KR101212015B1 - Method for preparing II to VI group semiconductor compound quantum dot or nanoparticles through sonochemical method under multi-bubble sonoluminescence conditions, and method for controlling size of the quantum dot or the nanoparticles - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다중기포 음파발광 조건에서 초음파 발광법을 이용하여 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자를 제조하는 방법 및 상기 양자점 또는 나노입자의 크기를 제어하는 방법에 관한 것으로, 다중기포 음파발광 조건에서 초음파 발광법을 이용하여 어떠한 전처리 및/또는 고온 조건 없이 편리하고 간단한 원팟 반응을 통해 고 수율의 II 내지 VI 족 화합물의 양자점을 제조할 수 있다. 또한, 상기 양자점을 소성하여 나노입자로 전환시킬 수 있다. 아울러, 상기 초음파 처리 조건 또는 소성 조건을 제어하여 상기 양자점 또는 나노입자의 크기를 제어하는 효과가 있다. The present invention relates to a method for manufacturing a group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles using ultrasonic emission method under multi-bubble sonic emission conditions and a method for controlling the size of the quantum dots or nanoparticles, Ultrasonic luminescence can be used to prepare high yield quantum dots of Group II-VI compounds through convenient and simple one-pot reactions without any pretreatment and / or high temperature conditions. In addition, the quantum dots may be calcined and converted into nanoparticles. In addition, there is an effect of controlling the size of the quantum dots or nanoparticles by controlling the sonication conditions or firing conditions.

Description

다중기포 음파발광 조건에서 초음파 발광법을 이용하여 Ⅱ 내지 Ⅵ 족 반도체 양자점 또는 나노입자를 제조하는 방법 및 상기 양자점 또는 나노입자의 크기를 제어하는 방법{Method for preparing II to VI group semiconductor compound quantum dot or nanoparticles through sonochemical method under multi-bubble sonoluminescence conditions, and method for controlling size of the quantum dot or the nanoparticles}Method for preparing group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles using ultrasonic emission method under multi-bubble sonic emission conditions and method for controlling the size of the quantum dots or nanoparticles nanoparticles through sonochemical method under multi-bubble sonoluminescence conditions, and method for controlling size of the quantum dot or the nanoparticles}

본 발명은 다중기포 음파발광 조건에서 초음파 발광법을 이용하여 II 내지 VI 족 화합물의 양자점 또는 나노입자를 제조하는 방법 및 상기 초음파 처리 조건 또는 소성 조건을 제어하여 상기 양자점 또는 나노입자의 크기를 제어하는 방법에 관한 것이다.
The present invention provides a method for producing quantum dots or nanoparticles of Group II to VI compounds using ultrasonic luminescence under multi-bubble sonic emission conditions and controlling the size of the quantum dots or nanoparticles by controlling the sonication or firing conditions. It is about a method.

합금된 반도체 양자점은 그들의 다재다능한 폭넓은 용도로 인해 널리 연구되었고, 많은 관련 연구자들은 그들의 입자 크기에 따른 다양한 조정가능한 특성들에 집중하였다. 그들은 주로 양자 구속 효과로 인해 그들의 크기 변화 시 다양한 색과 광루미네선스 특성들을 나타낸다. 그리하여, 이들 양자점은 발광 다이오드, 생체 이미징, 또는 태양전지의 흡수체로 이용되어 왔다. II-VI 반도체 양자점 중에서, CdSe 또는 CdTe는 강한 광루미네선스를 가지고 있고 벌크 CdTe는 태양전지 에너지 전환에 이용된다. 이는 태양 스펙트럼에 거의 최적으로 일치하는 1.44 eV의 직접 광학 밴드 갭을 가지고 있기 때문이다. 잘 분산된 CdTe 양자점은 스핀-코팅, 레이어 바이 레이어, 또는 딥-코팅 방법에 의해 증착될 수 있다. 자연발화성 유기금속 전구체를 이용한 그들의 합성 방법 대부분은 반응물질로 Cd(CH3)2를 사용하는데, 상기 물질은 다루기가 어렵고 해롭다. 비자연발화성 반응물질, 예를 들어, CdO 또는 Cd(Ac)2는 높은 끓는 온도를 갖는 용매를 이용하므로 전형적인 반응 온도가 약 300℃이다. 고온 반응의 경우, 반응이 빠르게 일어나기 때문에 결정 성장을 제어하기가 다소 어렵다. 성장은 반응 동안 반응 혼합물의 앨리쿼트를 얻거나, 차가운 반응 종결 용매를 부가하여 종결할 수 있다. 또한, 캡핑제로 티올 리간드를 이용하여 CdTe 나노결정을 제조하기 위한 전통적인 수용액 루트는 보통 시간이 많이 걸리고, 근적외선 방출창에 대해 짙은 붉은색에서 발광 특성이 거의 없다고 보고되어 있다.Alloyed semiconductor quantum dots have been widely studied for their versatile and widespread use, and many researchers have focused on various adjustable properties depending on their particle size. They exhibit varying color and photoluminescence properties, mainly due to their quantum confinement effects, in their size changes. Thus, these quantum dots have been used as absorbers in light emitting diodes, bioimaging, or solar cells. Among II-VI semiconductor quantum dots, CdSe or CdTe has strong photoluminescence and bulk CdTe is used for solar cell energy conversion. This is because it has a direct optical band gap of 1.44 eV, which is almost optimally matched to the solar spectrum. Well dispersed CdTe quantum dots can be deposited by spin-coating, layer by layer, or dip-coating methods. Most of their synthesis methods using pyrophoric organometallic precursors use Cd (CH 3 ) 2 as the reactant, which is difficult to handle and harmful. Non-pyrophoric reactants, such as CdO or Cd (Ac) 2 , utilize solvents with high boiling temperatures, so typical reaction temperatures are about 300 ° C. In the case of high temperature reactions, it is rather difficult to control the crystal growth because the reaction occurs quickly. Growth can be terminated by obtaining an aliquot of the reaction mixture during the reaction or by adding a cold reaction terminating solvent. In addition, traditional aqueous solution routes for the preparation of CdTe nanocrystals using thiol ligands as capping agents are usually time consuming and have reported little luminescent properties in dark red to near-infrared emitting windows.

