KR101153547B1 - Method for removing oxide film, method for coating surface of steel sheet and steel sheet having a good adhesiveness - Google Patents

Method for removing oxide film, method for coating surface of steel sheet and steel sheet having a good adhesiveness Download PDF

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Abstract

본 발명은 강판표면에 존재하는 산화막의 식각방법에 관한 것으로서, 강판의 표면보호, 내구성 향상, 의장성 부여 등을 목적으로 행해지는 진공 증착을 이용한 코팅층과 강판과의 밀착력을 확보하기 위해, 강판의 표면에 존재하는 수분 등의 불순물과 함께 산화막을 식각하는 방법에 있어서, 효율적인 설비 및 공정 조건을 설정할 수 있는 식각조건을 제공하며, 구체적으로는
하나 또는 2 이상의 챔버 및 상기 챔버의 내부에 설치된 플라즈마 발생 장치를 구비하며, 강판 표면에 존재하는 산화막 두께를 측정하고, 전력을 공급하여 플라즈마를 발생시킴으로써 상기 챔버를 통과하는 강판의 표면에 형성된 산화막을 식각하되, 상기 식각 후 강판 표면에 잔존하는 산화막은 자연 산화막 두께를 기준으로 70% 이하의 두께(단, 0을 제외한다.)로 잔존하는 것을 특징으로 하는 강판 표면의 산화막 식각방법을 제공한다.
The present invention relates to an etching method of an oxide film present on the surface of a steel sheet, in order to secure adhesion between the coating layer and the steel sheet using vacuum deposition, which is performed for the purpose of protecting the surface of the steel sheet, improving durability, and providing designability. In the method of etching an oxide film together with impurities such as moisture present on the surface, an etching condition for setting efficient equipment and process conditions is provided.
One or more chambers and a plasma generating device installed inside the chamber, the oxide film formed on the surface of the steel sheet passing through the chamber by measuring the thickness of the oxide film present on the surface of the steel sheet, and supplying power to generate plasma After etching, the oxide film remaining on the surface of the steel sheet after the etching provides a method of etching the oxide film on the surface of the steel sheet, characterized in that the remaining thickness of 70% or less based on the natural oxide film thickness (excluding 0).

Description

강판 표면 코팅방법 및 밀착성이 우수한 강판{METHOD FOR COATING SURFACE OF STEEL SHEET AND STEEL SHEET HAVING A GOOD ADHESIVENESS}METHOD FOR COATING SURFACE OF STEEL SHEET AND STEEL SHEET HAVING A GOOD ADHESIVENESS}

본 발명은 강판표면에 존재하는 산화막의 식각방법에 관한 것으로서, 강판의 표면보호, 내구성 향상, 의장성 부여 등을 목적으로 행해지는 진공 증착을 이용한 코팅층과 강판과의 밀착력을 확보하기 위해, 강판의 표면에 존재하는 수분 등의 불순물과 함께 효율적으로 산화막을 식각하는 방법을 제공하며, 이로부터, 효율적인 설비 및 공정 조건을 설정할 수 있는 식각조건을 제공하고자 한다.
The present invention relates to an etching method of an oxide film present on the surface of a steel sheet, in order to secure adhesion between the coating layer and the steel sheet using vacuum deposition, which is performed for the purpose of protecting the surface of the steel sheet, improving durability, and providing designability. The present invention provides a method for efficiently etching an oxide film together with impurities such as moisture present on a surface thereof, and from this, to provide an etching condition for setting efficient equipment and process conditions.

일반적으로 강판 표면은 불순물, 수분과 함께, 도 2에 개략적으로 나타낸 바와 같이, 약 10㎚ 정도의 자연 산화막이 존재한다고 알려져 있다. 그러나, 이와 같은 강판 표면에 수분, 불순물, 산화막 등이 존재하는 경우에는, 강판의 표면보호, 내구성 향상, 의장성 부여 등의 다양한 목적을 위해 표면코팅을 실시할 경우 그 코팅층과 강판과의 밀착력에 악영향을 주는바, 이와 같은 강판 표면의 불순물이나 산화막 등은 반드시 제거되어야 하는 것으로 보고되고 있다. 따라서, 이와 같은 산화막 등을 제거하기 위해 강판 표면에 대한 식각 공정이 행해지고 있다.
In general, the surface of the steel sheet is known to have a natural oxide film of about 10 nm, as shown in Fig. 2 together with impurities and moisture. However, when moisture, impurities, oxide films, etc. are present on the surface of the steel sheet, when the surface coating is performed for various purposes such as protecting the surface of the steel sheet, improving durability, and providing designability, the adhesion between the coating layer and the steel sheet It is reported that such an impurity, oxide film or the like on the surface of the steel sheet must be removed. Therefore, in order to remove such an oxide film etc., the etching process with respect to the steel plate surface is performed.

그러나, 강판 표면에 존재하는 산화막의 두께가 밀착력에 어떠한 영향을 미치는지에 대한 정량적인 분석은 거의 진행되지 않고 있으며, 식각 후에 강판과 코팅 층 사이에 어느 정도의 산화막이 제거 되었는지는 보고되어 있지 않다. 그로 인해, 통상의 경우에는 10nm 두께의 산화막을 완전히 제거하기 위한 식각 공정이 행해지고 있다.
However, quantitative analysis of how the thickness of the oxide film on the surface of the steel sheet affects the adhesion has hardly progressed, and it is not reported how much oxide film was removed between the steel sheet and the coating layer after etching. Therefore, in the usual case, an etching process for completely removing an oxide film having a thickness of 10 nm is performed.

