KR101239665B1 - Conductive complex and anisotropic conductive adhesive using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 합금필러와, 상기 합금필러의 융점에서 경화가 미완료되는 고분자 매트릭스와, 상기 고분자 매트릭스와 혼합되고, 금속산화물과 결합되어 산화금속기를 형성하는 폴리실록산-금속산화물 복합체를 포함하되, 상기 폴리실록산-금속산화물 복합체의 양측 말단에는 에폭시기가 결합되는 도전성 복합체 및 이를 이용한 이방성 도전성 접착제를 개시한다.The present invention includes an alloy filler, a polymer matrix that is not cured at the melting point of the alloy filler, and a polysiloxane-metal oxide composite mixed with the polymer matrix and combined with a metal oxide to form a metal oxide group, wherein the polysiloxane- Disclosed are a conductive composite having an epoxy group bonded to both ends of the metal oxide composite, and an anisotropic conductive adhesive using the same.

본 발명에 의하면, 도전성 복합체는 도전성과 높은 방열특성을 가지므로 방열이 필요한 LED 조명용 방열패드, EMI 차폐용 필름 및 시트, PCB용 전도성 페이스트 제조 및 전자부품의 방열재료 및 차폐재료로 사용될 수 있다.According to the present invention, since the conductive composite has conductivity and high heat dissipation characteristics, the heat dissipation pad for LED lighting, EMI shielding film and sheet, conductive paste for PCB manufacture, and heat dissipation material and shielding material for electronic components requiring heat dissipation.

저융점 합금필러, 폴리실록산, 방열 Low Melting Alloy Filler, Polysiloxane, Heat Resistant

Description

도전성 복합체 및 이를 이용한 이방성 도전성 접착제{Conductive complex and anisotropic conductive adhesive using the same}Conductive complex and anisotropic conductive adhesive using the same

본 발명은 도전성 복합체에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도전성을 가지는 저융점 합금 필러에 폴리실록산 및 이를 이용한 금속산화물 복합체를 혼합하여 방열 특성 및 높은 분산 특성을 나타내는 도전성 복합체 및 이를 이용한 이방성 도전성 접착제에 관한 것이다.The present invention relates to a conductive composite, and more particularly, to a conductive composite exhibiting heat dissipation and high dispersion characteristics by mixing polysiloxane and a metal oxide composite using the same with a low melting point alloy filler having conductivity, and an anisotropic conductive adhesive using the same. .

전자부품의 솔더링(Soldering)을 위해 일반적으로 땜납이 널리 쓰이고 있으나, 납성분은 환경에 유해한 영향을 미치므로 이를 지양하는 방향으로 기술이 개발되고 있다.Solder is generally used for soldering of electronic components, but technology has been developed to avoid lead since lead has a harmful effect on the environment.

그 일환으로서, 최근에는 납성분이 포함되지 않은 친환경적인 접착제, 보다 정확하게는 전기 도전성 접착제(electrically conductive adhesive; ECA)가 개발되어 사용되고 있다. As part of this, in recent years, environmentally friendly adhesives that do not contain lead components, more specifically, electrically conductive adhesives (ECA) have been developed and used.

상기 전기 도전성 접착제는 납성분이 포함되지 않아 친환경적일 뿐 아니라, 전자기기의 고속화나 대용량화 및 소형화의 요구에 맞추어, 반도체 칩이나 디스크리트(Discrete) 부품 등의 전자부품의 고집적화나 고밀도화할 수 있는 장점이 있 다.The electrically conductive adhesive does not contain lead, which is not only environmentally friendly, but also has the advantage of high integration and high density of electronic components such as semiconductor chips and discrete components in accordance with the demand for high speed, large capacity, and miniaturization of electronic devices. have.

이와 같이 상기 도전성 접착제는 주로 고집적화된 전자부품에 사용된다. 최근 들어 컴퓨터를 비롯하여 음악, DMB, 동영상 등의 재생이 가능한 휴대용 단말기, 노트북과 같은 휴대용 컴퓨터의 개발이 가속화되고 있다. 이와 같이 소형화되고 있는 전자제품의 내부에는 반도체 소자가 실장되는데, 높은 회로의 집적도와 대용량화로 인해 제품의 사용시에 많은 열이 발생될 수 있다. 이와 같이 발생된 열은 반도체 소자의 기능을 저하시킬 뿐만 아니라 주변 소자의 오동작, 기판의 열화 등의 원인이 될 수 있다. As such, the conductive adhesive is mainly used for highly integrated electronic components. Recently, the development of portable computers such as computers, portable terminals capable of playing music, DMB, video, and laptops has been accelerated. The semiconductor device is mounted inside the electronic device, which is being miniaturized as described above. A large amount of heat may be generated when the product is used due to the high integration and large capacity of the circuit. The heat generated as described above may not only degrade the function of the semiconductor device but also cause malfunctions of peripheral devices and deterioration of the substrate.

이상에서 설명한 바와 같이 도전성 접착제와 같은 도전성 접속제는 도전성분과 열에 의해 경화되는 접착성분을 포함하고 있다. 하지만 이와 같은 도전성 접속제에는 방열특성이 포함되지 않아 전자부품에서 발생하는 열을 효과적으로 방출시킬 수 없어 별도의 방열재료를 사용하는 문제점이 있었다. As described above, the conductive connecting agent such as the conductive adhesive contains the conductive component and the adhesive component cured by heat. However, such a conductive connecting agent does not include heat dissipation characteristics, so it is not possible to effectively dissipate heat generated from an electronic component, and there is a problem of using a separate heat dissipation material.

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 도전성과 방열특성을 가지는 도전성 복합체 및 이를 이용한 이방성 도전성 접착제를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, to provide a conductive composite having conductivity and heat dissipation characteristics and an anisotropic conductive adhesive using the same.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical problems not mentioned above will be clearly understood by those skilled in the art from the following description. Could be.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명에 의한 도전성 복합체는 저융점 합금필러와; 상기 저융점 합금필러의 융점에서 경화가 미완료되는 고분자 매트릭스와; 상기 고분자 매트릭스와 혼합되거나 고분자 매트릭스 대신 사용되고, 금속산화물과 결합되어 산화금속기를 형성하는 폴리실록산-금속산화물 복합체를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to a feature of the present invention for achieving the object as described above, the conductive composite according to the present invention comprises a low melting point alloy filler; A polymer matrix in which hardening is incomplete at the melting point of the low melting alloy filler; It is characterized in that it comprises a polysiloxane-metal oxide composite which is mixed with the polymer matrix or used instead of the polymer matrix and is combined with a metal oxide to form a metal oxide group.

