KR101231968B1 - Substrate Carrier System - Google Patents

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Abstract

본 발명은 증착 공정 등에서 공정 챔버 안으로 기판을 투입하고 회수하는 기판 이송 시스템에 관한 것으로, 공정 진행 속도를 향상시켜 양산성을 좋게 하려는 것이다.
본 발명에 따르면, 기판을 탑재한 카세트를 수직으로 다수 적층 하여 두 개의 카세트 군을 구성하고, 하나의 카세트 군(제1 카세트 군)에서 기판을 먼저 증착 챔버에 투입하고, 기판이 투입될 때마다 카세트 군은 한 층씩 상승시키고, 카세트 군에 있던 모든 기판이 투입되면, 카세트 군을 편이 시키면서, 다른 카세트 군(제2 카세트 군)을 기판 투입구로 이동시켜 연속적으로 기판을 투입시킬 수 있게 한다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer system for injecting and recovering a substrate into a process chamber in a deposition process and the like, and to improve the process progress speed to improve mass productivity.
According to the present invention, a plurality of cassettes on which a substrate is mounted are stacked vertically to form two cassette groups, and in one cassette group (first cassette group), the substrate is first introduced into the deposition chamber, and each time the substrate is inserted. The cassette group is lifted one by one, and when all the substrates in the cassette group are fed, the cassette group is shifted, and another cassette group (second cassette group) is moved to the substrate inlet to continuously feed the substrate.

Description

기판 이송 시스템{Substrate Carrier System}Substrate Carrier System

본 발명은 증착 공정 등에서 공정 챔버 안으로 기판을 투입하고 회수하는 기판 이송 시스템에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 대면적의 유리 기판을 공정 챔버에 투입하여 증착 공정 등을 실시하되, 양산에 적합한 생산성을 거두기 위한 기판 이송 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate transfer system for injecting and recovering a substrate into a process chamber in a deposition process, and more particularly, a glass substrate having a large area is introduced into the process chamber to perform a deposition process and the like. A substrate transfer system for harvesting.

기판을 진공 챔버에 넣고 소정의 물질을 증착하여 원하는 박막을 형성하는 공정은 반도체, OLED, 솔라셀, 투명전극 제작 등 다양하게 이용된다. 이러한 증착 공정의 경우, 대부분 진공 챔버에서 실시하게 되며, 증착으로 박막을 형성하게 되는 기판의 종류도 금속, 실리콘, 유리, 폴리머 등 다양하다. The process of forming a desired thin film by placing a substrate in a vacuum chamber and depositing a predetermined material is used in various ways, such as semiconductor, OLED, solar cell, and transparent electrode production. In the case of such a deposition process, most of the deposition process is carried out in a vacuum chamber, the substrate to form a thin film by deposition is also various, such as metal, silicon, glass, polymer.

이러한 증착 공정의 실시를 위해, 도 1과 같이 한 장의 기판을 챔버 안으로 투입하고, 챔버 안에서 기판상에 박막을 증착한 후, 챔버 밖으로 기판을 방출한다. 이와 같이 기판을 한 장씩 투입→증착→방출하는 공정은 양산에서 매우 생산성이 낮다는 문제가 있다. In order to perform such a deposition process, a single substrate is introduced into a chamber as shown in FIG. 1, a thin film is deposited on the substrate in the chamber, and the substrate is discharged out of the chamber. As described above, the process of injecting, depositing and discharging the substrates one by one has a problem in that the productivity is very low in mass production.

따라서 본 발명의 목적은 증착 공정 챔버에 기판을 투입하여 박막을 증착한 후 기판을 방출 및 회수하는 기판 이송시스템을 양산 공정에서 높은 생산성을 낼 수 있도록 설계하고자 하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to design a substrate transfer system that releases and recovers a substrate after depositing a thin film by inserting a substrate into a deposition process chamber so as to produce high productivity in a mass production process.

본 발명은, The present invention,

기판에 증착, 세정, 검사 또는 봉지 공정 중 어느 하나의 공정을 실시하는 챔버;A chamber for performing any one of deposition, cleaning, inspection or encapsulation processes on the substrate;

상기 챔버의 기판투입구로 투입되는 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트; 및A plurality of cassettes each having a plurality of substrates inserted into the substrate inlet of the chamber; And

상기 카세트와 기판을 이송하는 이송수단;을 포함하고,Includes; transfer means for transferring the cassette and the substrate,

상기 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트는 수직으로 적층 되어,A plurality of cassettes on which the plurality of substrates are mounted one by one are stacked vertically,

제1 카세트 군과 제2 카세트 군을 이루고, Forming a first cassette group and a second cassette group,

상기 제1 카세트 군과 제2 카세트 군은 상기 챔버의 기판투입구를 사이에 두고 진공화되는 투입대기실에 서로 마주하여 배치되고,The first cassette group and the second cassette group are disposed to face each other in an input waiting chamber which is evacuated with the substrate inlet of the chamber interposed therebetween,

