KR101288210B1 - Apparatus for supplying raw material - Google Patents

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KR101288210B1 KR1020110073519A KR20110073519A KR101288210B1 KR 101288210 B1 KR101288210 B1 KR 101288210B1 KR 1020110073519 A KR1020110073519 A KR 1020110073519A KR 20110073519 A KR20110073519 A KR 20110073519A KR 101288210 B1 KR101288210 B1 KR 101288210B1
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Abstract

본 발명은 분말 형태의 고체 원료가 뭉치지 않고 고르게 토출될 수 있는 원료 공급 장치에 관한 것이다.
이를 위해 본 발명의 실시예에 따른 원료 공급 장치는, 내부에 분말 형태의 원료가 투입되며, 하단에 원료가 외부로 토출되기 위한 구멍이 형성된 호퍼; 상기 호퍼의 내부에 체결되어 상기 원료를 지지하며 상기 원료가 수용되는 공간을 형성하는 판 형태의 토출부; 및 상기 원료가 수용되는 공간 내에 배치되어 상기 원료를 교반하는 임펠러;를 포함하며, 상기 토출부는, 상기 토출부의 내부를 가로지르는 형태로 길게 형성되는 토출 영역 내에 배치되고, 상기 원료를 상기 토출부의 하부로 토출하는 다수의 토출구를 구비할 수 있다.The present invention relates to a raw material supply device that can be evenly discharged without agglomeration of the solid raw material in powder form.
To this end, the raw material supply apparatus according to an embodiment of the present invention, the raw material in the form of powder is injected therein, a hopper having a hole for discharging the raw material to the outside; A discharge portion formed in a plate shape which is fastened in the hopper to support the raw material and forms a space in which the raw material is accommodated; And an impeller disposed in a space in which the raw material is accommodated to stir the raw material, wherein the discharge part is disposed in a discharge area elongated in a shape that crosses the inside of the discharge part, and the raw material is disposed below the discharge part. It may be provided with a plurality of discharge ports for discharging to.

Description

원료 공급 장치{APPARATUS FOR SUPPLYING RAW MATERIAL} Raw material feeder {APPARATUS FOR SUPPLYING RAW MATERIAL}

본 발명은 원료 공급 장치에 관한 것으로 특히 분말 형태의 고체 원료가 뭉치지 않고 고르게 토출될 수 있는 원료 공급 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a raw material supply device, and more particularly to a raw material supply device that can be evenly discharged without agglomeration of the solid raw material in powder form.

최근 전기 전자 제품의 소형화, 경량화 및 다기능화가 급속히 진행되면서 이에 사용되는 적층 세라믹 전자부품, 특히 다층 세라믹 커패시터(Multilayer Ceramic Capacitor, 이하, MLCC)도 소형화 및 고용량화 되고 있다.Recently, as miniaturization, weight reduction, and multifunctionalization of electric and electronic products are rapidly progressing, multilayer ceramic electronic components, especially multilayer ceramic capacitors (MLCCs), which are used therein, have also become smaller and higher in capacity.

일반적으로 MLCC를 형성하는 세라믹층은 유전체 분말을 주성분으로 하여, 이에 유리 분말을 포함한 여러 가지 첨가제 산화물 분말들을 유기 용제와 함께 고르게 혼합하여 슬러리를 제작한 후, 이 슬러리를 이용하여 시트(sheet) 형태로 제작된다. In general, the ceramic layer forming the MLCC has a dielectric powder as a main component, and various additive oxide powders including glass powder are evenly mixed with an organic solvent to prepare a slurry, and then the slurry is used to form a sheet. Is produced by.

한편, 소형/초고용량의 MLCC를 제조하기 위해서는 초박층의 유전체를 수백층 이상 적층해야 하므로, 유전체 분말 및 각종 첨가제 분말의 미립화가 필수적이며, 더불어 세라믹층에 투입되는 유리 분말 또한 수십 nm급의 유리(즉, nano glass)가 이용되고 있다. Meanwhile, in order to manufacture a small / ultra high-capacity MLCC, it is necessary to laminate hundreds of layers of ultra-thin dielectrics, and thus, atomization of dielectric powder and various additive powders is essential. (Ie, nano glass) is used.

일반적으로 유리 분말의 경우, 기계적 분쇄법으로 미립화 처리를 하고 있으나, 그 분쇄한계가 약 0.5㎛ 수준에 불과하여 초박층 초고용량 MLCC용으로 사용이 어려운 실정이다. 따라서 수십 nm급의 유리를 합성하기 위해서는, 수㎛ 크기로 분쇄한 유리 분말을 추가로 기상 처리(기화 및 응축)를 하기도 한다. In general, in the case of glass powder, the atomization treatment by the mechanical grinding method, but the grinding limit is only about 0.5㎛ level, it is difficult to use for ultra thin layer ultra high capacity MLCC. Therefore, in order to synthesize several tens of nm grade glass, the glass powder ground to several micrometers may be further vapor-treated (vaporization and condensation).

