KR101171259B1 - Adjustable filtration controlable position of filter thickness - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하폐수의 고도처리시설에서 최종 방류수의 수질을 높이기 위해 사용되거나 슬러지 처리를 위해 사용되는 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 제공한다. 이와 같은 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 여재(1), 여과조(20), 여과 유니트(30), 권취 유니트(50), 모터 유니트(40), 태엽 스프링 유니트(60) 및 제어부(150)를 구비하여, 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 여재(1)가 권취 유니트(50)의 롤러(52)와 여과 유니트(30)의 챔버(32) 중 어느 하나에 감기는 힘이 작용되도록 한 상태에서 모터 유니트(40)에 의해 나머지 하나에 감기거나 풀리도록 하므로써, 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 여재(1)에 의해 여과되고, 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 한다. 이와 같은 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 스탭핑 자동제어나 특수 컨트롤러를 적용한 자동제어를 적용한 구동 메커니즘의 경우보다 비교적 간단한 구성을 통해 안정적이고 정확한 여층두께의 조절이 가능하도록 하여 여과장치의 가격 경쟁력을 확보할 수 있는 장점이 있다. The present invention provides a variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filtration layer used to improve the quality of the final effluent water in the advanced wastewater treatment facility or used for sludge treatment. Such a variable filtration device 10 that can adjust the thickness of the filtration layer is the filter medium (1), the filtration tank 20, the filtration unit 30, the winding unit 50, the motor unit 40, the spring spring unit 60 and The control unit 150 is provided so that the force of winding the media 1 by the spring spring unit 60 to either the roller 52 of the winding unit 50 or the chamber 32 of the filtration unit 30 is increased. By allowing the motor unit 40 to be wound or unwound by the motor unit 40 in a state in which it is acted on, it is accommodated in the cavity 21 of the filtration tank 20 by adjusting the thickness of the filtrate through the adjustment of the number of times wound on the chamber 32. Influent water is filtered by the filter medium 1, and the filtered water received in the filtered water passage 31 of the chamber 32 is discharged to the outside. The variable filtration device 10 that can adjust the thickness of the filtration layer is filtered through a simpler configuration than the driving mechanism to which the stepping automatic control or the automatic control using a special controller is applied to enable stable and accurate adjustment of the filtration thickness. There is an advantage that can secure the price competitiveness of the device.
Description
본 발명은 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 하폐수의 고도처리시설에서 최종 방류수의 수질을 높이기 위해 사용되거나 슬러지 처리를 위해 사용되는 여과장치를 구성함에 있어서, 여층두께를 가변적으로 제어할 수 있도록 하되, 비교적 간단하게 구성할 수 있도록 하고 안정적인 작동을 통해 여층두께를 조절할 수 있도록 하여 유입수를 여과처리하도록 하는 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에 관한 것이다. The present invention relates to a variable filtration apparatus capable of adjusting the thickness of the filtrate, and more particularly, in the construction of a filtration apparatus used for improving the quality of the final effluent water in a high-treatment wastewater or sludge treatment, The present invention relates to a variable filtration device capable of controlling the thickness of the filtration layer so that the thickness of the effluent can be filtered by controlling the thickness of the effluent by allowing the variable thickness to be controlled in a relatively simple manner and stably operating the filtration layer.
산업사회의 발전과 함께 도시지역의 확대로 인해 발생되는 다양한 환경문제 중에서 물 오염문제는 인류의 장래를 위협할 수 있는 중요한 요인 중의 하나로 부각되고 있다. 그리고, 이를 해결하기 위한 방안으로 오염물질 배출허용기준이 강화되고, 생물학적 또는 물리화학적 고도처리시설이 확충되고 있으며, 특히, 하폐수의 고도처리시설에서 최종 방류수의 수질을 높이기 위한 다양한 형태의 여과장치들 이 제안되어 사용되고 있다. Among various environmental problems caused by the development of industrial society and the expansion of urban areas, water pollution problem is emerging as one of the important factors that can threaten the future of mankind. In order to solve this problem, the limit of pollutant emission standards has been strengthened, and biological or physicochemical advanced treatment facilities have been expanded. In particular, various types of filtration apparatuses for improving the quality of the final effluent in advanced waste treatment facilities This has been proposed and used.
이에 대해 본 발명자는 대한민국 특허출원 출원번호 제10-2009-0079783호 "가변형 여과장치"를 통해 섬유사를 압축을 통해 여과공극을 제어하는 종래기술의 문제점을 개선하기 위한 기술을 제안한 바 있다.On the other hand, the present inventor has proposed a technique for improving the problems of the prior art of controlling the filter pores by compressing the fiber yarn through the Republic of Korea Patent Application No. 10-2009-0079783 "variable filtration device".
도 1은 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치를 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining a variable filtration device proposed by the inventor through the prior application.