이에, 산화막의 식각 정도에 대한 정량 분석과 이에 따른 밀착력 변화에 대한 정밀한 분석 및 식각 조건의 최적화가 요구되고 있으며, 국내외 여러 연구기관과 업체에서 최적의 밀착력을 얻을 수 있는 식각 정도를 제공하기 위한 최적 식각 조건을 위한 기술개발 및 연구가 진행되고 있으나, 아직 만족할 만한 결과를 제공하고 있지 못하다.
Therefore, quantitative analysis of the degree of etching of the oxide film, precise analysis of the change in adhesion force and optimization of the etching conditions are required, and various research institutes and companies at home and abroad are required to provide an etching degree that can obtain the optimum adhesion strength. Technological development and research for etch conditions are underway, but they do not provide satisfactory results yet.

따라서, 지금까지는 강판 표면에 존재하는 산화막을 완전히 제거하기 위한 과도한 식각이 행해지고 있으며, 이로 인해, 전력 소모가 크게 되고, 또한, 이를 위해 요구되는 장비를 추가적으로 설치할 필요가 있게 되는 등, 과식각(over-etching)을 위한 경비가 과도하게 요구되며, 식각 장비의 수명이 단축되는 등, 경제적?기술적으로 여러 가지 문제점을 안고 있다.
Thus, until now, excessive etching has been performed to completely remove the oxide film present on the surface of the steel sheet, which results in a large power consumption and additional equipment required for this purpose. Excessive cost of etching is required, and the life of etching equipment is shortened.

본 발명은 고해상도 전자현미경을 이용하여 산화막의 존재 여부와 두께를 정량화하고 강판표면의 산화막과 코팅층과의 밀착력을 측정하여, 강판표면과 코팅층과의 밀착력을 확보하기 위한 최적의 식각 조건을 제시하며, 이로 인해 식각을 위해 장비 및 공정 시간을 최소화하여 경제성을 부여할 수 있도록 한다.The present invention quantifies the presence and thickness of the oxide film using a high resolution electron microscope and measures the adhesion between the oxide film and the coating layer on the surface of the steel sheet, suggesting the optimum etching conditions for securing the adhesion between the steel plate surface and the coating layer, This minimizes the equipment and process time for etching, thereby enabling economics.

또, 본 발명의 방법에 의해 산화막을 식각한 후에, 코팅층을 형성하는 코팅방법이 제공된다.Further, a coating method of forming a coating layer after etching an oxide film by the method of the present invention is provided.

나아가, 본 발명의 방법을 적용함으로써 얻어진 코팅층의 밀착력이 우수한 강판을 제공한다.
Furthermore, the steel plate excellent in the adhesive force of the coating layer obtained by applying the method of this invention is provided.

본 발명은, 하나 또는 2 이상의 챔버 및 상기 챔버의 내부에 설치된 플라즈마 발생 장치를 구비하며, 강판 표면에 존재하는 산화막 두께를 측정하고, 전력을 공급하여 플라즈마를 발생시킴으로써 상기 챔버를 통과하는 강판의 표면에 형성된 산화막을 식각하되, 상기 식각 후 강판 표면에 잔존하는 산화막은 자연 산화막 두께를 기준으로 70% 이하의 두께(단, 0은 제외한다.)를 갖는 것을 특징으로 하는 강판 표면의 산화막 식각방법이 제공된다.The present invention includes one or two or more chambers and a plasma generating apparatus provided inside the chamber, the surface of the steel sheet passing through the chamber by measuring the thickness of the oxide film present on the surface of the steel sheet, and supplying power to generate a plasma The oxide film formed on the substrate is etched, and the oxide film remaining on the surface of the steel sheet after etching has a thickness of 70% or less based on the natural oxide film thickness (excluding 0). Is provided.

바람직하게는 상기 식각 후 강판 표면에 잔존하는 산화막은 7nm 이하의 두께(단, 0은 제외한다.)를 가질 수 있다.Preferably, the oxide film remaining on the surface of the steel sheet after the etching may have a thickness of 7 nm or less (except 0).

나아가, 상기 챔버는 상기 발생된 플라즈마를 집속하여 플라즈마의 밀도를 증가시키는 자석을 챔버의 상부에 포함하는 것을 특징으로 하는 강판 표면의 산화막 식각방법이 제공된다.Further, the chamber is provided with an oxide film etching method of the surface of the steel sheet, characterized in that it comprises a magnet on the top of the chamber to focus the generated plasma to increase the density of the plasma.

한편, 상기 산화막의 두께는 고해상도 전자현미경 및 EDS를 이용하여 측정될 수 있다.Meanwhile, the thickness of the oxide film may be measured using a high resolution electron microscope and an EDS.

나아가, 본 발명은 상기한 바와 같은 강판 표면의 산화막을 식각하는 단계; 및 상기 산화막 식각을 행한 강판의 표면에 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 강판 표면의 코팅방법이 제공된다.Furthermore, the present invention comprises the steps of etching the oxide film on the surface of the steel sheet as described above; And forming a coating layer on the surface of the steel sheet subjected to the oxide film etching.

