KR101268679B1 - Transcription film for in-mold and method of manufacturing the transcription film for in-mold by silk screen process - Google Patents

Transcription film for in-mold and method of manufacturing the transcription film for in-mold by silk screen process Download PDF

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Abstract

이형층을 실크 스크린 공법을 이용하여 형성하는 것을 통하여 진공 금형의 설계 변경 없이도 다양한 패턴의 입체 질감을 구현하는 것이 가능한 인몰드용 전사필름 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 실크 스크린 공법을 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름 제조 방법은 실크 스크린을 이용하여 기재층의 상부에 이형층을 형성하는 단계; 상기 이형층의 상부에 하드 코팅층을 형성하는 단계; 상기 하드 코팅층의 상부에 인쇄층을 형성하는 단계; 상기 인쇄층의 상부에 프라이머층을 형성하는 단계; 및 상기 프라이머층의 상부에 접착층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Disclosed is a method for manufacturing an in-mold transfer film capable of realizing a three-dimensional texture of various patterns without changing a design of a vacuum mold by forming a release layer using a silk screen method.
In-mold transfer film manufacturing method that can realize a three-dimensional texture of a variety of patterns through the silk screen method according to the present invention comprises the steps of forming a release layer on top of the base layer using a silk screen; Forming a hard coating layer on top of the release layer; Forming a printing layer on top of the hard coating layer; Forming a primer layer on the printed layer; And forming an adhesive layer on the primer layer.

Description

실크 스크린 공법을 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름 및 그 제조 방법{TRANSCRIPTION FILM FOR IN-MOLD AND METHOD OF MANUFACTURING THE TRANSCRIPTION FILM FOR IN-MOLD BY SILK SCREEN PROCESS}TRANSCRIPTION FILM FOR IN-MOLD AND METHOD OF MANUFACTURING THE TRANSCRIPTION FILM FOR IN-MOLD BY SILK SCREEN PROCESS}

본 발명은 인몰드용 전사필름 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이형 코팅층을 실크 스크린 공법으로 형성하는 것을 통하여 진공 금형의 설계 변경 없이도 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for manufacturing an in-mold transfer film, and more specifically, to forming a release coating layer by a silk screen method, an in-mold transfer film capable of realizing a three-dimensional texture of various patterns without changing the design of a vacuum mold, and its manufacture It is about a method.

최근, 기술 발전에 힘입어 다양한 전기 및 전자 제품이 계속적으로 출현하고 있고, 대표적으로 휴대폰과 같은 이동통신 단말기는 그 사용인구가 기하급수적으로 늘어나면서 생활 필수품 중 하나가 되었다. 이 외에도, 노트북, 전자수첩, MP3, PDA, 네비게이션 등은 소형화되면서 휴대가 가능해짐에 따라 그 사용자가 점점 늘어나고 있는 추세이다.Recently, with the development of technology, various electric and electronic products are continuously appearing, and representatively, mobile communication terminals such as mobile phones have become one of the necessities of life as the number of users increases exponentially. In addition, notebooks, electronic notebooks, MP3, PDA, navigation, etc. are becoming smaller and more portable as the user is increasingly increasing.

한편, 전기 및 전자제품은 주된 소비층인 젊은 세대의 취향을 충족하기 위하여 그 기능성뿐만 아니라 외부로 보여지는 미감, 즉 색상이나 디자인에 대해서도 다양한 시도가 이루어지고 있다. 이러한 시도 중 하나로 최근에는 인몰드용 전사필름을 이용하여 동시 사출을 통하여 최종 완제품인 사출 성형물을 제조하고 있다.On the other hand, in order to satisfy the taste of the young generation, which is the main consumer, electric and electronic products, various attempts have been made not only for its functionality but also for the aesthetics that are seen from the outside, that is, the colors and designs. As one of these attempts, recently, injection moldings, which are final products, have been manufactured through simultaneous injection using an in-mold transfer film.

그러나, 종래의 인몰드용 전사 필름은 평면형의 무늬만을 구현하는 것이 가능할 뿐, 입체적인 무늬를 구현하기 위해서는 진공 금형을 설계 변경해야 하나, 이 경우 진공 금형을 설계 변경 또는 추가적인 진공 금형을 제작해야 하는 데 따른 비용 상승 문제가 있다.
However, the conventional in-mold transfer film can only implement a flat pattern, and in order to realize a three-dimensional pattern, the vacuum mold must be changed in design. In this case, the vacuum mold must be changed in design or additional vacuum mold must be manufactured. There is a problem of rising costs.

본 발명의 하나의 목적은 진공 금형의 설계 변경 없이 다양한 입체 질감을 구현할 수 있는 인서트 몰드용 전사필름 제조 방법을 제공하는 데 있다.One object of the present invention is to provide a transfer film manufacturing method for an insert mold that can implement a variety of three-dimensional texture without changing the design of the vacuum mold.

본 발명의 다른 목적은 상기 제조 방법에 의하여 제조되는 인몰드용 전사필름을 제공하는 데 있다.
Another object of the present invention to provide a transfer film for in-mold produced by the manufacturing method.

