KR101166001B1 - Metal-containing fine particle, liquid dispersion of metal-containing fine particle, and conductive metal-containing material - Google Patents

Metal-containing fine particle, liquid dispersion of metal-containing fine particle, and conductive metal-containing material Download PDF

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Abstract

본 발명은 저온의 소성으로도 기화 가능한 분산제에 의해서 표면 피복된 양호한 분산 안정성을 갖는 금속 함유 미립자, 그 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액 및 그 미립자 분산액을 사용하여 형성되는 체적 저항률이 우수한 도전성 금속 함유 재료를 제공한다. The present invention relates to a metal-containing fine particle having good dispersion stability surface-coated by a dispersant vaporizable even at low temperature firing, a fine particle dispersion in which the metal-containing fine particles are dispersed, and a conductive metal containing excellent volume resistivity formed using the fine particle dispersion. Provide the material.

더 특별하게는, 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제에 의해 표면 피복된 금속 함유 미립자를 제공한다.More particularly, the metal-containing fine particles surface-coated with at least two dispersants having different vaporization temperatures are provided.

Description

금속 함유 미립자, 금속 함유 미립자 분산액 및 도전성 금속 함유 재료 {METAL-CONTAINING FINE PARTICLE, LIQUID DISPERSION OF METAL-CONTAINING FINE PARTICLE, AND CONDUCTIVE METAL-CONTAINING MATERIAL}METAL-CONTAINING FINE PARTICLE, LIQUID DISPERSION OF METAL-CONTAINING FINE PARTICLE, AND CONDUCTIVE METAL-CONTAINING MATERIAL}

본 발명은, 금속 함유 미립자, 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액 및 미립자 분산액의 제조방법, 그리고 미립자 분산액에 의해 형성된 도전성 금속 함유 재료에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD This invention relates to the manufacturing method of the microparticles | fine-particles dispersion liquid, the microparticle dispersion liquid in which metal containing microparticles | fine-particles were disperse | distributed, and the microparticle dispersion liquid, and the electrically conductive metal containing material formed with the microparticle dispersion liquid.

최근, 금속 함유 미립자를 액 중에 분산시킨 미립자 분산액을 사용하여, 패턴을 형성하여 가열 처리 (이하, 단순히 「소성」 이라고도 한다) 함으로써, 금속 미립자끼리를 상호 소결시켜, 도전체를 형성하는 여러가지 방법이 검토되고 있다. 이 예로서는, 프린트 배선 등의 회로 패턴의 형성 및 수복, 반도체 패키지 내의 층간 배선의 형성, 프린트 배선판과 전자 부품의 접합 등을 잉크젯 인쇄법으로 형성하는 방법 (예를 들어, 특허문헌 1 참조), 종래의 납땜 방법을 대신하는 금속사이를 접합하는 방법 (예를 들어, 특허문헌 2 참조), 전자 재료 분야에서의 도금막과 대체 가능한 도전성 금속막을 형성하는 방법 (예를 들어, 특허문헌 3 참조) 등을 들 수 있다. In recent years, various methods of forming a conductor by mutually sintering metal fine particles by forming a pattern using a fine particle dispersion in which metal-containing fine particles are dispersed in a liquid and then heat-processing (hereinafter also referred to simply as "firing") It is considered. As an example, the method of forming and repairing circuit patterns, such as printed wiring, forming interlayer wiring in a semiconductor package, joining a printed wiring board and an electronic component, etc. by the inkjet printing method (for example, refer patent document 1), conventionally Method of joining metals instead of the soldering method (for example, refer to Patent Document 2), a method of forming a conductive film which can be replaced with a plated film in the field of electronic materials (see, for example, Patent Document 3), and the like. Can be mentioned.

상기 기술한 방법은, 종래부터 공지된 금속 입자의 표면 융해 현상이라는 성 질을 이용하고 있다 (예를 들어, 비특허문헌 1 참조). 일반적으로, 금속 입자의 표면 융해 현상은, 입자 표면 원자의 이상한 격자 진동에 의해서 일어나며, 입자 직경이 작고, 표면 원자 비율이 높으면 높을수록 표면 융해 온도가 저하되는 것이 알려져 있다. 예를 들어, 은의 경우, 벌크체의 융점은 970℃ 정도이지만, 직경 10㎚ 정도의 미립자 (콜로이드) 의 경우, 약 80℃ 부터 표면 융해가 발생하는 것이 알려져 있다. 이 표면 융해 현상은, 금속 입자의 입자 직경에 의존하고 있기 때문에, 입자끼리가 완전 고착하지 않는 한, 하나하나의 금속 미립자가 소정의 입자 직경을 가지고 있으면, 회합 상태이더라도 일어나는 현상이다. The above-mentioned method utilizes the property of surface melting phenomenon of the metal particle conventionally known (for example, refer nonpatent literature 1). In general, it is known that the surface melting phenomenon of metal particles is caused by abnormal lattice vibration of particle surface atoms, and the smaller the particle diameter and the higher the surface atom ratio, the lower the surface melting temperature. For example, in the case of silver, melting | fusing point of a bulk body is about 970 degreeC, but it is known that surface melting arises from about 80 degreeC in the case of microparticles (colloid) of about 10 nm in diameter. Since the surface fusion phenomenon depends on the particle diameter of the metal particles, unless the particles are completely fixed, the surface melting phenomenon occurs even if the metal particles have a predetermined particle diameter even in the associated state.

일반적으로, 금속 미립자를 액 중에 분산시키는 경우는, 응집을 방지하기 위해서 분산제가 사용된다. 여기서, 금속 미립자를 유기 용매 중에 양호하게 분산시키기 위해서는 그 미립자 표면에 큰 입체 장해를 형성할 필요가 있다. 그러나, 큰 입체 장해를 얻고자 하면, 분산제를 고분자화할 필요가 생기거나, 분산제의 첨가량을 많게 할 필요가 생기기도 한다. 또, 금속 미립자를 분산시킨 미립자 분산액을 사용하여 도전체를 형성하고자 하는 경우, 고분자화된 분산제를 이용하거나, 분산제의 첨가량을 많게 하면, 고온에서의 소성에 의하지 않으면 분산제를 제거할 수 없게 되어, 도전성이 얻어지기 어려워진다는 문제를 가지고 있다. Generally, in the case of dispersing the metal fine particles in a liquid, a dispersant is used to prevent aggregation. Here, in order to disperse | distribute metal microparticles | fine-particles favorably in an organic solvent, it is necessary to form a big three-dimensional obstacle on the surface of the microparticles | fine-particles. However, if a large steric hindrance is to be obtained, it is necessary to polymerize the dispersant or to increase the amount of the dispersant added. In addition, in the case of forming a conductor by using a fine particle dispersion in which metal fine particles are dispersed, if a polymerized dispersant is used or the addition amount of the dispersant is increased, the dispersant cannot be removed unless it is caused by baking at a high temperature. There is a problem that conductivity becomes difficult to be obtained.

또한, 프린트 배선판의 배선에 있어서의 기판이나 반도체 패키지 내의 배선에 있어서의 소자의 내열성의 문제점에서 소성 온도는 낮을수록 바람직한 것으로 되어 있다. Moreover, the lower the firing temperature is, the more preferable the problem is in the heat resistance of the element in the wiring of the printed wiring board and the wiring in the semiconductor package.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2002-324966호Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-324966

특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2002-126869호Patent Document 2: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-126869

특허문헌 3: 일본 공개특허공보 2002-334618호Patent Document 3: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-334618

비특허문헌 1 : 「저널 오브 졸겔사이언스 앤드 테크놀로지 (J.Sol-Gel Science and Technology)」, (네덜란드), 클루어 아카데믹 퍼블리셔즈 (Kluwer Academic Publishers), 2001년, 제 22 권, p.151-166[Non-Patent Document 1] J. Sol-Gel Science and Technology, The Netherlands, Kluwer Academic Publishers, 2001, 22, p.151- 166

발명의 개시DISCLOSURE OF INVENTION

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be solved by the invention

그래서, 본 발명은, 저온의 소성으로도 기화 가능한 분산제에 의해서 표면 피복된 양호한 분산 안정성을 갖는 금속 함유 미립자, 그 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액 및 그 미립자 분산액을 사용하여 형성되는 체적 저항률이 우수한 도전성 금속 함유 재료를 제공하는 것을 목적으로 한다. Therefore, the present invention is excellent in volume resistivity formed by using metal-containing fine particles having good dispersion stability coated with a dispersant vaporizable even at low temperature firing, a fine particle dispersion in which the metal-containing fine particles are dispersed, and the fine particle dispersion. It is an object to provide a conductive metal-containing material.

과제를 해결하기 위한 수단Means for solving the problem

본 발명자는, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자가, 양호한 분산 안정성을 갖고, 그 금속 함유 화합물이 분산된 미립자 분산액을 사용한 저온 (150 ~ 210℃) 의 소성에 의해 형성할 수 있는 도전성 금속 함유 재료가 체적 저항률이 우수한 것을 발견하고, 본 발명을 달성하는 것에 이르렀다. 즉, 본 발명은 하기의 요지를 갖는 것을 특징으로 한다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to achieve the said objective, the metal containing microparticles | fine-particles surface-coated with the at least 2 sort (s) of dispersing agent which differ in vaporization temperature have favorable dispersion stability, and used the microparticle dispersion which this metal-containing compound disperse | distributed. The electroconductive metal containing material which can be formed by baking at low temperature (150-210 degreeC) discovered that it was excellent in volume resistivity, and came to achieve this invention. That is, this invention has the following summary.

(1) 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제에 의해 표면 피복된 금속 함유 미립자 (제 1 양태). (1) Metal-containing fine particles (first aspect) surface-coated with at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures.

(2) 소정의 소성 온도에서의 소성에 사용되는 미립자 분산액에 분산되어 있는 금속 함유 미립자로서, (2) As metal-containing microparticles | fine-particles disperse | distributed to the microparticle dispersion liquid used for baking at predetermined | prescribed baking temperature,

상기 소성 온도 미만에서 기화되는 분산제와 상기 소성 온도 이상에서 기화되는 분산제로 표면 피복된 상기 (1) 에 기재된 금속 함유 미립자. Metal-containing microparticles | fine-particles as described in said (1) surface-coated with the dispersing agent vaporized below the said baking temperature, and the dispersing agent vaporized above the said baking temperature.

(3) 상기 (1) 또는 (2) 에 기재된 금속 함유 미립자가, 비수용성의 유기성 액체 중에 분산되어 있는 미립자 분산액 (제 2 양태). (3) A fine particle dispersion (second embodiment) in which the metal-containing fine particles described in the above (1) or (2) are dispersed in a water-insoluble organic liquid.

(4) 상기 (3) 에 기재된 미립자 분산액을 제조하는 제조방법으로서, (4) As a production method for producing the fine particle dispersion according to the above (3),

수용성의 금속 함유 화합물에 물을 첨가하여 금속 이온을 함유하는 수용액을 얻는 공정과, Adding water to a water-soluble metal-containing compound to obtain an aqueous solution containing metal ions,

상기 수용액에, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 첨가하는 공정과, Adding a water-insoluble organic liquid in which at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures are dissolved into the aqueous solution;

상기 유기성 액체 첨가 후에, 교반시키면서 환원제를 첨가함으로써, 상기 금속 이온을 환원하고, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자를 생성하는 공정을 구비하는 미립자 분산액의 제조방법 (제 3 양태). A method for producing a fine particle dispersion comprising the step of reducing the metal ions by adding a reducing agent while stirring the organic liquid and producing metal-containing fine particles surface-coated with at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures. Third aspect).

(5) 상기 (3) 에 기재된 미립자 분산액을 제조하는 제조방법으로서, (5) As a manufacturing method for producing the fine particle dispersion according to the above (3),

시트르산 이온 및 제 2 철 이온을 함유하는 수용액을 얻는 공정과, Obtaining an aqueous solution containing citrate ions and ferric ions,

상기 수용액에, 금, 은, 백금, 팔라듐, 텅스텐, 탄탈, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 티탄 및 알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 금속의 이온을 함유하는 수용액을, 교반시키면서 첨가함으로써, 그 금속 이온을 환원하고, 금속 함유 미립자를 얻는 공정과, By adding while stirring the aqueous solution containing the ion of 1 or more types of metals chosen from the group which consists of gold, silver, platinum, palladium, tungsten, tantalum, bismuth, lead, indium, tin, titanium, and aluminum, Reducing the metal ions to obtain metal-containing fine particles;

상기 금속 함유 미립자를 함유하는 액에, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 교반시키면서 첨가함으로써, 그 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자를 생성하는 공정을 구비하는 미립자 분산액의 제조방법. The metal containing surface-coated with the at least 2 type of dispersing agent from which the vaporization temperature differs by adding to the liquid containing the said metal containing microparticles, stirring, the water-insoluble organic liquid which melt | dissolved the at least 2 type of dispersing agent from which the said vaporization temperature differs, stirring. A method for producing a particulate dispersion comprising a step of producing particulates.

(6) 상기 (3) 에 기재된 미립자 분산액을 피도포물에 도포한 후, 상기 적어도 2 종의 분산제 중 가장 높은 기화 온도와 가장 낮은 기화 온도 사이의 온도에서 소성함으로써 형성되는 체적 저항률이 60μΩ㎝ 이하인 도전성 금속 함유 재료 (제 4 양태). (6) The volume resistivity formed by apply | coating the fine particle dispersion as described in said (3) to a to-be-coated object, and baking at the temperature between the highest vaporization temperature and the lowest vaporization temperature among the said at least 2 types of dispersing agents is 60 microohm-cm or less. Conductive metal-containing material (fourth aspect).

발명의 효과Effects of the Invention

이하에 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 저온의 소성으로도 기화 가능한 분산제에 의해서 표면 피복된 양호한 분산 안정성을 갖는 금속 함유 미립자, 그 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액 및 그 미립자 분산액을 사용하여 형성되는 체적 저항률이 우수한 도전성 금속 함유 재료를 제공할 수 있기 때문에 유용하다. As described below, according to the present invention, metal-containing fine particles having good dispersion stability surface-coated with a dispersant vaporizable even at low temperature firing, a fine particle dispersion in which the metal-containing fine particles are dispersed, and the fine particle dispersion are formed. It is useful because it is possible to provide a conductive metal-containing material with excellent volume resistivity.