상기 폴리실록산-금속산화물 복합체의 양측 말단에 에폭시기가 더 결합된다.Epoxy groups are further bonded to both ends of the polysiloxane-metal oxide composite.

상기 에폭시기는 1-싸이클로프로필-3-에테닐-1,1,3,3-테트라메틸-디실록산 (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2-(3-부텐-1-일)-2-트리메틸실릴-옥시란 (2-(3-buten-1-yl)-2-(trimethylsilyl)-Oxirane) 또는 글리시딜 메탈크릴레이트(glycidyl methacrylate)중 어느 하나이다.The epoxy group is 1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2- (3-buten-1-yl) -2-trimethylsilyl-oxirane (2- (3-buten-1-yl) -2- (trimethylsilyl) -Oxirane) or glycidyl methacrylate ) Is either.

상기 폴리실록산-금속산화물 복합체는 하기 화학식 3으로 표시됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The polysiloxane-metal oxide composite is a conductive composite, characterized in that represented by the formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112009069929031-pat00001
Figure 112009069929031-pat00001

상기 화학식 3에서, R1, R2, R3, R4, R6, R7, R8, R9, R10은 각각 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기, 히드록시기 또는 할로겐기이고, R5는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기 또는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기가 결합되거나 결합되지 않은 -O-, -COO- 또는 -CO- 이고, l, m, n은 각각 독립적으로 1-100의 정수이다. X는 산화금속기이다.In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are each independently hydrogen, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms , An aromatic hydrocarbon group having 6 to 50 carbon atoms, a hydroxyl group or a halogen group which may have a substituent, and R 5 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic hydrocarbon having 6 to 50 carbon atoms, which may have a substituent. The group is -O-, -COO- or -CO- with or without bonding, and l, m and n are each independently an integer of 1-100. X is a metal oxide group.

상기 산화금속기의 금속은 구리, 철, 아연, 은, 알루미늄, 플래티넘, 망간, 코발트, 니켈, 티타늄, 납 또는 카드뮴중 어느 하나이다.The metal of the metal oxide group is any one of copper, iron, zinc, silver, aluminum, platinum, manganese, cobalt, nickel, titanium, lead or cadmium.

상기 화학식 3으로 표시되는 폴리실록산-금속산화물 복합체는 하기 화학식 1의 폴리실록산과 금속산화물을 배위결합하여 제조됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The polysiloxane-metal oxide composite represented by Formula 3 is a conductive composite, characterized in that prepared by coordinating the polysiloxane and the metal oxide of the formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112009069929031-pat00002
Figure 112009069929031-pat00002

상기 화학식 1에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, l, m, n은 상기 화학식 3에 기재한 바와 같다. In Formula 1, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , l, m, n are as described in Formula 3 above.

상기 화학식 1의 폴리실록산은 하기 화학식 2의 화합물과 R5NR9R10 을 반응시켜 제조됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The polysiloxane of Chemical Formula 1 is prepared by reacting a compound of Chemical Formula 2 with R 5 NR 9 R 10 .

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112009069929031-pat00003
Figure 112009069929031-pat00003

상기 화학식 2에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, l, m, n은 상기 화학식 3에 기재한 바와 같다. In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , l, m, n are as described in Formula 3 above.

상기 도전성 접착제에는 플럭스, 표면 활성제 및 경화제 중 적어도 1개 이상이 첨가됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.At least one of a flux, a surface active agent, and a curing agent is added to the conductive adhesive.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 위의 설명에 따른 도전성 복합체로 페이스트가 만들어진다.According to another feature of the invention, the paste is made of a conductive composite according to the above description.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 위의 설명에 따른 도전성 복합체로 필름이 만들어진다.According to another feature of the invention, a film is made of the conductive composite according to the above description.

본 발명의 또 다른 특징에 따른 이방성 도전성 접착제는 고분자 매트릭스로 구성되는 적어도 하나 이상의 접착층과, 방열특성을 가지는 폴리실록산-금속산화물 복합체만으로 또는 폴리실록산-금속산화물 복합체와 고분자 매트릭스가 혼합되어 구성되는 적어도 하나 이상의 방열층으로 구성되고, 상기 접착층과 방열층중 적어도 어느 일측에 저융점 합금필러가 포함될 수 있는데, 상기 고분자 매트릭스는 상기 저융점 합금필러의 융점에서 경화가 미완료됨을 특징으로 한다.The anisotropic conductive adhesive according to another feature of the present invention is at least one or more adhesive layers composed of a polymer matrix, at least one or more polysiloxane-metal oxide composite having a heat dissipation property or at least one of a polysiloxane-metal oxide composite and a polymer matrix mixed Consists of a heat dissipation layer, at least one side of the adhesive layer and the heat dissipation layer may include a low melting alloy filler, the polymer matrix is characterized in that the curing is not completed at the melting point of the low melting alloy filler.

상기 접착층과 방열층이 교대로 적층된다.The adhesive layer and the heat dissipation layer are alternately stacked.

상기 폴리실록산-금속산화물 복합체의 양측 말단에는 에폭시기가 더 포함된다.Both ends of the polysiloxane-metal oxide composite further include an epoxy group.

상기 에폭시기는 1-싸이클로프로필-3-에테닐-1,1,3,3-테트라메틸-디실록산 (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2-(3-부텐-1-일)-2-트리메틸실릴-옥시란 (2-(3-buten-1-yl)-2-(trimethylsilyl)-Oxirane) 또는 글리시딜 메탈크릴레이트(glycidyl methacrylate)중 어느 하나 이다.The epoxy group is 1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2- (3-buten-1-yl) -2-trimethylsilyl-oxirane (2- (3-buten-1-yl) -2- (trimethylsilyl) -Oxirane) or glycidyl methacrylate Is either.

상기 폴리실록산-금속산화물 복합체는 하기 화학식 3으로 표시된다.The polysiloxane-metal oxide composite is represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112009069929031-pat00004
Figure 112009069929031-pat00004

상기 화학식 3에서, R1, R2, R3, R4, R6, R7, R8, R9, R10은 각각 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기, 히드록시기 또는 할로겐기이고, R5는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기 또는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기가 결합되거나 결합되지 않은 -O-, -COO- 또는 -CO- 이고, l, m, n은 각각 독립적으로 1-100의 정수이다. X는 산화금속기이다.In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are each independently hydrogen, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms , An aromatic hydrocarbon group having 6 to 50 carbon atoms, a hydroxyl group or a halogen group which may have a substituent, and R 5 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic hydrocarbon having 6 to 50 carbon atoms, which may have a substituent. The group is -O-, -COO- or -CO- with or without bonding, and l, m and n are each independently an integer of 1-100. X is a metal oxide group.

