KR101279231B1 - Transfer film liquid crystal display device fabricated using the same and fabricating method for the liquid crystal display device - Google Patents

Transfer film liquid crystal display device fabricated using the same and fabricating method for the liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 기재층; 상기 기재층상에 형성되며, 피전사 기판으로 전사되는 제 1 전사층; 및 상기 제 1 전사층상에 형성되며, 상기 피전사 기판으로 상기 제 1 전사층과 동시에 전사되어 상기 제 1 전사층과 상기 피전사 기판간의 접착성을 향상시키는 제 2 전사층을 포함하는 전사필름을 제공함에 따라, 액정표시장치의 제조 공정을 단순화시키며, 생산성의 향상을 기대할 수 있다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, A first transfer layer formed on the base layer and transferred to an image receiving substrate; And a second transfer layer formed on the first transfer layer and transferred to the transfer source substrate at the same time as the first transfer layer to improve adhesion between the first transfer layer and the transfer destination substrate, It is possible to simplify the manufacturing process of the liquid crystal display device and improve the productivity.

전사 필름, 배향막, 액정표시장치  Transfer film, alignment film, liquid crystal display device

Description

전사필름, 이를 이용하여 제조된 액정표시장치 및 그의 제조방법{Transfer film, liquid crystal display device fabricated using the same, and fabricating method for the liquid crystal display device}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a transfer film, a liquid crystal display device using the same, and a manufacturing method thereof,

도 1a 및 도 1b는 인쇄판을 이용한 배향막의 형성공정을 도시한 도면이다.1A and 1B are diagrams showing a process of forming an alignment film using a printing plate.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 전사필름의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a transfer film according to the first embodiment of the present invention.

도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 실시예에 따른 전사필름을 이용한 액정표시장치의 제조 방법을 도시한 공정도들이다. 3A to 3D are process charts illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device using a transfer film according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 전사필름을 이용하여 제조된 액정표시장치의 단면을 도시한 도면이다.4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device manufactured using a transfer film according to an embodiment of the present invention.

(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명) DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS (S)

100 : 기재층 110 : 제 1 전사층 100: base layer 110: first transfer layer

120 : 제 2 전사층 130 : 보호필름 120: second transfer layer 130: protective film

200 : 피전사 기판 300 : 제 1 기판 200: an image receiving substrate 300: a first substrate

400 : 제 2 기판 500 : 실란트 400: second substrate 500: sealant

600 : 액정층  600: liquid crystal layer

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로 전사공정을 이용하여 제조되는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device manufactured using a transfer process.

오늘날, 평판표시장치 중 액정표시장치는 경량박형이 가능할 뿐만 아니라, 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 디스플레이 소자로 각광받고 있다.Today, among the flat panel display devices, liquid crystal display devices are becoming popular as next generation display devices which are not only lightweight and thin but also low in power consumption, good in portability, and highly value-added.

이와 같은 액정표시장치는 박막트랜지스터가 형성된 제 1 기판과, 컬러필터가 형성된 제 2 기판을 각각 형성하고, 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판사이에 액정층을 형성하는 공정을 거쳐 형성된다.Such a liquid crystal display device is formed through a process of forming a first substrate on which a thin film transistor is formed and a second substrate on which a color filter is formed and forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate.

여기서, 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판 중 적어도 어느 하나에 액정의 초기 배향을 설정하는 배향막을 형성하는 공정이 더 추가된다.Here, a step of forming an alignment film for setting an initial alignment of liquid crystal on at least one of the first substrate and the second substrate is further added.

상기 배향막은 인쇄판을 이용한 인쇄기법을 이용하여 형성할 수 있다.The alignment layer may be formed using a printing technique using a printing plate.

도 1a 및 도 1b는 인쇄판을 이용한 배향막의 형성공정을 도시한 도면이다.1A and 1B are diagrams showing a process of forming an alignment film using a printing plate.

도 1a를 참조하면, 배향막을 형성하고자 하는 기판(10)을 제공한다. 상기 기판(10)상으로 배향막(21)이 도포되어 있는 인쇄판(20)을 제공한다. 상기 인쇄판(20)에 형성된 배향막(21)을 상기 기판(10)으로 전사한다. 여기서, 상기 인쇄판(20)에 형성된 배향막(21)을 상기 기판(10)으로 전사하기 위해, 상기 인쇄판(20)을 일정 압력을 가한다. 이때, 상기 인쇄판(20)에 형성되어 있는 배향막(21)이 연성을 가지고 있어, 상기 인쇄판(20)에 일정 압력을 가함으로써, 상기 인쇄판(20)의 에지부에서 볼록해지는 마운트(mount;M)가 발생한다.Referring to FIG. 1A, a substrate 10 on which an alignment film is to be formed is provided. (20) on which an alignment film (21) is applied onto the substrate (10). The alignment film 21 formed on the printing plate 20 is transferred to the substrate 10. Here, a predetermined pressure is applied to the printing plate 20 in order to transfer the alignment film 21 formed on the printing plate 20 to the substrate 10. At this time, since the alignment film 21 formed on the printing plate 20 has ductility and a certain pressure is applied to the printing plate 20, a mount M, which is convex at the edge of the printing plate 20, Lt; / RTI >