그런데 상기와 같은 방법으로 양질의 수십 nm급 유리 분말을 합성하기 위해서는, 가급적 작은 크기의 원료를 투입해야 하며, 고온 반응부(기상 처리를 위한)로의 원료 투입 또한 가급적 정속으로 균일하게 유지되어야 한다. 그러나 투입 원료용 유리 분말의 크기가 작아짐에 따라, 원료 투입시 유리 분말이 고르게 분말 형태를 유지하지 않고, 서로 뭉치며 덩어리를 이루는 문제가 발생되고 있다.However, in order to synthesize high quality tens of nm glass powders in the same manner as described above, raw materials having a small size should be added as much as possible, and raw materials should be uniformly maintained at a constant speed as much as possible. However, as the size of the glass powder for the input material is smaller, there is a problem that the glass powder does not evenly maintain the powder form during the input of the raw material, but agglomerates and forms a lump.

특히 종래의 경우, 유리 분말이 덩어리를 이루게 되면 상기 덩어리가 유리 분말 공급 장치의 토출로를 막아버리는 장애물로 작용하여, 유리 분말의 공급이 원활하게 이루어지지 않는 문제가 발생되고 있다. 그리고 이러한 문제는 나노 유리 합성시 수율의 저하 문제로 확대되고 있다. In particular, in the conventional case, when the glass powder forms a lump, the lump acts as an obstacle that blocks the discharge path of the glass powder supplying device, and thus a problem that the supply of the glass powder does not occur smoothly occurs. And this problem is expanding to the problem of lowering the yield of nano glass synthesis.

일본특허공개공보 특개2009-120413호Japanese Patent Laid-Open No. 2009-120413

따라서, 본 발명의 목적은 분말 형태의 고체 원료가 뭉치지 않고 고르게 토출될 수 있는 원료 공급 장치를 제공하는 데에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a raw material supply device that can be evenly discharged without agglomeration of solid raw materials in powder form.

본 발명의 실시예에 따른 원료 공급 장치는, 내부에 분말 형태의 원료가 투입되며, 하단에 원료가 외부로 토출되기 위한 구멍이 형성된 호퍼; 상기 호퍼의 내부에 체결되어 상기 원료를 지지하며 상기 원료가 수용되는 공간을 형성하는 판 형태의 토출부; 및 상기 원료가 수용되는 공간 내에 배치되어 상기 원료를 교반하는 임펠러;를 포함하며, 상기 토출부는, 상기 토출부의 내부를 가로지르는 형태로 길게 형성되는 토출 영역 내에 배치되고, 상기 원료를 상기 토출부의 하부로 토출하는 다수의 토출구를 구비할 수 있다. Raw material supply apparatus according to an embodiment of the present invention, the raw material in the form of powder is injected therein, a hopper having a hole for discharging the raw material to the outside at the bottom; A discharge portion formed in a plate shape which is fastened in the hopper to support the raw material and forms a space in which the raw material is accommodated; And an impeller disposed in a space in which the raw material is accommodated to stir the raw material, wherein the discharge part is disposed in a discharge area elongated in a shape that crosses the inside of the discharge part, and the raw material is disposed below the discharge part. It may be provided with a plurality of discharge ports for discharging to.

본 실시예에 있어서 상기 토출 영역은, 상기 토출부의 중심을 가로지르며 형성될 수 있다. In the present embodiment, the discharge area may be formed to cross the center of the discharge part.

본 실시예에 있어서 상기 토출 영역은, 상기 호퍼의 하단에 형성된 구멍의 직경에 대응하는 폭으로 형성될 수 있다. In the present embodiment, the discharge area may be formed in a width corresponding to the diameter of the hole formed in the lower end of the hopper.

본 실시예에 있어서 상기 토출부는, 상기 토출 영역 전체에 균일하게 상기 토출구들이 분산 배치될 수 있다. In the present embodiment, the discharge portion, the discharge port may be evenly distributed throughout the discharge area.

본 실시예에 있어서 상기 토출부는, 상기 토출 영역의 중심부로 갈수록 상기 토출구의 밀도가 커지도록 형성될 수 있다. In the present embodiment, the discharge portion may be formed such that the density of the discharge port increases as the center of the discharge area.

본 실시예에 있어서 상기 토출부는, 상기 토출 영역 중심부에서 주변으로 갈수록 상기 토출구들 사이의 간격이 크게 형성될 수 있다. In the present embodiment, the discharge portion, the interval between the discharge port may be formed larger toward the periphery of the discharge area.

본 실시예에 있어서 상기 토출구는, 상기 토출 영역의 길이 방향을 따라 적어도 하나의 열을 형성하며 배치될 수 있다 .In the present embodiment, the discharge port may be arranged to form at least one row along the length direction of the discharge area.

본 실시예에 있어서 상기 호퍼의 하단에 형성된 구멍은, 상기 토출 영역에 대응하는 형상으로 형성될 수 있다. In this embodiment, the hole formed in the lower end of the hopper may be formed in a shape corresponding to the discharge area.

