KR101271172B1 - Conductive composition and electrode for touch panel - Google Patents

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Abstract

은, 바인더 수지 및 경화제를 포함하고, 상기 바인더 수지는 에폭시 수지이고, 상기 경화제는 라디칼계 광중합 개시 화합물, 과산화물계 화합물 또는 이들의 적어도 1종의 조합인 도전성 조성물이 제공된다.Silver, a binder resin and a hardening | curing agent, The said binder resin is an epoxy resin, The said hardening | curing agent is provided with the electrically conductive composition which is a radical type photoinitiation compound, a peroxide type compound, or a combination of at least 1 sort (s).

Description

도전성 조성물 및 그로부터 제조된 터치 패널용 전극{CONDUCTIVE COMPOSITION AND ELECTRODE FOR TOUCH PANEL}Electroconductive composition and the electrode for touch panels manufactured from the same {CONDUCTIVE COMPOSITION AND ELECTRODE FOR TOUCH PANEL}

도전성 조성물 및 그로부터 제조된 터치 패널용 전극에 관한 것이다.It relates to a conductive composition and an electrode for a touch panel produced therefrom.

다양한 전자 기기들은 도전성 부품들을 필수적으로 포함하게 되는데, 이들 도전성 부품들은 다른 도전성 부품 또는 비도전성 부품과 연결시 점착성이 우수하면서도 높은 전도성을 유지하여야 한다. 따라서, 이러한 도전성 부품 제조용 도전성 페이스트 조성물에 대하여 우수한 점착성 및 전도성 특성을 동시에 부여하고자 연구되어 오고 있다. 한편, 이들은 제조 공정에서 높은 온도가 요구되어 공정상 어려움이 있다.Various electronic devices essentially include conductive components, which must be highly tacky and maintain high conductivity when connected with other conductive or non-conductive components. Therefore, research has been conducted to simultaneously provide excellent adhesiveness and conductive properties to the conductive paste composition for producing conductive parts. On the other hand, they require a high temperature in the manufacturing process, there is a difficulty in the process.

본 발명의 일 구현예는 다양한 기재와의 점착력이 우수하고, 낮은 전기적 저항 특성을 구현할 수 있는 도전성 조성물을 제공하는 것이다.One embodiment of the present invention is to provide a conductive composition that is excellent in adhesion to various substrates, and can implement low electrical resistance properties.

본 발명의 다른 구현예는 상기 도전성 조성물로부터 제조된 터치 패널용 전극을 제공하는 것이다.Another embodiment of the present invention is to provide an electrode for a touch panel manufactured from the conductive composition.

본 발명의 일 구현예는 은, 바인더 수지 및 경화제를 포함하고, 상기 바인더 수지는 에폭시 수지이고, 상기 경화제는 라디칼계 광중합 개시 화합물, 과산화물계 화합물 또는 이들의 적어도 1종의 조합인 도전성 조성물을 제공한다.One embodiment of the present invention comprises a silver, a binder resin and a curing agent, the binder resin is an epoxy resin, the curing agent provides a conductive composition is a radical-based photopolymerization initiating compound, a peroxide-based compound or at least one combination thereof do.

상기 바인더 수지는 폴리에스테르 수지를 더 포함할 수 있다.The binder resin may further include a polyester resin.

상기 도전성 조성물은 은 100 중량부; 에폭시 수지 0.5 내지 25 중량부; 폴리에스테르 수지 0.1 내지 14.5 중량부; 및 경화제 0.01 내지 7.5 중량부를 포함할 수 있다.The conductive composition is 100 parts by weight of silver; 0.5 to 25 parts by weight of an epoxy resin; 0.1 to 14.5 parts by weight of polyester resin; And 0.01 to 7.5 parts by weight of a curing agent.

상기 라디칼계 광중합 개시 화합물은 벤조페논, 벤질디메틸케탈, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴), 1-히드록시시클로렛길페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸치오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄논, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥시드, 비스(2,6-다이메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드 또는 이들의 조합일 수 있다.The radical photopolymerization initiation compound is benzophenone, benzyl dimethyl ketal, 2,2'-azobis (2-methylpropionitrile), 1-hydroxycycloletgilphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2,2-dimethoxy-1, 2-diphenylethanone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2 , 6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphineoxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphineoxide or combinations thereof.