도 1b를 참조하면, 상기 인쇄판(20)이 제거된 뒤, 경화공정을 거쳐 상기 기판(10)에 배향막(21)을 형성한다. 이때, 상술한 바와 같이 상기 배향막(21)의 에지부에서 마운트(M)가 발생하여, 배향막이 균일하게 형성되지 않는다.Referring to FIG. 1B, after the printing plate 20 is removed, an alignment film 21 is formed on the substrate 10 through a curing process. At this time, as described above, the mount M is generated at the edge portion of the alignment film 21, and the alignment film is not uniformly formed.

또, 오늘날 대형 기판에 여러 개의 셀을 형성한 뒤, 상기 셀을 절단하여 동시에 여러 개를 형성함으로써, 생산성을 향상시키고자 하였다. 최근, 상기 기판은 점점 대형화되어 가는 추세이다. 이에 따라, 상기 인쇄판도 대형화되어야 하지만, 대형 인쇄판을 제조하는데 한계가 있다. 이로써, 상기 대형 인쇄판은 소형 인쇄판을 여러 개 제작한 뒤, 상기 소형 인쇄판을 접합하여 형성한다.Further, after forming a plurality of cells on a large substrate today, cutting the cells and forming several cells at the same time, the productivity was improved. In recent years, the substrate has become increasingly large. Accordingly, although the printing plate must be made larger, there is a limit in manufacturing a large printing plate. Thus, the large-sized printing plate is formed by bonding several small printing plates and then bonding the small printing plates.

이때, 적어도 2 개 이상의 소형 인쇄판이 접합하여 제조된 대형 인쇄판을 이용하여 배향막을 형성할 경우, 접합부에서 배향막이 불균일하게 형성된다. 이로써, 상기 인쇄판의 접합부를 피해, 상기 대형 기판에 셀을 설계해야 하므로, 상기 대형 기판에 셀간의 간격 마진이 감소되어, 상기 대형 기판을 효율적으로 사용하기 어렵다.At this time, when an alignment film is formed using a large-sized printing plate produced by joining at least two small printing plates, the alignment film is unevenly formed at the joining portion. As a result, since the cells are designed on the large substrate by avoiding the bonding portion of the printing plate, the space margin between the cells is reduced on the large substrate, and it is difficult to efficiently use the large substrate.

본 발명은 균일한 배향막을 형성할 수 있으며, 대형기판에 효율적으로 배향막을 형성할 수 있는 전사 공정에 이용되는 전사필름을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a transfer film which can form a uniform alignment film and is used in a transfer process capable of efficiently forming an alignment film on a large substrate.

또, 상기 전사필름을 이용하여 제조되는 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 제공하는데 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which are manufactured using the transfer film.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 전사필름을 제공한다. 상기 전사필름은 기재층; 상기 기재층상에 형성되며, 피전사 기판으로 전사되는 제 1 전사층; 및 상기 제 1 전사층상에 형성되며, 상기 피전사 기판으로 상기 제 1 전사층과 동시에 전사되어 상기 제 1 전사층과 상기 피전사 기판간의 접착성을 향상시키는 제 2 전사층을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a transfer film. The transfer film comprising a substrate layer; A first transfer layer formed on the base layer and transferred to an image receiving substrate; And a second transfer layer formed on the first transfer layer and transferred to the transfer target substrate at the same time as the first transfer layer to improve adhesion between the first transfer layer and the transfer target substrate.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 기판; 상기 기판상에 형성된 배향막; 및 상기 배향막 하부에 위치하며, 상기 기판과 상기 배향막을 접착하는 접착층을 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device. The liquid crystal display device includes a substrate; An alignment layer formed on the substrate; And an adhesive layer positioned under the alignment layer and bonding the substrate and the alignment layer.

또, 상기 액정표시장치는 상기 기판상에 형성된 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 더 포함할 수 있다. The liquid crystal display may further include a thin film transistor formed on the substrate and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor.

또는 상기 액정표시장치는 상기 기판상에 형성된 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 오버코트층, 상기 오버코트층상에 형성된 공통전극을 더 포함할 수 있다.Alternatively, the liquid crystal display may further include a color filter formed on the substrate, an overcoat layer formed on the color filter, and a common electrode formed on the overcoat layer.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 또 다른 일 측면은 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 기판을 제공하는 단계; 상기 기판상으로 전사필름을 라미네이션하는 단계; 및 상기 전사필름의 전사층을 상기 기판으 로 전사하여 배향막을 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device. The method comprises: providing a substrate; Laminating a transfer film onto the substrate; And transferring the transfer layer of the transfer film to the substrate to form an alignment film.

