반가공 광학시스템 제조방법, 광학시스템 계산방법 및/또는 광학시스템 제조용 컴퓨터 프로그램 제품, 반가공 광학시스템 계산 및/또는 제조용 컴퓨터 프로그램 제품에 관한 것이다.
누진굴절력렌즈는 일반적으로 하나의 굴절력을 갖는 원용부분과, 다른 굴절력을 갖는 근용부분과, 중간 누진부분을 포함한다.
공통적인 관례에 따르면, 렌즈 제조업체가 반가공 누진렌즈 블랭크(blank)를 처방실에 제공한다. 일반적으로 반가공 누진렌즈 블랭크는 앞쪽이 누진면이고 뒤쪽이 구면("표준 반가공 렌즈 블랭크")이다. 적합한 광 특성을 갖는 표준 반가공 렌즈 블랭크가 처방을 기초로 하여 선택된다. 상기 구면은 (렌즈의 곡률반경인 베이스 커브(base curve)를 기초로) 처방실에서 최종적으로 기계가공되고 연마되어 처방에 따른 구원환체 렌즈면(sphero-torical surface)을 얻는다. 이에 따라, 처방에 따른 누진굴절력렌즈가 얻어진다.
본 발명의 태양에 따르면, 본 발명은 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS)을 계산하는 방법에 있어서, 가상 광학시스템(VOS)이 가상함수(VOF)를 만들기 위해 사용되는 생성단계(GEN)와, 상기 가상함수(VOF)가 상기 광학함수(OF)를 얻기 위해 변형되는 변형단계(MOD)와, 제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF) 및 상기 제 1 수식(EF1)으로부터 계산되는 계산단계(CAL)를 포함하는 광학시스템 계산방법에 관한 것이다.
광학시스템(OS)은 예컨대, 누진굴절력렌즈일 수 있다. 광학함수(OF)는 예컨대 광학함수(OF) 또는 광학함수(OF)의 일부일 수 있다. 제 1 부분 및 제 2 부분은 예컨대 광학시스템의 임의의 체적 또는 표면일 수 있다. 광학시스템(OS)의 광학함수(OF)는 광학시스템(OS)의 광기하학적 특성의 함수(h)로 정의되며, 제 1 부분(F1)과 제 2 부분(F2)을 포함하는 2개 부분의 시스템에 대해 다음과 같이
OF = h(EF1(x,y,z), EF2(x,y,z))이고,
EF1(x,y,z)는 제 1 부분(F1)의 광기하학적 특성을 정의하며,
EF2(x,y,z)는 제 2 부분(F2)의 광기하학적 특성을 정의하는 것으로 작성될 수 있다.
본 발명의 특징에 따르면, 가상광학시스템(VOS)은 제 1 가상수식(EVF1)에 의해 정의된 제 1 가상부(VF1)와 가상함수(VOF)를 정의하는 제 2 가상수식(EVF2)에 의해 정의된 제 2 가상부(VF2)를 구비한다.
본 발명의 특징에 따르면, 가상함수(VOF)는 실질적으로 광학함수(OF)와 동일하다.
본 발명의 특징에 따르면, 생성단계는 데이터베이스에 상기 제 1 가상수식(EVF1)을 선택하는 단계를 포함한다.
본 발명의 특징에 따르면, 본 발명의 방법은 상기 제 1 가상수식(EVF1)이 제 1 변형함수(N1)를 이용해 변형되어 제 1 변형수식(EV'F1)을 얻는 수식변형단계를 더 포함하고, 상기 제 1 수식(EF1)은 상기 제 1 변형수식(EV'F1)과 실질적으로 동일하다.
상기 특성에 따르면, 제 1 가상부(VF1)는 가상 광학시스템(VOS)의 제 1 체적을 포함하고, 상기 제 1 수식은 상기 제 1 체적의 광기하학적 특성에 따르며, 상기 제 1 변형함수(N1)는 상기 광기하학적 특성 중 적어도 하나를 변형한다.
상기 특성에 따르면, 상기 광기하학적 특성은 표면 수식 및 체적의 광학적 굴절지수 중에 선택된 적어도 하나의 특성을 구비한다.
본 발명의 또 다른 특성에 따르면, 상기 제 1 가상부(VF1)는 제 1 가상면이고, 상기 제 2 가상부(VF2)는 제 2 가상면이다.
본 발명의 상기 특성에 따르면, 광학함수(OF)는 상기 제 1 면 및 제 2 면의 수식 차에 따르며, 제 2 면 변형함수(N2)는 실질적으로 제 1 면 변형함수(N1)와 같다.
본 발명의 특성에 따르면, 상기 광학시스템(OS)은 누진굴절력렌즈이다.
삭제
또 다른 태양에 따르면, 본 발명은 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS)을 제조하는 방법으로서, 제 2 수식(EF2)이 상기 함수(OF)로부터 계산되고 상기 제1 수식(EF1)도 상기 함수(OF)로부터 계산되는 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 생성단계(GEN), 변형단계(MOD), 계산단계(CAL)와, 상기 제 1 부분(F1)을 구비하는 반가공 광학시스템(SOS)을 반가공 광학시스템(MSFOS)에 제공하는 단계와, 상기 반가공 광학 시스템(MSFOS)이 상기 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)에 또한 형성되어 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제조단계(M2)를 포함하는 광학 시스템(OS) 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 본 발명은 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS)을 제조하는 방법으로서, 제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF)로부터 계산되고 상기 제 1 수식(EF1)도 상기 광학함수(OF)로부터 계산되는 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 생성단계(GEN), 변형단계(MOD), 계산단계(CAL)와, 제조된 반가공 광학 시스템(MSFOS)을 얻도록 상기 제 1 부분(F1)을 구비하는 반가공 광학시스템(SOS)이 제조되는 제 1 제조단계(M1)와, 상기 제조된 반가공 광학 시스템(MSFOS)이 상기 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부(F2)에 또한 형성되어 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조단계(M2)를 포함하는 광학시스템 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 제 1 제조단계(M1)는 반가공 광학시스템의 제 1 부분(F1)의 광기하학적 특성 EF1(x,y,z)을 정의한다. 따라서, 적절한 제 2 부분(F2)을 선택함으로써, 본 발명은 OF = h(EF1(x,y,z),EF2(x,y,z))이도록 광학시스템의 제조를 가능하하게 한다.