상기 과산화물계 경화제는 아세틸아세톤 퍼옥사이드, 사이클로헥사논 퍼옥사이드, 메틸사이클로헥사논 퍼옥사이드, 메틸에틸케톤 퍼옥사이드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, n-부틸 4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발러레이트, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시사이클로헥실)프로판, t-부틸 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠 하이드로퍼옥사이드, t-헥실 하이드로퍼옥사이드, p-메탄 하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 하이드로퍼옥사이드, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, D-t-부틸 퍼옥사이드, α,α'-비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥-3-신, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노에이트, α,α'-비스(네오데카노일퍼옥시)이소프로필벤젠, 큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥산, m-톨루오일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 이소부티릴 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아롤 퍼옥사이드, 숙신산 퍼옥사이드, 3,3,5,-트리메틸헥사노일 퍼옥사이드, 디-2-에톡시에틸 퍼옥시 퍼옥사이드, 디이소프로필 퍼옥시 퍼옥사이드, 디-3-메톡시부틸 퍼옥사이드, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에틸헥실 퍼옥시 디카보네이트, 비스(3-메틸-3-메톡시부틸) 퍼옥시 디카보네이트, 비스(4-t-부틸사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥실 모노카보네이트, 라우릴 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 이소부티레이트, t-부틸 퍼옥시 라우레이트, t-부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, t-부틸 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 m-톨루에이트(toluate), t-부틸 퍼옥시 m-벤조에이트, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, t-헥실 퍼옥시 피발레이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, 또는 이들의 조합일 수 있다.The peroxide curing agent is acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis ( t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, n-butyl 4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (4,4-di-t Butyl peroxycyclohexyl) propane, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, t-hexyl hydroperoxide, p-methane hydroperoxide, 1,1,3,3 Tetramethylbutyl hydroperoxide, t-butyl cumyl peroxide, Dt-butyl peroxide, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5- Methyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hex-3-cin, t-butylperoxy-3,5, 5-trimethyl hexanoate, α, α'-bis (neodecanoylperoxy) isopropylbenzene, cumyl peroxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy neodecanoate, 1- Cyclohexyl-1-methylethyl peroxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (Benzoylperoxy) hexane, m-toluoyl peroxide, benzoyl peroxide, isobutyryl peroxide, lauroyl peroxide, stearol peroxide, succinic acid peroxide, 3,3,5, -trimethylhexanoyl peroxide Oxide, di-2-ethoxyethyl peroxy peroxide, diisopropyl peroxy peroxide, di-3-methoxybutyl peroxide, di-n-propyl peroxy dicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxy Dicarbonate, bis (3-methyl-3- Methoxybutyl) peroxy dicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxy dicarbonate, t-butyl peroxy acetate, t-butyl peroxy 2-ethylhexyl monocarbonate, lauryl peroxide, t- Butyl peroxy isobutyrate, t-butyl peroxy laurate, t-butyl peroxy neodecanoate, t-butyl peroxy 2-ethyl hexanoate, t-butyl peroxy pivalate, t-butyl peroxy benzo T-butyl peroxy m-toluate, t-butyl peroxy m-benzoate, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy 2-ethyl hexanoate, t-hexyl peroxy pivalate, t-hexyl peroxy benzoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetra Methylbutyl peroxy 2-ethyl hexanoate, or a combination thereof.

상기 에폭시 수지는 구체적으로 비스페놀-A 또는 비스페놀-F형이거나 이들의 수소 첨가된 고분자 수지일 수 있다.Specifically, the epoxy resin may be bisphenol-A or bisphenol-F type or a hydrogenated polymer resin thereof.

상기 에폭시 수지는 반복단위 내에 카프로락톤을 개환 중합한 측쇄가 도입된 것일 수 있다.The epoxy resin may be one in which a side chain obtained by ring-opening polymerization of caprolactone is introduced into the repeating unit.

상기 에폭시 수지의 중량평균분자량은 10,000 내지 100,000일 수 있다.The weight average molecular weight of the epoxy resin may be 10,000 to 100,000.

상기 폴리에스테르 수지의 중량평균분자량은 3,000 내지 50,000일 수 있다.The weight average molecular weight of the polyester resin may be 3,000 to 50,000.

상기 도전성 조성물은 용제를 더 포함할 수 있다.The conductive composition may further include a solvent.

상기 용제는, 케톤계 용제, 알코올계 용제, 글리콜 에테르계 용제, 에스테르계 용제 또는 이들의 적어도 1종의 조합일 수 있다.The solvent may be a ketone solvent, an alcohol solvent, a glycol ether solvent, an ester solvent, or a combination of at least one thereof.

상기 은은 평균 입자 크기는 0.1 내지 10㎛ 일 수 있다.The silver has an average particle size of 0.1 to 10㎛.

상기 은은 은과 합금가능한 금속, 금속 나노 입자, 금속염, 유기 금속 화합물 또는 이들의 조합의 혼합물로 포함된 것일 수 있다.The silver may be contained in a mixture of silver and alloyable metals, metal nanoparticles, metal salts, organometallic compounds, or a combination thereof.

상기 도전성 조성물의 경화온도가 40℃ 내지 400℃일 수 있다.The curing temperature of the conductive composition may be 40 ℃ to 400 ℃.

본 발명의 다른 구현예는 상기 도전성 조성물로부터 제조된 터치 패널용 전극을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides an electrode for a touch panel manufactured from the conductive composition.

상기 도전성 조성물은 다양한 기재와의 점착력이 우수하고, 낮은 전기적 저항 특성을 구현할 수 있다.The conductive composition may have excellent adhesion with various substrates and implement low electrical resistance characteristics.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.

본 발명의 일 구현예에서, 은, 바인더 수지 및 경화제를 포함하는 도전성 조성물을 제공한다. In one embodiment of the present invention, there is provided a conductive composition comprising silver, a binder resin and a curing agent.

상기 바인더 수지는 에폭시 수지일 수 있다.The binder resin may be an epoxy resin.

상기 경화제는 라디칼계 광중합 개시 화합물, 과산화물계 화합물 또는 이들의 적어도 1종의 조합이다.The said hardening | curing agent is a radical type photoinitiator compound, a peroxide type compound, or a combination of at least 1 sort (s) of these.

상기 도전성 조성물은 전자 소자, 반도체 소자, IT 소자 등의 도전성 부품으로서, 전극, 지지 부재, 와이어 본딩 등의 부품 형성용 조성물로 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 도전성 조성물은 터치 패널의 전극 형성용으로 사용될 수 있다. The conductive composition is a conductive component such as an electronic device, a semiconductor device, or an IT device, and may be used as a composition for forming a component such as an electrode, a support member, and wire bonding. For example, the conductive composition may be used for forming an electrode of a touch panel.

상기 바인더 수지는 폴리에스테르 수지를 더 포함할 수 있다.The binder resin may further include a polyester resin.

이하, 상기 도전성 조성물의 각 성분에 대하여 보다 상술한다.Hereinafter, each component of the said conductive composition is explained in full detail.