상기 하나의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 실크 스크린 공법을 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름 제조 방법은 실크 스크린을 이용하여 기재층의 상부에 이형층을 형성하는 단계; 상기 이형층의 상부에 하드 코팅층을 형성하는 단계; 상기 하드 코팅층의 상부에 인쇄층을 형성하는 단계; 상기 인쇄층의 상부에 프라이머층을 형성하는 단계; 및 상기 프라이머층의 상부에 접착층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
In-mold transfer film manufacturing method that can realize a three-dimensional texture of a variety of patterns through the silk screen method according to an embodiment of the present invention for achieving the above object to form a release layer on the base layer using a silk screen Making; Forming a hard coating layer on top of the release layer; Forming a printing layer on top of the hard coating layer; Forming a primer layer on the printed layer; And forming an adhesive layer on the primer layer.

상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 실크 스크린 공법을 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름은 위로부터 기재층, 이형층, 하드 코팅층, 인쇄층, 프라이머층 및 접착층을 포함하며, 상기 이형층은 실크 스크린 공법에 의하여 2~7㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 한다.
In-mold transfer film that can realize a three-dimensional texture of various patterns through the silk screen method according to an embodiment of the present invention for achieving the above another object is a base layer, release layer, hard coating layer, printing layer, primer layer and Including an adhesive layer, the release layer is characterized in that formed by a thickness of 2 ~ 7㎛ by the silk screen method.

본 발명에 따른 인몰드용 전사필름은 실크 스크린 공법에 의하여 이형층이 형성되므로, 기재층의 상부에 형성되는 이형층의 표면에 다양한 입체 무늬 패턴을 구현하는 것이 용이한바, 이형층의 표면에 형성되는 입체 무늬 패턴에 의하여 진공 금형의 설계 변경 없이도 이형층의 상측에 형성되는 인쇄층의 인쇄 문양이 입체적으로 살아날 수 있는 효과가 있다.
Since the release layer is formed by the silk screen method of the in-mold transfer film according to the present invention, it is easy to implement various three-dimensional pattern on the surface of the release layer formed on the base layer, which is formed on the surface of the release layer. By the three-dimensional pattern, the printing pattern of the printed layer formed on the upper side of the release layer can be three-dimensionally survived without changing the design of the vacuum mold.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름에 대하여 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름 제조 방법에 대하여 나타낸 공정 순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 이형층 형성 단계에 대하여 개략적으로 나타낸 공정 모식도이다.
1 is a cross-sectional view showing an in-mold transfer film according to an embodiment of the present invention.
2 is a process flowchart showing a method for manufacturing an in-mold transfer film according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a schematic process diagram showing the release layer forming step according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 실크 스크린 공법을 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름 및 그 제조 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.
Hereinafter, an in-mold transfer film and a method of manufacturing the same may be described with reference to the accompanying drawings that can realize a three-dimensional texture of various patterns through a silk screen method according to an embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름에 대하여 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an in-mold transfer film according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름(100)은 기재층(110), 이형층(120), 하드 코팅층(130), 인쇄층(140), 프라이머층(150) 및 접착층(160)을 포함한다.
Referring to Figure 1, the in-mold transfer film 100 according to an embodiment of the present invention is a base layer 110, a release layer 120, a hard coating layer 130, a printing layer 140, a primer layer 150 And an adhesive layer 160.

기재층(110)은 PET(polyethylene terephthalate), PC(polycarbonate), PP(polypropylene) 및 아크릴(acrylic) 중 선택된 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.
The base layer 110 may be formed of at least one material selected from polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), and acrylic.

이형층(120)은 기재층(110)의 상부에 형성되며, 사출 금형 내에 인몰드용 전사필름(100)을 삽입한 상태에서 용융된 수지를 사출 성형하여 제작되는 사출 성형물(미도시)을 제작한 후, 상기 사출 성형물로부터 기재층(110)을 제거하기 위한 목적으로 형성되는 것으로, 특히 본 발명의 실시예에 따른 이형층(120)은 실크 스크린 공법(silk screen process)을 통하여 기재층(110)의 상부에 형성된 것을 특징으로 한다.The release layer 120 is formed on the base layer 110, and manufactured an injection molding (not shown) manufactured by injection molding molten resin in a state where the in-mold transfer film 100 is inserted into an injection mold. After that, it is formed for the purpose of removing the base layer 110 from the injection molding, in particular, the release layer 120 according to an embodiment of the present invention is the base layer 110 through a silk screen process (silk screen process) Characterized in that formed on top of.

이형층(120)은 에폭시계, 에폭시-멜라민계, 아미노알키드계, 아크릴계, 멜라민계, 실리콘계, 불소계, 셀룰로오스계, 요소 수지계, 폴리올레핀계, 파라핀계 중 선택된 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.The release layer 120 may be formed of one or more materials selected from epoxy, epoxy-melamine, aminoalkyd, acrylic, melamine, silicone, fluorine, cellulose, urea resin, polyolefin, and paraffin.