한편, 초음파를 이용한 음파발광(sonoluminescence, SL)현상은 액체 속의 부상한 기포가 초음파에 동기화 되어 진동하는 가스기포가 급격한 수축을 할 때 빛을 발산하는 현상이다. 즉, 액체 내에서 부상한 기포에 초음파를 걸어주면 기포가 초음파의 주기에 따라 수축?팽창상이 반복하게 되는데 기포가 수축할 때 빛을 내게 된다. 음파발광법은 단일기포 음파발광(single-bubble sonoluminescence) 방법과 다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 가 있다. 다중기포에 의한 음파발광은 고에너지 음파가 조사되기 때문에 수많은 기포가 거의 동시에 생성되어 성장하고 수축하게 된다. 따라서 많은 기포가 관여되는 다중기포 음파발광을 사용하면 음파발광현상을 잘 이용할 수 있다. 다중기포 음파발광이 발생하는 기포 벽 주위에는 그 수축 시, 1,000 ℃ 정도의 고온과 500 bar 정도의 고압의 액체 반응 영역이 생기며, OH 라디칼이 생성된다. 이러한 반응 영역에서 고온?고압의 환경과 고반응성의 라디칼로 인하여 고에너지 화학반응이 가능해지고. 기포 내에서도 고온과 OH 라디칼의 발생 등 비슷한 환경으로 인해 고에너지 화학반응이 가능하다. On the other hand, the sonic luminescence (Sonoluminescence, SL) phenomenon using the ultrasonic wave is a phenomenon in which the air bubbles in the liquid is synchronized with the ultrasonic wave to emit light when the vibrating gas bubbles suddenly contracted. In other words, if the ultrasonic wave is applied to the air bubbles in the liquid, the bubble contracts and expands repeatedly according to the cycle of the ultrasonic wave. Acoustic emission methods include single-bubble sonoluminescence and multi-bubble sonoluminescence. Acoustic emission by multi-bubbles is irradiated with high-energy sound waves, so many bubbles are generated and grow and contract almost simultaneously. Therefore, the use of multi-bubble sonic emission, which involves a lot of bubbles, it is possible to make good use of sonic emission phenomenon. When contracted around the bubble wall where multi-bubble sonic emission occurs, a liquid reaction zone with a high temperature of about 1,000 ° C. and a high pressure of about 500 bar is generated, and OH radicals are generated. In this reaction zone, high energy and high pressure environment and high reactive radicals make high energy chemical reaction possible. Even in bubbles, high-energy chemical reactions are possible due to similar conditions, such as high temperatures and the generation of OH radicals.

그러나, 지금까지 이러한 다중기포에 의한 음파발광을 이용하여 반도체 양자점을 제조한 예는 보고된 바 없다.
However, there have been no reports of the manufacture of semiconductor quantum dots using sonic light emission by such multiple bubbles.

본 발명의 목적은 상술한 초음파 화학법을 이용하여 어떠한 전처리 및/또는 고온 조건이 없는 편리하고 간단한 원팟 반응을 통해 반도체 양자점 또는 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method for producing semiconductor quantum dots or nanoparticles through a convenient and simple one-pot reaction without any pretreatment and / or high temperature conditions using the ultrasonic chemistry described above.

본 발명의 다른 목적은 초음파 처리 조건, 소성 조건 등의 제조 공정 조건을 조절하여 상기 양자점 또는 나노입자의 크기를 제어하는 방법을 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a method for controlling the size of the quantum dots or nanoparticles by adjusting the manufacturing process conditions, such as ultrasonic treatment conditions, firing conditions.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은In order to achieve the above object,

극성 또는 무극성 용매에서 II 내지 VI 족 반도체 전구체, 계면활성제 및 분산제의 혼합 용액을 제조하는 단계; 및Preparing a mixed solution of Group II-VI semiconductor precursors, surfactants, and dispersants in a polar or nonpolar solvent; And

다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 조건에서 상기 혼합 용액에 초음파 처리하여 반도체 양자점을 제조하는 단계를 포함하는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 제조방법을 제공한다.
It provides a method for producing a group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles comprising the step of producing a semiconductor quantum dot by ultrasonication of the mixed solution in a multi-bubble sonoluminescence conditions.

본 발명은 또한 다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 조건에서 초음파 처리에 의해 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자를 제조함에 있어서,The invention also provides for the preparation of group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles by sonication under multi-bubble sonoluminescence conditions.

상기 초음파 처리 시간을 제어하거나, 소성 조건을 제어하는 단계를 포함하는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 크기 제어방법을 제공한다.
It provides a method for controlling the size of the group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles comprising the step of controlling the ultrasonic treatment time, or controlling the firing conditions.

본 발명은 다중기포 음파발광 조건에서 초음파 처리하여 어떠한 전처리 및/또는 고온 조건 없이 편리하고 간단한 원팟 반응을 통해 고 수율의 고순도 콜로이달 반도체 양자점을 제조하는 효과가 있다.The present invention has the effect of producing high-purity colloidal semiconductor quantum dots of high yield through convenient and simple one-pot reaction without any pre-treatment and / or high temperature conditions by sonication in multi-bubble sonic emission conditions.

본 발명은 또한 상기 콜로이달 반도체 양자점을 소성하여 나노입자로 전환하는 효과가 있다.The present invention also has the effect of converting the colloidal semiconductor quantum dots into nanoparticles by firing.

또한, 본 발명은 상기 초음파 처리 조건, 또는 소성 조건을 조절하여 상기 양자점 또는 나노입자의 크기를 제어하는 효과가 있다.
In addition, the present invention has the effect of controlling the size of the quantum dots or nanoparticles by adjusting the sonication conditions, or the firing conditions.