상기 투입대기실은, 상기 제1 카세트 군이 배치된 곳과 제2 카세트 군이 배치된 곳과 상기 챔버의 기판투입구에 각각 셔터를 구비하여 격리되고, The input waiting room is isolated with a shutter at the place where the first cassette group is disposed, the second cassette group and the substrate inlet of the chamber, respectively,

상기 제1 카세트 군이 상기 챔버의 기판투입구 쪽으로 이송되어, 위에 놓인 기판부터 차례로 챔버 안으로 투입되고, 기판이 빠져나간 카세트는 이송수단에 의해 차례로 상승 되고, 제1 카세트 군의 모든 기판이 챔버 안으로 투입되면, 제1 카세트 군의 모든 카세트가 일시에 함께 하강 되고, 제1 카세트 군과 제2 카세트 군은 이송 수단에 의해 함께 편이 되어, 제1 카세트 군은 원위치로 되고, 제2 카세트 군이 상기 챔버의 기판 투입구 쪽으로 이송되어, 제2 카세트 군의 위에 놓인 기판부터 차례로 챔버 안으로 투입되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템을 제공할 수 있다. The first group of cassettes is transferred toward the substrate inlet of the chamber, and the substrates are placed in order from the substrate placed on top of each other, and the cassettes having been removed are sequentially raised by the transfer means, and all the substrates of the first cassette group are put into the chamber. Then, all the cassettes of the first cassette group are lowered together at a time, the first cassette group and the second cassette group are pulled together by the conveying means, the first cassette group is returned to its original position, and the second cassette group is the chamber. It is transferred to the substrate inlet of the, it can provide a substrate transfer system, characterized in that the substrate is placed in order from the substrate placed on the second cassette group in turn.

또한, 본 발명은, Further, according to the present invention,

기판에 증착, 세정, 검사 또는 봉지 공정 중 어느 하나의 공정을 실시하는 챔버;A chamber for performing any one of deposition, cleaning, inspection or encapsulation processes on the substrate;

상기 챔버의 기판투입구로 투입되는 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트; 및A plurality of cassettes each having a plurality of substrates inserted into the substrate inlet of the chamber; And

상기 카세트와 기판을 이송하는 이송수단;을 포함하고,Includes; transfer means for transferring the cassette and the substrate,

상기 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트는 수직으로 적층 되어 하나의 카세트 군을 이루고, The plurality of cassettes on which the plurality of substrates are mounted one by one are vertically stacked to form one cassette group.

상기 카세트 군이 진공화되는 투입대기실 안에 진입하여 배치되고, 상기 챔버의 기판투입구 쪽으로 이송되어, 위에 놓인 기판부터 차례로 챔버 안으로 투입되고, 기판이 빠져나간 카세트는 이송수단에 의해 차례로 상승 되고, 상기 카세트 군의 모든 기판이 챔버 안으로 투입되면, 상기 카세트 군은 모두 함께 하강 되고 진입시의 원위치 반대편으로 편이 되며, The cassette group enters and is arranged in an input waiting chamber which is evacuated, and is conveyed toward the substrate inlet of the chamber, and is sequentially introduced into the chamber from the substrate placed thereon, and the cassette from which the substrate is ejected is sequentially raised by the conveying means, and the cassette When all the substrates in the group are introduced into the chamber, the cassette group is all lowered together and shifted to the opposite side of the original position upon entry,

다수의 기판을 탑재한 또 다른 카세트 군이 상기 챔버의 투입구에 장착되어 기판을 투입하게 하고,Another cassette group equipped with a plurality of substrates is mounted in the inlet of the chamber to input the substrate,

상기 투입대기실은, 상기 카세트 군의 기판 투입 전 원위치와 기판투입 시 위치와 기판 투입 후 편이 된 위치를 격리하는 각각의 셔터들을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템을 제공할 수 있다. The input waiting room may provide a substrate transfer system comprising respective shutters that isolate the original position of the cassette group from the substrate input position, the position at the time of substrate input, and the position shifted after the substrate input.

또한, 본 발명은, 상기 기판 이송 시스템에 있어서, 이송 수단은, 컨베이어 벨트, 기어 또는 레일 중 어느 하나로 구성하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템을 제공할 수 있다. In addition, the present invention can provide a substrate transfer system, characterized in that the transfer means comprises any one of a conveyor belt, a gear, or a rail.

또한, 본 발명은, 상기 기판 이송 시스템에 있어서, 증착, 세정, 검사 또는 봉지 공정 중 어느 하나의 공정을 마친 기판이 챔버의 출구로부터 진공화되는 방출대기실로 방출되면, 출구에 미리 장착된 카세트 군의 각 카세트에 탑재되고, 기판이 탑재되면 카세트 군은 한 층씩 상승 되어 아래층에 있던 카세트가 출구 높이에 도달하여, 잇달아 방출되는 기판이 카세트 군의 카세트에 차례로 탑재되게 하고, 카세트 군의 모든 카세트에 기판이 탑재되면, 카세트 군은 편이 되어 출구로부터 벗어나고, 또 다른 카세트 군이 출구에 배치되게 하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템을 제공할 수 있다.In addition, the present invention, in the substrate transfer system, when the substrate which has completed any one of the deposition, cleaning, inspection or encapsulation process is discharged from the outlet of the chamber to the discharge waiting chamber to be evacuated, the cassette group pre-attached to the outlet The cassettes are mounted one by one when the substrates are loaded, and the cassette group is lifted by one layer so that the cassettes on the lower layer reach the exit height, so that the substrates that are subsequently released are loaded in the cassettes of the cassette group one after another. When the substrate is mounted, the cassette group can be sided away from the outlet and another cassette group can be disposed at the outlet.

