KR101145823B1 - Resin composition for printing and patterning method using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 착색제 1 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하는 프린팅용 수지 조성물, 이를 사용하여 패턴을 형성하는 방법, 이를 사용하여 기판의 패턴을 형성하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 전자소자를 제공한다.The present invention is a resin composition for printing comprising 3 to 30% by weight of an alkali-soluble resin, 59 to 95.9% by weight of an organic solvent, 1 to 10% by weight of a colorant and 0.1 to 1% by weight of a surfactant, and a method of forming a pattern using the same. The present invention provides a method for forming a pattern of a substrate using the same, and an electronic device manufactured by the method.

상기 조성물을 사용하면 패턴형성시 공정의 단순성과 비용절감의 효과를 달성할 수 있을 뿐만 아니라 상기 프린팅용 수지 조성물에 의해 형성된 패턴 막은 하부기판의 식각에 대한 저항력이 우수하여 하부 기판의 식각 공정에서의 패턴 전사 불량을 현저히 감소시킬 수 있으며, 또한 전사특성이 우수하고 장기간 사용시에도 조성물의 변질이 없는 장점이 있다.Using the composition, not only can achieve the effect of simplicity and cost reduction in pattern formation, but also the pattern film formed by the resin composition for printing has excellent resistance to etching of the lower substrate, so that It can significantly reduce the pattern transfer failure, and also has the advantage of excellent transfer characteristics and no deterioration of the composition even in long-term use.

Description

프린팅용 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법{RESIN COMPOSITION FOR PRINTING AND PATTERNING METHOD USING THE SAME}Resin composition for printing and pattern formation method using the same {RESIN COMPOSITION FOR PRINTING AND PATTERNING METHOD USING THE SAME}

도 1은 본 발명에 따른 프린팅용 수지 조성물을 기판상에 전사하는 방법을 나타낸 것이다. 1 shows a method for transferring a resin composition for printing according to the present invention onto a substrate.

도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 프린팅용 수지 조성물을 기판상에 전사한 후의 광학현미경 사진이다.2 is an optical micrograph after transferring the resin composition for printing according to Example 1 of the present invention on a substrate.

도 3은 본 발명의 비교예 1에 따른 프린팅용 수지 조성물을 기판상에 전사한 후의 광학현미경 사진이다.3 is an optical micrograph after transferring the resin composition for printing according to Comparative Example 1 of the present invention on a substrate.

도 4는 본 발명의 비교예 2에 따른 수지 조성물을 기판상에 전사한 후의 광학현미경 사진이다.4 is an optical micrograph after transferring the resin composition according to Comparative Example 2 of the present invention on a substrate.

본 발명은 프린팅용 수지 조성물, 이를 사용하여 패턴을 형성하는 방법, 이를 사용하여 기판의 패턴을 형성하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 전자소자를 제공한다. 구체적으로 상기 프린팅용 수지 조성물은 금속막, 반도체막 또는 절연막 등의 패턴 형성을 위한 마스크 역할을 할 수 있는 패턴 형성용 수지 조성물 또는 전자소자의 패턴 형성용 수지 조성물로 사용될 수 있다.The present invention provides a resin composition for printing, a method of forming a pattern using the same, a method of forming a pattern of a substrate using the same, and an electronic device manufactured by the method. Specifically, the printing resin composition may be used as a pattern forming resin composition or a pattern forming resin composition of an electronic device, which may serve as a mask for forming a pattern of a metal film, a semiconductor film, or an insulating film.

액정 표시 소자 및 반도체 소자 등은 기판 상에 형성된 수많은 층들이 패턴 화되어 있다. 따라서, 상기 수많은 층들을 기판 상에 형성하고 패터닝하기 위한 공정들이 수행되게 되며, 일반적으로 화학적기상증착방법, 포토레지스트방법 등 다양한 방법들이 이용된다. 다만, 기판 상에는 수많은 층들이 형성되어야 하므로 패턴형성 공정이 복잡할 경우 생산성이 떨어지므로 간단한 공정방법을 적용하는 것이 대량생산을 위해서는 필수적이다. 비교적 간단한 방법 중 하나로서 인쇄방법이 있다. 인쇄방법은 인쇄롤에 원하는 물질을 원하는 패턴으로 도포한 후, 기판 위에서 회전시켜 기판 위에 전사함으로써 원하는 패턴을 형성하는 방법이다. 이와 같은 인쇄방법은 기판과 인쇄롤 사이에 물리적 접촉이 발생되어 그 적용에 한계가 있기는 하지만, 그 방법이 간단하기 때문에 대량생산에 유리하고 따라서 다양하게 수정되어 발전되고 있다.In liquid crystal display devices and semiconductor devices, numerous layers formed on a substrate are patterned. Therefore, processes for forming and patterning the numerous layers on the substrate are performed, and various methods such as chemical vapor deposition and photoresist are generally used. However, since a large number of layers must be formed on the substrate, productivity is lowered when the pattern forming process is complicated, so applying a simple process method is essential for mass production. One relatively simple method is the printing method. The printing method is a method of forming a desired pattern by applying a desired material to a printing roll in a desired pattern, and then rotating the substrate onto a substrate. Such a printing method has limitations in its application due to physical contact between the substrate and the printing roll, but is advantageous for mass production because of its simple method, and has been variously modified and developed.

예컨대, 액정 표시 소자의 TFT(thin film transistor) 회로 제조 공정 중의 패턴 형성은 기판상에 형성된 알루미늄, 구리, 몰리브데늄 등의 도전성 금속막, 아몰포스 실리콘 등의 반도체막 또는 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 등의 절연막에 감광성 수지 조성물을 균일하게 도포 및 베이킹을 하여 포토레지스트 막을 형성하고, 상기 포토레지스트 막을 선택적으로 노광, 현상 처리하여 포토레지스트 패턴을 형성한 다음, 패턴화된 포토레지스트 막을 마스크로 하여 상기 도전성 금속막, 반도체막 또는 절연막을 습식 또는 건식으로 식각하여 포토레지스트 하부층에 미세 회로 패턴을 전사한 후 불필요해진 포토레지스트 패턴을 스트리퍼(박리액)로 제거 하는 공정으로 진행된다.For example, the pattern formation during the TFT (thin film transistor) circuit manufacturing process of the liquid crystal display device may be performed by conducting metal films such as aluminum, copper, and molybdenum, semiconductor films such as amorphous silicon, silicon oxide films, and silicon nitride films. A photoresist film was formed by uniformly applying and baking a photosensitive resin composition to an insulating film of the photoresist film, and selectively exposing and developing the photoresist film to form a photoresist pattern. The metal film, the semiconductor film, or the insulating film is etched wet or dry to transfer the fine circuit pattern to the lower photoresist layer, and then the unnecessary photoresist pattern is removed with a stripper.