다르게 말하면, 반가공 광학시스템은 제 1 제조단계(M1)에 따라 제조되었고, 광학함수(OF1)를 갖는 제 1 광학시스템(OS1)을 제조하기 위해 우선적으로 변형되도록 의도되어 있는 경우, 반가공 광학시스템은 제 2 광학함수(OF2)를 갖는 제 2 광학시스템(OS2)을 제조하기 위해 이점적으로 사용될 수 있다. 이에 대해, 제 2 수식(EF2)은 OF1 = h(EF1(x,y,z),EF2(x,y,z))이 아니라 OF2 = h(EF1(x,y,z),EF2(x,y,z))이도록 선택되어야 한다.
따라서, 광학시스템은 단지 반가공 광학시스템의 특성에만 따르지 않는다. 이는 제조업체가 광학시스템에 무관하게 반가공 광학시스템을 비축하게 한다. 따라서, 본 발명은 제조공정에서 재고관리를 강화하게 할 수 있다.
본 발명의 특성에 따르면 제 2 제조단계(M2)는 제 2 가상수식(EFV2)이 제 2 변형함수(N2)에 의해 변형되어 제 2 변형수식(EV'F2)를 얻는 제 2 변형서브단계(MS2)와, 상기 반가공 광학시스템(SFOS)의 제 2 부분(F2)이 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조서브단계(MAN2)들을 포함하고, 상기 제 1 변형함수(N1)와 상기 제 2 변형함수(N2)는 상기 광학시스템이 상기 광학함수(OF)에 의해 식별될 수 있는 식으로 정의되며, 상기 제 2 가상수식(EFV2)은 상기 제 2 변형수식(EV'F2)과 실질적으로 동일하다.
상기 특성에 따르면, 제 2 가상수식(EFV2)은 상기 광학시스템(VOS)의 제 2 체적을 포함하고, 상기 제 2 수식은 상기 제 2 체적의 광기하학적 특성에 따르며, 상기 제 2 변형함수(N2)는 상기 광기하학적 특성 중 적어도 하나를 변형시킨다.
또 다른 태양에 따르면, 본 발명은 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부ㅂ부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS)을 제조하는 방법으로서, 제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF)로부터 계산되고 상기 제 1 수식(EF1)도 상기 광학함수(OF)로부터 계산되는 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 생성단계(GEN), 변형단계(MOD), 계산단계(CAL)와, 제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)을 얻도록 상기 제 2 부분(F2)을 구비하는 반가공 광학시스템(SFOS)이 제조되는 제 1 제조단계(M1)와, 상기 제조된 반가공 광학 시스템(MSFOS)이 상기 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)에 또한 형성되어 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조단계(M2)를 포함하는 광학시스템 제조방법에 관한 것이다.
본 발명을 위해, "가상"이라는 용어는 컴퓨터에 의해 계산되고 생성되는 광학시스템을 정의하는데 사용된다. 본 발명에 따르면, 상기 가상 광학시스템은 그와 같이 제조되도록 의도된 것은 아니다.
가상 광학시스템을 생성하고 가상 광학함수의 변형으로서 광학함수를 정의함으로써, 본 발명에 따른 계산단계(CAL)가 해(解)를 갖는 것을 보장할 수 있다. 예컨대, 광학함수(OF)가 실질적으로 상기 가상 광학함수(VOF)와 동일하고, 제 1 수식(EF1)이 실질적으로 제 1 가상수식과 동일하면, 상기 제 2 가상수식(EVF2)은 상기 제 2 수식(EF2)에 대한 물리적 해이다.
가상 광학함수는 예컨대 눈 관리자에 의해 제공된 처방 데이터를 이용하여 변형될 수 있다. 따라서, 이 가상함수를 변형함으로써, 상기 광학함수는 눈의 특성에 더 맞추어질 수 있다.
더욱이, 가상 광학함수의 변형으로부터 광학함수를 정의함으로써, 메모리 공간이 절약된다. 실제로, 각 특정 클라이언트에 대한 광학함수를 저장하는 대신에, 본 발명에 따른 방법은 일반 가상함수를 저장하고 상기 함수를 특정변형에 의해 변형하게 한다.
또 다른 태양에 따르면, 본 발명에 따른 생성단계는 데이터베이스에 제 1 가상수식(EVF1)을 선택하는 단계를 포함한다.
알려진 가상함수의 데이터베이스에서 제 1 가상수식을 선택함으로써, 광학시스템의 성과가 기존 시스템의 성과일 수 있음을 보장할 수 있다.
더욱이, 특정한 제 1 수식의 계산을 방지하고 데이터베이스내의 수식을 선택함으로써, 계산시간이 절감된다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 상기 방법은 제 1 가상수식(EVF1)이 제 1 변형함수(N1)에 의해 변형되어 제 1 변형수식(EV'F1)을 얻도록 하는 수식변형단계를 더 포함하고, 상기 제 1 수식(EF1)은 실질적으로 상기 제 1 변형수식(EV'F1)과 동일하다.
제 1 변형함수(N1)는 예컨대
OF = h(N1(VF1(x,y,z)),(EF2(x,y,z)))
이도록 제 1 가상부(VF1)의 광기하학적 특성을 변형하도록 구성될 수 있다.
처방실에 표준 반가공 광학시스템을 제공함으로써, 비밀 데이터로서 렌즈 제조업체가 고려할 수 있는 데이터를 얻는 것이 매우 쉽다. 이는 예컨대 잘 알려진 3차원 측정시스템을 이용하여 달성될 수 있다. 비밀 데이터는 예컨대 반가공 렌즈 블랭크의 누진면의 기하학적 배열에 대한 데이터일 수 있다. 비밀 데이터는 또한 임의의 광기하학적 특성, 특히, 2개부분을 정의하는 표면의 수식 또는 2개부의 광학적 굴절지수 또는 그 임의의 조합일 수 있다.
반가공 광학시스템과 필요로 하는 광학함수를 갖는 광학 시스템을 제조하기 위해 제 1 변형함수를 이용해 가상 광학시스템(VOS)의 제 1 부분을 변경함으로써, 비밀 데이터가 광학시스템의 제 1 부분과 제 2 부분 간에 분할된다. 따라서, 측정 시스템을 이용하여 상기 비밀 데이터를 유추하기가 더 어렵다.
본 발명은 또한 데이터 처리장치에 로드될 때, 상기 데이터 처리장치가 광학 시스템 또는 반가공 광학시스템에 대한 본 발명에 따른 방법의 단계들을 수행하도록 하는 명령어 세트를 포함하는 데이터처리장치용 컴퓨터 프로그램에 관한 것이다.