특히, 본 발명의 제 2 양태에 관련된 미립자 분산액 (이하, 단순히 「본 발명의 미립자 분산액」 이라고도 한다) 을 잉크젯 인쇄법의 잉크로서 사용함으로써, 프린트 배선 등의 회로 패턴의 형성 및 수복, 반도체 패키지 내의 층간 배선의 형성, 프린트 배선판과 전자 부품의 접합이 저온에서 가능해지고, 형성되는 재료도 우수한 도전성을 갖는 점에서 매우 유용하다. In particular, by using the particulate dispersion according to the second aspect of the present invention (hereinafter, simply referred to as "microparticle dispersion of the present invention") as ink of the inkjet printing method, formation and repair of circuit patterns such as printed wiring, and the like in a semiconductor package Formation of interlayer wiring and bonding of a printed wiring board and an electronic component are possible at low temperatures, and the material formed is also very useful in that it has excellent conductivity.

발명을 실시하기Carrying out the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하에, 본 발명을 상세히 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 제 1 양태에 관련된 금속 함유 미립자 (이하, 단순히 「본 발명의 금속 함유 미립자」 라고도 한다) 는, 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제에 의해 표면 피복된 금속 함유 미립자이다. 구체적으로는, 소정의 소성 온도에서의 소성에 사용되는 미립자 분산액에 분산되어 있는 금속 함유 미립자로서, 그 소성 온도 미만에서 기화되는 분산제 (이하, 단순히 「제 1 분산제」 라고도 한다) 와 그 소성 온도 이상에서 기화되는 분산제 (이하, 단순히 「제 2 분산제」 라고도 한다) 로 표면 피복된 금속 함유 미립자가 바람직하게 예시된다. Metal-containing fine particles (hereinafter, also referred to simply as "metal-containing fine particles of the present invention") according to the first aspect of the present invention are metal-containing fine particles surface-coated with at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures. Specifically, as a metal-containing fine particle dispersed in the fine particle dispersion used for baking at a predetermined baking temperature, the dispersing agent vaporized below the baking temperature (henceforth simply called a "first dispersing agent"), and its baking temperature or more Metal-containing microparticles | fine-particles surface-coated by the dispersing agent (henceforth simply a "2nd dispersing agent") vaporized in the above are preferable.

여기서, 「소성 온도」 란, 후술하는 본 발명의 제 4 양태에 관련된 도전성 금속 함유 재료 (이하, 단순히 「본 발명의 도전성 금속 함유 재료」 라고도 한다) 를 형성할 때의 소성, 구체적으로는, 본 발명의 미립자 분산액을 피도포물에 도포한 후에 소성할 때의 온도를 말하고, 소정의 범위로 임의 설정하는 것이 가능하다. 상기 기술한 바와 같이, 프린트 배선판의 배선에 있어서의 기판이나 반도체 패키지 내의 배선에 있어서의 소자의 내열성의 관점에서, 150 ~ 210℃ 의 범위인 것이 바람직하고, 150 ~ 200℃ 의 범위인 것이 보다 바람직하다. Here, "firing temperature" means the baking at the time of forming the electroconductive metal containing material (henceforth simply called "the electroconductive metal containing material of this invention") concerning the 4th aspect of this invention mentioned later, specifically, The temperature at the time of baking after apply | coating the fine particle dispersion of this invention to a to-be-coated object can be said, and it can set arbitrarily to a predetermined range. As mentioned above, it is preferable that it is the range of 150-210 degreeC from the viewpoint of the heat resistance of the element in the board | substrate in wiring of a printed wiring board, or the wiring in a semiconductor package, and it is more preferable that it is the range of 150-200 degreeC. Do.

또한, 본 발명에 있어서, 소성이란, 금속 함유 미립자의 표면을 피복하는 분산제를 해리시키고, 또한, 분산제 해리 후의 금속 함유 미립자끼리를 융착시키는 공정을 말한다. In addition, in this invention, baking means the process of dissociating the dispersing agent which coat | covers the surface of metal containing microparticles | fine-particles, and fusing the metal containing microparticles | fine-particles after dispersing agent dissociation.

또한, 「피복된」 이란, 금속 함유 미립자의 표면의 적어도 일부가, 분산제에 피복된 상태인 것을 말한다. 구체적으로는, 금속 함유 미립자의 표면의 적어도 일부에, 금속 함유 미립자에 함유되는 금속 원소와 결합이 가능한 치환기로서 질소, 산소 또는 황원자를 함유하는 치환기를 갖는 유기 화합물이 결합한 상태를 말한다. 또한, 분산제에 의한 피복은, 후술하는 본 발명의 제 3 양태에 관련된 미립자 분산액의 제조방법 (이하, 단순히 「본 발명의 미립자 분산액의 제조방법」 이라고도 한다) 에 있어서, 기화 온도가 낮은 (30 ~ 60℃ 정도) 분산제만을 사용한 경우, 분산제를 사용하지 않고서 제조한 경우 또는 분산제 대신에 금속 원소와 결합 가능한 치환기를 갖지 않는 유기물을 사용하여 제조한 경우에는, 금속 함유 미립자의 표면에 분산제를 효과적으로 피복시킬 수 없고, 금속 함유 미립자가 응집되어 안정된 미립자 분산액을 제조할 수 없다. 이에 반하여, 본 발명에 있어서는, 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액을 제조할 수 있다는 사실에서도 확인할 수 있다. In addition, "coated" means that at least one part of the surface of metal containing microparticles | fine-particles is a state covered with the dispersing agent. Specifically, at least a part of the surface of the metal-containing fine particles refers to a state in which an organic compound having a substituent containing nitrogen, oxygen or a sulfur atom is bonded as a substituent capable of bonding with a metal element contained in the metal-containing fine particles. In addition, the coating | coating with a dispersing agent is a low vaporization temperature (30- ~) in the manufacturing method of the fine particle dispersion which concerns on the 3rd aspect of this invention mentioned later (it is only hereafter called "the manufacturing method of the fine particle dispersion of this invention"). 60 ° C.) When only the dispersant is used, or when the dispersant is prepared without using a dispersant, or when an organic substance having no substituent groupable with a metal element is used instead of the dispersant, the dispersant may be effectively coated on the surface of the metal-containing fine particles. And metal-containing fine particles are agglomerated and a stable fine particle dispersion cannot be produced. In contrast, in the present invention, it can also be confirmed from the fact that a fine particle dispersion in which metal-containing fine particles are dispersed can be produced.

본 발명의 금속 함유 미립자는, 금 (Au), 은 (Ag), 구리 (Cu), 백금 (Pt), 팔라듐 (Pd), 텅스텐 (W), 니켈 (Ni), 탄탈 (Ta), 비스무트 (Bi), 납 (Pb), 인듐 (In), 주석 (Sn), 티탄 (Ti) 및 알루미늄 (Al) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속을 함유하고 있다. 그 중에서도, Au, Ag, Cu 또는 Ni 를 함유하고 있는 것이 특히 바람직하고, Cu 를 함유하고 있는 것이 가장 바람직하다. The metal-containing fine particles of the present invention include gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), platinum (Pt), palladium (Pd), tungsten (W), nickel (Ni), tantalum (Ta), bismuth ( It contains at least one metal selected from the group consisting of Bi), lead (Pb), indium (In), tin (Sn), titanium (Ti), and aluminum (Al). Especially, it is especially preferable to contain Au, Ag, Cu, or Ni, and it is most preferable to contain Cu.

또한, 본 발명에 있어서, 「금속 함유 미립자」 란, 금속 미립자 그 자체 (예를 들어, Au 콜로이드, Ag 콜로이드 등), 및, 수소화된 금속 미립자 (예를 들어, 수소화 구리 (CuH) 콜로이드 등) 를 함께 포함하는 개념의 문언이다. In addition, in this invention, a "metal containing fine particle" means metal fine particle itself (for example, Au colloid, Ag colloid etc.), and hydrogenated metal fine particle (for example, copper hydride copper (CuH) colloid etc.) It is a word of concept that includes together.

그 때문에, 본 발명의 금속 함유 미립자는, 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로 표면 피복된 Au 콜로이드, Ag 콜로이드 등이어도 되고, CuH 콜로이드 등 이어도 된다. Therefore, the metal-containing microparticles | fine-particles of this invention may be Au colloid, Ag colloid, etc. which were surface-coated with at least 2 sort (s) of dispersing agent different from vaporization temperature, CuH colloid, etc. may be sufficient.

다음으로, 분산제에 관해서 상세히 기술한다. Next, the dispersant is described in detail.

본 발명의 금속 함유 미립자의 표면을 피복하는 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로서는, 상기 기술한 바와 같이, 제 1 분산제와 제 2 분산제를 들 수 있다. 이들은, 금속 함유 미립자에 함유하는 금속 원소와 배위 결합이 가능한 치환기로서, 질소, 산소 또는 황원자를 함유하는 치환기를 갖는 유기 화합물이다. As at least 2 sort (s) of dispersing agent in which the vaporization temperature which coat | covers the surface of the metal containing fine particle of this invention differs, a 1st dispersing agent and a 2nd dispersing agent are mentioned as mentioned above. These are organic compounds which have a substituent containing a nitrogen, oxygen, or sulfur atom as a substituent which can coordinately bond with the metal element contained in metal containing microparticles | fine-particles.

여기서, 「제 1 분산제」 란, 기화 온도를 소성 온도 미만으로 갖는 분산제를 말하고, 마찬가지로 「제 2 분산제」 란, 기화 온도를 소성 온도 이상으로 갖는 분산제를 말한다. 또한, 본 발명에 있어서, 기화 온도란, 이하에 나타내는 측정 조건으로 열중량 분석법을 사용하여 측정한 경우에 있어서의, 주입 질량의 50% 가 기화할 때의 온도를 말한다. Here, "a 1st dispersing agent" means the dispersing agent which has vaporization temperature less than a baking temperature, and similarly, "a 2nd dispersing agent" means the dispersing agent which has a vaporization temperature above baking temperature. In addition, in this invention, vaporization temperature means the temperature at which 50% of an injection mass vaporizes when it measures using the thermogravimetric method on the measurement conditions shown below.

[측정 조건] [Measuring conditions]

?측정 개시 온도: 25℃Measuring start temperature: 25 ℃

?승온 속도: 10℃/분Heating rate: 10 ℃ / min

?분위기: 질소 중 (유량: 20mL/분)Atmosphere: in nitrogen (flow rate: 20 mL / min)

?주입 중량: 10㎎Injection weight: 10mg

?사용셀: 알루미늄제 (5μL)Cell used: aluminum (5 μL)

이러한 분산제로서는, 상기 기술한 바와 같이, 금속 함유 미립자에 함유하는 금속 원소와 배위 결합이 가능한 치환기로서 질소, 산소 또는 황원자를 함유하는 치환기를 갖는 유기 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 탄소수가 4 ~ 25 인 것이 바람직하고, 8 ~ 23 인 것이 보다 바람직하다. 탄소수의 범위가 이 범위이면, 열적인 안정성이 있고, 증기압도 적절하며, 핸들링성도 좋아지기 때문에 바람직하다. 또한, 탄소수의 범위가 이 범위이면, 저온에서의 소성으로도 충분히 기화할 수 있어, 이러한 분산제에 의해 표면 피복된 금속 함유 미립자의 분산 안정성도 양호해지기 때문에 바람직하다.As such a dispersing agent, as above-mentioned, if it is an organic compound which has a substituent containing a nitrogen, oxygen, or sulfur atom as a substituent which can coordinate coordination with the metal element contained in metal containing microparticles | fine-particles, it will not specifically limit, It will have 4-25 carbon atoms. It is preferable, and it is more preferable that it is 8-23. If carbon number range is this range, since there exists thermal stability, steam pressure is appropriate, and handling property improves, it is preferable. If the carbon number is in this range, it can be sufficiently vaporized even by baking at low temperature, and the dispersion stability of the metal-containing fine particles surface-coated with such a dispersant is also preferable.

또한, 상기 분산제는, 불포화 또는 포화의 어느 것이라도 되고, 직쇄상의 장쇄 (예를 들어, 데실기, 도데실기 등) 를 가지고 있는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the said dispersing agent may be either unsaturated or saturated, and has a linear long chain (for example, a decyl group, a dodecyl group, etc.).

또한, 상기 분산제의 기화 온도는, 125 ~ 235℃ 인 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the vaporization temperature of the said dispersing agent is 125-235 degreeC.

구체적으로는, 질소 원자를 함유하는 치환기를 갖는 유기 화합물로서, 아미노기, 아미드기 등의 치환기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 산소 원자를 함유하는 치환기를 갖는 유기 화합물로서, 히드록시기, 에테르형의 옥시기 (-O-) 등의 치환기를 갖는 화합물을 들 수 있고, 황원자를 함유하는 치환기를 갖는 유기 화합물로서, 술파닐기 (-SH), 술피드형의 술판디일기 (-S-) 등의 치환기를 갖는 화합물을 들 수 있다. Specifically, the compound which has substituents, such as an amino group and an amide group, is mentioned as an organic compound which has a substituent containing a nitrogen atom. As an organic compound which has a substituent containing an oxygen atom, the compound which has substituents, such as a hydroxyl group and an ether type oxy group (-O-), is mentioned, As an organic compound which has a substituent containing a sulfur atom, a sulfanyl group (- The compound which has substituents, such as SH) and a sulfide type sulfanediyl group (-S-), is mentioned.