또한, 본 발명은, 상기 기판 이송 시스템에 있어서, 상기 제2 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안, 제1 카세트 군은 상기 투입대기실의 원위치에서 기판을 새로 재치하고, 상기 제1 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안에는 제2 카세트 군이 상기 투입대기실의 원위치에서 기판을 새로 재치하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템을 제공할 수 있다.In addition, in the substrate transfer system, while the second cassette group feeds the substrate into the chamber, the first cassette group newly places the substrate at the original position of the feeding chamber, and the first cassette group is While the substrate is introduced into the chamber, the second cassette group may provide a substrate transfer system, wherein the substrate is newly placed at the original position of the feeding chamber.

또한, 본 발명은, 상기 기판 이송 시스템에 있어서, 상기 제2 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안, 제1 카세트 군은 상기 투입대기실로부터 탈착 방출되어 기판을 새로 재치하고, 상기 제1 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안에는 제2 카세트 군이 상기 투입대기실로부터 탈착 방출되어 기판을 새로 재치하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템을 제공할 수 있다. In addition, in the substrate transfer system, the first cassette group is detachably released from the loading chamber while the second cassette group is introduced into the chamber, and the substrate is newly placed, and the first cassette group is loaded. While the substrate is introduced into the chamber, the second cassette group can be detachably released from the feeding chamber to reload the substrate.

본 발명에 따르면, 다수의 기판을 증착 공정 처리하는 양산 시스템에 적합한 기판 이송시스템을 제공하므로, 기판의 처리 속도를 높이면서도, 특별히 비용을 높이지 않아 유리하다.According to the present invention, it is advantageous to provide a substrate transfer system suitable for a mass production system that processes a plurality of substrates in a deposition process, while increasing the processing speed of the substrate and not particularly increasing the cost.

도 1은 종래 증착 챔버에서 기판을 처리하는 과정을 나타내는 평면 개념도 이다.
도 2는 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 일실시예를 나타내는 평면 구성도이다.
도 3은 본 발명의 기판 이송시스템에 채용되는 제1 카세트 군(100)과 제2 카세트 군(150)의 적층상태를 나타내는 사시도 이다.
도 4는 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 일실시예에 따라 제1 카세트 군(100)이 투입대기실에 들어가는 것을 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 일실시예에 따라 제1 카세트 군(100)의 기판이 증착 챔버 내로 투입되는 것을 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 일실시예에 따라 제1 카세트 군(100)이 기판을 투입한 후, 한 층씩 상승하는 것을 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 일실시예에 따라 제1 카세트 군(100)이 기판을 모두 투입하여 카세트 적층 수만큼 상승한 것을 나타내는 단면도이다.
도 8(a) 및 도 8(b)는 도 7에 연이은 동작으로, 제1 카세트 군(100)이 다시 하강한 후, 제 2카세트 군(150)과 함께 편이 되어 투입대기실에 제2 카세트 군이 들어가고 제1 카세트 군은 방출되어 기판을 재탑재하게 된 모습을 나타내는 평면도이다.
도 9는 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 또 다른 실시예를 나타내는 평면 구성도이다.1 is a schematic plan view illustrating a process of processing a substrate in a conventional deposition chamber.
2 is a plan view showing an embodiment of the substrate transfer system of the present invention.
3 is a perspective view showing a lamination state of the first cassette group 100 and the second cassette group 150 employed in the substrate transfer system of the present invention.
Figure 4 is a plan view showing that the first cassette group 100 enters the input waiting room according to an embodiment of the substrate transfer system of the present invention.
5 is a cross-sectional view showing that the substrate of the first cassette group 100 is introduced into the deposition chamber according to an embodiment of the substrate transfer system of the present invention.
6 is a cross-sectional view showing that the first cassette group 100 rises one by one after inputting a substrate according to an embodiment of the substrate transfer system of the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating that the first cassette group 100 rises by the number of cassette stacks by inserting all the substrates according to the exemplary embodiment of the substrate transfer system of the present invention.
8 (a) and 8 (b) are operations subsequent to FIG. 7, after the first cassette group 100 is lowered again, the second cassette group 150 is shifted together with the second cassette group 150 to insert the second cassette group into the input waiting room. This first cassette group is a plan view showing the state of being ejected and reloading the substrate.
9 is a plan view showing another embodiment of the substrate transfer system of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