본 발명에 대한 주제는 특히 명세서의 결론부에 지적되어 있고 명확히 청구되어 있다. 그러나, 본 발명은 그 목적, 특징 및 이점과 함께 동작 구성 및 방법 모두가 하기의 상세한 설명을 참조로 첨부도면과 같이 읽는 경우에 가장 잘 이해될 수 있다:
도 1a는 굴절능 배열의 그래프를 도시한 것이다.
도 1b는 난시 배열의 그래프를 도시한 것이다.
도 1c는 광학시스템의 광학함수를 결정하는데 사용되는 데이터 예를 도시한 것이다.
도 1d는 굴절능 배열과 난시 배열을 나타내는데 사용된 경도 데이터와 위도 데이터를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 제조방법의 블록도이다.
도 3은 본 발명에 따른 제조방법의 실시예의 블록도이다.
도 4a는 본 발명에 따라 만들어진 가상 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 4b는 본 발명에 따른 변형된 가상 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 5a는 본 발명에 따라 만들어진 가상 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 5b는 본 발명에 따른 제조된 반가공 광학시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 5c는 본 발명에 따른 제조된 광학시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 6a는 도 5b에서와 같이 반가공 광학시스템에 해당한다.
도 6b는 광함수에 맞게 광학적 굴절지수(optical index)가 변형된 본 발명에 따라 제조된 광학시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
특별히 기술하지 않은 이상, 하기의 거론에서 명백한 바와 같이, 명세서 전체를 통해 "컴퓨팅", "계산", "생성" 등과 같은 용어들을 사용한 설명들은 컴퓨팅 시스템의 레지스터 및/또는 메모리내에 전자와 같은 물리량으로서 표현되는 데이터를 마찬가지로 상기 컴퓨팅 시스템의 메모리, 레지스터 또는 기타 정보 저장장치, 전송장치 또는 표시장치내의 물리량으로서 표현되는 다른 데이터로 조작 및/또는 변형하는 컴퓨터 또는 컴퓨팅 시스템, 또는 유사한 전자계산장치의 동작 및/또는 공정을 의미한다.
본 발명의 실시예들은 본 명세서에서 동작을 수행하기 위한 장치들을 포함할 수 있다. 이 장치는 특히 소정의 목적으로 구성될 수 있거나 일반용도의 컴퓨터 또는 컴퓨터에 저장된 컴퓨터 프로그램에 의해 선택적으로 활성화되거나 재구성되는 디지털 신호 프로세서(Digital Signal Processor, PSP)를 구비할 수 있다. 이러한 컴퓨터 프로그램은 플로피 디스크, 광디스크, CD-ROMs, 자기광학 디스크, 롬(ROMs), 램(RAMs), 이피롬(EPROMs), 이이피롬(EEPROMs), 자기카드 또는 광학카드, 또는 전자적 명령을 저장하는데 적합하고 컴퓨터 시스템 버스에 결합될 수 있는 임의의 다른 타입의 매체와 같이 컴퓨터 판독가능 저장매체에 저장될 수 있으나, 이에 국한되지 않는다.
본 명세서 표현된 방법 및 디스플레이는 본질적으로 어떠한 특별한 컴퓨터나 다른 장치에 대한 것이 아니다. 다양한 일반용도의 시스템들도 본 명세서의 개시에 따른 프로그램들과 함께 사용될 수 있거나, 소정 방법을 수행하도록 좀더 특수화된 장치를 구성하기에 편리한 것으로 입증될 수 있다. 다양한 이들 시스템들에 대한 소정 구성은 하기의 설명으로부터 명백해 진다. 또한, 본 발명의 실시예는 어떤 특정한 프로그래밍 언어에 대하여 기술하고 있지 않다. 다양한 프로그래밍 언어들이 본 명세서에 기술된 바와 같이 본 발명의 개시를 실행하도록 사용될 수 있음이 명백해 진다.
광학시스템(OS)의 광학함수(OF)는 다음과 같이 정의될 수 있다:
(1) OF(x,y,z) = MAT(x,y,z) + PRES; 또는
(2) OF(x,y,z) = MAT(PUI(x,y,z); AST(x,y,z))+ PRES; 또는
(3) OF(x,y,z) = h(F1(x,y,z); F2(x,y,z); n(x,y,z))
여기서, MAT는 굴절능 및 난시 배열이고,
PUI는 굴절능 배열이며,
AST는 난시 배열이고,
PRES는 처방 데이터이며,
F1 및 F2는 광학시스템의 제 1 면 및 제 2 면의 수식이고,
n은 광학 굴절지수이다.
광학 굴절지수가 상수이면, 광학시스템의 광학함수(OF)가 다음과 같이 정의될 수 있는 것에 유의해야 한다:
(4) OF(x,y,z) = h(F1(x,y,z); F2(x,y,z))
굴절능 배열(PUI)과 난시 배열(AST)의 그래프 예가 도 1a 및 도 1b에 도시되어 있다. 이들 배열(PUI,AST)은 정시안 + 2를 갖는 사용자에 적합한 설계를 위해 구해진 것이다. 도 1d에 도시된 응시방향은 눈의 회전중심으로부터 2개의 각도, 즉, 위도(α)와 경도(β)에 의해 정의된다. 배열(MAT)과 배열(PUI)을 얻기 위해 각 응시 방향에 대한 수차가 계산된다.
처방 데이터(PRES)는 당업자에게 알려져 있고, 구, 원통, 액스(axe), 프리즘, 가입도(power addition)와 같이 눈관리사가 제공하는 통상적인 데이터에 대한 것이다.
안과분야에서 이점적이나 이에 국한되지 않는, 광학함수는 처방된 굴절도수와 난시 값을 특정 배열에, 특히 PUI와 AST에 추가함으로써 구해질 수 있다. 일반 적으로, 이러한 특정 배열은 예컨대 각 부가형 및 비정시안형(근시안, 원시안, 정시안)에 대해 주어질 수 있다.
본 발명을 더 잘 이해하기 위해, 누진굴절력렌즈 형태의 광학시스템(OS) 제조방법이 더 상세히 기술될 것이다. 이 특정 실시예에서, 광학 굴절지수는 상수로서 선택될 수 있다. 따라서, 광학시스템의 광학함수는 다음과 같이 정의될 수 있다:
(5) OF = h(F1(x,y),F2(x,y))
도 2에 도시된 바와 같이, 누진굴절력렌즈(OS) 제조방법은 제 1 부분(F1)을 포함하는 반가공 광학시스템이 제조되는 제조단계(M1)를 포함한다. 상기 제 1 부분(F1)은 제 1 수식(EF1)에 의해 정의되고, 상기 수식은 예컨대 외부면(A)에 대한 수식이다. 이에 따라, 제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)이 얻어진다.