이하, 도면을 참고하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of an apparatus may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 전사필름의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a transfer film according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 기재층(100)이 위치한다. 여기서, 상기 기재층(100)은 투명성의 재질로, 광 투과율이 뛰어난 물질로 형성될 수 있다. 이를 테면, 상기 기재층(100)은 유리, 폴리에스테르, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리우레탄 및 폴리아크릴로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 2, a substrate layer 100 is located. Here, the base layer 100 may be formed of a material having transparency and having excellent light transmittance. For example, the substrate layer 100 may be formed of at least one selected from the group consisting of glass, polyester, polymethylmethacrylate, polyethylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyurethane and polyacrylic.

상기 기재층(100)상에 제 1 전사층(110)이 형성되어 있다. 상기 제 1 전사층(110)은 피전사 기판에 전사하고자 하는 물질로 형성되어 있다. 즉, 상기 제 1 전사층(110)은 배향막의 형성물질로 형성될 수 있다. 여기서, 상기 배향막의 형성물질은 폴리 이미드계 수지일 수 있다. 또, 상기 제 1 전사층(110)은 액정표시장치를 구성하는 유기계 패턴의 형성물질로 형성될 수 있다. 여기서, 상기 유기계 패턴은 컬러필터 또는 오버코트층 중 어느 하나의 형성물질로 형성될 수 있다. A first transfer layer 110 is formed on the base layer 100. The first transfer layer 110 is formed of a material to be transferred to an image receiving substrate. That is, the first transfer layer 110 may be formed of a material for forming an alignment layer. Here, the material for forming the alignment film may be a polyimide-based resin. The first transfer layer 110 may be formed of a material for forming an organic pattern that constitutes a liquid crystal display device. Here, the organic pattern may be formed of any one of a color filter and an overcoat layer.

상기 제 1 전사층(110)상에 제 2 전사층(120)이 형성되어 있다. 상기 제 2 전사층(120)은 피전사 기판에 대해 점착성을 가져서, 상기 전사필름과 상기 피전사 기판간의 밀착성을 향상시킨다. 이로써, 상기 전사필름을 이용한 전사공정시 상기 전사필름이 이동하여 전사 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. A second transfer layer 120 is formed on the first transfer layer 110. The second transfer layer 120 has adhesiveness to an image receiving substrate to improve adhesion between the transfer film and the image receiving substrate. Thereby, it is possible to prevent the transfer film from moving during the transferring process using the transfer film and deteriorating the transfer characteristics.

이때, 상기 제 2 전사층(120)은 광에 의해 반응하여 접착성을 가진다. 이로써, 상기 제 2 전사층(120)으로 일부 영역에 광을 조사하면, 상기 광이 조사된 상기 제 2 전사층(120)하부에 해당하는 상기 제 1 전사층(110)이 피전사 기판으로 전사된다.At this time, the second transfer layer 120 reacts with light to have adhesiveness. The first transfer layer 110 corresponding to the lower part of the second transfer layer 120 to which the light is irradiated is transferred to the transfer substrate 120 by irradiating light to a certain region of the second transfer layer 120. [ do.

또는 상기 제 2 전사층(120)은 피전사 기판에 대해 접착성을 가지고, 광에 의해 반응하여 접착성이 저하될 수 있다. 이로써, 상기 제 2 전사층(120)으로 일부 영역에 광을 조사하면, 상기 광이 조사되지 않은 상기 제 2 전사층(120)하부에 해당하는 상기 제 1 전사층(110)이 피전사 기판으로 전사된다.Or the second transfer layer 120 has adhesiveness to an image receiving substrate, and may react with light to deteriorate adhesiveness. The first transfer layer 110 corresponding to the lower part of the second transfer layer 120 to which the light is not irradiated is irradiated to a part of the transfer substrate Transferred.

상기 제 2 전사층(120)은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 이미드계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성할 수 있다.The second transfer layer 120 may be formed of at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, and an imide resin.

즉, 상기 제 2 전사층(120)은 상기 제 1 전사층(110)이 상기 피전사 기판으로 전사되는데 있어, 중요한 역할을 수행한다.That is, the second transfer layer 120 plays an important role in transferring the first transfer layer 110 to the transfer substrate.

더 나아가, 상기 제 2 전사층(120)에 형성된 보호필름(130)이 더 포함될 수 있다. 상기 보호필름(130)은 상기 제 2 전사층(120)이 오염되는 것을 방지하는 것으로, 상기 보호필름(130)은 상기 전사필름을 이용한 전사공정을 수행하기전 탈착한다. 즉, 상기 보호필름(130)은 상기 제 2 전사층(120)에 점착되어 있는 것으로, 용이하게 탈부착할 수 있다. Furthermore, the protective film 130 formed on the second transfer layer 120 may be further included. The protective film 130 prevents the second transfer layer 120 from being contaminated. The protective film 130 is desorbed before performing the transfer process using the transfer film. That is, the protective film 130 is adhered to the second transfer layer 120 and can be easily attached and detached.