상기 공정은 공정이 복잡하고 고가의 장비를 사용하기 때문에 액정 표시 장치의 제작시 시간 및 비용에 있어서 상당한 부분을 차지한다. The process takes a considerable part in time and cost in the manufacture of the liquid crystal display because of the complexity of the process and the use of expensive equipment.

이에 본 발명은 상기 종래기술의 공정 시간 및 비용의 문제점을 고려하여, 노광 및 현상 공정을 거치지 않고 롤 또는 평판을 이용한 프린팅 방법으로 패턴 형성이 가능한 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 발명은 상기 수지 조성물을 사용하여 패턴을 형성하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 전자소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin composition capable of forming a pattern by a printing method using a roll or a flat plate without undergoing an exposure and developing process in consideration of the problems of the process time and cost of the prior art. Moreover, an object of this invention is to provide the method of forming a pattern using the said resin composition, and the electronic device manufactured by this method.

본 발명은 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 착색제 1 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하는 프린팅용 수지 조성물을 제공한다.The present invention provides a resin composition for printing comprising 3 to 30% by weight of alkali-soluble resin, 59 to 95.9% by weight of an organic solvent, 1 to 10% by weight of a colorant, and 0.1 to 1% by weight of a surfactant.

또한, 본 발명은 In addition,

(a) 롤 또는 평판 프린팅 방법을 이용하여, 기판 상에 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 착색제 1 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하는 수지 조성물을 패턴화하여 코팅하는 단계; 및(a) a resin comprising from 3 to 30% by weight of an alkali-soluble resin, from 59 to 95.9% by weight of an organic solvent, from 1 to 10% by weight of a colorant and from 0.1 to 1% by weight of a surfactant, on a substrate using a roll or flat printing method Patterning and coating the composition; And

(b) 상기 코팅된 수지 조성물을 건조하는 단계(b) drying the coated resin composition

를 포함하는 패턴 형성 방법을 제공한다. It provides a pattern forming method comprising a.

또한, 본 발명은In addition,

(a) 기판 상에 금속막, 반도체막 또는 절연막을 형성하는 단계;(a) forming a metal film, a semiconductor film or an insulating film on the substrate;

(b) 롤 또는 프린팅 방법을 이용하여, 상기 금속막, 반도체막 또는 절연막 상에 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 착색제 1 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하는 수지 조성물을 패턴화하여 코팅하고 건조하는 단계;(b) 3 to 30% by weight of alkali-soluble resin, 59 to 95.9% by weight of organic solvent, 1 to 10% by weight of colorant and 0.1 to 1 surfactant on the metal film, semiconductor film or insulating film by using a roll or printing method Patterning, coating, and drying the resin composition comprising weight percent;

(c) 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 마스크로 하여 상기 금속막, 반도체막 또는 절연막을 식각하여 패턴화하는 단계; 및(c) etching and patterning the metal film, semiconductor film, or insulating film using a pattern formed from the resin composition as a mask; And

(d) 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 제거하는 단계(d) removing the pattern formed from the resin composition

를 포함하는 기판의 패턴 형성 방법을 제공한다.It provides a pattern forming method of the substrate comprising a.

또한, 본 발명은 본 발명에 따른 수지 조성물로 이루어진 패턴 또는 이를 포함하는 전자소자를 제공한다.In addition, the present invention provides a pattern made of a resin composition according to the present invention or an electronic device comprising the same.

상기 기판의 패턴 형성 방법을 이용한 전자소자는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 인쇄회로기판(PCB), 액정표시소자 또는 반도체소자일 수 있다.The electronic device using the pattern forming method of the substrate may be a plasma display panel (PDP), a printed circuit board (PCB), a liquid crystal display device or a semiconductor device.

이하, 본 발명에 대해서 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 프린팅용 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%를 포함한다. 상기 알칼리 가용성 수지는 패턴층을 형성하는 메트릭스 수지 역할을 하며 알칼리 현상액에 용해 특성이 있는 수지라면 특별히 한정되지 않으나, 노볼락 수지를 사용하는 것이 바람직하다.The resin composition for printing of the present invention contains 3 to 30% by weight of alkali-soluble resin. The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it serves as a matrix resin for forming a pattern layer and has a dissolution property in an alkaline developer, but it is preferable to use a novolak resin.

상기 노볼락 수지는 페놀류와 알데히드류의 축합반응으로 합성될 수 있다. 상기 페놀류로는 페놀, 4-t-부틸페놀, 4-t-옥틸페놀, 2-에틸페놀, 3-에틸페놀, 4- 에틸페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,5-자이레놀, 3,4-자이레놀, 3,5-자이레놀, 2,3,5-트리메틸페놀, 3-메틸-6-t-부틸페놀, 2-나프톨, 1,3-디하이드록시나프탈렌 또는 비스페놀-A 등이 있고, 상기 알데히드류로는 포름알데히드, 파라포름알데히드, 아세토알데히드, 벤즈알데히드 또는 페닐알데히드 등이 있다. 본 발명에서는 상기 페놀류 또는 알데히드류를 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로 사용할 수 있다. 축합반응에 사용되는 촉매로는 옥살산, p-톨루엔술폰산, 트리클로로아세트산 등의 유기산 또는 황산, 염산, 인산 등의 무기산 또는 염화아연, 염화알루미늄, 초산마그네슘, 초산아연 등의 금속염을 사용할 수 있다. 본 발명의 프린팅용 수지 조성물에서 사용되는 노볼락 수지의 분자량은 폴리스티렌 환산 기준으로 중량 평균 분자량 2,500 내지 15,000 범위인 것이 바람직하다.The novolak resin may be synthesized by the condensation reaction of phenols and aldehydes. The phenols include phenol, 4-t-butylphenol, 4-t-octylphenol, 2-ethylphenol, 3-ethylphenol, 4-ethylphenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5 -Xylenol, 3,4-Xylenol, 3,5-Xylenol, 2,3,5-trimethylphenol, 3-methyl-6-t-butylphenol, 2-naphthol, 1,3-dihydroxynaphthalene Or bisphenol-A. The aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, acetoaldehyde, benzaldehyde or phenylaldehyde. In the present invention, the phenols or aldehydes may be used alone or as a mixture of two or more thereof. As a catalyst used for the condensation reaction, organic acids such as oxalic acid, p-toluenesulfonic acid and trichloroacetic acid or inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid, or metal salts such as zinc chloride, aluminum chloride, magnesium acetate and zinc acetate can be used. The molecular weight of the novolak resin used in the resin composition for printing of the present invention is preferably in the range of 2,500 to 15,000 weight average molecular weight based on polystyrene conversion.