도 1을 참조하면, 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치(500)는 여과조(510), 여과 유니트(520), 권취 유니트(530) 및 여과포(501)를 구비한다. Referring to FIG. 1, the
이때, 여과 유니트(520)는 내부의 여과수로(521)가 외부와 연통되도록 하는 여과홀(523)이 둘레로 형성되는 챔버(522)를 구비하고, 챔버(522)가 여과조(510)의 캐비티(511)내에 위치되어 외부의 구동력에 의해 챔버(522)가 정해진 방향으로 회동가능하도록 여과조(510)에 설치된다. 그리고, 여과 유니트(520)는 챔버(522)의 일측에 결합되어 여과조(510)의 외측으로 연장되므로써, 캐비티(511) 외측에 설치되는 액추에이터와 접속되는 회동축(526)과, 이 회동축(526)의 반대측에서 챔버(522)의 타측에 결합되어 여과조(510)의 외측으로 연장되므로써, 챔버(522)의 여 과수로(521)와 연통되어 여과수의 배출 통로를 형성하는 배출축(524)을 갖는다.At this time, the
또한, 권취 유니트(530)는 여과조(510)의 캐비티(511)내에서 여과 유니트(520)의 챔버(522)와 대응되도록 배치되는 롤러(532)를 갖고, 이 롤러(532)로부터 외측으로 연장되는 회동축(534)을 통해 캐비티(511) 외측에 설치되는 액추에이터와 접속되어 전술한 여과 유니트(520)와 연동되어 회전되게 된다. In addition, the
이와 같은 구성을 갖는 가변형 여과장치(500)는 여과 유니트(520)의 챔버(522)에 감기는 여과포(501)의 감김 회수를 조절하여 여층두께를 변화시키므로써, 여과조(510)의 캐비티(511)내에 수용되는 유입수가 여과포(501)에 의해 여과되고, 챔버(522)의 여과수로(521)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 한다. The
이와 같이 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치(500)는 여과포(501)의 감김 회수를 조절므로써, 종래기술과 달리 여층두께의 변화를 통해 여과정도를 조절할 수 있도록 하여 처리해야 할 유입수의 수질 변동에 용이하게 대응하도록 하고, 여과시간을 증대시킬 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.As described above, the
그러나, 본 발명자가 제안한 선출원에 따른 기술은 챔버(522)와 롤러(532)를 연계시켜 구동시키므로써, 안정적으로 여층두께를 조절하는 점에 있어서 개선의 필요성이 있음을 알 수 있었다. 즉, 이와 같은 가변형 여과장치(10)는 롤러(532)에 감긴 여과포(501)를 챔버(522) 측으로 감기는 여과포(501)의 감김 회수에 따라 여층두께가 조절되도록 하므로, 챔버(522)와 롤러(532)에 감기는 여과포(501)의 두께가 서로 다르게 된다. 따라서, 챔버(522)와 롤러(532)는 필연적으로 서로 다른 회전반경을 가지게 되므로, 계속적으로 서로 다른 회전조건을 가지게 되는 것이다. 물론, 이와 같은 구동 조건은 일반적인 권취 구동 메커니즘에서 다양하게 활용되고 있는 서보모터를 활용한 스탭핑 자동제어, 특수 컨트롤러(대표적으로 엠에스테크노코리아에서 제공하는 MS SERVO를 적용할 수 있다)를 적용한 자동제어를 적용하여 구성할 수 있을 것이지만, 이와 같은 구동 메커니즘의 경우 상대적으로 비용이 높아 여과장치의 경쟁력을 확보하기 어려운 문제점이 있었다.However, the technique according to the present application proposed by the present inventors has been found that there is a need for improvement in stably adjusting the thickness of the stratum by driving the
또한, 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치(10)는 여재인 여과포(501)의 감김 회수를 정확하게 조절할 필요가 있는데, 이는 여과포(501)의 위치에 대한 정확한 검출이 이루어져야 함을 알 수 있었다.In addition, the
따라서 본 발명은 이와 같은 필요성을 충족시키기 위해 제안된 것으로, 여재의 감김 회수에 따라 여층두께의 조절을 통해 여과정도를 조절할 수 있도록 하는 여과장치에서 비교적 간단한 구동 메커니즘을 통해 정확한 여층두께의 조절이 가능하도록 하므로써, 안정적인 구동 메커니즘을 확보하는 동시에 여과장치의 가격 경쟁력을 확보할 수 있도록 하는 새로운 형태의 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Therefore, the present invention has been proposed to meet such a necessity, and it is possible to precisely adjust the thickness of the filtrate through a relatively simple driving mechanism in the filtration apparatus that can control the degree of filtration through the adjustment of the filtrate thickness according to the number of turns of the filtrate. It is an object of the present invention to provide a variable filtration device capable of adjusting a new layer thickness to secure a stable driving mechanism and secure a cost competitiveness of the filtration device.
또한, 본 발명은 여과공정이 이루어지는 챔버에 감기는 여재의 위치에 대한 정확한 검출을 통해 여재의 감김 회수를 정확하게 조절할 수 있도록 하고, 정전시 또는 유지보수시 여재의 위치를 자동으로 제어할 수 있도록 하는 새로운 형태의 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, the present invention to accurately control the number of winding of the media through the accurate detection of the position of the media wound in the chamber in which the filtration process is made, and to automatically control the position of the media during power failure or maintenance It is an object of the present invention to provide a variable filtration apparatus capable of adjusting the thickness of a new layer.