본 발명에 따르면, 그런 후 상기 광학함수와 상기 제 1 부분의 수식(EF1)으로부터의 계산단계(CAL)에서 제 2 부분(EF2)의 수식이 결정된다. 수식(5) 및 수식(4)가 상기 광학함수(OF)와 제 1 부분의 수식(EF1)으로부터 제 2 수식을 결정하는데 사용된다.
상기 계산단계(CAL)는 광추적 방법 또는 최적화 알고리즘을 이용함으로써 수행될 수 있다. 이들 방법은 예컨대 "Application of optimizaiton in computeer-aided ophthalmic lens design"(P.Allione, F. Ahsbhs 및 G.Le Saux, in SPIE Vol. 3737, EUROPTO Conferenece on Design and Engineering of Optical Systems, Berlin, 1999년 5월) 간행물로 당업자에게 알려져 있으며, 상기 문헌은 본 명세서에 참조로 합체되어 있다.
제 2 제조단계(M2)에서, 제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)은 수식(EF2)의 제 2 부분을 얻도록 제조된다. 이는, 예컨대, 특허번호 US 6,558,586B1을 참조로 한 미국특허에 상술한 렌즈 제조분야에서 임의의 알려진 방법에 의해 행해질 수 있으며, 상기 문헌의 내용은 참조로 합체되어 있다.
제 2 수식(EF2)의 제 2 부분(F2)이 제공된 제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)이 광학시스템(OS)을 형성한다.
특정 실시예에서, 피제조 광학시스템(OS)의 광학함수(OF)은 가상 광학함수(VOF)를 기초로 한다
가상 광학시스템 발생단계(GEN)에서, 가상광학함수(VOF)를 갖는 가상 누진굴절력렌즈(VOS)가 만들어진다. 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 가상 누진굴절력렌즈(VOS)는 제 1 수식(EVF1)에 의해 정의되는 제 1 가상면(VF1)을 포함한다. 가상 누진굴절력렌즈(VOS)는 또한 제 2 수식(EVF2)에 의해 정의되는 제 2 가상면(VF2)을 포함한다.
그런 후 가상광학함수(VOF)는 광학함수(OF)를 얻도록 변형단계(MOD)에서 변형될 수 있다. 변형된 가상광학함수(MVOS)는 변형된 제 1 면(MVF1)과 변형된 제 2 면(MVF2)을 갖는다.
변형(MOD)은 눈 관리자로부터의 처방 데이터를 이용하여 처방에 맞게 만들어질 수 있다.
변형(MOD)은 제한없이 가상광학시스템(VOS)의 오프세트, 대칭, 평행이동 또는 몰핑(morphing)과 같은 등거리 변환(isometric transformation)일 수 있다.
변형이 항등함수로서 선택되면, 변형된 가상광학시스템은 가상광학시스템이며 광학함수는 실질적으로 상기 가상광학함수와 같다.
기설정된 가상광학함수(VOF)가 가상광학시스템의 광기하학적 특성을 정의하기 위해 데이터베이스로부터 직접 검색될 수 있다.
그런 후, 상기 변형단계(MOD)는 이 가상광학함수(VOF)를 특정 착용자의 요구에 맞도록 이용될 수 있다.
예컨대, 가상광학함수를 포함하는 데이터가 이용가능한 경우, 데이터베이스 가운데, 착용자의 전반적인 특성에 따라 가상광학함수를 선택할 수 있다. 상기 광학시스템(OS)을 착용자의 보다 더 정확한 요구에 맞추기 위해 이 가상광학함수의 보다 정확한 적용이 변형단계(MOD)에서 수행된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 또 다른 태양에 따르면, 누진굴절력렌즈(OS) 제조방법은 제 1 제조단계(M1)와 제 2 제조단계(M2)를 구비한다. 가상광학시스템 생성단계(GEN)와 제 1 변형단계(MS1)를 더 구비한다.
가상광학시스템 생성단계(GEN)에서, 가상광학함수(VOF)를 갖는 가상 누진굴절력렌즈(VOS)가 만들어 진다. 도 5a에 도시된 바와 같이, 가상 누진굴절력렌즈(VOS)는 제 1 수식(EVF1)에 의해 정의된 제 1 가상면(VF1)을 구비한다. 가상 누진굴절력렌즈(VOS)는 또한 제 2 수식(EVF2)에 의해 정의된 제 2 가상면(VF2)을 더 구비한다. 제 1 수식(EVF1)과 제 2 수식(EVF2)은 다음과 같게 선택된다:
VF(x,y,z) = vh(EVF1(x,y,z), EVF2(x,y,z))
EVF1(x,y,z) 및 EVF2(x,y,z)는 예컨대 가상 누진굴절력렌즈(VOS)의 광학함 수(VF)가 실질적으로 누진굴절력렌즈(OS)의 광학함수(OF)와 같게 정의될 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제 1 변형단계(MS1)에서, 제 1 수식 EVF1(x,y,z)은 제 1 암호화함수 N1(x,y)을 추가하는 변형을 하여 아래와 같이 정의된 변형된 수식(EV'F1)을 얻는다:
EV'F1(x,y) = EVF1(x,y) + N1(x,y)
그리고 나서, 제 1 제조 단계(M1)에서, 반가공 광학시스템(SFOS)의 제 1 면(F1)이 만들어 진다. 제 1 면(F1)의 수식(EF1)은 다음과 같이 정의된다:
EF1(x,y) = EV'F1(x,y)
이에 따라, 반가공 광학시스템(SFOS)이 얻어진다. 반가공 광학시스템(SFOS)의 제조는 특허번호 US 6,558,586B1를 참조로 한 미국특허에 상술된 렌즈 제조분야에서 임의의 알려진 방법에 의해 행해질 수 있으며, 상기 문헌의 내용은 참조로 본 명세서에 합체되어 있다.
제 1 암호화함수 N1(x,y)는 본 발명의 제조방법을 실행하는 자만이 알고 있는 비밀 데이터인 것에 유의해야 한다. 제 1 암호화함수(N1)는 다음과 같이 일반적으로 함수 EVF1(x,y)의 어떤 비밀 변환일 수 있다:
EF1(x,y) = N1[EVF1(x,y)]
따라서, 반가공 광학시스템(SFOS) 분석시, 제 3 자가 비밀 데이터 EVF1(x,y) 및 EVF2(x,y)에 접근하기가 더 어렵게 된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 누진굴절력렌즈 제조방법은 제 2 제조단계(M2)를 더 포함한다. 제 2 제조단계(M2)는 제 2 변형서브단계(MS2)와 제 2 제조서브단계(MAN2)를 구비한다.