상기 알칼리 가용성 수지의 함량이 3 중량% 미만이면 수지 조성물에 의한 패턴 형성시 적은 수지의 함량으로 인하여 패턴 형성이 어렵고, 또한 기판에 패턴 형성시 식각 내성이 없어 기판에 패턴 형성이 안되는 문제점이 있으며, 30 중량%를 초과하면 수지 조성물에 의한 패턴을 기판에 전사시 수지의 뭉침 현상이 발생하는 문제점이 있다. When the content of the alkali-soluble resin is less than 3% by weight, it is difficult to form a pattern due to the content of a small resin when forming a pattern by the resin composition, and there is a problem in that the pattern is not formed on the substrate because there is no etching resistance when the pattern is formed on the substrate. When it exceeds 30% by weight, there is a problem that agglomeration of the resin occurs when transferring the pattern by the resin composition to the substrate.

상기 프린팅용 수지 조성물은 유기 용매 59 내지 95.9 중량%를 포함한다. 상기 유기용매는 알칼리 가용성 수지, 착색제 및 계면 활성제를 용해하여 기판에 코팅이 가능하도록 하는 역할을 한다.The printing resin composition contains 59 to 95.9 wt% of an organic solvent. The organic solvent is responsible for dissolving alkali-soluble resins, colorants and surfactants to enable coating on the substrate.

상기 유기용매의 구체적인 예로는 아세톤, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸카비톨 아세테이트, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로펜타논, 사 이클로헥사논 등의 케톤류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메틸프로피오네이트, 에틸프로피오네이트, 3-메톡시메틸프로피오네이트, 에틸락테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 아세테이트류가 있다. 본 발명에서는 전술한 유기용매를 단독 혹은 2종 이상의 혼합물로 사용할 수 있다.Specific examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl carbitol acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether Glycol ethers such as diethylene glycol monobutyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether; Methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, 3-methoxymethyl propionate, ethyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monopropyl Ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol Acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate. In the present invention, the aforementioned organic solvents may be used alone or in a mixture of two or more thereof.

상기 유기 용매의 함량이 59 중량% 미만이면 본 발명의 수지 조성물은 PDMS(Polydimethylsiloxane) 등의 기재에 코팅시 건조가 빨리 이루어져 수지 조성물의 패턴을 기판에 전사하기 어려운 문제점이 있으며, 95.9 중량%를 초과하면 본 발명의 수지 조성물은 건조가 너무 늦게 이루어져 PDMS 등의 기재에 스웰링(Swelling) 현상이 발생하여 패턴이 망가지는 현상이 발생할 수 있다. When the content of the organic solvent is less than 59% by weight, the resin composition of the present invention has a problem that it is difficult to transfer the pattern of the resin composition to the substrate due to rapid drying upon coating on a substrate such as PDMS (Polydimethylsiloxane), and more than 95.9% by weight. When the resin composition of the present invention is too late to dry, a swelling phenomenon occurs on a substrate such as PDMS, and thus a pattern may be broken.

상기 프린팅용 수지 조성물은 착색제 1 내지 10 중량%를 포함한다. 상기 착색제는 수지와의 결합력을 좋게 하고 클리쉐(Clich'e)에서 패턴 형성시 수지 조성 물 늘어지지 않고 딱딱 끊어지게 하는 역할을 하여 패턴 전사가 정밀하게 이루어질 수 있도록 한다.The printing resin composition contains 1 to 10% by weight of a colorant. The colorant improves the bonding force with the resin and serves to make the resin composition hard to break without sagging when forming the pattern in the Clichée, so that the pattern transfer can be made precisely.

상기 착색제로는 1종 이상의 안료, 염료 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있고, 바람직하게는 안료이다. 사용가능한 흑색 안료로는 카본 블랙, 흑연 또는 금속산화물 등이 있다. 카본 블랙의 예로는 (상품명으로) 시스토 5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토 3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토 300HAF-LS, 시스토 116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토 FMFEF-HS, 시스토 SOFEF, 시스토 VGPF, 시스토 SVHSRF-HS 및 시스토 SSRF(동해카본 ㈜); 다이어그램 블랙 II, 다이어그램 블랙 N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙 H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B 또는 OIL31B(미쯔비시화학㈜); PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 또는 LAMP BLACK-101(대구사㈜); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN- 790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, 또는 RAVEN-1170(콜롬비아 카본㈜) 등이 있다.As the colorant, one or more pigments, dyes or mixtures thereof may be used, and preferably pigments. Black pigments that can be used include carbon black, graphite or metal oxides. Examples of carbon blacks are (in brand name) cysto 5HIISAF-HS, cysto KH, cysto 3HHAF-HS, cysto NH, cysto 3M, cysto 300HAF-LS, cysto 116HMMAF-HS, cysto 116MAF, cis Sat FMFEF-HS, Sisto SOFEF, Sisto VGPF, Sisto SVHSRF-HS and Sisto SSRF (Donghae Carbon Co., Ltd.); Diagram Black II, Diagram Black N339, Diagram Black SH, Diagram Black H, Diagram LH, Diagram HA, Diagram SF, Diagram N550M, Diagram M, Diagram E, Diagram G, Diagram R, Diagram N760M, Diagram LR, # 2700, # 2600, # 2400, # 2350, # 2300, # 2200, # 1000, # 980, # 900, MCF88, # 52, # 50, # 47, # 45, # 45L, # 25, # CF9, # 95, # 3030, # 3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B or OIL31B (Mitsubishi Chemical Corporation); PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX- 200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, or LAMP BLACK-101 (Daegu Corporation); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN- 820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, or RAVEN-1170 (Colombia Carbon).