실시예 1Example 1

도 2는 본 발명의 기판 이송시스템에 대한 일실시예를 나타내는 평면 구성도이다. 증착 챔버(200)의 전단과 후단에는 진공 챔버로 진공화되는 투입대기실(210)과 방출대기실(225)이 설치되고, 증착하려는 기판(120)들은 카세트(110)에 탑재되어 도 3에서처럼 수직으로 적층 된다. 카세트(110)에 기판(120)이 탑재되면 자동으로 얼라인 되며, 이와 같이 적층 된 기판을 탑재한 카세트들은 제1 카세트 군(100)과 제2 카세트 군(150)으로 나뉘어져 도 2에서와 같이 투입대기실(210)에 마주하게 배치된다. 방출대기실(225)에는 빈 카세트(110)들로 이루어진 두 개의 카세트군이 적층 된 상태로 증착된 기판(120)을 수용할 수 있게 대기한다. 여기서 투입대기실(210)과 방출대기실(225)은 외부로부터 카세트 군이 출입할 수 있는 도어를 구비하며, 도어를 닫은 후, 모두 진공 펌프로 진공화한 상태이며, 제1 및 제2 카세트 군은 각각 셔터 1(211)과 셔터 2(212)를 통해 진공 중에서 이송수단(미 도시)에 의해 출입하게 되고, 기판(120)이 투입되는 투입구 셔터(220) 앞으로 이동하여 얼라인 된 후, 기판(120)을 증착 챔버(200) 안으로 투입한다(도 4 참조). 2 is a plan view showing an embodiment of the substrate transfer system of the present invention. At the front and the rear of the deposition chamber 200, an input waiting chamber 210 and a discharge waiting chamber 225 are evacuated to a vacuum chamber, and the substrates 120 to be deposited are mounted on the cassette 110 and vertically as shown in FIG. Are stacked. When the substrate 120 is mounted on the cassette 110, the substrate 120 is automatically aligned. The cassettes mounted on the stacked substrates are divided into a first cassette group 100 and a second cassette group 150, as shown in FIG. 2. It is disposed facing the input waiting room (210). In the discharge waiting room 225, two cassette groups including the empty cassettes 110 are stacked to accommodate the deposited substrate 120. Here, the input waiting room 210 and the discharge waiting room 225 are provided with a door through which the cassette group can enter and exit from the outside, and after the door is closed, both are evacuated by a vacuum pump, and the first and second cassette groups are The shutter 1 211 and the shutter 2 212 are respectively moved in and out by a conveying means (not shown) in a vacuum, and the substrate 120 is moved in front of the inlet shutter 220 into which the substrate is inserted and then aligned. 120 is introduced into the deposition chamber 200 (see FIG. 4).

먼저, 제1 카세트 군(100)이 이송 수단(미 도시)에 의해 셔터 1(211) 개방 시 이를 통과해 투입대기실(210)의 중앙부로 이동해 투입구 셔터 3(220) 앞으로 들어가고 얼라인 되며, 투입대기실(210)은 모두 진공화된 상태로 셔터 1, 2, 3(211, 212, 220)의 개방에 의해 진공이 영향받지 않으며, 증착 챔버(200)로 들어가는 챔버의 투입구 셔터 3(220)이 열리면, 제1 카세트 군(100)의 맨 위에 있는 기판(120)이 증착 챔버(200) 안으로 투입되어 증착 공정을 실시하게 된다(도 5 참조). 이때, 기판(120)이 이탈되어 비어 있게 된 카세트(110)를 포함한 제1 카세트 군(100)은 전체가 이송 수단에 의해 한 층 위로 상승 되어, 두 번째에 있던 기판이 증착 챔버(200) 안으로 투입될 수 있게 된다(도 6 참조). 제1 카세트 군(100)에 탑재된 모든 기판들이 증착 챔버(200) 안으로 투입되고 나면, 차례로 한 층씩 상승한 제1 카세트 군(100)은 도 7에서와 같이 전체적으로 소정의 높이에 위치하게 된다. 이송 수단은 제1 카세트 군(100) 전체를 다시 원래 높이로 하강시키고, 셔터 1(211)과 셔터 2(212)가 개방되어 투입대기실(210)의 중앙부에서부터 원위치로 편이 시키며 이때 제2 카세트 군(150)을 함께 편이 시켜 제2 카세트 군(150)을 투입대기실(210)의 중앙에 들여놓고 얼라인 된다. 도 8a는 이러한 동작을 나타내며, 제2 카세트 군(150)의 위치 편이를 점선과 실선으로 나타내었다. 즉, 대기상태의 위치를 점선, 중앙부로 이동하여 기판 투입 상태의 위치를 실선으로 나타낸 것이다. First, the first cassette group 100 passes through the opening of the shutter 1 (211) by the conveying means (not shown), moves to the center of the feeding chamber 210, enters and aligns in front of the inlet shutter 3 220, and inserts it. In the waiting room 210, the vacuum is not affected by the opening of the shutters 1, 2, and 3 (211, 212, 220) in a vacuum state, and the inlet shutter 3 220 of the chamber entering the deposition chamber 200 is When opened, the substrate 120 on top of the first cassette group 100 is introduced into the deposition chamber 200 to perform the deposition process (see FIG. 5). At this time, the first cassette group 100 including the cassette 110 in which the substrate 120 is separated and emptied is lifted up one layer by the transfer means so that the second substrate is transferred into the deposition chamber 200. It can be put in (see FIG. 6). After all the substrates mounted on the first cassette group 100 are introduced into the deposition chamber 200, the first cassette group 100, which is sequentially raised one by one, is positioned at a predetermined height as shown in FIG. 7. The conveying means lowers the entire first cassette group 100 back to its original height, and the shutter 1211 and the shutter 2212 are opened to shift from the center of the feeding chamber 210 to the original position. By shifting the 150 together, the second cassette group 150 is placed in the center of the input waiting room 210 and aligned. 8A illustrates this operation, and the positional shift of the second cassette group 150 is indicated by a dotted line and a solid line. That is, the position of the substrate input state is indicated by the solid line by moving the position of the standby state to the dotted line and the center portion.