특히, 본 발명은 본 발명자가 대한민국 특허출원 출원번호 제10-2009-0079783호 "가변형 여과장치"를 통해 제안한 기술을 더욱 개선하여 여재의 감김 회수에 따른 여층두께의 조절을 위한 구동 메커니즘 및 여재의 위치를 검출하기 위한 검출 메커니즘을 비교적 간단하게 구성할 수 있도록 하고 안정적인 작동을 통해 여층두께를 조절할 수 있도록 할 수 있는 새로운 형태의 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. In particular, the present invention further improves the technique proposed by the inventor through the Republic of Korea Patent Application No. 10-2009-0079783 "variable filtration device" to the drive mechanism and the media for the adjustment of the thickness of the media layer according to the number of turns of the media It is an object of the present invention to provide a variable filtration device capable of adjusting the thickness of a layer, which enables a relatively simple configuration of a detection mechanism for detecting a position, and to control the layer thickness through stable operation.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 본 발명은 유입수가 수용되는 캐비티(21)를 형성하는 여과조(20)와; 내부의 여과수로(31)가 외부와 연통되도록 하는 여과홀(33)이 둘레로 형성되는 챔버(32)를 갖고, 상기 챔버(32)가 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에 위치되도록 설치되되, 상기 챔버(32)가 회동가능하도록 상기 여과조(20)에 설치되는 여과 유니트(30)와; 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에서 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32)와 대응되도록 배치되는 롤러(52)를 갖고, 상기 롤러(52)가 회동가능하도록 상기 여과조(20)에 설치되는 권취 유니트(50)와; 일단이 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32)에 결합되고, 타단이 상기 권취 유니트(50)의 롤러(52)에 결합되며, 상기 롤러(52)에 정해진 길이로 감긴 상태에서 상기 챔버(32)와 롤러(52)의 회전에 의해 상기 챔버(32)에 감기고 풀리는 여재(1)와; 상기 캐비티(21)의 외부에서 상기 여과 유니트(30)와 권취 유니트(50) 중 어느 하나와 접속되므로써, 상기 챔버(32) 또는 롤러(52)를 정역방향으로 회전시키기 위한 구동력을 부여하는 모터 유니트(40)와; 상기 캐비티(21)의 외부에서 상기 모터 유니트(40)가 결합되지 않는 나머지 하나와 접속되므로써, 상기 모터 유니트(40)로부터 구동력을 부여받지 않는 상기 챔버(32) 또는 롤러(52) 중 하나가 상기 여재(1)를 감는 방향으로 회동되도록 하는 탄성력이 부여되도록 하는 태엽 스프링 유니트(60) 및; 상기 모터 유니트(40)를 제어하기 위한 제어부(150)를 포함하여; 상기 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 상기 여재(1)가 상기 권취 유니트(50)의 롤러(52)와 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32) 중 어느 하나에 감기는 힘이 작용되도록 한 상태에서 상기 모터 유니트(40)에 의해 나머지 하나에 감기거나 풀리도록 하므로써, 상기 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 상기 여재(1)에 의해 여과되고, 상기 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 한다. According to a feature of the present invention for achieving the above object, the present invention includes a
이와 같은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 상기 여재(1)가 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32)에 감기는 회수를 검출하기 위한 회전 카운팅 모듈(80)과, 상기 여재(1)가 상기 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 상기 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하기 위한 위치 카운팅 모듈(90)로 이루어져 상기 여재(1)의 제어 위치를 검출하기 위한 검출 유니트(70)를 더 구비할 수 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 본 발명은 유입수가 수용되는 캐비티(21)를 형성하는 여과조(20)와; 내부의 여과수로(31)가 외부와 연통되도록 하는 여과홀(33)이 둘레로 형성되는 챔버(32)를 갖고, 상기 챔버(32)가 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에 위치되도록 설치되되, 상기 챔버(32)가 회동가능하도록 상기 여과조(20)에 설치되는 여과 유니트(30)와; 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에서 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32)와 대응되도록 배치되는 롤러(52)를 갖고, 상기 롤러(52)가 회동가능하도록 상기 여과조(20)에 설치되는 권취 유니트(50)와; 일단이 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32)에 결합되고, 타단이 상기 권취 유니트(50)의 롤러(52)에 결합되며, 상기 롤러(52)에 정해진 길이로 감긴 상태에서 상기 챔버(32)와 롤러(52)의 회전에 의해 상기 챔버(32)에 감기고 풀리는 여재(1)와; 상기 여재(1)의 회전 회수를 검출하기 위한 회전 카운팅 모듈(80)과, 상기 여재(1)가 상기 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 상기 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하기 위한 위치 카운팅 모듈(90)로 이루어져 상기 여재(1)의 감김 위치를 검출하기 위한 검출 유니트(70) 및; 상기 검출 유니트(70)로부터 입력되는 검출신호로 상기 여재(1)의 이동을 제어하기 위한 제어부(150)를 포함하여; 상기 검출 유니트(70)의 위치 카운팅 모듈(90)로 챔버(32)와 롤러(52)에 대한 상기 여재(1)의 상기 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 상기 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하고, 상기 회전 카운팅 모듈(80)로 상기 챔버(32)에 감기는 상기 여재(1)의 감김 회수를 검출하므로써, 상기 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 상기 여재(1)에 의해 여과되고, 상기 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 한다. According to another feature of the present invention for achieving the above object, the present invention includes a