제 2 변형서브단계(MS2)에서, 제 2 수식 EVF2(x,y)는 예컨대 제 2 암호화함수 N2(x,y)를 추가함으로써 변형되어 하기와 같이 제 2 변형수식 EV'F2(x,y)을 구한다:
EV'F2(x,y) = EVF2(x,y) + N2(x,y)
제 2 암호화함수 N2(x,y)은 다음과 같이 선택된다:
OF(x,y) = h(N1[EVF1(x,y)], N2[EVF2(x,y)])
다른 제한들이 제 1 및 제 2 암호화함수(N1 및 N2)의 선택시에 추가될 수 있음을 알아야 한다. 이러한 제한들은 예컨대 실험들을 만듦으로써 정해진 계산시간 또는 다른 제한들에 연관될 수 있다.
그런 후, 제 2 제조서브단계(MAN2)에서, 반가공 광학시스템(SFOS)의 제 2 면(F2)이 누진굴절력렌즈(OS)를 얻기 위해 제조된다. 누진굴절력렌즈(OS)의 제 2 면(F2)의 표면은 제 2 변형수식 EV'F2(x,y)에 의해 정의된다.
누진굴절력렌즈(OS)의 제 1 및 제 2 면(F1 및 F2)은 광학함수(OF)에 의해 정의된 제한들에 일치해야 하는 것이 이해된다.
광학함수가 표면의 수식들에 대한 차(差) 함수인 경우, 즉, OF = h(EF2(x,y) - EF1(x,y)), 바람직한 제 2 암호화함수 N2(x,y)는 실질적으로 N1(x,y)와 같다.
본 발명의 이점에 따르면, 제 1 암호화함수와 제 2 암호화함수(N1 및 N2)는 피제조 광학시스템(OS)에만 의존한다. 따라서, 수식 EF1(x,y) = N1[EVF1(x,y)]의 제 1 면(F1)이 형성된 반가공 광학시스템(SFOS)은 예컨대 광학함수(OF1)를 갖는 광학시스템(OS1)을 제조하는데 사용될 수 있다. 그러나, 동일한 반가공 광학시스템(SFOS)은 또한 광학함수(OF2)를 갖는 광학시스템(OS2)를 제조하는데에도 사용될 수 있다. 이 경우, 암호화함수(N2)는 OF2(x,y) = h(N1(EVF1(x,y)),N2(EVF1(x,y)))가 되도록 선택되어야 한다. 따라서, 반가공 광학시스템(SFOS)을 피제조 광학시스템과 연결시킴으로써 반가공 광학시스템(SFOS)의 재고관리가 행해질 수 있다. 대안으로, 반가공 광학시스템(SFOS)의 재고관리는 적절한 변형함수를 선택함으로써 최종 광학시스템에 무관하게 행해질 수 있다. 따라서, 제조공정에서 저장관리가 향상된다.
도면을 참조로 전술한 상세한 설명은 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS) 제조방법으로서, 상기 제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF) 및 상기 제 1 수식(EF2)으로부터 계산되는 계산단계(CAL)와, 상기 제 1 부분(F1)을 포함하는 반가공 광학시스템(SFOS)이 제조되어 제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)을 얻도록 하는 제 1 제조단계(M1)와, 상기 제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)이 제조되어 상기 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)이 더 형성된 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조단계(M2)를 포함하는 광학시스템 제조방법을 예시하고 있다.
상술한 특성들은 수 많은 다른 방식으로 실행될 수 있다. 이를 예시하기 위해, 몇몇 대안들이 간략히 나타내 진다.
제 1 부분과 제 2 부분은 광학시스템의 임의의 체적 또는 표면에 해당할 수 있다.
제 1 부분과 제 2 부분은 예컨대 광학전면과 광학후면에 해당하는 광학시스템의 제 1 면과 제 2 면일 수 있거나, 시스템의 후면부와 전면부에 해당하는 광학시스템의 제 1 체적과 제 2 체적일 수 있다. 광기하학적 특성들은 예컨대 2부분을 정의하는 표면들의 수식 또는 2부분들의 광학 굴절지수 또는 그 임의의 조합일 수 있다.
계산단계(CAL)에서 광학함수(OF) 및 제 1 수식(EF1)으로부터 제 2 수식(EF2)의 계산은 광학 시스템상의 계산 기술에 알려진 임의의 알고리즘에 의해 수행될 수 있다.
앞서 도면을 참조로 상세한 설명에서도 또한 가상 광학시스템(VOS)이 제 1 가상수식(EVF1)에 의해 정의된 제 1 가상부(VF1)와 제 2 가상수식(EVF2)에 의해 정의된 제 2 가상부(VF2)를 포함하고, 상기 제 1 가상수식(EVF1)과 상기 제 2 가상수식(EVF2)에 의해 정의되는 가상함수(VOF)을 생성하는데 사용되는 생성단계(GEN)와, 상기 가상함수(VOF)가 상기 광학함수(OF)를 얻도록 변형되는 변형단계(MOD)들을 더 포함하는 방법을 예시하였다.
변형단계(MOD)는 제한없이 가상광학시스템(VOS)의 오프셋트, 대칭, 평행이동 또는 몰핑과 같은 등거리 변환일 수 있다.
도면을 참조로 한 상기 상세한 설명은 또한 상기 제 1 가상수식(EVF1)이 제 1 변형함수(N1)에 의해 변형되어 제 1 변형수식(EV'F1)을 얻는 수식변형단계를 더 포함하는 방법을 예시하고 있으며, 상기 제 1 수식(EF1)은 실질적으로 상기 제 1 변형수식(EV'F1)과 동일하다.
제 1 변형함수(N1)는 예컨대 암호화함수 또는 노이즈함수일 수 있다. 노이즈 함수는 예컨대 굴절함수 특히 프레즈넬 함수(Fresnel function)와 같은 임의의 불연속적인 함수일 수 있다. 이점적으로, 불연속 함수는 바람직하게는 1mm-1(1/1 밀리미터) 미만인 공간 주파수 컷오프를 갖는다. 노이즈함수는 예컨대 화이트 노이즈(white noise) 함수일 수 있다. 보다 일반적으로 제 1 변형함수(N1)는 광학시스템의 부분들 또는 표면들의 광기하학적 특성들을 변형하도록 구성된 임의의 함수일 수 있다.