이후, 제2 카세트 군(150)은 제1 카세트 군(100)의 동작과 동일하게 동작하여 계속적으로 기판(120)을 증착 챔버(200) 안으로 투입하고, 그동안 제1 카세트 군(100)에는 새롭게 기판(120)을 재치하여 투입대기실(210)에 대기시킨다. 기판을 새롭게 재치하고 있는 제1 카세트군(100)이 있는 곳은 투입대기실(210)의 셔터 1(211)의 폐쇄로 제2 카세트군(150)의 기판 투입이 진행되는 곳의 진공은 깨뜨리지 않고 진행될 수 있으며, 제1 카세트 군(100)은 투입대기실(210)에서의 위치 및 이동경로가 이송 수단에 의해 고정되어 얼라인에 소모되는 시간과 에너지를 줄일 수 있는 장점이 있다. 이는 이후 제2 카세트 군(150)의 동작에서도 동일하게 적용되는 장점이다. 즉, 제2 카세트 군(150)은 기판투입 후 하강하고 기판이 재치된 제1 카세트 군(100)과 함께 편이 되어 원위치로 돌아오고 제1 카세트 군(100)이 기판투입구로 들어와 기판 투입동작을 하게 된다. Subsequently, the second cassette group 150 operates in the same manner as the operation of the first cassette group 100 to continuously feed the substrate 120 into the deposition chamber 200, during which the first cassette group 100 is newly added. The substrate 120 is placed and waited in the input waiting room 210. Where the first cassette group 100 where the substrate is newly placed is located, the vacuum at the place where the second cassette group 150 is inputted is not broken by closing the shutter 1211 of the input waiting chamber 210. The first cassette group 100 has an advantage of reducing the time and energy consumed in the alignment because the position and the movement path in the input waiting room 210 are fixed by the transfer means. This is an advantage that is equally applied to the operation of the second cassette group 150 thereafter. That is, the second cassette group 150 descends after the substrate is inserted, and the substrate is placed together with the first cassette group 100 on which the substrate is placed, and returns to its original position, and the first cassette group 100 enters the substrate inlet to perform the substrate feeding operation. Done.

그러나, 이와 달리 제1 카세트 군(100)과 제2 카세트 군(150)의 위치와 이동경로를 투입대기실(210) 내에 고정시킨 고정식이 아닌 탈착식으로 구성할 수도 있다. 즉, 제1 카세트 군(100)은 기판을 모두 증착 챔버(200) 안으로 투입한 후, 하강되고 원위치로 이동한 다음, 셔터 1(211)가 닫힌 상태에서 투입대기실(210) 밖으로 탈착 방출되어 기판을 다시 재치하게 된다(도 8b 참조). However, alternatively, the position and the movement path of the first cassette group 100 and the second cassette group 150 may be configured to be removable rather than fixed in the input waiting room 210. That is, the first cassette group 100, after all the substrates are introduced into the deposition chamber 200, then lowered and moved to the original position, the first cassette group 100 is detached and discharged out of the input waiting room 210 in the state that the shutter 1 (211) is closed, the substrate Will be loaded again (see FIG. 8B).

이러한 방식은 투입대기실(210)에 넣은 후 얼라인 공정을 필요로 하게 되나, 기판을 카세트에 재치하는 작업을 용이하게 하여 작업성이 좋고, 기판을 재치한 카세트 군을 투입대기실(210)에 넣고 셔터 1(211)에 의해 격리된 공간만을 진공화하므로 진공화하는 데 걸리는 시간을 단축할 수 있는 장점을 지닌다. This method requires an alignment process after putting in the input waiting room 210, but facilitates the operation of placing the substrate in the cassette, the workability is good, and the cassette group in which the substrate is placed is placed in the input waiting room 210. Since only the space isolated by the shutter 1 211 is evacuated, the time taken to evacuate is shortened.