이와 같은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 상기 캐비티(21)의 외부에서 상기 여과 유니트(30)와 권취 유니트(50) 중 어느 하나와 접속되므로써, 상기 챔버(32) 또는 롤러(52)를 정역방향으로 회전시키기 위한 구동력을 부여하는 모터 유니트(40) 및; 상기 캐비티(21)의 외부에서 상기 모터 유니트(40)가 결합되지 않는 나머지 하나와 접속되므로써, 상기 모터 유니트(40)로부터 구동력을 부여받지 않는 상기 챔버(32) 또는 롤러(52) 중 하나가 상기 여재(1)를 감는 방향으로 회동되도록 하는 탄성력이 부여되도록 하는 태엽 스프링 유니트(60)을 더 포함하여; 상기 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 상기 여재(1)가 상기 권취 유니트(50)의 롤러(52)와 상기 여과 유니트(30)의 챔버(32) 중 어느 하나에 감기는 힘이 작용되도록 한 상태에서 상기 모터 유니트(40)에 의해 나머지 하나에 감기거나 풀리도록 하므로써, 상기 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 상기 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 상기 여재(1)에 의해 여과되고, 상기 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 할 수 있다. The
본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에 의하면, 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 여재(1)가 권취 유니트(50)의 롤러(52)와 여과 유니트(30)의 챔버(32) 중 어느 하나에 감기는 힘이 작용되도록 한 상태에서 모터 유니트(40)에 의해 다른 하나에 감기거나 풀리도록 하므로, 스탭핑 자동제어나 특수 컨트롤러를 적용한 자동제어를 적용한 구동 메커니즘의 경우보다 비교적 간단한 구성을 통해 안정적이고 정확한 여층두께의 조절이 가능하도록 하여 여과장치의 가격 경쟁력을 확보할 수 있는 장점이 있다. 또한, 검출 유니트(70)의 위치 카운팅 모듈(90)로 챔버(32)와 롤러(52)에 대한 여재(1)의 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하고, 회전 카운팅 모듈(80)로 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 회수를 검출하므로써, 챔버에 감기는 여재의 위치에 대한 정확한 검출을 통해 여재의 감김 회수를 정확하게 조절할 수 있고, 정전, 유지보수에 따른 여재의 위치변화에도 효과적으로 대응하여 여재의 위치를 자동으로 제어할 수 있다. 또한, 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치와 동일하게 다양한 환경에서 적절한 수처리가 가능하도록 이미 다양한 종류가 제공되고 있는 여과포를 여재로 사용하고, 여과수를 형성하는 챔버에 여과포가 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 제어할 수 있도록 하므로써, 유입수의 수질이 변동되는 경우에도 목적하는 수질과 수량을 쉽게 조절할 수 있고, 여과장치에서 가장 문제되는 역세척을 다양한 방법으로 실시할 수 있으므로, 부유물질로 인한 여과효율을 저하를 효과적으로 방지할 수 있다.According to the variable filtration apparatus which can adjust the thickness of the filter bed according to the present invention, the filter medium (1) is wound by the spring spring unit (60) and the roller (52) of the winding unit (50) and the chamber (32) of the filtration unit (30). Since the force to be applied to any one of the
도 2는 본 발명의 기술적 사상에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치의 구동을 위한 구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 3은 본 발명의 기술적 사상에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 여과포 위치제어를 위한 구성을 설명하기 위한 도면이다. Figure 2 is a view for explaining the configuration for driving the variable filtration apparatus that can control the filter bed thickness according to the technical idea of the present invention, Figure 3 is a variable filter device capable of adjusting the filter bed thickness according to the technical idea of the present invention. Figure is a view for explaining the configuration for the filter cloth position control.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 여재(1), 여과조(20), 여과 유니트(30), 권취 유니트(50), 모터 유니트(40), 태엽 스프링 유니트(60) 및 제어부(150)를 구비하여, 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 여재(1)가 권취 유니트(50)의 롤러(52)와 여과 유니트(30)의 챔버(32) 중 어느 하나에 감기는 힘이 작용되도록 한 상태에서 모터 유니트(40)에 의해 나머지 하나에 감기거나 풀리도록 하므로써, 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 여재(1)에 의해 여과되고, 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 하는 것을 특징으로 한다. Referring to FIG. 2, the
또한, 도 3에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 여재(1), 여과조(20), 여과 유니트(30), 권취 유니트(50) 및 제어부(150)의 기본 구성에 회전 카운팅 모듈(80)과 위치 카운팅 모듈(90)로 이루어지는 검출 유니트(70)를 구비하여, 위치 카운팅 모듈(90)로 챔버(32)와 롤러(52)에 대한 여재(1)의 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하고, 회전 카운팅 모듈(80)로 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 회수를 검출하므로써, 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 여재(1)에 의해 여과되고, 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 하는 것을 특징으로 한다. In addition, as shown in Figure 3, the
이와 같은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 본 발명자가 제안한 선출원{대한민국 특허출원 출원번호 제10-2009-0079783호 "가변형 여과장치"}을 개선하여 이루어진 것으로, 스탭핑 자동제어나 특수 컨트롤러를 적용한 자동제어를 적용한 구동 메커니즘의 경우보다 비교적 간단한 구성을 통해 안정적이고 정확한 여층두께의 조절이 가능하도록 하여 여과장치의 가격 경쟁력을 확보할 수 있도록 하고, 챔버에 감기는 여재의 위치에 대한 정확한 검출을 통해 여재의 감김 회수를 정확하게 조절할 수 있도록 하며, 정전, 유지보수에 따른 여재의 위치변화에도 효과적으로 대응하여 여재의 위치를 자동으로 제어할 수 있도록 한다. Such a
이와 같은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 모터 유니트(40)와 태엽 스프링 유니트(60)를 적용하는 구동 메커니즘과, 회전 카운팅 모듈(80)과 위치 카운팅 모듈(90)로 이루어지는 검출 유니트(70)는 본 발명의 바람직한 실시예와 같이 함께 적용되는 것이 바람직하지만, 이들은 서로 다른 종류와 별개로 결합되어 적용될 수도 있는 것이다. The drive mechanism for applying the