본 발명에서는 도전성을 띠는 저융점 합금필러와 높은 방열특성을 가지는 폴리실록산-금속산화물 복합체를 혼합한 도전성 복합체를 제공한다. 이와 같이 본 발명에 의한 도전성 복합체는 도전성과 높은 방열특성을 가지므로 방열이 필요한 LED 조명용 방열패드, EMI 차폐용 필름 및 시트, PCB용 전도성 페이스트 제조 및 전자부품의 방열재료 및 차폐재료로 사용될 수 있다.The present invention provides a conductive composite in which a low melting alloy filler having a conductive property and a polysiloxane-metal oxide composite having high heat dissipation characteristics are mixed. As described above, the conductive composite according to the present invention has conductivity and high heat dissipation characteristics, and thus may be used as a heat dissipation material and shielding material for LED lighting heat dissipation pads, EMI shielding films and sheets, PCB conductive pastes, and electronic components. .

이하 본 발명에 의한 도전성 복합체 및 이를 이용한 이방성 도전성 접착제의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the conductive composite and anisotropic conductive adhesive using the same according to the present invention will be described in detail.

우선 도전성 접착제에 대해 간단히 설명하면, 도전성 접착제는 고분자 매트릭스(Polymer matrix)와 도전성 입자(Conductive particle)로 구성되고, 비교적 낮은 온도에서 경화되어 경화수축에 의한 도전입자의 물리적/기계적 접촉에 의해 도전되는 특성을 가진다. 이때 상기 도전성 입자는 실질적으로 전기 전도를 가능하게 하는 부분이고, 고분자 매트릭스는 전자 부품을 회로기판 등에 물리적으로 고정되도록 하는 역할을 한다. 상기 도전성 접착제로는 모든 방향에 대해서 도전성을 가진 등방성 도전성 접착제와, 수평방향으로는 절연성을 가지고 수직방향으로는 도전성을 가지는 이방성 도전성 접착제가 있다. 특히 이방성 도전성 접착제는 반도체와 같은 전자부품, 예를 들어 LCD, PDP, EL 등의 평판표시소자의 실장에 사용된다. First, the conductive adhesive will be briefly described. The conductive adhesive is composed of a polymer matrix and conductive particles, and is cured at a relatively low temperature to be conductive by physical / mechanical contact of the conductive particles by curing shrinkage. Has characteristics. At this time, the conductive particles are a portion which enables substantially electrical conduction, and the polymer matrix serves to physically fix the electronic component to a circuit board or the like. The conductive adhesive includes an isotropic conductive adhesive having conductivity in all directions, and an anisotropic conductive adhesive having insulation in the horizontal direction and conductive in the vertical direction. In particular, anisotropic conductive adhesives are used for mounting electronic components such as semiconductors, for example, flat panel display elements such as LCDs, PDPs, and ELs.

이때 전기 도전성 접착제 내부의 도전성 입자는 고분자 매트릭스가 경화됨에 따라 수축되어 고분자 매트릭스 내에서 통전로를 형성하게 되고, 결과적으로 전자부품의 범프와 회로기판의 랜드 사이가 상기 통전로에 의해 전기적으로 연결된다. At this time, the conductive particles inside the electrically conductive adhesive are contracted as the polymer matrix is cured to form an energization path in the polymer matrix. As a result, the bumps of the electronic component and the lands of the circuit board are electrically connected by the energization path. .

위에서 설명한 도전성 접착제는 도전이 도전성 입자 및/또는 단자 간의 물리적 밀착상태에 의해 이루어지기 때문에 일반적인 솔더링의 화학적인 결합상태에 비해 전기적 특성이 불안하다. 따라서 이를 해결하기 위해 본 발명에 의한 도전성 복합체에는 저융점 합금필러가 포함된다. 상기 저융점 합금필러는 고분자 매트릭스가 경화완료되지 않은 상태에서 용융이 가능한 도전입자를 말하는 것으로서, 상기 저융점 합금필러는 단자간의 금속학적 결합을 형성하여 안정적인 접촉저항과 뛰어난 전기적, 열적 특성을 가지고 높은 충격강도와 접합강도를 가질 수 있다.The conductive adhesive described above is unstable in electrical properties compared to the chemical bonding state of general soldering because the conductive is made by the physical contact between the conductive particles and / or the terminals. Therefore, to solve this problem, the conductive composite according to the present invention includes a low melting point alloy filler. The low-melting alloy filler refers to conductive particles that can be melted in a state where the polymer matrix is not hardened. The low-melting alloy filler forms a metallic bond between terminals and has high contact resistance and excellent electrical and thermal properties. It may have impact strength and bond strength.

상기 저융점 합금필러는 융점이 비교적 낮은 합금으로 형성되는데, 구체적으로 주석(Sn), 인듐(In), 비스무트(Bi), 구리(Cu), 아연(Zn), 납(Pb), 카드뮴(Cd), 갈륨(Ga), 은(Ag), 탈륨(Tl) 등의 금속으로 이루어지는 합금을 들 수 있다. The low melting point alloy filler is formed of a relatively low melting point alloy, specifically, tin (Sn), indium (In), bismuth (Bi), copper (Cu), zinc (Zn), lead (Pb), cadmium (Cd) And alloys made of metals such as gallium (Ga), silver (Ag), and thallium (Tl).

상기 저융점 합금필러는 크게 63Sn-37Pb의 융점인 183℃에 비해 융점이 낮은 금속 및 합금과 융점 183℃에 비해 융점이 높은 금속 및 합금으로 형성되는데, 전자로는 예를 들어 Ga, In, Sn-52In, Sn-57Bi, In-3Ag, In-34Bi, Bi-45Sn-0.33Ag, Sn-57Bi-1Ag, Sn-6Zn-6Bi (모두 조성비)나 표 1에 나타내는 금속이나 합금 등을 들 수 있다. 또 표 1에는 각 금속 및 각 합금의 융점도 함께 나타내고 있다. The low melting point alloy filler is formed of a metal and an alloy having a lower melting point than a melting point of 183 ° C and a melting point of 183 ° C, which is largely a melting point of 63Sn-37Pb. -52 In, Sn-57Bi, In-3Ag, In-34Bi, Bi-45Sn-0.33Ag, Sn-57Bi-1Ag, Sn-6Zn-6Bi (all composition ratios), the metal or alloy shown in Table 1, etc. are mentioned. . Table 1 also shows the melting point of each metal and each alloy.