도 1은 본 발명의 방법에 따라 톨루엔 용매(a)와 옥타데센 용매(b)에서 제조된 CdTe 양자점의 XRD 패턴를 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 CdTe 양자점의 HR-TEM 이미지(a)와, 전자 회절 패턴(b)을 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 CdTe 양자점의 이미지와 크기 분포를 나타낸 것이다.
도 4는 실내등 하에서 초음파 처리 시간 별로 얻은 본 발명의 콜로이달 CdTe 용액의 사진도(a), 초음파 처리 시간 별 본 발명의 CdTe 양자점의 UV-vis 흡광 스펙트럼(b), UV 램프 하에서 초음파 처리 시간 별 본 발명의 콜로이달 CdTe 용액의 사진도(c), 및 초음파 처리 시간 별 CdTe 양자점의 광루미네선스 스펙트럼(여기파장: 400 nm)(d)를 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 CdTe 양자점을 소성시켜 얻은 CdTe 입자의 XRD 패턴, TEM 이미지 및 밴드 갭을 나타낸 것이다.
Figure 1 shows the XRD pattern of CdTe quantum dots prepared in toluene solvent (a) and octadecene solvent (b) according to the method of the present invention.
2 shows an HR-TEM image (a) and an electron diffraction pattern (b) of a CdTe quantum dot of the present invention.
Figure 3 shows the image and size distribution of the CdTe quantum dot of the present invention.
Figure 4 is a photograph of the colloidal CdTe solution of the present invention obtained by ultrasonic treatment time under room light (a), UV-vis absorption spectrum of the CdTe quantum dots of the present invention by ultrasonic treatment time (b), by ultrasonic treatment time under UV lamp Photograph (c) of the colloidal CdTe solution of the present invention and the photoluminescence spectrum (excitation wavelength: 400 nm) (d) of CdTe quantum dots according to sonication time are shown.
Figure 5 shows the XRD pattern, TEM image and band gap of the CdTe particles obtained by firing the CdTe quantum dots of the present invention.

이하, 본 발명의 구성을 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure of this invention is demonstrated concretely.

본 발명은The present invention

극성 또는 무극성 용매에서 II 내지 VI 족 반도체 전구체, 계면활성제 및 분산제의 혼합 용액을 제조하는 단계; 및Preparing a mixed solution of Group II-VI semiconductor precursors, surfactants, and dispersants in a polar or nonpolar solvent; And

다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 조건에서 상기 혼합 용액에 초음파 처리하여 반도체 양자점을 제조하는 단계를 포함하는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles, comprising the step of producing a semiconductor quantum dot by sonicating the mixed solution under multi-bubble sonoluminescence conditions.

본 발명의 제조방법은 다중기포 음파발광 조건 하에서 초음파 처리를 통해 반도체 전구체의 전처리, 고온 처리 없이 간단한 원팟 반응을 통해 고순도의 II 내지 VI 족 반도체 양자점을 제조하고, 상기 양자점을 소성하여 나노입자를 제조하는 것을 특징으로 한다.In the method of the present invention, high purity group II to VI semiconductor quantum dots are prepared through simple one-pot reaction without pretreatment of semiconductor precursor and high temperature treatment by ultrasonic treatment under multi-bubble sonic emission conditions, and sintering the quantum dots to produce nanoparticles. Characterized in that.

제1단계는 극성 또는 무극성 용매에서 II 내지 VI 족 반도체 전구체, 계면활성제 및 분산제의 혼합 용액을 제조하는 것이다.The first step is to prepare a mixed solution of Group II-VI semiconductor precursors, surfactants, and dispersants in a polar or nonpolar solvent.

상기 II 내지 VI 족 반도체 전구체는 구체적으로 CdCl2 및, Te 또는 Se 분말을 사용할 수 있다. Specifically, the Group II to VI semiconductor precursors may use CdCl 2 and Te or Se powder.

본 발명이 반도체 양자점을 제조하기 위한 반응물질로 CdCl2을 사용하기 때문에 독성이 없고 높은 끓는점을 갖는 용매를 사용하지 않으므로 고온 처리 조건을 요구하지 않는 특징이 있는 것이다.Since the present invention uses CdCl 2 as a reactant for preparing semiconductor quantum dots, it is non-toxic and does not use a solvent having a high boiling point.

또한, Te 또는 Se 분말을 상기 CdCl2에 직접적으로 혼합하여 반응을 시키므로 기존의 Te를 Te2-로 환원시키는 전처리 공정이 요구되지 않는다. In addition, since Te or Se powder is directly mixed with the CdCl 2 to react, there is no need for a pretreatment process for reducing Te to Te 2- .

또한, 상기 계면활성제는 1-헥사데실아민(1-hexadecylamine), 옥타데실아민(octadecylamine), 또는 4-(2-아미노에틸)페놀{4-(2-aminoethyl)phenol} 등의 1차 아민을 사용하는 것이 좋으나, 이에 특별히 제한하는 것은 아니다. In addition, the surfactant may be a primary amine such as 1-hexadecylamine, octadecylamine, or 4- (2-aminoethyl) phenol {4- (2-aminoethyl) phenol}. It is recommended to use, but is not particularly limited thereto.

상기 분산제는 II 내지 VI 족 반도체 전구체가 극성 또는 비극성 용매 상에 잘 분산되도록 트리프로필포스핀, 트리부틸포스핀 등의 알킬포스핀 계열; 트리에틸포스파이트, 트리부틸포스파이트 등의 알킬포스파이트 계열; 또는 헥실아민, 옥틸아민, 도데실아민, 헥사데실아민, 올레일아민 등의 알킬아민 계열 화합물을 제한 없이 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 트리옥틸포스핀/트리옥틸포스핀옥사이드(TOP/TOPO)를 사용할 수 있다. 가장 바람직하게는, 트리옥틸포스핀 및 트리옥틸포스핀옥사이드는 2:3의 몰비로 혼합된 것을 사용할 수 있다.
The dispersant may be an alkylphosphine series such as tripropylphosphine and tributylphosphine such that the Group II to VI semiconductor precursors are well dispersed on a polar or nonpolar solvent; Alkyl phosphite series such as triethyl phosphite and tributyl phosphite; Alternatively, alkylamine series compounds such as hexylamine, octylamine, dodecylamine, hexadecylamine and oleylamine can be used without limitation. More specifically, trioctylphosphine / trioctylphosphine oxide (TOP / TOPO) may be used. Most preferably, trioctylphosphine and trioctylphosphine oxide may be mixed in a molar ratio of 2: 3.