한편, 본 발명에서 여재(1)는 일단이 여과 유니트(30)의 챔버(32)에 결합되고, 타단이 권취 유니트(50)의 롤러(52)에 결합되며, 롤러(52)에 정해진 길이로 감긴 상태에서 챔버(32)와 롤러(52)의 회전에 의해 챔버(32)에 감기고 풀린다. 이와 같은 여재(1)는 이미 다양한 환경에서 적절한 수처리가 가능하도록 제공되고 있는 다양한 종류의 여과포를 사용할 수 있는 것이다. 예컨대, 대한민국 등록특허공보 등록번호 제10-0227126호 "전도성 여과포 제조방법", 공개특허공보 공개번호 특2001-0000801호 "화섬사를 이용한 고밀도 여과포", 공개특허공보 공개번호 제10-2004-0056938호 "슬러지 전기탈수용 여과포 제조방법" 및 등록번호 제10-0824214호 "고압축 성형용 여과포" 등을 통해 다양한 여과포가 제안되고 있는데, 본 발명은 이와 같이 다양하게 제공되고 있는 여과포를 사용자 또는 설계자의 필요에 따라 선택적으로 적용할 수 있는 것이다. 그리고, 본 발명에서 여재(1)는 섬유사(이때, 섬유사는 그 재질에 국한되지 않는다)를 여과포의 형태로 사용하는 형태를 지칭하는 것으로, 일정한 구조로 직조된 형태뿐만아니라 섬유사를 조밀하게 나열한 다양한 형태가 적용될 수 있는 것이다. On the other hand, in the present invention, one end of the filter medium (1) is coupled to the
좀 더 구체적으로 보면, 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 여과조(20)는 유입수가 수용되는 캐비티(21)를 형성한다. 그리고, 여과 유니트(30)는 내부의 여과수로(31)가 외부와 연통되도록 하는 여과홀(33)이 둘레로 형성되는 챔버(32)를 갖는다. 이와 같은 여과 유니트(30)는 챔버(32)가 여과조(20)의 캐비티(21)내에 위치되도록 설치되어 외부의 모터 유니트(40)에서 발생되는 구동력에 의해 챔버(32)가 정해진 방향으로 회동가능하게 된다. 그리고, 권취 유니트(50)는 여과조(20)의 캐비티(21)내에서 여과 유니트(30)의 챔버(32)와 대응되도록 배치되는 롤러(52)를 갖고, 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 발생되는 외부의 구동력{즉, 여재(1)를 감는 방향으로 회동되도록 하는 탄성력(복원력)}에 의해 롤러(52)가 정해진 방향으로 회동가능하도록 여과조(20)에 설치된다. 물론, 모터 유니트(40)와 태엽 스프링 유니트(60)는 여과 유니트(30)와 권취 유니트(50)에 선택적으로 접속되도록 할 수 있다. 즉, 본 발명에서는 비교적 넓은 여과유효면적을 확보하기 위해 상대적으로 큰 직경을 갖도록 형성되는 여과 유니트(30)에 모터 유니트(40)를 접속시키고 권취 유니트(50)에 태엽 스프링 유니트(60)를 접속시켜 구성되는 형태를 보였지만, 필요에 따라서는 권취 유니트(50)에 모터 유니트(40)를 접속시키고, 여과 유니트(30)에 태엽 스프링 유니트(60)를 접속시켜 구성할 수 있는 것이다. More specifically, in the
이와 같은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 모터 유니트(40)는 캐비티(21)의 외부에서 여과 유니트(30)와 권취 유니트(50) 중 어느 하나와 접속되므로써, 챔버(32) 또는 롤러(52)를 정역방향으로 회전{도 2에서는 여과 유니트(30)에 접속되어 챔버(32)를 회전시키는 형태를 보이고 있다}시키기 위한 구동력을 부여한다. 그리고, 태엽 스프링 유니트(60)는 캐비티(21)의 외부에서 모터 유니트(40)가 결합되지 않는 나머지 하나와 접속되므로써, 모터 유니트(40)로부터 구동력을 부여받지 않는 챔버(32) 또는 롤러(52) 중 하나{도 2에서는 권취 유니트(50)에 접속되어 롤러(52)에 탄성력이 부여되도록 하는 형태를 보이고 있다}가 여재(1)를 감는 방향으로 회동되도록 하는 탄성력이 부여되도록 한다. In the
본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 모터 유니트(40)와 태엽 스프링 유니트(60)는 여과조(20)의 외측에 설치되어 여과 유니트(30)와 권취 유니트(50)에 접속되지만, 필요에 따라서 여과조(20)에서 캐비티(21)와 분리되는 공간(통상 이와 같은 공간을 서비스 공간이라 한다)을 형성하고, 이 서비스 공간에 설치하여 구성할 수 있는 것이다. 그리고, 여과 유니트(30) 와 권취 유니트(50)는 여과조(20)에 설치됨에 있어서 각종 베어링 등에 의해 지지되어 회동가능하게 되고, 메카니칼씰(Mechanical Seal) 등을 적용하여 수밀구조(Sealing)를 갖도록 설치될 것이다. 물론, 이와 같은 여과 유니트(30)와 권취 유니트(50)의 회동지지구조 및 수밀구조는 이 분야의 종사자가 관련 기술로부터 용이하게 적용할 수 있는 것이므로, 상세한 설명은 생략한다. In the
한편, 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 검출 유니트(70)의 위치 카운팅 모듈(90)로 챔버(32)와 롤러(52)에 대한 여재(1)의 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하고, 회전 카운팅 모듈(80)로 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 회수를 검출하므로써, 챔버에 감기는 여재의 위치에 대한 정확한 검출을 통해 여재의 감김 회수를 정확하게 조절할 수 있고, 정전, 유지보수에 따른 여재의 위치변화에도 효과적으로 대응하여 여재의 위치를 자동으로 제어할 수 있도록 한다. 이때, 검출 유니트(70)의 회전 카운팅 모듈(80)은 여재(1)의 회전 회수를 검출하고, 위치 카운팅 모듈(90)은 여재(1)의 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하기 위한 위치 카운팅 모듈(90)로 이루어져 여재(1)의 감김 위치를 검출한다. 그리고, 제어부(150)는 검출 유니트(70)로부터 입력되는 검출신호로 여재(1)의 이동을 제어하게 된다. 예컨대, 도 3에서 보는 바와 같이, 회전 카운팅 모듈(80)은 챔버(32)의 구동을 위해 여과조(20)의 외측으로 연장되는 회동축(36)에 결합되는 회전판(82)에 핀(84)을 설치하여, 핀(84)을 센서(86)를 통해 검출하도록 하므로써, 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 수를 검출하도록 한다. 그리고, 위치 카운팅 모듈(90)은 챔버(32)의 구동을 위해 여과조(20)의 외측으로 연장되는 회동축(36)에 구동 스프로킷(92)을 결합시키고, 이로부터 일정한 거리{챔버(32)의 외경에 대한 구동 스프로킷(92)의 회전반경의 비에 따라 임의 설정된다}에 회동가능하도록 피동 스프로킷(94)을 설치하고, 구동 스프로킷(92)과 피동 스프로킷(94)을 체인(96)으로 접속시키며, 이 체인(96)에 고정되어 이동되는 핀(98)을 결합시키고, 여재(1)가 챔버(32)에 최대 감긴 위치와 롤러(52)에 최대 감긴 위치와 대응되도록 챔버(32)측의 최대 감김 위치에 오는 것을 검출하도록 하는 센서(100)와 롤러(52)측의 최대 감김 위치에 오는 것을 검출하도록 하는 센서(110)를 설치하여 이루어진다. On the other hand, the
이와 같은 회전 카운팅 모듈(80)과 위치 카운팅 모듈(90)에 의해 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 위치 카운팅 모듈(90)과 회전 카운팅 모듈(80)을 조합하여 여재(1)의 위치 및 감김 회수를 검출하게 된다. 예컨대, 여과공정 중 임의의 사고로 인해 정전이 이루어진 후, 전원이 재공급되었을 때, 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 초기화(재세팅)를 실시할 수 있도록 하는데, 이 경우 롤러(52)측의 최대 감김 위치를 검출하도록 하는 센서(110)에서 핀(98)이 검출될 때까지 여재(1)가 롤러(52)에 감기도록 한 후{물론, 이와 같은 과정은 모터 유니트(40)를 역회전시키므로써 태엽 스프링 유니트(60)의 복원력에 의해 여재(1)가 롤러(52)에 감기므로써 이루어진다}, 회전 카운팅 모듈(80)의 센서(86)를 통해 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 회수를 검출하면서 설정된 감김 회수로 제어할 수 있는 것이다. 물론, 이와 같은 제어방법은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)를 사용하여 PLC 또는 컴퓨터 제어로 이루어지는 제어부(150)를 통해 다양한 방법이 적용될 수 있는 것이다. The