한편, 증착을 마친 기판은 증착 챔버의 출구 셔터 4(221)를 통해 방출대기실(225) 중앙부로 나오고, 방출대기실(225) 중앙부에 미리 대기하고 있는 카세트들(카세트 군)에 의해 수용되고, 하나의 기판이 하나의 카세트에 탑재되면 카세트 군은 한 층씩 상승 되어, 연속적으로 기판을 탑재하게 하며, 모든 카세트들이 기판으로 탑재되면 전체 카세트 군이 함께 하강 되어 방출대기실(225)의 셔터 5(226)를 개방하고 이를 통해 중앙부를 빠져나오고, 이와 함께 셔터 6(227)을 통해 대기하고 있던 다른 카세트 군이 방출대기실(225)의 중앙부로 편이하여 위치하게 된다. 즉, 투입동작과 대칭적으로 동작하는 것이다. On the other hand, the substrate after the deposition is exited to the center of the discharge chamber 225 through the exit shutter 4 (221) of the deposition chamber, it is accommodated by the cassettes (cassette group) waiting in advance in the center of the discharge chamber 225, one If the substrate is mounted in one cassette, the cassette group is increased by one layer, and the substrate is continuously loaded. When all the cassettes are mounted as the substrate, the entire cassette group is lowered together, so that the shutter 5 (226) of the discharge waiting room 225 is mounted. And exits through the central portion, whereby another group of cassettes waiting through the shutter 6 227 is shifted to the central portion of the discharge chamber 225. That is, the operation is symmetrical with the closing operation.

이와 같이 하면, 기판에 물질을 증착하는 공정을 좀 더 빠른 택 타임(tact time)으로 진행할 수 있다. In this way, the process of depositing the material on the substrate can be proceeded at a faster tact time.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1에 대한 또 다른 실시예로서 도 9와 같은 실시예를 구현할 수 있다. As another embodiment of the first embodiment, the embodiment shown in FIG. 9 may be implemented.

즉, 투입대기실(210)에 들어가는 카세트 군을 제1 카세트 군(100)만으로 구성하고, 셔터 1(211)를 통해 투입대기실(210)의 중앙부에 들어가 얼라인 된 후, 기판 투입 동작, 카세트 상승 동작은 상기 도 5 내지 도 7에서와 동일하나, 모든 기판들을 투입한 후, 상승 된 제1 카세트 군(100)은 하강 된 후, 셔터 2(212)를 통해 원위치의 건너편으로 편이 되고 투입대기실(210)로부터 빠져나온다. 즉, 원위치가 아닌, 원위치의 건너편으로 이동하며, 투입대기실(210) 밖으로 방출되는 탈착식으로 구성된다. 이러한 동작을 도 9에서 제1 카세트 군(100)의 이동을 점선과 실선으로 표시하였고, 이렇게 방출된 기판이 없는 제1 카세트 군(100)은 다시 기판을 재치하여 대기하게 된다. That is, the cassette group entering the input waiting room 210 is composed of only the first cassette group 100, enters and aligns with the center of the input waiting room 210 through the shutter 1 211, and then moves the substrate into the cassette. The operation is the same as in FIGS. 5 to 7, but after all the substrates are put in, the raised first cassette group 100 is lowered, and then shifted to the other side of the original position through the shutter 212 and the input waiting room ( Exit 210). That is, it moves to the other side of the home position, not the home position, and is configured as a removable type discharged out of the waiting room 210. In FIG. 9, the movement of the first cassette group 100 is indicated by a dotted line and a solid line in FIG. 9, and the first cassette group 100 without the substrate thus released is placed again to stand by.

즉, 하나의 카세트 군으로 순환식 운용할 수 있다. That is, it can be cyclically operated in one cassette group.

이러한 기판이송방식은 카세트군은 투입대기실(210) 내에 고정되지 않고 탈착하여 투입대기실(210) 외부로 방출되므로 재진입시 얼라인이 필요하나, 투입대기실(210) 밖에서 기판을 재치하므로 작업성이 좋고, 투입대기실(210)에 넣은 다음, 카세트군이 들어와 있는 공간, 즉, 셔터 1(211)이 격리하는 공간만 진공화하므로 진공화하는 데 걸리는 시간을 줄일 수 있는 장점이 있다. In this substrate transfer method, since the cassette group is not fixed in the input waiting room 210 and is detached and discharged to the outside of the input waiting room 210, alignment is necessary when reentering, but the workability is good because the substrate is placed outside the input waiting room 210. After being put into the input waiting room 210, only the space in which the cassette group enters, that is, the space isolated by the shutter 1 211 is evacuated, thereby reducing the time required for vacuuming.

또한, 여러 개의 카세트 군을 준비하고, 투입대기실(210) 밖에서 기판을 재치하여 하나의 카세트군이 투입대기실(210)에서 방출되면 대기하던 다른 카세트군이 투입대기실(210)로 넣어져 상기와 같은 순환식으로 운용하여 생산성을 크게 향상시킬 수 있다. In addition, if a plurality of cassette groups are prepared and one cassette group is discharged from the input waiting room 210 by placing the substrate outside the input waiting room 210, another cassette group waiting is put into the input waiting room 210, as described above. It can be operated cyclically to greatly improve productivity.

이와 같이 하여 다량의 기판에 대한 증착 공정의 속도를 향상시켜 양산 시스템을 구현할 수 있다. In this way, it is possible to implement a mass production system by improving the speed of the deposition process for a large amount of substrate.