본 실시예에 있어서, 상기 토출부의 하부에 체결되고, 상기 호퍼 하단의 구멍을 향하여 가스를 분사하는 가스 주입부를 더 포함할 수 있다. In the present exemplary embodiment, the gas injection unit may further include a gas injection unit which is fastened to the lower portion of the discharge unit and injects gas toward the hole of the lower end of the hopper.

본 발명에 따르면, 토출부의 전체 영역이 아닌, 토출 영역에만 토출구가 형성된다. 또한 토출 영역은 호퍼 하단의 구멍과 대응하는 크기의 폭으로 형성된다. According to the present invention, the discharge port is formed only in the discharge region, not in the entire region of the discharge portion. In addition, the discharge area is formed with a width of a size corresponding to the hole at the bottom of the hopper.

이에, 토출구를 통해 토출되는 원료는 대부분 호퍼의 내벽으로 낙하하지 않고, 호퍼의 외부로 곧바로 토출되므로, 원료가 호퍼의 내벽에 낙하함에 따라 분말이 뭉쳐지는 것을 최소화할 수 있다.Therefore, since most of the raw material discharged through the discharge port does not fall to the inner wall of the hopper, but is discharged directly to the outside of the hopper, powder may be minimized as the raw material falls on the inner wall of the hopper.

따라서, 분말이 뭉쳐진 덩어리가 아닌, 고른 분말 형태로 원료를 공급할 수 있으므로, 장시간 지속적으로 원료의 원활한 공급이 가능하다. 이에 수율을 높일 수 있다. Therefore, the raw material can be supplied in the form of an even powder, rather than agglomerated powder, it is possible to smoothly supply the raw material continuously for a long time. This can increase the yield.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 원료 공급 장치를 개략적으로 도시한 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 원료 공급 장치를 부분적으로 절단하여 도시한 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 원료 공급 장치를 도시한 정면도
도 4는 본 실시예에 따른 토출부를 개략적으로 도시한 평면도.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 원료 공급 장치를 개략적으로 도시한 사시도.1 is a perspective view schematically showing a raw material supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view partially cut and showing the raw material supply device shown in FIG. 1; FIG.
3 is a front view showing the raw material supply device shown in FIG.
4 is a plan view schematically showing a discharge unit according to the present embodiment;
5 to 7 is a perspective view schematically showing a raw material supply apparatus according to other embodiments of the present invention.

본 발명의 상세한 설명에 앞서, 이하에서 설명되는 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시예에 불과할 뿐, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Before describing the present invention in detail, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings described below are only the most preferred embodiments of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are described. It should be understood that there may be various equivalents and variations that may be substituted at the time of filing.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 원료 공급 장치를 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 원료 공급 장치를 부분적으로 절단하여 도시한 사시도이며, 도 3은 도 2에 도시된 원료 공급 장치를 도시한 정면도이다. 또한 도 4는 본 실시예에 따른 토출부를 개략적으로 도시한 평면도이다.1 is a perspective view schematically showing a raw material supply device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a perspective view showing a partially cut raw material supply device shown in Figure 1, Figure 3 is shown in Figure 2 It is a front view which shows a raw material supply apparatus. 4 is a plan view schematically showing the discharge unit according to the present embodiment.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 원료 공급 장치(100)는 크게 호퍼(10), 임펠러(20), 토출부(30) 및 가스 주입부(40)를 포함하여 구성된다. 1 to 4, the raw material supply device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a hopper 10, an impeller 20, a discharge part 30, and a gas injection part 40. do.

호퍼(hopper, 10)는 원통형으로 구성될 수 있다. 특히, 호퍼(10)는 하단이 개방될 수 있으며, 하단으로 갈수록 점차 그 단면이 작아지는 형상으로 이루어질 수 있다. 따라서, 호퍼(10)의 하단에 형성되는 구멍(12)은 상단에 형성되는 구멍(미도시)에 비해 그 직경 또는 단면적이 작게 형성될 수 있다. The hopper 10 may be configured in a cylindrical shape. In particular, the hopper 10 may be open at the bottom, it may be made in a shape that the cross-section is gradually smaller toward the bottom. Accordingly, the hole 12 formed at the lower end of the hopper 10 may have a smaller diameter or cross-sectional area than the hole (not shown) formed at the upper end.

호퍼(10)의 상단은 원료가 투입되는 부분으로, 이에 따라 원료의 투입 방식에 대응하여 적합한 형태로 형성될 수 있다. 예를 들어 개방된 형태로 형성될 수 있으며, 밀폐된 형태에 원료 투입을 위한 파이프 등이 연결되는 형태로 형성되는 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. The upper end of the hopper 10 is a portion into which the raw material is input, and thus may be formed in a suitable form corresponding to the input method of the raw material. For example, it may be formed in an open form, it may be formed in a variety of forms, such as formed in a form that is connected to the pipe for the raw material input to the sealed form.