금속 (조성비)Metal (composition ratio) 융점(℃)Melting point (캜) SnSn BiBi InIn CdCD GaGa ZnZn TlTl     2424   7676     1616 88       9292     2020         9595 55   2525         100100     29.829.8 1616 3333 5151         6161   3434 6666         72.472.4 1717 5757 2626         7979 4242   4444 1414       9393 2626 53.553.5   20.520.5       103103 4848   5252         117117     7575 2525       127.7127.7 4343 5757           139139   6262   3838       144144     100100         156.4156.4 5757           4343 170170 6767     3333       176176

후자로는 예를 들어 Sn, Bi, Tl, Sn-3.5Ag, Sn-3Ag-0.5Cu (모두 조성비)나 표 2에 나타내는 금속이나 합금 등을 들 수 있다. 또 표 2에는 각 금속 및 각 합금의 융점도 함께 나타내고 있다.As the latter, Sn, Bi, Tl, Sn-3.5Ag, Sn-3Ag-0.5Cu (all composition ratios), the metal and alloy shown in Table 2 are mentioned, for example. Table 2 also shows the melting point of each metal and each alloy.

금속 (조성비)Metal (composition ratio) 융점(℃)Melting point (캜) SnSn BiBi InIn ZnZn AgAg CuCu SbSb GeGe 9191     99         199199 9393 0.50.5 33   3.53.5       215215 9292 55     33       216216 95.7595.75       3.53.5 0.750.75     218218 9494 33     33       218218 96.596.5       33 0.50.5     220220 96.596.5       3.53.5       221221 99.399.3         0.70.7     227227 6565       2525   1010   233233 92.792.7 33     3.23.2 1.11.1     240240 77.277.2   2020   2.82.8       175-186175-186 8989 33   88         189-199189-199 90.590.5 7.57.5     22       190-216190-216 90.890.8 55     3.53.5 0.70.7     198-213198-213 91.891.8 4.84.8     3.43.4       200-216200-216 93.493.4 44     22 0.50.5   0.10.1 202-217202-217 94.2594.25 33     22 0.750.75     205-217205-217 93.593.5 33     3.53.5       208-217208-217 96.396.3       3.23.2 0.50.5     217-218217-218 95.595.5       44 0.50.5     217-219217-219 97.2597.25       22 0.750.75     217-219217-219 95.595.5       3.83.8 0.70.7     217-220217-220 9595       44 1One     217-220217-220 93.693.6       4.74.7 1.71.7     217-220217-220 96.296.2       2.52.5 0.80.8 0.50.5   217-225217-225 95.595.5       0.50.5 44     217-350217-350 9898       22       221-226221-226 9797       0.20.2 22 0.80.8   226-228226-228 9595           55   232-240232-240

상기 저융점 합금필러는 상기 도전성 복합체 중에서 10% 내지 60%, 바람직하게는 대략 40%의 체적비를 가진다. 이는 상기 저융점 합금필러의 체적비가 10% 미만이면 고분자 매트릭스 내에서 전기적 도통이 되지 않아 오픈될 가능성이 있고, 60%를 초과하는 경우에는 저융점 합금필러가 과밀하게 배치되어 저융점 합금필러와 고분자 매트릭스의 혼합상태가 불균일해지고 인접단자와 쇼트가 발생할 가능성이 있기 때문이다. 물론 상기 저융점 합금필러(32)는 상술한 범위에 한정되는 것은 아니고, 전자제품과 기판 사이의 초기 거리를 조절함으로써 도전성 접착제(30) 중에 10% 미만 또는 60% 이상의 체적비를 가질 수도 있다. The low melting alloy filler has a volume ratio of 10% to 60%, preferably approximately 40% in the conductive composite. If the volume ratio of the low-melting alloy filler is less than 10%, there is a possibility of opening due to no electrical conduction in the polymer matrix. If the low-melting alloy filler exceeds 60%, the low-melting alloy filler and the polymer are densely arranged. This is because the mixed state of the matrix is uneven and there is a possibility that short-circuiting with adjacent terminals occurs. Of course, the low melting point alloy filler 32 is not limited to the above-described range, and may have a volume ratio of less than 10% or 60% or more in the conductive adhesive 30 by adjusting the initial distance between the electronic product and the substrate.

이상에서 설명한 저융점 합금필러 및 전극단자의 표면상에 형성된 산화막을 제거하기 위해서는 플럭스(flux)가 투입될 수 있다. 상기 플럭스(flux)는 예를 들어 수지, 무기산, 아민, 유기산 등의 환원제로서, 용융된 합금필러의 표면의 산화물 등의 표면 이물을 환원함으로써 가용성 또는 가융성 화합물로 바꾸어 제거하는 역할을 한다. 또한 표면 이물이 제거되어 청정해진 상기 합금필러의 표면을 피복하여 다시 산화되는 것을 방지한다. Flux may be added to remove the oxide film formed on the surface of the low melting point alloy filler and the electrode terminal described above. The flux is, for example, a reducing agent such as a resin, an inorganic acid, an amine, an organic acid, and serves to remove surface foreign substances such as oxides on the surface of the molten alloy filler and convert them into soluble or fusible compounds. In addition, the foreign material is removed to cover the surface of the alloy filler is cleaned to prevent oxidation again.

상기 플럭스는 합금필러의 융점보다도 높고, 또한 단자를 서로 접합하기 위해 실시하는 가열 처리시의 최고 온도보다도 낮은 비등점을 갖고 있는 것이 바람직하다. 상기 도전성 복합체 중 플럭스의 함유율은 3 ~ 20중량%인 것이 바람직하고, 3 ~ 10중량%인 것이 더 바람직하다. 여기서, 플럭스의 함유율이 20중량% 를 초과하면 보이드가 발생하기 쉽고, 접합부에서의 접합 특성이 저하하는 원인이 되어 바람직하지 않고, 3중량%이하가 되면, 합금필러의 표면, 랜드나 단자의 표면이나 전극패드 표면의 산화물 등의 표면 이물 환원능력이 떨어져 잔류 산화막에 의한 접합부의 접합특성이 저하되는 원인이 된다.It is preferable that the said flux has a boiling point higher than melting | fusing point of an alloy filler, and lower than the highest temperature at the time of the heat processing performed in order to join a terminal mutually. It is preferable that it is 3-20 weight%, and, as for the content rate of the flux in the said conductive composites, it is more preferable that it is 3-10 weight%. Here, when the content of flux exceeds 20% by weight, voids are likely to occur, which is a cause of deterioration of the joining characteristics at the joints, which is not preferable. When the content is less than 3% by weight, the surface of the alloy filler, the surface of the land or the terminal And the ability to reduce foreign substances on the surface of the electrode pad, such as oxides, may be deteriorated, resulting in deterioration of the bonding properties of the joints caused by the residual oxide film.

