KR101149333B1

KR101149333B1 - Substrate processing equipment

Info

Publication number: KR101149333B1
Application number: KR1020090100977A
Authority: KR
Inventors: 이의규
Original assignee: 주성엔지니어링(주)
Priority date: 2009-10-23
Filing date: 2009-10-23
Publication date: 2012-05-23
Also published as: KR20110044355A

Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 반응 공간을 갖는 챔버와, 상기 반응 공간에 위치하는 기판 안치부 및 상기 기판 안치부의 하부 중심 영역에 배치된 회전축과, 상기 회전축의 일단이 삽입 고정되는 샤프트와, 상기 샤프트와 회전축 사이에서 이들과 밀착되는 밀착 부재와, 상기 샤프트 외측에서 상기 샤프트와 밀착 부재를 상기 회전축 방향으로 밀어 고정시키는 고정 부재를 구비하는 회전축부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 이와 같이, 샤프트의 상측에 슬릿홈을 형성하여 밀착 부재와 회전축이 샤프트 내측으로 용이하게 조립되도록 할 수 있고, 샤프트의 외측에서 샤프트와 밀착 부재를 회전축 방향으로 밀어줌으로 인해 회전축과 밀착 부재 사이 및 밀착 부재와 샤프트 사이의 유격 발생을 억제할 수 있다. The present invention relates to a substrate processing apparatus, comprising: a chamber having a reaction space, a substrate seat positioned in the reaction space, a rotating shaft disposed in a lower center region of the substrate settle, a shaft into which one end of the rotating shaft is inserted and fixed; It provides a substrate processing apparatus including a rotating shaft portion having a close contact between the shaft and the rotating shaft in close contact with them, and a fixing member for pushing and fixing the shaft and the close contact in the direction of the rotation axis from the outside of the shaft. As such, the slit groove may be formed on the upper side of the shaft so that the close contact member and the rotating shaft may be easily assembled into the shaft, and the shaft and the close contact member may be pushed in the direction of the rotating shaft from the outside of the shaft, and between the rotating shaft and the close contact member. The occurrence of play between the contact member and the shaft can be suppressed.

기판 안치부, 회전, 샤프트, 회전축, 밀착, 고정, 슬릿, 탄성 Board Settlement, Rotation, Shaft, Rotating Shaft, Adherence, Fixation, Slit, Elastic

Description

Substrate Processing Unit {SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT}

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 챔버 내에서 기판을 안치하는 기판 안치부와, 기판 안치부를 회전시키는 회전 수단을 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD This invention relates to a substrate processing apparatus. It is related with the substrate processing apparatus which has the board | substrate settled part which mounts a board | substrate in a chamber, and the rotation means which rotates a board | substrate settled part.

일반적으로 기판 처리 장치는 반도체 기판상에 막을 증착하거나, 반도체 기판 상에 증착된 막을 식각하는 장치를 지칭한다. 이와 같은 기판 처리 장치를 통해 막을 형성하고 식각하여 반도체 소자, 평판 표시 패널, 광학 소자 및 솔라셀등을 생산한다. Generally, a substrate processing apparatus refers to an apparatus for depositing a film on a semiconductor substrate or etching a film deposited on a semiconductor substrate. A film is formed and etched through such a substrate processing apparatus to produce a semiconductor device, a flat panel display panel, an optical device, a solar cell, and the like.

기판 처리 장치를 통해 기판 상에 박막을 증착하는 경우에는, 기판 처리 장치 내측의 기판 안치부 상에 기판을 안치시킨 다음 화학적 또는 물리적인 방법을 통해 기판 표면에 소정의 막을 형성한다. 일반적으로 기판 처리 장치의 반응 공간에 공정 가스를 분사하여 기판 표면에 소정의 막을 형성한다. In the case of depositing a thin film on a substrate through a substrate processing apparatus, the substrate is placed on a substrate mounting portion inside the substrate processing apparatus, and then a predetermined film is formed on the surface of the substrate through a chemical or physical method. Generally, a process gas is injected into the reaction space of the substrate processing apparatus to form a predetermined film on the substrate surface.

그러나, 최근 들어 기판의 사이즈가 증가됨으로 인해 기판 표면에 공정 가스 를 균일하게 분사하는 것이 힘든 실정이다. 이로 인해 반도체 기판상에 형성된 막의 균일성이 나빠지는 문제가 발생하였다. 이에 종래에는 반도체 기판을 회전시켜 기판 상에 증착되는 박막 두께의 균일성을 향상시켰다. However, recently, due to the increase in the size of the substrate it is difficult to uniformly spray the process gas on the surface of the substrate. This causes a problem that the uniformity of the film formed on the semiconductor substrate is deteriorated. Accordingly, in the related art, the uniformity of the thin film thickness deposited on the substrate is improved by rotating the semiconductor substrate.

이때, 기판 안치부 상에 기판을 배치시키고, 기판 안치부를 회전축에 접속시켜 회전을 수행하였다. 그리고, 상기 회전축은 외부 구동 모터로 부터 회전력을 제공 받아 회전 하였다. At this time, the substrate was placed on the substrate settled portion, and the substrate settled portion was connected to the rotating shaft to perform rotation. And, the rotary shaft was rotated by receiving a rotational force from an external drive motor.

여기서, 기판 안치부를 기준 수평면 상에서 흔들림 없이 회전시키기 위해서는 회전축의 중심을 일치시킴과 동시에 회전축이 일측으로 치우지는 것을 방지하여야 한다. Here, in order to rotate the substrate settled on the reference horizontal plane without shaking, it is necessary to coincide with the center of the rotation shaft and prevent the rotation shaft from being shifted to one side.

하지만, 종래의 기술에서는 회전축의 흔들림(wobbling)을 잡기 위해 오링과 같은 밀착 부재를 사용하였다. 그러나, 기존의 밀착 부재의 경우, 장시간 사용에 의해 빠르게 마모되고, 고온에 노출될 경우 빠르게 열화된다. 따라서, 처음에는 회전축 중심을 효과적으로 밀착하였지만, 시간이 지날 수록 밀착력이 떨어지게 되는 문제가 발생하였다. 이로인해 회전축 주변에 유격이 발생하게 되고, 이로인해 회전시 편심이 발생하는 문제가 있다. 이와 같은 회전축의 편심에 의해 이에 접속되어 회전하는 기판 안치부가 한쪽으로 치우쳐 회전(Wobbling)하게 되는 문제가 발생한다. 또한, 회전축 주변의 유격으로 인해 기판 안치부의 승하강시 기판 안치부가 흔들리게 되고, 이로인해 기판의 정렬 위치가 바뀌게 되는 문제가 발생한다. However, in the prior art, an adhesive member such as an O-ring was used to catch wobbling of the rotating shaft. However, in the case of the existing contact member, it is quickly worn out by long time use and quickly deteriorates when exposed to high temperature. Therefore, at first, the center of rotation was in close contact with the center of the rotation shaft effectively, but as time went by, the adhesion decreased. As a result, play occurs around the rotational shaft, which causes a problem of eccentricity during rotation. Due to such an eccentricity of the rotating shaft, a problem arises in that the substrate settled portion that is connected to and rotates is rotated to one side and wobbling. In addition, due to the play around the rotation axis, the substrate settled part is shaken when the substrate settled up and down, thereby causing a problem that the alignment position of the substrate is changed.

상기와 같은 문제를 해결하기 위해 본 발명의 일 기술 과제는 밀착 부재의 외측에서 밀착 부재를 눌러 줌으로 인해 밀착 부재의 밀착력을 향상시키고, 회전축 간의 유격을 방지하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다. 또한, 회전시의 편심과 기판 안치부의 승하강시 기판의 정렬 위치가 변경되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다. One object of the present invention to solve the above problems is to provide a substrate processing apparatus to improve the adhesion of the adhesion member by pressing the adhesion member on the outside of the adhesion member, and to prevent the play between the rotation axis. In addition, an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of preventing the eccentricity during rotation and the alignment position of the substrate from changing during the raising and lowering of the substrate mounting portion.

본 발명의 일 실시예에 따른 반응 공간을 갖는 챔버와, 상기 반응 공간에 위치하는 기판 안치부 및 상기 기판 안치부의 하부 중심 영역에 배치된 회전축과, 상기 회전축의 일단이 삽입 고정되는 샤프트와, 상기 샤프트와 회전축 사이에서 이들과 밀착되는 밀착 부재와, 상기 샤프트 외측에서 상기 샤프트와 밀착 부재를 상기 회전축 방향으로 밀어 고정시키는 고정 부재를 구비하는 회전축부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. A chamber having a reaction space according to an embodiment of the present invention, a substrate shaft positioned in the reaction space, a rotation shaft disposed in a lower center region of the substrate support, a shaft into which one end of the rotation shaft is inserted and fixed, and Provided is a substrate processing apparatus including a rotating shaft portion having a contact member in close contact with the shaft and the rotating shaft, and a fixing member configured to push and fix the shaft and the contact member in the direction of the rotating shaft from outside the shaft.