보다 구체적으로는, 아미노기, 아미드기 등의 치환기를 갖는 화합물로서는, 옥틸아민 (155℃), 데실아민 (170℃), 도데실아민 (180℃), 테트라데실아민 (190℃), 헥사데실아민 (200℃), 옥타데실아민 (205℃), 메틸옥타데실아민 (210℃), 디메틸옥타데실아민 (215℃), 올레일아민 (205℃), 벤질아민 (140℃), 라우릴아미드, 스테아릴아미드, 올레일아미드 등이 예시된다. 히드록시기, 에테르형의 옥시기 (-O-) 등의 치환기를 갖는 화합물로서는, 도데칸디올, 헥사데칸디올, 도데칸산 (200℃), 스테아르산 (225℃), 올레산 (225℃), 리놀레산, 리놀렌산, 도데칸디온, 디벤조일메탄, 에틸렌글리콜모노데실에테르 (200℃), 디에틸렌글리콜모노데실에테르, 트리에틸렌글리콜모노데실에테르, 테트라에틸렌글리콜모노데실에테르, 에틸렌글리콜모노도데실에테르 (210℃), 디에틸렌글리콜모노도데실에테르, 트리에틸렌글리콜모노도데실에테르, 테트라에틸렌글리콜모노도데실에테르, 에틸렌글리콜모노세틸에테르 (225℃), 디에틸렌글리콜모노세틸에테르 등이 예시된다. 술파닐기 (-SH), 술피드형의 술판디일기 (-S-) 등의 치환기를 갖는 화합물로서는, 데칸티올 (190℃), 도데칸티올 (205℃), 데트라데칸티올 (220℃), 트리메틸벤질메르캅탄, 부틸벤질메르캅탄, 헥실술피드 등이 예시된다. 또한, 괄호 안의 숫자는, 상기 기술한 측정 조건으로 측정한 기화 온도이다. More specifically, as a compound which has substituents, such as an amino group and an amide group, octylamine (155 degreeC), decylamine (170 degreeC), dodecylamine (180 degreeC), tetradecylamine (190 degreeC), hexadecylamine (200 ° C.), octadecylamine (205 ° C.), methyloctadecylamine (210 ° C.), dimethyloctadecylamine (215 ° C.), oleylamine (205 ° C.), benzylamine (140 ° C.), laurylamide, Stearylamide, oleylamide and the like. As a compound which has substituents, such as a hydroxyl group and ether type oxy group (-O-), dodecanediol, hexadecanediol, dodecanoic acid (200 degreeC), stearic acid (225 degreeC), oleic acid (225 degreeC), linoleic acid, Linolenic acid, dodecanedione, dibenzoylmethane, ethylene glycol monodecyl ether (200 ° C.), diethylene glycol monodecyl ether, triethylene glycol monodecyl ether, tetraethylene glycol monodecyl ether, ethylene glycol monododecyl ether (210 ° C.) ), Diethylene glycol monododecyl ether, triethylene glycol monododecyl ether, tetraethylene glycol monododecyl ether, ethylene glycol monocetyl ether (225 ° C), diethylene glycol monocetyl ether, and the like. As a compound which has substituents, such as a sulfanyl group (-SH) and a sulfide type sulfanediyl group (-S-), decanthiol (190 degreeC), dodecane thiol (205 degreeC), and detradecane thiol (220 degreeC) , Trimethylbenzyl mercaptan, butylbenzyl mercaptan, hexyl sulfide and the like. In addition, the number in parentheses is the vaporization temperature measured by the above-mentioned measurement conditions.

이들 분산제 중, 본 발명에 있어서는, 기화 온도가 다른 2 종 이상의 분산제를 적절히 선택하여, 구체적으로는, 이들의 분산제로부터 제 1 분산제 및 제 2 분산제를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. Among these dispersants, in the present invention, two or more kinds of dispersants having different vaporization temperatures may be appropriately selected, and specifically, the first dispersant and the second dispersant may be appropriately selected and used from these dispersants.

예를 들어, 소성 온도가 150℃ 이면, 벤질아민과 옥틸아민의 조합, 벤질아민과 데실아민의 조합, 벤질아민과 도데실아민의 조합 등이 예시된다. 소성 온도가 180℃ 이면, 데실아민과 테트라데실아민의 조합, 옥틸아민과 테트라데실아민의 조합, 옥틸아민과 도데칸산의 조합 등이 예시된다. 소성 온도가 190℃ 이면, 도데실아민과 도데칸산의 조합, 도데실아민과 테트라데실아민의 조합 등이 예시된다. 소성 온도가 195℃ 이면, 테트라데실아민과 도데칸산의 조합, 테트라데실아민과 헥사데실아민의 조합 등이 예시된다. 소성 온도가 200℃ 이면, 도데실아민과 옥타데실아민의 조합, 도데실아민과 메틸옥타데실아민의 조합, 테트라데실아민과 디메틸옥타데실아민의 조합, 도데실아민과 도데칸티올의 조합 등이 예시된다. 소성 온도가 210℃ 이면, 헥사데실아민과 디메틸옥타데실아민의 조합, 도데칸산과 테트라데칸티올의 조합, 헥사데실아민과 테트라데칸티올의 조합 등이 예시된다. For example, when baking temperature is 150 degreeC, the combination of benzylamine and octylamine, the combination of benzylamine and decylamine, the combination of benzylamine and dodecylamine, etc. are illustrated. When baking temperature is 180 degreeC, the combination of decylamine and tetradecylamine, the combination of octylamine and tetradecylamine, the combination of octylamine and dodecanoic acid, etc. are illustrated. When baking temperature is 190 degreeC, the combination of a dodecylamine and a dodecanoic acid, the combination of a dodecylamine and tetradecylamine, etc. are illustrated. When the baking temperature is 195 ° C, a combination of tetradecylamine and dodecanoic acid, a combination of tetradecylamine and hexadecylamine, and the like are exemplified. If the firing temperature is 200 ° C, the combination of dodecylamine and octadecylamine, the combination of dodecylamine and methyloctadecylamine, the combination of tetradecylamine and dimethyloctadecylamine, the combination of dodecylamine and dodecanethiol Is illustrated. When baking temperature is 210 degreeC, the combination of hexadecylamine and dimethyloctadecylamine, the combination of dodecanoic acid and tetradecanethiol, the combination of hexadecylamine and tetradecanethiol, etc. are illustrated.

또한, 본 발명에 있어서는, 소성 온도와 제 1 분산제의 기화 온도의 차는 25℃ 이내인 것이 바람직하고, 마찬가지로, 소성 온도와 제 2 분산제의 기화 온도의 차도 25℃ 이내인 것이 바람직하다. 또한, 제 1 분산제와 제 2 분산제의 기화 온도의 차는 30℃ 이내인 것이 바람직하다. In addition, in this invention, it is preferable that the difference of the baking temperature and the vaporization temperature of a 1st dispersing agent is 25 degrees C or less, and similarly, it is preferable that the difference of the baking temperature and the vaporization temperature of a 2nd dispersing agent is also 25 degrees C or less. Moreover, it is preferable that the difference of the vaporization temperature of a 1st dispersing agent and a 2nd dispersing agent is 30 degrees C or less.

이러한 분산제에 의한 금속 함유 미립자의 표면 피복은, 금속 함유 미립자 100질량부에 대하여, 분산제가 합계로 2 ~ 100질량부, 바람직하게는 2 ~ 20질량부가 되도록 첨가시킴으로써 행해지는 것이 바람직하다. 상기 범위이면, 얻어지는 금속 함유 미립자의 분산 안정성이 양호해지기 때문에 바람직하다. The surface coating of the metal-containing fine particles by such a dispersant is preferably performed by adding the dispersant so that the total amount of the dispersant is 2 to 100 parts by mass, preferably 2 to 20 parts by mass in total. If it is the said range, since dispersion stability of the metal containing fine particle obtained becomes favorable, it is preferable.

구체적으로는, 본 발명의 미립자 분산액의 제조방법이나 후술하는 실시예에도 나타내는 바와 같이, 습식법을 이용한 환원에 의해 생긴 금속 함유 미립자와, 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 공존 하에서 교반함으로써, 금속 함유 미립자의 표면을 분산제로 피복하는 방법이 바람직하게 예시되지만, 이른바 건식법을 이용한 것이어도 된다. Specifically, as shown in the method for producing the fine particle dispersion of the present invention or in the examples described later, the metal-containing fine particles produced by reduction using the wet method and the non-aqueous organic liquid in which the dispersant is dissolved are co-existed by stirring. Although the method of coating the surface of containing fine particles with a dispersing agent is illustrated preferably, what is called a dry method may be used.

또한, 사용하는 분산제에 있어서의, 제 1 분산제 및 제 2 분산제의 비율 (주입 질량비) 은, 분산제의 합계 주입 질량에 대하여, 제 1 분산제가 60 ~ 95질량%, 바람직하게는 70 ~ 90질량% 인 것이 바람직하다. Moreover, the ratio (injection mass ratio) of a 1st dispersing agent and a 2nd dispersing agent in the dispersing agent to be used is 60-95 mass% with respect to the total injection mass of a dispersing agent, Preferably it is 70-90 mass% Is preferably.

이러한 분산제에 의해 표면 피복된 본 발명의 금속 함유 미립자는, 평균 입자 직경이 1 ~ 100㎚ 정도가 되어, 그 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액을 1 개월간 정도 실온에서 방치해 두어도, 응집되지는 않고, 즉, 분산 안정성을 양호하게 유지하여, 콜로이드 상태에서 안정적으로 존재할 수 있다. The metal-containing fine particles of the present invention surface-coated with such a dispersant have an average particle diameter of about 1 to 100 nm, and do not aggregate even if the fine particle dispersion in which the metal-containing fine particles are dispersed is left at room temperature for about one month. That is, the dispersion stability can be kept good, and can be stably present in the colloidal state.

본 발명에 있어서, 평균 입자 직경은, 투과형 전자 현미경 (TEM) 또는 주사형 전자 현미경 (SEM) 을 사용하여 얻어진다. 또한, 미립자의 입자 직경이란, 관측되는 1 차 입자의 입자 직경을 말하며, 평균 입자 직경은, 관측된 미립자 중, 무작위로 추출한 100개의 미립자의 입자 직경의 평균값을 얻는 것으로 정의한다. In this invention, an average particle diameter is obtained using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). In addition, the particle diameter of microparticles | fine-particles means the particle diameter of the primary particle observed, and an average particle diameter is defined as obtaining the average value of the particle diameter of 100 fine particles extracted randomly among the observed microparticles | fine-particles.

또한, 본 발명의 금속 함유 미립자는, 소성에 의해, 표면을 피복하고 있는 분산제가 해리되어, 분산제 해리 후의 금속 함유 미립자끼리가 융착하여 벌크체를 형성할 수 있다. 이에 의해, 후술하는 본 발명의 도전성 금속 함유 재료가 도전성 및 내열성을 나타내게 된다. In addition, in the metal-containing fine particles of the present invention, the dispersant covering the surface is dissociated by firing, and the metal-containing fine particles after dissociating the dispersant are fused to form a bulk body. Thereby, the electroconductive metal containing material of this invention mentioned later will show electroconductivity and heat resistance.

본 발명의 제 2 양태에 관련된 미립자 분산액은, 상기 기술한 본 발명의 제 1 양태에 관련된 금속 함유 미립자가, 비수용성의 유기성 액체 중에 분산되어 있는 미립자 분산액이다.The fine particle dispersion according to the second aspect of the present invention is a fine particle dispersion in which the metal-containing fine particles according to the first aspect of the present invention are dispersed in a water-insoluble organic liquid.

여기서, 상기 유기성 액체는, 상기 금속 함유 미립자의 표면을 피복하는 분산제와 친화성이 양호한 극성이 낮은 것이 바람직하다. 또한, 후술하는 본 발명의 도전성 금속 함유 재료를 형성할 때에도, 도포 후의 가열에 의해 비교적 빠르게 증발하여, 열분해를 일으키지 않는 열적 안정성을 갖는 것이 바람직하다. Here, it is preferable that the said organic liquid is low in polarity with favorable affinity with the dispersing agent which coat | covers the surface of the said metal containing microparticles | fine-particles. Moreover, also when forming the electroconductive metal containing material of this invention mentioned later, it is preferable to have thermal stability which evaporates comparatively fast by the heating after application | coating, and does not cause thermal decomposition.

이러한 유기성 액체로서는, 구체적으로는, 예를 들어, 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸, 도데칸, 테트라데칸, 도데센, 테트라데센, 시클로헥산, 에틸시클로헥산, 부틸시클로헥산, 시클로옥탄, 테르피네올, 헥산올, 옥탄올, 시클로헥산올, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 메시틸렌, 부틸벤젠, 알파테르펜, 감마테르펜, 리모넨, AF 솔벤트 (상품명, 신일본 석유 제조) 등을 들 수 있다. 이들을 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. Specifically as such an organic liquid, For example, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, tetradecane, dodecene, tetradecene, cyclohexane, ethylcyclohexane, butylcyclohexane, cyclooctane, terpineol , Hexanol, octanol, cyclohexanol, toluene, xylene, ethylbenzene, mesitylene, butylbenzene, alpha terpene, gamma terpene, limonene, AF solvent (trade name, Nippon Petroleum Co., Ltd.) and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

또한, 본 발명의 미립자 분산액은, 그 용도에 따라 적절히 선택되기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 상기 금속 함유 미립자 100질량부에 대하여, 유기성 액체를 20 ~ 500질량부 첨가시킨 것이 바람직하고, 20 ~ 200질량부 첨가시킨 것이 보다 바람직하다. 즉, 본 발명의 미립자 분산액에 있어서의 상기 금속 함유 미립자의 농도는, 상기 유기성 액체에 대하여 15 ~ 80질량% 인 것이 바람직하고, 30 ~ 80질량% 인 것이 보다 바람직하다.In addition, since the fine particle dispersion of this invention is suitably selected according to the use, it does not specifically limit, It is preferable to add 20-500 mass parts of organic liquid with respect to 100 mass parts of said metal containing fine particles, 20-200 mass More preferably added. That is, it is preferable that it is 15-80 mass% with respect to the said organic liquid, and, as for the density | concentration of the said metal containing microparticles | fine-particles in the microparticle dispersion liquid of this invention, it is more preferable that it is 30-80 mass%.