상기 은(Ag)은 분말의 형태로 사용할 수 있다. 공지된 도전성 조성물로 사용되는 은(Ag)이 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 도선의 저항특성을 고려하여 최적의 저항값을 가지는 구형 분말, 판형 분말 또는 두 가지의 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 은(Ag) 입자의 평균 직경은 약 0.1 내지 10㎛일 수 있고, 바람직하게는 1 내지 5㎛일 수 있다.The silver (Ag) may be used in the form of a powder. Silver (Ag) used as a known conductive composition can be used without limitation. For example, the spherical powder, the plate-shaped powder, or a mixture of the two having optimal resistance values may be used in consideration of the resistance characteristics of the conductive wires. The average diameter of the silver (Ag) particles may be about 0.1 to 10㎛, preferably 1 to 5㎛.

상기 은(Ag)은 은과 합금가능한 금속, 이들의 금속 나노 입자, 금속염, 유기 금속 화합물 또는 이들의 조합의 혼합물로서 사용될 수 있다. 은과 합금가능한 금속의 예를 들면, Au, Pd, Pt, Cu 및 Al 등이고, 이들 금속의 합금도 포함할 수 있고, 소성시 이들 금속으로 환원되는 염 또는 유기 금속 화합물일 수 있다.The silver (Ag) may be used as a mixture of metals alloyable with silver, metal nanoparticles thereof, metal salts, organometallic compounds or combinations thereof. Examples of metals alloyable with silver are Au, Pd, Pt, Cu and Al, and the like, and may also include alloys of these metals, and may be salts or organometallic compounds that are reduced to these metals upon firing.

상기 에폭시 수지는 일반적으로 도전성 조성물의 바인더로서 사용되는 에폭시 수지로서 공지된 물질이 비제한적으로 사용될 수 있다. 예를 들면, 비스페놀-A 형의 구조단위를 가진 고분자, 비스페놀-A형 및 비스페놀-F형의 구조단위를 가진 고분자, 비스페놀-A 및 비스페놀-S형의 구조단위를 가진 고분자, 수소 첨가된(hydrogenated) 비스페놀-A형 및/또는 비스페놀-F형 및/또는 비스페놀-S형의 고분자와 같은 알파-글리콜기(a-glycol)를 가진 폴리하이드록시에테르형(Polyhydroxyether)의 고분자, 브롬계 에폭시, 인계 에폭시, 카프로락톤 변성 에폭시 또는 이들의 적어도 1종의 조합일 수 있다. 또한 필요에 따라서 반복되는 구조단위 내에 측쇄를 도입할 수도 있는데, 예를 들면 카프로락톤을 개환 중합하여 도입할 수 있다. 상기 에폭시 수지의 중량평균분자량은 약 10,000 내지 약 100,000일 수 있고, 바람직하게는 약 50,000 내지 약 70,000이다.The epoxy resin may be used without limitation, a material known as an epoxy resin generally used as a binder of the conductive composition. For example, a polymer having a structural unit of bisphenol-A type, a polymer having a structural unit of bisphenol-A and bisphenol-F type, a polymer having a structural unit of bisphenol-A and bisphenol-S type, hydrogenated ( hydrogenated) polyhydroxyether polymers having a-glycol, such as bisphenol-A and / or bisphenol-F and / or bisphenol-S, brominated epoxy, Phosphorus-based epoxy, caprolactone-modified epoxy, or combinations of at least one thereof. Moreover, although a side chain can also be introduce | transduced into a structural unit repeated as needed, for example, a caprolactone can be introduce | transduced by ring-opening-polymerization. The weight average molecular weight of the epoxy resin may be about 10,000 to about 100,000, preferably about 50,000 to about 70,000.

에폭시 수지의 함량은 도전성 조성물의 전기적 특성을 고려한 수지의 사용량 측면에서는 최소화하는 것이 바람직할 수 있다. 그러나 기재와의 점착력과 신뢰성 확보를 위하여 은 100 중량부 대비하여 에폭시 수지는 약 0.5 내지 약 25 중량부로 포함될 수 있고, 바람직하게는 약 3 내지 약 10 중량부로 포함될 수 있다. It may be desirable to minimize the content of the epoxy resin in terms of the amount of the resin in consideration of the electrical properties of the conductive composition. However, the epoxy resin may be included in an amount of about 0.5 to about 25 parts by weight, and preferably about 3 to about 10 parts by weight, relative to 100 parts by weight of silver to secure adhesion and reliability with the substrate.

상기 폴리에스테르 수지는 일반적으로 도전성 조성물의 바인더로서 사용되는 폴리에스테르 수지로서 공지된 물질이 비제한적으로 사용될 수 있다. 이러한 폴리에스테르 수지는 포화 폴리에스테르 수지와 불포화 폴리에스테르 수지가 있는데, 양자를 혼합하여 사용할 수도 있다. 폴리에스테르 수지는 다가 올코올과 다가 유기산의 축합반응으로 만들어지는 것으로, 그 특정 구조에 제한을 두지 않는다. 상기 폴리에스테르 수지의 중량평균분자량은 3,000 내지 50,000 일 수 있고, 바람직하게는 5,000 내지 10,000일 수 있다.The polyester resin can be used without limitation, a material known as a polyester resin generally used as a binder of the conductive composition. Such polyester resins include saturated polyester resins and unsaturated polyester resins, and both may be used in combination. Polyester resin is made by condensation reaction of polyhydric alcohol and polyhydric organic acid, and does not limit the specific structure. The weight average molecular weight of the polyester resin may be 3,000 to 50,000, preferably 5,000 to 10,000.

상기 폴리에스테르 수지의 함량은 은 100 중량부 대비하여 폴리에스테르 수지는 약 0.1 내지 약 14.5 중량부로 포함될 수 있고, 바람직하게는 약 1 내지 약 6 중량부로 포함될 수 있다.The polyester resin may be included in an amount of about 0.1 to about 14.5 parts by weight, and preferably about 1 to about 6 parts by weight, relative to 100 parts by weight of silver.