상기 샤프트는, 상하부가 개방된 관 형상의 샤프트 몸체와, 상기 샤프트 몸체의 상측 영역에 마련된 적어도 하나의 슬릿홈과, 상기 샤프트 몸체를 고정하기 위한 결합 돌기를 포함하는 것이 바람직하다. The shaft preferably includes a tubular shaft body having an upper and lower portion open, at least one slit groove provided in an upper region of the shaft body, and a coupling protrusion for fixing the shaft body.

상기 샤프트는 상기 슬릿홈이 형성된 샤프트 몸체의 상측 영역에서 외측 방향으로 돌출된 적어도 하나의 고정 단자를 포함하고, 상기 고정 부재는, 상기 샤프 트 몸체의 상측 영역에 밀착 되는 링 형태의 고정 몸체와, 상기 고정 몸체 내에 마련되어 상기 고정 단자가 삽입되어 결합되는 장착홈을 포함하는 것이 가능하다. The shaft includes at least one fixing terminal protruding outward from the upper region of the shaft body in which the slit groove is formed, the fixing member is a ring-shaped fixing body in close contact with the upper region of the shaft body, It is possible to include a mounting groove provided in the fixed body to which the fixed terminal is inserted and coupled.

상기 고정 부재는, 상기 샤프트 몸체의 상측 영역에 밀착 되는 링 형태의 고정 몸체와, 상기 고정 몸체의 내측면에 마련된 적어도 하나의 고정 단자를 포함하고, 상기 샤프트는 상기 슬릿홈이 형성된 샤프트 몸체의 상측 영역에 상기 고정 단자가 삽입 고정되는 장착홈이 마련될 수 있다. The fixing member may include a ring-shaped fixing body in close contact with an upper region of the shaft body and at least one fixing terminal provided on an inner surface of the fixing body, wherein the shaft is on an upper side of the shaft body in which the slit groove is formed. A mounting groove in which the fixing terminal is inserted and fixed may be provided in an area.

상기 고정 부재는, 다수의 고정 몸체와, 상기 샤프트 몸체의 상측 영역에 링 형태로 밀착되도록 상기 다수의 고정 몸체 간을 결합하는 결합 부재를 포함하는 것이 가능하다. The fixing member may include a plurality of fixing bodies and a coupling member for coupling between the plurality of fixing bodies to be in close contact with the upper region of the shaft body in the form of a ring.

상기 고정 부재는, 상기 샤프트 몸체의 슬릿홈의 간격을 조절하는 결합 부재를 포함하는 것이 가능하다. The fixing member may include a coupling member for adjusting the interval of the slit groove of the shaft body.

또한, 기판이 안치되는 기판 안치부와, 상기 기판 안치부의 하부 중심 영역에 배치된 회전축과, 상기 회전축의 일단이 삽입 고정되는 샤프트와, 상기 샤프트와 회전축 사이에서 이들과 밀착되는 밀착 부재 및 상기 샤프트 외측에서 상기 샤프트와 밀착 부재를 상기 회전축 방향으로 밀어 고정시키는 고정 부재를 포함하는 기판 지지 장치를 제공한다. In addition, a substrate settled portion on which the substrate is placed, a rotating shaft disposed in the lower center region of the substrate settled portion, a shaft into which one end of the rotating shaft is inserted and fixed, an adhesive member and the shaft in close contact with the shaft and the rotating shaft Provided is a substrate support device including a fixing member for pushing and fixing the shaft and the contact member in the rotation axis direction from the outside.

상기 샤프트는, 상하부가 개방된 관 형상의 샤프트 몸체와, 상기 샤프트 몸체의 상측 영역에 마련된 적어도 하나의 슬릿홈과, 상기 샤프트 몸체를 고정하기 위한 결합 돌기를 포함하며, 상기 고정 부재는 상기 샤프트 몸체의 상측 영역에 밀착되는 링 형태의 고정 몸체를 구비하는 것이 가능하다. The shaft includes a tubular shaft body having an upper and lower portion open, at least one slit groove provided in an upper region of the shaft body, and a coupling protrusion for fixing the shaft body, wherein the fixing member includes the shaft body. It is possible to have a ring-shaped stationary body in close contact with the upper region of the.

상기 슬릿홈이 형성된 샤프트 몸체의 상측 영역의 외측면 또는 상기 고정 부재의 내측면에 형성된 고정 단자와, 상기 고정 부재 또는 상기 샤프트 몸체에 형성되어 상기 고정 단자가 결합 고정되는 장착홈을 포함할 수 있다. It may include a fixed terminal formed on the outer surface or the inner surface of the fixing member of the upper region of the shaft body in which the slit groove is formed, and a mounting groove formed in the fixing member or the shaft body and coupled to the fixed terminal. .

상술한 바와 같이 본 실시예에서는 샤프트의 상측에 슬릿홈을 형성하여 밀착 부재와 회전축이 샤프트 내측으로 용이하게 조립되도록 할 수 있다. 또한, 샤프트의 외측에서 샤프트와 밀착 부재를 회전축 방향으로 밀어줌으로 인해 회전축과 밀착 부재 사이 및 밀착 부재와 샤프트 사이의 유격 발생을 억제할 수 있다. 이를 통해 회전축의 승하강시 기판 안치부가 흔들리는 현상을 방지할 수 있고, 회전축의 회전시 편심 발생을 방지할 수 있다. 이로인해 장치의 조립성이 향상될 뿐 아니라 공정 안정성과 박막 균일도를 향상시킬 수 있다. As described above, in the present embodiment, the slit groove may be formed on the upper side of the shaft so that the contact member and the rotating shaft may be easily assembled into the shaft. In addition, it is possible to suppress the occurrence of play between the rotation shaft and the contact member and between the contact member and the shaft by pushing the shaft and the contact member in the direction of the rotation axis from the outside of the shaft. Through this, it is possible to prevent a phenomenon in which the substrate settled part shakes when the rotating shaft is raised and lowered, and to prevent the occurrence of eccentricity when the rotating shaft is rotated. This not only improves the assembly of the device, but also improves process stability and thin film uniformity.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention in more detail. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. Like numbers refer to like elements in the figures.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 단면 개념도이다. 도 2는 일 실시예에 따른 회전축부의 분해 개념도이다. 도 3은 일 실시예에 따른 샤프트의 도면이고, 도 4는 일 실시예에 따른 고정 부재의 도면이다. 도 5는 일 실시예의 변형예에 따른 샤프트의 도면이다. 1 is a cross-sectional conceptual view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is an exploded conceptual view of a rotating shaft unit according to an exemplary embodiment. 3 is a view of a shaft according to one embodiment, and FIG. 4 is a view of a fixing member according to one embodiment. 5 is a view of a shaft according to a variant of one embodiment.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이 본 실시예의 기판 처리 장치는 내부 반응 공간을 갖는 챔버(100)와, 챔버(100) 내에 기판(10)을 안치하는 기판 안치부(200)와, 챔버(100) 하부에 위치하여 상기 반응 공간을 가열하는 가열 수단(300)과, 상기 기판 안치부(200)에 접속 연장된 회전축부(400)와, 상기 회전축부(400)에 회전력을 인가하는 구동 수단(500)을 포함한다.As shown in FIGS. 1 to 4, the substrate processing apparatus of this embodiment includes a chamber 100 having an internal reaction space, a substrate placing part 200 for placing the substrate 10 in the chamber 100, and a chamber ( 100, a heating means 300 for heating the reaction space, a rotating shaft portion 400 connected to the substrate set-up portion 200, and driving means for applying a rotational force to the rotating shaft portion 400 500.

또한, 도 1에서와 같이 챔버(100)의 상부에 위치하여 상기 반응 공간을 가열하는 상부 가열 수단(600)을 더 구비할 수 있다. 물론 도시되지 않았지만, 상기 반응 공간에 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 발생 장치가 마련될 수도 있다. In addition, as shown in Figure 1 may be further provided with an upper heating means 600 located on the upper portion of the chamber 100 for heating the reaction space. Of course, although not shown, a plasma generating device for generating a plasma in the reaction space may be provided.

상기 챔버(100)는 내부 공간을 형성하는 챔버 몸체(110)와, 상부돔(120)과 하부돔(130)을 구비한다. The chamber 100 includes a chamber body 110 forming an internal space, an upper dome 120 and a lower dome 130.