또한, 상기 극성 또는 비극성 용매로 헥산, 시클로헥산, 옥탄, 데칸, 도데칸, 헥사데칸 등의 포화탄화수소 계열의 용매; 헥센, 시클로헥센, 옥텐, 데켄, 도데켄, 헥사데켄, 옥타데켄 등의 불포화 탄화수소 계열의 용매; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 옥탄올등의 알코올 계열 용매; 벤젠, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 계열의 용매; 또는 메틸렌클로라이드(MC), 트리클로로에틸렌(TCE), 디메틸렌포름아마이드(DMF), 디메틸설폭사이드(DMSO)등의 비양성자성 극성 용매 등을 제한 없이 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 톨루엔 또는 옥타데센을 사용할 수 있다.
In addition, as the polar or non-polar solvent, a saturated hydrocarbon solvent such as hexane, cyclohexane, octane, decane, dodecane, hexadecane; Unsaturated hydrocarbon solvents such as hexene, cyclohexene, octene, dekene, dodekene, hexadekene, octadecene; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol and octanol; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, chlorobenzene, dichlorobenzene and xylene; Or an aprotic polar solvent such as methylene chloride (MC), trichloroethylene (TCE), dimethylene formamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO) and the like can be used without limitation. More specifically, toluene or octadecene can be used.

제2단계는 다중기포 음파발광 조건 하에서 상기 혼합 용액에 초음파 처리하여 II 내지 VI 족 반도체 양자점을 제조할 수 있다.In a second step, the II-VI semiconductor quantum dots may be manufactured by sonicating the mixed solution under multi-bubble sonic emission conditions.

상기 다중기포 음파발광 조건은 통상의 순환 수조가 포함된 다중기포 음파장치에서 구현할 수 있다. 보다 구체적으로 아르곤 분위기에서 40 내지 100 ℃의 온도를 유지하면서 10 내지 100 KHz의 주파수와 100 내지 500 W 동력을 이용하여 구현할 수 있다. 상기 아르곤 가스의 압력은 0.5 내지 2 atm으로 유지하는 것이 좋다.The multi-bubble sound emission conditions can be implemented in a multi-bubble sound wave device including a conventional circulation bath. More specifically, it can be implemented using a frequency of 10 to 100 KHz and 100 to 500 W power while maintaining a temperature of 40 to 100 ° C. in an argon atmosphere. The pressure of the argon gas is preferably maintained at 0.5 to 2 atm.

상기 초음파 처리는 5 내지 40분 동안 실시하는 것이 좋다. 상기 범위 내일 경우, 고순도 고수율의 II 내지 VI 족 반도체 양자점을 제조할 수 있다.The ultrasonic treatment is preferably performed for 5 to 40 minutes. When within the above range, it is possible to manufacture a high purity high yield group II to VI semiconductor quantum dots.

일 구체예에 따르면, 초음파 처리 5분 미만일 때 혼합 용액 내 색은 Te 슬러리가 용매에서 완전히 용해되면서 옅은 녹색을 띤다. 초음파 처리 시간이 5분 이상일 때 용액의 색은 옅은 녹색에서 노란색으로 점차 짙은 붉은색으로 변한다. 초음파 처리 시간이 40분을 초과할 경우 더 이상의 용액 내 색 변화는 관찰되지 않는다. 이는 II 내지 VI 족 반도체 양자점의 성장이 완료되었음을 시사하는 것이다.According to one embodiment, the color in the mixed solution is pale green when the Te slurry is completely dissolved in the solvent when less than 5 minutes of sonication. When the sonication time is more than 5 minutes, the color of the solution gradually changes from pale green to yellow to deep red. If the sonication time exceeds 40 minutes, no further color change in solution is observed. This suggests that the growth of group II to VI semiconductor quantum dots is completed.

상술한 상기 초음파 처리 시간은 반도체 양자점의 크기에 영향을 줄 수 있다. 보다 구체적으로 5 내지 40분 동안 초음파 처리할 경우 양자점의 크기는 시간 의존적으로 크기가 커질 수 있다.The ultrasonic treatment time described above may affect the size of the semiconductor quantum dots. More specifically, when sonicated for 5 to 40 minutes, the size of the quantum dot may increase in size depending on time.

상기 II 내지 VI 족 반도체 양자점의 제조방법을 통해 제조되는 양자점은 CdTe 또는 CdSe일 수 있다.The quantum dots manufactured by the method of manufacturing the II-VI semiconductor quantum dots may be CdTe or CdSe.

상기 방법에 따라 제조된 양자점은 불순물이 없이 큐빅상으로 존재하며, 크기는 구체적으로 2 내지 10 nm일 수 있다.The quantum dots prepared according to the method are present in the cubic phase without impurities, and may be specifically 2 to 10 nm in size.

일 구체예에서 XRD 패턴은 (111), (220) 및 (311) 플레인에 해당하는 브로드 피크를 나타낸다.
In one embodiment, the XRD pattern exhibits broad peaks corresponding to the (111), (220), and (311) planes.

또한, 본 발명의 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 제조방법은 반도체 양자점을 소성하여 나노입자로 전환하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.In addition, the method of manufacturing a group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles of the present invention may further include the step of firing the semiconductor quantum dots converted to nanoparticles.

상기 단계에서 제조된 반도체 양자점은 소성 시 크기가 커지고 양자점의 특성을 상실하면서 나노입자로 전환된다.The semiconductor quantum dots manufactured in the above step are converted to nanoparticles while the size of the semiconductor quantum dots is increased and the characteristics of the quantum dots are lost.

상기 소성은 진공 하에서 300 내지 600 ℃에서 1 내지 3 시간 동안 실시할 수 있다.The firing may be performed at 300 to 600 ° C. for 1 to 3 hours under vacuum.

상술한 소성 조건은 반도체 나노입자의 크기에 영향을 줄 수 있다. 즉, 상기 소성 조건에서 나노입자의 크기는 온도 및 시간 의존적으로 크기가 커질 수 있다.The firing conditions described above may affect the size of the semiconductor nanoparticles. That is, the size of the nanoparticles in the firing conditions may be increased in size depending on the temperature and time.

상기 소성을 통해 전환되는 나노입자는 큐빅 상으로 존재하며, 12 nm 내지 10 ㎛의 직경을 가질 수 있다. 보다 구체적으로 12 내지 30 nm일 수 있다.
The nanoparticles converted through the sintering are present in the cubic phase and may have a diameter of 12 nm to 10 μm. More specifically, it may be 12 to 30 nm.