금속 미립자의 농도가 이 범위이면, 얻어지는 미립자 분산액을 도포하고, 소성하여 얻어지는 본 발명의 도전성 금속 함유 재료의 도전성을 충분히 확보할 수 있다. 또한, 얻어지는 미립자 분산액의 점도, 표면 장력 등의 특성이 양호해져, 도포하기 쉬워지기 때문에 바람직하다. If the density | concentration of a metal fine particle is this range, the electroconductivity of the electroconductive metal containing material of this invention obtained by apply | coating and baking the fine particle dispersion obtained can be fully ensured. Moreover, since the characteristics, such as a viscosity and surface tension of the fine particle dispersion obtained, become favorable and it becomes easy to apply | coat, it is preferable.

또한, 본 발명의 미립자 분산액에는, 필요에 따라, 첨가제 (예를 들어, 가소제, 증점제 등), 유기 바인더 등을 첨가할 수 있다. Moreover, additives (for example, a plasticizer, a thickener, etc.), an organic binder, etc. can be added to the fine particle dispersion of this invention as needed.

본 발명의 미립자 분산액의 용도는, 특별히 한정되지 않지만, 잉크젯 인쇄법에 잉크로서 사용함으로써, 프린트 배선 등의 회로 패턴의 형성 및 수복, 반도체 패키지 내의 층간 배선의 형성, 프린트 배선판과 전자 부품의 접합이 저온에서 가능해져, 형성되는 재료도 우수한 도전성을 갖는 점에서 매우 유용하다. Although the use of the fine particle dispersion of this invention is not specifically limited, By using as an ink for the inkjet printing method, formation and repair of circuit patterns, such as a printed wiring, formation of interlayer wiring in a semiconductor package, bonding of a printed wiring board and an electronic component It becomes possible at low temperature, and the material formed is also very useful at the point which has the outstanding electroconductivity.

본 발명의 제 3 양태에 관련된 미립자 분산액의 제조방법은, 상기 기술한 본 발명의 제 2 양태에 관련된 미립자 분산액을 제조하는 제조방법으로서, 수용성의 금속 함유 화합물에 물을 첨가하여 금속 이온을 함유하는 수용액을 얻는 공정과, 그 수용액에, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 첨가하는 공정과, 그 유기성 액체 첨가 후에, 교반시키면서 환원제를 첨가함으로써, 그 금속 이온을 환원하고, 그 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자를 생성하는 공정을 구비하는 미립자 분산액의 제조방법이다. The manufacturing method of the fine particle dispersion which concerns on the 3rd aspect of this invention is a manufacturing method of manufacturing the fine particle dispersion which concerns on the 2nd aspect of this invention mentioned above, Comprising: Adding water to a water-soluble metal containing compound and containing metal ion The metal ion by adding the reducing agent with stirring, after the process of obtaining an aqueous solution, the process of adding the water-insoluble organic liquid which melt | dissolved the at least 2 sort (s) of dispersing agent from which the said vaporization temperature differs, and the organic liquid addition to this aqueous solution, And a process for producing metal-containing fine particles surface-coated with the dispersant.

본 발명의 금속 함유 미립자를 생성시킬 때, 금속 이온을 함유하는 수용액으로 이루어지는 수층과, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제 및 유기성 액체로 이루어지는 유층을 교반함으로써, 수분과 유분의 현탁액 (에멀전) 을 형성시킨다. 이 현탁액의 수분 중에 있어서, 별도로 첨가하는 환원제에 의해 금속 이온이 환원되어, 표면이 피복되기 전의 상태의 금속 함유 미립자가 얻어진다. 얻어진 미립자는, 유분 중에 용해되어 있는 상기 적어도 2 종의 분산제에 의해 즉시 표면이 덮임으로써, 그 분산제에 의해 표면 피복된 본 발명의 금속 함유 미립자가 되고, 유분 중에 취입되어 안정화된다고 여겨지고 있다. When producing the metal-containing fine particles of the present invention, a suspension of water and oil (emulsion) by stirring an aqueous layer composed of an aqueous solution containing metal ions and an oil layer composed of at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures and organic liquids. To form. In the water of this suspension, metal ions are reduced by a reducing agent added separately to obtain metal-containing fine particles in a state before the surface is coated. It is thought that the obtained microparticles | fine-particles become the metal containing microparticles | fine-particles of this invention surface-coated with the said dispersing agent by covering the surface immediately with the said at least 2 sort (s) of dispersing agent melt | dissolved in oil, and are taken in and stabilized in oil.

이렇게 하여 금속 함유 미립자가 생성된 후, 상기 현탁액을 방치하면 수층과 유층의 2층으로 분리된다. 분리된 유층을 회수함으로써, 비수용성의 유기성 액체 중에 금속 함유 미립자가 분산된 미립자 분산액을 얻을 수 있다. After the metal-containing fine particles are produced in this way, the suspension is left to separate into two layers, an aqueous layer and an oil layer. By recovering the separated oil layer, a fine particle dispersion in which metal-containing fine particles are dispersed in a water-insoluble organic liquid can be obtained.

이 미립자 분산액은, 그대로, 또는 그 밖의 첨가제 (예를 들어, 가소제, 증점제 등) 를 적절히 첨가함으로써, 도전성 금속 함유 재료를 형성하기 위한 이른바 잉크로서 사용할 수 있다. This fine particle dispersion can be used as so-called ink for forming a conductive metal containing material as it is or by adding another additive (for example, a plasticizer, a thickener, etc.) suitably.

본 발명의 미립자 분산액의 제조방법에서 사용되는 수용성의 금속 함유 화합물로서는, 구체적으로는, 황산구리, 염화구리, 아세트산구리, 브롬화구리, 요오드화구리, 시트르산구리, 질산구리; 아세트산은, 시트르산은, 질산은; 염화금산나트륨, 염화금산; 브롬화니켈, 아세트산니켈, 질산니켈, 염화니켈; 등이 바람직하게 예시된다. Specific examples of the water-soluble metal-containing compound used in the method for producing the fine particle dispersion of the present invention include copper sulfate, copper chloride, copper acetate, copper bromide, copper iodide, copper citrate, and copper nitrate; Silver acetate, silver citrate, silver nitrate; Sodium chloride and gold chloride; Nickel bromide, nickel acetate, nickel nitrate, nickel chloride; Etc. are preferably illustrated.

또한, 상기 금속 함유 화합물은, 농도가 0.1 ~ 30질량% 가 되도록 용해시키는 것이 바람직하다. 금속 함유 화합물을 용해시킨 수용액, 즉 금속 이온을 함유하는 수용액의 농도가 이 범위이면, 얻어지는 금속 함유 미립자의 생성 효율이 양호해지고, 또한, 분산 안정성도 양호해지기 때문에 바람직하다. Moreover, it is preferable to melt | dissolve so that the said metal containing compound may be 0.1-30 mass%. When the density | concentration of the aqueous solution which melt | dissolved the metal containing compound, ie, the aqueous solution containing metal ion, is in this range, since the production efficiency of the metal containing fine particle obtained becomes favorable and dispersion stability will also become favorable, it is preferable.

본 발명의 미립자 분산액의 제조방법에 있어서, 예를 들어, 상기 기술한 CuH 콜로이드를 얻기 위해서는, 금속 이온을 함유하는 수용액의 pH 를 3 이하로 조정하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 금속 이온을 함유하는 수용액에 산을 첨가하는 것이 바람직하다. In the method for producing the fine particle dispersion of the present invention, for example, in order to obtain the CuH colloid described above, it is preferable to adjust the pH of the aqueous solution containing metal ions to 3 or less. Specifically, it is preferable to add an acid to an aqueous solution containing metal ions.

pH 를 3 이하로 조정하기 위해서 첨가되는 산으로는, 구체적으로는, 예를 들어, 시트르산, 말론산, 말레산, 프탈산, 아세트산, 프로피온산, 황산, 질산, 염산등을 들 수 있다. pH 를 3 이하로 함으로써, 수용액 중의 금속 이온이, 그 후에 첨가되는 환원제의 작용에 의해 금속 함유 미립자로서 얻어지기 쉬워진다. Specific examples of the acid added in order to adjust the pH to 3 or less include citric acid, malonic acid, maleic acid, phthalic acid, acetic acid, propionic acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like. When pH is set to 3 or less, the metal ion in aqueous solution becomes easy to be obtained as metal containing microparticles | fine-particles by the action of the reducing agent added after that.

환원제로서는, 큰 환원 작용이 있는 점에서 금속 수소화물이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 수소화리튬, 수소화칼륨, 수소화칼슘, 수소화리튬알루미늄, 수소화붕소리튬, 수소화붕소나트륨, 히드라진, 디메틸아민보란 등을 들 수 있다. 이들 중, 수소화리튬알루미늄, 수소화붕소리튬, 수소화붕소나트륨이, 환원 속도나 안전성이 우수하기 때문에 바람직하다. As a reducing agent, a metal hydride is preferable at the point which has a big reducing effect. Specifically, lithium hydride, potassium hydride, calcium hydride, lithium hydride, lithium borohydride, sodium borohydride, hydrazine, dimethylamine borane, etc. are mentioned, for example. Of these, lithium aluminum hydride, lithium borohydride, and sodium borohydride are preferred because of their excellent reduction rate and safety.

또한, 환원제는, 금속 이온에 대하여, 1.5 ~ 10배의 몰당량이 되도록 첨가하는 것이 바람직하다. 환원제의 첨가량이 이 범위이면, 환원 작용이 충분해지고, 얻어지는 금속 함유 미립자의 분산 안정성도 양호해지기 때문에 바람직하다. Moreover, it is preferable to add a reducing agent so that it may be a 1.5-10 times molar equivalent with respect to a metal ion. If the amount of the reducing agent added is within this range, the reducing action is sufficient, and the dispersion stability of the resulting metal-containing fine particles is also good, which is preferable.

한편, 본 발명의 미립자 분산액은, 시트르산 이온 및 제 2 철 이온을 함유하는 수용액을 얻는 공정과, 그 수용액에, 금, 은, 백금, 팔라듐, 텅스텐, 탄탈, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 티탄 및 알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 금속의 금속 이온을 함유하는 수용액을, 교반시키면서 첨가함으로써, 그 금속 이온을 환원하여, 금속 함유 미립자를 얻는 공정과, 그 금속 함유 미립자를 함유하는 액에, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 교반시키면서 첨가함으로써, 그 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자를 생성하는 공정을 구비하는 제조방법에 의해 제조해도 된다. On the other hand, the fine particle dispersion of this invention is a process of obtaining the aqueous solution containing a citrate ion and a ferric ion, and the aqueous solution contains gold, silver, platinum, palladium, tungsten, tantalum, bismuth, lead, indium, tin, titanium And adding an aqueous solution containing metal ions of at least one metal selected from the group consisting of aluminum while stirring to reduce the metal ions to obtain metal-containing fine particles, and to the liquid containing the metal-containing fine particles. You may manufacture by the manufacturing method provided with the process of producing the metal-containing microparticles | fine-particles which surface-coated with the dispersing agent by adding, stirring, the water-insoluble organic liquid which melt | dissolved the at least 2 sort (s) of dispersing agent from which the said vaporization temperature differs.

본 발명의 제 4 양태에 관련된 도전성 금속 함유 재료는, 상기 기술한 본 발명의 제 2 양태에 관련된 미립자 분산액을 피도포물에 도포한 후, 상기 적어도 2 종의 분산제 중의 가장 높은 기화 온도와 가장 낮은 기화 온도 사이의 온도에서 소성함으로써 형성되는 체적 저항률이 60μΩ㎝ 이하, 바람직하게는 40μΩ㎝ 이하, 보다 바람직하게는 20μΩ㎝ 이하, 특히 바람직하게는 10μΩ㎝ 이하인 도전성 금속 함유 재료이다. The conductive metal-containing material according to the fourth aspect of the present invention is the highest vaporization temperature and the lowest in the at least two kinds of dispersants after applying the fine particle dispersion according to the second aspect of the present invention to the coated object. It is a conductive metal containing material whose volume resistivity formed by baking at the temperature between vaporization temperatures is 60 microohm-cm or less, Preferably it is 40 microohm-cm or less, More preferably, 20 microohm-cm or less, Especially preferably, it is 10 microohm-cm or less.

본 발명에 있어서, 체적 저항률은, 사탐침식 저항계를 사용하여 측정한 저항값과, 촉침식 표면 형상 측정기를 사용하여 측정한 막두께로부터 산출한 값이다. In the present invention, the volume resistivity is a value calculated from a resistance value measured using a probe ohmmeter and a film thickness measured using a stylus type surface shape measuring instrument.

여기서, 미립자 분산액을 도포하는 방법으로서는, 종래 공지된 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 잉크젯 인쇄, 스크린 인쇄, 롤코터, 에어나이프코터, 블레이드코터, 바코터, 그라비아코터, 다이코터, 스프레이코터, 슬라이드코터 등을 들 수 있다. 이들 중, 잉크젯 인쇄에 의한 도포가, 미세화로의 대응이나 인쇄 패턴의 변경이 용이하기 때문에 바람직하다. Here, as a method of apply | coating a microparticle dispersion liquid, a conventionally well-known method can be used. Specifically, for example, inkjet printing, screen printing, roll coater, air knife coater, blade coater, bar coater, gravure coater, die coater, spray coater, slide coater and the like. Among these, application | coating by inkjet printing is preferable because the correspondence to refinement | miniaturization and the change of a printing pattern are easy.

또한, 잉크젯 인쇄에 의한 도포에서는, 잉크 토출 구멍은 20㎛ 정도이고, 잉크 액적 직경은, 토출 후 공간 비상시에 변화하여, 피착포체 (被着布體) 에 착탄 (着彈) 한 후, 피착포체 상으로 넓어지는 것이 바람직하다. 토출 직후의 잉크의 직경은, 토출 구멍 직경 정도이지만, 피착포체 착탄 후에는, 5 ~ 100㎛ 정도까지 변화한다. 따라서, 본 발명의 미립자 분산액을 잉크로서 사용하는 경우, 잉크 중의 미립자의 회합체는, 잉크 점성 등에 영향을 주지 않은 한 크게 해도 되고, 회합 응집 직경으로서는 2㎛ 정도여도 된다. In the application by ink jet printing, the ink discharge hole is about 20 µm, and the ink droplet diameter changes in the space emergency after discharge, and reaches the adherend, after which it adheres to the adherend. It is preferable to widen into a phase. The diameter of the ink immediately after the ejection is about the ejection hole diameter, but changes to about 5 to 100 μm after the adherend is impacted. Therefore, when using the fine particle dispersion of this invention as ink, the aggregate of the microparticles | fine-particles in ink may be large, so long as it does not affect ink viscosity etc., and may be about 2 micrometers as an association aggregation diameter.