챔버 몸체(110)는 상하부가 개방된 원통 형상으로 제작된다. 즉, 원형 띠 형태로 제작된다. 물론 이에 한정되지 안고, 다각형 통 형상으로 제작될 수도 있다. 챔버 몸체(110)의 일부 또는 모두를 금속성 재질로 구성하는 것이 바람직하다. 본 실시예에서는 알루미늄 또는 스테인레스강과 같은 재질을 이용하여 챔버 몸체(110)를 제작한다. 이때, 챔버 몸체(110)는 챔버(100) 내부 공간의 측벽면 역할을 한다. 도시되지 않았지만, 챔버 몸체(110)의 일부에는 기판이 출입하는 기판 출입구와, 반응 공간에 반응 가스를 공급하기 위한 가스 공급 장치의 최종 연결부가 형성될 수도 있다. 여기서, 기판 출입구는 게이트 밸브일 수 있다. The chamber body 110 is manufactured in a cylindrical shape with upper and lower portions opened. That is, it is manufactured in the form of a circular band. Of course, the present invention is not limited thereto and may be manufactured in a polygonal cylindrical shape. Part or all of the chamber body 110 is preferably made of a metallic material. In this embodiment, the chamber body 110 is manufactured using a material such as aluminum or stainless steel. At this time, the chamber body 110 serves as a side wall surface of the interior space of the chamber 100. Although not shown, a part of the chamber body 110 may be formed with a substrate entrance through which the substrate enters and a final connection portion of the gas supply device for supplying the reaction gas into the reaction space. Here, the substrate entrance may be a gate valve.

상부돔(120)은 챔버 몸체(110)의 상부 커버(즉, 챔버(100)의 상부벽)가 된다. 상부돔(120)은 돔의 하부 영역, 즉 돔의 가장자리 영역이 챔버 몸체(110)의 상부면에 부착되어 반응 공간의 상부 영역을 밀폐시킨다. 이때, 상부돔(120)은 탈착 가능하게 상기 챔버 몸체(110)에 부착되는 것이 효과적이다. The upper dome 120 becomes the upper cover of the chamber body 110 (ie, the upper wall of the chamber 100). The upper dome 120 has a lower region of the dome, that is, an edge region of the dome is attached to the upper surface of the chamber body 110 to seal the upper region of the reaction space. At this time, the upper dome 120 is effectively attached to the chamber body 110 detachably.

상부돔(120)은 상부 가열 수단(600)의 열이 반응 공간에 효과적으로 전달 될 수 있도록 열 전도성이 우수한 물질로 제작한다. 즉, 상부 돔(120)으로 복사열을 반응 공간에 잘 전달할 수 있는 투광성 판(예를 들어, 석영)으로 제작할 수도 있다. 이를 통해 챔버(100)의 반응 공간에서 상부돔(120) 방향으로 전도되는 복사열이 상부돔(120)을 투과한다. 그리고, 투과한 복사열은 상부 가열 수단(600)에 의해 반사되어 다시 상부돔(120)을 투과하여 챔버(100)의 반응 공간에 전도될 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 상부돔(120)을 세라믹 재질로 제작할 수도 있다. The upper dome 120 is made of a material having excellent thermal conductivity so that the heat of the upper heating means 600 can be effectively transferred to the reaction space. That is, the upper dome 120 may be made of a translucent plate (for example, quartz) capable of transferring radiant heat well to the reaction space. Through this, radiant heat conducted in the reaction space of the chamber 100 toward the upper dome 120 passes through the upper dome 120. In addition, the transmitted radiant heat may be reflected by the upper heating means 600 to pass through the upper dome 120 to be conducted to the reaction space of the chamber 100. Of course, the present invention is not limited thereto, and the upper dome 120 may be manufactured of a ceramic material.

하부돔(130)은 챔버 몸체(110)의 하부 커버(즉, 챔버(100)의 바닥면)가 된다. 하부돔(130)은 챔버 몸체(110)의 하부면에 부착되어 반응 공간의 하부 영역을 밀폐시킨다. The lower dome 130 becomes a lower cover of the chamber body 110 (ie, the bottom surface of the chamber 100). The lower dome 130 is attached to the lower surface of the chamber body 110 to seal the lower region of the reaction space.

하부돔(130)은 광투과성의 플레이트로 제작된다. 이를 통해 하부돔(130)은 챔버(100) 외측에 위치한 가열 수단(300)의 복사열이 챔버(100) 내부의 반응 공간으로 전달 되도록 하는 것이 효과적이다. 본 실시예에서는, 하부돔(130)으로 석영을 사용하는 것이 효과적이다. 따라서, 하부돔(130)이 윈도우로 작용한다. 물론 하부돔(130)의 일부 영역만이 광투과성 플레이트로 제작되고, 나머지 영역은 열 전도성의 뛰어난 불투광성 플레이트로 제작할 수도 있다.The lower dome 130 is made of a light transmissive plate. Through this, the lower dome 130 is effective to transmit the radiant heat of the heating means 300 located outside the chamber 100 to the reaction space inside the chamber 100. In this embodiment, it is effective to use quartz as the lower dome 130. Thus, the lower dome 130 acts as a window. Of course, only a part of the lower dome 130 may be made of a light transmissive plate, and the remaining areas may be made of an excellent opaque plate of thermal conductivity.

하부돔(130)은 도 1에 도시된 바와 같이 하향 경사진 바닥판(131)과, 바닥판의 중심에서 하측 방향으로 돌출 연장된 연장관(132)을 구비한다. 바닥판(131)은 상하부가 개방된 역상의 원뿔 형상으로 제작된다.The lower dome 130 has a bottom plate 131 inclined downward as shown in FIG. 1, and an extension tube 132 protruding downward from the center of the bottom plate. The bottom plate 131 is manufactured in the shape of an inverted conical shape whose upper and lower portions are opened.

이와 같이 챔버 몸체(110), 상부돔(120) 및 하부돔(130)의 결합을 통해 반응 공간을 갖는 챔버(100)가 제작된다. 상기 챔버(100)는 압력 조절 장치, 압력 측정 장치 및 챔버 내부를 점검하기 위한 각종 장치 들이 설치될 수 있다. 또한, 챔버 외부에서 내부 반응 공간을 들여다 볼 수 있는 뷰포트(view port)가 설치될 수도 있다. 또한, 챔버(100) 내부의 불순물 및 미반응 물질을 배기하기 위한 배기 수단을 더 구비할 수도 있다. Thus, the chamber 100 having a reaction space is manufactured through the combination of the chamber body 110, the upper dome 120 and the lower dome 130. The chamber 100 may be provided with a pressure regulator, a pressure measuring device and various devices for checking the inside of the chamber. In addition, a view port may be installed to look inside the reaction space from the outside of the chamber. In addition, exhaust means for exhausting impurities and unreacted materials in the chamber 100 may be further provided.

본 실시예에서는 상기 챔버(100)의 하부에 위치하여 상기 챔버(100)내부를 가열하는 가열 수단(300)을 구비한다. In the present embodiment, the heating means 300 is disposed below the chamber 100 and heats the inside of the chamber 100.

가열 수단(300)은 도시되지 않았지만 적어도 하나의 램프 히터와, 상기 램프 히터에 전력을 제공하는 전력 공급부와, 상기 램프 히터를 챔버(100) 하부 영역에 고정하는 지지부를 구비한다. Although not shown, the heating means 300 includes at least one lamp heater, a power supply for supplying power to the lamp heater, and a support part for fixing the lamp heater in the lower region of the chamber 100.

여기서, 램프 히터는 전구 형태 또는 원형 띠 형태의 램프 히터를 사용한다. 본 실시예에서는 다수의 램프 히터가 중심 영역과 가장자리 영역에 띠 형태로 배치될 수 있다. 이때, 도 1에 도시된 바와 같이 중심 영역에 배치된 램프 히터들이 가장자리 영역에 배치된 램프 히터들 보다 아래 배치되어 있는 것이 효과적이다. 그 리고, 상기 지지부를 통해 전력 공급부의 전력이 램프 히터에 제공된다. 따라서, 상기 지지부의 일측에는 램프 히터가 결합되는 소켓이 마련될 수 있다. 그리고, 지지부로 반사판을 사용할 수 있다. 물론 지지부의 표면에 반사 코팅을 수행할 수도 있다. 이를 통해 지지부로 방출되는 복사 광을 챔버 쪽으로 반사시켜 히터의 효율을 증대시킬 수 있다. Here, the lamp heater uses a lamp heater in the form of a bulb or a circular band. In the present embodiment, a plurality of lamp heaters may be arranged in a band shape in the center area and the edge area. At this time, it is effective that the lamp heaters disposed in the center region are disposed below the lamp heaters disposed in the edge region, as shown in FIG. 1. Then, the power of the power supply is provided to the lamp heater through the support. Therefore, one side of the support may be provided with a socket to which the lamp heater is coupled. And a reflecting plate can be used as a support part. It is of course also possible to carry out a reflective coating on the surface of the support. Through this, the radiation emitted to the support may be reflected toward the chamber to increase the efficiency of the heater.

이와 같이 본 실시예에서는 석영으로 제작된 하부돔(130) 하부에 램프 히터를 배치한다. 이를 통해, 램프 히터의 복사열이 하부돔(130)을 관통하여 챔버(100)의 반응 공간으로 전달된다. 이때, 상기 램프 히터에 인접한 하부돔(130) 영역만을 석영으로 형성할 수도 있다. As described above, the lamp heater is disposed below the lower dome 130 made of quartz. Through this, radiant heat of the lamp heater passes through the lower dome 130 and is transmitted to the reaction space of the chamber 100. In this case, only the region of the lower dome 130 adjacent to the lamp heater may be formed of quartz.