이러한 호퍼(10)는 상단을 통해 원료가 호퍼(10)의 내부로 투입되고, 개방된 하단를 통해 원료가 호퍼(10)의 외부로 토출된다. The hopper 10 is the raw material is introduced into the hopper 10 through the upper end, the raw material is discharged to the outside of the hopper 10 through the open lower end.

한편, 본 실시예에 따른 호퍼(10)는 하단에 형성되는 구멍(12)의 직경(R)이, 후술되는 토출 영역(32)이 형성하는 전체 폭(W)과 대응하는 크기로 형성될 수 있다. 이에 대해서는 토출구(34)에 대한 설명에서 보다 상세히 살펴보기로 한다. Meanwhile, in the hopper 10 according to the present exemplary embodiment, the diameter R of the hole 12 formed at the bottom thereof may be formed to have a size corresponding to the total width W formed by the discharge region 32 described later. have. This will be described in more detail in the description of the discharge hole 34.

임펠러(impeller, 20)는 호퍼(10) 내부에 투입된 원료가 분말 형태를 유지하도록 회전력을 이용하여 덩어리진 원료들을 분말 형태로 분쇄한다. 또한 임펠러(20)는 지속적은 회전을 통해 호퍼(10) 내부에 투입된 원료를 일정 방향(즉 회전 방향)으로 이동시킨다. 이로 인해 호퍼(10) 내부의 원료는 후술되는 토출부(30)를 통과하며 외부로 토출될 수 있다.The impeller 20 grinds the agglomerated raw materials into powder form by using a rotational force so that the raw materials introduced into the hopper 10 maintain the powder form. In addition, the impeller 20 continuously moves the raw material introduced into the hopper 10 through the rotation in a predetermined direction (that is, the rotation direction). As a result, the raw material inside the hopper 10 may be discharged to the outside passing through the discharge unit 30 to be described later.

이를 위해, 본 실시예에 따른 임펠러(20)는 구동부(도시되지 않음, 예컨대 모터)에 연결되어 회전하는 회전축(24)과, 회전축(24)에 연결되는 회전날(22)을 포함할 수 있다. To this end, the impeller 20 according to the present embodiment may include a rotary shaft 24 connected to the driving unit (not shown, for example, a motor) to rotate, and a rotary blade 22 connected to the rotary shaft 24. .

토출부(30)는 다수의 구멍(12) 즉 토출구(34)가 형성된 판 형태로 형성될 수 있다. 토출부(30)는 호퍼(10)의 내부에 고정 체결되어 호퍼(10)의 내부 공간을 구획한다. The discharge part 30 may be formed in a plate shape in which a plurality of holes 12, that is, discharge holes 34 are formed. The discharge part 30 is fixedly fastened inside the hopper 10 to partition the internal space of the hopper 10.

보다 구체적으로, 토출부(30)는 호퍼(10) 내부에서, 원료가 수용되는 공간의 바닥면을 형성한다. 그리고 토출구(34)를 통해 원료를 분말 형태로 호퍼(10)의 하부로 토출한다. More specifically, the discharge part 30 forms the bottom surface of the space in which the raw material is accommodated in the hopper 10. And the raw material is discharged to the lower part of the hopper 10 in powder form through the discharge port 34.

이러한 본 실시예에 따른 토출부(30)는 호퍼(10)의 형상에 대응하여 원반 형태로 형성될 수 있다. The discharge part 30 according to the present embodiment may be formed in a disk shape corresponding to the shape of the hopper 10.

또한, 본 실시예에 따른 토출부(30)는 토출 영역(32) 내에 토출구(34)들이 배치된다. In addition, in the discharge part 30 according to the present exemplary embodiment, discharge holes 34 are disposed in the discharge area 32.

토출 영역(32)은 원반 형태로 형성되는 토출부(30)의 내부를 가로지르는 형태로 형성될 수 있다.The discharge area 32 may be formed to cross the inside of the discharge part 30 formed in a disk shape.

특히, 토출 영역(32)은 토출부(30)의 중심부를 가로지르며 형성될 수 있다. 또한, 토출 영역(32)은 호퍼(10) 하단에 형성된 구멍(12)의 직경에 대응하는 폭으로 형성될 수 있다. 이에 따라 토출 영역(32)에 형성된 토출구(34)를 통해 토출되는 분말 형태의 원료들은 대부분 호퍼(10) 하단의 구멍(12)을 통해 호퍼(10)의 외부로 직접 토출될 수 있다.In particular, the discharge region 32 may be formed to cross the central portion of the discharge unit 30. In addition, the discharge area 32 may be formed to have a width corresponding to the diameter of the hole 12 formed at the bottom of the hopper 10. Accordingly, the raw material in the form of powder discharged through the discharge hole 34 formed in the discharge area 32 may be discharged directly to the outside of the hopper 10 through the hole 12 at the bottom of the hopper 10.