상기 미립자 분산액을 도포하는 피도포물은 특별히 한정되지 않고, 그 구체예로는, 유리판, 에폭시 등의 수지 기판 등을 들 수 있다. The to-be-coated object which apply | coats the said microparticle dispersion liquid is not specifically limited, As a specific example, resin substrates, such as a glass plate and an epoxy, etc. are mentioned.

소성 온도에서 소성이란, 상기 기술한 바와 같이, 사용하는 분산제의 기화 온도에 의해 설정되는 소성 온도에서 피도포물에 도포한 미립자 분산액을 소성하는 것이다. 이에 의해, 미립자 분산액 중의 금속 함유 미립자가 융착하여 벌크체를 형성하고, 체적 저항률이 60μΩ㎝ 이하인 도전성 금속 함유 재료가 형성된다. Firing at the firing temperature means firing the fine particle dispersion coated on the coated object at the firing temperature set by the vaporization temperature of the dispersant to be used as described above. As a result, the metal-containing fine particles in the fine particle dispersion are fused to form a bulk body, and a conductive metal-containing material having a volume resistivity of 60 μΩcm or less is formed.

본 발명의 도전성 금속 함유 재료의 체적 저항률이 저감되는 이유는 상세하게는 분명하지 않지만, 발명자들은, 아래와 같이 생각하고 있다. The reason why the volume resistivity of the conductive metal-containing material of the present invention is reduced is not clear in detail, but the inventors consider as follows.

첫째로, 단일의 분산제 또는 복수의 분산제의 모든 기화 온도가 소성 온도보다도 높은 경우는, 소성에 의해서도 충분히 금속 함유 미립자 표면으로부터 분산제를 해리할 수 없고, 소성에 의해 금속 함유 미립자가 융착할 때에 계면에 분산제가 잔존하고, 도전 저해가 되어 체적 저항률이 높아진다고 생각된다. 둘째로, 단일의 분산제 또는 복수의 분산제의 모든 기화 온도가 소성 온도보다도 낮은 경우는, 소성에 의해서 금속 함유 미립자 표면으로부터 분산제가 해리되는 점에서 도전 저해성의 관점에서는 바람직하다. 그러나, 융착의 개시가 금속 함유 미립자의 열진동에 의한 효과밖에 기대할 수 없는 점에서, 금속 함유 미립자간의 융착은 진행되기 어려워져, 그것에 의하여 체적 저항률이 높아진다고 생각된다. First, when all vaporization temperatures of a single dispersing agent or a plurality of dispersing agents are higher than the firing temperature, the dispersing agent cannot be sufficiently dissociated from the surface of the metal-containing fine particles even by firing, and when the metal-containing fine particles are fused by firing, It is considered that the dispersant remains, inhibits the conductivity, and increases the volume resistivity. Secondly, when all the vaporization temperatures of a single dispersant or a plurality of dispersants are lower than the firing temperature, the dispersant is dissociated from the surface of the metal-containing fine particles by firing, which is preferable from the viewpoint of inhibiting conductivity. However, since the start of the fusion can only be expected by the effect of thermal vibration of the metal-containing fine particles, the fusion between the metal-containing fine particles is unlikely to proceed, so that the volume resistivity is considered to be high.

이에 대하여, 본 발명에 있어서는, 소성 온도와 관련된 기화 온도를 갖는 복수의 분산제에 의해서 표면 피복하고 있고, 다량으로 존재하는 기화 온도가 낮은 분산제 (제 1 분산제) 는, 실온 부근에서는 분산 안정성에 기여하지만 소성 전에는 기화되기 때문에 도전 저해가 되지 않는다. 이에 대하여, 소량 존재하는 기화 온도가 높은 분산제 (제 2 분산제) 는, 금속 함유 미립자 표면에서 표면 장력 등의 효과에 의해 금속 미립자끼리를 근접시켜, 금속 함유 미립자간의 융착을 촉진시킬 수 있기 때문에 체적 저항률이 저감했다고 생각된다. 또한, 소량 존재하는 기화 온도가 높은 분산제는, 소성 후에 있어서 거의 잔존하지 않고 있는 점에서, 금속 미립자끼리를 근접시키면서, 다량으로 존재하는 기화 온도가 낮은 분산제와 함께 기화 (공비 (共沸)) 하고 있다고 생각된다. In contrast, in the present invention, a dispersant (first dispersant) which is surface-coated with a plurality of dispersants having a vaporization temperature associated with the firing temperature and has a large vaporization temperature, contributes to the dispersion stability near room temperature. Since it vaporizes before baking, it does not inhibit conduction. On the other hand, since the dispersing agent (second dispersing agent) in which a small amount exists in high vaporization temperature can approach metal microparticles | fine-particles by the effect of surface tension etc. on the surface of metal-containing microparticles | fine-particles, fusion between metal-containing microparticles | fine-particles can be promoted, volume resistivity It is thought that this was reduced. In addition, since the dispersing agent with a small vaporization temperature with a small amount exists hardly remain | survives after baking, it vaporizes (azeotropically) with the dispersing agent with a low vaporization temperature which exists in large quantities while making metal microparticles | proximity close. I think it is.

본 발명의 도전성 금속 함유 재료의 도전성을 보다 향상시킬 목적으로, 소성 이외에, 추가로 가열, 자외선 조사, X 선 조사, 전자선 조사 등을 해도 된다. In order to further improve the conductivity of the conductive metal-containing material of the present invention, heating, ultraviolet irradiation, X-ray irradiation, electron beam irradiation, or the like may be further performed in addition to firing.

가열로서는, 구체적으로는, 예를 들어, 온풍 가열, 열복사 등을 들 수 있다. As heating, specifically, warm air heating, heat radiation, etc. are mentioned, for example.

자외선 조사로서는, 구체적으로는, 예를 들어, 254㎚ 를 주파장으로 하는 저압 UV 램프나 365㎚ 를 주파장으로 하는 고압 UV 램프 등을 사용할 수 있다. As ultraviolet irradiation, specifically, the low pressure UV lamp which makes 254 nm main wavelength, the high pressure UV lamp which makes 365 nm main wavelength, etc. can be used, for example.

이하에, 실시예를 이용하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이들의 실시예에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples. However, this invention is not limited to these Examples.

또한, 기화 온도는, 열중량 분석 장치 (형식: H-9000, 시마즈 제작소 제조) 를 사용하여 이하의 측정 조건에 의해 측정하였다. 체적 저항률은, 사탐침식 저항계 (형식: LorestaIPMCP-T250, 미쓰비시유화사 제조) 를 사용하여 측정한 저항값과, 촉침식 표면 형상 측정기 (형식: Dektak6M, veeco 사 제조) 를 사용하여 측정한 막두께로부터 산출하였다. In addition, the vaporization temperature was measured by the following measurement conditions using the thermogravimetric analyzer (model: H-9000, Shimadzu Corporation make). The volume resistivity is determined from a resistance value measured using a probe ohmmeter (Model: Loresta IPMCP-T250, manufactured by Mitsubishi Oil Corporation), and a film thickness measured using a tactile surface shape measuring instrument (Model: Dektak6M, manufactured by veeco). Calculated.

[측정 조건] [Measuring conditions]

?측정 개시 온도: 25℃Measuring start temperature: 25 ℃

?승온 속도: 10℃/분Heating rate: 10 ℃ / min

?분위기: 질소 중 (유량: 20mL/분)Atmosphere: in nitrogen (flow rate: 20 mL / min)

?주입 중량: 10㎎Injection weight: 10mg

?사용셀: 알루미늄제 (5μL)Cell used: aluminum (5 μL)

(실시예 1-1 내지 1-9, 비교예 1-11 내지 1-19, 참고예 1-21 내지 1-24: CuH 콜로이드)(Examples 1-1 to 1-9, Comparative Examples 1-11 to 1-19, Reference Examples 1-21 to 1-24: CuH colloid)

유리 용기 내에서, 염화구리 (Ⅱ) 2 수화물 5g 을 증류수 150g 으로 용해하여 수용액을 얻었다. 이 수용액에, 40% 시트르산 수용액 90g (질량 환산 농도, 이하 모두 동일) 을 첨가하고, 추가로 도데실아민 0.08g 과 메틸옥타데실아민 0.02g 을 자일렌 10g 에 용해시킨 용액을 첨가하였다. 첨가 후의 용액을 격렬하게 교반하면서, 3% 수소화붕소나트륨 수용액 150g 을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후, 1시간 정치하여, 수층과 유층으로 분리시킨 후, 유층만을 회수함으로써, CuH 콜로이드가 분산된 흑색의 미립자 분산액이 얻어졌다. In a glass container, 5 g of copper (II) chloride hydrates were dissolved in 150 g of distilled water to obtain an aqueous solution. To this aqueous solution, 90 g of 40% aqueous citric acid solution (mass equivalent concentration, all the same below) was added, and a solution in which 0.08 g of dodecylamine and 0.02 g of methyloctadecylamine were dissolved in 10 g of xylene was further added. 150 g of 3% sodium borohydride aqueous solution was dripped slowly, stirring the solution after addition vigorously. After completion of the dropwise addition, the mixture was allowed to stand for 1 hour, separated into an aqueous layer and an oil layer, and only the oil layer was recovered to obtain a black fine particle dispersion in which the CuH colloid was dispersed.

얻어진 미립자 분산액을 유리판에 도포하고, 건조시킨 후, 형성된 퇴적물을 질소 분위기 중에서, 200℃ 에서 1시간 소성한 결과, 광택이 있는 금속 구리색의 금속막이 형성되었다. 이 금속막의 체적 저항률을 측정한 결과, 5μΩ㎝ 였다. 또한, 도데실아민의 기화 온도는 180℃ 이고, 메틸옥타데실아민의 기화 온도는 210℃ 였다. The obtained fine particle dispersion was apply | coated to a glass plate, and after drying, the formed deposit was baked at 200 degreeC for 1 hour in nitrogen atmosphere, and the metal film of the gloss metallic copper color was formed. It was 5 micro-ohm-cm when the volume resistivity of this metal film was measured. In addition, the vaporization temperature of dodecylamine was 180 degreeC, and the vaporization temperature of methyloctadecylamine was 210 degreeC.

동일하게 하여, 도데실아민 대신에 분산제 1 을 사용하고, 메틸옥타데실아민 대신에 분산제 2 를 사용하여 미립자 분산액을 조제하고, 소정의 소성 온도에서 1시간 소성하고 금속막을 형성하여 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과, 분산제 1 및 2 그리고 소성 온도를 하기 표 1-1 에 나타낸다. 또한, 비교예로서 1 종류의 분산제를 사용한 예, 및, 참고예로서 2 종류의 분산제를 사용하지만 기화 온도와 소성 온도의 관계로부터 제 4 양태에 있어서의 실시예에 해당하지 않는 예에 관해서, 실시예와 동일하게 미립자 분산액을 조제하고, 금속막의 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 1-2 및 표 1-3 에 나타낸다. 또한, 하기 표 1-2 및 표 1-3 중, 「×」 는 측정 불능을 나타낸다. Similarly, the fine particle dispersion was prepared using the dispersing agent 1 instead of the dodecylamine, and the dispersing agent 2 instead of the methyloctadecylamine, baking for 1 hour at the predetermined | prescribed baking temperature, and forming a metal film and measuring the volume resistivity. . As a result, the dispersants 1 and 2 and the firing temperature are shown in Table 1-1 below. In addition, the example which uses one type of dispersing agent as a comparative example, and the example which uses two types of dispersing agent as a reference example but does not correspond to the Example in a 4th aspect from the relationship between vaporization temperature and baking temperature are implemented. In the same manner as in the example, the fine particle dispersion was prepared, and the volume resistivity of the metal film was measured. The results are shown in Tables 1-2 and 1-3 below. In addition, in following Table 1-2 and Table 1-3, "x" shows the inability to measure.

실시예Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
1-11-1 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
200℃200 ℃ 55
1-21-2 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
200℃200 ℃ 77
1-31-3 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
210℃210 ℃ 99
1-41-4 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
옥타데실아민
205℃
Octadecylamine
205 ℃
200℃200 ℃ 88
1-51-5 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
190℃190 ℃ 1515
1-61-6 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸티올
205℃
Dodecanethiol
205 ℃
200℃200 ℃ 77
1-71-7 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
195℃195 ℃ 1010
1-81-8 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 1111
1-91-9 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 99

비교예Comparative example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
1-111-11 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 200℃200 ℃ ××
1-121-12 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 200℃200 ℃ 500500
1-131-13 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 210℃210 ℃ 750750
1-141-14 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 210℃210 ℃ 10001000
1-151-15 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 150℃150 ℃ 150150
1-161-16 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 180℃180 DEG C 7070
1-171-17 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 180℃180 DEG C 8080
1-181-18 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 190℃190 ℃ 110110

참고예Reference Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
1-211-21 메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
220℃220 ℃ ××
1-221-22 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
230℃230 ℃ ××
1-231-23 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
180℃180 DEG C 9090
1-241-24 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
190℃190 ℃ 100100

(비교예 1-19) ?(Comparative Example 1-19)

도데실아민 0.08g 과 메틸옥타데실아민 0.02g 대신에, 프로필아민 (기화 온도: 40℃) 을 0.1g 사용한 것 이외는 실시예 1-1 과 동일한 방법에 의해 미립자 분산액을 조제하였다. ? A fine particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that 0.1 g of propylamine (vaporization temperature: 40 ° C.) was used instead of 0.08 g of dodecylamine and 0.02 g of methyloctadecylamine. ?