본 실시예에서는 챔버의 상부 영역에 상부 가열 수단(600)을 배치한다. 이와 같이 챔버(100)의 상부 영역에도 열원을 둠으로 인해 챔버(100) 내부를 균일하게 가열할 수 있고, 챔버(100) 상부로의 열 손실을 차단할 수 있다. 그리고, 상부 가열 수단(600)은 기판(10) 상에 위치하여 기판(10)에 직접 열 에너지를 제공할 수 있다. 따라서, 본 실시예와 같이 전기식의 열원을 갖는 상부 가열 수단(600)을 통해 기판(10)에 온도 변화가 급격하지않는 열을 제공함으로 인해 급격한 열변화에 따른 기판의 손상을 방지할 수 있게 된다.In this embodiment, the upper heating means 600 is arranged in the upper region of the chamber. As such, since the heat source is also provided in the upper region of the chamber 100, the inside of the chamber 100 may be uniformly heated, and heat loss to the upper portion of the chamber 100 may be blocked. In addition, the upper heating means 600 may be positioned on the substrate 10 to provide thermal energy directly to the substrate 10. Therefore, as shown in the present exemplary embodiment, since the temperature change is not suddenly provided to the substrate 10 through the upper heating means 600 having the electric heat source, damage to the substrate due to rapid thermal change may be prevented. .

상부 가열 수단(600)은 챔버(100)의 상부돔(120)을 덮는 컵 형상으로 제작된다. 그리고, 그 내측면에는 반사 코팅이 되어 있는 것이 효과적이다. 이를 통해 하부에 배치된 가열 수단(300)에 의한 복사열 에너지의 손실을 줄일 수 있다. The upper heating means 600 is manufactured in a cup shape covering the upper dome 120 of the chamber 100. In addition, it is effective that the inner surface has a reflective coating. Through this, it is possible to reduce the loss of radiant heat energy by the heating means 300 disposed below.

또한, 도시되지 않았지만, 상부 가열 수단(600)은 다수의 판이 적층된 형태 로 제작될 수 있다. 이때, 상기 판과 판 사이에 단열재 또는 냉각 유로등이 형성될 수 있다. 또한, 외부 충격으로 부터 챔버(100)를 보호하기 위한 별도의 보호판이 더 마련될 수도 있다. 여기서, 상부 가열 수단(800)으로 벨자 히터(belljar heater)를 사용하는 것이 가능하다. In addition, although not shown, the upper heating means 600 may be manufactured in a form in which a plurality of plates are stacked. In this case, a heat insulating material or a cooling passage may be formed between the plate and the plate. In addition, a separate protective plate for protecting the chamber 100 from external impact may be further provided. Here, it is possible to use a belljar heater as the upper heating means 800.

상술한 바와 같이 챔버(100) 하부의 가열 수단(300)과, 챔버(100) 상부의 상부 가열 수단(600)에 의해 챔버(100) 내부의 공정 온도로 유지될 수 있다. As described above, the heating means 300 under the chamber 100 and the upper heating means 600 above the chamber 100 may be maintained at the process temperature inside the chamber 100.

그리고, 상기 챔버(100)의 내부 공간에는 기판(10)을 안치하는 기판 안치부(200)가 마련된다. In addition, a substrate mounting part 200 is disposed in the internal space of the chamber 100 to accommodate the substrate 10.

기판 안치부(200)는 서셉터를 포함한다. 이때, 서셉터는 대략 기판(10)과 동일한 판 형상으로 제작되는 것이 효과적이다. 그리고, 기판 안치부(200)는 열 전도성의 우수한 물질로 제작하는 것이 효과적이다. 상기 기판 안치부(200)에는 적어도 하나의 기판 안치 영역이 마련된다. 이를 통해 기판 안치부(200) 상에 적어도 하나의 기판(10)이 안치될 수 있다. 도시되지 않았지만, 기판 안치부(200)의 가장자리 영역에는 에지 링이 설치되어 있는 것이 효과적이다. 이러한 에지링에 의해 기판 안치부(200)의 가장자리 영역의 열손실을 방지할 수 있다. The substrate setter 200 includes a susceptor. At this time, it is effective that the susceptor is manufactured in substantially the same plate shape as the substrate 10. In addition, it is effective to manufacture the substrate setter 200 with a material having excellent thermal conductivity. At least one substrate settling region is provided in the substrate setter 200. As a result, at least one substrate 10 may be placed on the substrate setter 200. Although not shown, it is effective that an edge ring is provided in the edge region of the substrate setter 200. By such an edge ring, it is possible to prevent heat loss in the edge region of the substrate setter 200.

본 실시예에서는 챔버(100)의 반응 공간 내에서 기판 안치부(200)를 지지하고, 이를 회전시키는 회전축부(400)를 구비한다. In the present exemplary embodiment, the substrate mounting part 200 is supported in the reaction space of the chamber 100, and the rotating shaft part 400 is rotated.

회전축부(400)는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 기판 안치부(200)의 하부 중심 영역에서 하측 방향으로 연장된 회전축(410)과, 상기 회전축(410)의 상부에서 기판 안치부(200)의 가장자리 영역으로 연장되어 기판 안치부(200)의 가장자리 영 역을 지지하는 다수의 지지축(420)과, 회전축(410)의 일단이 삽입 고정되는 샤프트(430)와, 상기 회전축(410)과 상기 샤프트(430) 사이를 밀착 결합시키는 밀착 부재(440)와, 상기 밀착 부재(440)가 위치한 샤프트(430)의 외측영역에서 상기 샤프트(430)를 회전축(410) 방향으로 눌러 주는 고정 부재(450)와, 상기 샤프트(430) 하부에 마련되어 회전축(410)을 지지하는 지지부재(460)를 포함한다. As shown in FIGS. 2 and 3, the rotating shaft part 400 includes a rotating shaft 410 extending downward in a lower center area of the substrate mounting part 200, and a substrate mounting part (above the upper part of the rotating shaft 410). A plurality of support shafts 420 extending to the edge region of the substrate 200 to support the edge region of the substrate setter 200, a shaft 430 to which one end of the rotation shaft 410 is inserted and fixed, and the rotation shaft 410. ) And a fixing member 440 for tightly coupling the shaft 430 to the rotary shaft 410 in the outer region of the shaft 430 where the contact member 440 is located. A member 450 and a support member 460 provided below the shaft 430 to support the rotating shaft 410.

본 실시예에서는 상기 회전축(410)으로 내부가 비어 있는 관 형상으로 제작하고, 회전축(410)의 재질로 쿼츠(Quartz)를 사용한다. In this embodiment, the inside of the hollow shaft is made of the rotating shaft 410, and the quartz (Quartz) is used as the material of the rotating shaft 410.

이는 본 실시예의 기판 처리 장치를 이용하여 기판 상에 박막을 증착하는 경우, 챔버 내의 환경이 매우 깨끗하여야 한다. 이는 기판 표면에 불순물이 있는 경우에는 결함이 있는 박막이 기판 상에 형성되기 때문이다.특히 에피 공정의 경우 작은 파티클에 의해 박막 전체에 결합이 발생할 수 있는 문제가 있다. 따라서, 챔버(100) 내에서의 파티클 발생을 최소화하기 위해 상기 회전축(410)의 재질을 쿼츠를 사용한다. 또한, 회전축(410)의 내측으로 챔버 내부의 공정 조건을 측정하기 위한 센서와 접속될 배선이 지나간다. 따라서, 회전축(410)은 그 내부가 비어 있는 관형태로 제작한다. This means that when depositing a thin film on a substrate using the substrate processing apparatus of this embodiment, the environment in the chamber must be very clean. This is because a defective thin film is formed on the substrate when there is an impurity on the surface of the substrate. Particularly, in the epi process, a small particle may cause bonding to the entire thin film. Therefore, quartz is used as the material of the rotating shaft 410 to minimize particle generation in the chamber 100. In addition, wiring to be connected to a sensor for measuring process conditions inside the chamber passes inside the rotation shaft 410. Therefore, the rotating shaft 410 is manufactured in the form of a tube having an empty inside.

회전축(410)의 일단은 기판 안치부(200)의 하부 중심 영역에 인접 배치된다. 그리고, 회전축(410)의 상부 영역에서 기판 안치부(200)의 가장자리 영역으로 다수의 지지축(420)이 연장 결합된다. 이를 통해 회전축(410)과 지지축(420)에 의해 기판 안치부(200)가 챔버(100)의 반응 공간 상에 위치할 수 있게 된다. 이때, 지지축(420)도 쿼츠 재질로 제작되는 것이 효과적이다. One end of the rotation shaft 410 is disposed adjacent to the lower center area of the substrate setter 200. In addition, a plurality of support shafts 420 extend from the upper region of the rotation shaft 410 to the edge region of the substrate setter 200. As a result, the substrate mounting portion 200 may be positioned on the reaction space of the chamber 100 by the rotation shaft 410 and the support shaft 420. At this time, it is effective that the support shaft 420 is also made of a quartz material.