상기 경화제로서 사용될 수 있는 라디칼계 광중합 개시 화합물은 일반적으로 공지된 광개시제가 제한없이 사용될 수 있고, 구체적인 예를 들면, 벤조페논, 벤질디메틸케, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴), 1-히드록시시클로렛길페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸치오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄논, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥시드, 비스(2,6-다이메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드 또는 이들의 조합일 수 있다.Radical-based photopolymerization initiation compounds that can be used as the curing agent can be used without any known photoinitiator generally, for example, benzophenone, benzyldimethylke, 2,2'-azobis (2-methylpropionitrile ), 1-hydroxycycloretylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy 2-methyl-1-propane-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1 -(4-morpholinophenyl) -butanone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl ) Ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphineoxide, bis (2,4,6 -Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide or a combination thereof.

상기 경화제로서 사용될 수 있는 과산화물계 경화제는 일반적으로 공지된 과산화물계 경화제가 제한없이 사용될 수 있고, 구체적인 예를 들면, 아세틸아세톤 퍼옥사이드, 사이클로헥사논 퍼옥사이드, 메틸사이클로헥사논 퍼옥사이드, 메틸에틸케톤 퍼옥사이드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, n-부틸 4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발러레이트, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시사이클로헥실)프로판, t-부틸 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠 하이드로퍼옥사이드, t-헥실 하이드로퍼옥사이드, p-메탄 하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 하이드로퍼옥사이드, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, D-t-부틸 퍼옥사이드, α,α'-비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥-3-신, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노에이트, α,α'-비스(네오데카노일퍼옥시)이소프로필벤젠, 큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥산, m-톨루오일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 이소부티릴 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아롤 퍼옥사이드, 숙신산 퍼옥사이드, 3,3,5,-트리메틸헥사노일 퍼옥사이드, 디-2-에톡시에틸 퍼옥시 퍼옥사이드, 디이소프로필 퍼옥시 퍼옥사이드, 디-3-메톡시부틸 퍼옥사이드, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에틸헥실 퍼옥시 디카보네이트, 비스(3-메틸-3-메톡시부틸) 퍼옥시 디카보네이트, 비스(4-t-부틸사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥실 모노카보네이트, 라우릴 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 이소부티레이트, t-부틸 퍼옥시 라우레이트, t-부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, t-부틸 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 m-톨루에이트(toluate), t-부틸 퍼옥시 m-벤조에이트, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, t-헥실 퍼옥시 피발레이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, 또는 이들의 조합일 수 있다.Peroxide-based curing agents that can be used as the curing agent may be used without limitation, generally known peroxide-based curing agent, for example, acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methyl ethyl ketone Peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3, 5-trimethylcyclohexane, n-butyl 4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2 -Bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydride Loperoxide, t-hexyl hydroperoxide, p-methane hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxy , t-butyl cumyl peroxide, Dt-butyl peroxide, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t -Butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hex-3-cin, t-butylperoxy-3,5,5-trimethyl hexanoate, α, α'-bis (neodecanoylperoxy) isopropylbenzene, cumyl peroxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy 2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoylperoxy) hexane, m- Toluoyl peroxide, benzoyl peroxide, isobutyryl peroxide, lauroyl peroxide, stearol peroxide, succinic acid peroxide, 3,3,5, -trimethylhexanoyl peroxide, di-2-ethoxyethyl Peroxy peroxide, diisopropyl peroxy peroxsai , Di-3-methoxybutyl peroxide, di-n-propyl peroxy dicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxy dicarbonate, bis (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxy dicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxy dicarbonate, t-butyl peroxy acetate, t-butyl peroxy 2-ethylhexyl monocarbonate, lauryl peroxide, t-butyl peroxy isobutyrate, t-butyl per Oxylaurate, t-butyl peroxy neodecanoate, t-butyl peroxy 2-ethyl hexanoate, t-butyl peroxy pivalate, t-butyl peroxy benzoate, t-butyl peroxy m-tolu Toluate, t-butyl peroxy m-benzoate, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy 2-ethyl hexanoate, t-hexyl Peroxy pivalate, t-hexyl peroxy benzoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoe Agent, can be 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy-2-ethylhexanoate, or any combination thereof.

상기 경화제의 함량은 은 100 중량부 대비하여 경화제 약 0.01 내지 약 7.5 중량부로 포함될 수 있고, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 3 중량부로 포함될 수 있다.The content of the curing agent may be included in about 0.01 to about 7.5 parts by weight of the curing agent relative to 100 parts by weight of silver, preferably from about 0.1 to about 3 parts by weight.

상기 도전성 조성물은 용제를 더 포함하여 페이스트 형태로 제조될 수 있다. 상기 용제는 예를 들면, 케톤계 용제로서 사이클로헥사논, 메틸에틸케톤, 메틸아이소부틸케톤, 아세톤 및 이들의 유도체들, 알코올계 용제로서 메탄올, 에탄올, 분탄올, 벤질알코올 및 이들의 유도체들, 글리콜 에테르계 용제로서 에틸렌 글리콜, 이에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 및 이들의 유도체들, 에스터계 용제로서 에틸 락테이트, 디베이직 에스터 및 이들의 유도체들일 수 있고, 특정한 한 가지의 용제의 사용에 제한을 두는 것은 아니고 인쇄 특성 및 건조 특성을 고려하여 언급된 용제들의 혼합 사용도 가능하다.The conductive composition may be prepared in the form of a paste further including a solvent. The solvent is, for example, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone and derivatives thereof as ketone solvent, methanol, ethanol, buntanol, benzyl alcohol and derivatives thereof as alcohol solvent, Ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and derivatives thereof as glycol ether solvents, ethyl lactate, dibasic esters and derivatives thereof as ester solvents, the use of one particular solvent It is also possible to use a mixture of the solvents mentioned in consideration of the printing characteristics and the drying characteristics without limiting.