이때, 상기 이형층(120)의 두께는 2~7㎛로 형성하는 것이 바람직하다. 만약, 상기 이형층(120)의 두께가 2㎛ 미만일 경우에는 그 두께가 너무 얇아 이형층(120)의 상측에 형성될 하기의 인쇄층(140)에 입체적인 질감을 구현하는 것이 어려울 수 있고, 반대로 이형층(120)의 두께가 7㎛를 초과할 경우에는 이형제의 미경화에 따른 경시변화로 사출 시 미박리를 유발하는 문제가 있다.
At this time, the thickness of the release layer 120 is preferably formed to 2 ~ 7㎛. If the thickness of the release layer 120 is less than 2 μm, it may be difficult to realize a three-dimensional texture in the printing layer 140 to be formed on the upper side of the release layer 120 because the thickness is too thin. When the thickness of the release layer 120 exceeds 7 μm, there is a problem of causing unpeeling during injection due to the time-dependent change due to the uncured release agent.

이와 같이, 이형층(120)을 실크 스크린 공법을 이용하여 형성할 경우, 이형제 조성물의 양 조절이 용이할 뿐만 아니라, 실크 스크린 망의 크기 및 설계 변경을 통하여 다양한 무늬의 입체적인 패턴을 구현할 수 있게 되며, 이에 대한 상세한 설명은 후술하도록 한다.
As such, when the release layer 120 is formed by using the silk screen method, not only the amount of release agent composition can be easily adjusted, but also the three-dimensional pattern of various patterns can be realized by changing the size and design of the silk screen net. This will be described later.

하드 코팅층(130)은 사출 성형 시, 후술할 인쇄층(150)에 스크래치가 발생되는 것을 방지하기 위한 목적으로 형성된다.The hard coating layer 130 is formed for the purpose of preventing scratches in the print layer 150 to be described later during injection molding.

이러한 하드 코팅층(130)은 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계 및 실록산계 폴리머 재질 중 1종 이상을 사용할 수 있고, 또한 올리고머(oligomer)와 같은 자외선 경화 수지를 사용할 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층(130)은 강도 향상을 위하여 실리카(silica)계의 필러를 더 포함할 수도 있다.The hard coating layer 130 may use at least one of acrylic, urethane, epoxy, and siloxane polymer materials, and may also use an ultraviolet curable resin such as an oligomer. In addition, the hard coating layer 130 may further include a silica-based filler to improve the strength.

이때, 상기 하드 코팅층(130)은 4~8㎛의 두께로 형성하는 것이 좋다. 만약, 하드 코팅층(130)의 두께가 4㎛ 미만일 경우에는 스크래치 방지 효과가 미미할 수 있고, 반대로 하드 코팅층(130)의 두께가 8㎛를 초과할 경우에는 필름의 신율 저하로 사출시 크랙(Crack) 및 브리틀(Brittle)로 인한 가루 발생으로 사출 불량을 유발하는 문제가 발생할 수 있다.
At this time, the hard coating layer 130 may be formed to a thickness of 4 ~ 8㎛. If the thickness of the hard coating layer 130 is less than 4㎛ the scratch prevention effect may be insignificant, on the contrary, if the thickness of the hard coating layer 130 exceeds 8㎛ cracks during injection due to the elongation of the film decreases And a powder generation due to brittle may cause a problem of injection failure.

인쇄층(140)은 그라비아 인쇄 또는 플렉소 인쇄 중 어느 하나를 이용하는 것에 의하여 형성될 수 있다. 인쇄층(140)은 서로 같거나 다른 문양을 갖고 있어 인물사진, 패턴, 다양한 컬러, 다양한 문양 등을 원하는 형태로 자유로이 구현할 수 있다.The print layer 140 may be formed by using either gravure printing or flexographic printing. The print layer 140 may have the same or different patterns, and may freely implement a portrait photograph, a pattern, various colors, various patterns, and the like in a desired form.

프라이머층(150)은 인쇄층(140)과 후술할 접착층(160) 사이에 개재되어 접착층(160)의 접착력을 보강한다.The primer layer 150 is interposed between the print layer 140 and the adhesive layer 160 to be described later to reinforce the adhesive force of the adhesive layer 160.

이러한 프라이머층(150)은 우레탄 수지 또는 변성아크릴수지를 주성분으로 하거나 폴리이소시아네이트 및 폴리올을 주성분으로 하는 것을 이용할 수 있으며, 보다 구체적으로는 폴리에스테르 폴리올, 폴리이소시아네이트, 변성아크릴, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것이 바람직하다.The primer layer 150 may include a urethane resin or a modified acrylic resin as a main component or a polyisocyanate and a polyol as a main component, and more specifically, a polyester polyol, polyisocyanate, modified acrylic, metal oxide fine particles and a curing catalyst. It is preferable to form at least 1 sort (s) selected from these.

접착층(160)은 폴리에스테르, 폴리우레탄, 아크릴, EVA(ethylene co-vinyl acetate), PVAc(polyvinyl acetate) 등의 접착제를 그라비아 인쇄, 플렉소 인쇄, 마이크로 그라비아 코팅, 콤마코팅, 롤코팅 중 선택된 하나 이상의 방식을 이용하여 적정 두께로 도포한 후, 일정 온도로 경화하는 것에 의하여 형성될 수 있다.
The adhesive layer 160 is one selected from gravure printing, flexographic printing, micro gravure coating, comma coating, and roll coating adhesive such as polyester, polyurethane, acrylic, ethylene co-vinyl acetate (EVA) and polyvinyl acetate (PVAc). It can be formed by applying to a suitable thickness using the above method, and then curing at a constant temperature.