여기서, 본 실시예의 회전축(410)은 열에 의한 영향을 최소화하기 위해 챔버(100)의 하부 영역으로 길게 연장된다. 즉, 도 1에 도시된 바와 같이 하부돔(130)의 연장관(132) 내부로 길게 연장된다. 이에 회전축(410)의 중심을 정확하게 잡아 주지 않아 흔들릴 경우 이에 접속된 기판 안치부(200)의 편심이 크게 발생하는 문제가 있다. Here, the rotation axis 410 of the present embodiment is extended to the lower region of the chamber 100 to minimize the influence of the heat. That is, as shown in Figure 1 extends long into the extension tube 132 of the lower dome 130. In this case, when the center of the rotation shaft 410 is not accurately grabbed and shakes, there is a problem in that the eccentricity of the substrate setter 200 connected thereto is greatly generated.

또한, 쿼츠 재질의 회전축(410)에 회전력을 인가하기 위해서는 회전축(410)이 하부 구동 수단(500)에 접속 고정되어야 한다. 하지만, 쿼츠 재질의 회전축(410)을 구동 수단(500)과 접속시키기 어려운 문제가 있다. In addition, in order to apply a rotational force to the rotary shaft 410 of the quartz material, the rotary shaft 410 should be connected and fixed to the lower driving means 500. However, there is a problem that it is difficult to connect the rotary shaft 410 made of quartz material with the driving means 500.

하지만, 앞서 언급한 바와 같이 회전축(410)의 재질로 쿼츠를 사용하는 경우, 회전축(410)을 구동 수단(500)에 접속시키기 힘든 실정이었다. 즉, 쿼츠가 외부 충격에 쉽게 깨어지는 특성이 있기 때문이다. However, as mentioned above, when quartz was used as the material of the rotation shaft 410, it was difficult to connect the rotation shaft 410 to the driving means 500. In other words, quartz is easily broken by an external impact.

이에 본 실시예에서는 샤프트(430)의 내측으로 회전축(410)을 삽입하여 회전축(410)을 고정시키고, 이 샤프트(430)를 구동 수단(500)에 고정시켜 구동 수단(500)의 회전력을 회전축(410)에 제공할 수 있다. 또한, 샤프트(430)가 연장관(132) 하측에 의해 지지되어 회전축(410)이 기울어져 회전하는 것을 1차로 방지할 수 있다. In this embodiment, the rotation shaft 410 is inserted into the shaft 430 to fix the rotation shaft 410, and the shaft 430 is fixed to the driving means 500 to rotate the rotational force of the driving means 500. 410 may be provided. In addition, the shaft 430 may be supported by the lower side of the extension pipe 132 to prevent the rotation shaft 410 from tilting and rotating.

이때, 파티클 발생을 최소화하고, 열에 의한 영향을 억제하고, 결합 특성을 향상시키기 위해 상기 샤프트(430)로 써스 재질을 사용하는 것이 바람직하다. At this time, it is preferable to use a sus material as the shaft 430 to minimize particle generation, suppress the influence of heat, and improve the coupling characteristics.

그리고, 본 실시예에서는 샤프트(430) 내측의 회전축(410)을 잡아주기 위해 샤프트(430)와 회전축(410) 사이에 밀착 부재(440)를 배치한다. 예를 들어 밀착 부 재로 오링을 사용할 수 있다. In this embodiment, the contact member 440 is disposed between the shaft 430 and the rotation shaft 410 to hold the rotation shaft 410 inside the shaft 430. For example, O-rings can be used as the contact members.

하지만, 배경 기술에서 언급한 바와 같이 장시간의 사용과 열에 의해 밀착 부재(440)의 밀착력이 저하되는 문제가 발생한다. 또한, 샤프트(430) 내측으로 회전축(410)을 삽입하는 경우, 샤프트(430)와 밀착 부재(440) 사이에 유격이 없을 경우 회전축(410)의 삽입이 어렵고, 잘못하여 과도한 힘을 주는 경우에는 회전축(410)이 깨어지는 문제가 발생한다. However, as mentioned in the background art, a problem arises in that the adhesion of the adhesion member 440 is degraded due to prolonged use and heat. In addition, when the rotation shaft 410 is inserted into the shaft 430, when there is no play between the shaft 430 and the contact member 440, the insertion of the rotation shaft 410 is difficult, and when excessive force is provided by mistake. The rotation shaft 410 is broken.

이에 본 실시예에서는 샤프트(430)의 상측 영역 즉, 회전축(410)이 삽입되는 샤프트(430)의 상부 영역에 슬릿을 주어, 회전축(410)의 삽입을 용이하게 하여 조립성을 향상시킨다. 또한, 회전축(410)과 밀착 부재(440) 삽입 이후에 고정 부재(450)로 샤프트(430)를 눌러 줌으로 인해 회전축(410)과 샤프트(430) 그리고 밀착 부재(440) 간의 밀착력을 향상시킬 수 있다. Therefore, in the present embodiment, the upper region of the shaft 430, that is, the upper region of the shaft 430 into which the rotation shaft 410 is inserted, is slitted to facilitate the insertion of the rotation shaft 410, thereby improving assembly performance. In addition, since the shaft 430 is pressed by the fixing member 450 after the rotation shaft 410 and the contact member 440 are inserted, the adhesion between the rotation shaft 410 and the shaft 430 and the contact member 440 may be improved. Can be.

상술한 샤프트(430)는 도 3에 도시된 바와 같이 상하부가 개방된 관형상의 샤프트 몸체(431)와, 샤프트 몸체(431)의 상측 영역에 마련된 적어도 하나의 슬릿홈(432)와, 샤프트 몸체(431)를 구동 수단(500)에 결합시키기 위한 결합 돌기(433)와, 상기 샤프트 몸체(431)의 상측 영역에서 외측 방향으로 돌출된 적어도 하나의 고정 단자(434)를 구비한다. 도 3의 (a)는 단면 개념도이고, 도 3의 (b)는 평면도이다. As described above, the shaft 430 includes a tubular shaft body 431 having an upper and lower portions opened therein, at least one slit groove 432 provided in an upper region of the shaft body 431, and a shaft body. A coupling protrusion 433 for coupling the 431 to the driving means 500 and at least one fixing terminal 434 protruding outward from the upper region of the shaft body 431 is provided. 3A is a cross-sectional conceptual view, and FIG. 3B is a plan view.

샤프트 몸체(431)는 서스 재질의 튜브 형상으로 제작된다. 그리고, 샤프트 몸체(431) 내측에 회전축(410)이 삽입 고정된다. The shaft body 431 is manufactured in the shape of a tube of sus material. In addition, the rotation shaft 410 is inserted and fixed inside the shaft body 431.

슬릿홈(432)은 샤프트 몸체(431)의 상측 영역에 형성된다. 즉, 슬릿홈(432) 은 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이 샤프트 몸체(431)의 상측 개구 영역에서 내측 중심 영역으로 연장된다. 이때, 슬릿홈(432)의 개수는 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 4개에 한정되지 않고, 이보다 많거나 적은 개수가 가능하다. The slit groove 432 is formed in the upper region of the shaft body 431. That is, the slit groove 432 extends from the upper opening area of the shaft body 431 to the inner center area as shown in FIG. At this time, the number of the slit grooves 432 is not limited to four as shown in (b) of Figure 3, more or less than this is possible.

본 실시예에서는 슬릿홈(432)에 의해 샤프트 몸체(431)의 상측 영역이 4개의 탄성 구간으로 분할될 수 있다. 이와 같이 링 형태의 샤프트 몸체(431)의 일부를 절개하여 분할 시킴으로 인해 분할된 영역에 탄성력이 발생한다. 즉, 샤프트 몸체(431)에 슬릿홈(432)을 줌으로 인해 샤프트 몸체(431)의 상측 영역에 탄성력을 부여할 수 있다. 이는, 슬릿홈(432)의 폭 만큼 샤프트 몸체(431)의 유격이 가능하게 되기 때문이다. In the present embodiment, the upper region of the shaft body 431 may be divided into four elastic sections by the slit groove 432. In this way, the elastic force is generated in the divided region by cutting and dividing a portion of the ring-shaped shaft body 431. That is, the elastic force may be applied to the upper region of the shaft body 431 by giving the slit groove 432 to the shaft body 431. This is because the clearance of the shaft body 431 can be as much as the width of the slit groove 432.

따라서, 샤프트 몸체(431)에 회전축(410)을 삽입하는 경우, 상기 슬릿홈(432)에 의한 분할 영역 즉, 샤프트 몸체(431)의 회전축(410)의 유입구가 넓어지게 되어 회전축(410)의 삽입이 용이해진다. 또한, 상기 회전축(410)와 샤프트 몸체(431) 사이에 밀착 부재(440)가 위치하는 경우, 밀착 부재(440)에 의해 회전축(410)의 삽입이 용이하지 않았다. 하지만, 이와 같이 슬릿홈(432)을 샤프트 몸체(431)에 형성하고, 이 슬릿홈(432) 영역에 밀착 부재(440)를 배치함으로 인해 밀착 부재(440)와 회전축(410)의 삽입이 용이해진다. Therefore, when the rotary shaft 410 is inserted into the shaft body 431, the inlet of the divided area by the slit groove 432, that is, the rotary shaft 410 of the shaft body 431 is widened, so that Insertion becomes easy. In addition, when the contact member 440 is located between the rotation shaft 410 and the shaft body 431, the insertion of the rotation shaft 410 by the contact member 440 was not easy. However, since the slit groove 432 is formed in the shaft body 431 as described above, and the contact member 440 is disposed in the slit groove 432 region, the contact member 440 and the rotation shaft 410 can be easily inserted. Become.