또한, 본 발명은 강판의 표면에 코팅층이 형성되며, 상기 강판과 코팅층 사이에 자연산화막 두께에 대하여 70% 이하(단 0은 제외한다)의 두께를 갖는 산화막이 존재하는, 코팅층의 밀착성이 우수한 강판이 제공되며, In addition, in the present invention, a coating layer is formed on the surface of the steel sheet, an oxide film having a thickness of 70% or less (excluding 0) with respect to the thickness of the natural oxide film between the steel sheet and the coating layer, excellent adhesion of the coating layer Is provided,

또한, 강판의 표면에 코팅층이 형성되며, 상기 강판과 코팅층 사이에 7nm 이하(단, 0은 제외한다.)의 두께를 갖는 산화막이 존재하는 것을 특징으로 하는, 코팅층의 밀착성이 우수한 강판이 제공된다.In addition, a coating layer is formed on the surface of the steel sheet, and an oxide film having a thickness of 7 nm or less (excluding 0) is present between the steel sheet and the coating layer, the steel sheet excellent in adhesion of the coating layer is provided. .

보다 바람직하게는 상기 강판 표면에 형성되는 코팅층은 플라즈마 건식 코팅에 의한 건식 코팅층일 수 있다.
More preferably, the coating layer formed on the surface of the steel sheet may be a dry coating layer by plasma dry coating.

본 발명에 따르면, 식각 조건에 따른 산화막의 존재 여부와 두께를 정량화하고, 강판표면과 코팅층과의 밀착력을 측정함으로써, 강판표면과 코팅층과의 밀착력을 확보하기 위한 최적의 식각 조건을 찾을 수 있으며, 이로 인해 정확한 식각을 위해 적합한 장비의 설치 및 공정 시간을 최소화하여 최고의 경제성을 얻을 수 있다.According to the present invention, by quantifying the presence and thickness of the oxide film according to the etching conditions and by measuring the adhesion between the steel plate surface and the coating layer, it is possible to find the optimum etching conditions for securing the adhesion between the steel plate surface and the coating layer, This results in the best economics by minimizing the installation and processing time of suitable equipment for accurate etching.

나아가, 본 발명에 따르면, 강판 표면에 코팅층을 형성하는 경우에 식각 후에 산화막이 일부 존재함에도 불구하고, 산화막이 완전히 식각된 강판에 코팅층을 형성한 경우의 코팅층 밀착력과 동등한 수준의 밀착력을 갖는 강판을 얻을 수 있다.
Furthermore, according to the present invention, in the case of forming a coating layer on the surface of the steel sheet, despite the presence of some oxide film after etching, a steel sheet having a level of adhesion similar to that of the coating layer adhesion when the coating layer is formed on the steel sheet is completely etched oxide You can get it.

도 1은 본 발명의 방법이 적용되는 식각 챔버의 개념을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 자연 산화막을 포함하는 일반적인 강판의 단면을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 식각 처리가 진행되지 않고 Cu를 코팅한 후의 강판의 단면을 나타내는 계면 고해상도 TEM(Transmission electron microscopy) 사진이다.
도 4는 도 3의 산화막 층에서 측정한 EDS 스펙트럼 사진이다.
도 5는 종래의 과식각한 후의 강판의 단면을 촬영한 계면 고해상도 TEM 사진이다.
도 6은 식각한 후에 5㎚ 산화막이 존재하는 강판의 단면을 촬영한 계면 고해상도 TEM 사진이다.
1 is a view schematically showing the concept of an etching chamber to which the method of the present invention is applied.
2 is a view schematically showing a cross section of a general steel sheet including a natural oxide film.
3 is an interface high-resolution transmission electron microscopy (TEM) photograph showing a cross section of a steel plate after Cu is coated without etching.
FIG. 4 is an EDS spectral photograph measured in the oxide layer of FIG. 3.
FIG. 5 is an interface high resolution TEM photograph of a cross section of a conventional steel plate after overetching.
6 is an interface high resolution TEM photograph of a cross section of a steel plate having a 5 nm oxide film after etching.

도 3은 식각 처리를 행하지 않은 강판(3)의 표면에 Cu를 증착한 강판의 단면을 나타내는 전자현미경 사진이다. 도 3에 나타낸 바와 같이 강판(3)와 Cu 증착층(6) 사이에 약 10nm 정도의 산화막(5)이 존재하는 것을 확인할 수 있다. 나아가, 상기 강판과 Cu 증착층(6)의 계면에 대하여 측정한 EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 자료로부터, 많은 양의 산소가 존재하는 것으로부터도 산화막(5)이 존재함을 확인할 수 있다. 그러나, 이와 같은 산화막(5)이 존재하는 경우에는 증착된 Cu 증착층(6)이 강판(3)로부터 용이하게 박리되는 현상이 발생한다.
3 is an electron micrograph showing a cross section of a steel sheet in which Cu is deposited on the surface of the steel sheet 3 not subjected to etching. As shown in FIG. 3, it can be seen that an oxide film 5 of about 10 nm exists between the steel plate 3 and the Cu deposition layer 6. Furthermore, it can be seen from the EDS (Energy Dispersive Spectrometer) data measured at the interface between the steel sheet and the Cu deposition layer 6 that the oxide film 5 exists even in the presence of a large amount of oxygen. However, when such an oxide film 5 is present, a phenomenon occurs in which the deposited Cu deposition layer 6 is easily peeled from the steel sheet 3.

