KR101216910B1 - Rf filter for tuning coupling amount or transmission zero - Google Patents

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Abstract

크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수 있는 RF 필터, 예를 들어 RF 캐비티 필터가 개시된다. 상기 RF 필터는 하우징 부재, 상기 하우징 부재의 상부에 결합되는 커버, 상기 커버의 일면에 형성된 제 1 튜닝 영역, 상기 제 1 튜닝 영역과 분리되면서 상기 커버의 일면에 형성된 제 2 튜닝 영역, 상기 튜닝 영역들 사이에 형성되면서 상기 커버의 일면에 형성된 유전체 영역 및 상기 유전체 영역 위에 배열된 제 1 튜닝 엘리먼트를 포함한다. 여기서, 상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 2 튜닝 영역은 도전 영역이다. An RF filter, such as an RF cavity filter, is disclosed that can adjust the amount of cross coupling or transmission zero. The RF filter includes a housing member, a cover coupled to an upper portion of the housing member, a first tuning region formed on one surface of the cover, a second tuning region formed on one surface of the cover while being separated from the first tuning region, and the tuning region. And a first tuning element formed between the dielectric region formed on one surface of the cover and the dielectric region. Here, the first tuning region and the second tuning region are conductive regions.

Description

커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수 있는 RF 필터{RF FILTER FOR TUNING COUPLING AMOUNT OR TRANSMISSION ZERO}RF filter with adjustable coupling amount or zero transmission {RF FILTER FOR TUNING COUPLING AMOUNT OR TRANSMISSION ZERO}

본 발명은 크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수 있는 RF 필터, 예를 들어 RF 캐비티 필터에 관한 것이다. The present invention relates to an RF filter, for example an RF cavity filter, which can adjust the amount of cross coupling or transmission zero.

RF 캐비티 필터는 다수의 캐비티를 필터 내부에 형성하여 사용 주파수 대역RF cavity filter forms a number of cavities inside the filter to use frequency band

의 신호만을 통과시키는 장치로서, 비교적 높은 파워의 주파수 신호가 사용되는 기지국 등에 이용된다.As a device for passing only a signal of, it is used in a base station or the like where a relatively high power frequency signal is used.

도 1은 일반적인 RF 캐비티 필터의 내부 구성을 도시한 평면도이다.1 is a plan view showing the internal configuration of a typical RF cavity filter.

도 1을 참조하면, RF 캐비티 필터는 입력 커넥터(100), 출력 커넥터(102), 하우징 부재(104), 하우징 부재(104) 및 격벽에 의해 정의되는 다수의 캐비티(110, 112, 114, 116, 118, 120), 각 캐비티에 수용되는 다수의 공진기(130, 132, 134, 136, 138, 140) 및 커플링 바(160)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the RF cavity filter includes a plurality of cavities 110, 112, 114, 116 defined by an input connector 100, an output connector 102, a housing member 104, a housing member 104, and a partition wall. , 118, 120, a plurality of resonators 130, 132, 134, 136, 138, 140 and coupling bars 160 accommodated in each cavity.

입력 커넥터(100)로는 RF 신호가 인가되며, 입력 커넥터(100)로 인가된 RF 신호는 캐비티(110)로 제공된다. 각각의 캐비티(110, 112, 114, 116, 118, 120) 및An RF signal is applied to the input connector 100, and an RF signal applied to the input connector 100 is provided to the cavity 110. Each cavity 110, 112, 114, 116, 118, 120 and

각 캐비티에 수용된 공진기(130, 132, 134, 136, 138, 140)는 각각 LC 공진 엘리먼The resonators 130, 132, 134, 136, 138, and 140 housed in each cavity are respectively LC resonant elimens

트로 동작한다.Works with.

한 캐비티에서 다른 캐비티로의 신호의 이동은 커플링 윈도우(150)를 통해The movement of signals from one cavity to another is via coupling window 150.

이루어진다.Is done.

필터의 공진 주파수는 캐비티의 사이즈, 공진기의 사이즈에 의해 결정되며, 도 1에는 도시되지 않았으나 다수의 튜닝 볼트를 이용하여 미세 튜닝 작업이 이The resonant frequency of the filter is determined by the size of the cavity and the size of the resonator. Although not shown in FIG. 1, the fine tuning operation is performed using a plurality of tuning bolts.

루어질 수 있다.Can be done.

필터의 대역 통과 특성 중 중요한 특성으로서 스커트 특성이 있다. 스커트 특성은 필터의 대역 통과 특성 곡선에서 경계 대역에서의 기울기를 의미하는 것으로서, 스커트 특성은 가파르게 설정되는 것이 바람직하다.An important characteristic of the band pass characteristics of the filter is the skirt characteristic. The skirt characteristic means a slope in the boundary band in the band pass characteristic curve of the filter, and the skirt characteristic is preferably set steeply.

이와 같은 스커트 특성은 필터의 차수가 높아질수록, 즉 캐비티 및 공진기의 수가 증가할수록 개선되는 특징이 있으나, 이러한 스커트 특성은 필터의 또 다른 특성인 삽입 손실과 트레이드-오프(Trade-Off) 관계에 있다. 즉, 캐비티 및 공진기의 수가 증가할수록 필터의 스커트 특성은 개선되나 이와 반비례하여 삽입 손실이 증가하는 문제점이 발생하는 것이다.Such a skirt characteristic is improved as the order of the filter increases, that is, as the number of cavities and resonators increases, but the skirt characteristic has a trade-off relationship with another loss characteristic of the filter. . That is, as the number of cavities and resonators increases, the skirt characteristic of the filter is improved, but inversely, the insertion loss increases.

일정 삽입 손실을 유지하면서 스커트 특성을 개선하기 위해 크로스 커플링에 의해 노치를 형성시킴으로써 스커트 특성을 개선하기 위한 방법이 종래에 사용되었다.A method for improving skirt properties has been conventionally used by forming notches by cross coupling to improve skirt properties while maintaining a constant insertion loss.

크로스 커플링은 커플링 윈도우(150)를 통한 공진기 사이의 순차적인 커플링이 아닌 제 2 공진기(132) 및 제 5 공진기(138) 사이의 커플링과 같이 커플링 윈도우를 통해 인접하지 않은 공진기들 사이의 커플링을 의미한다. 이와 같은 크로스 커플링은 통상적으로 커플링 바(160)를 이용하여 이루어진다.Cross coupling is not sequential coupling between resonators through coupling window 150, but resonators that are not adjacent through a coupling window, such as coupling between second resonator 132 and fifth resonator 138. Means coupling between. Such cross coupling is typically accomplished using the coupling bar 160.