또한, 상기 기판 이송 시스템은 증착 공정 이외에 세정 공정, 검사 공정 또는 봉지공정에서도 동일하게 적용될 수 있다.
In addition, the substrate transfer system may be equally applied to a cleaning process, an inspection process, or an encapsulation process in addition to the deposition process.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.The rights of the present invention are not limited to the embodiments described above, but are defined by the claims, and those skilled in the art can make various modifications and adaptations within the scope of the claims. It is self-evident.

100: 제1 카세트 군 150: 제2 카세트 군
110: 카세트 120: 기판
200: 증착 챔버 210: 투입대기실
211: 셔터 1
212: 셔터 2
220: 셔터 3
221: 셔터 4
226: 셔터 5
227: 셔터 6
225: 방출대기실100: first cassette group 150: second cassette group
110: cassette 120: substrate
200: deposition chamber 210: input waiting room
211: shutter 1
212: shutter 2
220: shutter 3
221: shutter 4
226: shutter 5
227: shutter 6
225: release waiting room

Claims (6)

기판에 증착, 세정, 검사 또는 봉지 공정 중 어느 하나의 공정을 실시하는 챔버;
상기 챔버의 기판투입구로 투입되는 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트; 및
상기 카세트와 기판을 이송하는 이송수단;을 포함하고,
상기 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트는 수직으로 적층 되어,
제1 카세트 군과 제2 카세트 군을 이루고,
상기 제1 카세트 군과 제2 카세트 군은 상기 챔버의 기판투입구를 사이에 두고 진공화되는 투입대기실에 서로 마주하여 배치되고,
상기 투입대기실은, 상기 제1 카세트 군이 배치된 곳과 제2 카세트 군이 배치된 곳과 상기 챔버의 기판투입구에 각각 셔터 1, 셔터 2 및 셔터 3을 구비하여 격리되고,
상기 제1 카세트 군이 셔터 1의 개방으로 상기 챔버의 기판투입구 쪽으로 이송되고 셔터 3이 개방되어, 위에 놓인 기판부터 차례로 챔버 안으로 투입되고, 기판이 빠져나간 카세트는 이송수단에 의해 차례로 상승 되고, 제1 카세트 군의 모든 기판이 챔버 안으로 투입되면, 제1 카세트 군의 모든 카세트가 일시에 함께 하강 되고, 셔터 2의 개방으로 제1 카세트 군과 제2 카세트 군은 이송 수단에 의해 함께 편이 되어, 제1 카세트 군은 개방된 셔터 1을 통과하여 원위치로 되고, 제2 카세트 군이 상기 챔버의 기판 투입구 쪽으로 이송되어, 제2 카세트 군의 위에 놓인 기판부터 차례로 챔버 안으로 투입되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템. A chamber for performing any one of deposition, cleaning, inspection or encapsulation processes on the substrate;
A plurality of cassettes each having a plurality of substrates inserted into the substrate inlet of the chamber; And
Includes; transfer means for transferring the cassette and the substrate,
A plurality of cassettes on which the plurality of substrates are mounted one by one are stacked vertically,
Forming a first cassette group and a second cassette group,
The first cassette group and the second cassette group are disposed to face each other in an input waiting chamber which is evacuated with the substrate inlet of the chamber interposed therebetween,
The input waiting room is isolated and provided with a shutter 1, a shutter 2 and a shutter 3 at the place where the first cassette group is disposed, the second cassette group and the substrate inlet of the chamber, respectively,
The first group of cassettes is transferred toward the substrate inlet of the chamber with the opening of the shutter 1, the shutter 3 is opened, and then the cassettes which have been ejected into the chamber from the substrate placed thereon are sequentially lifted up, and the cassettes with which the substrate is ejected are sequentially raised by the transfer means. When all the substrates of the first cassette group are put into the chamber, all the cassettes of the first cassette group are lowered together at a time, and with the opening of the shutter 2, the first cassette group and the second cassette group are shifted together by the conveying means, and The first cassette group is returned to its original position through the opened shutter 1, and the second cassette group is transferred toward the substrate inlet of the chamber, and then the substrate group is sequentially introduced into the chamber from the substrate placed on the second cassette group. . 기판에 증착, 세정, 검사 또는 봉지 공정 중 어느 하나의 공정을 실시하는 챔버;
상기 챔버의 기판투입구로 투입되는 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트; 및
상기 카세트와 기판을 이송하는 이송수단;을 포함하고,
상기 다수의 기판을 하나씩 탑재한 다수의 카세트는 수직으로 적층 되어 하나의 카세트 군을 이루고,
상기 카세트 군이 진공화되는 투입대기실 안에 진입하여 배치되고, 상기 챔버의 기판투입구 쪽으로 이송되어, 위에 놓인 기판부터 차례로 챔버 안으로 투입되고, 기판이 빠져나간 카세트는 이송수단에 의해 차례로 상승 되고, 상기 카세트 군의 모든 기판이 챔버 안으로 투입되면, 상기 카세트 군은 모두 함께 하강 되고 진입시의 원위치 반대편으로 편이 되며,
다수의 기판을 탑재한 또 다른 카세트 군이 상기 챔버의 투입구에 장착되어 기판을 투입하게 하고,
상기 투입대기실은, 상기 카세트 군의 기판 투입 전 원위치와 기판투입 시 위치 사이에 셔터 1, 기판투입 시 위치와 기판 투입 후 편이 된 위치를 격리하는 셔터 2, 기판 투입구에 위치하는 셔터 3을 구비하여, 상기 카세트 군의 위치 이동 시 개폐되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템. A chamber for performing any one of deposition, cleaning, inspection or encapsulation processes on the substrate;