따라서, 강판의 표면에 존재하는 자연산화막은 강판으로부터 제거되어야 한다. 그러나, 본 발명자들은 연구를 거듭한 결과, 강판 표면에 산화막이 잔존하더라도 100%의 자연산화막이 제거된 경우의 강판과 증착층과의 밀착력과 동등한 밀착력을 얻을 수 있음을 확인하고, 강판 표면의 산화막과 밀착력과의 관계로부터 강판 표면의 산화막을 식각하기 위한 조건을 제공한다.
Therefore, the natural oxide film present on the surface of the steel sheet must be removed from the steel sheet. However, the inventors of the present inventors conducted a study and confirmed that even if the oxide film remained on the surface of the steel sheet, the adhesion strength equivalent to that of the steel sheet and the deposition layer when 100% of the natural oxide film was removed was obtained. The conditions for etching the oxide film on the surface of the steel sheet from the relationship between the adhesion and the adhesion force are provided.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명에서 적용되는 연속 식각장치를 개략적으로 나타내는 도면으로서, 하나 이상의 식각 챔버를 구비하며, 각 식각 챔버에는 애노드 박스(1)를 포함한다. 상기 식각 챔버 내에 아르곤과 같은 플라즈마 발생을 위한 공정가스를 투입하고, 전극인 애노드 박스에 전력을 인가하여 플라즈마(2)를 발생시킴으로써, 상기 챔버를 통과하는 강판(3)의 표면으로부터 산화막을 식각할 수 있다.
1 is a view schematically showing a continuous etching apparatus applied in the present invention, having one or more etching chambers, each of which includes an anode box 1. A process gas for generating plasma, such as argon, is introduced into the etching chamber, and power is applied to an anode box, which is an electrode, to generate plasma 2, thereby etching the oxide film from the surface of the steel sheet 3 passing through the chamber. Can be.

산화막을 식각함에 있어서는, 자연 산화막의 두께를 100%로 할 때, 30% 이상의 식각율(단, 100%는 제외한다.), 즉, 산화막의 두께가 자연 산화막 두께의 70% 이하의 산화막(단, 0은 제외한다.)이 잔존하도록 식각하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 강판 표면에 산화막이 잔존하더라도, 강판 표면에 증착층을 형성하는 경우, 그 증착층과 강판과의 밀착력이 100%의 산화막이 식각된 강판 표면에 대한 증착층의 밀착력과 비교하여 동등한 수준을 가짐을 실험적으로 확인할 수 있다. 일반적으로 강판상에 존재하는 자연 산화막의 두께는 10nm 정도이므로, 식각 공정 후에 잔존하는 산화막의 두께는 7nm 이상(단, 0은 제외한다.)의 산화막 두께를 갖도록 식각하는 것이 식각 공정의 공정 효율 면에서 바람직하다.
In etching the oxide film, when the thickness of the natural oxide film is 100%, an etching rate of 30% or more (except 100% is excluded), that is, an oxide film having a thickness of 70% or less of the thickness of the natural oxide film (where , 0 is excluded.). As described above, even when an oxide film remains on the surface of the steel sheet, when the deposition layer is formed on the surface of the steel sheet, the adhesion between the deposition layer and the steel sheet is equivalent to that of the deposition layer against the surface of the steel sheet on which 100% of the oxide film is etched. It can be confirmed experimentally that has. In general, since the thickness of the natural oxide film present on the steel sheet is about 10 nm, the thickness of the oxide film remaining after the etching process is 7 nm or more (except 0). Preferred at

본 발명의 상기 식각 공정에 있어서, 상기 식각 챔버는 하나 또는 2 이상 포함할 수 있으며, 2 이상의 식각 챔버를 구비하는 경우에는 여러 개를 직렬로 연결하여 강판(3)가 고속으로 이동하는 경우에도 원하는 산화막의 식각을 행할 수 있다.
In the etching process of the present invention, the etching chamber may include one or two or more, in the case of having two or more etching chambers, even if the steel plate 3 is moved at high speed by connecting several in series The oxide film can be etched.

따라서, 높은 식각율을 얻기 위해서는 일반적으로 챔버의 개수가 증가하게 되는데, 30%의 식각율, 즉, 강판 표면에 자연 산화막 두께의 70%까지의 산화막이 잔존하더라도 강판과 증착층과의 밀착력은 100% 식각율의 강판과 비교하여 동등한 수준의 밀착력을 제공하므로, 종래의 과식을 위해 과도하게 설치되던 공정 설비를 간소화할 수 있으며, 그럼에도 불구하고 강판과 그 표면에 형성되는 코팅층과의 밀착력을 종래의 과식각에 의해 얻을 수 있는 정도의 밀착력을 얻을 수 있어 효율적이다.
Therefore, in order to obtain a high etching rate, the number of chambers is generally increased. Even though an etching rate of 30%, that is, an oxide film of up to 70% of the thickness of the natural oxide film remains on the surface of the steel sheet, the adhesion between the steel sheet and the deposition layer is 100. Compared with the steel sheet of% etch rate, it provides the same level of adhesion, which simplifies the process equipment that was excessively installed for the conventional overeating. Nevertheless, the adhesion between the steel sheet and the coating layer formed on the surface thereof can be simplified. Adhesion of the degree which can be obtained by overetching is obtained, and it is efficient.