이렇게 하여 조제한 실시예 1-1 내지 1-9, 비교예 1-11 내지 1-19, 참고예 1-21 내지 1-24 의 각 미립자 분산액을 질소 중?실온 하에서 1 개월간 정치하였다. 그 결과, 실시예 1-1 내지 1-9, 비교예 1-11 내지 1-18, 참고예 1-21 내지 1-24 에서 조제한 미립자 분산액은 흑색 그대로였다. 이에 반하여, 비교예 1-19에서 조제한 미립자 분산액은, 미립자가 응집을 일으켜 침전하여, 상청액의 빛깔이 투명해졌다. 이에 의해, 실시예 1-1 내지 1-9, 비교예 1-11 내지 1-18, 참고예 1-21 내지 1-24 에서 조제한 미립자 분산액은, 분산제에 의해 금속 함유 미립자가 표면 피복되어 있다고 추측할 수 있어, 우수한 분산 안정성을 가지고 있는 것을 확인할 수 있었다.The fine particle dispersions of Examples 1-1 to 1-9, Comparative Examples 1-11 to 1-19, and Reference Examples 1-21 to 1-24 prepared in this way were allowed to stand for 1 month under nitrogen-room temperature. As a result, the fine particle dispersions prepared in Examples 1-1 to 1-9, Comparative Examples 1-11 to 1-18, and Reference Examples 1-21 to 1-24 were black. On the other hand, in the fine particle dispersion prepared in Comparative Example 1-19, fine particles aggregated and precipitated, and the color of the supernatant liquid became transparent. Thereby, the fine particle dispersion prepared in Examples 1-1 to 1-9, Comparative Examples 1-11 to 1-18, and Reference Examples 1-21 to 1-24 assumes that the metal-containing fine particles are surface-coated with a dispersant. It was possible to confirm that it had excellent dispersion stability.

또한, 상기 표 1-1, 1-2, 1-3 에 나타내는 결과로부터, 실시예 1-1 내지 1-9 에서 조제한 미립자 분산액은, 소성에 의해 체적 저항률이 낮은 금속막을 형성할 수 있는 것을 확인하였다. In addition, it is confirmed from the results shown in Tables 1-1, 1-2, and 1-3 that the fine particle dispersions prepared in Examples 1-1 to 1-9 can form metal films with low volume resistivity by firing. It was.

(실시예 2-1 내지 2-9, 비교예 2-11 내지 2-19, 참고예 2-21 내지 2-24: Ag 콜로이드)(Examples 2-1 to 2-9, Comparative Examples 2-11 to 2-19, Reference Examples 2-21 to 2-24: Ag colloid)

유리 용기 내에서, 시트르산나트륨 2 수화물 14g 과 황화철 (Ⅱ) 7 수화물 10g 을 증류수 60g 으로 용해하여 수용액을 얻었다. 이 수용액에, 10% 질산은 수용액 25g (질량 환산 농도, 이하 모두 동일) 을 첨가하고, 생성된 침전물을 원심 분리한 후, 1kg 의 증류수에 분산시켰다. 다음으로, 이 용액 25g 에, 도데실아민 0.04g 과 메틸옥타데실아민 0.01g 을 시클로헥산 2.5g 에 용해시킨 용액을 첨가하여, 1시간 교반하였다. 첨가 후의 용액을 교반하면서, 추가로 염화나트륨 2.5g 을 첨가하였다. 그 후, 1시간 정치하여, 수층과 유층으로 분리시킨 후, 유층만을 회수함으로써, Ag 콜로이드가 분산된 흑색의 미립자 분산액이 얻어졌다. In a glass container, 14 g of sodium citrate dihydrate and 10 g of iron (II) sulfide heptahydrate were dissolved in 60 g of distilled water to obtain an aqueous solution. To this aqueous solution, 25 g of a 10% silver nitrate aqueous solution (mass equivalent concentration, all the same below) was added, and the resulting precipitate was centrifuged and dispersed in 1 kg of distilled water. Next, the solution which melt | dissolved 0.04 g of dodecylamine and 0.01 g of methyloctadecylamine in 2.5 g of cyclohexanes was added to this solution, and it stirred for 1 hour. While the solution after the addition was stirred, 2.5 g of sodium chloride was further added. Thereafter, the mixture was left to stand for 1 hour and separated into an aqueous layer and an oil layer, and only the oil layer was recovered to obtain a black fine particle dispersion in which Ag colloid was dispersed.

얻어진 미립자 분산액을 유리판에 도포하고, 건조시킨 후, 형성된 퇴적물을 질소 분위기 중에서, 200℃ 에서 1시간 소성한 결과, 광택이 있는 금속 은색의 금속막이 형성되었다. 이 금속막의 체적 저항률을 측정한 결과, 5μΩ㎝ 였다. After the obtained fine particle dispersion was apply | coated to a glass plate and dried, the formed deposit was baked at 200 degreeC in nitrogen atmosphere for 1 hour, and the shiny metallic silver metal film was formed. It was 5 micro-ohm-cm when the volume resistivity of this metal film was measured.

동일하게 하여, 도데실아민 대신에 분산제 1 을 사용하고, 메틸옥타데실아민 대신에 분산제 2 를 사용하여 미립자 분산액을 조제하고, 소정의 소성 온도에서 1시간 소성하여 금속막을 형성하여 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과, 분산제 1 및 2 그리고 소성 온도를 하기 표 2-1 에 나타낸다. 또한, 비교예로서 1 종류의 분산제를 사용한 예, 및, 참고예로서 2 종류의 분산제를 사용하지만 기화 온도와 소성 온도의 관계로부터 제 4 양태에 있어서의 실시예에 해당하지 않는 예에 관해서, 실시예와 동일하게 미립자 분산액을 조제하고, 금속막의 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 2-2 및 표 2-3 에 나타낸다. 또한, 하기 표 2-2 및 표 2-3 중, 「×」 는 측정 불능을 나타낸다. Similarly, the fine particle dispersion was prepared using dispersant 1 instead of dodecylamine and dispersant 2 instead of methyloctadecylamine, and calcined at a predetermined firing temperature for 1 hour to form a metal film to measure volume resistivity. . As a result, the dispersants 1 and 2 and the firing temperature are shown in Table 2-1 below. In addition, the example which uses one type of dispersing agent as a comparative example, and the example which uses two types of dispersing agent as a reference example but does not correspond to the Example in a 4th aspect from the relationship between vaporization temperature and baking temperature are implemented. In the same manner as in the example, the fine particle dispersion was prepared, and the volume resistivity of the metal film was measured. The results are shown in Tables 2-2 and 2-3 below. In addition, in following Table 2-2 and Table 2-3, "x" shows the inability to measure.

실시예Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
2-12-1 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
200℃200 ℃ 55
2-22-2 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
200℃200 ℃ 99
2-32-3 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
210℃210 ℃ 44
2-42-4 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
옥타데실아민
205℃
Octadecylamine
205 ℃
200℃200 ℃ 77
2-52-5 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
190℃190 ℃ 1111
2-62-6 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸티올
205℃
Dodecanethiol
205 ℃
200℃200 ℃ 55
2-72-7 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
195℃195 ℃ 1010
2-82-8 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 66
2-92-9 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 99

비교예Comparative example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
2-112-11 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 200℃200 ℃ ××
2-122-12 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 200℃200 ℃ ××
2-132-13 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 210℃210 ℃ 10001000
2-142-14 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 210℃210 ℃ ××
2-152-15 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 150℃150 ℃ 250250
2-162-16 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 180℃180 DEG C 6565
2-172-17 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 180℃180 DEG C 8080
2-182-18 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 190℃190 ℃ 130130

참고예Reference Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
2-212-21 메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
220℃220 ℃ ××
2-222-22 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
230℃230 ℃ ××
2-232-23 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
180℃180 DEG C 9090
2-242-24 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
190℃190 ℃ 120120

(비교예 2-19) (Comparative Example 2-19)

도데실아민 0.04g 과 메틸옥타데실아민 0.01g 대신에, 프로필아민을 0.05g 사용한 것 이외는 실시예 2-1 과 동일한 방법에 의해 미립자 분산액을 조제하였다. A fine particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that 0.05 g of propylamine was used instead of 0.04 g of dodecylamine and 0.01 g of methyloctadecylamine.

이렇게 하여 조제한 실시예 2-1 내지 2-9, 비교예 2-11 내지 2-19, 참고예 2-21 내지 2-24 의 각 미립자 분산액을 질소 중?실온 하에서 1 개월간 정치하였다. 그 결과, 실시예 2-1 내지 2-9, 비교예 2-11 내지 2-18, 참고예 2-21 내지 2-24 에서 조제한 미립자 분산액은 흑색 그대로였다. 이에 반하여, 비교예 2-19에서 조제한 미립자 분산액은, 미립자가 응집을 일으켜 침전하여, 상청액의 빛깔이 투명해졌다. 이에 의해, 실시예 2-1 내지 2-9, 비교예 2-11 내지 2-18, 참고예 2-21 내지 2-24 에서 조제한 미립자 분산액은, 분산제에 의해 금속 함유 미립자가 표면 피복되어 있다고 추측할 수 있어, 우수한 분산 안정성을 가지고 있는 것을 확인할 수 있었다.The fine particle dispersions of Examples 2-1 to 2-9, Comparative Examples 2-11 to 2-19, and Reference Examples 2-21 to 2-24 prepared in this way were allowed to stand for 1 month under nitrogen-room temperature. As a result, the fine particle dispersion prepared in Examples 2-1 to 2-9, Comparative Examples 2-11 to 2-18, and Reference Examples 2-21 to 2-24 was black. On the other hand, in the fine particle dispersion prepared in Comparative Example 2-19, fine particles aggregated and precipitated, and the color of the supernatant liquid became transparent. Thereby, the fine particle dispersion prepared in Examples 2-1 to 2-9, Comparative Examples 2-11 to 2-18, and Reference Examples 2-21 to 2-24 assumes that the metal-containing fine particles are surface-coated with a dispersant. It was able to confirm that it had excellent dispersion stability.

또한, 상기 표 2-1, 2-2, 2-3 에 나타내는 결과로부터, 실시예 2-1 내지 2-9 에서 조제한 미립자 분산액은, 소성에 의해 체적 저항률이 낮은 금속막을 형성할 수 있는 것을 확인하였다. In addition, from the results shown in Tables 2-1, 2-2, and 2-3, it was confirmed that the fine particle dispersions prepared in Examples 2-1 to 2-9 can form metal films with low volume resistivity by firing. It was.

(실시예 3-1 내지 3-9, 비교예 3-11 내지 3-19, 참고예 3-21 내지 3-24: Au 콜로이드)(Examples 3-1 to 3-9, Comparative Examples 3-11 to 3-19, Reference Examples 3-21 to 3-24: Au colloid)

유리 용기 내에서, 염화금 (Ⅲ) 산 1.5g 을 증류수 150g 으로 용해하여 수용액을 얻었다. 이 수용액을 가열하여 비등시키면서, 1% 시트르산 수용액 3g (질량 환산 농도, 이하 모두 동일) 을 첨가하였다. 90초 후, 액색은 적색으로 변색되었다. 다음으로, 이 용액 150g 에, 도데실아민 0.04g 과 메틸옥타데실아민0.01g 을 n-옥탄 5g 에 용해시킨 용액을 첨가하여, 1시간 교반하였다. 첨가 후의 용액을 교반하면서, 추가로 염화나트륨 2.5g 을 첨가하였다. 그 후, 1시간 정치하여, 수층과 유층으로 분리시킨 후, 유층만을 회수함으로써, Au 콜로이드가 분산된 흑적색의 미립자 분산액이 얻어졌다. In a glass container, 1.5 g of gold (III) chloride acids were dissolved in 150 g of distilled water to obtain an aqueous solution. 3g (mass conversion concentration, all the same below) of 1% citric acid aqueous solution was added, heating this boiling aqueous solution. After 90 seconds, the liquid color turned red. Next, to 150 g of this solution, a solution in which 0.04 g of dodecylamine and 0.01 g of methyloctadecylamine were dissolved in 5 g of n-octane was added, followed by stirring for 1 hour. While the solution after the addition was stirred, 2.5 g of sodium chloride was further added. Thereafter, the mixture was left to stand for 1 hour and separated into an aqueous layer and an oil layer, and only the oil layer was recovered to obtain a black red fine particle dispersion in which Au colloid was dispersed.

얻어진 미립자 분산액을 유리판에 도포하고, 건조시킨 후, 형성된 퇴적물을, 질소 분위기 중에서, 200℃ 에서 1시간 소성한 결과, 광택이 있는 금속 금색의 금속막이 형성되었다. 이 금속막의 체적 저항률을 측정한 결과, 6μΩ㎝ 였다. After the obtained fine particle dispersion was apply | coated to a glass plate and dried, the formed deposit was baked at 200 degreeC for 1 hour in nitrogen atmosphere, and the shiny metallic gold metal film was formed. It was 6 micro-ohm cm when the volume resistivity of this metal film was measured.

동일하게 하여, 도데실아민 대신에 분산제 1 을 사용하고, 메틸옥타데실아민 대신에 분산제 2 를 사용하여 미립자 분산액을 조제하고, 소정의 소성 온도에서 1시간 소성하고 금속막을 형성하여 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과, 분산제 1 및 2 그리고 소성 온도를 하기 표 3-1 에 나타낸다. 또한, 비교예로서 1 종류의 분산제를 사용한 예, 및, 참고예로서 2 종류의 분산제를 사용하지만 기화 온도와 소성 온도의 관계로부터 제 4 양태에 있어서의 실시예에 해당하지 않는 예에 관해서, 실시예와 동일하게 미립자 분산액을 조제하고, 금속막의 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 3-2 및 표 3-3 에 나타낸다. 또, 하기 표 3-2 및 표 3-3 중, 「×」 는 측정 불능을 나타낸다. Similarly, the fine particle dispersion was prepared using the dispersing agent 1 instead of the dodecylamine, and the dispersing agent 2 instead of the methyloctadecylamine, baking for 1 hour at the predetermined | prescribed baking temperature, and forming a metal film and measuring the volume resistivity. . As a result, the dispersants 1 and 2 and the firing temperature are shown in Table 3-1 below. In addition, the example which uses one type of dispersing agent as a comparative example, and the example which uses two types of dispersing agent as a reference example but does not correspond to the Example in a 4th aspect from the relationship between vaporization temperature and baking temperature are implemented. In the same manner as in the example, the fine particle dispersion was prepared, and the volume resistivity of the metal film was measured. The results are shown in Tables 3-2 and 3-3 below. In addition, in the following Table 3-2 and Table 3-3, "x" represents the inability to measure.