토출구(34)는 토출 영역(32) 내에서 다수 개가 자유롭게 배치되며 형성될 수 있다. 예를 들어 토출구(34)는 토출 영역(32) 내에서 직선 형태로 의 열(列)을 이루며 형성될 수 있다. A plurality of discharge holes 34 may be freely disposed in the discharge area 32. For example, the discharge holes 34 may be formed in a straight line in the discharge area 32.

또한, 본 실시예에 따른 토출구(34)는 다수의 열로 형성될 수 있다. 이 경우, 토출구(34)가 형성하는 다수의 열들은 도 4에 도시된 바와 같이, 토출부(30)의 직경을 따라 형성된 열을 중심으로 대칭되는 형태로 배치될 수 있다. 또한, 토출구(34)가 다수의 열을 형성되는 경우, 각각의 열들은 일정한 간격으로 이격되도록 배치될 수 있다. In addition, the discharge hole 34 according to the present embodiment may be formed in a plurality of rows. In this case, the plurality of rows formed by the discharge port 34 may be arranged in a symmetrical form with respect to the row formed along the diameter of the discharge unit 30 as shown in FIG. 4. In addition, when the discharge holes 34 form a plurality of rows, the respective rows may be arranged to be spaced at regular intervals.

본 실시예의 경우, 토출 영역(32) 내에서 3개의 열을 형성하며 토출구(34)가 배치되는 경우를 예로 들고 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 토출부(30)의 크기나, 토출구(34)의 크기 등에 따라 다양한 개수의 토출구(34)가 다양한 개수의 열을 형성하도록 구비될 수 있다. 즉, 토출구(34)는 토출 영역(32) 전체에 걸쳐 균일하게 분산되어 배치될 수 있으며, 어느 한 부분(예컨대 중심부)으로 갈수록 밀도가 주변보다 더 크게 형성될 수도 있다. In the case of this embodiment, the case where the discharge opening 34 is arrange | positioned forming three rows in the discharge area | region 32 is taken as an example. However, the present invention is not limited thereto, and various numbers of the discharge holes 34 may be provided to form various numbers of rows according to the size of the discharge part 30, the size of the discharge hole 34, and the like. In other words, the discharge holes 34 may be uniformly distributed over the entire discharge area 32, and may have a greater density than the periphery toward one portion (for example, a central portion).

가스 주입부(40)는 토출부(30)의 하부에 배치되며, 호퍼(10) 하단의 구멍(12)을 향하여 가스를 분사하도록 구성될 수 있다. 가스 주입부(40)에서 분사되는 가스는 토출구(34)에서 토출되는 분말 형태의 원료를 호퍼(10)의 외부로 이송시키는 데에 이용된다. The gas injection unit 40 may be disposed below the discharge unit 30 and configured to inject gas toward the hole 12 at the bottom of the hopper 10. The gas injected from the gas injection part 40 is used to transfer the raw material in the form of powder discharged from the discharge port 34 to the outside of the hopper 10.

따라서, 호퍼(10)의 하단에 관 형태로 형성되는 이송로(50)의 일단이 체결되는 경우, 가스 주입부(40)에서 분사되는 가스는 이송로(50)를 통해 분말 형태의 원료를 이송로(50)의 타단(도시되지 않음)으로 이송하며 외부(또는 분말 혼합 장치 등)로 공급하게 된다.
Therefore, when one end of the transfer path 50 formed in the tubular shape at the lower end of the hopper 10 is fastened, the gas injected from the gas injection unit 40 transfers the raw material in powder form through the transfer path 50. It is transferred to the other end (not shown) of the furnace 50 and supplied to the outside (or powder mixing device, etc.).

이하에서는 본 실시예에 따른 원료 공급 장치(100)의 작동을 설명하기로 한다. Hereinafter, the operation of the raw material supply apparatus 100 according to the present embodiment will be described.

원료가 호퍼(10)의 내부로 투입되면, 임펠러(20)가 회전하며 투입된 원료를 지속적으로 교반한다. 이에 따라, 호퍼(10)의 내부에 투입된 분말 형태의 원료는 서로 뭉치며 응고되지 않고 지속적으로 분말 상태를 유지하게 된다. When the raw material is introduced into the hopper 10, the impeller 20 rotates to continuously stir the injected raw material. Accordingly, the raw materials in the form of powder injected into the hopper 10 are continuously agglomerated and do not solidify to maintain the powder state.

본 실시예에 있어서, 호퍼(10)에 투입되는 분말 상태의 원료는 나노(nano) 수준의 유리(glass) 분말일 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. In the present embodiment, the raw material of the powder state to be injected into the hopper 10 may be a glass powder of nano (nano) level. However, the present invention is not limited thereto.

상기의 과정에서, 임펠러(20)는 회전날(22)이 회전하면서, 회전 방향을 따라 원료를 이동시킨다. 그리고 이동되는 원료는 토출구(34)를 통해 토출부(30)의 하부로 토출된다. In the above process, the impeller 20 moves the raw material along the rotation direction while the rotary blade 22 rotates. And the raw material to be moved is discharged to the lower portion of the discharge unit 30 through the discharge port (34).