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면 도 4 내지 도 9에 의거하여 상세히 설명하고, 도 2 내지 도 9에서 있어서 동일한 기술적 요소에는 동일한 참조번호를 부여한다. 한편 각 도면에서 일반적인 여과장치로부터 통상 이 분야의 관련 기술로부터 용이하게 알 수 있는 구성과 그에 대한 작용 및 효과에 대한 도시 및 상세한 설명은 간략히 하거나 생략하고 본 발명과 관련된 부분들을 중심으로 도시하였다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 9, and like reference numerals refer to like elements in FIGS. 2 to 9. Meanwhile, the drawings and detailed descriptions of configurations and operations and effects thereof which can be easily understood from related art in the art from general filtration apparatus in each drawing are briefly or omitted, and are shown based on parts related to the present invention.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 정면의 좌측 방향에서 보여주는 사시도이고, 도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 후면의 좌측 방향에서 보여주는 사시도이며, 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 평면에서 보여주는 도면이다. Figure 4 is a perspective view showing a variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter bed according to a preferred embodiment of the present invention from the left side of the front, Figure 5 is a variable filter device capable of adjusting the thickness of the filter bed according to a preferred embodiment of the present invention Figure 6 is a perspective view showing the left side of the rear, Figure 6 is a plan view showing a variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter layer according to a preferred embodiment of the present invention.
도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 기본적으로 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치와 동일하게 여과포(12), 여과조(20), 여과 유니트(30), 권취 유니트(50)를 구비 하여, 여과 유니트(30)의 챔버(20)에 여재(1)를 감김 회수를 조절하므로써, 챔버(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 여재(1)에 의해 여과되고, 챔버(20)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 한다. 4 to 6, the
이와 같은 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 사각 박스 형태의 여과조(20)에 챔버(32)와 롤러(52)가 수평으로 배치된 형태를 보이고 있다. 물론, 이와 같은 배치구조는 필요에 따라 다양하게 설정할 수 있는 것이다. 예컨대, 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 원기둥 형태의 여과조(20)를 적용할 수도 있고, 챔버(32)와 롤러(52)를 수직으로 배치하여 구성할 수도 있는 것이다. In the
이와 같은 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 여과조(20)의 하부에 서비스 공간을 형성하는 프레임(12)을 구성하고, 이 프레임(12)상에 상판(14)을 받치고, 그 상판(14)상에 여과조(20)가 위치되도록 하여 구성된다. 프레임(12)의 하부 서비스 공간에는 제어부(150)인 제어반이 설치되는 공간이 마련되고, 역세척공정을 위한 세척수를 공급하기 위한 펌프(300)가 설치되며, 모터 유니트(40)의 모터(41)가 설치되고, 검출 유니트(70)에서 위치 카운팅 모듈(90)의 피동 스프로킷(94) 주변 구성이 설치되도록 하므로써, 이들이 전후방향으로 돌출되므로써 발생되는 장치가 비대화를 방지한다. The
본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 여과조(20)는 몸체(22)의 상부에 분리가능한 덮개(24)를 두어 추후 여재(1)의 교환 등의 유지보수시 캐비티(21) 내에 설치되는 구성요소를 점검할 수 있도록 한다. 그리고, 여과 유니트(30)의 회동축(36)과 권취 유니트(50)의 회동축(56)은 모터 유니트(40), 태엽 스프링 유니트(60) 및, 검출 유니트(70)와의 접속을 위해 여과조(20)의 몸체(22)의 일측으로 연장되어 설치된다. 그리고, 통상 태엽 스프링(61, '릴 스프링'이라 하기도 한다)은, 도 7에서 보는 바와 같이, 필요한 힘(탄성력, 복원력)을 갖도록 하중설계가 이루어져 공급되는데, 이는 4에서 보는 바와 같이, 케이스(68)와 커버(74)에 의해 지지되도록 하여 상판(14)상에 설치된다. 그리고, 태엽 스프링 유니트(60)는 태엽 스프링(61)이 결합되는 외측에 마찮가지로 롤러(52)의 회동축(56)에 결합되는 수동 회전판(76)을 두어 추후 유지보수시 작업자가 롤러(52)를 회전시킬 수 있도록 한다. 그리고, 사용의 편의를 위해 검출 유니트(80)의 각 센서(86, 100, 110)들은 그 위치를 조절할 수 있도록 형성되는 플레이트(88, 102, 112)에 의해 지지되도록 한다. In the
이와 같은 본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 여과조(20)에는 여과 유니트(30) 및 권취 유니트(50)를 지지하기 위한 플랜지(200, 210), 유입수가 공급되도록 하기 위한 배관(220), 여과수가 외부로 배출되도록 하기 위한 배관(230), 각 배관의 유량 및 흐름을 제어하기 위한 밸브(도시 않음), 역세척을 위해 분사 노즐(302)이 결합된 배관(300)으로 역세수가 공급되도록 하기 위한 역세척수 공급관(240), 역세척시 역세수가 외부로 배출되도록 하기 위한 배관(250) 등이 다양한 구성이 설치된다. 물론, 이와 같은 구성은 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치뿐만아니라 일반적인 하폐수처리분야의 관련기술로부터 용이하게 알 수 있는 부분이므로 상세한 설명은 생략한다. In the
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치의 구동과 위치제어를 위한 구성을 상세히 설명하기 위한 사시도이다. 그리고, 도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 구동 작용을 설명하기 위한 도면이고, 도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 여과포 위치제어 작용을 설명하기 위한 도면이다. Figure 7 is a perspective view for explaining in detail the configuration for the drive and position control of the variable filtration apparatus capable of adjusting the thickness of the filter layer according to a preferred embodiment of the present invention. And, Figure 8 is a view for explaining the driving action in the variable filtration apparatus capable of adjusting the thickness of the filter bed according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 9 is a variable type capable of adjusting the filter bed thickness according to a preferred embodiment of the present invention It is a figure for demonstrating a filter cloth position control action in a filtration apparatus.