커플링 바(160)는 제 2 캐비티(122) 및 제 5 캐비티(128) 사이의 격벽을 관통하여 설치되며, 금속 재질로 이루어진다. 이러한 커플링 바(160)는 예를 들어 제 2 공진기(132)와 연관된 신호가 제 5 공진기(138)로 커플링되도록 동작하며, 금속 재질의 커플링 바(160)를 통해 이와 같은 커플링 동작이 수행될 수 있다.The coupling bar 160 penetrates the partition wall between the second cavity 122 and the fifth cavity 128 and is made of a metal material. The coupling bar 160 is operated such that, for example, a signal associated with the second resonator 132 is coupled to the fifth resonator 138, and such coupling operation is performed through the metal coupling bar 160. This can be done.

커플링 바(160)의 관통을 위해 제 2 캐비티(122) 및 제 5 캐비티(128) 사이의 격벽에는 홀이 형성되며, 홀의 내주면에는 유전체층이 형성되어 커플링 바(160)가 격벽과는 전기적으로 결합되지 않은 상태에서 커플링이 이루어지도록 한다. Holes are formed in the partition wall between the second cavity 122 and the fifth cavity 128 to penetrate the coupling bar 160, and a dielectric layer is formed on the inner circumferential surface of the hole so that the coupling bar 160 is electrically connected to the partition wall. Coupling should be made in a state where it is not coupled.

그러나, 커플링 바(160)를 이용한 크로스 커플링 구조는 크로스 커플링되는 공진기간 커플링 양을 조절할 수 없는 문제점이 있었다. 크로스 커플링 양은 커플링 바(160)의 사이즈에 의해 결정되는데, 종래에는 크로스 커플링 시 요구되는 커플링이 이루어지지 않을 경우 다른 사이즈를 가지는 커플링 바(160)로 이를 대체하였어야 했으며, 이미 커플링 바(160)가 장착된 상태에서의 커플링 양은 조절될 수 없었다.However, the cross coupling structure using the coupling bar 160 has a problem in that it is not possible to control the amount of coupling between the resonance periods that are cross coupled. The amount of cross coupling is determined by the size of the coupling bar 160. Conventionally, when the coupling required for cross coupling is not achieved, the coupling bar 160 should have been replaced with a coupling bar 160 having a different size. The coupling amount with the ring bar 160 mounted could not be adjusted.

또한, 스커트 특성과 관련된 전송 제로(transmission zero)를 조절할 수 있는 방법이 없었다.
Also, there was no way to adjust the transmission zero associated with the skirt characteristics.

본 발명은 크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수 있는 RF 필터, 특히 RF 캐비티 필터를 제공하는 것이다.The present invention provides an RF filter, in particular an RF cavity filter, which can adjust the amount of cross coupling or transmission zero.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 RF 필터는 하우징 부재; 상기 하우징 부재의 상부에 결합되는 커버; 상기 커버의 일면에 형성된 제 1 튜닝 영역; 상기 제 1 튜닝 영역과 분리되면서 상기 커버의 일면에 형성된 제 2 튜닝 영역; 상기 튜닝 영역들 사이에 형성되면서 상기 커버의 일면에 형성된 유전체 영역; 및 상기 유전체 영역 위에 배열된 제 1 튜닝 엘리먼트를 포함한다. 여기서, 상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 2 튜닝 영역은 도전 영역이다.In order to achieve the above object, the RF filter according to an embodiment of the present invention comprises a housing member; A cover coupled to an upper portion of the housing member; A first tuning region formed on one surface of the cover; A second tuning region formed on one surface of the cover while being separated from the first tuning region; A dielectric region formed between the tuning regions and formed on one surface of the cover; And a first tuning element arranged over the dielectric region. Here, the first tuning region and the second tuning region are conductive regions.

본 발명의 다른 실시예에 따른 RF 필터는 하우징 부재; 상기 하우징 부재의 상부에 결합되는 커버; 상기 커버의 일면에 형성된 제 1 튜닝 영역; 상기 제 1 튜닝 영역과 분리되면서 상기 커버의 일면에 형성된 제 2 튜닝 영역; 상기 튜닝 영역들 사이에 형성되면서 상기 커버의 일면에 형성된 유전체 영역; 상기 커버의 제 1 튜닝 영역을 관통하여 상기 하우징 부재의 내부로 수용되는 제 1 튜닝 엘리먼트; 상기 커버의 제 2 튜닝 영역을 관통하여 상기 하우징 부재의 내부로 수용되는 제 2 튜닝 엘리먼트; 및 상기 커버의 일면 위에 배열된 튜닝 슬라이딩 부재를 포함한다. 여기서, 상기 튜닝 슬라이딩 부재의 일부분이 상기 유전체 영역과 오버랩된다. According to another embodiment of the present invention, an RF filter includes a housing member; A cover coupled to an upper portion of the housing member; A first tuning region formed on one surface of the cover; A second tuning region formed on one surface of the cover while being separated from the first tuning region; A dielectric region formed between the tuning regions and formed on one surface of the cover; A first tuning element received through the first tuning region of the cover and inside the housing member; A second tuning element received through the second tuning region of the cover and inside the housing member; And a tuning sliding member arranged on one surface of the cover. Here, a portion of the tuning sliding member overlaps with the dielectric region.

본 발명의 일 실시예에 따른 캐비티들이 포함된 하우징 부재를 덮는 커버는 상호 분리되어 위치하는 제 1 튜닝 영역 및 제 2 튜닝 영역; 및 상기 튜닝 영역들 사이에 형성되는 유전체 영역을 포함한다. 여기서, 제 1 튜닝 엘리먼트가 상기 제 1 튜닝 영역을 관통하여 상기 캐비티들 중 제 1 캐비티로 수용되고, 제 2 튜닝 엘리먼트가 상기 제 2 튜닝 영역을 관통하여 상기 캐비티들 중 제 2 캐비티로 수용되며, 상기 튜닝 영역들은 도전 영역이다. According to one or more exemplary embodiments, a cover covering a housing member including cavities includes: a first tuning region and a second tuning region located separately from each other; And a dielectric region formed between the tuning regions. Here, a first tuning element is received as a first cavity of the cavities through the first tuning region, a second tuning element is received as a second cavity of the cavities through the second tuning region, The tuning regions are conductive regions.

본 발명에 따른 RF 필터는 튜닝 엘리먼트들이 커버를 관통하여 해당 캐비티들로 수용되도록 설치한 상태에서 집중 소자 또는 튜닝 슬라이딩 부재를 이용하여 튜닝 엘리먼트들 사이의 캐패시턴스를 조정하므로, 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 조절될 수 있다. The RF filter according to the present invention adjusts the capacitance between the tuning elements by using a lumped element or a tuning sliding member in a state where the tuning elements are installed to be received into the corresponding cavities through the cover, so that the cross couple between the corresponding resonators Ring amount or transmission zero can be adjusted.