여기서, 슬릿홈(432)의 길이 즉, 샤프트 몸체(431)의 상측 개구 영역을 기준으로 연장된 길이는 샤프트 몸체(431)의 전체 연장 길이의 1/10 내지 1/3인 것이 효과적이다. 상기 길이보다 작을 경우에는 회전축(410) 및 밀착 부재(440)의 삽입이 용이하지 않는 단점이 있다. 상기 길이보다 클 경우에는 샤프트 몸체(431)가 회 전축(410)을 지지하는 지지력이 저하되는 단점이 있다. 물론 이와 같은 길이는 샤프트 몸체(431)의 길이와 이에 삽입되는 회전축(410)의 길이에 따라 가변될 수 있다. Here, the length of the slit groove 432, that is, the length extending based on the upper opening area of the shaft body 431 is effectively 1/10 to 1/3 of the total extension length of the shaft body 431. When the length is smaller than the length, the rotation shaft 410 and the contact member 440 may not be easily inserted. If the length is larger than the length, the shaft body 431 has a disadvantage in that the supporting force for supporting the rotation shaft 410 is lowered. Of course, this length may vary depending on the length of the shaft body 431 and the length of the rotation shaft 410 inserted therein.

본 실시예에서는 도 3에 도시된 바와 같이 샤프트 몸체(431)의 상측 영역에는 하향 경사진 경사면이 마련되는 것이 효과적이다. 이는 샤프트 몸체(431)의 외측 직경이 상측 끝단 영역 에서 하측 방향을 갈 수록 커지는 형상으로 제작된다. 즉, 슬릿홈(432)이 형성된 상측 영역에 경사면이 마련되는 것이 바람직하다. 이를 통해 슬릿홈(432)에 의해 분할된 몸체 영역의 두께가 다른 영역에 보다 얇게 할 수 있다. In this embodiment, as shown in FIG. 3, it is effective to provide a slope inclined downward in the upper region of the shaft body 431. It is manufactured in a shape in which the outer diameter of the shaft body 431 increases in the lower direction in the upper end region. That is, it is preferable that the inclined surface is provided in the upper region where the slit groove 432 is formed. Through this, the thickness of the body region divided by the slit groove 432 can be made thinner than other regions.

상기 샤프트 몸체(431)를 구동 수단에 결합하기 위한 결합 돌기(433)는 샤프트 몸체(431)의 하측 영역에 마련된다. 결합 돌기(433)는 도 2에 도시된 바와 같이 샤프트 몸체(431)의 하단에서 외측 방향으로 연장된 링 형태로 제작된다. 물론 이에 한정되지 않고, 결합 돌기(433)가 다수의 막대 형태로 돌출 연장될 수도 있다. Coupling protrusion 433 for coupling the shaft body 431 to the driving means is provided in the lower region of the shaft body 431. Coupling protrusion 433 is manufactured in the form of a ring extending in the outward direction from the bottom of the shaft body 431 as shown in FIG. Of course, the present invention is not limited thereto, and the coupling protrusion 433 may protrude and extend in the form of a plurality of rods.

결합 돌기(433)는 별도의 고정 수단(예를 들어, 볼트, 너트, 나사 등등)에 의해 구동 수단(500)에 고정되는 것이 효과적이다. 이를 위해 결합 돌기(433)에는 소정의 홈이 형성될 수도 있다.Coupling projection 433 is effectively fixed to the drive means 500 by a separate fixing means (for example, bolts, nuts, screws, etc.). For this purpose, a predetermined groove may be formed in the coupling protrusion 433.

본 실시예에서는 샤프트 몸체(431)의 외측에 돌출되어 샤프트 몸체(431)의 슬릿홈(432) 영역의 탄성력을 고정시키는 고정 부재(450)를 고정시키기 위한 적어도 하나의 고정 단자(434)가 마련된다. 고정 단자(434)에 의해 고정 부재(450)가 고정되어 슬릿홈(432) 영역의 샤프트 몸체(431)가 샤프트 몸체(431)의 외측 방향으 로 변형되는 것을 잡아줄 수 있다. 이때, 고정 단자(434)는 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 2개의 고정 단자를 구비할 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 이보다 많은 수의 고정 단자(434)가 마련될 수도 있다. 물론 필요에 따라 고정 단자(434)가 마련되지 않을 수도 있다. 또한, 고정 단자(434) 대신 고정 홈(미도시)이 마련될 수도 있다. 이 경우, 고정 부재(450)에 고정 돌기가 마련되는 것이 효과적이다. In this embodiment, at least one fixing terminal 434 is provided to fix the fixing member 450 protruding outside the shaft body 431 to fix the elastic force of the slit groove 432 area of the shaft body 431. do. The fixing member 450 is fixed by the fixing terminal 434 to catch the deformation of the shaft body 431 in the slit groove 432 region in the outward direction of the shaft body 431. At this time, the fixed terminal 434 may be provided with two fixed terminals as shown in (b) of FIG. Of course, the present invention is not limited thereto, and a larger number of fixed terminals 434 may be provided. Of course, if necessary, the fixed terminal 434 may not be provided. In addition, a fixing groove (not shown) may be provided instead of the fixing terminal 434. In this case, it is effective that the fixing projections are provided on the fixing member 450.

본 실시예에서는 샤프트(430)와 회전축(410) 간에 밀착되는 밀착 부재(440)가 사용된다. 앞서 언급한 바와 같이 밀착 부재(440)는 샤프트(430)와 회전축(410) 사이에 위치하여 이들 간을 밀착 시킴으로 인해 이들 사이의 유격 발생을 방지한다. 밀착 부재(440)는 탄성력을 갖는 다양한 형태의 밀착 부재를 사용할 수 있다. 상기 밀착 부재(440)로 오링을 사용하는 것이 가능하다. In this embodiment, the close contact member 440 that is in close contact between the shaft 430 and the rotating shaft 410 is used. As mentioned above, the close contact member 440 is positioned between the shaft 430 and the rotation shaft 410 to close the gaps, thereby preventing the gap between them. The adhesive member 440 may use various types of adhesive members having elastic force. It is possible to use an O-ring as the contact member 440.

이때, 회전축(410)과 샤프트(430) 사이에 밀착 부재(440)를 배치하는 경우, 상기 샤프트(430)의 상측 영역(즉, 슬릿홈(432)에 의해 분리된 몸체 영역)이 벌어지는 문제가 발생한다. In this case, when the contact member 440 is disposed between the rotation shaft 410 and the shaft 430, there is a problem that an upper region of the shaft 430 (that is, a body region separated by the slit groove 432) is opened. Occurs.

이로 인해 밀착 부재(440)에 의한 회전축(410)과 샤프트(430) 사이의 밀착력이 떨어지게 된다. 이에 본 실시예에서는 고정 부재(450)로 샤프트(430)의 벌어지는 영역을 잡아 주어 밀착 부재(440)에 의한 회전축(410)과 샤프트(430) 사이의 밀착력을 향상시킬 수 있다. As a result, the adhesion between the rotation shaft 410 and the shaft 430 by the adhesion member 440 is reduced. In this embodiment, by holding the opening of the shaft 430 by the fixing member 450, the adhesion between the rotation shaft 410 and the shaft 430 by the contact member 440 can be improved.

고정 부재(450)는 링 형태의 고정 몸체(451)와, 고정 몸체에 마련된 장착 홈(452)을 구비한다. The fixing member 450 includes a ring-shaped fixing body 451 and a mounting groove 452 provided in the fixing body.

고정 몸체(451)는 샤프트(430)의 샤프트 몸체(431)와 동일 형상으로 제작되 는 것이 효과적이다. 이에 본 실시예에서는 도 4에 도시된 바와 같이 고정 몸체(451)를 원형 링 형태로 제작한다. 물론 이에 한정되지 않고, 샤프트(430)의 슬릿 홈(432)에 의해 절개된 영역의 벌어짐을 잡아 줄 수 있는 다양한 형상이 가능하다.The fixed body 451 is effectively manufactured in the same shape as the shaft body 431 of the shaft 430. In this embodiment, as shown in FIG. 4, the fixed body 451 is manufactured in a circular ring shape. Of course, the present invention is not limited thereto, and various shapes capable of catching the gap of the region cut by the slit groove 432 of the shaft 430 are possible.