전술한 바와 같이, 인몰드용 전사필름과 같이, 실크 스크린 공법으로 이형층을 형성할 경우, 이형제 조성물의 양 조절이 용이하여 정밀한 코팅이 가능하므로 기재층의 상부에 형성되는 이형층의 두께 조절이 가능해져 입체적인 패턴을 구현하는 것이 용이해질 수 있다. 이 결과, 이형층의 표면에 형성되는 입체적인 패턴의 상측에 인쇄층을 형성할 경우, 상기 입체적인 패턴이 인쇄층에 그대로 전이되어 진공 금형의 설계 변경 없이도 다양한 패턴의 차별화된 입체 질감을 구현하는 것이 가능해진다.
As described above, when the release layer is formed by the silk screen method, such as an in-mold transfer film, the amount of the release agent composition can be easily adjusted to enable precise coating, thereby controlling the thickness of the release layer formed on the base layer. It may be easy to implement a three-dimensional pattern. As a result, when the printed layer is formed on the upper side of the three-dimensional pattern formed on the surface of the release layer, the three-dimensional pattern is transferred to the printed layer as it is, it is possible to implement a differentiated three-dimensional texture of various patterns without changing the design of the vacuum mold Become.

이에 대해서는, 이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 실시예에 따른 실크 스크린 공법을 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름 제조 방법을 토대로 보다 구체적으로 설명하도록 한다.This will be described in more detail based on the method of manufacturing an in-mold transfer film for realizing a three-dimensional texture of various patterns through the silk screen method according to an embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름 제조 방법에 대하여 나타낸 공정 순서도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 이형층 형성 단계에 대하여 개략적으로 나타낸 공정 모식도이다.FIG. 2 is a process flowchart showing a method for manufacturing an in-mold transfer film according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic view showing a process of forming a release layer according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름 제조 방법은 이형층 형성 단계(S110), 하드 코팅층 형성 단계(S120), 인쇄층 형성 단계(S130), 프라이머층 형성 단계(S140) 및 접착층 형성 단계(S150)를 포함한다.
2 and 3, in-mold transfer film manufacturing method according to an embodiment of the present invention release layer forming step (S110), hard coating layer forming step (S120), printing layer forming step (S130), primer layer formation A step S140 and an adhesive layer forming step S150 are included.

이형층 형성 단계(S110)에서는 스테이지(105)의 상부에 안착되는 기재층(110)과 이격된 상부에 실크 스크린(125)을 장착한 후, 상기 실크 스크린(125)과 이격된 상부에 이형제 조성물(122)이 공급되는 저장 탱크(145)를 배치시킨 상태에서 저장 탱크(145)의 노즐(142)을 이용하여 실크 스크린(125)의 표면에 일정량의 이형제 조성물(122)을 적하한다.In the release layer forming step (S110), after the silk screen 125 is mounted on an upper portion of the stage 105 spaced apart from the base layer 110, the release agent composition is spaced apart from the silk screen 125. A predetermined amount of the release agent composition 122 is dripped on the surface of the silk screen 125 using the nozzle 142 of the storage tank 145 in the state which arrange | positioned the storage tank 145 to which 122 is supplied.

이때, 실크 스크린(125)은 이의 상하 및 좌우 운동을 제어하는 홀더(155)에 의하여 기재층(110)과의 얼라인이 이루어진다.At this time, the silk screen 125 is aligned with the base layer 110 by the holder 155 for controlling its vertical and horizontal movements.

여기서, 상기 이형제 조성물(122)은 에폭시계, 에폭시-멜라민계, 아미노알키드계, 아크릴계, 멜라민계, 실리콘계, 불소계, 셀룰로오스계, 요소 수지계, 폴리올레핀계 및 파라핀계 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것이 바람직하다.Here, the release agent composition 122 is formed of at least one selected from epoxy, epoxy-melamine, amino alkyd, acrylic, melamine, silicone, fluorine, cellulose, urea resin, polyolefin and paraffin. desirable.

이때, 상기 이형제 조성물(122)은 100~6000cP의 점도를 갖도록 조절하는 것이 바람직하다. 만약, 이형제 조성물(122)의 점도가 100cP 미만일 경우에는 그 점도가 너무 낮아 흘러내리는 문제로 표면 코팅에 어려움이 따를 수 있고, 반대로, 이형제 조성물(122)의 점도가 6000cP를 초과할 경우에는 점도가 너무 높아 쉽게 고화되어 실크 스크린(125)을 통과하는 데 어려움이 따를 수 있으며, 노즐 막힘과 같은 불량을 야기할 수 있다.
At this time, the release agent composition 122 is preferably adjusted to have a viscosity of 100 ~ 6000cP. If the viscosity of the release agent composition 122 is less than 100 cP, it may be difficult to coat the surface due to the problem that the viscosity is too low to flow down. On the contrary, if the viscosity of the release agent composition 122 exceeds 6000 cP, the viscosity may be high. It may be too high to easily solidify and have difficulty passing through the silk screen 125 and may cause defects such as nozzle clogs.