특히, 상기 집중 소자 및 상기 튜닝 슬라이딩 부재가 외부에서 조정 가능하므로, 튜닝이 용이하다. In particular, since the concentrating element and the tuning sliding member can be adjusted from the outside, tuning is easy.

도 1은 일반적인 RF 캐비티 필터의 내부 구성을 도시한 평면도이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 RF 필터를 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 RF 필터의 구조를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 커버를 도시한 상면도이다.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 RF 필터를 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 도 5의 RF 필터의 커버 부분을 도시한 상면도이다.
도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 RF 필터의 커버 부분을 도시한 도면이다.
1 is a plan view showing the internal configuration of a typical RF cavity filter.
2 is a perspective view illustrating an RF filter according to a first embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating a structure of an RF filter according to an embodiment of the present invention.
4 is a top view showing a cover according to an embodiment of the present invention.
5 is a perspective view illustrating an RF filter according to a second embodiment of the present invention.
6 is a top view illustrating a cover portion of the RF filter of FIG. 5 according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing a cover portion of the RF filter according to the third embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 자세히 설명하도록 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 RF 필터를 도시한 사시도이다. 2 is a perspective view illustrating an RF filter according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 실시예의 RF 필터는 예를 들어 RF 캐비티 필터이며, 하우징 부재(200), 커버(202), 입력 커넥터(204), 출력 커넥터(206), 복수의 캐비티들(208), 공진기들(210), 격벽들(212) 및 제 1 튜닝 엘리먼트(first tuning element, 230)를 포함한다. Referring to FIG. 2, the RF filter of the present embodiment is, for example, an RF cavity filter, and includes a housing member 200, a cover 202, an input connector 204, an output connector 206, and a plurality of cavities 208. , Resonators 210, barrier ribs 212, and a first tuning element 230.

하우징 부재(200)는 필터 내부의 공진기(210) 등과 같은 구성요소들을 보호하며, 전자기파를 차폐하는 역할을 수행한다. 이러한 하우징 부재(200)는 예를 들어 알루미늄 재질 위에 전도도가 높은 은을 도금함에 의해 형성될 수 있다. The housing member 200 protects components such as the resonator 210 inside the filter and shields electromagnetic waves. The housing member 200 may be formed by, for example, plating silver having high conductivity on an aluminum material.

커버(202)는 하우징 부재(200)의 상부에 결합되며, 예를 들어 볼트 결합 등에 의해 하우징 부재(200)의 상부에 결합될 수 있다. 이러한 커버(202)도 예를 들어 알루미늄 재질 위에 은을 도금함에 의해 형성될 수 있으며, 전기적인 접지 역할을 수행한다. The cover 202 may be coupled to the upper portion of the housing member 200, and may be coupled to the upper portion of the housing member 200, for example, by bolting or the like. This cover 202 may also be formed by, for example, plating silver on an aluminum material, and serves as an electrical ground.

입력 커넥터(204)는 RF 신호가 입력되는 통로이며, 입력 커넥터(204)를 통하여 입력된 RF 신호는 출력 커넥터(206)로 출력되되 상기 RF 신호는 각 캐비티(208)에 형성된 커플링 윈도우를 통하여 진행한다. 이 경우, 각 캐비티들(208) 및 공진기들(210)에 의해 RF 신호의 공진 현상이 발생하며, 상기 공진 현상에 의해 RF 신호가 필터링된다. The input connector 204 is a passage through which an RF signal is input, and the RF signal input through the input connector 204 is output to the output connector 206, which is transmitted through a coupling window formed in each cavity 208. Proceed. In this case, a resonance phenomenon of the RF signal is generated by the cavities 208 and the resonators 210, and the RF signal is filtered by the resonance phenomenon.

캐비티들(208)은 격벽들(212)에 의해 정의되며, 각 캐비티들(208) 내에는 공진기들(210)이 각기 형성될 수 있다. 여기서, 공진기(210) 및 캐비티(208)의 수가 증가할수록 필터의 스커트 특성은 좋아지나 삽입 손실은 저하될 수 있으며, 따라서 원하는 스커트 특성 및 삽입 손실에 따라 공진기(210) 및 캐비티(208)의 수가 결정된다. The cavities 208 are defined by the partitions 212, and resonators 210 may be formed in the cavities 208, respectively. In this case, as the number of resonators 210 and cavities 208 increases, the skirt characteristics of the filter may be improved, but insertion loss may decrease. Is determined.

공진기(210)는 도 2에 도시된 바와 같이 원통형 공진기일 수도 있으나, 디스크형 공진기 등 다양한 형태의 공진기가 사용될 수 있다. 공진기(210)의 재질은 RF 필터의 모드(TE 모드 또는 TM 모드)에 따라 금속 재질의 공진기가 사용될 수도 있고 유전체 재질의 공진기가 사용될 수도 있다.The resonator 210 may be a cylindrical resonator as shown in FIG. 2, but various types of resonators such as a disc type resonator may be used. The material of the resonator 210 may be a metal resonator or a dielectric resonator according to a mode (TE mode or TM mode) of the RF filter.

제1 튜닝 엘리먼트(230)는 예를 들어 금속으로서 크로스 커플링 양 또는 전송 제로(transmission zero)를 조절하기 위하여 사용되며, 커버(202)의 상면 상에 위치한다.The first tuning element 230 is used to adjust the amount of cross coupling or transmission zero as metal, for example, and is located on the top surface of the cover 202.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 1 튜닝 엘리먼트(230)는 캐패시터, 인덕터 등과 같은 집중 소자(Lumped Element)일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the first tuning element 230 may be a concentrated element such as a capacitor, an inductor, or the like.

이하, 제 1 튜닝 엘리먼트(230)를 이용한 커플링 양 또는 전송 제로의 조절 과정 및 RF 필터의 구조를 첨부된 도면들을 참조하여 상술하겠다. Hereinafter, a process of adjusting the coupling amount or the transmission zero using the first tuning element 230 and the structure of the RF filter will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 RF 필터의 구조를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 커버를 도시한 상면도이다. 3 is a view showing the structure of an RF filter according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a top view showing a cover according to an embodiment of the present invention.

도 4(A)를 참조하면, 커버(202)의 상면(202a)에는 에칭 영역(400a), 제 1 튜닝 영역(402a), 제 2 튜닝 영역(402b) 및 유전체 영역(410)이 형성된다. Referring to FIG. 4A, an etching region 400a, a first tuning region 402a, a second tuning region 402b, and a dielectric region 410 are formed on the top surface 202a of the cover 202.