고정 몸체(451)의 내측면이 샤프트(430)의 상측 영역 즉, 슬릿 홈(432)에 의해 절개된 영역의 외측면과 밀착되면서 이 영역을 샤프트(430)의 내측 즉, 회전축(410) 방향으로 밀어주게 된다. 이로인해 샤프트(430)의 슬릿홈(432)에 의해 절개된 샤프트 몸체(431)의 상측 영역의 벌어지는 현상을 방지할 수 있다. 더욱이 고정 몸체(451)가 사퍄트 몸체(431)의 절개 영역을 회전축(410) 방향으로 눌러 줌으로 인해 밀착 부재(440)의 열화로 인한 유격 발생을 방지할 수 있다. While the inner surface of the fixed body 451 is in close contact with the upper surface of the shaft 430, that is, the outer surface of the region cut by the slit groove 432, the region is moved to the inner side of the shaft 430, that is, in the direction of the rotation axis 410. Pushed to. As a result, it is possible to prevent the phenomenon of opening in the upper region of the shaft body 431 cut by the slit groove 432 of the shaft 430. Furthermore, the fixing body 451 may prevent the play caused by the deterioration of the contact member 440 due to the pressing of the cutting area of the sagittal body 431 toward the rotation axis 410.

그리고, 이와 같은 고정 몸체(451)가 회전하는 샤프트(430)의 외측에 위치한다. 따라서, 샤프트(430)의 회전에 의해 고정 몸체(451)가 분리될 수 있다. 이에 본 실시예에서는 샤프트(430)의 외측에는 고정 단자(434)를 형성하고, 고정 몸체(451)에는 이 고정 단자(434)에 장착 결합되는 장착홈(452)이 마련된다. In addition, the fixed body 451 is positioned outside the rotating shaft 430. Therefore, the fixed body 451 may be separated by the rotation of the shaft 430. In this embodiment, the fixed terminal 434 is formed on the outer side of the shaft 430, and the mounting body 451 is provided with a mounting groove 452 to be mounted and coupled to the fixed terminal 434.

이때, 장착홈(452)은 도 4의 (a)에 도시된 측면도에서와 같이 고정 몸체(451)의 하측에 연통된 고정 단자 유입홈과, 고정 단자(434)가 고정 몸체(451)의 내측에 고정되는 고정 단자 고정홈과, 상기 유입홈과 고정홈을 연결하는 연결홈을 구비한다. 그리고, 상기 고정 단자 유입홈과 고정홈은 동일 수직면 상에 위치하지 않는 것이 효과적이다. 이에 따라 연결홈은 사선 형태로 제작되는 것이 바람직하다. 따라서, 고정 단자(434)가 유입홈으로 삽입된 이후 연결홈을 따라 사선으로 이 동하게 되어 고정홈에 장착 고정된다. 이를 통해 고정 몸체(451)에 샤프트(430)에 밀착 고정될 수 있다. 또한, 샤프트(430)의 회전력이 고정 몸체(451)에도 전달되어 샤프트(430)와 함께 고정 몸체(451)도 회전할 수 있다. At this time, the mounting groove 452 is a fixed terminal inlet groove communicated to the lower side of the fixed body 451, as shown in the side view shown in Figure 4 (a), the fixed terminal 434 is the inner side of the fixed body 451 It is provided with a fixed terminal fixed groove fixed to the connection groove for connecting the inlet groove and the fixed groove. In addition, the fixed terminal inlet groove and the fixed groove are effectively not located on the same vertical surface. Accordingly, it is preferable that the connection groove is made in a diagonal shape. Therefore, the fixed terminal 434 is inserted into the inlet groove and then moved diagonally along the connection groove is fixed to the fixed groove. Through this, the fixing body 451 may be fixed to the shaft 430. In addition, the rotational force of the shaft 430 may be transmitted to the fixed body 451 to rotate the fixed body 451 together with the shaft 430.

그리고, 도 4의 (b)의 배면도에서와 같이 고정 몸체(451)의 하측의 두 영역에 장착홈(452)이 마련되는 것이 효과적이다. 이에 따라 샤프트(430)에도 2개의 고정 단자(434)가 마련된다. 물론 이에 한정되지 않고, 상기 장착홈(452)과 고정 단자(434)는 다양한 개수로 제작할 수 있다. And, as shown in the rear view of Figure 4 (b) it is effective that the mounting groove 452 is provided in two areas of the lower side of the fixed body 451. Accordingly, two fixed terminals 434 are also provided on the shaft 430. Of course, the present invention is not limited thereto, and the mounting groove 452 and the fixed terminal 434 may be manufactured in various numbers.

물론 고정 부재(450)는 상술한 설명에 한정되지 않고, 다양한 변형이 가능하다. 예를 들어, 고정 몸체(451)가 단일의 몸체로 제작되지 않고, 분리된 다수의 몸체가 결합될 수도 있다. 이때, 분리된 몸체를 별도의 결합 수단에 의해 결합 고정될 수 있다. 또한, 앞서 언급하였지만, 고정 부재(450)의 고정 몸체(451)의 내측에 고정 단자가 형성될 수 있다. 이때, 샤프트(430)에는 상기 고정 단자에 대응하는 장착홈이 마련될 수도 있다. Of course, the fixing member 450 is not limited to the above description, and various modifications are possible. For example, the fixed body 451 is not manufactured as a single body, and a plurality of separated bodies may be combined. At this time, the separated body may be fixed by a separate coupling means. In addition, as mentioned above, a fixing terminal may be formed inside the fixing body 451 of the fixing member 450. At this time, the shaft 430 may be provided with a mounting groove corresponding to the fixed terminal.

또한, 본 실시예에서는 상술한 고정 몸체(450)를 사용하지 않을 수도 있다. 즉, 도 5에 도시된 바와 같이 샤프트 몸체(431)의 슬릿 홈(432) 인접 영역에 슬릿 홈(432)을 기준으로 서로 마주 보는 적어도 하나의 고정 단자(434) 쌍이 마련된다. 그리고, 상기 고정 단자(434) 쌍을 관통하여 이들과 결합 고정되어 이들 사이의 이격 거리를 조절할 수 있는 결합 부재(470)를 구비할 수 있다. In addition, in the present embodiment, the fixing body 450 may not be used. That is, as shown in FIG. 5, at least one pair of fixing terminals 434 facing each other based on the slit grooves 432 are provided in an area adjacent to the slit grooves 432 of the shaft body 431. In addition, a coupling member 470 may be provided to penetrate and fix the pair of fixed terminals 434 to adjust a separation distance therebetween.

여기서, 결합 부재(470)로 다양한 요소들이 사용될 수 있다. 예를 들어 볼트, 너트 및 나사와 같은 결합 부재(470)를 사용할 수 있다. 이 경우, 고정 단 자(434)에는 결합 부재(470)가 관통하는 관통홈이 마련되는 것이 효과적이다. 물론 관통홈의 내측에 나사산이 마련될 수 있다. 이를 통해 결합 부재(470)를 돌려 서로 마주모는 고정 단자(434) 쌍의 이격 거리를 조절 함으로 인해 샤프트(430)와 회전축(410) 간의 밀착력을 향상시키고, 유격 발생시 이를 조절할 수 있다. 또한, 클립과 같은 결합 부재(470)를 사용하여 고정 단자(434)이 외측에서 고정 단자 쌍의 이격 거리를 조절할 수 있다. Here, various elements may be used as the coupling member 470. For example, coupling members 470 such as bolts, nuts and screws can be used. In this case, it is effective that the fixed terminal 434 is provided with a through groove through which the coupling member 470 passes. Of course, a thread may be provided inside the through groove. This improves the adhesion between the shaft 430 and the rotating shaft 410 by adjusting the separation distance of the fixed terminal 434 pair facing each other by rotating the coupling member 470, it can be adjusted when the play occurs. In addition, by using a coupling member 470 such as a clip, the fixed terminal 434 can adjust the separation distance of the fixed terminal pair from the outside.

물론 앞서 언급한 바와 같이 고정 몸체(451)가 분리된 경우, 상술한 방법의 결합 부재(470)가 사용될 수 있다. 이때, 고정 몸체(451)의 일측에는 상기 고정 단자(434)에 대응하는 고정 돌기가 마련될 수 있다. Of course, when the fixing body 451 is separated as mentioned above, the coupling member 470 of the above-described method may be used. In this case, a fixing protrusion corresponding to the fixing terminal 434 may be provided at one side of the fixing body 451.