상세한 설명은 광학시스템(OS) 제조방법을 또한 예시하며, 여기서 제 2 제조 단계(M2)는 제 2 가상함수(EVF2)가 제 2 변형함수(N2)에 의해 변형되어 제 2 변형수식(EV'F2)을 얻고 광학시스템이 상기 광학함수(OF)에 의해 정의될 수 있도록 제 1 변형함수(N1)와 제 2 변형함수(N2)가 정의되는 제 2 변형서브단계(MS2)와, 상기 반가공 광학시스템(SFOS)의 제 2 부분(F2)이 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되고 상기 제 2 부분(F2)의 제 2 수식(EF2)은 상기 제 2 변형수식(EV'F2)과 실질적으로 동일한 제 2 제조서브단계(MAN2)를 포함한다.
제 2 변형함수(N2)는 예컨대 암호화함수 또는 노이즈함수, 특히 화이트 노이즈함수일 수 있다.
본 명세서에 기술된 함수는 직각좌표계(x,y,z)로 주어져 있으나, 임의의 좌표계가 본 발명에 따른 방법에 사요될 수 있음이 이해된다.
상세한 설명에서, 시스템의 표면 수식들이 변형되었다. 임의의 다른 광기하학적 특성들이 변형될 수 있음을 알아야 한다. 도시된 도 6a 및 도 6b와 같이, 제 2 변형함수(N2)는 변형된 반가공 광학시스템의 부분(P2)에서 광학 굴절지수 n2(x,y,z)의 변형일 수 있다. 이 변형은 도 4b에 점선으로 나타나 있다. 따라서, N2는 OF1 = h(N1(EVF1(x,y), N2(EVF2(x,y,z)))이게 선택되어야 한다. 광학시스템의 광학함수(OF) 또는 광학함수(OF)의 특정부분을 고려하면, 시스템의 광기하학적 특성에 대한 임의의 변형이 표면특성 또는 체적특성에 대해 또한 선택될 수 있다.
더욱이, 상기 예에서, 함수(F)는 광학함수(OF)였다. 그러나, 함수(F)는 또한 이와 같은 광학함수(OF)의 일부일 수 있다. 예컨대, 수식 OF(x,y,z) = MAT(x,y,z) + PRES에 의해 주어진 광학함수(OF)를 갖는 주어진 광학시스템에 대해, 함수(F)는 굴절력 배열과 난시 배열에 의해 정의될 수 있다. 이와 같은 경우에서, 변형함수(N1 및 N2)는 MAT=g(EVF1,EVF2) 및 MAT=g(N1(EVF1), N2(EVF2))이도록 된다. 보다 일반적으로 함수(F)는 광학시스템(OS)을 식별하거나 정의하도록 구성된 임의의 함수일 수 있다.
상세하고 구체적인 경우들로 본 발명을 예시하기 위해 또 다른 예들이 다른 구체적인 적용들에 어떠한 제한없이 주어진다.
예 1
예 1은 렌즈 재료의 굴절지수 변화에 대한 것이다.
1.1 가상광학시스템(VOS)의 정의:
VOS는 (예컨대 0 디옵터의 원시보정을 갖는) ESSILOR 컴파니의 VARILUX COMFORT® 렌즈, 예컨대 +2 디옵터를 갖는 VARILUX COMFORT® 베이스 5.50과 같이 앞쪽 누진면과 뒤쪽 구면을 갖는 누진렌즈이며, 상기 렌즈의 재료는 ORMA®(굴절지수=1.5)로 구성된다.
전면과 후면의 각 위치는 렌즈 두께가 가능한 한 작아지게 하고 렌즈 중심에서의 두께가 1mm 보다 크고 가장자리에서의 두께가 0.3mm 보다 크다. 2면들 간의 프리즘은 +로 인해 원용부분과 근용부 간의 두께 차를 보상해야 하거나, 소정의 프리즘 처방을 얻는데 적합하다.
1.2 가상광학함수(VOF) 생성:
가상의 착용자(VV)가 0 디옵터의 원통형 보정과 0 디옵터의 구면보정으로 +2 디옵터로 처방받는다.
굴절력 및 난시는 주어진 환경에서 시스템 "렌즈" + "눈"에 대한 한 세트의 응시방향(ai,bi)에 대해 계산된다.
상기 광학시스템(OS)에 대해, 가상광학함수는
VOF(OS) = Sum[weight_ast(i)(AST(ai,bi,OS)-AST(ai,bi,VOS))2) + weight_pui(i)(PUT(ai,bi,OS)-PUI(ai,bi,VOS))2]이다.
여기서,
Sum은 i번째 지수에 대한 합이다;
AST(a,b,v)는 응시방향(a,b)에 대한 광학시스템(v)의 난시이다.
PUI(a,b,v)는 광학시스템(v)의 응시방향(a,b)에 대한 굴절력이다.
상기 발명에 잇따라, 실제 착용자(RV)의 렌즈(OS)는 RV 처방을 포함하여 가능한 한 가깝게 되어야 한다.
그런 후, 변형(MOD)이 가해진다.
1.3 가상광학함수(VOF)의 변형(MOD):
MOD(VOF(OS)) = Sum[weight_ast(i)(ASR(ai,bi,OS,Sph,Cyl,Axe) - ASR(ai,bi,VOS))2 + weight_pui(i)(PUI(ai,bi,OS) - Sph) - PUI(ai,bi,VOS))2]
여기서,
ASR(ai,bi,OS,Sph,Cyl,Axe)은 실제 착용자(RW)에 대해 그리고 이 구면처방(Sph), 착용자의 원통형 처방(Cyl) 착용자의 축처방(Axe)을 고려하는 경우 렌즈(OS)의 최종발생한 비점수차이다.
따라서, 렌즈(OS)와 실제 착용자(RV) 난시 간에 벡터 차가 있다.
1.4 렌즈(OS)의 정의:
OS의 특성은 예컨대:
VARILUX COMFORT®의 베이스가 5.50이고 +2 디옵터인 누진전면;
계산단계(CAL)에서 결정되는 후면;
재료의 굴절지수 = 1.8;
두께가 가능한 한 작고, 중심 두께는 1mm 보다 크며, 가장자리 두께는 0.3mm 보다 큰 렌즈; 두 면 사이의 프리즘은 +로 인해 원용부분과 근용부 간의 두께 차를 보상해야 하거나, 소정의 프리즘 처방을 얻는데 적합하다.
전면은 VOS 중 하나와 같을 수 있다. 굴절지수 변형에 의한 변형이 후면에 나타나게 된다.
전면은 VOS의 한 면과는 다를 수 있고, 실제 굴절지수에 적용될 수 있다. 상기 전면이 결과적으로 계산되어 진다:
제 1 부분은 전면과, 렌즈 재료와 전면 및 후면의 상대위치로 구성된다.
제 2 부분은 후면으로 구성된다.