도 4(B)를 참조하면, 커버(202)의 하면(202b)에는 에칭 영역들(400b 및 400c), 제 3 튜닝 영역(406) 및 제 4 튜닝 영역(408)이 형성된다. Referring to FIG. 4B, etching regions 400b and 400c, a third tuning region 406, and a fourth tuning region 408 are formed on the bottom surface 202b of the cover 202.

튜닝 영역들(402a, 402b, 406 및 408)은 도전 영역이며, 예를 들어 도전 물질로 도금되어 있다. Tuning regions 402a, 402b, 406 and 408 are conductive regions, for example plated with a conductive material.

제 1 튜닝 영역(402a) 및 제 3 튜닝 영역(406)에는 제 1 홀(404a)이 형성되고, 제 2 튜닝 영역(402b)과 제 4 튜닝 영역(408)에는 제 2 홀(404b)이 형성된다. 이 경우, 도 3에 도시된 바와 같이 예를 들어 도체인 제 2 튜닝 엘리먼트(214a)가 커버(202)의 제 1 튜닝 영역(402a) 및 제 3 튜닝 영역(406)을 관통하여 제 1 캐비티(208a)로 수용되고, 예를 들어 도체인 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)가 커버(202)의 제 2 튜닝 영역(402b)과 제 4 튜닝 영역(408)을 관통하여 제 2 캐비티(208b)로 수용된다. First holes 404a are formed in the first tuning region 402a and the third tuning region 406, and second holes 404b are formed in the second tuning region 402b and the fourth tuning region 408. do. In this case, as shown in FIG. 3, for example, a second tuning element 214a, which is a conductor, penetrates through the first tuning region 402a and the third tuning region 406 of the cover 202 to allow the first cavity ( 208a, a third tuning element 214b, for example, a conductor, penetrates through the second tuning region 402b and the fourth tuning region 408 of the cover 202 to the second cavity 208b. do.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 제 2 튜닝 엘리먼트(214a) 및 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)의 외주면에는 나사산이 형성되어 있으며, 따라서 제 2 튜닝 엘리먼트(214a) 또는 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)를 회전시키면 제 2 튜닝 엘리먼트(214a) 또는 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)가 커버(202)에 지지된 상태로 상하로 움직일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, threads are formed on the outer circumferential surfaces of the second tuning element 214a and the third tuning element 214b, so that the second tuning element 214a or the third tuning element 214b is Rotating allows the second tuning element 214a or the third tuning element 214b to move up and down while being supported by the cover 202.

제 2 튜닝 엘리먼트(214a)는 제 1 너트(216a)에 의해 커버(202)의 상면(202a)에 고정되고, 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)는 제 2 너트(216b)에 의해 커버(202)의 상면(202a)에 고정될 수 있다. The second tuning element 214a is fixed to the top surface 202a of the cover 202 by the first nut 216a, and the third tuning element 214b is fixed to the cover 202 by the second nut 216b. It may be fixed to the upper surface 202a.

유전체 영역(410)은 제 1 에칭 영역(400a)의 내측에서 제 1 튜닝 영역(402a)과 제 2 튜닝 영역(402b) 사이에 위치한다. 여기서, 제 1 튜닝 영역(400a)과 제 2 튜닝 영역(400b)은 물리적으로 분리되나, 유전체 영역(410)으로 인하여 커플링(coupling)이 발생한다. 즉, 제 1 튜닝 영역(402a)과 제 2 튜닝 영역(402b) 사이에 소정 캐패시턴스가 형성된다. 따라서, 제 2 튜닝 엘리먼트(214a)와 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)가 커플링 방식을 통하여 전기적으로 연결되며, 그 결과 튜닝 엘리먼트들(214a 및 214b)이 수용된 캐비티들(208a 및 208b) 내의 공진기들(210a 및 210b) 사이에 크로스 커플링이 발생한다. The dielectric region 410 is located between the first tuning region 402a and the second tuning region 402b inside the first etching region 400a. Here, the first tuning region 400a and the second tuning region 400b are physically separated, but coupling occurs due to the dielectric region 410. In other words, a predetermined capacitance is formed between the first tuning region 402a and the second tuning region 402b. Thus, the second tuning element 214a and the third tuning element 214b are electrically connected via a coupling scheme, so that the resonators in the cavities 208a and 208b in which the tuning elements 214a and 214b are accommodated. Cross coupling occurs between 210a and 210b.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 유전체 영역(410) 위에 집중 소자인 제 1 튜닝 엘리먼트(230)가 배열된다. 결과적으로, 제 1 튜닝 엘리먼트(230), 예를 들어 캐피시터로 인하여 제 1 튜닝 영역(402a)과 제 2 튜닝 영역(402b) 사이의 캐패시턴스가 변화되며, 그 결과 공진기들(210a 및 210b) 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 가변된다. 즉, 도 4(C)에 도시된 바와 같이 유전체 영역(410) 상에 배열되는 제 1 튜닝 엘리먼트(230)에 따라 공진기들(210a 및 210b) 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 달라질 수 있으며, 따라서 원하는 크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 조절하고자 하는 경우, 적절한 제 1 튜닝 엘리먼트(230)를 선택하여 유전체 영역(410) 위에 배열시킨다. According to one embodiment of the invention, a first tuning element 230, which is a concentrating element, is arranged over the dielectric region 410. As a result, the capacitance between the first tuning region 402a and the second tuning region 402b is changed due to the first tuning element 230, for example a capacitor, and as a result, between the resonators 210a and 210b The amount of cross coupling or transmission zero is variable. That is, the cross coupling amount or transmission zero between the resonators 210a and 210b may vary depending on the first tuning element 230 arranged on the dielectric region 410 as shown in FIG. 4C. Thus, if one wishes to adjust the desired cross coupling amount or transmission zero, an appropriate first tuning element 230 is selected and arranged over the dielectric region 410.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 사용자는 제 2 튜닝 엘리먼트(214a)와 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)를 고정시킨 상태로 제 1 튜닝 엘리먼트(230)만을 변화시켜 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수도 있고, 제 1 튜닝 엘리먼트(230) 뿐만 아니라 제 2 튜닝 엘리먼트(214a) 또는 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)를 이용하여 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수도 있다. 물론, 제 2 튜닝 엘리먼트(214a) 또는 제 3 튜닝 엘리먼트(214b)는 상하로 움직인다. According to an embodiment of the present invention, the user may adjust the coupling amount or the transmission zero by changing only the first tuning element 230 with the second tuning element 214a and the third tuning element 214b fixed. In addition, the coupling amount or the transmission zero may be adjusted using the second tuning element 214a or the third tuning element 214b as well as the first tuning element 230. Of course, the second tuning element 214a or the third tuning element 214b moves up and down.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 격벽(212)의 상면에 홈(220)이 형성될 수도 있다. 이것은 커버(202)의 배면(202b)에 형성된 튜닝 영역(406 및 408)의 도전 물질이 격벽(212)과 전기적으로 연결되는 것을 방지하기 위해서이다. According to another embodiment of the present invention, the groove 220 may be formed on the upper surface of the partition wall 212. This is to prevent the conductive material of the tuning regions 406 and 408 formed on the back 202b of the cover 202 from being electrically connected to the partition 212.