그리고 토출된 분말 상태의 원료는 가스 주입부(40)에서 분사되는 가스에 의해 호퍼(10)의 외부로 토출되며 이송된다. And the discharged powder raw material is discharged to the outside of the hopper 10 by the gas injected from the gas injection unit 40 is transported.

여기서, 전술한 바와 같이 본 실시예에 따른 토출구(34)는 토출부(30)에 전체적으로 형성되지 않고, 전술한 토출 영역(32)에만 형성된다. 이에 따라, 호퍼(10)의 내부에 투입된 원료는 토출부(30) 전체 면을 통해 토출되지 않고, 토출 영역(32)을 통해서만 토출된다. Here, as described above, the discharge hole 34 according to the present embodiment is not formed in the discharge part 30 as a whole, but is formed only in the discharge area 32 described above. Accordingly, the raw material introduced into the hopper 10 is not discharged through the entire surface of the discharge unit 30 but is discharged only through the discharge region 32.

이처럼 토출구(34)가 토출 영역(32) 내에만 형성되는 경우, 토출구(34)를 토출부(30)의 전체 면에 형성하는 경우에 비해, 단위 시간당 토출되는 양이 적을 수 있다. As such, when the discharge holes 34 are formed only in the discharge area 32, the discharge amount per unit time may be smaller than that when the discharge holes 34 are formed on the entire surface of the discharge part 30.

그러나 토출구(34)를 토출부(30)의 전체 면에 형성하는 경우, 토출된 분말은 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)으로 낙하하게 된다. 그리고 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)에 낙하한 분말들은 내벽(11)과의 마찰력 때문에 쉽게 호퍼(10)의 외부로 토출되지 않게 된다. 더하여 지속적으로 낙하하는 분말들이 쌓이게 되어 분말이 덩어리로 뭉쳐질 수 있다.However, when the discharge port 34 is formed on the entire surface of the discharge unit 30, the discharged powder falls to the inclined inner wall 11 of the hopper 10. In addition, powders dropped on the inclined inner wall 11 of the hopper 10 are not easily discharged to the outside of the hopper 10 due to the frictional force with the inner wall 11. In addition, continuously falling powders can accumulate, causing the powder to clump together.

따라서 본 발명은 토출구(34)를 통해 토출된 분말이 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)에 낙하하는 것을 최소화하기 위해, 토출 영역(32)을 호퍼(10) 하단의 구멍(12) 직경에 대응하는 폭으로 한정한다. Therefore, in order to minimize the discharge of the powder discharged through the discharge port 34 to the inclined inner wall 11 of the hopper 10, the diameter of the hole 12 at the bottom of the hopper 10 It is limited to the width corresponding to.

이에, 토출구(34)를 통해 토출된 분말은 대부분 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)에 낙하하지 않고, 곧바로 호퍼(10)의 하단 구멍(12)을 통해 호퍼(10)의 외부로 토출된다. 따라서 토출구(34)를 통해 토출된 분말이 덩어리 형태로 뭉쳐지는 것을 최소화할 수 있다. Accordingly, most of the powder discharged through the discharge port 34 does not fall to the inclined inner wall 11 of the hopper 10, but is discharged to the outside of the hopper 10 directly through the bottom hole 12 of the hopper 10. do. Therefore, it is possible to minimize the agglomeration of the powder discharged through the discharge port 34 in a lump form.

한편, 본 실시예에 따른 토출 영역(32)은 호퍼(10) 하단의 구멍(12)과 대응하는 형상(예컨대, 원형)으로 토출 영역(32)이 형성되지 않고, 일정한 폭을 가지며 토출부(30)를 가로지르는 띠 형태로 길게 형성된다. 이에 따라, 토출부(30)의 외경(즉 호퍼의 내주면)에 인접하게 배치되는 토출구(34)에서 토출되는 분말은 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)으로 낙하될 수 있다. On the other hand, in the discharge area 32 according to the present embodiment, the discharge area 32 is not formed in a shape (eg, a circular shape) corresponding to the hole 12 at the bottom of the hopper 10, and has a constant width and has a discharge part ( It is formed long in the form of a band across 30). Accordingly, the powder discharged from the discharge port 34 disposed adjacent to the outer diameter of the discharge portion 30 (that is, the inner circumferential surface of the hopper) may fall to the inclined inner wall 11 of the hopper 10.

그러나, 토출부(30)의 외경과 인접한 위치에 토출구(34)를 형성하지 않는 경우, 토출부(30)의 외경 방향 즉, 호퍼(10)의 내주면과 인접한 위치에 수용된 원료들은 임펠러(20)의 회전에 의해 지속적으로 호퍼(10)의 내주면을 따라 이동할 뿐, 토출구(34)를 통해 호퍼(10)의 외부로 토출되기 어렵다. However, when the discharge port 34 is not formed at a position adjacent to the outer diameter of the discharge portion 30, the raw materials accommodated in the outer diameter direction of the discharge portion 30, that is, the position adjacent to the inner circumferential surface of the hopper 10 may be impeller 20. Only by continuously rotating along the inner circumferential surface of the hopper 10, it is difficult to discharge to the outside of the hopper 10 through the discharge port 34.