또, 상기 기재층(100)과 상기 제 1 전사층(110)사이에 개재되는 이형층(도면에는 도시하지 않음.)을 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 이형층은 전사공정시 상기 기재층(100)과 상기 제 1 전사층(120)의 분리를 용이하게 하는 역할을 한다. 상기 이형층은 광에 반응하여 접착성을 가지거나, 접착성이 저하되는 특성을 가진다. 여기서, 상기 이형층은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 이미드계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성할 수 있다.In addition, a release layer (not shown) interposed between the base layer 100 and the first transfer layer 110 may be further included. Here, the release layer facilitates separation of the base layer 100 and the first transfer layer 120 during a transfer process. The releasing layer has a property of being adhesive in response to light or of decreasing adhesiveness. Here, the release layer may be formed of at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, and an imide resin.

이때, 상기 이형층은 상기 제 2 전사층(120)과 서로 반대의 특성을 가지도록 형성한다. 즉, 상기 제 2 전사층(120)이 광에 의해 접착성이 증가하면, 상기 이형층은 광에 의해 접착성이 저하되는 특성을 가진다. 이와 달리, 상기 제 2 전사층(120)이 광에 의해 접착성이 저하되면, 상기 이형층은 광에 의해 접착성이 증가되는 특성을 가진다. 이로써, 상기 이형층에 의해, 상기 제 2 전사층과 상기 제 1 전사층이 용이하게 피전사 기판으로 전사된다.At this time, the release layer is formed so as to have characteristics opposite to those of the second transfer layer 120. That is, when the second transfer layer 120 has increased adhesiveness by light, the release layer has the property that adhesiveness is lowered by light. On the other hand, if the second transfer layer 120 is deteriorated in adhesiveness by light, the release layer has a property of increasing adhesiveness by light. Thereby, the second transfer layer and the first transfer layer are easily transferred to the transfer target substrate by the release layer.

도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 실시예에 따른 전사필름을 이용한 액정표시장치의 제조 방법을 도시한 공정도들이다. 3A to 3D are process charts illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device using a transfer film according to an embodiment of the present invention.

도 3a를 참조하면, 전사필름(T)을 제공한다. 상기 전사필름(T)은 롤(140)에 감겨져 있을 수 있으며, 도면과 달리 평탄한 기판의 형태를 가질 수 있다.Referring to FIG. 3A, a transfer film T is provided. The transfer film T may be wound on the roll 140, and may have a flat substrate shape unlike the drawing.

상술한 바와 같이, 상기 전사필름(T)은 기재층(100)과, 상기 기재층(100)상에 형성되며, 피전사 기판으로 전사되는 제 1 전사층(110)과, 상기 제 1 전사 층(110)상에 형성되며 상기 피전사 기판으로 상기 제 1 전사층(110)과 동시에 전사되어 상기 제 1 전사층(110)과 상기 피전사 기판(200)간의 접착성을 향상시키는 제 2 전사층(120)을 포함한다. As described above, the transfer film T includes a base layer 100, a first transfer layer 110 formed on the base layer 100 and transferred to an image receiving substrate, A second transfer layer 110 formed on the first transfer layer 110 and transferred to the transfer source substrate 110 simultaneously with the first transfer layer 110 to improve adhesion between the first transfer layer 110 and the transfer source substrate 200, (120).

상기 기재층(100)은 광 투과율이 좋은 투명성의 플라스틱 또는 유리일 수 있다. 상기 제 1 전사층(110)은 폴리이미드계 수지로 형성된 배향막 형성물질이 형성되어 있다. 또, 상기 제 2 전사층(120)은 광에 의해 반응하여 접착성을 가지거나, 접착성이 저하되는 물질로 형성될 수 있다. 이때, 상기 제 2 전사층(120)은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 이미드계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성할 수 있다.The base layer 100 may be transparent plastic or glass with good light transmittance. The first transfer layer 110 is formed with an alignment film forming material formed of a polyimide resin. In addition, the second transfer layer 120 may be formed of a material that reacts with light to have adhesiveness or deteriorates adhesiveness. At this time, the second transfer layer 120 may be formed of at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, and an imide resin.

상기 전사필름(T)은 상기 제 2 전사층(120)상에 위치하여, 상기 제 2 전사층(120)이 오염되는 것을 방지하는 보호필름(130)을 더 포함할 수 있다. 또, 상기 기재층(100)과 상기 제 1 전사층(110)사이에 개재되어, 상기 제 1 전사층(110)의 전사특성을 향상시키는 이형층(도면에는 도시하지 않음.)이 더 포함될 수 있다.The transfer film T may further include a protective film 130 disposed on the second transfer layer 120 to prevent the second transfer layer 120 from being contaminated. A release layer (not shown) interposed between the base layer 100 and the first transfer layer 110 may be further included to improve transfer characteristics of the first transfer layer 110 have.

도 3b에서와 같이, 상기 전사필름(T)이 감겨진 롤(140)과 피전사 기판(200)을 라미네이션 장비로 제공한다. 상기 피전사 기판에는 박막트랜지스터와 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극이 형성되어 있을 수 있다. 또는 상기 피전사 기판에는 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 오버코트층 및 공통전극이 형성되어 있을 수 있다. As shown in FIG. 3B, the roll 140 on which the transfer film T is wound and the image receiving substrate 200 are provided as lamination equipment. A pixel electrode electrically connected to the thin film transistor and the thin film transistor may be formed on the substrate. Alternatively, a color filter, an overcoat layer formed on the color filter, and a common electrode may be formed on the image-receiving substrate.