실시예Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
3-13-1 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
200℃200 ℃ 66
3-23-2 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
200℃200 ℃ 88
3-33-3 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
210℃210 ℃ 44
3-43-4 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
옥타데실아민
205℃
Octadecylamine
205 ℃
200℃200 ℃ 88
3-53-5 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
190℃190 ℃ 1818
3-63-6 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸티올
205℃
Dodecanethiol
205 ℃
200℃200 ℃ 66
3-73-7 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
195℃195 ℃ 1111
3-83-8 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 55
3-93-9 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 99

비교예Comparative example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
3-113-11 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 200℃200 ℃ 650650
3-123-12 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 200℃200 ℃ ××
3-133-13 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 210℃210 ℃ ××
3-143-14 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 210℃210 ℃ ××
3-153-15 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 150℃150 ℃ 550550
3-163-16 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 180℃180 DEG C 170170
3-173-17 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 180℃180 DEG C 210210
3-183-18 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 190℃190 ℃ 350350

참고예Reference Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
3-213-21 메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
220℃220 ℃ 800800
3-223-22 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
230℃230 ℃ ××
3-233-23 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
180℃180 DEG C 110110
3-243-24 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
190℃190 ℃ 230230

(비교예 3-19) (Comparative Example 3-19)

도데실아민 0.04g 과 메틸옥타데실아민 0.01g 대신에, 프로필아민을 0.05g 사용한 것 이외는 실시예 3-1 과 동일한 방법에 의해 미립자 분산액을 조제하였다. A fine particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 3-1, except that 0.05 g of propylamine was used instead of 0.04 g of dodecylamine and 0.01 g of methyloctadecylamine.

이렇게 하여 조제한 실시예 3-1 내지 3-9, 비교예 3-11 내지 3-19, 참고예 3-21 내지 3-24 의 각 미립자 분산액을 질소 중?실온 하에서 1 개월간 정치하였다. 그 결과, 실시예 3-1 내지 3-9, 비교예 3-11 내지 3-18, 참고예 3-21 내지 3-24 에서 조제한 미립자 분산액은 흑색 그대로였다. 이에 반하여, 비교예 3-19에서 조제한 미립자 분산액은, 미립자가 응집을 일으켜 침전하여, 상청액의 빛깔이 투명해졌다. 이에 의해, 실시예 3-1 내지 3-9, 비교예 3-11 내지 3-18, 참고예 3-21 내지 3-24 에서 조제한 미립자 분산액은, 분산제에 의해 금속 함유 미립자가 표면 피복되어 있다고 추측할 수 있어, 우수한 분산 안정성을 가지고 있는 것을 확인할 수 있었다. The fine particle dispersions of Examples 3-1 to 3-9, Comparative Examples 3-11 to 3-19, and Reference Examples 3-21 to 3-24 prepared in this way were allowed to stand for 1 month under nitrogen-room temperature. As a result, the fine particle dispersion prepared in Examples 3-1 to 3-9, Comparative Examples 3-11 to 3-18, and Reference Examples 3-21 to 3-24 was black. On the other hand, in the fine particle dispersion prepared in Comparative Example 3-19, fine particles aggregated and precipitated, and the color of the supernatant liquid became transparent. Thereby, in the fine particle dispersion prepared in Examples 3-1 to 3-9, Comparative Examples 3-11 to 3-18, and Reference Examples 3-21 to 3-24, it is assumed that metal-containing fine particles are surface-coated with a dispersant. It was able to confirm that it had excellent dispersion stability.

또한, 상기 표 3-1, 3-2, 3-3 에 나타내는 결과로부터, 실시예 3-1 내지 3-9 에서 조제한 미립자 분산액은, 소성에 의해 체적 저항률이 낮은 금속막을 형성할 수 있는 것을 확인하였다. From the results shown in Tables 3-1, 3-2, and 3-3, it was confirmed that the fine particle dispersions prepared in Examples 3-1 to 3-9 can form metal films with low volume resistivity by firing. It was.

(실시예 4-1 내지 4-9, 비교예 4-11 내지 4-19, 참고예 4-21 내지 4-24: Ni 콜로이드) (Examples 4-1 to 4-9, Comparative Examples 4-11 to 4-19, Reference Examples 4-21 to 4-24: Ni colloid)

유리 용기 내에서, 염화니켈 (Ⅱ) 2 수화물 5g 을 증류수 150g 으로 용해하여 수용액을 얻었다. 이 수용액에, 40% 시트르산 수용액 90g (질량 환산 농도, 이하 모두 동일) 을 첨가하고, 추가로 도데실아민 0.08g 과 메틸옥타데실아민 0.02g 을 n-헥산 10g 에 용해시킨 용액을 첨가하였다. 첨가 후의 용액을 격렬하게 교반하면서, 3% 수소화붕소나트륨 수용액 150g 을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후, 1시간 정치하여, 수층과 유층으로 분리시킨 후, 유층만을 회수함으로써, Ni 콜로이드가 분산된 흑색의 미립자 분산액이 얻어졌다. In a glass container, 5 g of nickel chloride (II) dihydrate was dissolved in 150 g of distilled water to obtain an aqueous solution. To this aqueous solution, 90 g of a 40% citric acid aqueous solution (mass equivalent concentration, all the same below) was added, and a solution in which 0.08 g of dodecylamine and 0.02 g of methyloctadecylamine were dissolved in 10 g of n-hexane was further added. 150 g of 3% sodium borohydride aqueous solution was dripped slowly, stirring the solution after addition vigorously. After completion of the dropwise addition, the mixture was allowed to stand for 1 hour, separated into an aqueous layer and an oil layer, and only the oil layer was recovered to obtain a black fine particle dispersion in which Ni colloid was dispersed.

얻어진 미립자 분산액을 유리판에 도포하고, 건조시킨 후, 형성된 퇴적물을, 질소 분위기 중에서, 200℃ 에서 1시간 소성한 결과, 회색의 금속막이 형성되었다. 이 금속막의 체적 저항률을 측정한 결과, 23μΩ㎝ 였다. The obtained fine particle dispersion was apply | coated to a glass plate, and after drying, the formed deposit was baked at 200 degreeC in nitrogen atmosphere for 1 hour, and the gray metal film was formed. The volume resistivity of this metal film was measured, and found to be 23 μΩcm.

동일하게 하여, 도데실아민 대신에 분산제 1 을 사용하고, 메틸옥타데실아민 대신에 분산제 2 를 사용하여 미립자 분산액을 조제하고, 소정의 소성 온도에서 1시간 소성하고 금속막을 형성하여 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과, 분산제 1 및 2 그리고 소성 온도를 하기 표 4-1 에 나타낸다. 또한, 비교예로서 1 종류의 분산제를 사용한 예, 및, 참고예로서 2 종류의 분산제를 사용하지만 기화 온도와 소성 온도의 관계로부터 제 4 양태에 있어서의 실시예에 해당하지 않는 예에 관해서, 실시예와 동일하게 미립자 분산액을 조제하고, 금속막의 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 4-2 및 표 4-3 에 나타낸다. 또, 하기 표 4-2 및 표 4-3 중, 「×」 는 측정 불능을 나타낸다. Similarly, the fine particle dispersion was prepared using the dispersing agent 1 instead of the dodecylamine, and the dispersing agent 2 instead of the methyloctadecylamine, baking for 1 hour at the predetermined | prescribed baking temperature, and forming a metal film and measuring the volume resistivity. . As a result, the dispersants 1 and 2 and the firing temperature are shown in Table 4-1 below. In addition, the example which uses one type of dispersing agent as a comparative example, and the example which uses two types of dispersing agent as a reference example but does not correspond to the Example in a 4th aspect from the relationship between vaporization temperature and baking temperature are implemented. In the same manner as in the example, the fine particle dispersion was prepared, and the volume resistivity of the metal film was measured. The results are shown in Tables 4-2 and 4-3 below. In addition, in the following Table 4-2 and Table 4-3, "x" represents the inability to measure.

실시예Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
4-14-1 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
200℃200 ℃ 2323
4-24-2 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
200℃200 ℃ 3030
4-34-3 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
210℃210 ℃ 2929
4-44-4 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
옥타데실아민
205℃
Octadecylamine
205 ℃
200℃200 ℃ 3535
4-54-5 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
190℃190 ℃ 2222
4-64-6 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸티올
205℃
Dodecanethiol
205 ℃
200℃200 ℃ 2727
4-74-7 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
195℃195 ℃ 2424
4-84-8 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 3131
4-94-9 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 2929

비교예Comparative example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
4-114-11 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 200℃200 ℃ ××
4-124-12 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 200℃200 ℃ 350350
4-134-13 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 210℃210 ℃ ××
4-144-14 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 210℃210 ℃ 15001500
4-154-15 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 150℃150 ℃ 15001500
4-164-16 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 180℃180 DEG C 530530
4-174-17 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 180℃180 DEG C 780780
4-184-18 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 190℃190 ℃ 820820

참고예Reference Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
4-214-21 메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
220℃220 ℃ ××
4-224-22 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
230℃230 ℃ 580580
4-234-23 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
180℃180 DEG C 680680
4-244-24 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
190℃190 ℃ 800800

(비교예 4-19) (Comparative Example 4-19)

도데실아민 0.08g 과 메틸옥타데실아민 0.02g 대신에, 프로필아민 (기화 온도: 40℃) 을 0.1g 사용한 것 이외는 실시예 4-1 과 동일한 방법에 의해 미립자 분산액을 조제하였다. A fine particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 4-1, except that 0.1 g of propylamine (vaporization temperature: 40 ° C) was used instead of 0.08 g of dodecylamine and 0.02 g of methyloctadecylamine.

이렇게 하여 조제한 실시예 4-1 내지 4-9, 비교예 4-11 내지 4-19, 참고예 4-21 내지 4-24 의 각 미립자 분산액을 질소 중?실온 하에서 1 개월간 정치하였다. 그 결과, 실시예 4-1 내지 4-9, 비교예 4-11 내지 4-18, 참고예 4-21 내지 4-24 에서 조제한 미립자 분산액은 흑색 그대로였다. 이에 반하여, 비교예 4-19 에서 조제한 미립자 분산액은, 미립자가 응집을 일으켜 침전하여, 상청액의 빛깔이 투명해졌다. 이에 의해, 실시예 4-1 내지 4-9, 비교예 4-11 내지 4-18, 참고예 4-21 내지 4-24 에서 조제한 미립자 분산액은, 분산제에 의해 금속 함유 미립자가 표면 피복되어 있다고 추측할 수 있어, 우수한 분산 안정성을 가지고 있는 것을 확인할 수 있었다. The fine particle dispersions of Examples 4-1 to 4-9, Comparative Examples 4-11 to 4-19, and Reference Examples 4-21 to 4-24 prepared in this way were allowed to stand for 1 month under nitrogen-room temperature. As a result, the fine particle dispersion prepared in Examples 4-1 to 4-9, Comparative Examples 4-11 to 4-18, and Reference Examples 4-21 to 4-24 was black. On the other hand, in the fine particle dispersion prepared in Comparative Example 4-19, the fine particles caused aggregation and precipitated, and the color of the supernatant liquid became transparent. Thereby, in the fine particle dispersion prepared in Examples 4-1 to 4-9, Comparative Examples 4-11 to 4-18, and Reference Examples 4-21 to 4-24, it is assumed that metal-containing fine particles are surface-coated with a dispersant. It was able to confirm that it had excellent dispersion stability.

또한, 상기 표 4-1, 4-2, 4-3 에 나타내는 결과로부터, 실시예 4-1 내지 4-9 에서 조제한 미립자 분산액은, 소성에 의해 체적 저항률이 낮은 금속막을 형성할 수 있는 것을 확인하였다. In addition, from the results shown in Tables 4-1, 4-2, and 4-3, it was confirmed that the fine particle dispersions prepared in Examples 4-1 to 4-9 can form metal films with low volume resistivity by firing. It was.

(실시예 5-1 내지 5-9, 비교예 5-11 내지 5-19, 참고예 5-21 내지 5-24: CuH 콜로이드)(Examples 5-1 to 5-9, Comparative Examples 5-11 to 5-19, Reference Examples 5-21 to 5-24: CuH colloid)

유리 용기 내에서, 염화구리 (Ⅱ) 2 수화물 5g 을 증류수 150g 으로 용해하여 수용액을 얻었다. 이 수용액에, 40% 시트르산 수용액 90g (질량 환산 농도, 이하 모두 동일) 을 첨가하고, 추가로 도데실아민 0.08g 과 메틸옥타데실아민 0.02g 을 톨루엔 10g 에 용해시킨 용액을 첨가하였다. 첨가 후의 용액을 격렬하게 교반하면서, 3% 수소화붕소나트륨 수용액 150g 을 천천히 적하하였다. 적하 종료 후, 1시간 정치하여, 수층과 유층으로 분리시킨 후, 유층만을 회수함으로써, CuH 콜로이드가 분산된 흑색의 미립자 분산액이 얻어졌다. In a glass container, 5 g of copper (II) chloride hydrates were dissolved in 150 g of distilled water to obtain an aqueous solution. To this aqueous solution, 90 g of 40% citric acid aqueous solution (mass equivalent concentration, all the same below) was added, and a solution in which 0.08 g of dodecylamine and 0.02 g of methyloctadecylamine were dissolved in 10 g of toluene was further added. 150 g of 3% sodium borohydride aqueous solution was dripped slowly, stirring the solution after addition vigorously. After completion of the dropwise addition, the mixture was allowed to stand for 1 hour, separated into an aqueous layer and an oil layer, and only the oil layer was recovered to obtain a black fine particle dispersion in which the CuH colloid was dispersed.