이상에서 설명한 바와 같이 상기 저융점 합금필러의 표면에 형성된 산화막을 제거하기 위해서 플럭스가 사용될 수도 있다. 또한 본 발명에서는 저융점 합금필러의 표면에 형성된 산화막을 제거하기 위해 폴리실록산을 저융점 합금필러에 혼합하는 것을 포함한다. 이와 같이 상기 저융점 합금필러에 폴리실록산을 혼합시키면 도전성 복합체의 환원특성이 강화될 수 있다.As described above, the flux may be used to remove the oxide film formed on the surface of the low melting alloy filler. In addition, the present invention includes mixing a polysiloxane to a low melting alloy filler to remove the oxide film formed on the surface of the low melting alloy filler. As such, when the polysiloxane is mixed with the low melting alloy filler, the reducing property of the conductive composite may be enhanced.

그리고 본 발명에서 상기 고분자 매트릭스와 혼합되는 폴리실록산으로 하기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산이 제공된다.In the present invention, a polysiloxane represented by the following Chemical Formula 1 is provided as a polysiloxane mixed with the polymer matrix.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112009069929031-pat00005
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상기 화학식 1에서, R1, R2, R3, R4, R6, R7, R8, R9, R10은 각각 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기, 히드록시기 또는 할로겐기이고, R5는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기 또는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기가 결합되거나 결합되지 않은 -O-, -COO- 또는 -CO- 이고, l, m, n은 각각 독립적으로 1-100의 정수이다. In Formula 1, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are each independently hydrogen, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms , An aromatic hydrocarbon group having 6 to 50 carbon atoms, a hydroxyl group or a halogen group which may have a substituent, and R 5 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic hydrocarbon having 6 to 50 carbon atoms, which may have a substituent. The group is -O-, -COO- or -CO- with or without bonding, and l, m and n are each independently an integer of 1-100.

또한 상기 화학식 1에서 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 중 적어도 하나는 하나 이상의 이중결합을 포함하는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기에서 선택되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 화학식 1에 포함되는 간단한 화합물의 예로는 R1, R8이 수소, R2, R3, R4, R6, R9, R10 은 메틸기, R7 은 비닐기인 화합물을 들 수 있다. 이 외에도 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 중 적어도 하나가 비닐기를 포함하며, 나머지는 메틸, 에틸, 부틸, 페닐 등 다양한 작용기를 가지는 화합물 모두가 여기에 포함될 수 있다.In addition, in Formula 1, at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 has 1 to 50 carbon atoms including one or more double bonds. It is preferred to be selected from aliphatic hydrocarbon groups. For example, examples of the simple compound included in Formula 1 include compounds in which R1 and R8 are hydrogen, R 2 , R 3 , R 4 , R 6 , R 9 , R 10 is a methyl group, and R 7 is a vinyl group. . In addition to this, at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 contains a vinyl group, and the remainder is methyl, ethyl, butyl, phenyl, etc. All of the compounds having various functional groups can be included here.

이상에서 설명한 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 무기충진제와의 친화성을 높일 수 있어 산화금속과 배위결합을 형성할 경우 높은 방열특성 및 분산특성을 가질 수 있는 이점이 있다. The compound represented by Chemical Formula 1 described above can increase the affinity with the inorganic fillers and thus have the advantage of having high heat dissipation characteristics and dispersion characteristics when forming coordination bonds with the metal oxide.

그리고 상기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산은 하기 화학식 2의 화합물과 아마이드기를 가지는 R5NR9R10을 반응시켜 제조할 수 있다.The polysiloxane represented by Chemical Formula 1 may be prepared by reacting a compound of Chemical Formula 2 with R 5 NR 9 R 10 having an amide group.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112009069929031-pat00006
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상기 화학식 2에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, l, m, n은 상기 화학식 1에 기재한 바와 같다. In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , l, m, n are as described in Formula 1.

상기 화학식 2로 표시되는 폴리실록산 공중합체 화합물은 다양한 실록산 단량체와, 이중결합이 도입된 실록산 단량체 등을 단위체로 하고, 예를 들어, TMAS(테트라메틸암모늄실록산올레이트)와 같은 촉매를 이용하여 약 90℃ 질소분위기 하에서 2 ~ 4시간 반응시켜 얻을 수 있다.The polysiloxane copolymer compound represented by Chemical Formula 2 is composed of various siloxane monomers, siloxane monomers in which double bonds are introduced, and the like, for example, using a catalyst such as TMAS (tetramethylammonium siloxane oleate). It can be obtained by making it react for 2 to 4 hours in nitrogen atmosphere.

상기 화학식 1을 제조하기 위한 반응은 폴리실록산의 Si-H 결합에 부가반응을 이용하는 것으로, 강한 전기음성도를 가지는 아마이드결합을 도입하기 위한 것이다. 보다 구체적으로, 화학식 2 화합물에서의 Si-H 결합의 정량적 수치에 상응하는 아마이드 화합물을 실리콘 첨가 전용인 백금계 촉매의 존재하에 약 80-95℃, 바람직하게는 약 90℃ 에서 1-10시간, 바람직하게는 3-5시간 동안 반응시키고, 반응생성물을 감압처리하여 미반응물을 제거하는 과정을 통해 아마이드기가 도입된 폴리실록산을 제조할 수 있다. 이에 의해 얻어지는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 보다 안정적으로 산화금속과의 결합을 유지하는 것이 가능하다. 따라서 화학식 1의 화합물에 금속산화물이 결합된 후에 보다 높은 방열특성 및 분산특성을 가질 수 있게 된다.The reaction for preparing the formula (1) is to use an addition reaction to the Si-H bond of the polysiloxane, to introduce an amide bond having a strong electronegativity. More specifically, the amide compound corresponding to the quantitative value of the Si-H bond in the compound of formula (2) is 1-10 hours at about 80-95 ° C, preferably about 90 ° C, in the presence of a platinum-based catalyst dedicated to the addition of silicon, Preferably, the reaction may be carried out for 3-5 hours, and the reaction product may be depressurized to prepare a polysiloxane into which an amide group has been introduced. The compound represented by the formula (1) obtained thereby can maintain the bond with the metal oxide more stably. Therefore, after the metal oxide is bonded to the compound of Formula 1, it is possible to have higher heat dissipation and dispersion characteristics.

다음으로 본 발명에서 고분자 매트릭스는 바람직하게 하기 화학식 3으로 표시되는 폴리실록산-금속산화물 복합체와 혼합된다. Next, in the present invention, the polymer matrix is preferably mixed with the polysiloxane-metal oxide composite represented by the following general formula (3).