또한 색깔을 띄는 안료로는 카민 6B(C.I.12490), 프탈로시아닌 그린(C.I. 74260), 프탈로시아닌 블루(C.I. 74160), 페릴렌 블랙(BASF K0084. K0086), 시아닌 블랙, 리놀옐로우(C.I.21090), 리놀 옐로우GRO(C.I. 21090), 벤지딘 옐로우4T-564D, 빅토리아 퓨어 블루(C.I.42595), C.I. PIGMENT RED 3, 23, 97, 108, 122, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 149, 166, 168, 175, 177, 180, 185, 189, 190, 192, 202, 214,  215, 220, 221, 224, 230, 235, 242, 254, 255, 260, 262, 264, 272; C.I. PIGMENT GREEN 7, 36; C.I. PIGMENT BLUE 15:1, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 28, 36, 60, 64; C.I. PIGMENT YELLOW 13, 14, 35, 53, 83, 93, 95, 110, 120, 138, 139, 150, 151, 154, 175, 180, 181, 185, 194, 213; C.I. PIGMENT VIOLET 15, 19, 23, 29, 32, 37 등이 있고, 이 밖에 백색 안료 및 형광 안료로 이루어진 군에서 선택된 단독 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 그 외 빅토리아퓨어블루, 크리스탈바이올렛 또는 메틸바이올렛 등의 염료를 사용할 수도 있다.In addition, color pigments include carmine 6B (CI12490), phthalocyanine green (CI 74260), phthalocyanine blue (CI 74160), perylene black (BASF K0084. K0086), cyanine black, linol yellow (CI21090), linol yellow GRO (CI 21090), benzidine yellow 4T-564D, Victoria pure blue (CI42595), CI Pigment RED 3, 23, 97, 108, 122, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 149, 166, 168, 175, 177, 180, 185, 189, 190, 192, 202, 214, 215, 220, 221, 224, 230, 235, 242, 254, 255, 260, 262, 264, 272; C.I. PIGMENT GREEN 7, 36; C.I. PIGMENT BLUE 15: 1, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 28, 36, 60, 64; C.I. PIGMENT YELLOW 13, 14, 35, 53, 83, 93, 95, 110, 120, 138, 139, 150, 151, 154, 175, 180, 181, 185, 194, 213; C.I. PIGMENT VIOLET 15, 19, 23, 29, 32, 37, etc. In addition, a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of a white pigment and a fluorescent pigment can be used. Other dyes such as Victoria Pure Blue, Crystal Violet or Methyl Violet can also be used.

상기 착색제의 함량이 1 중량% 미만이면 패턴 형성시 패턴이 형성된 부분이 구별이 안되며, 10 중량%를 초과하면 PDMS와 같은 기재를 열화시키는 문제점이 있다.If the content of the colorant is less than 1% by weight, the patterned portion may not be distinguished when the pattern is formed. If the content is more than 10% by weight, there is a problem of degrading a substrate such as PDMS.

본 발명의 프린팅용 수지 조성물은 계면활성제 0.01 내지 1 중량%를 포함한 다. 상기 계면활성제는 본 발명의 수지 조성물에 의해 형성되는 패턴층의 코팅균일성을 향상시키고, 얼룩을 제거하는 역할을 한다.The resin composition for printing of the present invention contains 0.01 to 1% by weight of surfactant. The surfactant serves to improve the coating uniformity of the pattern layer formed by the resin composition of the present invention and to remove stains.

상기 계면활성제의 구체적인 예로는 실리콘계 계면활성제 또는 플루오린계 계면활성제 등을 사용할 수 있다. 이와 같은 계면활성제는 패턴 전사시 블랭킷으로 사용될 수 있는 PDMS의 소수성과, 패턴이 전사되는 기판으로 사용될 수 있는 유리의 친수성을 동시에 만족시킬 수 있다.Specific examples of the surfactant may be a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant. Such a surfactant can satisfy both the hydrophobicity of PDMS that can be used as a blanket during pattern transfer and the hydrophilicity of glass that can be used as a substrate to which the pattern is transferred.

본 발명의 프린팅용 수지 조성물은 필요에 따라 막질개선제, 계면활성제, 증감제 또는 염료 등의 첨가제를 추가적으로 포함할 수 있다. 막질개선제는 수지 조성물 패턴층의 열적, 기계적 특성을 개선하기 위해 첨가하며, 예컨대 가소제, 아크릴수지, 폴리스티렌 유도체 또는 폴리비닐메틸에테르 등을 사용할 수 있다.The resin composition for printing of the present invention may further include additives such as a film improving agent, a surfactant, a sensitizer, or a dye as necessary. The film improving agent is added to improve the thermal and mechanical properties of the resin composition pattern layer. For example, a plasticizer, an acrylic resin, a polystyrene derivative or a polyvinyl methyl ether may be used.

또한 본 발명은,In addition, the present invention,

(a) 롤 또는 평판 프린팅 방법을 이용하여, 기판 상에 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 착색제 1 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하는 수지 조성물을 패턴화하여 코팅하는 단계; 및(a) a resin comprising from 3 to 30% by weight of an alkali-soluble resin, from 59 to 95.9% by weight of an organic solvent, from 1 to 10% by weight of a colorant and from 0.1 to 1% by weight of a surfactant, on a substrate using a roll or flat printing method Patterning and coating the composition; And

(b) 상기 코팅된 수지 조성물을 건조하는 단계(b) drying the coated resin composition

를 포함하는 패턴 형성 방법을 제공한다.It provides a pattern forming method comprising a.