여기서, 상기 전사필름(T)의 보호필름(130)을 제거한 뒤, 상기 전사필름(T)과 상기 피전사 기판(200)을 라미네이션한다.After the protective film 130 of the transfer film T is removed, the transfer film T and the image receiving substrate 200 are laminated.

도 3c를 참조하면, 상기 피전사 기판(200)으로 상기 전사필름(T)을 라미네이션한 뒤, 상기 전사필름(T)상으로 마스크(M)를 제공한다. 그리고, 상기 마스크(M)상으로 광을 제공한다. 이로써, 상기 마스크(M)의 패턴이 상기 전사필름(T)으로 투영된다. 이때, 상기 전사필름(T)의 제 2 전사층(120)이 광에 반응하여, 상기 피전사 기판(200)에 대해 접착력을 가지게 된다. 도면과 달리, 상기 제 2 전사층(120)은 광에 반응하여, 상기 피전사 기판(200)과의 접착력이 저하될 수도 있다.Referring to FIG. 3C, the transfer film T is laminated on the transfer substrate 200, and a mask M is provided on the transfer film T. Then, light is provided on the mask M. As a result, the pattern of the mask M is projected onto the transfer film T. At this time, the second transfer layer 120 of the transfer film T reacts with light and has an adhesive force with respect to the transfer substrate 200. Unlike the drawing, the second transfer layer 120 may be deteriorated in adhesion to the image receiving substrate 200 in response to light.

도 3d를 참조하면, 상기 피전사 기판(200)으로부터 상기 전사필름(T)을 분리시킨다. 이때, 상기 광이 조사된 영역의 제 2 전사층(120)은 상기 피전사 기판(200)에 대한 접착력이 형성되어, 상기 광이 조사된 영역의 제 2 전사층(120)과, 그 상부에 위치하는 제 1 전사층(110)은 상기 피전사 기판(200)으로 전사되어, 상기 피전사 기판(200)에 접착층(120')과 배향막(110')이 형성된다. 즉, 상기 접착층(120')은 상기 전사필름(T)의 제 2 전사층(120)의 일부가 전사된 것이며, 상기 배향막(110')은 상기 전사필름(T)의 제 1 전사층(110)의 일부가 전사된 것이다.Referring to FIG. 3D, the transfer film T is separated from the image receiving substrate 200. At this time, the second transfer layer 120 in the region irradiated with the light is formed with an adhesive force to the transfer source substrate 200, and the second transfer layer 120 in the region irradiated with the light, The first transfer layer 110 positioned on the transfer substrate 200 is transferred to the transfer source substrate 200 and the adhesive layer 120 'and the alignment film 110' are formed on the transfer source substrate 200. That is, a part of the second transfer layer 120 of the transfer film T is transferred, and the alignment layer 110 'is transferred to the first transfer layer 110 (110') of the transfer film T, ) Was transferred.

여기서, 상기 피전사 기판(200)은 대형 기판일 수 있다. 이때, 상기 피전사 기판(200)이 대형 기판이더라도 대형의 인쇄 기판을 필요로 하지 않고, 상기 전사 필름을 이용한 전사공정을 거쳐 용이하게 배향막을 형성할 수 있다. 이는, 상기 전사공정은 상기 전사필름 상에 일정 크기의 마스크를 이용한 노광 공정을 거치는 것으로, 상기 전사필름은 공정이 용이한 습식공정, 이를테면, 스프레이 코팅법, 딥 코팅법, 닥터 블레이드 법, T-다이 코팅법을 통하여 제조될 수 있다. 또, 상기 마스크는 라미네이션된 피조사 기판과 전사필름 상을 여러번 쉬프트시켜서, 노광 공 정을 거치면 되므로, 별도의 대형 마스크를 제조할 필요가 없다. 이로써, 종래에 인쇄판을 여러 개 접합해서, 대형 기판에 배향막을 형성할 경우, 상기 인쇄판의 접합부를 피해서 상기 대형 기판의 셀을 설계할 필요 없이, 대형 기판의 셀 효율성을 먼저 고려하여 셀을 설계할 수 있다. 즉, 상기 전사필름을 이용한 전사공정을 거쳐 배향막을 형성함으로써, 배향막을 균일하게 형성하면서 대형 기판의 효율성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 생산성을 향상시킬 수 있다. Here, the transfer source substrate 200 may be a large substrate. At this time, even if the transfer source substrate 200 is a large-sized substrate, a large-sized printed substrate is not required, and an alignment film can be easily formed through a transfer process using the transfer film. The transferring process may be an exposure process using a mask of a predetermined size on the transfer film. The transfer film may be formed by a wet process that is easy to process, such as a spray coating process, a dip coating process, a doctor blade process, Can be produced through a die coating method. In addition, since the mask is subjected to the exposure process by shifting the laminated to-be-irradiated substrate and the transfer film several times, there is no need to manufacture a separate large mask. Thus, when a plurality of printing plates are conventionally joined to form an alignment film on a large substrate, it is not necessary to design a cell of the large substrate while avoiding the junction of the printing plate, and the cell is designed considering the cell efficiency of the large substrate first . That is, by forming the alignment film through the transfer process using the transfer film, not only the efficiency of the large substrate can be improved while the alignment film is uniformly formed, and the productivity can be improved.