공정 측면에서 살펴보면, 유전체 재질 위에 도전 물질을 도금함에 의해 형성된 커버(202)의 상면 및 배면을 튜닝 영역들(402a, 402b, 406 및 408)에 맞춰서 에칭시키면 에칭 영역(400a, 400b 및 400c)이 형성되되, 에칭 영역(400a, 400b 및 400c)에는 도전 물질이 존재하지 않는다. 결과적으로, 튜닝 영역들(402a, 402b, 406 및 408)은 에칭 영역(400a, 400b 및 400c)에 의해 커버(202)의 도전 물질로부터 전기적으로 분리된다. 따라서, 제 2 및 3 튜닝 엘리먼트들(214a 및 214b)은 커버(202)의 도전 물질과는 연결되지 않게 되며, 즉 접지와 연결되지 않는다. In terms of process, etching the top and back surfaces of the cover 202 formed by plating a conductive material over the dielectric material in accordance with the tuning regions 402a, 402b, 406 and 408 results in etching regions 400a, 400b and 400c. The conductive material is formed in the etching regions 400a, 400b, and 400c. As a result, the tuning regions 402a, 402b, 406 and 408 are electrically separated from the conductive material of the cover 202 by the etching regions 400a, 400b and 400c. Thus, the second and third tuning elements 214a and 214b are not connected to the conductive material of the cover 202, ie not to ground.

한편, 유전체 영역(410)은 커버(202)의 도금 물질을 제거함에 의해 형성될 수 있으며, 즉 커버(202)를 이루는 유전체 재질의 상면이 외부로 노출된다. Meanwhile, the dielectric region 410 may be formed by removing the plating material of the cover 202, that is, the top surface of the dielectric material constituting the cover 202 is exposed to the outside.

정리하면, 본 실시예의 RF 필터는 제 1 튜닝 엘리먼트(230)를 이용하여 크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수 있다. In summary, the RF filter of the present embodiment may adjust the amount of cross coupling or transmission zero using the first tuning element 230.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 RF 필터를 도시한 사시도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 도 5의 RF 필터의 커버 부분을 도시한 상면도이다. 5 is a perspective view illustrating an RF filter according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a top view illustrating a cover portion of the RF filter of FIG. 5 according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 실시예의 RF 필터는 하우징 부재(200), 커버(202), 제 1 튜닝 엘리먼트(214a), 제 2 튜닝 엘리먼트(214b), 제 1 너트(216a), 제 2 너트(216b) 및 유전체인 튜닝 슬라이딩 부재(500)를 포함한다. Referring to FIG. 5, the RF filter of the present embodiment includes a housing member 200, a cover 202, a first tuning element 214a, a second tuning element 214b, a first nut 216a, and a second nut ( 216b) and a tuning sliding member 500 that is a dielectric.

도 6(A)를 참조하면, 커버(202)의 상면(202a)에는 에칭 영역(600a), 제 1 튜닝 영역(602a), 제 2 튜닝 영역(602b) 및 유전체 영역(502)이 형성된다. Referring to FIG. 6A, an etching region 600a, a first tuning region 602a, a second tuning region 602b, and a dielectric region 502 are formed on the top surface 202a of the cover 202.

도 6(B)를 참조하면, 커버(202)의 하면(202b)에는 에칭 영역들(600b 및 600c), 제 3 튜닝 영역(606) 및 제 4 튜닝 영역(608)이 형성된다. Referring to FIG. 6B, etching regions 600b and 600c, a third tuning region 606, and a fourth tuning region 608 are formed on the bottom surface 202b of the cover 202.

튜닝 영역들(602a, 602b, 606 및 608)은 도전 영역이며, 예를 들어 도전 물질로 도금되어 있다. Tuning regions 602a, 602b, 606 and 608 are conductive regions, for example plated with a conductive material.

제 1 튜닝 엘리먼트(214a)가 커버(202)의 제 1 튜닝 영역(602a) 및 제 3 튜닝 영역(606)을 관통하여 제 1 캐비티(208a)로 수용되고, 제 2 튜닝 엘리먼트(214b)가 커버(202)의 제 2 튜닝 영역(602b)과 제 4 튜닝 영역(608)을 관통하여 제 2 캐비티(208b)로 수용된다. The first tuning element 214a is received into the first cavity 208a through the first tuning region 602a and the third tuning region 606 of the cover 202, and the second tuning element 214b is covered. A second cavity 208b is received through the second tuning region 602b and the fourth tuning region 608 of 202.

제 1 튜닝 엘리먼트(214a)는 제 1 너트(216a)에 의해 커버(202)의 상면(202a)에 고정되고, 제 2 튜닝 엘리먼트(214b)는 제 2 너트(216b)에 의해 커버(202)의 상면(202a)에 고정될 수 있다. The first tuning element 214a is fixed to the top surface 202a of the cover 202 by the first nut 216a, and the second tuning element 214b is fixed to the cover 202 by the second nut 216b. It may be fixed to the upper surface 202a.