얻어진 미립자 분산액에 AF 솔벤트 (신일본 석유 제조) 10g 을 첨가하고, 실온 하에서 진공 펌프를 사용하여 감압으로 함으로써 톨루엔을 기화시켜 용매 치환을 행하였다. 10 g of AF solvents (manufactured by Nippon Petroleum Co., Ltd.) was added to the obtained fine particle dispersion, and toluene was evaporated by performing a reduced pressure using a vacuum pump at room temperature to carry out solvent substitution.

이렇게 하여 얻어진 AF 솔벤트를 분산매로 한 미립자 분산액을 유리판에 도포하고, 건조시킨 후, 형성된 퇴적물을 질소 분위기 중에서, 200℃ 에서 1시간 소성한 결과, 광택이 있는 금속 구리색의 금속막이 형성되었다. 이 금속막의 체적 저항률을 측정한 결과, 7μΩ㎝ 였다. The fine particle dispersion using AF solvent thus obtained as a dispersion medium was applied to the glass plate and dried, and then the formed deposit was fired at 200 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. As a result, a shiny metallic copper colored metal film was formed. It was 7 micro-ohm-cm when the volume resistivity of this metal film was measured.

동일하게 하여, 도데실아민 대신에 분산제 1 을 사용하고, 메틸옥타데실아민 대신에 분산제 2 를 사용하여 미립자 분산액을 조제하고, 소정의 소성 온도에서 1시간 소성하여 금속막을 형성하여 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과, 분산제 1 및 2 그리고 소성 온도를 하기 표 5-1 에 나타낸다. 또한, 비교예로서 1 종류의 분산제를 사용한 예, 및, 참고예로서 2 종류의 분산제를 사용하지만 기화 온도와 소성 온도의 관계로부터 제 4 양태에 있어서의 실시예에 해당하지 않는 예에 관해서, 실시예와 동일하게 미립자 분산액을 조제하고, 금속막의 체적 저항률을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 5-2 및 표 5-3 에 나타낸다. 또한, 하기 표 5-2 및 표 5-3 중, 「×」 는 측정 불능을 나타낸다. Similarly, the fine particle dispersion was prepared using dispersant 1 instead of dodecylamine and dispersant 2 instead of methyloctadecylamine, and calcined at a predetermined firing temperature for 1 hour to form a metal film to measure volume resistivity. . As a result, the dispersants 1 and 2 and the firing temperature are shown in Table 5-1 below. In addition, the example which uses one type of dispersing agent as a comparative example, and the example which uses two types of dispersing agent as a reference example but does not correspond to the Example in a 4th aspect from the relationship between vaporization temperature and baking temperature are implemented. In the same manner as in the example, the fine particle dispersion was prepared, and the volume resistivity of the metal film was measured. The results are shown in Tables 5-2 and 5-3 below. In addition, in following Table 5-2 and Table 5-3, "x" shows the inability to measure.

실시예Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
5-15-1 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
200℃200 ℃ 88
5-25-2 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
200℃200 ℃ 77
5-35-3 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
210℃210 ℃ 88
5-45-4 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
옥타데실아민
205℃
Octadecylamine
205 ℃
200℃200 ℃ 99
5-55-5 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
190℃190 ℃ 1111
5-65-6 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
도데칸티올
205℃
Dodecanethiol
205 ℃
200℃200 ℃ 1111
5-75-7 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
195℃195 ℃ 99
5-85-8 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 1111
5-95-9 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데칸티올
220℃
Tetradecanethiol
220 ℃
210℃210 ℃ 1313

비교예Comparative example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
5-115-11 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 200℃200 ℃ ××
5-125-12 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 200℃200 ℃ 400400
5-135-13 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 210℃210 ℃ 650650
5-145-14 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
210℃210 ℃ 900900
5-155-15 도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
-- 150℃150 ℃ 140140
5-165-16 테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
-- 180℃180 DEG C 9090
5-175-17 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
-- 180℃180 DEG C 100100
5-185-18 도데칸산
200℃
Dodecanosan
200 ℃
-- 190℃190 ℃ 110110

참고예Reference Example 분산제 1
기화 온도
Dispersants 1
Vaporization temperature
분산제 2
기화 온도
Dispersants 2
Vaporization temperature
소성 온도
[℃]
Firing temperature
[° C]
체적 저항률
[μΩ㎝]
Volume resistivity
[μΩcm]
5-215-21 메틸옥타데실아민
210℃
Methyloctadecylamine
210 ℃
도데실아민
180℃
Dodecylamine
180 ℃
220℃220 ℃ ××
5-225-22 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
230℃230 ℃ ××
5-235-23 헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
테트라데실아민
190℃
Tetradecylamine
190 ℃
180℃180 DEG C 110110
5-245-24 디메틸옥타데실아민
215℃
Dimethyloctadecylamine
215 ℃
헥사데실아민
200℃
Hexadecylamine
200 ℃
190℃190 ℃ 120120

(비교예 5-19) (Comparative Example 5-19)

도데실아민 0.08g 과 메틸옥타데실아민 0.02g 대신에, 프로필아민을 0.1g 사용한 것 이외는 실시예 5-1 과 동일한 방법에 의해 미립자 분산액을 조제하였다. A fine particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 5-1, except that 0.1 g of propylamine was used instead of 0.08 g of dodecylamine and 0.02 g of methyloctadecylamine.

이렇게 하여 조제한 실시예 5-1 내지 5-9, 비교예 5-11 내지 5-19, 참고예 5-21 내지 5-24 의 각 미립자 분산액을 질소 중?실온 하에서 1 개월간 정치하였다. 그 결과, 실시예 5-1 내지 5-9, 비교예 5-11 내지 5-18, 참고예 5-21 내지 5-24 에서 조제한 미립자 분산액은 흑색 그대로였다. 이에 반하여, 비교예 5-19에서 조제한 미립자 분산액은, 미립자가 응집을 일으켜 침전하여, 상청액의 빛깔이 투명해졌다. 이에 의해, 실시예 5-1 내지 5-9, 비교예 5-11 내지 5-18, 참고예 5-21 내지 5-24 에서 조제한 미립자 분산액은, 분산제에 의해 금속 함유 미립자가 표면 피복되어 있다고 추측할 수 있어, 우수한 분산 안정성을 가지고 있는 것을 확인할 수 있었다. The fine particle dispersions of Examples 5-1 to 5-9, Comparative Examples 5-11 to 5-19, and Reference Examples 5-21 to 5-24 prepared in this way were allowed to stand for 1 month under nitrogen-room temperature. As a result, the fine particle dispersion prepared in Examples 5-1 to 5-9, Comparative Examples 5-11 to 5-18, and Reference Examples 5-21 to 5-24 was black. On the other hand, in the fine particle dispersion prepared in Comparative Example 5-19, fine particles aggregated and precipitated, and the color of the supernatant liquid became transparent. Thereby, the fine particle dispersion prepared in Examples 5-1 to 5-9, Comparative Examples 5-11 to 5-18, and Reference Examples 5-21 to 5-24 assumes that the metal-containing fine particles are surface-coated with a dispersant. It was able to confirm that it had excellent dispersion stability.

또한, 상기 표 5-1 에 나타내는 결과로부터, 실시예 5-1 내지 5-9 에서 조제한 미립자 분산액은, 소성에 의해 체적 저항률이 낮은 금속막을 형성할 수 있는 것을 확인하였다. From the results shown in Table 5-1 above, it was confirmed that the fine particle dispersions prepared in Examples 5-1 to 5-9 can form metal films with low volume resistivity by firing.

상기 표 1 ~ 5 에 나타내는 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 소성 온도 이하에서 기화되는 분산제와 소성 온도 이상에서 기화되는 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자 (CuH 콜로이드, Ag 콜로이드, Au 콜로이드, Ni 콜로이드) 가 분산된 미립자 분산액을 사용하여 형성된 금속막은, 체적 저항률이 현저하게 낮은 것을 알 수 있었다. As can be seen from the results shown in Tables 1 to 5, metal-containing fine particles (CuH colloid, Ag colloid, Au colloid, Ni colloid) coated with a dispersant vaporized below the firing temperature and a dispersant vaporized above the firing temperature It was found that the volume resistivity of the metal film formed by using the dispersed fine particle dispersion was remarkably low.

또한, 본 출원의 우선권 주장의 기초가 되는 일본특허출원 2004-68065호 (2004년 3월 10일에 일본 특허청에 출원) 의 전명세서의 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입하는 것이다. In addition, the contents of the full specification of Japanese Patent Application No. 2004-68065 (filed with the Japan Patent Office on March 10, 2004), which are the basis for claiming priority of the present application, are cited herein, and are introduced as the disclosure of the specification of the present invention. It is.

Claims (6)

기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제에 의해 표면 피복된 금속 함유 미립자로서,As metal-containing microparticles | fine-particles surface-coated by the at least 2 sort (s) of dispersing agent from which vaporization temperature differs, 상기 미립자는, 상기 미립자의 평균 입자 직경이 1 ~ 100 ㎚ 인 미립자만으로 구성되고, 150 ~ 210 ℃ 의 소성의 온도에서의 소성에 사용되는 미립자 분산액에 분산되어 있고,The said microparticles | fine-particles consist only of microparticles | fine-particles whose average particle diameter of the said microparticles are 1-100 nm, are disperse | distributed to the microparticle dispersion liquid used for baking at the temperature of the baking of 150-210 degreeC, 상기 소성 온도 미만에서 기화되는 분산제와 상기 소성 온도 이상에서 기화되는 분산제로 표면 피복된 것을 특징으로 하는 금속 함유 미립자.Metal-containing fine particles, which are surface-coated with a dispersant vaporized below the firing temperature and a dispersant vaporized above the firing temperature. 삭제delete 제 1 항에 기재된 금속 함유 미립자가, 비수용성의 유기성 액체 중에 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 미립자 분산액. The fine particle dispersion liquid of the metal containing fine particle of Claim 1 is disperse | distributed in the water-insoluble organic liquid. 제 3 항에 기재된 미립자 분산액을 제조하는 제조방법으로서, As a manufacturing method of manufacturing the fine particle dispersion of Claim 3, 수용성의 금속 함유 화합물에 물을 첨가하여 금속 이온을 함유하는 수용액을 얻는 공정과, Adding water to a water-soluble metal-containing compound to obtain an aqueous solution containing metal ions, 상기 수용액에, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 첨가하는 공정과, Adding a water-insoluble organic liquid in which at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures are dissolved into the aqueous solution; 상기 유기성 액체 첨가 후에, 교반시키면서 환원제를 첨가함으로써, 상기 금 속 이온을 환원하고, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자를 생성하는 공정을 구비하는 미립자 분산액의 제조방법. After the addition of the organic liquid, a method of producing a fine particle dispersion comprising the step of reducing the metal ions by producing a metal-containing fine particle surface-coated with at least two kinds of dispersants having different vaporization temperatures by adding a reducing agent with stirring. . 제 3 항에 기재된 미립자 분산액을 제조하는 제조방법으로서, As a manufacturing method of manufacturing the fine particle dispersion of Claim 3, 시트르산 이온 및 제 2 철 이온을 함유하는 수용액을 얻는 공정과, Obtaining an aqueous solution containing citrate ions and ferric ions, 상기 수용액에, 금, 은, 백금, 팔라듐, 텅스텐, 탄탈, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 티탄 및 알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 금속의 이온을 함유하는 수용액을, 교반시키면서 첨가함으로써, 그 금속 이온을 환원하고, 금속 함유 미립자를 얻는 공정과, By adding while stirring the aqueous solution containing the ion of 1 or more types of metals chosen from the group which consists of gold, silver, platinum, palladium, tungsten, tantalum, bismuth, lead, indium, tin, titanium, and aluminum, Reducing the metal ions to obtain metal-containing fine particles; 상기 금속 함유 미립자를 함유하는 액에, 상기 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제를 용해시킨 비수용성의 유기성 액체를 교반시키면서 첨가함으로써, 그 기화 온도가 다른 적어도 2 종의 분산제로 표면 피복된 금속 함유 미립자를 생성하는 공정을 구비하는 미립자 분산액의 제조방법. The metal containing surface-coated with the at least 2 type of dispersing agent from which the vaporization temperature differs by adding to the liquid containing the said metal containing microparticles, stirring, the water-insoluble organic liquid which melt | dissolved the at least 2 type of dispersing agent from which the said vaporization temperature differs, stirring. A method for producing a particulate dispersion comprising a step of producing particulates. 제 3 항에 기재된 미립자 분산액을 피도포물에 도포한 후, 상기 적어도 2 종의 분산제 중 가장 높은 기화 온도와 가장 낮은 기화 온도 사이의 온도에서 소성함으로써 형성되는 체적 저항률이 60μΩ㎝ 이하인 도전성 금속 함유 재료. A conductive metal-containing material having a volume resistivity of 60 μΩcm or less formed by applying the fine particle dispersion according to claim 3 to the object to be coated and then baking at a temperature between the highest and lowest vaporization temperatures of the at least two dispersants. .
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000504374A (en) 1995-12-28 2000-04-11 アール. ヒース,ジェイムズ Monodisperse microcrystals of organically functionalized metals
JP2002317215A (en) * 2001-04-19 2002-10-31 Mitsuboshi Belting Ltd Method for producing metallic fine particle
JP2002356630A (en) 2001-05-30 2002-12-13 Dowa Mining Co Ltd Copper powder for low-temperature baking or conductive paste
US20040004209A1 (en) * 2000-10-25 2004-01-08 Yorishige Matsuba Electroconductive metal paste and method for production thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000504374A (en) 1995-12-28 2000-04-11 アール. ヒース,ジェイムズ Monodisperse microcrystals of organically functionalized metals
US20040004209A1 (en) * 2000-10-25 2004-01-08 Yorishige Matsuba Electroconductive metal paste and method for production thereof
JP2002317215A (en) * 2001-04-19 2002-10-31 Mitsuboshi Belting Ltd Method for producing metallic fine particle
JP2002356630A (en) 2001-05-30 2002-12-13 Dowa Mining Co Ltd Copper powder for low-temperature baking or conductive paste

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