여기서, 상기 전사필름을 통해 배향막을 형성하는 것을 하나의 실시예로 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 상기 전사공정을 거쳐 컬러필터 또는 오버 코트층 중 적어도 어느 하나를 형성할 수 있다.Here, the formation of the alignment film through the transfer film is described as one embodiment. However, the present invention is not limited to this, and at least one of the color filter and the overcoat layer can be formed through the transfer process.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 전사필름을 이용하여 제조된 액정표시장치의 단면을 도시한 도면이다.4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device manufactured using a transfer film according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 제 1 기판(300)과 제 2 기판(400)이 일정간격을 가지며 이격된 채로 서로 대향되며 배치된다. 여기서, 상기 제 1 기판(300)과 상기 제 2 기판(400)은 실란트(500)에 의해 서로 합착되어 있으며, 상기 제 1 기판(300)과 상기 제 2 기판(400)사이에는 액정층(600)이 형성되어 있다.Referring to FIG. 4, the first substrate 300 and the second substrate 400 are spaced apart from each other with a predetermined gap therebetween. The first substrate 300 and the second substrate 400 are bonded together by a sealant 500. A liquid crystal layer 600 is formed between the first substrate 300 and the second substrate 400, Is formed.

상기 제 1 기판(300)상에 서로 교차되어 배치되어 화소를 정의하는 게이트 배선(도면에는 도시하지 않음.)과 데이터 배선(도면에는 도시하지 않음.)이 형성되어 있다. 상기 게이트 배선과 상기 데이터 배선사이에는 게이트 절연막(310)이 형성되어 있다.(Not shown in the figure) and a data line (not shown in the figure) are formed on the first substrate 300 so as to intersect with each other and define pixels. A gate insulating layer 310 is formed between the gate line and the data line.

또, 상기 게이트 배선과 상기 데이터 배선의 교차영역에는 적어도 하나의 박막트랜지스터(Tr)가 형성되어 있다. 상기 박막트랜지스터(Tr)는 상기 게이트 배선에서 분기되어 형성된 게이트 전극(301)과, 상기 게이트 전극(301)에 대응된 상기 게이트 절연막(310)상에 반도체층(311)과, 상기 반도체층(311)의 양 단부상에 분리되어 각각 위치하는 소스/드레인 전극(312, 313)을 포함한다.In addition, at least one thin film transistor Tr is formed in the intersection region of the gate wiring and the data wiring. The thin film transistor Tr includes a gate electrode 301 formed by branching from the gate wiring, a semiconductor layer 311 on the gate insulating film 310 corresponding to the gate electrode 301, And source / drain electrodes 312 and 313 which are separately located on both ends of the source / drain electrodes 312 and 313, respectively.

상기 박막트랜지스터(Tr)를 포함하는 게이트 절연막(310)상에 보호막(320)이 형성되어 있다. 상기 보호막(320)은 상기 드레인 전극(313)을 일부 노출하는 콘텍홀이 형성되어 있고, 상기 콘텍홀을 통해 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극(321)이 상기 보호막(320)상에 형성되어 있다.A protective film 320 is formed on the gate insulating film 310 including the thin film transistor Tr. A pixel electrode 321 electrically connected to the thin film transistor is formed on the passivation layer 320 through the contact hole 320. The passivation layer 320 is formed on the passivation layer 320, have.

상기 화소전극(321)상에 액정의 초기 배향을 위한 배향막(340)이 형성되어 있다. 상기 배향막(340)하부에는 접착층(330)이 형성되어 있어, 상기 배향막(340)과 상기 화소전극(321)을 포함하는 상기 보호막(320)간의 접착성을 향사시켜주는 역할을 한다. 여기서, 상기 배향막(340)을 전사필름을 이용하여 형성할 경우에 상기 전사필름에 구비되는 상기 배향막(340)의 형성물질로 이루어진 제 1 전사층과, 상기 제 1 전사층상에 형성되며, 상기 접착층(330)의 형성물질로 이루어진 제 2 전사층이 상기 화소전극(321)을 포함하는 상기 보호막(320)으로 전사되어 형성되기 때문에 상기 배향막(340)하부에는 접착층(330)이 위치하게 된다.An alignment layer 340 for initial alignment of liquid crystal is formed on the pixel electrode 321. An adhesive layer 330 is formed under the alignment layer 340 to improve adhesion between the alignment layer 340 and the passivation layer 320 including the pixel electrode 321. Here, the first transfer layer may be formed of a material for forming the alignment layer 340 provided on the transfer film when the alignment layer 340 is formed using a transfer film. The first transfer layer may be formed on the first transfer layer, Since the second transfer layer made of the material for forming the pixel electrode 330 is transferred and formed on the protective layer 320 including the pixel electrode 321, the adhesive layer 330 is positioned under the alignment layer 340.