따라서 본 실시예에 따른 토출부(30)는 호퍼(10) 내의 원료가 고르게 토출될 수 있도록 호퍼(10) 하단의 구멍(12)과 대응하는 원 형상으로 토출 영역(32)이 형성되지 않고, 토출부(30)의 직경을 따라 길게 형성된다. Therefore, in the discharge part 30 according to the present embodiment, the discharge area 32 is not formed in a circular shape corresponding to the hole 12 at the bottom of the hopper 10 so that the raw material in the hopper 10 may be evenly discharged. It is formed long along the diameter of the discharge portion (30).

그러나 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 후술되는 실시예들과 같이 다양한 응용이 가능하다.
However, the present invention is not limited thereto, and various applications are possible, such as embodiments described below.

도 5 내지 도 7은 각각 본 발명의 다른 실시예들에 따른 원료 공급 장치(100)를 개략적으로 도시한 사시도이다.5 to 7 are perspective views schematically showing a raw material supply device 100 according to other embodiments of the present invention, respectively.

전술한 바와 같이 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)으로 분말이 낙하하는 경우, 덩어리가 형성되기 쉽다. 따라서, 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)으로 낙하하는 분말들의 양을 줄이기 위해, 도 5에 도시된 바와 같이, 토출 영역(32)의 중심에서 멀어질수록 토출구(34)의 수를 적게 형성하는 것도 가능하다. 즉, 호퍼(10)의 하단 구멍(12)이 수직 투영되는 부분에는 토출구(34)의 수를 많이 형성하고, 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)이 수직 투영되는 영역에는 토출구(34)의 수를 적게 형성할 수 있다. As mentioned above, when powder falls to the inclined inner wall 11 of the hopper 10, agglomerates are easy to form. Therefore, in order to reduce the amount of powders falling to the inclined inner wall 11 of the hopper 10, as shown in FIG. 5, the number of the discharge holes 34 decreases as it moves away from the center of the discharge area 32. It is also possible to form. That is, a large number of discharge holes 34 are formed in a portion where the bottom hole 12 of the hopper 10 is vertically projected, and discharge holes 34 are formed in an area where the inclined inner wall 11 of the hopper 10 is vertically projected. It can form a small number of.

이에 더하여, 도 6에 도시된 바와 같이, 토출 영역(32)의 중심부에서 주변으로 갈수록 토출구(34)들 사이의 간격을 크게 형성하고, 토출부(30)의 중심에 가까울수록 토출구(34)들 사이의 간격을 좁게 형성하는 등, 위치에 따라 토출구(34)들 사이의 간격을 다르게 형성하는 것도 가능하다. In addition, as shown in FIG. 6, the distance between the discharge ports 34 is increased from the center of the discharge area 32 toward the periphery, and the discharge holes 34 are closer to the center of the discharge part 30. It is also possible to form different intervals between the ejection openings 34 in accordance with the position, such as forming a narrow interval therebetween.

또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 호퍼(10)의 경사진 내벽(11)으로 분말들이 낙하하는 것을 방지하기 위해, 호퍼(10) 하단의 구멍(12)을 토출 영역(32)의 전체 형상(예컨대, 직사각 형상)에 대응하는 형상으로 형성하는 것도 가능하다.
In addition, as shown in FIG. 7, in order to prevent powders from falling onto the inclined inner wall 11 of the hopper 10, the hole 12 at the bottom of the hopper 10 has an overall shape of the discharge area 32. It is also possible to form the shape corresponding to (for example, rectangular shape).

이상과 같이 구성되는 본 발명에 따른 원료 공급 장치는 토출부의 전체 영역이 아닌, 토출 영역에만 토출구가 형성된다. 또한 토출 영역은 호퍼 하단의 구멍과 대응하는 크기의 폭으로 형성된다. In the raw material supply device according to the present invention configured as described above, the discharge port is formed only in the discharge region, not in the entire region of the discharge portion. In addition, the discharge area is formed with a width of a size corresponding to the hole at the bottom of the hopper.

이에, 토출구를 통해 토출되는 원료는 대부분 호퍼의 내벽으로 낙하하지 않고, 호퍼의 외부로 곧바로 토출되므로, 원료가 호퍼의 내벽에 낙하함에 따라 분말이 뭉쳐져 덩어리를 형성하는 것을 최소화할 수 있다. Accordingly, since the raw material discharged through the discharge port is mostly discharged to the outside of the hopper, rather than falling to the inner wall of the hopper, as the raw material falls on the inner wall of the hopper it is possible to minimize the agglomeration to form agglomerates.

따라서, 덩어리가 아닌, 고른 분말 형태로 원료를 공급할 수 있으므로, 장시간 지속적으로 원료의 원활한 공급이 가능하다. 이에 수율을 높일 수 있다.
Therefore, the raw material can be supplied in the form of an even powder, not agglomerates, so that it is possible to smoothly supply the raw material continuously for a long time. This can increase the yield.