[화학식 3](3)

Figure 112009069929031-pat00007
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상기 화학식 3에서 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, l, m, n은 상기 화학식 1 및 2에 기재한 바와 같으며, X는 산화금속기(메탈옥사이드)이다. In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , l, m, n are the same as described in Formulas 1 and 2 above. X is a metal oxide group (metal oxide).

상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 고분자 매트릭스와 혼합되어 도전성 복합체가 보다 강력한 방열특성을 가지도록 한다. 그리고 이는 상기 화학식 1로 표시되는 고분자 폴리실록산과 산화금속의 배위결합을 통해 얻어질 수 있다. 이 반응은 화학식 1로 표시되는 폴리실록산에 과량의 금속산화물을 가하고, 상온에서 500-3,000 rpm으로 10-30시간 동안 교반한 다음, 반응생성물을 톨루엔과 같은 유기용매에 용해시켜 원심분리기 및 필터를 이용한 여과를 통해 미반응 금속산화물을 제거하는 과정을 통해 수행될 수 있다.The compound represented by Chemical Formula 3 is mixed with the polymer matrix so that the conductive composite has stronger heat dissipation characteristics. And this can be obtained through the coordination bond of the polymer polysiloxane and the metal oxide represented by the formula (1). The reaction was performed by adding an excess metal oxide to the polysiloxane represented by Formula 1, stirring at 500-3,000 rpm for 10-30 hours at room temperature, and then dissolving the reaction product in an organic solvent such as toluene using a centrifuge and a filter. It may be carried out through the process of removing the unreacted metal oxide through filtration.

이와 같은 과정을 통해 얻어지는 폴리실록산-금속산화물 복합체는 높은 방열특성 및 분산특성을 가지므로 고분자 매트릭스와 함께 혼합되어 도전성 복합체가 보다 높은 방열특성 및 분산특성을 가질 수 있도록 한다. 만약에 방열특성을 위해 금속을 직접 폴리실록산에 결합시키게 되면 전자제품에 사용시에 단락이 일어날 수 있다. 따라서 본 실시예에서는 금속산화물이 배위결합을 통해 폴리실록산에 결합되도록 하여 이를 방지하였다.Since the polysiloxane-metal oxide composite obtained through such a process has high heat dissipation and dispersing characteristics, the polysiloxane-metal oxide composite is mixed with the polymer matrix so that the conductive composite can have higher heat dissipation and dispersing characteristics. If the metal is directly bonded to the polysiloxane for heat dissipation, a short circuit may occur when used in electronic products. Therefore, in this embodiment, the metal oxide is prevented by binding to the polysiloxane through the coordination bond.

한편 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 산화금속기의 금속은 다양한 금속에서 선택되어질 수 있으며, 예를 들어, 구리, 철, 아연, 은, 알루미늄, 플래티넘, 망간, 코발트, 니켈, 티타늄, 납 또는 카드뮴 등이 선택될 수 있다.Meanwhile, the metal of the metal oxide group of the compound represented by Chemical Formula 3 may be selected from various metals, for example, copper, iron, zinc, silver, aluminum, platinum, manganese, cobalt, nickel, titanium, lead, or cadmium. Can be selected.

또한 이상에서 설명한 도전성 복합체를 이용하여 제조되는 페이스트 및 필름은 도전성과 높은 방열특성을 가지므로 방열이 필요한 LED 조명용 방열패드, EMI 차폐용 필름 및 시트, PCB용 전도성 페이스트 제조 및 전자부품의 방열재료 및 차폐재료로 사용될 수 있다.In addition, since the paste and film manufactured using the conductive composite described above have conductivity and high heat dissipation characteristics, a heat dissipation pad for LED lighting, an EMI shielding film and sheet, a conductive paste for PCB, and a heat dissipation material for electronic components that require heat dissipation and It can be used as a shielding material.

참고로 본 발명에서는 폴리실록산 및 이를 포함하는 폴리실록산-금속산화물 복합체가 고분자 매트릭스와 함께 혼합되는 과정에서 화학적 결합이 잘 이루어지도록 하기 위해 폴리실록산의 말단에 에폭시기가 결합된다. 예를 들면, 상기 화학식 3의 R1과 R8 이 에폭시기를 포함하고 있으면 된다.For reference, in the present invention, an epoxy group is bonded to the end of the polysiloxane so that the polysiloxane and the polysiloxane-metal oxide composite including the same are chemically bonded in the process of being mixed with the polymer matrix. For example, R <1> and R <8> of the said General formula (3) should just contain an epoxy group.

구체적으로 설명하면, 상기 폴리실록산-금속산화물은 체적비가 0-30%일 때에는 첨가물과 같이 혼합이 가능하나 그 이상이 될 때에는 상기 고분자 매트릭스와 섞이지 않기 때문에 위에서 설명한 바와 같이, 폴리실록산-금속산화물에서 R1과 R8 에 에폭시기를 붙힌 형태로 혼합시키는 것이 바람직하다. 상기 에폭시기는 상기 폴리실록산의 말단에 결합되어 폴리실록산과 저융점 합금필러의 융화성(Compatibility)을 향상시키게 된다.Specifically, the polysiloxane-metal oxide may be mixed with the additive when the volume ratio is 0-30%, but when mixed with the polymer matrix, the polysiloxane-metal oxide is R 1 in the polysiloxane-metal oxide as described above. It is preferable to mix with R <8> in the form which stuck an epoxy group. The epoxy group is bonded to the terminal of the polysiloxane to improve the compatibility of the polysiloxane and the low melting alloy filler.

여기에서 결합되는 에폭시기를 가진 단량체는 1-싸이클로프로필-3-에테닐-1,1,3,3-테트라메틸-디실록산 (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2-(3-부텐-1-일)-2-트리메틸실릴-옥시란 (2-(3-buten-1-yl)-2-(trimethylsilyl)-Oxirane) 또는 글리시딜 메탈크릴레이트(glycidyl methacrylate)중 어느 하나이다. 물론 상기에서 나열한 단량체 이외에도 에폭시기를 가진 단량체가 적용될 수 있음은 물론이다. 이와 같은 에폭시기를 가진 단량체가 폴리실록산의 말단에 결합된 상태로 저융점 합금필러와 혼합되면 양자의 융화성이 향상되어 폴리실록산과 저융점 합금필러의 화학적 결합이 잘 이루어질 수 있다.The monomer having an epoxy group bonded here is 1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl -Disiloxane); 2- (3-buten-1-yl) -2-trimethylsilyl-oxirane (2- (3-buten-1-yl) -2- (trimethylsilyl) -Oxirane) or glycidyl methacrylate ) Is either. Of course, in addition to the monomers listed above, a monomer having an epoxy group may be applied. When the monomer having such an epoxy group is mixed with the low melting alloy filler in a state of being bonded to the terminal of the polysiloxane, the compatibility of both is improved, and the chemical bonding of the polysiloxane and the low melting alloy filler can be well achieved.