다음으로, 상기 실크 스크린(125)의 표면에 적하되는 이형제 조성물(122)을 스퀴즈(135)를 이용하여 실크 스크린(125)의 망 내로 밀어 넣어 기재층(110)의 상부에 이형제 조성물이 도포되도록 하여 이형제 코팅층(미도시)을 형성한다.Next, the release agent composition 122 dropped on the surface of the silk screen 125 is pushed into the net of the silk screen 125 using the squeeze 135 so that the release agent composition is applied on the upper portion of the base layer 110. To form a release agent coating layer (not shown).

이때, 상기 실크 스크린(125)의 망 내에 이형제 조성물(122)을 밀어 넣을 시, 1~5kg/cm²의 압력으로 스퀴즈 가압을 실시하고, 2~7cm/sec의 속도로 스퀴즈를 이동하는 것이 바람직하다.At this time, when the mold release agent composition 122 is pushed into the web of the silk screen 125, it is preferable to perform squeeze pressurization at a pressure of 1 to 5 kg / cm² and to move the squeeze at a speed of 2 to 7 cm / sec. .

만약, 상기 스퀴즈 가압이 1kg/cm²미만으로 실시될 경우에는 이형제 조성물(122)을 실크 스크린(125)의 망 내에 밀어 넣는 데 어려움이 따를 수 있고, 반대로, 스퀴즈 가압이 5kg/cm²를 초과할 경우에는 스퀴즈의 가압이 너무 높아 실크 스크린(125)에 손상이 발생될 수 있는 문제점이 있다.
If the squeeze pressurization is performed at less than 1 kg / cm², it may be difficult to push the release agent composition 122 into the web of the silk screen 125. On the contrary, if the squeeze pressurization exceeds 5 kg / cm². There is a problem that the pressure of the squeeze is too high may cause damage to the silk screen (125).

또한, 상기 스퀴즈 이동 속도가 2cm/sec 미만일 경우에는 이동 속도가 너무 느린 관계로 공정 수율이 저하될 우려가 있으며, 반대로, 스퀴즈 이동 속도가 7cm/sec를 초과할 경우에는 이동 속도가 너무 빠르게 진행되어 실크 스크린(125)의 표면에 이형제 조성물(122)을 균일하게 분산시키는 데 어려움이 따를 수 있다.
In addition, if the squeeze movement speed is less than 2cm / sec, the process yield may be reduced because the movement speed is too slow, on the contrary, if the squeeze movement speed exceeds 7cm / sec, the movement speed is too fast Difficulties in uniformly dispersing the release agent composition 122 on the surface of the silk screen 125 may be followed.

다음으로, 상기 기재층(110)의 상부에 장착된 실크 스크린을 제거한 후, 기재층(110)의 상부 전면에 도포된 이형제 코팅층을 60~120℃에서 15~30초간 경화하는 것에 의하여 이형층(도 1의 120)을 형성할 수 있다. 여기서, 상기 이형제 코팅층은 열, UV 및 IR 중 하나 이상을 이용하여 경화할 수 있다.Next, after removing the silk screen mounted on the upper portion of the base layer 110, by releasing the release agent coating layer applied to the entire upper surface of the base layer 110 at 60 ~ 120 ℃ for 15-30 seconds release layer ( 120 of FIG. 1 may be formed. Here, the release agent coating layer may be cured using one or more of heat, UV and IR.

이때, 상기 이형층의 두께는 2~7㎛로 형성하는 것이 바람직하다. 만약, 상기 이형층의 두께가 2㎛ 미만일 경우에는 그 두께가 너무 얇아 이형층의 상부에 형성되는 인쇄층(도 1의 140)에 입체적인 질감을 구현하는 것이 어려울 수 있고, 반대로 이형층의 두께가 7㎛를 초과할 경우에는 이형제의 미경화에 따른 경시변화로 사출 시 미박리를 유발하는 문제가 있다.
At this time, the thickness of the release layer is preferably formed to 2 ~ 7㎛. If the thickness of the release layer is less than 2 μm, it may be difficult to implement a three-dimensional texture in the printing layer (140 of FIG. 1) formed on the upper side of the release layer because the thickness is too thin. If it exceeds 7㎛ there is a problem causing un-peeled during injection due to the change over time due to the uncured release agent.

한편, 도 1 및 도 2를 참조하면, 하드 코팅층 형성 단계(S120)에서는 이형층(120)의 상부에 하드 코팅 물질을 4~8㎛의 두께로 도포하여 하드 코팅 물질층(미도시)을 형성한 후, 상기 하드 코팅 물질층을 건조로에서 140~170℃의 온도로 경화시켜 하드 코팅층(130)을 형성한다.Meanwhile, referring to FIGS. 1 and 2, in the hard coating layer forming step (S120), a hard coating material layer is coated on the release layer 120 to a thickness of 4 μm to 8 μm to form a hard coating material layer (not shown). Then, the hard coating material layer is cured at a temperature of 140 ~ 170 ℃ in a drying furnace to form a hard coating layer (130).