A plurality of cassettes each having a plurality of substrates inserted into the substrate inlet of the chamber; And
Includes; transfer means for transferring the cassette and the substrate,
The plurality of cassettes on which the plurality of substrates are mounted one by one are vertically stacked to form one cassette group.
The cassette group enters and is arranged in an input waiting chamber which is evacuated, and is conveyed toward the substrate inlet of the chamber, and is sequentially introduced into the chamber from the substrate placed thereon, and the cassette from which the substrate is ejected is sequentially raised by the conveying means, and the cassette When all the substrates in the group are introduced into the chamber, the cassette group is all lowered together and shifted to the opposite side of the original position upon entry,
Another cassette group equipped with a plurality of substrates is mounted in the inlet of the chamber to input the substrate,
The input waiting room includes a shutter 1 between the original position of the cassette group and the position when the substrate is inserted in the cassette group, a shutter 2 that isolates the position when the substrate is inserted and the side shifted after the substrate is inserted, and a shutter 3 located at the substrate feeding opening. , The substrate transfer system characterized in that the opening and closing of the cassette group when opening and closing. 제1항 또는 2항에 있어서, 이송 수단은, 컨베이어 벨트, 기어 또는 레일 중 어느 하나로 구성하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템. The substrate transfer system according to claim 1 or 2, wherein the transfer means comprises any one of a conveyor belt, a gear, and a rail. 제1항 또는 2항에 있어서, 증착, 세정, 검사 또는 봉지 공정 중 어느 하나의 공정을 마친 기판이 챔버의 출구로부터 진공화되는 방출대기실로 방출되면, 출구에 미리 장착된 카세트 군의 각 카세트에 탑재되고, 기판이 탑재되면 카세트 군은 한 층씩 상승 되어 아래층에 있던 카세트가 출구 높이에 도달하여, 잇달아 방출되는 기판이 카세트 군의 카세트에 차례로 탑재되게 하고, 카세트 군의 모든 카세트에 기판이 탑재되면, 카세트 군은 편이 되어 출구로부터 벗어나고, 또 다른 카세트 군이 출구에 배치되게 하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템.The cassette according to claim 1 or 2, wherein the substrate which has been subjected to any one of the deposition, cleaning, inspection or encapsulation processes is discharged from the outlet of the chamber to the discharge chamber which is evacuated. When the substrate is loaded, the cassette group is lifted one by one, and the cassettes on the lower layer reach the exit height, so that the substrates released one after another are loaded in the cassette of the cassette group one by one, and the substrates are mounted in all the cassettes of the cassette group. And the cassette group is pulled away from the outlet and another cassette group is arranged at the outlet. 제1항에 있어서, 상기 제2 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안 상기 셔터 1은 폐쇄된 상태이고, 제1 카세트 군은 기판 투입 동작 전에 위치하였던 상기 투입대기실의 원위치에서 기판을 새로 재치하고, 기판을 재치한 상기 제1 카세트 군이 다시 챔버 내로 기판을 투입하는 동안에는 상기 셔터 2는 폐쇄된 상태이고, 제2 카세트 군이 기판 투입 동작 전에 위치하였던 상기 투입대기실의 원위치에서 기판을 새로 재치하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템.The method of claim 1, wherein the shutter 1 is closed while the second cassette group is introduced into the chamber, and the first cassette group is newly placed at the original position of the loading chamber which was positioned before the substrate loading operation. The shutter 2 is closed while the first cassette group in which the substrate is placed is again fed into the chamber, and the second cassette group is newly placed at the original position of the feeding chamber in which the second cassette group was positioned before the substrate loading operation. Substrate transfer system, characterized in that. 제1항에 있어서, 상기 제2 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안 상기 셔터 1은 폐쇄된 상태이고, 제1 카세트 군은 상기 투입대기실로부터 탈착 방출되어 기판을 새로 재치하고, 상기 제1 카세트 군이 챔버 내로 기판을 투입하는 동안에는 상기 셔터 2는 폐쇄된 상태이고, 제2 카세트 군이 상기 투입대기실로부터 탈착 방출되어 기판을 새로 재치하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 시스템.The method of claim 1, wherein the shutter 1 is in a closed state while the second cassette group is introduced into the chamber, and the first cassette group is detachably discharged from the loading chamber so as to reload the substrate, and the first cassette is And the shutter 2 is in a closed state while the group introduces the substrate into the chamber, and the second cassette group is detachably released from the loading chamber to reload the substrate.
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