또한, 본 실시예에서는 밀착 부재(440)로 오링 대신 샤프트(430)와 동일 재질의 밀착 부재(440)를 사용하는 것이 효과적이다. 즉, 밀착 부재(440)를 써스 재질로 제작하는 것이 바람직하다. 이러한 밀착 부재(440)는 도시되지 않았지만, 상하부가 개방된 관 형태의 밀착 몸체와, 상기 밀착 몸체의 상부 및 하부 중 적어도 어느 하나의 영역을 다수의 부분으로 절개하고, 이 절개된 몸체를 적어도 1회 이상 절곡시킨 탄성부를 구비한다. 이때, 상기 탄성부 영역이 회전축(410)과 샤프트(430) 간의 이격 영역에 배치되어 이들을 밀착시킨다. In addition, in this embodiment, it is effective to use the contact member 440 of the same material as the shaft 430 instead of the O-ring as the contact member 440. That is, it is preferable to manufacture the contact | adherence member 440 from a sus material. Although not shown, the contact member 440 cuts the contact body in the form of a tube having an upper and lower portions, and at least one of the upper and lower portions of the contact body into a plurality of parts, and the cut body is at least one. An elastic part bent at least twice is provided. At this time, the elastic region is disposed in the spaced area between the rotation axis 410 and the shaft 430 to close them.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 밀착 부재(440)는 샤프트(430)의 상부 영역에 위치한다. 즉, 샤프트(430)의 상부에서 회전축(410)과 샤프트(430)간이 밀착되도록 한다. 이때, 도면에서와 같이 샤프트(430)의 하부 영역에는 지지 부재(460)가 마련된다. 이때, 지지 부재(460)는 테프론 재질로 제작되는 것이 효과적이다. 그리고, 지지 부재(460)의 일단이 상기 샤프트(430)와 회전축(410)의 사이 영역으로 연장되어 샤프트(430)와 회전축(410)을 밀착 고정시킬 수 있다. 이를 통해 지지 부재(460)에 의해서도 회전축(410)이 흔들리거나 기울어지는 것을 방지할 수 있다. As shown in FIGS. 1 and 2, the contact member 440 is located in an upper region of the shaft 430. That is, the upper portion of the shaft 430 is in close contact with the rotating shaft 410 and the shaft 430. At this time, as shown in the figure, the support member 460 is provided in the lower region of the shaft 430. At this time, it is effective that the support member 460 is made of Teflon material. One end of the support member 460 may extend to an area between the shaft 430 and the rotation shaft 410 to tightly fix the shaft 430 and the rotation shaft 410. As a result, the rotation shaft 410 may be prevented from being shaken or inclined by the support member 460.

또한, 상기 지지 부재(460)에 센터링 조정을 위한 센터링 조정 몸체(미도시)가 마련될 수 있다. 이때, 센터링 조정 몸체는 상측에서 하측 방향을 경사진 경사면을 갖는다. 이 경사면에 회전축(410)의 끝단이 접속된다. 이를 통해 회전축(410)이 경사면 내에서 회전하기 때문에 회전축(410)의 중심을 일정하게 잡아 줄 수 있다. In addition, the support member 460 may be provided with a centering adjusting body (not shown) for adjusting the centering. At this time, the centering adjustment body has an inclined surface inclined downward from the upper side. The end of the rotating shaft 410 is connected to this inclined surface. As a result, since the rotating shaft 410 rotates in the inclined surface, the center of the rotating shaft 410 may be constantly held.

본 실시예에서는 상기와 같이 결합된 회전축(410)에 회전력을 인가하는 구동 수단(500)을 구비한다. 구동 수단(500)은 도시되지 않았지만, 회전력을 생성하는 모터부와, 모터부에서 연장되어 회전축(410)에 접속되는 중심축을 포함한다. 이때, 앞서 언급한 샤프트(430)가 중심축에 접속 고정된다. 이에, 상기 중심축의 회전력이 샤프트(430)에 전달되고, 샤프트(430)의 회전에 의해 회전축(410)이 회전하게 된다. 따라서, 회전축(410)에 접속된 기판 안치부(200)가 회전하게 된다. 그리고, 구동 수단(500)은 도시되지 않았지만, 중심축을 감싸는 하우징과, 상기 중심축과 하우징 사이를 밀봉하는 마그네틱 실을 구비한다. 이를 통해 챔버 외측에 마련된 구동 수단(500)에 의해 챔버 내부의 진공이 파괴되지 않도록 한다. 물론 챔버(100)의 하부돔(130)과 하우징 사이에는 밀봉을 위한 밀봉 수단(예를 들어 벨로우즈)가 마련될 수도 있다. In this embodiment, the driving means 500 for applying a rotational force to the rotary shaft 410 coupled as described above is provided. Although not shown, the driving means 500 includes a motor unit generating a rotational force and a central axis extending from the motor unit and connected to the rotation shaft 410. In this case, the aforementioned shaft 430 is connected and fixed to the central axis. Thus, the rotational force of the central axis is transmitted to the shaft 430, the rotation shaft 410 is rotated by the rotation of the shaft 430. Accordingly, the substrate setter 200 connected to the rotation shaft 410 rotates. Although not shown, the driving means 500 includes a housing surrounding the central axis and a magnetic seal sealing the space between the central axis and the housing. This prevents the vacuum inside the chamber from being broken by the driving means 500 provided outside the chamber. Of course, a sealing means (eg, bellows) for sealing may be provided between the lower dome 130 and the housing of the chamber 100.

본 발명은 상기에서 서술된 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양 한 형태로 구현될 수 있다. 즉, 상기의 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명의 범위는 본원의 특허 청구 범위에 의해서 이해되어야 한다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be implemented in various different forms. That is, the above embodiments are provided to make the disclosure of the present invention complete and to fully inform those skilled in the art the scope of the present invention, and the scope of the present invention should be understood by the claims of the present application. .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 단면 개념도. 1 is a cross-sectional conceptual view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 일 실시예에 따른 회전축부의 분해 개념도. 2 is an exploded conceptual view of a rotating shaft unit according to an embodiment;

도 3은 일 실시예에 따른 샤프트의 도면.3 is a view of a shaft according to one embodiment.

도 4는 일 실시예에 따른 고정 부재의 도면. 4 is a view of a fixing member according to one embodiment.

도 5는 일 실시예의 변형예에 따른 샤프트의 도면.5 is a view of a shaft according to a variant of one embodiment.

<도면의 주요 부호에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for major symbols in the drawings>

100 : 챔버 110 : 챔버 몸체100: chamber 110: chamber body

120 : 상부돔 130 : 하부돔120: upper dome 130: lower dome

200 : 기판 안치부 300 : 가열 수단200: substrate mounting portion 300: heating means

400 : 회전축부 410 : 회전축400: rotating shaft portion 410: rotating shaft

430 : 샤프트 440 : 밀착 부재430: shaft 440: contact member

450 : 고정 부재 460 : 지지 부재450: fixed member 460: support member

500 : 구동 수단500 drive means

Claims

A chamber having a reaction space;

A substrate setter positioned in the reaction space; And

A rotation axis disposed in the lower center area of the substrate mounting part;

One end of the rotary shaft is fixed and the shaft is provided with at least one slit groove in the region in which the rotary shaft is inserted;

An adhesive member in close contact with the shaft and the rotating shaft;

And a rotating shaft portion provided with an inner side in close contact with an outer side of the shaft from an upper side of the shaft and having a fixing member for pushing and fixing the shaft and the contact member in the direction of the rotating shaft from the outside of the shaft.

The method according to claim 1, The shaft,

A tubular shaft body with an upper and lower part open,

At least one slit groove provided in an upper region of the shaft body;

Substrate processing apparatus comprising a coupling protrusion for fixing the shaft body.

The method according to claim 2,

The shaft includes at least one fixed terminal protruding outward from the upper region of the shaft body in which the slit groove is formed,

The fixing member,

A fixed body having a ring shape in close contact with an upper region of the shaft body;

And a mounting groove provided in the fixed body to which the fixed terminal is inserted and coupled.

The method according to claim 2,

The fixing member,

At least one fixing terminal provided on the inner side of the fixed body,

The shaft is a substrate processing apparatus provided with a mounting groove in which the fixed terminal is inserted into the upper region of the shaft body in which the slit groove is formed.

The method of claim 2, wherein the fixing member,

A substrate processing apparatus comprising a plurality of fixed body and the coupling member for coupling between the plurality of fixed body to be in close contact with the upper region of the shaft body in the form of a ring.

The method according to claim 2,

The fixing member,

Substrate processing apparatus comprising a coupling member for adjusting the spacing of the slit groove of the shaft body.

A substrate mounting portion on which a substrate is placed;

A rotation axis disposed in a lower center area of the substrate settled part;

A shaft having one end of the rotating shaft inserted and fixed thereto, the shaft being provided with at least one slit groove in a region into which the rotating shaft is inserted;

A close contact member in close contact with the shaft and the rotating shaft; And

And a fixing member provided with an inner side in close contact with an outer side of the shaft from an upper side of the shaft and pushing the shaft and the close contact member in the direction of the rotation axis from the outside of the shaft.

The method according to claim 7, wherein the shaft,

A tubular shaft body with an upper and lower part open,

At least one slit groove provided in an upper region of the shaft body;

It includes a coupling protrusion for fixing the shaft body,

The fixing member has a ring-shaped fixing body in close contact with the upper region of the shaft body.

The method according to claim 8,

A fixed terminal formed on an outer surface of an upper region of the shaft body in which the slit groove is formed or an inner surface of the fixing member;

And a mounting groove formed in the fixing member or the shaft body to which the fixing terminal is coupled and fixed.