이러한 하드 코팅층(130)은 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계 및 실록산계 폴리머 재질 중 1종 이상을 사용할 수 있고, 또한 올리고머(oligomer)와 같은 자외선 경화 수지를 사용할 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층(130)은 강도 향상을 위하여 실리카(silica)계의 필러를 더 포함할 수도 있다.The hard coating layer 130 may use at least one of acrylic, urethane, epoxy, and siloxane polymer materials, and may also use an ultraviolet curable resin such as an oligomer. In addition, the hard coating layer 130 may further include a silica-based filler to improve the strength.

이때, 상기 하드 코팅층(130)은 4~8㎛의 두께로 형성하는 것이 좋다. 만약, 하드 코팅층(130)의 두께가 4㎛ 미만일 경우에는 스크래치 방지 효과가 미미할 수 있고, 반대로 하드 코팅층(130)의 두께가 두께가 8㎛를 초과할 경우에는 필름의 신율 저하로 사출시 크랙(Crack) 및 브리틀(Brittle)로 인한 가루 발생으로 사출 불량을 유발하는 문제가 발생할 수 있다.
At this time, the hard coating layer 130 may be formed to a thickness of 4 ~ 8㎛. If the thickness of the hard coating layer 130 is less than 4㎛ the scratch prevention effect may be insignificant, on the contrary, if the thickness of the hard coating layer 130 exceeds the thickness of 8㎛ cracks during injection due to elongation of the film ( Powder generation due to cracks and brittles may cause problems of injection failure.

인쇄층 형성 단계(S130)에서는 하드 코팅층(130)의 상부에 그라비아 인쇄 또는 플렉소 인쇄 중 어느 하나를 이용하여 인쇄층(140)을 형성한다. 이러한 인쇄층(140)은 서로 같거나 다른 문양을 갖고 있어 인물사진, 패턴, 다양한 컬러, 다양한 문양 등을 원하는 형태로 자유로이 구현할 수 있다.
In the printing layer forming step (S130), the printed layer 140 is formed on the hard coating layer 130 using either gravure printing or flexographic printing. Since the print layer 140 has the same or different patterns, it is possible to freely implement portraits, patterns, various colors, various patterns, and the like in a desired form.

프라이머층 형성 단계(S140)에서는 하드 코팅층(130) 및 인쇄층(140)의 상부에 증착 또는 코팅 방식으로 프라이머층(150)을 형성한다. 이러한 프라이머층(150)은 우레탄 수지 또는 변성아크릴수지를 주성분으로 하거나 폴리이소시아네이트 및 폴리올을 주성분으로 하는 것을 이용할 수 있으며, 보다 구체적으로는 폴리에스테르 폴리올, 폴리이소시아네이트, 변성아크릴, 산화금속 미립자, 경화촉매 중에서 선택된 1종 이상으로 형성하는 것이 바람직하다.
In the primer layer forming step (S140), the primer layer 150 is formed on the hard coating layer 130 and the printing layer 140 by deposition or coating. The primer layer 150 may include a urethane resin or a modified acrylic resin as a main component or a polyisocyanate and a polyol as a main component, and more specifically, a polyester polyol, polyisocyanate, modified acrylic, metal oxide fine particles and a curing catalyst. It is preferable to form by 1 or more types selected from among.

접착층 형성 단계(S150)에서는 그라비아 인쇄, 플렉소 인쇄, 마이크로 그라비아 코팅 및 롤 코팅 중 선택된 하나 이상의 방식을 이용하여 프라이머층(150)의 상부에 1~3㎛의 두께로 접착층(160)을 형성한다. 상기 접착층(160)은 폴리에스테르, 폴리우레탄, 아크릴, EVA(ethylene co-vinyl acetate), PVAc(polyvinyl acetate) 등의 접착제가 이용될 수 있다.
In the adhesive layer forming step (S150), the adhesive layer 160 is formed to a thickness of 1 μm to 3 μm on the primer layer 150 using at least one selected from gravure printing, flexo printing, micro gravure coating, and roll coating. . The adhesive layer 160 may be an adhesive such as polyester, polyurethane, acrylic, EVA (ethylene co-vinyl acetate), PVAc (polyvinyl acetate), or the like.

이상으로, 본 발명의 실시예에 따른 실크 스크린 인쇄를 통하여 다양한 패턴의 입체 질감을 구현할 수 있는 인몰드용 전사필름을 제조할 수 있다.
As described above, it is possible to manufacture a transfer film for in-mold, which can realize a three-dimensional texture of various patterns through silk screen printing according to an embodiment of the present invention.