도 7을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 모터 유니트(40), 태엽 스프링 유니트(60), 회전 카운팅 모듈(80)과 위치 카운팅 모듈(90)로 이루어지는 검출 유니트(70) 및, 제어부(150)를 구비하여, 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 여재(1)가 권취 유니트(50)의 롤러(52)와 여과 유니트(30)의 챔버(32) 중 어느 하나에 감기는 힘이 작용되도록 한 상태에서 모터 유니트(40)에 의해 나머지 하나에 감기거나 풀리도록 하고, 위치 카운팅 모듈(90)로 챔버(32)와 롤러(52)에 대한 여재(1)의 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하고, 회전 카운팅 모듈(80)로 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 회수를 검출하므로써, 챔버(32)에 감기는 회수의 조절을 통해 여층두께를 조절하여 여과조(20)의 캐비티(21)내에 수용되는 유입수가 여재(1)에 의해 여과되고, 챔버(32)의 여과수로(31)로 수용된 여과수가 외부로 배출되도록 하는 것을 특징으로 한다. Referring to FIG. 7, the
좀 더 구체적으로 보면, 본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)에서 모터 유니트(40)는 여과 유니트(30)와 접속되므로써 여과 유니트(30)의 챔버(32)를 정역방향으로 회전시키기 위한 구동력을 부여한다. 이와 같은 모터 유니트(40)는 모터(41), 이 모터(41)의 구동축에 결합되는 구동 스프로킷(42), 체인(44) 및 여과 유니트(30)의 회동축(36)에 결합되는 피동 스프로킷(46)으로 이루어진다. 이때, 모터(41)는 브레이크 기능을 갖도록 하여, 지속적으로 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 롤러(52)로 복원력을 받고 있는 여재(1)의 위치를 고정시킬 수 있도록 한다. More specifically, in the
본 실시예에서 태엽 스프링 유니트(60)는 권취 유니트(50)와 접속되므로써 권취 유니트(50)의 롤러(52)가 여재(1)를 감는 방향으로 회동되도록 하는 구동력(즉 복원력)을 부여받도록 한다. 이와 같은 태엽 스프링 유니트(60)는 태엽 스프링(61), 고정링(66) 및 케이스(68, 도 8 참조)를 구비하여 이루어진다. 이때, 고정링(66)은 권취 유니트(50)의 회동축(56)에 결합되어 고정되고, 태엽 스프링(61)은 고정링(66)에 형성된 걸림홈(67)에 내측 끝단(62)이 삽입되어 결합되어 여재(1)가 감기는 방향으로 회동축(56)의 회전방향으로 감기도록 한다. 그리고, 태엽 스 프링(61)의 외측 끝단(64)은 케이스(68)에 고정된다. In this embodiment, the self-winding
이와 같은 모터 유니트(40)와 태엽 스프링 유니트(60)에 의해 본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는, 도 8에서 보는 바와 같이, 모터 유니트(40)의 모터(41)를 구동시켜 여재(1)를 챔버(32)에 감는 경우, 모터(41)의 구동력에 의해 여재(1)가 챔버(32)에 감기게 되지만, 이때 태엽 스프링 유니트(60)는 여재(1)가 롤러(52)로 감기도록 하는 구동력(복원력)을 계속 부여하고 있게 되고, 모터(41)가 역회전되는 경우{즉, 여재(1)를 챔버(32)로부터 풀리게 하는 회전}에 태엽 스프링(61)의 구동력에 의해 여재(1)가 롤러(52)로 감기게 된다. 물론, 이를 위해 태엽 스프링(61)은 챔버(32)에 감긴 여재(1)가 롤러(52)로 감기도록 하는 하중과 대응되도록 설계되어야 하고, 모터(41)는 이 하중보다 큰 구동력을 발생하도록 설계된다. As described above with reference to FIG. 8, the
도 7 및 도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)의 검출 유니트(70)의 회전 카운팅 모듈(80)은 챔버(32)의 회전수를 검출하기 위해 챔버(32)의 회동축(36)에 결합되는 회전판(82)에 핀(84)을 설치하고, 이 핀(84)을 센서(86)를 통해 검출하도록 하므로써, 챔버(32)에 감기는 여재(1)의 감김 수를 검출하도록 한다. 물론, 센서(86)는 위치 조절이 가능한 브라켓(88)에 지지되도록 하여 필요시 그 위치를 조절할 수 있도록 한다. 그리고, 위치 카운팅 모듈(90)은 챔버(32)의 회동축(36)에 구동 스프로킷(92)을 결합시키고, 이로부터 일정한 거리에 그 위치 조절이 가능하도록 설치되는 브라켓(93)에 회동가능하도록 피동 스프로킷(94)을 설치하여, 이 구동 스프로킷(92)과 피동 스프로킷(94)을 체인(96)으로 접속시킨다. 이때, 체인(96)에는 체인(96)을 따라 이동되는 핀(98)이 고정되는데, 이 핀(98)은 필요에 따라 그 위치를 조절할 수 있도록 한다. 그리고, 이 체인(96)의 이동경로에는 여재(1)가 챔버(32)에 최대 감긴 위치와 롤러(52)에 최대 감긴 위치와 대응되도록 챔버(32)측의 최대 감김 위치를 검출하도록 하는 센서(100)와 롤러(52)측의 최대 감김 위치를 검출하도록 하는 센서(110)를 설치한다. 물론, 위 두 센서(100, 110)는 그 위치 조절이 가능한 브라켓(102, 112)에 지지된다. 7 and 9, the
이와 같은 검출 유니트(70)에 의해 본 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는, 도 9에서 보는 바와 같이, 여재(1)가 챔버(32)측에 최대 감긴 위치에 오는 것 및 롤러(52)에 최대 감긴 위치에 오는 것을 검출하므로써, 제어부(150)를 통해 검출 유니트(70)로부터 입력되는 검출신호로 여재(1)의 이동을 제어하게 된다. 즉, 도 9의 (a)에서 보는 바와 같이, 여재(1)가 롤러(52)에 완전히 감김 상태를 초기 세팅 위치로 설정하는 경우, 챔버(32)의 회전수를 검출하기 위한 회전 카운팅 모듈(80)의 센서(86)는 핀(84)을 검출하는 위치에 설정되고, 여재(1)의 위치를 나타내는 위치 카운팅 모듈(90)의 핀(98)은 롤러(52)측의 최대 감긴 위치를 검출하는 센서(110)에 검출되는 위치에 설정된다. 이와 같은 상태에서 공정시 여재(1)가 챔버(32)에 최대 감겼을 때 제어를 위해 설정한 최종 감김 위치를 도 9의 (b)에서 보는 바와 같이 설정하였다면, 제어부(150)는 위치 카운팅 카운팅 모듈(90)의 핀(98)이 챔버(32)측의 최대 감김 위치를 검출하도록 하는 센서(100)에 검출되었을 때 모터(41)의 작동을 중지하게 된다. As shown in FIG. 9, in the
이와 같은 본 발명에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치(10)는 위치 카운팅 모듈(90)과 회전 카운팅 모듈(80)을 조합하여 여재(1)의 위치 및 감김 회수를 검출하게 된다. As described above, the