상기 (a) 단계에 있어서 롤 또는 평판 프린팅 방법이란 롤 또는 평판 형태의 블랭킷(Blanket)을 이용하여 롤 또는 평판 형태의 클리쉐에 소정 패턴으로 수지 조성물을 코팅한 후, 이 클리쉐를 이용하여 수지 조성물 패턴을 기판에 전사하는 방법을 말한다. 예컨대, 롤 형태의 블랭킷 재료(PDMS) 상에 본 발명의 수지 조성물을 슬릿 노즐(Slit Nozzle)을 이용하여 코팅한 후, 특정 형태의 홈부와 돌출부가 형성되어 있는 클리쉐 상에 전사하고, 클리쉐 상의 수지 조성물 또는 상기 블랭킷 상에 남아있는 수지 조성물을 기판의 표면에 접촉하여 패턴을 형성할 수 있다. 다만 본 발명의 범위가 이와 같은 방법에 의해 한정되는 것은 아니다. 본 발명에 적용할 수 있는 프린팅 방법을 도 1에 예시하였다.In the step (a), the method of printing a roll or a flat plate refers to a roll or a flat plate type cliché by coating a resin composition in a predetermined pattern on a roll or plate type blanket, and then using the cliché to form a resin composition pattern. To transfer the substrate to the substrate. For example, the resin composition of the present invention is coated on a blanket-like blanket material (PDMS) using a slit nozzle, and then transferred onto a cliché in which grooves and protrusions of a specific shape are formed, and the resin on the cliché is formed. The resin composition remaining on the composition or the blanket may be contacted with the surface of the substrate to form a pattern. However, the scope of the present invention is not limited by such a method. The printing method applicable to the present invention is illustrated in FIG. 1.

본 발명에서는 클리쉐의 재료로서 유리를 사용하는 것이 바람직하고 블랭킷 재료로서 PDMS가 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present invention, it is preferable to use glass as the material of the cliché, and PDMS is preferred as the blanket material, but is not limited thereto.

또한, 본 발명은 In addition,

(a) 기판 상에 금속막, 반도체막 또는 절연막을 형성하는 단계;(a) forming a metal film, a semiconductor film or an insulating film on the substrate;

(b) 롤 또는 평판 프린팅 방법을 이용하여, 기판 상에 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 착색제 1 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하는 수지 조성물을 패턴화하여 코팅하는 단계;(b) a resin comprising from 3 to 30% by weight of an alkali-soluble resin, from 59 to 95.9% by weight of an organic solvent, from 1 to 10% by weight of a colorant and from 0.1 to 1% by weight of a surfactant, on a substrate using a roll or flat printing method Patterning and coating the composition;

(c) 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 마스크로 하여 상기 금속막, 반도체막 또는 절연막을 식각하여 패턴화하는 단계; 및(c) etching and patterning the metal film, semiconductor film, or insulating film using a pattern formed from the resin composition as a mask; And

(d) 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 제거하는 단계;(d) removing the pattern formed from the resin composition;

를 포함하는 기판의 패턴 형성 방법을 제공한다.It provides a pattern forming method of the substrate comprising a.

상기 (a) 단계에 있어서 상기 기판상에 금속막, 반도체막 또는 절연막 등의 증착은 당기술분야에 알려진 방법, 예컨대 스핀코팅, 딥코팅 또는 닥터 블레이딩 등에 의해 수행될 수 있다. 상기 금속막, 반도체막, 또는 절연막 등은 실리콘, 알루미늄, 인듐 틴옥사이드(ITO), 인듐 징크옥사이드(IZO), 몰리브덴, 이산화질소, 질화실리콘, 탄탈륨, 구리, 폴리실리콘, 세라믹, 알루미늄/구리 혼합물 또는 각종 중합성 수지 등의 패턴을 형성하고자 하는 모든 기판에 예외없이 적용될 수 있다.In the step (a), the deposition of the metal film, the semiconductor film or the insulating film on the substrate may be performed by a method known in the art, such as spin coating, dip coating or doctor blading. The metal film, semiconductor film, or insulating film may be formed of silicon, aluminum, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), molybdenum, nitrogen dioxide, silicon nitride, tantalum, copper, polysilicon, ceramic, aluminum / copper mixture or It can apply without exception to all the board | substrates to which patterns, such as various polymeric resins, are intended.

상기 (b) 단계에 있어서, 롤 또는 평판 프린팅 방법은 전술한 바와 같다.In the step (b), the roll or flat plate printing method is as described above.

상기 (c) 단계에서는, 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 마스크로 하여 금속막, 반도체막 또는 절연막을 습식 또는 건식 식각하여 미세 회로패턴을 형성한다. 하부 기판의 막질에 따라서 액상의 식각액를 사용하는 습식 식각 또는 기상의 플라즈마를 사용하는 건식 식각을 실시한다. 알루미늄, 몰리브데늄, 구리, ITO, 크롬 등의 금속 기판은 인산/질산/초산의 혼합 산용액, 과산화수소 수용액, 옥살산 수용액 등의 액상 식각액을 사용하며, 실리콘나이트라이드, 아몰퍼스 실리콘과 같은 보호막 또는 반도체막은 플라즈마 식각을 한다.In the step (c), a fine circuit pattern is formed by wet or dry etching the metal film, the semiconductor film or the insulating film using the pattern formed from the resin composition as a mask. According to the film quality of the lower substrate, wet etching using a liquid etching solution or dry etching using a plasma in a gas phase is performed. Metal substrates such as aluminum, molybdenum, copper, ITO, and chromium use liquid etching solutions such as a mixed acid solution of phosphoric acid / nitric acid / acetic acid, an aqueous solution of hydrogen peroxide, an aqueous solution of oxalic acid, and a protective film or semiconductor such as silicon nitride and amorphous silicon. The film is plasma etched.

상기 (d) 단계에서는, 상기 조성물을 박리액으로 제거한다. 상기 박리액은 모노에탄올아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올의 알칸올아민과 N-메틸피롤리돈, 디메틸아세트아미드 또는 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 용제 혼합물을 사용할 수 있고, 50 내지 80℃에서 2 내지 5분간 스트리퍼를 스프레이한 후, 초순수로 60 내지 120초간 세정한 후 건조하는 것이 바람직하다.In the step (d), the composition is removed with a stripping solution. The stripping solution may be a solvent mixture such as monoethanolamine, alkanolamine of 2- (2-aminoethoxy) ethanol, N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide or diethylene glycol monoethyl ether, and the like. After spraying the stripper for 2 to 5 minutes at -80 ° C, it is preferable to wash with ultrapure water for 60 to 120 seconds and then dry.