상기 용제의 사용량은 은(Ag) 100 중량부 대비하여 8 내지 25 중량부 사용할 수 있다.The amount of the solvent may be used 8 to 25 parts by weight relative to 100 parts by weight of silver (Ag).

상기와 같은 배합을 가지는 도전성 조성물은 다양한 소재의 기재와의 점착력이 우수한 에폭시 수지와 폴리에스테르 수지로 인해 적은 수지 함량을 사용하면서도 투명 전도성 기판 또는 필름과 같은 기재와의 우수한 점착력을 발휘할 수 있으며, 이로 인해 낮은 전기적 저항 특성을 유지하며, 신뢰성이 우수하다. 또한, 상기 도전성 조성물은 경화제 분해 온도에 따라 경화 온도를 조절할 수 있는데, 상대적으로 낮은 소성 경화가 가능하다.The conductive composition having the formulation as described above can exhibit excellent adhesion with a substrate such as a transparent conductive substrate or film while using a low resin content due to the epoxy resin and the polyester resin having excellent adhesion with various substrates. Due to its low electrical resistance characteristics, it has excellent reliability. In addition, the conductive composition can adjust the curing temperature according to the curing agent decomposition temperature, relatively low plastic curing is possible.

상기 도전성 조성물은 도전성 또는 비도전성 필름 또는 기판에 도포하거나 인쇄한 뒤 가열 및/또는 경화시킴으로써 점착성과 전도성이 우수한 도전성 패턴을 만들 수 있다.The conductive composition may be applied to or printed on a conductive or non-conductive film or substrate, and then heated and / or cured to form a conductive pattern having excellent adhesion and conductivity.

상기 도전성 조성물은 경화 온도가 40℃ 내지 400℃일 수 있다. 저온형으로 제조할 경우 60℃ 내지 150℃일 수 있고, 고온형으로 제조할 경우 150℃ 내지 300℃일 수 있다. 경화제의 개시 온도가 상온에서부터 고온까지 다양하기 때문에 원하는 경화온도 조건에 따라 자유롭게 배합하여 경화 온도를 조절할 수 있다.
The conductive composition may have a curing temperature of 40 ℃ to 400 ℃. When manufactured in a low temperature type it may be from 60 ℃ to 150 ℃, when manufactured in a high temperature type may be 150 ℃ to 300 ℃. Since the starting temperature of the curing agent varies from room temperature to high temperature, it is possible to freely mix the curing temperature according to the desired curing temperature conditions.

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 제시한다. 다만, 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로서 본 발명이 제한되어서는 아니 된다.
Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described. However, the embodiments described below are merely for illustrating or explaining the present invention in detail, and thus the present invention is not limited thereto.

실시예Example

실시예Example 1 내지 18 1 to 18

하기 표 1 및 표 2에 기재된 조성비(중량%)에 따라 조성물을 제조하였다. To prepare a composition according to the composition ratio (% by weight) described in Table 1 and Table 2.

본 실시예에서 사용한 구성성분은 다음과 같다.
The components used in this example are as follows.

은 분말: 입자의 평균직경 1.5㎛, 2.0㎛ 및 5.0㎛의 은 분말Silver powder: Silver powder with an average diameter of particles of 1.5 mu m, 2.0 mu m and 5.0 mu m

에폭시 수지: 비스페놀-A형Epoxy Resin: Bisphenol-A

폴리에스테르 수지: 노루케미칼사 제품, 켐스톨-3355 Polyester resin: Noru Chemical, Chemstol-3355

경화제: 벤조일 퍼옥사이드Curing Agent: Benzoyl Peroxide

용제: 에틸 카비톨 아세테이트와 부틸 셀루솔브 아세테이트를 1:1의 중량비로 사용
Solvent: Ethyl Carbitol Acetate and Butyl Cellulsolve Acetate in 1: 1 Weight Ratio

시편 제조Specimen Manufacturing

SUS(400 mesh), 선경 23㎛, 유제 12㎛로 구성된 재판과 쇼어A 경도 80의 스퀴즈를 이용하여 ITO-PET 필름기판에 하기 표 1의 조성에 따라 제조된 각 도전성 조성물을 60mm/sec속도로 인쇄하여 시편을 제조한 후, IR Oven 을 이용하여, 150℃에서 30분 동안 건조하여 시편을 제조하였다.
Each conductive composition prepared according to the composition of Table 1 on the ITO-PET film substrate using a trial composed of SUS (400 mesh), wire diameter 23 μm, emulsion 12 μm and Shore A hardness 80 at 60 mm / sec. After preparing the specimen by printing, the specimen was prepared by drying at 150 ° C. for 30 minutes using IR Oven.

물성평가Property evaluation

- 스크린 인쇄성 평가: Screen printability rating:

길이 10cm, 폭 100um, 80um, 60um, 50um의 패턴을 각각 인쇄하고, 인쇄시 패턴이 수축되거나 퍼지는지를 측정하였다. 1회, 10회, 50회, 100회, 200회 및 300회 연속 인쇄한 후 각각에 대하여 평가하였다.
Patterns of length 10 cm, width 100 um, 80 um, 60 um, and 50 um were printed, respectively, and measured whether the pattern contracted or spread during printing. Each was evaluated after 1, 10, 50, 100, 200 and 300 consecutive prints.

15% 이상의 수축이나 퍼짐이 생기면 불량으로, 15% 미만의 수축이나 퍼짐인 경우 우수한 것으로 판단하여 하기 표 1에 그 결과를 O, X로 기재하였다.When shrinkage or spread of 15% or more occurs, the defect is judged to be excellent in the case of shrinkage or spread of less than 15%, and the results are described in Table 1 below.