지금까지 살펴본 바와 같이, 상기와 같은 제조 방법에 의하여 제조되는 본 발명의 실시예에 따른 인몰드용 전사필름은 실크 스크린 공법에 의하여 이형층이 형성되므로, 기재층의 상부에 형성되는 이형층의 표면에 다양한 입체 무늬 패턴을 구현하는 것이 용이한바, 이형층의 표면에 형성되는 입체 무늬 패턴에 의하여 진공 금형의 설계 변경 없이도 이형층의 상측에 형성되는 인쇄층의 인쇄 문양이 입체적으로 살아날 수 있는 효과가 있다.
As described above, since the release layer is formed by the silk screen method of the in-mold transfer film manufactured by the manufacturing method as described above, the surface of the release layer is formed on the base layer. It is easy to implement a variety of three-dimensional pattern, the three-dimensional pattern formed on the surface of the release layer has the effect that the printed pattern of the printing layer formed on the upper side of the release layer can be three-dimensional survive without changing the design of the vacuum mold. .

실시예Example

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention through the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
Details that are not described herein will be omitted since those skilled in the art can sufficiently infer technically.

1. 인서트 1. Insert 몰드Mold 전사필름 제조 Transcription Film Manufacturing

실시예 1Example 1

스테이지의 상부에 안착되는 50㎛ 두께의 PET 필름의 상부에 실크 스크린을 장착한 후, 1000cp의 점도를 갖는 아크릴계의 이형제 조성물이 저장된 저장 탱크의 노즐을 이용하여 실크 스크린 표면에 이형제 조성물을 적하하고 나서, 상기 적하된 이형제 조성물을 스퀴즈를 이용하여 실크 스크린의 망 내에 4cm/sec의 속도 및 25kg/cm²의 가압으로 밀어 넣어 PET 필름의 상부에 이형제 조성물을 4㎛의 두께로 도포하여 이형제 코팅층을 형성하였다.After the silk screen was mounted on the 50 μm thick PET film seated on the top of the stage, the release agent composition was added dropwise to the silk screen surface by using a nozzle of a storage tank in which an acrylic release agent composition having a viscosity of 1000 cps was stored. The loaded release agent composition was squeezed into a web of silk screen at a speed of 4 cm / sec and a pressure of 25 kg / cm² to apply a release agent composition to a thickness of 4 μm on top of the PET film to form a release agent coating layer. .

이후, PET 필름의 상부에 장착된 실크 스크린을 제거한 후, 상기 PET 필름의 상부 전면에 도포된 이형제 코팅층을 100℃에서 45초간 경화하여 이형층을 형성한 후 50℃에서 24시간 이상 숙성하였다.Then, after removing the silk screen mounted on top of the PET film, the release agent coating layer applied to the upper front of the PET film was cured at 100 ℃ for 45 seconds to form a release layer and then aged at 50 ℃ for 24 hours or more.

이후, 이형층의 상부에 그라비아 코팅 공법으로 6㎛의 두께로 하드 코팅층을 형성한 후, 하드 코팅층의 상부에 인쇄층, 프라이머층 및 접착층을 차례로 형성하는 것에 의하여 인몰드용 전사필름을 제조하였다.
Thereafter, a hard coating layer was formed to a thickness of 6 μm by a gravure coating method on the upper part of the release layer, and then an in-mold transfer film was manufactured by sequentially forming a printing layer, a primer layer, and an adhesive layer on the hard coating layer.

비교예 1Comparative Example 1

이형층을 0.5㎛의 두께로 형성하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 인몰드용 전사필름을 제조하였다.
An in-mold transfer film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the release layer was formed to a thickness of 0.5 μm.

비교예 2Comparative Example 2

이형층을 9㎛의 두께로 형성하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 인서트 몰드용 전사필름을 제조하였다.
A transfer film for insert mold was prepared in the same manner as in Example 1 except that the release layer was formed to a thickness of 9 μm.

2.2. 물성 평가Property evaluation

표 1은 실시예 1 및 비교예 1, 2에 따른 인서트 몰드용 전사필름에 대한 물성 평가에 대한 결과를 나타낸 것이다.
Table 1 shows the results of the physical property evaluation for the transfer film for insert mold according to Example 1 and Comparative Examples 1, 2.

[표 1] [Table 1]

Figure 112010085667906-pat00001
Figure 112010085667906-pat00001

표 1을 참조하면, 실시예 1의 경우 이형력은 양호하고, 입체 질감은 우수한 특성을 보이는 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, in the case of Example 1, the release force is good, it can be seen that the three-dimensional texture shows excellent characteristics.

반면, 비교예 1의 경우 이형력은 양호하고, 입체 질감은 보통이었으며, 비교예 2의 경우 이형력이 무거워 PET가 터지면서 미박리 현상을 나타내는 것을 알 수 있다.On the other hand, in the case of Comparative Example 1, the release force was good, the three-dimensional texture was normal, and in Comparative Example 2 it can be seen that the release force is heavy and the PET is unpeeled as it bursts.

위의 실험 결과를 토대로, 이형층을 실크 스크린 공법으로 형성할 경우, 이형력은 보통 이상의 수준을 유지하면서 입체 질감 효과가 심미적으로 살아나는 것을 확인할 수 있었다.
Based on the above experimental results, when the release layer was formed by the silk screen method, it was confirmed that the three-dimensional texture effect aesthetically maintained while the release force was maintained at a level higher than normal.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.
Although the preferred embodiments of the present invention have been disclosed for illustrative purposes, those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. These changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention should be determined by the following claims.