본 발명은 본 발명에 따른 수지 조성물로 이루어진 패턴, 또는 이를 포함하는 전자소자를 제공한다.The present invention provides a pattern made of the resin composition according to the present invention, or an electronic device including the same.

본 발명에 따른 전자소자의 제조방법은 전술한 수지 조성물에 의한 패턴 형성 방법 또는 기판의 패턴 형성 방법을 이용하는 것을 제외하고는 당기술 분야의 기술을 이용할 수 있다. 또한 본 발명에 따른 전자소자는 본 발명의 방법에 따라 형성된 패턴을 포함하는 것이라면 특별히 한정되지 않으나 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 인쇄회로기판(PCB), 액정표시소자 또는 반도체 소자일 수 있다.The manufacturing method of the electronic device according to the present invention may use techniques in the art, except that the pattern forming method using the above-described resin composition or the pattern forming method of the substrate is used. Further, the electronic device according to the present invention is not particularly limited as long as it includes a pattern formed according to the method of the present invention, but may be a plasma display panel (PDP), a printed circuit board (PCB), a liquid crystal display device, or a semiconductor device.

구체적으로 본 발명의 롤프리팅용 수지 조성물을 사용하여 액정표시소자의 TFT 회로 패턴을 형성하는 방법을 예시하면 다음과 같다.Specifically, the method of forming the TFT circuit pattern of the liquid crystal display device using the resin composition for roll printing of the present invention is as follows.

액정표시소자의 TFT 회로는 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체막 (비정질 실리콘), 소스/드레인 전극, 보호막으로 구성되는 박막 트랜지스터와 게이트 버스 라인, 데이터 버스 라인, 픽셀 전극으로 구성이 된다. 이렇게 구성된 단위 화소를 메트릭스로 배열시킴으로써 TFT 어레이가 형성된다. 종래의 TFT 어레이는 적층된 각 막질을 일정한 형태를 갖는 모양으로 패턴하기 위해 포토리소그라피 공정을 수행하여 제조하며, 보통 4 내지 5회 정도 반복하게 되는데, 본 발명에서는 롤 또는 평판 프린팅 공정을 이용하여 PDMS에 코팅 후, 클리쉐에 패턴을 형성한 후 하부 기판에 전사 시키고, 프리베이크, 에칭 및 스트립 공정을 수행할 수 있다.The TFT circuit of the liquid crystal display element is composed of a thin film transistor composed of a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor film (amorphous silicon), a source / drain electrode, a protective film, a gate bus line, a data bus line, and a pixel electrode. The TFT array is formed by arranging the unit pixels thus constructed in matrix. Conventional TFT arrays are manufactured by performing a photolithography process to pattern each stacked film into a shape having a predetermined shape, and are usually repeated 4 to 5 times. In the present invention, PDMS using a roll or a flat plate printing process is performed. After coating, the pattern is formed on the cliché and then transferred to the lower substrate, and prebaking, etching and stripping processes may be performed.

먼저 본 발명의 프린팅용 수지 조성물을 슬릿노즐을 이용하여 PDMS기판에 코팅한다. 코팅 후 클리세 상에 패턴을 전사한 후, 원하는 기판의 표면에 접촉하여 패턴을 형성하고, 패턴화된 상기 수지 조성물을 프리베이크하여 유기 용제를 제거하면 패턴화된 포토레지스트 막이 형성된다. 이 때 막두께는 0.5 내지 3㎛ 정도로 하며, 프리베이크는 80 내지 200℃에서 1 내지 5분간 실시하는 것이 바람직하다. 상기 본 발명에 따른 프린팅용 수지 조성물을 기판상에 전사한 후의 광학현미경사진을 도 2 및 도 3에 나타내었다. First, the printing resin composition of the present invention is coated on a PDMS substrate using a slit nozzle. After the pattern is transferred onto the cliché after coating, the pattern is contacted with the surface of the desired substrate to form a pattern, and the patterned resin composition is prebaked to remove the organic solvent to form a patterned photoresist film. At this time, the film thickness is about 0.5 to 3 µm, and the prebaking is preferably performed at 80 to 200 ° C for 1 to 5 minutes. 2 and 3 show optical micrographs after the resin composition for printing according to the present invention is transferred onto a substrate.

상기와 같이 패턴화된 포토레지스트 막을 형성한 후 패턴화된 포토레지스 막 을 마스크로 하여 하부 기판을 에칭하여 패턴을 형성한다.After the patterned photoresist film is formed as described above, the lower substrate is etched using the patterned photoresist film as a mask to form a pattern.

에칭 완료 후에 포토레지스트 막은 스트리핑하여 제거한다. 스트리퍼는 모노에탄올아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올의 알칸올아민과 N-메틸피롤리돈, 디메틸아세트아미드 또는 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 용제 혼합물을 사용하며, 50 내지 80℃에서 2 내지 5분간 스트리퍼를 스프레이 한 후 초순수로 60 내지 120초간 세정한 후 건조하는 것이 바람직하다.After the etching is completed, the photoresist film is stripped off. The stripper uses a solvent mixture such as monoethanolamine, alkanolamine of 2- (2-aminoethoxy) ethanol, N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide or diethylene glycol monoethyl ether, and the like. After spraying the stripper for 2 to 5 minutes at, it is preferable to wash with ultrapure water for 60 to 120 seconds and then dry.

본 발명 따른 프린팅용 수지 조성물을 사용하여 전자소자의 회로 패턴을 형성하게 되면, 공정의 단순함과 시간절약을 현저히 감소시킬 수 있고, 아울러 포토레지스트 변성을 최소화함으로써 스트립 공정에서의 잔사 및 이물 불량을 획기적으로 개선하여 수율 증대에 기여할 수 있다. Forming a circuit pattern of an electronic device using the resin composition for printing according to the present invention can significantly reduce the simplicity and time saving of the process, and minimize the photoresist denaturation, thereby drastically reducing residue and foreign material defects in the strip process. Can improve the yield.