본 발명의 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 제조방법에 따라 제조된 반도체 양자점 또는 나노입자는 다양한 크기에 따라 다양한 색과 광 루미네선스 특성을 나타내며, 상기 나노입자는 1.53 eV의 밴드 갭을 가지고 있어 광검출기(Photodetector), FRET 기반 바이오센서(FRET-based Biosensor), 단일광자원(single-photon source), 물 분해 장치용 광전극(Photoelectrode for water splitting), 가스 센서(Gas sensor), 광촉매(Photocatalyst). 발광 다이오드, 생체 이미징제, 또는 태양전지의 흡수체 등에 사용될 수 있다.
The semiconductor quantum dots or nanoparticles prepared according to the method of manufacturing a group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles of the present invention exhibit various color and photoluminescence characteristics according to various sizes, and the nanoparticles have a band gap of 1.53 eV. Photodetector, FRET-based biosensor, single-photon source, photoelectrode for water splitting, gas sensor, photocatalyst Photocatalyst). It can be used in a light emitting diode, a biological imaging agent, or an absorber of a solar cell.

본 발명은 또한The present invention also

다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 조건에서 초음파 처리에 의해 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자를 제조함에 있어서,In the preparation of group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles by sonication under multi-bubble sonoluminescence conditions,

상기 초음파 처리 시간을 제어하거나, 소성 조건을 제어하는 단계를 포함하는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 크기 제어방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for controlling the size of group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles including controlling the sonication time or controlling firing conditions.

본 발명의 II 내지 VI 족 반도체 양자점 제조 시 초음파 처리 시간은 합성되는 양자점의 크기에 영향을 줄 수 있다. 보다 구체적으로, 초음파 처리 시간을 5분 내지 40분 동안 실시할 경우, 양자점의 크기는 2 내지 10 nm로 처리 시간이 길수록 양자점의 크기도 커진다.Ultrasonication time may affect the size of the synthesized quantum dots in the preparation of Group II to VI semiconductor quantum dots of the present invention. More specifically, when the ultrasonic treatment time is performed for 5 to 40 minutes, the size of the quantum dot is 2 to 10 nm, the longer the processing time becomes larger.

또한, 상기 초음파 처리를 통해 제조된 양자점은 소성을 통해 나노입자로 전환될 수 있다. 상기 소성 조건은 나노입자의 크기에 영향을 줄 수 있다. 보다 구체적으로 소성 조건은 진공 하에서 300 내지 600 ℃에서 1 내지 3시간 동안 실시할 수 있고, 이로부터 제조되는 나노입자의 크기는 12 nm 내지 10 ㎛의 직경을 가질 수 있다.
In addition, the quantum dots produced through the ultrasonic treatment may be converted into nanoparticles through firing. The firing conditions may affect the size of the nanoparticles. More specifically, the firing conditions may be carried out under vacuum at 300 to 600 ° C. for 1 to 3 hours, and the size of the nanoparticles prepared therefrom may have a diameter of 12 nm to 10 μm.

이하, 본 발명에 따르는 실시예 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples of the present invention, but the scope of the present invention is not limited by the following Examples.

<실시예 1> 톨루엔 용매에서 CdTe 양자점의 제조Example 1 Preparation of CdTe Quantum Dot in Toluene Solvent

CdTe 양자점을 제조하기 위한 시작물질인, 카드뮴 클로라이드(CdCl2, 99.99%), 텔루르 분말(99.99%), 트리옥틸포스핀(TOP, 90%), 트리옥틸포스핀 옥사이드(TOPO, 90%), 헥사데실아민(HDA, 98%), 및 무수형 톨루엔은 알드리치에서 구입하였다. 모든 시약은 추가 정제 없이 사용하였다. Cadmium chloride (CdCl 2 , 99.99%), tellurium powder (99.99%), trioctylphosphine (TOP, 90%), trioctylphosphine oxide (TOPO, 90%), starting materials for the production of CdTe quantum dots, Hexadecylamine (HDA, 98%), and anhydrous toluene were purchased from Aldrich. All reagents were used without further purification.

MBSL을 위한 실험 장치는 5 mm 지경의 티타늄 혼(Misonix XL2020, USA)이 삽입된 유리관(cylindrical quartz cell)로 구성되어 있다. 시스템은 20 kHz에서 220W의 인가전압에서 작동한다. 상기 셀이 침지되어 있는 순환 수조를 이용하여 셀 내부의 용액의 온도가 60℃ 근처로 유지되도록 한다. MBSL 조건은 초음파 강도, 용매 온도, 및 혼의 팁과 셀의 바닥 간의 거리를 조정하여 고정하였다. The experimental setup for the MBSL consists of a cylindrical quartz cell with a 5 mm diameter titanium horn (Misonix XL2020, USA) inserted. The system operates at an applied voltage of 220 W at 20 kHz. The temperature of the solution inside the cell is maintained at about 60 ° C by using a circulation bath in which the cell is immersed. MBSL conditions were fixed by adjusting the ultrasonic intensity, solvent temperature, and distance between the tip of the horn and the bottom of the cell.

CdCl2(0.093g, 0.5mmol), Te 분말(0.064g, 0.5mmol), HDA(0.5g), TOP/TOPO(2.5g, 2:3 몰비) 및 톨루엔 9mL을 어떠한 티올 캡핑제 없이 테스트 셀에 정치하였다. 상기 테스트 셀 내 용액은 아르곤 분위기 하에서 1.4 atm으로 유지하였다. 크기 별 CdTe 양자점의 제조를 위해, 초음파는 5 내지 40분 동안 조사하였다. CdCl 2 (0.093 g, 0.5 mmol), Te powder (0.064 g, 0.5 mmol), HDA (0.5 g), TOP / TOPO (2.5 g, 2: 3 molar ratio) and 9 mL of toluene were added to the test cell without any thiol capping agent. It was political. The solution in the test cell was kept at 1.4 atm under argon atmosphere. For the preparation of CdTe quantum dots by size, ultrasound was irradiated for 5-40 minutes.

최종 산물은 4000 rpm에서 20분 동안 원심분리하여 분리정제하고, 미반응 물질과 카드뮴 클로라이드, 텔루르 및 알킬암모늄 클로라이드 염 등의 부산물인 것으로 추정되는 침전물들은 버렸다. 분산된 양자점은 에탄올로 침전시키고, 상등액은 버렸다. 침전된 양자점은 TEM 및 XRD 시료의 제조를 위해 진공에서 건조하였다.
The final product was separated and purified by centrifugation at 4000 rpm for 20 minutes, and the precipitates which were supposed to be by-products such as cadmium chloride, tellurium and alkylammonium chloride salts were discarded. The dispersed quantum dots were precipitated with ethanol and the supernatant was discarded. The precipitated quantum dots were dried in vacuo for the preparation of TEM and XRD samples.