100 : 인몰드용 전사 필름 110 : 기재층
120 : 이형층 130 : 하드 코팅층
140 : 인쇄층 150 : 프라이머층
160 : 접착층
100: in-mold transfer film 110: base material layer
120: release layer 130: hard coating layer
140: printed layer 150: primer layer
160: adhesive layer

Claims (13)

실크 스크린을 이용하여 기재층의 상부에 이형층을 형성하는 단계;
상기 이형층의 상부에 하드 코팅층을 형성하는 단계;
상기 하드 코팅층의 상부에 인쇄층을 형성하는 단계;
상기 인쇄층의 상부에 프라이머층을 형성하는 단계; 및
상기 프라이머층의 상부에 접착층을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 이형층 형성 단계는
상기 기재층과 이격된 상부에 실크 스크린을 장착하는 단계와,
상기 실크 스크린의 표면에 이형제 조성물을 도포하는 단계와,
상기 도포된 이형제 조성물이 상기 실크 스크린의 망 내로 통과되도록 1~5kg/cm2의 압력으로 스퀴즈 가압을 실시하여, 상기 기재층의 상부에 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
Forming a release layer on top of the substrate layer using a silk screen;
Forming a hard coating layer on top of the release layer;
Forming a printing layer on top of the hard coating layer;
Forming a primer layer on the printed layer; And
Forming an adhesive layer on the primer layer;
The release layer forming step
Mounting a silk screen on top of the substrate layer spaced apart;
Applying a release agent composition to the surface of the silk screen;
Manufacturing the transfer film for in-mold comprising the step of performing a squeeze pressurized at a pressure of 1 ~ 5kg / cm 2 so that the applied release agent composition passes through the net of the silk screen, the coating on top of the base layer Way.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 스퀴즈 이동 속도는
2~7cm/sec으로 실시하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
The method of claim 1,
The squeeze movement speed
In-mold transfer film manufacturing method characterized in that carried out at 2 ~ 7cm / sec.
제1항에 있어서,
상기 코팅 단계 후에,
상기 기재층의 상부에 장착된 실크 스크린을 제거하는 단계와,
상기 코팅된 이형제 조성물을 경화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
The method of claim 1,
After the coating step,
Removing the silk screen mounted on top of the base layer;
In-mold transfer film manufacturing method characterized in that it further comprises the step of curing the coated release agent composition.
제5항에 있어서,
상기 경화 단계는
열, UV 및 IR 중 하나 이상을 이용하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
The method of claim 5,
The curing step
A method of manufacturing an in-mold transfer film, characterized in that it uses at least one of heat, UV and IR.
제5항에 있어서,
상기 경화 단계시,
경화 온도 : 60~120℃에서 경화 시간 : 15~30초간 실시하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
The method of claim 5,
In the curing step,
Curing temperature: 60 to 120 ℃ curing time: in-mold transfer film production method characterized in that carried out for 15 to 30 seconds.
제1항에 있어서,
상기 프라이머층은
폴리에스테르 폴리올, 폴리이소시아네이트, 변성아크릴, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
The method of claim 1,
The primer layer
A method for producing an in-mold transfer film, characterized in that it is formed of at least one selected from polyester polyols, polyisocyanates, modified acrylics, fine metal oxide particles and a curing catalyst.
제1항에 있어서,
상기 이형제 조성물은
에폭시계, 에폭시-멜라민계, 아미노알키드계, 아크릴계, 멜라민계, 실리콘계, 불소계, 셀룰로오스계, 요소 수지계, 폴리올레핀계 및 파라핀계 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
The method of claim 1,
The release agent composition is
Method for producing an in-mold transfer film, characterized in that formed by at least one selected from epoxy, epoxy-melamine, amino alkyd, acrylic, melamine, silicone, fluorine, cellulose, urea resin, polyolefin-based and paraffin-based .
제9항에 있어서,
상기 이형제 조성물의 점도는
100~6000cP인 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름 제조 방법.
10. The method of claim 9,
The viscosity of the release agent composition is
In-mold transfer film manufacturing method characterized in that 100 ~ 6000cP.
위로부터 기재층, 이형층, 하드 코팅층, 인쇄층, 프라이머층 및 접착층을 포함하며,
상기 이형층은 실크 스크린 공법에 의하여 2~7㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름.
It includes a base layer, a release layer, a hard coating layer, a printing layer, a primer layer and an adhesive layer from above,
The release layer is an in-mold transfer film, characterized in that formed by a thickness of 2 ~ 7㎛ by the silk screen method.
제11항에 있어서,
상기 하드 코팅층의 두께는
4~8㎛인 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름.
The method of claim 11,
The thickness of the hard coating layer is
In-mold transfer film, characterized in that 4 ~ 8㎛.
제11항에 있어서,
상기 프라이머층은
폴리에스테르 폴리올, 폴리이소시아네이트, 변성아크릴, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중 선택된 1종 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 인몰드용 전사필름.
The method of claim 11,
The primer layer
In-mold transfer film, characterized in that formed of at least one selected from polyester polyol, polyisocyanate, modified acrylic, metal oxide fine particles and a curing catalyst.
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