유전체 영역(502)은 제 1 에칭 영역(600a)의 내측에서 제 1 튜닝 영역(602a)과 제 2 튜닝 영역(602b) 사이에 위치한다. 여기서, 제 1 튜닝 영역(600a)과 제 2 튜닝 영역(600b)은 물리적으로 분리되나, 커플링이 발생한다. The dielectric region 502 is located between the first tuning region 602a and the second tuning region 602b inside the first etching region 600a. Here, the first tuning region 600a and the second tuning region 600b are physically separated, but coupling occurs.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 튜닝 슬라이딩 부재(500)에는 도 6(D)에 도시된 바와 같이 2개의 홀들(610 및 612)이 형성될 수 있다. 이러한 구조의 튜닝 슬라이딩 부재(500)는 제 1 홀(610)을 통하여 커버(202)를 관통하여 제 1 캐비티(208a)로 수용되는 제 1 튜닝 엘리먼트(214a) 또는 제 1 너트(216a)에 고정되며, 제 1 튜닝 엘리먼트(214a) 또는 제 1 너트(216a)에 고정된 상태로 도 6(C)에 도시된 바와 같이 좌우 방향으로 이동할 수 있다. 이 경우, 튜닝 슬라이딩 부재(500)의 종단 부분은 유전체 영역(502)과 오버랩(overlap)되며, 오버랩 면적에 따라 튜닝 엘리먼트들(602a 및 602b) 사이의 캐패시턴스가 달라져서 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 변화될 수 있다. 한편, 튜닝 슬라이딩 부재(500)는 전후 방향으로 이동할 수도 있다. 물론, 튜닝 슬라이딩 부재(500)가 원하는 위치로 이동된 후에는 다양한 방법을 통하여 고정될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, two holes 610 and 612 may be formed in the tuning sliding member 500 as shown in FIG. 6D. The tuning sliding member 500 of this structure is fixed to the first tuning element 214a or the first nut 216a which is received as the first cavity 208a through the cover 202 through the first hole 610. As shown in FIG. 6C, the first tuning element 214a or the first nut 216a may be fixed. In this case, the termination portion of the tuning sliding member 500 overlaps the dielectric region 502, and the capacitance between the tuning elements 602a and 602b varies according to the overlap area, so that the cross coupling between the corresponding resonators is performed. The amount or transmission zero can vary. On the other hand, the tuning sliding member 500 may move in the front-rear direction. Of course, after the tuning sliding member 500 is moved to a desired position, the tuning sliding member 500 may be fixed through various methods.

정리하면, 본 실시예의 RF 필터는 커버(202)의 상면(202a) 위에 배열된 튜닝 슬라이딩 부재(500)와 유전체 영역(502)의 오버랩 면적을 조절하여 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 조절할 수 있다. In summary, the RF filter of the present embodiment adjusts the overlap area of the tuning sliding member 500 and the dielectric region 502 arranged on the top surface 202a of the cover 202 to transfer or reduce the amount of cross coupling between the corresponding resonators. You can adjust the zero.

위에서는, 튜닝 슬라이딩 부재(500)를 사각형으로 도시하였으나, 튜닝 슬라이딩 부재(500)가 유전체 영역(502)과 오버랩되어 튜닝 엘리먼트들(602a 및 602b) 사이의 캐패시턴스를 가변시킬 수 있는 한 다양한 형상들로 변형될 수 있다. While the tuning sliding member 500 is shown in the rectangle above, various shapes as long as the tuning sliding member 500 can overlap the dielectric region 502 to vary the capacitance between the tuning elements 602a and 602b. It can be transformed into.

또한, 도 6에서는 튜닝 슬라이딩 부재(500)가 제 1 튜닝 엘리먼트(214a)와 대응하는 위치에 배열되었으나, 제 2 튜닝 엘리먼트(214b)와 대응하는 위치에 배열될 수도 있다. In addition, although the tuning sliding member 500 is arranged at a position corresponding to the first tuning element 214a in FIG. 6, it may be arranged at a position corresponding to the second tuning element 214b.

위에 언급하지는 않았지만, 튜닝 엘리먼트들(602a 및 602b)은 회전하여 상하로 움직일 수도 있다. Although not mentioned above, the tuning elements 602a and 602b may rotate and move up and down.

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 RF 필터의 커버 부분을 도시한 도면이다. 7 is a view showing a cover portion of the RF filter according to the third embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 실시예의 RF 필터의 커버(202)의 상면(202a)에는 튜닝 슬라이딩 부재(700)가 배열된다. 다만, 튜닝 슬라이딩 부재(500)가 제 1 튜닝 엘리먼트(214a)에 지지되었던 제 2 실시예에서와 달리, 튜닝 슬라이딩 부재(700)는 도 7(C)에 도시된 바와 같이 제 1 튜닝 엘리먼트(214a) 위로 배열된다. 물론, 튜닝 슬라이딩 부재(700)의 일부분은 유전체 영역(702)과 오버랩되어 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로를 가변시킨다. Referring to FIG. 7, the tuning sliding member 700 is arranged on the upper surface 202a of the cover 202 of the RF filter of this embodiment. However, unlike in the second embodiment in which the tuning sliding member 500 was supported by the first tuning element 214a, the tuning sliding member 700 is the first tuning element 214a as shown in Fig. 7C. ) Are arranged up. Of course, a portion of the tuning sliding member 700 overlaps the dielectric region 702 to vary the amount of cross coupling between the resonators or the transmission zero.

튜닝 슬라이딩 부재(700)에는 도 7(D)에 도시된 바와 같이 홀(710)이 형성될 수 있다. A hole 710 may be formed in the tuning sliding member 700 as illustrated in FIG. 7D.

상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. The embodiments of the present invention described above are disclosed for purposes of illustration, and those skilled in the art having ordinary knowledge of the present invention may make various modifications, changes, and additions within the spirit and scope of the present invention. Should be considered to be within the scope of the following claims.

00 : 입력 커넥터 102 : 출력 커넥터
104 : 하우징 부재 110, 112, 114, 116, 118, 120 : 캐비티
130, 132, 134, 136, 138, 140 : 공진기 150 : 커플링 윈도우
160 : 커플링 바 200 : 하우징 부재
202 : 커버 204 : 입력 커넥터
206 : 출력 커넥터 208 : 캐비티
210 : 공진기 212 : 격벽
214 : 튜닝 엘리먼트 216 : 너트
230 : 튜닝 엘리먼트 400 : 에칭 영역
402a : 제 1 튜닝 영역 402b : 제 2 튜닝 영역
404 : 홀 406 : 제 3 튜닝 영역
408 : 제 4 튜닝 영역 410 : 유전체 영역
500 : 튜닝 슬라이딩 부재 502 : 유전체 영역
600 : 에칭 영역 602a : 제 1 튜닝 영역
602b : 제 2 튜닝 영역 604 : 홀
606 : 제 3 튜닝 영역 608 : 제 4 튜닝 영역
700 : 튜닝 슬라이딩 부재 702 : 유전체 영역
00: input connector 102: output connector
104: housing member 110, 112, 114, 116, 118, 120: cavity
130, 132, 134, 136, 138, 140: resonator 150: coupling window
160: coupling bar 200: housing member
202: cover 204: input connector
206: output connector 208: cavity
210: resonator 212: partition wall
214 tuning element 216 nut
230: tuning element 400: etching area
402a: first tuning region 402b: second tuning region
404: hole 406: third tuning region
408: fourth tuning region 410: dielectric region
500: tuning sliding member 502: dielectric region
600: etching region 602a: first tuning region
602b: second tuning region 604: hole
606: third tuning region 608: fourth tuning region
700: tuning sliding member 702: dielectric region

Claims (13)