O: 우수O: Excellent

X: 불량
X: bad

- 선저항 평가:Wire resistance rating:

폭 100㎛ 및 길이 10cm 인쇄된 시편의 양단을 절연저항측정기를 이용하여 선저항을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
Both ends of the printed specimen having a width of 100 μm and a length of 10 cm were measured in the line resistance using an insulation resistance measuring instrument, and are shown in Table 1 below.

- 비저항:Resistivity

2cm * 1cm 직사각형 모양을 인쇄 건조 후 4 프로브(prove)를 이용하여 면저항을 측정하고, 마이크로 미터를 이용하여 두께를 측정하여, 하기의 공식을 이용하여 계산한다.After printing and drying a 2cm * 1cm rectangular shape, the sheet resistance is measured using four probes, the thickness is measured using a micrometer, and then calculated using the following formula.

비저항, ρ[Ωcm] = 면저항[Ω/□] *두께(cm)
Specific resistance, ρ [Ωcm] = sheet resistance [Ω / □] * thickness (cm)

- 박리성:Peelability:

2cm * 1cm 직사각형 모양을 인쇄 건조 후 나이프로 스크래치를 내어 가로 및 세로 1mm 간격인 100칸의 정사각형을 만들고, 그 위에 테이프(3M社 670]를 적층하여 점착한뒤, 45°각도로 잡아당겨 테이프를 탈착한 뒤, 테이프에 부착된 가로/세로 1mm 간격의 시편의 개수를 세어 부착력을 평가하여 하기 표 1에 O, X로 표기하였다.Print a 2cm * 1cm rectangular shape and dry it with a knife to make a square of 100 squares with horizontal and vertical 1mm intervals. Lay the tape (3M Company 670) on it and stick it, and pull it out at 45 ° angle. After desorption, the number of specimens 1 mm apart from each other attached to the tape was counted, and the adhesion was evaluated.

테이프와 같이 탈착된 시편의 개수가 0개 일 때 우수로 평가함: OExcellent when the number of removed specimens, such as tape, is zero: O

테이프와 같이 탈착된 시편의 개수가 1개 이상 일 때 불량으로 평가함: X
If the number of detached specimens, such as tape, is more than one, evaluate as bad: X

- 내후성:Weatherability:

인쇄 건조 한 샘플을 85℃/ 85% 고온 고습조건에서 5일 동안 유지 후, 상기 박리성 평가와 동일한 조건에서 박리성 평가를 진행하였다.After the print dried sample was maintained at 85 ° C./85% high temperature and high humidity for 5 days, the peelability evaluation was performed under the same conditions as the above peelability evaluation.

구분division 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 실시예8Example 8 실시예9Example 9 도전성
페이스트
조성
Conductivity
Paste
Furtherance
에폭시 수지Epoxy resin 6.3 g6.3 g 6.8 g6.8 g 7.2 g7.2 g 6.3 g6.3 g 6.8 g6.8 g 7.2 g7.2 g 6.3 g6.3 g 6.8 g6.8 g 7.2 g7.2 g
폴리에스터 수지Polyester resin -- -- -- -- -- -- -- -- 경화제Hardener 1.7 g1.7 g 1.8 g1.8 g 1.9 g1.9 g 1.7 g1.7 g 1.8 g1.8 g 1.9 g1.9 g 1.7 g1.7 g 1.8 g1.8 g 1.9 g1.9 g 용제solvent 21.6 g21.6 g 16.1 g16.1 g 10.5 g10.5 g 21.6 g21.6 g 16.1 g16.1 g 10.5 g10.5 g 21.6 g21.6 g 16.1 g16.1 g 10.5 g10.5 g 탈포제Defoaming agent 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 은분말
(1.5㎛)
Silver powder
(1.5 μm)
70.0 g70.0 g 75.0 g75.0 g 80.0 g80.0 g -- -- -- -- -- --
은분말
(2㎛)
Silver powder
(2 μm)
-- -- 70.0 g70.0 g 75.0 g75.0 g 80.0 g80.0 g -- -- --
은분말
(5.0㎛)
Silver powder
(5.0 μm)
-- -- -- -- -- -- 70.0 g70.0 g 75.0 g75.0 g 80.0 g80.0 g
평가결과Evaluation results 스크린 인쇄성Screen printability 1회1 time OO OO OO OO OO OO OO OO OO 10회10 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 50회50 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 100회
100 times
OO OO OO OO OO OO OO OO OO
200회200 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 300회300 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 선저항Wire resistance 0.5Ω0.5 Ω 비저항Resistivity 2.0*10-5(Ω㎝)2.0 * 10-5 (Ω㎝) 박리성Peelability OO OO OO OO OO OO OO OO OO 내후성Weatherability OO OO OO OO OO OO OO OO OO