제 1 수식(EF1)은 전면수식과, 굴절지수와, 전면과 후면 사이에 위치변화의 4×4 어레이로 구성되며, 제 2 수식(EF2)은 후면수식으로 구성된다.
전면과 후면 수식은 예컨대 제니케 다항식(Zenike polynomes), 비 스플라인(B-Splines) 함수, NURBS 함수와 같은 2차원 다항식 함수를 이용하여 표현될 수 있다.
1.5 계산단계(CAL):
MOD(VOF(OS))를 최소화하기 위해 후면 파라미터를 결정하는 단계
곡면 파라미터는 예컨대 원용부분과 근용부의 소정 영역에 집중될 수 있다.
따라서 예 1은 가상 광학시스템(VOS)으로부터 상기 가상 광학시스템(VOS)의 광학적 성질과 실질적으로 동일한 광학적 성질을 가지나 굴절률이 다른 광학시스템(OS)을 제조할 수 있음을 나타낸다.
예 2
예 2는 렌즈 누진면의 디자인 변형에 관한 것이다.
2.1 가상 광학시스템(VOS)의 정의:
특성들은 예컨대 다음과 같다:
예를 들어, 그 디자인으로 VARILUX COMFORT?의 베이스가 5.50이고 +2 디옵터인 누진전면;
0 디옵터 원용부 보정을 갖는 구형후면;
ORMA® 재료(굴절지수 1.5);
두께가 가능한 한 작고, 중심 두께는 1mm 보다 크며, 가장자리 두께는 0.3mm 보다 큰 렌즈의 전면과 후면의 각 위치. 두 면 사이의 프리즘은 +로 인해 원용부분과 근용부 간의 두께 차를 보상해야 하거나, 소정의 프리즘 처방을 얻는데 적합하다.
2.2 가상광학함수(VOF) 생성:
가상의 착용자는 예컨대
Sph = 0 디옵터;
Cyl = 0 디옵터; 및
Add = 2.0 디옵터 처방을 가지며
그런 후, 동일한 가상광학함수(VOF)가 상기 1.2를 수행한다.
2.3 가상광학함수(VOF)의 변형(MOD):
그런 후 동일한 단계가 상기 1.3을 수행한다.
2.4 렌즈(OS)의 정의:
예컨대 ESSILOR 컴퍼니의 VARILUX® PANAMIC®의 베이스가 5.50이고 +2 디옵터인 가상 디자인과 다른 디자인을 갖는 누진전면;
계산단계(CAL)에서 결정되는 후면;
굴절지수 = 1.5(ORMA® 재료);
두께가 가능한 한 작고, 중심 두께는 1mm 보다 크며, 가장자리 두께는 0.3mm 보다 큰 렌즈. 두 면 사이의 프리즘은 +로 인해 원용부분과 근용부 간의 두께 차를 보상해야 하거나, 소정의 프리즘 처방을 얻는데 적합하다.
제 1 부분(F1)은 전면과, 렌즈 재료와 전면 및 후면의 상대위치로 구성된다.
제 2 부분(F2)은 후면으로 구성된다.
제 1 수식(EF1)은 전면수식과, 굴절지수와, 전면과 후면 사이에 위치변화의 4×4 어레이로 구성된다.
제 2 수식(EF2)은 후면수식으로 구성된다.
전면과 후면 수식은 예컨대 제니케 다항식(Zenike polynomes), 비스플라인(B-Splines) 함수, NURBS 함수와 같은 2차원 다항식 함수를 이용하여 표현될 수 있다.
2.5 계산단계(CLA):
동일한 계산단계가 상기 1.5를 수행한다.
예 2는 다른 디자인을 갖는 부분(F1)을 포함하는 반가공 광학시스템(SFOS)으로부터 특정 디자인을 갖는 광학시스템(OS)을 제조할 수 있음을 나타내며, 상기 광학시스템(OS)은 실질적으로 가상 광학시스템(VOS)의 광학적 특성과 동일한 광학적 특성을 갖는다.
상기 언급한 설명에서, 광학시스템(OS)은 누진굴절력렌즈였다. 이는 임의의 타입의 광학시스템, 예컨대, 렌즈 또는 다초점 렌즈일 수 있음을 알아야 한다. 광 학시스템은 또한 임의의 집광장치 또는 광분기 장치일 수 있다. 광학시스템은 또한 예컨대 파라핀 왁스로 제조된 마이크로파 렌즈와 같이 다른 타입의 전자기복사와 함께 사용되는 어떤 유사장치일 수 있다. 광학시스템은 또한 단안경, 쌍안경, 망원경, 단안망원경(spotting scope), 망원 가늠자(telescoping gunsight), 현미경 및 카메라(사진렌즈)와 같은 이미징 시스템의 일부일 수 있다.
광학시스템은 또한 전자기복사를 컬렉터 안테나(collector antenna)로 굴절시키는 전파 천문학 및 무선 시스템용 유전체 렌즈일 수 있다.
본 명세서에서 앞서 한 언급들은 도면을 참조로 한 상세한 설명이 본 발명을 제한하기 보다는 예시한 것을 분명히 나타낸다. 청구의 범위내 있는 많은 대안들이 있다. 청구의 범위에서 임의의 참조부호는 청구의 범위를 제한하는 것으로 해석하지 않아야 한다. 용어 "구비하는"은 청구의 범위에 나열된 요소들 또는 단계들과는 다른 요소들 또는 단계들이 있음을 배제하지 않는다. 요소 또는 단계의 "어느 한" 또는 "어떤 한" 처리는 복수의 이와 가은 요소들 또는 단계들이 있음을 배제하지 않는다.
본 발명의 상세한 설명에 포함됨.