상기 챔버의 상부에는 영구자석 등의 자석(4)을 포함할 수 있다. 상기 자석(4)은 상기 발생된 플라즈마의 밀도를 증가시키기 위해 플라즈마를 집속시키는 역할을 제공한다. 플라즈마의 밀도가 증가됨으로 인해 보다 낮은 전력을 공급하더라도 강판 표면의 산화막의 식각 효율을 증대시킬 수 있다.
The upper portion of the chamber may include a magnet 4 such as a permanent magnet. The magnet 4 serves to focus the plasma to increase the density of the generated plasma. As the density of the plasma is increased, the etching efficiency of the oxide layer on the surface of the steel sheet may be increased even when lower power is supplied.

이와 같은 본 발명에 따르면, 강판 표면에 존재하는 산화막을 제거하기 위해 행해지던 과식각을 방지할 수 있고, 나아가, 산화막이 반드시 100% 식각되어야 강판 표면과 코팅층과의 우수한 밀착력을 얻을 수 있는 것이 아님을 알 수 있다. 즉, 본 발명에 따라서, 산화막의 식각 공정에 있어서, 자연 산화막의 두께를 100이라 할 때, 산화막의 두께가 70% 이하로 잔존하는 경우(단, 0을 제외한다)에서는 강판 표면에 형성된 코팅층의 밀착력이 산화막이 과식각된 종래의 강판의 경우와 동등한 수준을 나타내는바, 강판 표면의 산화막을 식각함에 있어서 필요에 따라서 적절한 공정 조건을 설정할 수 있다.
According to the present invention, it is possible to prevent over-etching that was performed to remove the oxide film existing on the surface of the steel sheet, and furthermore, the oxide film must be etched 100% to obtain excellent adhesion between the steel sheet surface and the coating layer. It can be seen. That is, according to the present invention, in the etching process of the oxide film, when the thickness of the natural oxide film is 100, when the thickness of the oxide film remains at 70% or less (except 0), the coating layer formed on the surface of the steel sheet Since the adhesion strength is equivalent to that of the conventional steel sheet in which the oxide film is over-etched, appropriate process conditions can be set as necessary in etching the oxide film on the surface of the steel sheet.

나아가, 이와 같은 산화막 식각 공정에 있어서 본 발명에 따른 공정 조건을 적용함으로써 식각 공정에 필요한 설비를 단순화할 수 있고, 나아가 공정에 소요되는 비용을 절감할 수 있다. 다만, 냉연강판과 같은 일반 강판의 경우에 비하여 고강도강의 경우에 산화막의 식각의 위해 필요한 전력량이 증가할 것임은 본 분야의 통상의 기술자라면 충분히 예상할 수 있을 것이다.
Furthermore, by applying the process conditions according to the present invention in such an oxide film etching process, it is possible to simplify the equipment required for the etching process and further reduce the cost required for the process. However, it will be appreciated by those skilled in the art that the amount of power required for etching the oxide film will be increased in the case of high strength steel as compared to the general steel sheet such as cold rolled steel sheet.

상기와 같은 방법에 의해 강판 표면의 자연산화막을 식각한 후에 통상적인 방법으로 강판 표면에 대하여 코팅층을 형성할 수 있다. 이때의 코팅층 형성은 본 발명의 분야에서 일반적으로 적용될 수 있는 건식코팅법에 의해 형성될 수 있으며, 예를 들어, 플라즈마, 전자 빔 또는 가열을 이용한 건식코팅법에 의해 코팅층이 형성될 수 있다. 이에 의해 얻어진 코팅 강판은 강판 표면에 산화막이 존재함에도 불구하고 강판과 코팅층과의 밀착력이 우수하다.
After etching the natural oxide film on the surface of the steel sheet by the above method, a coating layer may be formed on the surface of the steel sheet by a conventional method. In this case, the coating layer may be formed by a dry coating method which may be generally applied in the field of the present invention. For example, the coating layer may be formed by a dry coating method using plasma, an electron beam, or heating. The coated steel sheet thus obtained has excellent adhesion between the steel sheet and the coating layer despite the presence of an oxide film on the steel sheet surface.

이하, 본 발명을 실시예를 통해 더욱 구체적으로 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 발명의 일 예로서 나타내는 것으로서, 본 발명을 한정하는 것이 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the following examples are shown as an example of the present invention and do not limit the present invention.