<실시예 2> 옥타데센 용매에서 CdTe 양자점의 제조Example 2 Preparation of CdTe Quantum Dots in Octadecene Solvent

용매로 톨루엔 대신 옥타데센을 사용하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1의 방법에 준하는 방식으로 CdTe 양자점을 제조하였다.
CdTe quantum dots were prepared in a manner similar to that of Example 1, except that octadecene was used instead of toluene as a solvent.

(특성규명)(Characterization)

후술하는 CdTe 양자점의 특성 규명은 XRD 데이터를 제외하고는 상기 실시예 1에 따라 제조된 CdTe 양자점을 이용하여 실시한 결과를 나타낸 것이다.Characterization of the CdTe quantum dot described below shows the results of using the CdTe quantum dot prepared according to Example 1 except for the XRD data.

XRD 데이터는 Scintag XDS 2000(Cu Kα=1.54056Å)를 이용하여 0.02°/sec의 스캔속도에서 0.02°의 스텝 사이즈의 조건에서 50분 동안 스캐닝하여 얻었다. XRD data were obtained by scanning Scintag XDS 2000 (Cu Kα = 1.54056 Hz) for 50 minutes at 0.02 ° step size at 0.02 ° / sec scan rate.

TEM 이미지는 200kV의 가속전압으로 FEI tecnai G2 F30을 이용하여 탄소 코팅된 200 메쉬의 구리 TEM 그리드 상에서 얻었다.TEM images were obtained on a carbon coated 200 mesh copper TEM grid using a FEI tecnai G2 F30 with an acceleration voltage of 200 kV.

UV-vis 흡광도 및 광루미네선스 스펙트럼은 Uv-vis 분광계(Scinco, S-3100) 및 형광분광계(Scinco, FS-2)를 사용하여 수집하였다.
UV-vis absorbance and photoluminescence spectra were collected using a Uv-vis spectrometer (Scinco, S-3100) and a fluorescence spectrometer (Scinco, FS-2).

도 1은 용매로 톨루엔을 사용하여 제조된 CdTe 양자점의 전형적인 XRD 패턴(a) 및 용매로 옥타데센을 사용하여 제조된 CdTe 양자점의 XRD 패턴(b)을 나타내며, 둘 다 (111), (220), 및 (311) 플레인에 해당하는 3개의 브로드 피크가 있다. 이는 이미 보고된 CdTe 피크(JCPDS card no. 15-0770)와 거의 일치한다. XRD 스펙트럼을 기초로 하여 Scherrer's 식에 따라 계산된 양자점의 결정 크기는 직경이 약 10 nm이다. 1 shows a typical XRD pattern (a) of a CdTe quantum dot prepared using toluene as a solvent and an XRD pattern (b) of a CdTe quantum dot prepared using octadecene as a solvent, both (111) and (220) There are three broad peaks corresponding to, and (311) planes. This is almost consistent with the previously reported CdTe peak (JCPDS card no. 15-0770). The crystal size of the quantum dots, calculated according to Scherrer's equation based on the XRD spectrum, is about 10 nm in diameter.

도 2의 전자 회절 패턴에서 나타난 바와 같이, 그들은 카드뮴 옥사이드 또는 텔루르 및 그들의 결정 상과 같이 어떠한 불순물 없이 큐빅 상으로 존재한다. 이 결과는 꽤 흥미롭다. 왜냐하면, 물에서 CdCl2 또는 Cd(OH)2, NaBH4 및 Te는 반응 시간 동안 동일한 초음파 전압으로 초음파 처리할 때 불순물로서 CdO 및 다량의 미반응 Te가 존재하기 때문이다. 미반응 Te를 제거하기 위해, 최종 산물을 진공 하에서 600℃ 이상의 온도에서 몇 시간 동안 열처리하여야 한다. 또한, 상기 수용액 공정에서 제조된 CdTe 입자의 평균 크기는 직경이 약 30 내지 50 nm이고, 상기 입자 크기는 제어되지 않는다. As shown in the electron diffraction pattern of FIG. 2, they are present in the cubic phase without any impurities such as cadmium oxide or tellurium and their crystalline phases. This result is quite interesting. This is because CdCl 2 or Cd (OH) 2 , NaBH 4 and Te in water contain CdO and a large amount of unreacted Te as impurities when sonicated at the same ultrasonic voltage during the reaction time. To remove unreacted Te, the final product must be heat treated for several hours at a temperature of 600 ° C. or higher under vacuum. In addition, the average size of the CdTe particles produced in the aqueous solution process is about 30 to 50 nm in diameter, the particle size is not controlled.

도 3의 TEM 이미지는 평균 크기가 약 7 내지 8 nm인 양자점의 적절한 크기 분포를 나타낸 것이다. 이 분포를 통해 입자의 성장이 한결같이 일어나고, 최종 산물은 크기 선택 과정을 별도로 요구하지 않음을 알 수 있었다. 유사하게, 전술한 간단한 초음파 화학 반응에 의해 다양한 색에서 다양한 CdTe 양자점이 쉽게 제조된다; 각 실험 시작 시, 2분 동안 초기 초음파 처리 시간 동안, Te 슬러리는 용매에서 완전히 용해되었고, 용액의 색은 옅은 녹색으로 변하지만, PL(photoluminescence) 피크가 나타나지 않는다. 이는 이 단계에서 용액 내에 CdTe가 제조되지 않음을 시사하는 것이다. 그리고 나서, 3 내지 18분 동안 추가적인 초음파 처리 시, 즉 총 초음파 처리 시간이 5분에서 20분으로 증가할 때 양자점이 형성되기 시작되고, 용액의 색은 옅은 녹색에서 노란색으로, 이어 짙은 붉은색으로 변한다. 초음파 처리가 끝나고, 각 용액의 색 변화는 관찰되지 않는다. 이는 CdTe 입자의 성장이 끝났음을 시사하는 것이다. The TEM image of FIG. 3 shows an appropriate size distribution of quantum dots with an average size of about 7-8 nm. Through this distribution, the growth of particles occurs uniformly, and the final product does not require a separate size selection process. Similarly, various CdTe quantum dots are readily produced in various colors by the simple ultrasonic chemistry described above; At the beginning of each experiment, during the initial sonication time for 2 minutes, the Te slurry was completely dissolved in the solvent and the color of the solution turned pale green, but no photoluminescence (PL) peaks appeared. This suggests that no CdTe is prepared in solution at this stage. Then, after additional sonication for 3 to 18 minutes, that is, when the total sonication time is increased from 5 to 20 minutes, quantum dots begin to form, and the color of the solution changes from pale green to yellow, followed by deep red. Change. After the sonication is finished, no color change of each solution is observed. This suggests that the growth of CdTe particles is over.