<< 실시예Example 1> 1>

m-크레졸과 p-크레졸 중량비 5:5를 혼합하여 제조한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량 6,500인 노볼락 수지 18g, 안료 입자로 C.I. PIGMENT BLUE 15:6 및 C.I. PIGMENT VIOLET 23 0.8g, 플로린계 계면활성제 0.3g을 부틸카비톨아세테이트 18g, 메틸아세테이트 62.9g 용해 후 0.2㎛로 여과하여 프린팅용 수지 조성물을 제조하였다.18g of novolak resin having a weight average molecular weight of 6,500 in terms of polystyrene prepared by mixing m-cresol and p-cresol weight ratio 5: 5, and C.I. PIGMENT BLUE 15: 6 and C.I. 0.8 g of PIGMENT VIOLET 23 and 0.3 g of florin-based surfactant were dissolved in 18 g of butyl carbitol acetate and 62.9 g of methyl acetate, and filtered to 0.2 µm to prepare a resin composition for printing.

<비교예 1>Comparative Example 1

안료 입자 0.8g 대신에 염료 입자로 빅토리아퓨어블루 0.8g을 첨가하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 프린팅용 수지 조성물을 제조하였다. A resin composition for printing was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.8 g of Victoria Pure Blue was added as dye particles instead of 0.8 g of pigment particles.

<비교예 2>Comparative Example 2

m-크레졸과 p-크레졸 중량비 5:5를 혼합하여 제조한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량 6,500인 노볼락 수지 18g, 플로린계 계면활성제 0.2g을 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 용해 후 0.2㎛로 여과하여 수지 조성물을 제조하였다. Prepared by mixing m-cresol and p-cresol weight ratio 5: 5 A resin composition was prepared by dissolving 18 g of novolak resin and 0.2 g of florin-based surfactant having a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 6,500 in propylene glycol monomethyl ether acetate, and then filtration at 0.2 μm.

<< 실험예Experimental Example >>

상기 제조된 프린팅용 수지 조성물에 대하여 다음과 같은 방법으로 경시 안정성, 기판 밀착 특성 및 건조 특성을 평가하였다.The prepared resin composition for printing was evaluated for stability over time, substrate adhesion characteristics and drying characteristics in the following manner.

1) 경시 안정성 평가1) Evaluation of stability over time

프린팅용 수지 조성물을 PDMS에 스핀 코팅하고 이를 기판에 전사한 후 코팅 경시 안정성을 아래와 같은 방법으로 실시하였다. 먼저 프린티용 수지 조성물을 PDMS에 스핀 코팅한 후 표면의 균일도를 육안으로 평가하였다. 상기 경시 안정성의 결과는 프린팅용 수지 조성물을 PDMS에 코팅 후 보이드(void) 및 코팅 형성을 육안으로 확인 할 수 있었으며, 그 결과를 표 1에 나타내었다. After spin coating the resin composition for printing on PDMS and transferring it to a substrate, the coating stability over time was performed by the following method. First, after the spin coating of the resin composition for printing on PDMS, the uniformity of the surface was visually evaluated. As a result of the stability over time, after coating the resin composition for printing on PDMS, it was possible to visually confirm the void (void) and coating formation, the results are shown in Table 1.

상기 경시 안정성은 다음과 같은 기준으로 평가하였다.The stability over time was evaluated based on the following criteria.

○: 경시 안정성 우수 (코팅 특성 변화 5% 이내)○: Excellent stability over time (within 5% change in coating properties)

△: 경시 안정성 다소 떨어짐(코팅 특성 변화 5%~10%)△: Stability slightly deteriorated with time (coating characteristic change 5% to 10%)

×: 경시 안정성 불량 (코팅 특성 변화 10% 이상)X: Poor stability over time (10% or more of coating characteristic change)

2) 하부 기판 전사 특성 평가2) Evaluation of Lower Substrate Transfer Characteristics

프린팅용 수지 조성물을 몰리브데늄 1000Å 증착된 4" 글라스 및 구리 1000Å 증착된 글라스에 각각에 전사한 후 패턴 사이의 간격을 측정하여 패턴 형성 상태를 평가하였다. 상기 전사 특성 평가 결과를 표 1에 나타내었다. The resin composition for printing was transferred onto molybdenum 1000Å deposited 4 "glass and copper 1000Å deposited glass, respectively, and the pattern formation state was evaluated by measuring the interval between patterns. The results of the transfer characteristics evaluation are shown in Table 1 below. It was.

○: 패턴 특성 성능 우수 (1~2㎛ 이내)○: excellent pattern characteristics (within 1 ~ 2㎛)

△: 패턴 특성 성능 떨어짐(2~10㎛)(Triangle | delta): Poor pattern characteristic performance (2-10 micrometers)

×: 패턴 특성 불량 (10㎛ 이상)X: pattern characteristic defect (10 micrometers or more)

3) 건조 특성 평가3) Drying property evaluation

프린팅용 수지 조성물을 이용하여 패턴을 형성한 후 소프트베이크 후 상기 프린팅용 수지 조성물이 흘러내리지 않고 패턴 형성을 유지하는 상태를 광학 현미경을 이용하여 평가하였다. 상기 건조 특성 평가 결과를 표 1에 나타내었다. After the pattern was formed using the resin composition for printing, the state of maintaining the pattern formation without flowing down after the soft bake was evaluated using an optical microscope. Table 1 shows the results of the drying characteristics evaluation.