[실시예][Example]

비교예 1Comparative Example 1

10nm의 산화막을 갖는 냉연강판 표면에 대한 식각 처리를 진행하지 않고 Cu(6) 층을 코팅한 후, 고해상도 전자현미경으로 사진을 촬영하고, 이를 도 3에 나타내었다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 강판(3)와 Cu 코팅층(6) 사이에 약 10nm 정도의 산화막(5) 층이 존재하는 것을 명확히 알 수 있다. 한편, 상기 산화막(5) 층에 대하여 EDS(Energy Dispersive Spectrometer) 측정을 행하고, 그 결과를 도 4에 나타내었는바, 많은 양의 산소가 존재하는 것을 알 수 있다. 이와 같은 조건에서 증착된 Cu 코팅층(6)은 산화막(5)의 존재로 인해 강판(3)에서 쉽게 박리되는 현상을 확인하였다.
After coating the Cu (6) layer without performing an etching treatment on the surface of the cold rolled steel sheet having an oxide film of 10 nm, a photograph was taken with a high resolution electron microscope, and this is shown in FIG. 3. As shown in FIG. 3, it can be clearly seen that an oxide film 5 layer of about 10 nm exists between the steel sheet 3 and the Cu coating layer 6. On the other hand, an EDS (Energy Dispersive Spectrometer) measurement was performed on the oxide film 5 layer, and the results are shown in FIG. 4, indicating that a large amount of oxygen exists. It was confirmed that the Cu coating layer 6 deposited under such conditions was easily peeled off from the steel sheet 3 due to the presence of the oxide film 5.

참고예 1Reference Example 1

도 1에 나타낸 바와 같이 6개의 식각 챔버로 구성되어 있는 연속 식각 장치를 사용하였다. 각 챔버에는 애노드 박스 및 챔버 상부에 부착된 영구자석을 구비하며, 상기 챔버 내에 아르곤 가스를 주입하고, 애노드 박스에 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시키고, 상기 영구 자석 아래로 식각될 강판을 통과시킴으로써 강판 표면의 산화막을 식각하도록 구성된다.As shown in FIG. 1, a continuous etching apparatus consisting of six etching chambers was used. Each chamber has an anode box and a permanent magnet attached to the top of the chamber, injects argon gas into the chamber, applies power to the anode box to generate a plasma, and passes the steel sheet to be etched under the permanent magnet. And to etch the oxide film on the surface.

식각되는 냉연 강판의 표면에 대하여 고해상도 전자현미경을 사용하여 자연 산화막의 두께를 측정하였는바, 10nm이었다.The thickness of the natural oxide film was measured on the surface of the cold rolled steel sheet to be etched using a high resolution electron microscope, which was 10 nm.

상기 연속 식각 장치에 아르곤 가스를 주입하고, 각각의 애노드 박스에 전력을 공급하여 플라즈마를 발생시켰다. 이때, 가해진 전력의 합은 120kW였다. 상기 강판을 200m/min의 속도로 식각 장치에 공급하여 냉연강판 표면의 산화막 식각을 수행하였다. Argon gas was injected into the continuous etching apparatus, and power was supplied to each anode box to generate plasma. At this time, the sum of the applied electric power was 120 kW. The steel sheet was supplied to the etching apparatus at a speed of 200 m / min to perform oxide film etching on the surface of the cold rolled steel sheet.

이와 함께 식각된 강판의 표면에 Zn-Mg 코팅층을 증착하였다. Zn-Mg 합금 bulk를 도가니에 넣고 700℃로 유도가열하여 용융하면서 증기를 발생시킨 후, 상기 발생된 Zn-Mg 증기를 Vapor Box에 모으고, 노즐을 통해 상기 증기를 균일하게 강판 상으로 분사되어 Zn-Mg 코팅 층(2㎛)을 형성하였다. The Zn-Mg coating layer was deposited on the surface of the etched steel sheet. Zn-Mg alloy bulk in a crucible and induction heating to 700 ℃ to generate steam while melting, the generated Zn-Mg vapor is collected in the Vapor Box, the vapor is uniformly sprayed on the steel sheet through a nozzle Zn A Mg coating layer (2 μm) was formed.

이에 의해 얻어진 강판 표면에 대하여 고해상도 전자 현미경을 사용하여 산화막의 두께를 측정하였는바, 도 5에 나타난 바와 같이 강판(3)의 표면에 Zn-Mg 코팅층(8)이 형성되고, 그 계면(8)에 산화막이 존재하지 않음을 확인하였다.
The thickness of the oxide film was measured on the surface of the steel sheet thus obtained using a high resolution electron microscope. As shown in FIG. 5, a Zn-Mg coating layer 8 was formed on the surface of the steel sheet 3, and the interface 8 was formed. It was confirmed that no oxide film exists in the.

참고예 2Reference Example 2

참고예 1과 동일한 방법으로 산화막을 제거하고, Zn-Mg 코팅층을 증착하였다. 다만, 공급한 전체 전력을 80kW로, 강판의 공급 속도를 200m/min로 변경하였다.The oxide film was removed in the same manner as in Reference Example 1, and a Zn-Mg coating layer was deposited. However, the total power supplied was changed to 80 kW and the feed rate of the steel sheet was changed to 200 m / min.

이에 의해 얻어진 강판 표면에 대하여 고해상도 전자 현미경을 사용하여 산화막의 두께를 측정하였는바, 도 5에 나타난 바와 동일하게 강판(3)의 표면에 Zn-Mg 코팅층(8)이 형성되고, 그 계면(8)에 산화막이 존재하지 않음을 확인하였다.The thickness of the oxide film was measured on the surface of the steel sheet thus obtained using a high resolution electron microscope. As shown in FIG. 5, a Zn-Mg coating layer 8 was formed on the surface of the steel sheet 3, and the interface 8 was formed. It was confirmed that the oxide film does not exist in).