상술한 바와 같은, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경가능하다는 것을 이 분야의 통상적인 기술자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. As described above, the variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter according to a preferred embodiment of the present invention has been shown in accordance with the above description and drawings, but this is only an example and is not limited to the scope of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope.
도 1은 본 발명자가 선출원을 통해 제안한 가변형 여과장치를 설명하기 위한 도면;1 is a view for explaining a variable filtration device proposed by the inventor through the prior application;
도 2는 본 발명의 기술적 사상에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치의 구동을 위한 구성을 설명하기 위한 도면;2 is a view for explaining a configuration for driving the variable filtration apparatus capable of adjusting the thickness of the filter bed according to the technical idea of the present invention;
도 3은 본 발명의 기술적 사상에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 여과포 위치제어를 위한 구성을 설명하기 위한 도면;3 is a view for explaining the configuration for the filter cloth position control in the variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter bed according to the technical idea of the present invention;
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 정면의 좌측 방향에서 보여주는 사시도;Figure 4 is a perspective view showing a variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter bed according to a preferred embodiment of the present invention from the left side of the front;
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 후면의 좌측 방향에서 보여주는 사시도;Figure 5 is a perspective view showing a variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter bed according to an embodiment of the present invention from the left side of the rear;
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치를 평면에서 보여주는 도면;Figure 6 is a plan view showing a variable filtration device capable of adjusting the thickness of the filter bed according to a preferred embodiment of the present invention;
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치의 구동과 위치제어를 위한 구성을 상세히 설명하기 위한 사시도;7 is a perspective view for explaining in detail the configuration for the drive and position control of the variable filter device capable of adjusting the thickness of the filter layer according to a preferred embodiment of the present invention;
도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 구동 작용을 설명하기 위한 도면;8 is a view for explaining the driving action in the variable filtration apparatus capable of adjusting the thickness of the filter bed according to a preferred embodiment of the present invention;
도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 여층두께의 조절이 가능한 가변형 여과장치에서 여과포 위치제어 작용을 설명하기 위한 도면이다. 9 is a view for explaining the filter cloth position control action in the variable filtration apparatus capable of adjusting the filter bed thickness according to a preferred embodiment of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1 : 여재1: Media
10 : (여층두께의 조절이 가능한) 가변형 여과장치10: variable filter device (adjustable thickness of layer)
20 : 여과조 21 : 캐비티20: filtration tank 21: cavity
30 : 여과 유니트 31 : 여과수로30: filtration unit 31: filtered water
32 : 챔버 33 : 여과홀32: chamber 33: filtration hole
40 : 모터 유니트 50 : 권취 유니트40: motor unit 50: winding unit
60 : 태엽 스프링 유니트 70 : 검출 유니트60: spring spring unit 70: detection unit
80 : 감김 카운팅 모듈 90 : 위치 카운팅 모듈80: winding counting module 90: position counting module
150 : 제어부150: control unit
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