하우징 부재;
상기 하우징 부재의 상부에 결합되는 커버;
상기 커버의 일면에 형성된 제 1 튜닝 영역;
상기 제 1 튜닝 영역과 분리되면서 상기 커버의 일면에 형성된 제 2 튜닝 영역;
상기 튜닝 영역들 사이에 형성되면서 상기 커버의 일면에 형성된 유전체 영역; 및
상기 유전체 영역 위에 배열된 제 1 튜닝 엘리먼트를 포함하되,
상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 2 튜닝 영역은 도전 영역인 것을 특징으로 하는 RF 필터.
A housing member;
A cover coupled to an upper portion of the housing member;
A first tuning region formed on one surface of the cover;
A second tuning region formed on one surface of the cover while being separated from the first tuning region;
A dielectric region formed between the tuning regions and formed on one surface of the cover; And
A first tuning element arranged over said dielectric region,
And the first tuning region and the second tuning region are conductive regions.
제1항에 있어서, 상기 RF 필터는,
상기 하우징 부재 내에서 격벽들에 의해 정의되는 캐비티들;
상기 캐비티들에 수용된 공진기들;
상기 커버의 배면에 형성된 제 3 튜닝 영역;
상기 제 3 튜닝 영역과 분리되면서 상기 커버의 배면에 형성된 제 4 튜닝 영역;
상기 커버의 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 3 튜닝 영역을 관통하여 상기 캐비티들 중 제 1 캐비티로 수용되는 제 2 튜닝 엘리먼트; 및
상기 커버의 제 2 튜닝 영역 및 상기 제 4 튜닝 영역을 관통하여 상기 캐비티들 중 제 2 캐비티로 수용되는 제 3 튜닝 엘리먼트를 더 포함하되,
상기 커버는 유전체 부재 위에 도전 물질을 도금함에 의해 형성되고, 상기 제 1 튜닝 엘리먼트는 집중 소자(Lumped Element)이며, 상기 커버의 상면 중 일부분이 에칭되어 상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 2 튜닝 영역을 형성하고, 상기 커버의 배면 중 일부분이 에칭되어 상기 제 3 튜닝 영역 및 상기 제 4 튜닝 영역을 형성하며, 상기 제 1 튜닝 엘리먼트에 따라 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로(Transmission Zero)가 달라지는 것을 특징으로 하는 RF 필터.
The method of claim 1, wherein the RF filter,
Cavities defined by partitions in the housing member;
Resonators housed in the cavities;
A third tuning region formed on the rear surface of the cover;
A fourth tuning region formed on a rear surface of the cover while being separated from the third tuning region;
A second tuning element received through the first tuning region and the third tuning region of the cover as a first cavity of the cavities; And
A third tuning element penetrating through the second tuning region and the fourth tuning region of the cover and received as a second one of the cavities,
The cover is formed by plating a conductive material over a dielectric member, the first tuning element is a lumped element, and a portion of an upper surface of the cover is etched to replace the first tuning region and the second tuning region. And a portion of the back side of the cover is etched to form the third tuning region and the fourth tuning region, the cross coupling amount or transmission zero between the corresponding resonators in accordance with the first tuning element. RF filter, characterized in that different.
제2항에 있어서, 상기 제 2 튜닝 엘리먼트 및 상기 제 3 튜닝 엘리먼트는 각기 볼트이고, 상기 제 2 튜닝 엘리먼트는 제 1 너트에 의해 상기 커버의 상면에 고정되며, 상기 제 3 튜닝 엘리먼트는 제 2 너트에 의해 상기 커버의 상면에 고정되되,
상기 제 2 튜닝 엘리먼트 및 상기 제 3 튜닝 엘리먼트는 특정 격벽을 기준으로 대칭적으로 배열되고, 상기 격벽의 상면에는 홈이 형성되며, 상기 제 2 튜닝 엘리먼트 및 상기 제 3 튜닝 엘리먼트는 상하로 움직임 가능한 것을 특징으로 하는 RF 필터.
3. The second tuning element and the third tuning element are each bolts, the second tuning element is fixed to the top surface of the cover by a first nut, and the third tuning element is second nut. It is fixed to the upper surface of the cover by
The second tuning element and the third tuning element are arranged symmetrically with respect to a specific partition wall, a groove is formed in the upper surface of the partition wall, the second tuning element and the third tuning element is movable up and down. Featuring an RF filter.
하우징 부재;
상기 하우징 부재의 상부에 결합되는 커버;
상기 커버의 일면에 형성된 제 1 튜닝 영역;
상기 제 1 튜닝 영역과 분리되면서 상기 커버의 일면에 형성된 제 2 튜닝 영역;
상기 튜닝 영역들 사이에 형성되면서 상기 커버의 일면에 형성된 유전체 영역;
상기 커버의 제 1 튜닝 영역을 관통하여 상기 하우징 부재의 내부로 수용되는 제 1 튜닝 엘리먼트;
상기 커버의 제 2 튜닝 영역을 관통하여 상기 하우징 부재의 내부로 수용되는 제 2 튜닝 엘리먼트; 및
상기 커버의 일면 위에 배열된 튜닝 슬라이딩 부재를 포함하되,
상기 튜닝 슬라이딩 부재의 일부분이 상기 유전체 영역과 오버랩되는 것을 특징으로 하는 RF 필터.
A housing member;
A cover coupled to an upper portion of the housing member;
A first tuning region formed on one surface of the cover;
A second tuning region formed on one surface of the cover while being separated from the first tuning region;
A dielectric region formed between the tuning regions and formed on one surface of the cover;
A first tuning element received through the first tuning region of the cover and inside the housing member;
A second tuning element received through the second tuning region of the cover and inside the housing member; And
Including a tuning sliding member arranged on one surface of the cover,
A portion of the tuning sliding member overlaps the dielectric region.
제4항에 있어서, 상기 RF 필터는,
상기 하우징 부재 내에서 격벽들에 의해 정의되는 캐비티들; 및
상기 캐비티들에 수용된 공진기들을 더 포함하되,
상기 튜닝 슬라이딩 부재의 일부분에는 제 1 홀 및 제 2 홀이 형성되고, 상기 튜닝 슬라이딩 부재가 상기 제 1 홀을 통하여 상기 제 1 튜닝 엘리먼트에 지지된 상태로 슬라이딩 가능하며, 상기 튜닝 슬라이딩 부재와 상기 유전체 영역의 오버랩 면적에 따라 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 달라지는 것을 특징으로 하는 RF 필터.
The method of claim 4, wherein the RF filter,
Cavities defined by partitions in the housing member; And
Further comprising resonators housed in the cavities,
A first hole and a second hole are formed in a portion of the tuning sliding member, and the tuning sliding member is slidable while being supported by the first tuning element through the first hole, and the tuning sliding member and the dielectric RF filter, characterized in that the amount of cross coupling between the resonators or the transmission zero varies according to the overlap area of the region.