상기 참고예 1 및 2로부터, 강판 표면에 산화막(5)이 있는 경우인 비교예 1에 비해 밀착력이 현저히 개선된 것을 알 수 있다.
It can be seen from the above Reference Examples 1 and 2 that the adhesion strength is remarkably improved as compared to Comparative Example 1 in which the oxide film 5 is present on the steel sheet surface.

실시예 1Example 1

스퍼터 모듈 1개당 최대 파워가 5kW인 스퍼터를 구비한 챔버 내로 자연 산화막 두께가 10nm인 냉연강판을 200m/min로 공급하여 강판에 대한 식각력 및 그 강판에 Zn-Mg 코팅층을 증착한 경우의 밀착력을 테스트하였다. A cold rolled steel sheet with a natural oxide thickness of 10 nm was supplied at 200 m / min into a chamber equipped with a sputter having a maximum power of 5 kW per sputter module, and the etching power to the steel sheet and the adhesion when the Zn-Mg coating layer was deposited on the steel sheet were measured. Tested.

식각은 참고예 1과 동일한 방법으로 행하여 강판 표면의 산화막을 제거하고, Zn-Mg 코팅층을 증착하였다. 다만, 챔버 수를 8개로, 공급한 전체 전력을 40kW로 변경하였다.Etching was performed in the same manner as in Reference Example 1 to remove the oxide film on the surface of the steel sheet and to deposit a Zn-Mg coating layer. However, the number of chambers was changed to eight, and the total power supplied was changed to 40 kW.

이에 의해 얻어진 Zn-Mg 코팅층을 갖는 강판의 단면에 대한 고해상도 전자현미경 사진을 촬영하였는바, 강판과 Zn-Mg 코팅층 사이에 산화막이 존재함을 확인하였으며, 그 산화막의 두께는 대략 5nm이었다. 이를 도 6에 나타내었다.A high-resolution electron micrograph was taken of the cross section of the steel sheet having the Zn-Mg coating layer thus obtained. It was confirmed that an oxide film existed between the steel sheet and the Zn-Mg coating layer, and the thickness of the oxide film was approximately 5 nm. This is shown in FIG. 6.

상기 얻어진 강판에 대한 Zn-Mg 코팅층의 밀착력을 상기 참고예 1 및 2에서 얻어진 강판의 코팅층의 밀착력과 비교하였는바, 동등한 수준의 밀착력을 가짐을 확인할 수 있었다.When the adhesion of the Zn-Mg coating layer to the obtained steel sheet was compared with the adhesion of the coating layer of the steel sheets obtained in Reference Examples 1 and 2, it could be confirmed that they had an equivalent level of adhesion.

참고예 1, 2에 의해 얻어진 강판에 대한 밀착력과 본 실시예 1에 의해 얻어진 강판에 대한 밀착력을 비교하였는바, 본 실시예 1의 경우에는 약 5nm 정도의 산화막(5)이 존재함에도 불구하고 산화막이 완전히 제거된 참고예 1 및 2의 경우와 동등한 정도의 밀착력을 가짐을 확인하였다. The adhesion between the steel sheets obtained in Reference Examples 1 and 2 and that of the steel sheets obtained in Example 1 were compared. In the case of Example 1, although the oxide film 5 of about 5 nm was present, the oxide film It was confirmed that it had an adhesive force equivalent to the case of the reference examples 1 and 2 removed completely.

이와 같은 결과로부터 알 수 있는 것으로서, 본 실시예 1과 같이 100% 식각이 이루어지지 않더라도 참고예 1 및 2와 동일한 결과의 밀착력을 얻을 수 있는바, 100% 식각을 위한 전력 및 설비에 비하여 현저히 적은 전력 및 설비를 사용할 수 있어, 동일한 밀착력을 얻을 수 있도록 경제적으로 산화막을 식각공정을 수행할 수 있다.
As can be seen from these results, even if 100% etching is not performed as in Example 1, the same adhesion as in Reference Examples 1 and 2 can be obtained, which is significantly less than power and equipment for 100% etching. Since power and equipment can be used, the oxide film can be etched economically to obtain the same adhesion.

실시예 2Example 2

스퍼터 모듈 1개당 최대 파워가 5kW인 스퍼터를 구비한 챔버 내로 자연산화막 두께가 10nm인 냉연강판을 200m/min로 공급하는 경우의 강판에 대한 식각력 및 그 강판에 Zn-Mg 코팅층을 증착한 경우의 밀착력을 테스트하였다. Etching force for the steel sheet when a cold rolled steel sheet having a natural oxide thickness of 10 nm is supplied at 200 m / min into a chamber having a sputter having a maximum power of 5 kW per sputter module, and a Zn-Mg coating layer is deposited on the steel sheet. Adhesion was tested.

참고예 1과 동일한 방법으로 산화막을 제거하고, Zn-Mg 코팅층을 증착하였다. 다만, 챔버 수를 4개로, 공급한 전체 전력을 20kW로 변경하였다.The oxide film was removed in the same manner as in Reference Example 1, and a Zn-Mg coating layer was deposited. However, the number of chambers was changed to four, and the total power supplied was changed to 20 kW.

이에 의해 얻어진 Zn-Mg 코팅층을 갖는 강판의 단면에 대한 고해상도 전자현미경으로 강판과 Zn-Mg 코팅층 사이에 산화막이 존재함을 확인하였으며, 그 산화막의 두께는 대략 6-7nm이었다. The high resolution electron microscope of the cross section of the steel plate which has the Zn-Mg coating layer obtained by this confirmed that an oxide film exists between the steel plate and Zn-Mg coating layer, and the thickness of the oxide film was about 6-7 nm.