한편, 위의 설명에서 상기 폴리실록산-금속산화물 복합체를 고분자 매트릭스에 혼합하여 본 발명의 도전성 접착제를 만들었으나, 반드시 그러할 필요는 없다. 상기 폴리실록산-금속산화물 복합체는 그 자체로서 고분자 매트릭스의 특성을 가지므로, 별도의 고분자 매트릭스와 혼합하지 않고, 고분자 매트릭스 대신에 폴리실록산-금속산화물 복합체만을 사용하여 본 발명의 도전성 복합체를 만들 수 있다. 이 경우에도 위에서 설명한 바와 같이 폴리실록산-금속산화물 복합체에 에폭시기를 포함하도록 하여야 한다. Meanwhile, in the above description, the polysiloxane-metal oxide composite is mixed with the polymer matrix to make the conductive adhesive of the present invention, but it is not necessary to do so. Since the polysiloxane-metal oxide composite itself has the characteristics of a polymer matrix, the conductive composite of the present invention may be made by using only the polysiloxane-metal oxide composite instead of the polymer matrix without mixing with a separate polymer matrix. In this case, as described above, the polysiloxane-metal oxide composite should include an epoxy group.

참고로, 상기 고분자 매트릭스의 종류를 살펴본다. 상기 고분자 매트릭스로는 열가소성 수지, 열경화성 수지 및 광경화성 수지로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.For reference, look at the type of the polymer matrix. The polymer matrix may be at least one selected from the group consisting of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photocurable resin.

여기서 열가소성 수지로는 초산비닐계수지, 폴리비닐 부티날계 수지, 염화 비닐계 수지, 스틸렌계 수지, 비닐 메틸 에테르계 수지, 그리브틸 수지, 에틸렌-초산비닐 공중합계 수지, 스틸렌-부타디엔 공중합계 수지, 폴리 부타디엔 수지 및 폴리비닐 알코올계 수지 등을 들 수 있다.The thermoplastic resin may be a vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, vinyl chloride resin, styrene resin, vinyl methyl ether resin, greptyl resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, styrene-butadiene copolymer resin, Polybutadiene resin, polyvinyl alcohol resin, and the like.

열경화성 수지로서는, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 알키드계 수지, 요소수지 및 불포화 폴리에스테르 수지등을 사용할 수 있다.As the thermosetting resin, epoxy resins, urethane resins, acrylic resins, silicone resins, phenolic resins, melamine resins, alkyd resins, urea resins and unsaturated polyester resins can be used.

이상에서 설명한 도전성 복합체는 도전성 입자인 저융점 합금필러와 방열재료인 폴리실록산-금속산화물 복합체가 혼합되어 있는 형태였다. 하지만 이와 같은 형태의 도전성 복합체를 이용하여 이방성 도전성 접착제의 구성도 가능하다.The conductive composite described above was in a form in which a low melting alloy filler as conductive particles and a polysiloxane-metal oxide composite as a heat dissipating material were mixed. However, the configuration of the anisotropic conductive adhesive is also possible using this type of conductive composite.

구체적으로 설명하면, 본 발명에 의한 이방성 도전성 접착제는 적어도 하나 이상의 접착층과 적어도 하나 이상의 방열층으로 구성되는데, 상기 접착층은 고분자 매트릭스로 구성되고, 상기 방열층은 방열특성을 가지는 폴리실록산-금속산화물 복합체만으로 또는 폴리실록산-금속산화물 복합체와 고분자 매트릭스가 혼합되어 구성될 수 있다.Specifically, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention is composed of at least one adhesive layer and at least one heat dissipation layer, wherein the adhesive layer is composed of a polymer matrix, and the heat dissipation layer is composed of only a polysiloxane-metal oxide composite having heat dissipation characteristics. Alternatively, the polysiloxane-metal oxide composite and the polymer matrix may be mixed.

그리고, 상기 접착층과 방열층중 적어도 어느 일측에 저융점 합금필러가 포함되면 된다. 여기서 상기 접착층과 방열층은 다수개가 교대로 적층되는 형태가 될 수 있다.The low melting point alloy filler may be included in at least one of the adhesive layer and the heat dissipation layer. Here, the adhesive layer and the heat dissipation layer may have a form in which a plurality of layers are alternately stacked.

참고로 상기 도전성 복합체에는 저융점 합금필러, 폴리실록산 및 플럭스 이외의 물질로서 표면 활성제, 경화제 등이 함유될 수 있다.For reference, the conductive composite may contain a surface active agent, a curing agent, or the like as a material other than the low melting point alloy filler, polysiloxane, and flux.

상기 표면 활성제는 예를 들어 i)에틸렌글리콜이나 글리세린 등의 글리콜, ii) 말레산이나 아디프산 등의 유기산, iii) 아민, 아미노산, 아민의 유기산염, 아민의 할로겐염 등의 아민계 화합물 또는 ⅳ) 무기산이나 무기산염 등이고, 용융한 도전성 입자의 표면, 단자의 표면의 산화물 등의 이물을 용해하여 제거하는 역할을 한다. The surface active agent may be, for example, i) glycols such as ethylene glycol or glycerin, ii) organic acids such as maleic acid or adipic acid, iii) amine compounds such as amines, amino acids, organic acid salts of amines, halogen salts of amines or I) It is an inorganic acid, an inorganic acid salt, etc., and plays a role of dissolving and removing foreign substances such as oxide on the surface of the molten conductive particles and the surface of the terminal.