도 4는 상기 제조된 콜로이달 CdTe 양자 용액의 사진도, 정상 UV-vis 흡광 스펙트럼, 및 해당 광 루미네선스(PL) 스펙트럼을 나타낸 것이다.Figure 4 shows a photograph of the colloidal CdTe quantum solution prepared above, the normal UV-vis absorption spectrum, and the corresponding photo luminescence (PL) spectrum.

도 4 (a) 및 (b)에 나타난 바와 같이, 초기 옅은 녹색이 노란색과 짙은 붉은색으로의 용액의 색 변화는 초음파 처리 시간이 증가함에 따라 CdTe 양자점의 증가된 결정 성장으로부터 생성되는 것으로 사료된다. UV-vis 스펙트럼에서, 5, 7, 9, 12, 15, 및 20 분의 초음파 처리 시간 동안 각각 508, 515, 540, 553, 568, 및 576 nm 피크가 나타났다. 이 결과는 보고된 결과들과 매우 유사하다. 이는 결정 성장이 증가함에 따라 CdTe 양자점으로부터 흡광 피크의 연쇄적인 적색 이동 때문이다.As shown in Fig. 4 (a) and (b), the color change of the solution from the initial pale green to yellow and deep red color is believed to result from increased crystal growth of CdTe quantum dots with increasing sonication time. . In the UV-vis spectrum, 508, 515, 540, 553, 568, and 576 nm peaks were observed during sonication times of 5, 7, 9, 12, 15, and 20 minutes, respectively. This result is very similar to the reported results. This is due to the chain red shift of the absorbance peak from the CdTe quantum dots as crystal growth increases.

도 4 (c) 및 (d)는 PL 피크(여기파장: 400nm) 위치가 5, 7, 9, 12, 15 및 20 분의 반응 시간에서 529, 547, 578, 601, 614, 및 631 nm와 비슷함을 나타낸다. CdTe 양자점의 합성을 위한 초음파 처리 반응 시간은 CdTe 양자점 생산을 위한 기존의 용액 기반 방법들과 비교하여 매우 빠르고 용이하다.4 (c) and (d) show PL peak (excitation wavelength: 400 nm) positions 529, 547, 578, 601, 614, and 631 nm at reaction times of 5, 7, 9, 12, 15 and 20 minutes. Similarity. The sonication reaction time for the synthesis of CdTe quantum dots is very fast and easy compared to existing solution based methods for the production of CdTe quantum dots.

크기 의존적인 흡광도의 적색 이동 및 PL 피크는 상대적으로 더 약한 양자 구속 효과로 인한 것으로 설명된다. 5 내지 20분의 초음파 처리 시간 동안 이들 제조된 CdTe 양자점의 크기는 직경이 대략 2 내지 4 nm인 것으로 사료되는데, 이는 그들의 UV-vis 및 PL 스펙트럼은 Wuister 등에 의한 보고 결과와 매우 유사하기 때문이다.The red shift and the PL peak of the magnitude dependent absorbance are explained by the relatively weaker quantum confinement effect. The size of these prepared CdTe quantum dots for 5-20 min sonication time is thought to be approximately 2-4 nm in diameter because their UV-vis and PL spectra are very similar to the results reported by Wuister et al.

CdTe 양자점은 에탄올로 침전시키고 원심분리한 후, 침전물은 진공 하에서 30분 동안 건조하였다. 짙은 갈색 CdTe 양자점 분말을 진공 하에서 400℃에서 1시간 동안 소성시켰다. After CdTe quantum dots were precipitated with ethanol and centrifuged, the precipitate was dried under vacuum for 30 minutes. The dark brown CdTe quantum dot powder was calcined at 400 ° C. for 1 hour under vacuum.

도 5는 나노입자의 XRD 패턴(a), TEM 이미지(b), 및 밴드 갭 에너지(c)를 나타낸 것이다. 그들의 결정 상은 여전히 큐빅형이며, (111), (220) 및 (311) 플레인에 해당하는 23.7°, 39.3° 및 46.4°에서 특징적인 강한 날카로운 피크를 갖는 것이 주목된다. 도 5(b)의 TEM 이미지에서, 입자 크기는 약 8 내지 30 nm이며, 이는 입자는 근접한 입자들 간의 고체상 반응에 의해 불규칙적으로 성장함을 지적한다. 5 shows the XRD pattern (a), TEM image (b), and band gap energy (c) of the nanoparticles. It is noted that their crystal phases are still cubic and have strong sharp peaks characteristic at 23.7 °, 39.3 ° and 46.4 ° corresponding to the (111), (220) and (311) planes. In the TEM image of FIG. 5 (b), the particle size is about 8 to 30 nm, indicating that the particles grow irregularly by solid phase reactions between adjacent particles.

도 5(c)에 나타난 바와 같이, UV-vis 분광 데이터를 기반으로 하여 소성된 CdTe 나노입자들의 밴드 갭은 벌크 CdTe의 1.44 eV와 비교하여 약 1.53 eV였다. 이 결과는 꽤 흥미로운데, 태양전지에 가장 최적으로 일치되는 밴드 갭이 1.5 eV이기 때문이다.
As shown in FIG. 5 (c), the band gap of calcined CdTe nanoparticles based on UV-vis spectral data was about 1.53 eV compared to 1.44 eV of bulk CdTe. This result is quite interesting because the bandgap that best matches solar cells is 1.5 eV.