상기 얻어진 강판에 대한 Zn-Mg 코팅층의 밀착력을 상기 참고예 1 및 2에서 얻어진 강판의 코팅층의 밀착력과 비교하였는바, 동등한 수준의 밀착력을 가짐을 확인할 수 있었다.When the adhesion of the Zn-Mg coating layer to the obtained steel sheet was compared with the adhesion of the coating layer of the steel sheets obtained in Reference Examples 1 and 2, it could be confirmed that they had an equivalent level of adhesion.

이와 같은 결과로부터 알 수 있는 것으로서, 상기 실시예 2와 같이 100% 식각이 이루어지지 않더라도 참고예 1 및 2와 동일한 결과의 밀착력을 얻을 수 있는 바, 100% 식각을 위한 전력 및 설비에 비하여 현저히 적은 전력 및 설비를 사용할 수 있어, 동일한 밀착력을 얻을 수 있도록 경제적으로 산화막을 식각 공정을 수행할 수 있다.
As can be seen from these results, even if 100% etching is not performed as in Example 2, the same adhesion as that of Reference Examples 1 and 2 can be obtained, which is significantly less than power and equipment for 100% etching. Power and equipment can be used, so that the oxide film can be etched economically to achieve the same adhesion.

1: 애노드 박스 2: 플라즈마 3: 강판 4: 자석
5: 산화막 6: Cu 증착층 7: Zn-Mg
8: 강판과 Zn-Mg 코팅층의 계면
1: anode box 2: plasma 3: steel plate 4: magnet
5: oxide film 6: Cu deposited layer 7: Zn-Mg
8: Interface between steel plate and Zn-Mg coating layer

Claims (8)

하나 또는 2 이상의 챔버 및 상기 챔버의 내부에 설치된 플라즈마 발생 장치를 구비하며,
강판 표면에 존재하는 자연산화막 두께를 측정하고, 전력을 공급하여 플라즈마를 발생시킴으로써 상기 챔버를 통과하는 강판의 표면에 형성된 상기 자연산화막을 식각하되, 상기 식각 후 강판 표면에 잔존하는 자연산화막은 상기 자연산화막 두께를 기준으로 70% 이하의 두께(단, 0을 제외한다.)로 잔존하도록 식각하는 강판 표면의 자연산화막 식각 단계; 및
상기 자연산화막 식각을 행한 강판의 표면에 플라즈마, 전자 빔 또는 열에 의해 건식 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 강판 표면의 코팅방법.
One or two chambers and a plasma generating device installed inside the chamber;
By measuring the thickness of the natural oxide film present on the surface of the steel sheet, by supplying power to generate a plasma to etch the natural oxide film formed on the surface of the steel sheet passing through the chamber, the natural oxide film remaining on the surface of the steel sheet after the etching is the natural Etching the natural oxide film on the surface of the steel sheet to be etched to remain at a thickness of 70% or less (except 0) based on the oxide film thickness; And
Forming a dry coating layer on the surface of the steel sheet subjected to the natural oxide film etching by plasma, electron beam or heat.
제 1항에 있어서, 상기 식각 후 강판 표면에 잔존하는 자연산화막은 7nm 이하의 두께(단, 0을 제외한다.)를 갖는 강판 표면의 코팅방법.The method of claim 1, wherein the natural oxide film remaining on the surface of the steel sheet after etching has a thickness of 7 nm or less (excluding 0). 제 1항에 있어서, 상기 챔버는 상기 발생된 플라즈마를 집속하여 플라즈마의 밀도를 증가시키는 자석을 챔버의 상부에 포함하는 강판 표면의 코팅방법.The method of claim 1, wherein the chamber includes a magnet on the top of the chamber that focuses the generated plasma to increase the density of the plasma. 제 1항에 있어서, 상기 자연산화막의 두께는 고해상도 전자현미경 및 EDS를 이용하여 측정하는 것을 강판 표면의 코팅방법.The method of claim 1, wherein the thickness of the natural oxide film is measured by using a high resolution electron microscope and an EDS. 삭제delete 강판의 표면에 플라즈마, 전자 빔 또는 열에 의해 형성된 건식 코팅층을 포함하며, 상기 강판과 코팅층 사이에 자연산화막 두께에 대하여 70% 이하(단 0은 제외한다)의 두께를 갖는 산화막이 존재하는, 코팅층의 밀착성이 우수한 강판.A dry coating layer formed on the surface of the steel sheet by plasma, electron beam, or heat, wherein an oxide film having a thickness of 70% or less (excluding 0) is present between the steel sheet and the coating layer, except for 0. Steel sheet with good adhesion. 제 6항에 있어서, 상기 강판과 코팅층 사이에 7nm 이하(단, 0은 제외한다.)의 두께를 갖는 자연산화막이 존재하는 것을 특징으로 하는, 코팅층의 밀착성이 우수한 강판.The steel sheet having excellent adhesion to the coating layer according to claim 6, wherein a natural oxide film having a thickness of 7 nm or less (excluding 0) exists between the steel sheet and the coating layer. 삭제delete
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