Claims (19)

  1. 광학함수(OF)에 의해 식별되며, 좌표 x, y, z로 정의되는 공간 위치에서 제 1 부분(F1)의 광기하학적 특성을 정의하는 제 1 수식(EF1(x, y, z))에 의해 정의된 제 1 부분(F1) 및 제 2 부분(F2)의 광기하학적 특성을 정의하는 제 2 수식(EF2(x, y, z))에 의해 정의되는 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS)을 계산하는 방법으로서,
    가상함수(VOF)를 생성하기 위하여 가상 광학시스템(VOS)이 사용되는 생성단계(GEN)와,
    상기 광학함수(OF)를 얻도록 상기 가상함수(VOF)가 변형되는 변형단계(MOD)와,
    상기 광학함수(OF) 및 상기 제 1 수식(EF1)으로부터 상기 제 2 수식(EF2)이 계산되는 계산단계(CAL)를 포함하고,
    상기 제 1 부분(F1)과 상기 제 2 부분(F2)은 상기 광학시스템의 체적 또는 표면이며,
    상기 광학시스템(OS)의 광학함수(OF)는 상기 광학시스템(OS)의 광기하학적 특성의 함수(h)로 정의되고, OF=h(EF1(x,y,z), EF2(x,y,z))로 정의되는, 광학시스템 계산방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    가상 광학시스템(VOS)은 제 1 가상수식(EVF1)에 의해 정의된 제 1 가상부(VF1)와 제 2 가상수식(EVF2)에 의해 정의된 제 2 가상부(VF2)를 구비하고, 제 1 가상수식(EVF1)과 제 2 가상수식(EVF2)이 가상함수(VOF)를 정의하는 광학시스템 계산방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    가상함수(VOF)는 광학함수(OF)와 동일한 광학시스템 계산방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 생성단계는 데이터베이스 내에서 제 1 가상수식(EVF1)을 선택하는 단계를 포함하는 광학시스템 계산방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    제 1 가상수식(EVF1)이 제 1 변형함수(N1)를 이용해 제 1 변형수식(EV'F1)을 얻게 하는 수식변형단계를 더 포함하고, 제 1 수식(EF1)은 제 1 변형수식(EV'F1)과 동일한 광학시스템 계산방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    제 1 가상부(VF1)는 가상 광학시스템(VOS)의 제 1 체적을 포함하고, 제 1 가상수식은 제 1 체적의 광기하학적 특성에 따르며, 제 1 변형함수(N1)는 광기하학적 특성 중 적어도 하나를 변형시키는 광학시스템 계산방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    광기하학적 특성은 표면 수식과 체적의 광학적 굴절지수들 중에서 선택된 적어도 하나의 특성을 포함하는 광학시스템 계산방법.
  8. 제 2 항에 있어서,
    제 1 가상부(VF1)는 제 1 가상면이고 제 2 가상부(VF2)는 제 2 가상면인 광학시스템 계산방법.
  9. 제 5 항에 있어서,
    제 1 가상부(VF1)는 제 1 가상면이고 제 2 가상부(VF2)는 제 2 가상면이며, 상기 광학함수(OF)는 제 1 가상면 및 제 2 가상면의 수식 차에 따르고, 제 2 면 변형함수(N2)는 제 1 면 변형함수(N1)와 동일한 광학시스템 계산방법.
  10. 삭제
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 시스템(OS)은 누진굴절력렌즈인 광학시스템 계산방법.
  12. 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS) 제조방법으로서,
    제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF) 및 제 1 수식(EF1)으로부터 계산되는 제 1 항 내지 제 9 항 및 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 생성단계(GEN), 변형단계(MOD), 계산단계(CAL)와,
    상기 제 1 부분(F1)을 구비하는 반가공 광학시스템(SOS)을 구비한 반가공 광학시스템(MSFOS)에 제공하는 단계와,
    상기 반가공 광학 시스템(MSFOS)이 상기 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부(F2)에 또한 형성되어 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제조단계(M2)를 포함하는 광학시스템 제조방법.
  13. 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS) 제조방법으로서,
    제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF) 및 제 1 수식(EF1)으로부터 계산되는 제 1 항 내지 제 9 항 및 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 생성단계(GEN), 변형단계(MOD), 계산단계(CAL)와,
    제조된 반가공 광학 시스템(MSFOS)을 얻도록 상기 제 1 부분(F1)을 구비하는 반가공 광학시스템(SOS)이 제조되는 제 1 제조단계(M1)와,
    상기 제조된 반가공 광학 시스템(MSFOS)이, 상기 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)이 또한 형성되어 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조단계(M2)를 포함하는 광학시스템 제조방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    제 1 가상수식(EVF1)이 제 1 변형함수(N1)를 이용해 제 1 수식(EF1)과 동일한 제 1 변형수식(EV'F1)을 얻게 하는 수식변형단계를 더 포함하고,
    상기 제 2 제조단계(M2)는
    제 2 가상수식(EFV2)이 제 2 변형함수(N2)에 의해 변형되어 제 2 변형수식(EV'F2)를 얻는 제 2 변형서브단계(MS2)와,
    반가공 광학시스템(SFOS)의 제 2 부분(F2)이 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조서브단계(MAN2)를 포함하고,
    제 1 변형함수(N1)와 제 2 변형함수(N2)는 광학시스템이 광학함수(OF)에 의해 식별될 수 있는 식으로 정의되며, 제 2 부분(F2)의 제 2 수식(EF2)은 제 2 변형수식(EV'F2)과 동일한 광학시스템 제조방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    제 2 가상부(VF2)는 가상 광학시스템(VOS)의 제 2 체적을 포함하고, 제 2 수식은 제 2 체적의 광기하학적 특징에 따르며, 제 2 변형함수(N2)는 광기하학적 특징 중 적어도 하나를 변형하는 광학시스템 제조방법.
  16. 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)인 두 부분을 구비하고, 광학함수(OF)에 의해 식별되며, 제 12 항에 따른 방법으로 제조되는 광학시스템.
  17. 제 13 항의 제 1 제조단계(M1)에 따라 제조되고 제 13 항에 따른 제 2 제조단계(M2)에 의해 변형되도록 한 반가공 광학시스템(MSFOS).
  18. 광학함수(OF)에 의해 식별되고, 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)과 제 2 수식(EF2)에 의해 정의된 제 2 부분(F2)을 포함하는 광학시스템(OS)을 제조방법으로서,
    제 2 수식(EF2)이 상기 광학함수(OF) 및 제 1 수식(EF1)으로부터 계산되는 제 1 항 내지 제 9 항 및 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 생성단계(GEN), 변형단계(MOD), 계산단계(CAL)와,
    제조된 반가공 광학시스템(MSFOS)을 얻도록 상기 제 2 부분(F2)을 구비하는 반가공 광학시스템(SFOS)이 제조되는 제 1 제조단계(M1)와,
    상기 제조된 반가공 광학 시스템(MSFOS)이, 상기 제 1 수식(EF1)에 의해 정의된 제 1 부분(F1)이 또한 형성되어 상기 광학시스템(OS)을 얻도록 제조되는 제 2 제조단계(M2)를 포함하는 광학시스템 제조방법.
  19. 데이터 처리장치에 로드될 때, 상기 데이터 처리장치가 제 1 항 내지 제 9 항 및 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 방법의 단계들 중 적어도 하나를 수행하도록 하는 명령어 세트를 포함하는 데이터 처리장치용 컴퓨터 프로그램 제품.
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