한편, 본 발명에 따른 원료 공급 장치는 전술한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이 가능하다. On the other hand, the raw material supply apparatus according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, various modifications are possible by those skilled in the art within the technical idea of the present invention.

예를 들어, 전술한 실시예에서는 하나의 임펠러를 이용하는 경우를 예로 들었으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 즉 다수의 임펠러를 구비하도록 구성하는 것도 가능하다. 이 경우, 토출 영역은 다수의 임펠러가 장착되는 위치에 대응하여 다양한 형태로 형성될 수 있다.For example, in the above-described embodiment, the case of using one impeller has been exemplified, but the present invention is not limited thereto. That is, it is also possible to comprise so that a plurality of impellers may be provided. In this case, the discharge region may be formed in various forms corresponding to the position where the plurality of impellers are mounted.

또한 본 실시예에서는 유리 분말을 공급하는 원료 공급 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 분말 형태의 원료를 공급하기 위한 설비나 장치라면 폭넓게 적용될 수 있다. In addition, in the present embodiment, the raw material supply apparatus for supplying the glass powder has been described as an example, but the present invention is not limited thereto and may be widely applied to any equipment or apparatus for supplying a raw material in powder form.

100.... 원료 공급 장치
10.....호퍼
20.....임펠러
30.....토출부
32.....토출 영역
34.....토출구
40.....가스 주입부 100 ... raw material feeder
10 ..... hopper
20 ..... Impeller
30 ..... discharge
32 ..... discharge area
34 ..... discharge outlet
40 ..... gas injection

Claims (9)

내부에 분말 형태의 원료가 투입되며, 하단에 원료가 외부로 토출되기 위한 구멍이 형성된 호퍼;
상기 호퍼의 내부에 체결되어 상기 원료를 지지하며 상기 원료가 수용되는 공간을 형성하는 판 형태의 토출부; 및
상기 원료가 수용되는 공간 내에 배치되어 상기 원료를 교반하는 임펠러;를 포함하며,
상기 토출부는,
상기 토출부의 내부를 가로지르는 형태로 길게 형성되는 토출 영역 내에 배치되고, 상기 원료를 상기 토출부의 하부로 토출하는 다수의 토출구를 구비하는 원료 공급 장치.A hopper into which a raw material in powder form is introduced, and a hole formed at the bottom thereof for discharging the raw material to the outside;
A discharge portion formed in a plate shape which is fastened in the hopper to support the raw material and forms a space in which the raw material is accommodated; And
And an impeller disposed in a space in which the raw material is accommodated and stirring the raw material.
The discharge unit
And a plurality of discharge ports disposed in a discharge area elongated in the shape of crossing the inside of the discharge part and discharging the raw material to the lower part of the discharge part. 제 1 항에 있어서, 상기 토출 영역은,
상기 토출부의 중심을 가로지르며 형성되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the discharge region,
Raw material supply apparatus is formed across the center of the discharge portion. 제 1 항에 있어서, 상기 토출 영역은,
상기 호퍼의 하단에 형성된 구멍의 직경에 대응하는 폭으로 형성되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the discharge region,
Raw material supply apparatus is formed in a width corresponding to the diameter of the hole formed in the lower end of the hopper. 제 1 항에 있어서, 상기 토출부는,
상기 토출 영역 전체에 균일하게 상기 토출구들이 분산 배치되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the discharge unit,
The raw material supply device in which the discharge port is uniformly distributed throughout the discharge area. 제 1 항에 있어서, 상기 토출부는,
상기 토출 영역의 중심부로 갈수록 상기 토출구의 밀도가 커지도록 형성되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the discharge unit,
The raw material supply device is formed so that the density of the discharge port is increased toward the center of the discharge area. 제 1 항에 있어서, 상기 토출부는,
상기 토출 영역 중심부에서 주변으로 갈수록 상기 토출구들 사이의 간격이 크게 형성되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the discharge unit,
And a gap between the discharge holes is increased toward the periphery of the discharge area center. 제 1 항에 있어서, 상기 토출구는,
상기 토출 영역의 길이 방향을 따라 적어도 하나의 열을 형성하며 배치되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the discharge port,
And at least one row formed along the longitudinal direction of the discharge region. 제 1 항에 있어서, 상기 호퍼의 하단에 형성된 구멍은,
상기 토출 영역에 대응하는 형상으로 형성되는 원료 공급 장치.The method of claim 1, wherein the hole formed in the lower end of the hopper,
A raw material supply device formed in a shape corresponding to the discharge area. 제 1 항에 있어서,
상기 토출부의 하부에 체결되고, 상기 호퍼 하단의 구멍을 향하여 가스를 분사하는 가스 주입부를 더 포함하는 원료 공급 장치.The method of claim 1,
And a gas injection unit coupled to a lower portion of the discharge unit and injecting gas toward a hole in a lower end of the hopper.
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