제4항에 있어서, 상기 RF 필터는,
상기 하우징 부재 내에서 격벽들에 의해 정의되는 캐비티들; 및
상기 캐비티들에 수용된 공진기들을 더 포함하되,
상기 튜닝 슬라이딩 부재는 상기 제 1 튜닝 엘리먼트 위에 배열된 상태로 슬라이딩 가능하고, 상기 튜닝 슬라이딩 부재와 상기 유전체 영역의 오버랩 면적에 따라 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 달라지는 것을 특징으로 하는 RF 필터.
The method of claim 4, wherein the RF filter,
Cavities defined by partitions in the housing member; And
Further comprising resonators housed in the cavities,
The tuning sliding member is slidable in a state arranged on the first tuning element, and the cross coupling amount or the transmission zero between the corresponding resonators varies according to the overlap area of the tuning sliding member and the dielectric region. RF filter.
제4항에 있어서, 상기 커버는 유전체 부재 위에 도전 물질을 도금함에 의해 형성되고, 상기 커버의 상면 중 일부분이 에칭되어 상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 2 튜닝 영역을 형성하며, 상기 튜닝 슬라이딩 부재는 유전체 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 RF 필터. 5. The method of claim 4, wherein the cover is formed by plating a conductive material over a dielectric member, a portion of the top surface of the cover is etched to form the first tuning region and the second tuning region, wherein the tuning sliding member is An RF filter comprising a dielectric material. 제4항에 있어서, 상기 튜닝 엘리먼트들 중 적어도 하나는 상하 움직임 가능하고, 상기 제 1 튜닝 엘리먼트 및 상기 제 2 튜닝 엘리먼트는 각기 볼트이고, 상기 제 1 튜닝 엘리먼트는 제 1 너트에 의해 상기 커버의 상면에 고정되며, 상기 제 2 튜닝 엘리먼트는 제 2 너트에 의해 상기 커버의 상면에 고정되되,
상기 제 2 튜닝 엘리먼트 및 상기 제 3 튜닝 엘리먼트는 특정 격벽을 기준으로 대칭적으로 배열되고, 상기 격벽의 상면에는 홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 RF 필터.
5. The method of claim 4, wherein at least one of the tuning elements is movable up and down, wherein the first tuning element and the second tuning element are each bolts, and the first tuning element is a top surface of the cover by a first nut. Fixed to the upper surface of the cover by a second nut,
And the second tuning element and the third tuning element are symmetrically arranged with respect to a specific partition wall, and a groove is formed in an upper surface of the partition wall.
캐비티들이 포함된 하우징 부재를 덮는 커버에 있어서,
상호 분리되어 위치하는 제 1 튜닝 영역 및 제 2 튜닝 영역; 및
상기 튜닝 영역들 사이에 형성되는 유전체 영역을 포함하되,
제 1 튜닝 엘리먼트가 상기 제 1 튜닝 영역을 관통하여 상기 캐비티들 중 제 1 캐비티로 수용되고, 제 2 튜닝 엘리먼트가 상기 제 2 튜닝 영역을 관통하여 상기 캐비티들 중 제 2 캐비티로 수용되며, 상기 튜닝 영역들은 도전 영역인 것을 특징으로 하는 RF 필터에 사용되는 커버.
A cover for covering a housing member including cavities,
A first tuning region and a second tuning region located separately from each other; And
A dielectric region formed between the tuning regions,
A first tuning element is received through the first tuning region as a first one of the cavities, a second tuning element is received through the second tuning region as a second one of the cavities, and the tuning A cover used in an RF filter, wherein the regions are conductive regions.
제9항에 있어서, 상기 커버의 배면에는 상호 분리된 제 3 튜닝 영역 및 제 4 튜닝 영역이 형성되되,
상기 제 1 튜닝 엘리먼트는 상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 3 튜닝 영역을 관통하여 상기 제 1 캐비티로 수용되고, 상기 제 2 튜닝 엘리먼트는 상기 제 2 튜닝 영역 및 제 4 튜닝 영역을 관통하여 상기 제 2 캐비티로 수용되는 것을 특징으로 하는 RF 필터에 사용되는 커버.
The method of claim 9, wherein the third tuning region and the fourth tuning region separated from each other are formed on the rear surface of the cover,
The first tuning element is accommodated in the first cavity through the first tuning region and the third tuning region, and the second tuning element passes through the second tuning region and the fourth tuning region to allow the second tuning element to pass through the second tuning region. A cover for use in an RF filter, which is housed in a cavity.
제10항에 있어서, 상기 커버는 유전체 재질 위에 도전 물질을 도금함에 의해 형성되고, 상기 커버의 상면을 에칭함에 의해 상기 제 1 튜닝 영역 및 상기 제 2 튜닝 영역이 형성되며, 상기 커버의 배면을 에칭함에 의해 상기 제 3 튜닝 영역 및 상기 제 4 튜닝 영역이 형성되고, 상기 모든 튜닝 영역들은 상기 커버의 도전 물질과 전기적으로 연결되지 않는 것을 특징으로 하는 RF 필터에 사용되는 커버. The method of claim 10, wherein the cover is formed by plating a conductive material over a dielectric material, and the first tuning region and the second tuning region are formed by etching the top surface of the cover, and the back surface of the cover is etched. Thereby forming the third tuning region and the fourth tuning region, wherein all of the tuning regions are not electrically connected to the conductive material of the cover. 제9항에 있어서, 상기 커버 위에 튜닝 슬라이딩 부재가 배열되되,
상기 튜닝 슬라이딩 부재는 상기 커버 위에서 슬라이딩 가능하고, 상기 튜닝 슬라이딩 부재의 일부분과 상기 유전체 영역이 오버랩되며, 상기 오버랩 면적에 따라 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 달라지는 것을 특징으로 하는 RF 필터에 사용되는 커버.
10. The system of claim 9, wherein a tuning sliding member is arranged on the cover,
The tuning sliding member is slidable on the cover, the portion of the tuning sliding member and the dielectric region overlap, the cross coupling amount or transmission zero between the resonators vary depending on the overlap area Cover used for the filter.
제9항에 있어서, 집중 소자가 상기 유전체 영역 위에 배열되며, 상기 집중 소자에 따라 해당 공진기들 사이의 크로스 커플링 양 또는 전송 제로가 달라지는 것을 특징으로 하는 RF 필터에 사용되는 커버.





10. A cover as claimed in claim 9, wherein a concentrating element is arranged above the dielectric region and the amount of cross coupling between the resonators or the transmission zero varies depending on the concentrating element.





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