상기 배향막(340)은 폴리이미드계 수지로 형성될 수 있다. 또, 상기 접착층(330)은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 이미드계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The alignment layer 340 may be formed of a polyimide resin. The adhesive layer 330 may be formed of at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, and an imide resin.

상기 제 2 기판(400) 중 차단영역에 해당하는 영역에 블랙매트릭스(411)가 형성되어 있다. 상기 차단영역은 상기 제 1 기판(300)의 배선 형성영역 및 박막트랜지스터(Tr)가 형성된 영역에 대응된 영역일 수 있다. A black matrix 411 is formed in a region corresponding to the blocking region of the second substrate 400. The blocking region may be a region corresponding to a wiring formation region of the first substrate 300 and a region where the thin film transistor Tr is formed.

상기 제 2 기판(400) 중 투과영역에 해당하는 영역에 컬러필터(412)가 형성되어 있다. 상기 투과영역은 상기 제 1 기판(300)에 형성된 게이트 배선과 데이터 배선이 교차되어 정의되는 화소영역에 대응된 영역일 수 있다. 여기서, 상기 컬러필(412)는 상기 블랙매트릭스(411)에 일부 중첩되어 형성될 수 있다.And a color filter 412 is formed in an area corresponding to the transmissive area of the second substrate 400. [ The transmissive region may be a region corresponding to a pixel region defined by intersecting a gate line and a data line formed on the first substrate 300. Here, the color pillars 412 may be partially overlapped with the black matrix 411.

상기 블랙매트릭스(411)와 상기 컬러필터(412)간의 단차를 극복하기 위한 오버코트층(420)이 더 형성되어 있을 수 있다. An overcoat layer 420 may be further formed to overcome a step between the black matrix 411 and the color filter 412.

상기 오버코트층(420)상에 공통전극(430)이 형성되어 있으며, 상기 공통전극(430)상에 상기 액정의 초기 배향을 위한 배향막(450)이 더 형성될 수 있다.A common electrode 430 is formed on the overcoat layer 420 and an alignment layer 450 for initial alignment of the liquid crystal may be formed on the common electrode 430.

상기 배향막(450)이 상술한 전사필름을 이용하여 형성될 경우, 상기 공통전극(430)과 상기 배향막(450)사이에 접착층(440)이 더 형성되어 있을 수 있다.When the alignment layer 450 is formed using the above-described transfer film, an adhesive layer 440 may be further formed between the common electrode 430 and the alignment layer 450.

또, 상기 컬러필터(412) 또는 상기 오버코트층(420) 중 적어도 어느 하나도 상술한 전사필름을 이용하여 형성될 수 있는바, 상기 컬러필터(412) 또는 상기 오버코트층(420)층 중 적어도 하나의 하부에는 접착층(440)이 형성되어 있을 수 있다.At least one of the color filter 412 or the overcoat layer 420 may be formed using the above-described transfer film, and at least one of the color filter 412 or the overcoat layer 420 And an adhesive layer 440 may be formed on the bottom.

상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 전사필름을 통한 전사공정을 거쳐 배향 막을 형성함으로써, 생산성을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, productivity can be improved by forming an alignment film through a transfer process through a transfer film.

또, 상기 전사필름을 이용한 전사공정을 통해, 대형 기판에 배향막을 형성함에 있어, 상기 배향막을 균일하게 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 대형 기판의 효율성을 향상시킬 수 있다.In addition, in forming the alignment film on the large substrate through the transfer process using the transfer film, not only the alignment film can be uniformly formed, but also the efficiency of the large substrate can be improved.

또, 상기 전사필름을 이용한 전사공정을 액정표시장치의 배향막 외에 다른 구성요소 즉, 컬러필터 또는 오버코트층에 적용할 수 있어, 생산성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, the transfer process using the transfer film can be applied to other components other than the alignment film of the liquid crystal display device, that is, the color filter or the overcoat layer, thereby further improving the productivity.

상기에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. .

Claims (19)