결론적으로, 간단한 초음파화학 반응을 이용하여 약 2 내지 10 nm 범위의 다양한 콜로이달 CdTe 양자점이 성공적으로 합성되었다. 그들의 평균 크기는 반응 조건을 조절하여 조정할 수 있음을 발견하였고, CdTe 입자는 일정한 형태를 갖는다. In conclusion, various colloidal CdTe quantum dots in the range of about 2 to 10 nm were successfully synthesized using simple sonochemical reactions. It was found that their average size can be adjusted by adjusting the reaction conditions, and the CdTe particles have a constant morphology.

최종 산물의 결정 구조는 큐빅 상이고, CdTe 양자점 제조 공정에서 다른 불순물은 감지되지 않는다. CdTe 양자점의 색은 초음파 처리 시간으로 인한 다양한 크기 때문에 옅은 녹색에서 노란색으로, 이후 짙은 붉은색으로 변한다. The crystal structure of the final product is the cubic phase and no other impurities are detected in the CdTe quantum dot manufacturing process. The color of the CdTe quantum dots changes from pale green to yellow and then deep red because of the varying sizes due to the sonication time.

또한, 400℃에서 1시간 동안 침전된 CdTe 양자점의 소성에 의해 CdTe 나노입자가 제조되며, 큐빅 상으로 존재하고, 그들의 밴드 갭은 약 1.53eV였다.
In addition, CdTe nanoparticles were prepared by firing of CdTe quantum dots precipitated for 1 hour at 400 ° C., present in cubic phase, and their band gap was about 1.53 eV.

Claims (15)

극성 또는 비극성 용매에서 CdCl2, Te 또는 Se 분말, 계면활성제 및 분산제의 혼합 용액을 제조하는 단계; 및
아르곤 분위기에서 40 내지 100 ℃의 온도를 유지하면서 10 내지 100 kHz의 주파수와 100 내지 500 W 동력을 이용하여 구현하는 다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 조건에서 상기 혼합 용액에 초음파 처리하여 CdTe 또는 CdSe 양자점을 제조하거나, 상기 CdTe 또는 CdSe 양자점을 소성하여 각각 CdTe 또는 CdSe 나노입자로 전환하는 단계를 포함하고,
상기 용매는 포화탄화수소 계열 용매, 불포화탄화수소 계열 용매, 방향족 탄화수소 계열 용매 및 비양성자성 극성 용매로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고,
상기 계면활성제는 1-헥사데실아민(1-hexadecylamine), 옥타데실아민(octadecylamine) 및 4-(2-아미노에틸)페놀{4-(2-aminoethyl)phenol}로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이며,
상기 분산제는 알킬포스핀 계열 및 알킬포스파이트 계열 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 제조방법.
Preparing a mixed solution of CdCl 2 , Te or Se powder, surfactant and dispersant in a polar or nonpolar solvent; And
CdTe or by sonicating the mixed solution under multi-bubble sonoluminescence conditions using a frequency of 10 to 100 kHz and a power of 100 to 500 W while maintaining a temperature of 40 to 100 ° C. in an argon atmosphere. Preparing CdSe quantum dots or calcining the CdTe or CdSe quantum dots to convert them to CdTe or CdSe nanoparticles, respectively,
The solvent is at least one selected from the group consisting of a saturated hydrocarbon-based solvent, an unsaturated hydrocarbon-based solvent, an aromatic hydrocarbon-based solvent, and an aprotic polar solvent,
The surfactant is at least one selected from the group consisting of 1-hexadecylamine, octadecylamine and 4- (2-aminoethyl) phenol {4- (2-aminoethyl) phenol},
The dispersing agent is at least one selected from the group consisting of alkyl phosphine-based and alkyl phosphite-based compound group II to VI semiconductor quantum dot or nanoparticle manufacturing method.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
초음파 처리는 5 내지 40분 동안 실시하는 방법.
The method of claim 1,
Sonication is carried out for 5 to 40 minutes.
삭제delete 제1항에 있어서,
반도체 양자점은 2 내지 10 nm의 직경을 갖는 방법.
The method of claim 1,
The semiconductor quantum dots have a diameter of 2 to 10 nm.
삭제delete 제1항에 있어서,
소성은 진공 하에서 300 내지 600 ℃에서 1 내지 3 시간 동안 실시하는 방법.
The method of claim 1,
Firing is carried out under vacuum at 300 to 600 ° C. for 1 to 3 hours.
제1항에 있어서,
나노입자는 12 nm 내지 10 ㎛의 직경을 갖는 방법.
The method of claim 1,
The nanoparticles have a diameter of 12 nm to 10 μm.
다중기포 음파발광(multi-bubble sonoluminescence) 조건에서 초음파 처리에 의해 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자를 제조함에 있어서,
상기 초음파 처리 시간을 CdTe 또는 CdSe 양자점의 크기를 제어하거나, 소성 조건을 제어하여 CdTe 또는 CdSe 나노입자의 크기를 제어하는 단계를 포함하는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 또는 나노입자의 크기 제어방법.
In the preparation of group II to VI semiconductor quantum dots or nanoparticles by sonication under multi-bubble sonoluminescence conditions,
Controlling the size of the CdTe or CdSe quantum dots by controlling the size of the CdTe or CdSe quantum dots or controlling the firing conditions to control the size of the CdTe or CdSe nanoparticles.
제13항에 있어서,
초음파 처리 시간은 5분 내지 40분인 방법.
The method of claim 13,
The sonication time is 5 to 40 minutes.
제13항에 있어서,
소성 조건은 진공 하에서 300 내지 600 ℃에서 1 내지 3시간 동안 실시하는 방법.
The method of claim 13,
The firing conditions are carried out under vacuum at 300 to 600 ° C. for 1 to 3 hours.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101884380B1 (en) * 2016-09-29 2018-08-01 동우 화인켐 주식회사 Quantum dot dispersion, manufacturing method thereof, color filter and image display device manufactured using the same

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Mohammad H. Entezari 등, "Micro-emulsion under ultrasound facilitates the fast synthesis of quantum dots of CdS at low temperature", Ultrasonics Sonochemistry, 2010. 4. 9.
변기택 등, "Syntheses of ZnO and ZnO-coated TiO2 nanoparticles in various alcohol solutions at multibubble sonoluminescence(MBSL) condition", Chemical Engineering Journal, 2008

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101544317B1 (en) * 2014-06-02 2015-08-13 서울대학교산학협력단 Planar perovskite solar cells containing semiconductor nanoparticles and the method for manufacturing thereof

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