구분division 실시예10Example 10 실시예11Example 11 실시예12Example 12 실시예13Example 13 실시예14Example 14 실시예15Example 15 실시예16Example 16 실시예17Example 17 실시예18Example 18 도전성
페이스트
조성
Conductivity
Paste
Furtherance
에폭시 수지Epoxy resin 5.0 g5.0 g 5.4 g5.4 g 5.8 g5.8 g 5.0 g5.0 g 5.4 g5.4 g 5.8 g5.8 g 5.0 g5.0 g 5.4 g5.4 g 5.8 g5.8 g
폴리에스터 수지Polyester resin 1.3 g1.3 g 1.4 g1.4 g 1.4 g1.4 g 1.3 g1.3 g 1.4 g1.4 g 1.4 g1.4 g 1.3 g1.3 g 1.4 g1.4 g 1.4 g1.4 g 경화제Hardener 1.7 g1.7 g 1.8 g1.8 g 1.9 g1.9 g 1.7 g1.7 g 1.8 g1.8 g 1.9 g1.9 g 1.7 g1.7 g 1.8 g1.8 g 1.9 g1.9 g 용제solvent 21.6 g21.6 g 16.1 g16.1 g 10.5 g10.5 g 21.6 g21.6 g 16.1 g16.1 g 10.5 g10.5 g 21.6 g21.6 g 16.1 g16.1 g 10.5 g10.5 g 탈포제Defoaming agent 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 0.4 g0.4 g 은분말
(1.5㎛)
Silver powder
(1.5 μm)
70.0 g70.0 g 75.0 g75.0 g 80.0 g80.0 g -- -- -- -- --
은분말
(2㎛)
Silver powder
(2 μm)
-- -- -- 70.0 g70.0 g 75.0 g75.0 g 80.0 g80.0 g -- -- --
은분말
(5.0㎛)
Silver powder
(5.0 μm)
-- -- -- -- -- -- 70.0 g70.0 g 75.0 g75.0 g 80.0 g80.0 g
평가결과Evaluation results 스크린 인쇄성Screen printability 1회1 time OO OO OO OO OO OO OO OO OO 10회10 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 50회50 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 100회100 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 200회200 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 300회300 times OO OO OO OO OO OO OO OO OO 선저항Wire resistance 2.0Ω2.0Ω 비저항Resistivity 5.0*10-5(Ω㎝)5.0 * 10-5 (Ωcm) 박리성Peelability OO OO OO OO OO OO OO OO OO 내후성Weatherability OO OO OO OO OO OO OO OO OO

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The present invention is not limited to the above embodiments, but may be manufactured in various forms, and a person skilled in the art to which the present invention pertains has another specific form without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It will be appreciated that the present invention may be practiced as. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (14)