기재층;A base layer; 상기 기재층상에 형성되며, 피전사 기판으로 전사되는 제 1 전사층; A first transfer layer formed on the base layer and transferred to an image receiving substrate; 상기 제 1 전사층상에 형성되며, 상기 피전사 기판으로 상기 제 1 전사층과 동시에 전사되어 상기 제 1 전사층과 상기 피전사 기판간의 접착성을 향상시키는 제 2 전사층; 및A second transfer layer formed on the first transfer layer and transferred to the transfer target substrate at the same time as the first transfer layer to improve adhesion between the first transfer layer and the transfer target substrate; And 상기 기재층과 상기 제 1 전사층 사이에 개재되어, 상기 기재층과 상기 제 1 전사층의 분리를 도와주는 이형층을 포함하고,And a release layer interposed between the base layer and the first transfer layer to help separate the base layer from the first transfer layer, 상기 제2 전사층은 광에 의해 반응하여 접착성이 저하되고,The second transfer layer reacts with light to lower the adhesiveness, 상기 이형층은 광에 의해 반응하여 접착성이 증대되는 것을 특징으로 하는 전사필름.Wherein the releasing layer reacts with light to increase the adhesiveness. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 2 전사층은 상기 피전사 기판에 대해 점착성 또는 접착성을 가지는 것을 특징으로 하는 전사필름.Wherein the second transfer layer has adhesiveness or adhesiveness to the image receiving substrate. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 2 전사층은 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지 및 이미드계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 전사필름.Wherein the second transfer layer is formed of at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, and an imide resin. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 전사층은 액정표시장치를 구성하는 배향막, 컬러필터, 오버코팅층 중 어느 하나를 형성하기 위한 물질로 형성된 특징으로 하는 전사필름.Wherein the first transfer layer is formed of a material for forming any one of an alignment layer, a color filter, and an overcoat layer constituting a liquid crystal display device. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 기재층은 폴리에스테르, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리우레탄 및 폴리아크릴로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 전사필름.Wherein the base layer is formed of at least one selected from the group consisting of polyester, polymethyl methacrylate, polyethylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyurethane and polyacryl. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 2 전사층에 점착되어 있으며, 상기 제 2 전사층을 보호하는 보호필름을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전사필름.Further comprising a protective film adhered to the second transfer layer and protecting the second transfer layer. 삭제delete 삭제delete 기판;Board; 상기 기판상에 형성된 배향막; 및An alignment layer formed on the substrate; And 상기 배향막 하부에 위치하며, 상기 기판과 상기 배향막을 접착하는 접착층을 포함하고,And an adhesive layer disposed under the alignment layer and adhering the substrate and the alignment layer, 상기 접착층은 광에 의해 반응하여 접착성이 저하되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.Wherein the adhesive layer reacts with light to lower the adhesiveness. 제 10 항에 있어서,11. The method of claim 10, 상기 기판상에 형성된 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.A thin film transistor formed on the substrate, and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor. 제 10 항에 있어서,11. The method of claim 10, 상기 기판상에 형성된 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 오버코트층, 상기 오버코트층상에 형성된 공통전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.A color filter formed on the substrate, an overcoat layer formed on the color filter, and a common electrode formed on the overcoat layer. 제 12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 컬러필터 또는 상기 오버코트층 중 적어도 어느 하나의 하부에 위치하는 접착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.Further comprising an adhesive layer positioned below at least any one of the color filter and the overcoat layer. 기판을 제공하는 단계;Providing a substrate; 상기 기판상으로 기재층과, 상기 기재층상에 형성되며, 상기 기판으로 전사되는 제 1 전사층과, 상기 제 1 전사층상에 형성되며, 상기 기판으로 상기 제 1 전사층과 동시에 전사되어 상기 제 1 전사층과 상기 기판간의 접착성을 향상시키는 제 2 전사층과 상기 기재층과 상기 제1 전사층 사이에 개재되어 상기 기재층과 상기 제1 전사층의 분리를 도와주는 이형층을 포함하는 전사필름을 라미네이션하는 단계; 및A first transfer layer formed on the base layer and transferred onto the substrate; a second transfer layer formed on the first transfer layer and transferred to the substrate simultaneously with the first transfer layer, A second transfer layer for improving adhesion between the transfer layer and the substrate, and a release layer interposed between the base layer and the first transfer layer to help separate the base layer from the first transfer layer, ; ≪ / RTI > And 상기 전사필름으로 광을 제공하여 상기 기판상으로 제 1 전사층과 제 2 전사층이 전사되는 단계를 포함하고,And transferring the first transfer layer and the second transfer layer onto the substrate by providing light to the transfer film, 상기 제2 전사층은 광에 의해 반응하여 접착성이 저하되고,The second transfer layer reacts with light to lower the adhesiveness, 상기 이형층은 광에 의해 반응하여 접착성이 증대되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.Wherein the release layer reacts with light to increase the adhesiveness. 제 14 항에 있어서,15. The method of claim 14, 상기 제 1 전사층은 배향막의 형성물질인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.Wherein the first transfer layer is a material for forming an alignment film. 삭제delete 제 15 항에 있어서,16. The method of claim 15, 상기 기판상에 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming a thin film transistor on the substrate and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor. 제 15 항에 있어서,16. The method of claim 15, 상기 기판상에 컬러필터, 상기 컬러필터 상에 형성된 오버코트층, 상기 오버 코트층상에 형성된 공통전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming a color filter, an overcoat layer formed on the color filter, and a common electrode formed on the overcoat layer on the substrate. 제 18항에 있어서,19. The method of claim 18, 상기 제 1 전사층은 상기 컬러필터 또는 상기 오버코트층의 형성물질인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.Wherein the first transfer layer is a material for forming the color filter or the overcoat layer.
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