상기 표면 활성제는 합금필러의 융점보다도 높은 비등점을 갖고, 또한 단자 사이를 접합하기 위해 실시하는 가열 처리시의 최고 온도보다도 낮은 온도에서 증발하는 것이 바람직하다. 상기 도전성 복합체 중 표면 활성제의 함유율은 3 ~ 20중량%인 것이 바람직하고, 3 ~ 10중량%인 것이 더 바람직하다. 여기서 상기 표면활성제가 3중량%이하가 되면 도전성입자의 표면, 랜드의 표면, 전극패드의 표면의 산화물 등의 표면 이물제거 능력이 떨어져 접합부의 접합특성이 저하되는 원인이 되고, 20중량%를 초과하면 보이드가 발생하기 쉽고, 접합부에서의 접합특성이 저하되는 원인이 된다. It is preferable that the said surface active agent has a boiling point higher than melting | fusing point of an alloy filler, and evaporates at the temperature lower than the highest temperature at the time of the heat processing performed in order to join between terminals. It is preferable that it is 3-20 weight%, and, as for the content rate of the surface active agent in the said conductive composites, it is more preferable that it is 3-10 weight%. When the surface active agent is less than 3% by weight, surface foreign matter removal ability such as oxide on the surface of the conductive particles, the surface of the land, and the surface of the electrode pad is reduced, resulting in deterioration of the bonding properties of the joint, and more than 20% by weight. If it is, voids are likely to occur, which causes deterioration of the bonding characteristics at the joint.

그리고 상기 경화제는 도전성 복합체에 포함된 고분자 매트릭스의 경화를 촉진하는 것으로, Diaminodiphenyl sulfone(DDS) 등이 있다. 경화제도 도전성 복합체 중의 함유율이 위에서 설명한 표면 활성제의 그것과 동일하게 되는 것이 좋다.And the curing agent to promote the curing of the polymer matrix contained in the conductive composite, there is a diaminodiphenyl sulfone (DDS). It is preferable that a hardening | curing agent becomes the content rate in a conductive composite the same as that of the surface active agent demonstrated above.

본 발명의 권리범위는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.The scope of the present invention is not limited to the embodiments described above, but may be defined by the scope of the claims, and those skilled in the art may make various modifications and alterations within the scope of the claims It is self-evident.

Claims (15)

합금필러와;An alloy filler; 상기 합금필러의 융점에서 경화가 미완료되는 고분자 매트릭스와;A polymer matrix in which hardening is incomplete at the melting point of the alloy filler; 상기 고분자 매트릭스와 혼합되고, 금속산화물과 결합되어 산화금속기를 형성하는 폴리실록산-금속산화물 복합체; 및A polysiloxane-metal oxide composite mixed with the polymer matrix and combined with a metal oxide to form a metal oxide group; And 상기 합금필러의 융점보다 높고 상기 고분자 매트릭스의 경화가 완료되는 온도보다 낮은 비등점을 갖는 플럭스를 포함하되, It includes a flux having a boiling point higher than the melting point of the alloy filler and lower than the temperature at which the curing of the polymer matrix is completed, 상기 폴리실록산-금속산화물 복합체의 양측 말단에는 에폭시기가 결합되는 도전성 복합체.A conductive composite having an epoxy group bonded to both ends of the polysiloxane-metal oxide composite. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에폭시기는 1-싸이클로프로필-3-에테닐-1,1,3,3-테트라메틸-디실록산 (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2-(3-부텐-1-일)-2-트리메틸실릴-옥시란 (2-(3-buten-1-yl)-2-(trimethylsilyl)-Oxirane) 또는 글리시딜 메탈크릴레이트(glycidyl methacrylate)중 어느 하나 임을 특징으로 하는 도전성 복합체.The epoxy group is 1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane (1-cyclopropyl-3-ethenyl-1,1,3,3-tetramethyl-Disiloxane); 2- (3-buten-1-yl) -2-trimethylsilyl-oxirane (2- (3-buten-1-yl) -2- (trimethylsilyl) -Oxirane) or glycidyl methacrylate The conductive composite, characterized in that any one of. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 폴리실록산-금속산화물 복합체는 하기 화학식 3으로 표시됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The polysiloxane-metal oxide composite is a conductive composite, characterized in that represented by the formula (3). [화학식 3](3)
Figure 112009069929031-pat00008
Figure 112009069929031-pat00008
상기 화학식 3에서, R1, R2, R3, R4, R6, R7, R8, R9, R10은 각각 독립적으로 수소, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기, 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기, 히드록시기 또는 할로겐기이고, R5는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 1-50인 지방족 탄화수소기 또는 치환체를 가질 수 있는 탄소수 6-50인 방향족 탄화수소기가 결합되거나 결합되지 않은 -O-, -COO- 또는 -CO- 이고, l, m, n은 각각 독립적으로 1-100의 정수이다. X는 산화금속기이다.In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are each independently hydrogen, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms , An aromatic hydrocarbon group having 6 to 50 carbon atoms, a hydroxyl group or a halogen group which may have a substituent, and R 5 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic hydrocarbon having 6 to 50 carbon atoms, which may have a substituent. The group is -O-, -COO- or -CO- with or without bonding, and l, m and n are each independently an integer of 1-100. X is a metal oxide group.
제 4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 산화금속기의 금속은 구리, 철, 아연, 은, 알루미늄, 플래티넘, 망간, 코발트, 니켈, 티타늄, 납 또는 카드뮴중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 도전성 복합체.The metal of the metal oxide group is a conductive composite, characterized in that any one of copper, iron, zinc, silver, aluminum, platinum, manganese, cobalt, nickel, titanium, lead or cadmium. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 화학식 3으로 표시되는 폴리실록산-금속산화물 복합체는 하기 화학식 1의 폴리실록산과 금속산화물을 배위결합하여 제조됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The polysiloxane-metal oxide composite represented by Formula 3 is a conductive composite, characterized in that prepared by coordinating the polysiloxane and the metal oxide of the formula (1). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009069929031-pat00009
Figure 112009069929031-pat00009
상기 화학식 1에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, l, m, n은 상기 화학식 3에 기재한 바와 같다. In Formula 1, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , l, m, n are as described in Formula 3 above.
제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 화학식 1의 폴리실록산은 하기 화학식 2의 화합물과 R5NR9R10 을 반응시켜 제조됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The polysiloxane of Chemical Formula 1 is prepared by reacting a compound of Chemical Formula 2 with R 5 NR 9 R 10 . [화학식 2][Formula 2]
Figure 112009069929031-pat00010
Figure 112009069929031-pat00010
상기 화학식 2에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, l, m, n은 상기 화학식 3에 기재한 바와 같다. In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , l, m, n are as described in Formula 3 above.
제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 도전성 복합체에는 표면 활성제 및 경화제 중 적어도 1개 이상이 첨가됨을 특징으로 하는 도전성 복합체.The conductive composite is characterized in that at least one or more of a surface active agent and a curing agent is added to the conductive composite. 제 1 항, 및 제3항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 도전성 복합체로 만들어진 페이스트.A paste made of the conductive composite according to any one of claims 1 and 3 to 8. 제 1 항, 및 제3항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 도전성 복합체로 만들어진 필름.A film made of the conductive composite according to any one of claims 1 and 3 to 8. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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