(1) (i) 은, 및 (ii) 은과 합금가능한 금속, 금속 나노 입자, 금속염, 유기 금속 화합물, 또는 이들의 조합의 혼합물;
(2) 바인더 수지;
(3) 경화제; 및
(4) 탈포제;
를 포함하고,
상기 금속은 Au, Cu, Pd, Pt, 또는 이들의 조합이고,
상기 바인더 수지는 에폭시 수지이고, 상기 에폭시 수지는 말단에 알파-글리콜기(a-glycol)를 가진 폴리하이드록시에테르형(Polyhydroxyether)의 고분자, 수소 첨가된(hydrogenated) 알파-글리콜기(a-glycol)를 가진 폴리하이드록시에테르형(Polyhydroxyether)의 고분자, 브롬계 에폭시, 인계 에폭시, 카프로락톤 변성 에폭시 또는 이들의 적어도 1종의 조합이며,
상기 경화제는 라디칼계 광중합 개시 화합물, 과산화물계 화합물 또는 이들의 적어도 1종의 조합인
도전성 조성물.
(1) a mixture of (i) silver and (ii) a metal alloyable with silver, metal nanoparticles, metal salts, organometallic compounds, or combinations thereof;
(2) binder resins;
(3) curing agents; And
(4) defoamers;
Lt; / RTI >
The metal is Au, Cu, Pd, Pt, or a combination thereof,
The binder resin is an epoxy resin, and the epoxy resin is a polyhydroxyether polymer having an alpha-glycol at its end, and a hydrogenated alpha-glycol group. Polyhydroxyether type (polyhydroxyether) having a polymer, bromine-based epoxy, phosphorus-based epoxy, caprolactone-modified epoxy or a combination of at least one thereof,
The curing agent is a radical photopolymerization start compound, a peroxide compound or a combination of at least one thereof
Conductive composition.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 폴리에스테르 수지를 더 포함하는 것인
도전성 조성물.
The method of claim 1,
Wherein the binder resin further comprises a polyester resin
Conductive composition.
제2항에 있어서,
상기 (i) 은, 및 (ii) 은과 합금가능한 금속, 금속 나노 입자, 금속염, 유기 금속 화합물, 또는 이들의 조합의 혼합물 100 중량부;
상기 에폭시 수지 0.5 내지 25 중량부;
상기 폴리에스테르 수지 0.1 내지 14.5 중량부; 및
상기 경화제 0.01 내지 7.5 중량부를 포함하는
도전성 조성물.
The method of claim 2,
100 parts by weight of the mixture of (i) silver and (ii) metal alloyable with silver, metal nanoparticles, metal salts, organometallic compounds, or combinations thereof;
0.5 to 25 parts by weight of the epoxy resin;
0.1 to 14.5 parts by weight of the polyester resin; And
0.01 to 7.5 parts by weight of the curing agent
Conductive composition.
제1항에 있어서,
상기 라디칼계 광중합 개시 화합물은 벤조페논, 벤질디메틸케탈, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴), 1-히드록시시클로렛길페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸치오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄논, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥시드, 비스(2,6-다이메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드 또는 이들의 조합인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The radical photopolymerization initiation compound is benzophenone, benzyl dimethyl ketal, 2,2'-azobis (2-methylpropionitrile), 1-hydroxycycloletgilphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2,2-dimethoxy-1, 2-diphenylethanone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2 A conductive composition which is, 6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphineoxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 과산화물계 경화제는 아세틸아세톤 퍼옥사이드, 사이클로헥사논 퍼옥사이드, 메틸사이클로헥사논 퍼옥사이드, 메틸에틸케톤 퍼옥사이드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, n-부틸 4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발러레이트, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시사이클로헥실)프로판, t-부틸 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠 하이드로퍼옥사이드, t-헥실 하이드로퍼옥사이드, p-메탄 하이드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 하이드로퍼옥사이드, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, D-t-부틸 퍼옥사이드, α,α'-비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-비스(t-부틸퍼옥시)헥-3-신, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노에이트, α,α'-비스(네오데카노일퍼옥시)이소프로필벤젠, 큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일퍼옥시)헥산, m-톨루오일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 이소부티릴 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 스테아롤 퍼옥사이드, 숙신산 퍼옥사이드, 3,3,5,-트리메틸헥사노일 퍼옥사이드, 디-2-에톡시에틸 퍼옥시 퍼옥사이드, 디이소프로필 퍼옥시 퍼옥사이드, 디-3-메톡시부틸 퍼옥사이드, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에틸헥실 퍼옥시 디카보네이트, 비스(3-메틸-3-메톡시부틸) 퍼옥시 디카보네이트, 비스(4-t-부틸사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸헥실 모노카보네이트, 라우릴 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 이소부티레이트, t-부틸 퍼옥시 라우레이트, t-부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, t-부틸 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 m-톨루에이트(toluate), t-부틸 퍼옥시 m-벤조에이트, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, t-헥실 퍼옥시 피발레이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸 퍼옥시 2-에틸 헥사노에이트, 또는 이들의 조합인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The peroxide curing agent is acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis ( t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, n-butyl 4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (4,4-di-t Butyl peroxycyclohexyl) propane, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, t-hexyl hydroperoxide, p-methane hydroperoxide, 1,1,3,3 Tetramethylbutyl hydroperoxide, t-butyl cumyl peroxide, Dt-butyl peroxide, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5- Methyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hex-3-cin, t-butylperoxy-3,5, 5-trimethyl hexanoate, α, α'-bis (neodecanoylperoxy) isopropylbenzene, cumyl peroxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy neodecanoate, 1- Cyclohexyl-1-methylethyl peroxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (Benzoylperoxy) hexane, m-toluoyl peroxide, benzoyl peroxide, isobutyryl peroxide, lauroyl peroxide, stearol peroxide, succinic acid peroxide, 3,3,5, -trimethylhexanoyl peroxide Oxide, di-2-ethoxyethyl peroxy peroxide, diisopropyl peroxy peroxide, di-3-methoxybutyl peroxide, di-n-propyl peroxy dicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxy Dicarbonate, bis (3-methyl-3- Methoxybutyl) peroxy dicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxy dicarbonate, t-butyl peroxy acetate, t-butyl peroxy 2-ethylhexyl monocarbonate, lauryl peroxide, t-butyl Peroxy isobutyrate, t-butyl peroxy laurate, t-butyl peroxy neodecanoate, t-butyl peroxy 2-ethyl hexanoate, t-butyl peroxy pivalate, t-butyl peroxy benzoate t-butyl peroxy m-toluate, t-butyl peroxy m-benzoate, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy 2 Ethyl hexanoate, t-hexyl peroxy pivalate, t-hexyl peroxy benzoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethyl A conductive composition that is butyl peroxy 2-ethyl hexanoate, or a combination thereof.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지는 반복단위 내에 카프로락톤을 개환 중합한 측쇄가 도입된 것인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin is a conductive composition wherein the side chain of the ring-opening polymerization of caprolactone is introduced into the repeating unit.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지의 중량평균분자량은 10,000 내지 100,000인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The weight average molecular weight of the epoxy resin is 10,000 to 100,000 conductive composition.
제2항에 있어서,
상기 폴리에스테르 수지의 중량평균분자량은 3,000 내지 50,000 인 도전성 조성물.
The method of claim 2,
The weight average molecular weight of the polyester resin is 3,000 to 50,000 conductive composition.
제1항에 있어서,
상기 도전성 조성물은 용제를 더 포함하고,
상기 용제는, 케톤계 용제, 알코올계 용제, 글리콜 에테르계 용제, 에스테르계 용제 또는 이들의 적어도 1종의 조합인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The conductive composition further includes a solvent,
The said solvent is a ketone solvent, an alcohol solvent, a glycol ether solvent, an ester solvent, or these at least 1 sort (s) of these electrically conductive compositions.
제1항에 있어서,
상기 은은 평균 입자 크기는 0.1 내지 10㎛ 인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The silver has an average particle size of 0.1 to 10㎛ conductive composition.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 도전성 조성물의 경화온도가 40℃ 내지 400℃인 도전성 조성물.
The method of claim 1,
The conductive composition whose curing temperature of the said conductive composition is 40 degreeC-400 degreeC.
제1항 내지 제5항, 제7항 내지 제11항, 및 제13항 중 어느 한 항에 따른 도전성 조성물로부터 제조된 터치 패널용 전극.The electrode for touch panels manufactured from the conductive composition of any one of Claims 1-5, 7-11, and 13.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100215186B1 (en) 1995-08-16 1999-08-16 미리암 디. 메코나헤이 Thick Film Conductor Paste Compositions for Aluminum Nitride Substrates
KR20080034216A (en) * 2003-11-11 2008-04-18 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Curable composition, cured object, color filter, and liquid-crystal display
KR20090059298A (en) * 2007-12-06 2009-06-11 제일모직주식회사 Conductive paste having a good flexibility and heat resistance
KR20100121490A (en) * 2008-11-20 2010-11-17 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 Connecting film, bonded body and method for manufacturing the bonded body

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100215186B1 (en) 1995-08-16 1999-08-16 미리암 디. 메코나헤이 Thick Film Conductor Paste Compositions for Aluminum Nitride Substrates
KR20080034216A (en) * 2003-11-11 2008-04-18 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Curable composition, cured object, color filter, and liquid-crystal display
KR20090059298A (en) * 2007-12-06 2009-06-11 제일모직주식회사 Conductive paste having a good flexibility and heat resistance
KR20100121490A (en) * 2008-11-20 2010-11-17 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 Connecting film, bonded body and method for manufacturing the bonded body

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