○: 건조 특성 우수(전사율 100%)○: excellent drying characteristics (100% emissivity)

△: 건조 특성 성능 떨어짐(전사율 50~90%)(Triangle | delta): Poor drying characteristic performance (50-90% of transfer rate)

×: 건조 특성 불량(전사율 50% 미만)X: Drying property defect (less than 50% of transfer rate)

[표 1][Table 1]


구 분

division
조성 성분 (중량%)Composition Components (wt%) 물성Properties
a)알칼리
가용성 수지
a) alkali
Soluble resin
b)유기용매b) organic solvents c) 안료/염료c) pigments / dyes d)계면활성제d) surfactants 코팅성Coating 전사성Transcription 건조성Dryness
종류Kinds amount 종류Kinds amount 종류Kinds amount 종류Kinds amount
실시예 1

Example 1

노볼락
수지

Novolac
Suzy

18

18

MA

MA

18

18

안료

Pigment

0.8

0.8

플로린계

Florin

0.3

0.3







BGA

BGA

62.9

62.9

비교예
1

Comparative example
One

노볼락
수지

Novolac
Suzy

18

18

MA

MA

18

18

염료

dyes

0.8

0.8

플로린계

Florin

0.3

0.3



×

×



BGA

BGA

62.9

62.9

비교예 2

Comparative Example 2

노볼락
수지

Novolac
Suzy

18

18

PGMEA

PGMEA

81.7

81.7

플로린계

Florin

0.3

0.3

×

×

×

×

×

×

* MA: 메틸아세테이트* MA: methyl acetate

* BCA: 부틸카비톨아세테이트* BCA: Butyl Carbitol Acetate

* PGMEA: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트* PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

* 안료: BLUE 15:6 및 VIOLET 23* Pigments: BLUE 15: 6 and VIOLET 23

* 염료: 빅토리아퓨어블루Dye: Victoria Pure Blue

본 발명의 수지 조성물을 사용하면 패턴형성시 공정의 단순성과 비용절감의 효과를 달성할 수 있을 뿐만 아니라 식각에 대한 저항력이 우수하여 식각 공정에서의 패턴 전사 불량을 현저히 감소시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은 전사특성이 우수하고 장기간 사용시에도 조성물의 변질이 없는 장점이 있다.Using the resin composition of the present invention can not only achieve the effect of the simplicity and cost reduction of the process when forming the pattern, but also excellent resistance to etching can significantly reduce the pattern transfer defects in the etching process. In addition, the resin composition of the present invention has the advantage of excellent transfer properties and no deterioration of the composition even when used for a long time.

Claims (17)

알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 안료 0.8 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하고, 상기 안료는 흑색안료, 색을 띄는 안료, 백색안료 및 형광안료로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 프린팅용 수지 조성물.3 to 30% by weight of alkali-soluble resin, 59 to 95.9% by weight of organic solvent, 0.8 to 10% by weight of pigment, and 0.1 to 1% by weight of surfactant, the pigment being black pigment, colored pigment, white pigment and fluorescence A resin composition for printing, which is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of pigments. 청구항 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 노볼락 수지인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The resin composition for printing according to claim 1, wherein the alkali-soluble resin is a novolak resin. 청구항 2에 있어서, 상기 노볼락 수지는 페놀류와 알데히드류의 축합반응으로 합성된 것으로써, 페놀류로는 페놀, 4-t-부틸페놀, 4-t-옥틸페놀, 2-에틸페놀, 3-에틸페놀, 4-에틸페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,5-자이레놀, 3,4-자이레놀, 3,5-자이레놀, 2,3,5-트리메틸페놀, 3-메틸-6-t-부틸페놀, 2-나프톨, 1,3-디하이드록시나프탈렌 및 비스페놀-A이고, 알데히드류로는 포름알데히드, 파라포름알데히드, 아세토알데히드, 벤즈알데히드 및 페닐알데히드로 이루어진 군에서 선택된 단독 혹은 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The method of claim 2, wherein the novolak resin is synthesized by the condensation reaction of phenols and aldehydes, the phenols are phenol, 4-t-butylphenol, 4-t-octylphenol, 2-ethylphenol, 3-ethyl Phenol, 4-ethylphenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, 2,3,5-trimethylphenol, 3 -Methyl-6-t-butylphenol, 2-naphthol, 1,3-dihydroxynaphthalene and bisphenol-A, and aldehydes in the group consisting of formaldehyde, paraformaldehyde, acetoaldehyde, benzaldehyde and phenylaldehyde Resin composition for printing, characterized in that selected alone or a mixture of two or more. 청구항 2에 있어서, 상기 노볼락 수지는 평균 분자량 2,500 내지 15,000 범위인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The resin composition of claim 2, wherein the novolak resin has an average molecular weight in the range of 2,500 to 15,000. 청구항 1에 있어서, 상기 유기 용매는 아세톤, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸카비톨 아세테이트, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로펜타논, 사이클로헥사논, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메틸프로피오네이트, 에틸프로피오네이트, 3-메톡시메틸프로피오네이트, 에틸락테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 단독 혹은 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the organic solvent is acetone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl carbitol acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether , Ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol Monomethyl ether, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, 3-methoxymethyl propionate, ethyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Ethylene Glycol Monoprop Fill ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate and A resin composition for printing, characterized in that it is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of dipropylene glycol monomethyl ether acetate. 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 흑색안료는 카본 블랙, 흑연, 및 금속산화물 안료로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물. The resin composition for printing according to claim 1, wherein the black pigment is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of carbon black, graphite, and metal oxide pigments. 청구항 1에 있어서, 상기 계면활성제는 실리콘계 계면활성제 및 플루오린계 계면활성제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the surfactant is a resin composition for printing, characterized in that at least one selected from the group consisting of silicone-based surfactants and fluorine-based surfactants. 청구항 1에 있어서, 상기 프린팅용 수지 조성물은 막질개선제, 계면활성제, 증감제 및 염료 중 1 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The resin composition for printing according to claim 1, wherein the resin composition for printing further comprises at least one of a film improving agent, a surfactant, a sensitizer and a dye. (a) 롤 또는 평판 프린팅 방법을 이용하여, 기판 상에 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 안료 0.8 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하고, 상기 안료는 흑색안료, 색을 띄는 안료, 백색안료 및 형광안료로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 수지 조성물을 패턴화하여 코팅하는 단계; 및(a) 3 to 30 weight percent alkali-soluble resin, 59 to 95.9 weight percent organic solvent, 0.8 to 10 weight percent pigment, and 0.1 to 1 weight percent surfactant, on a substrate using a roll or flat printing method, The pigment may be coated by coating a resin composition which is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of black pigments, color pigments, white pigments and fluorescent pigments; And (b) 상기 코팅된 수지 조성물을 건조하는 단계(b) drying the coated resin composition 를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.Pattern forming method comprising a. 청구항 10에 있어서, 상기 (a) 단계의 롤 또는 평판 프린팅 방법은 블랭킷 상에 상기 수지 조성물을 코팅한 후 홈부와 돌출부가 형성되어 있는 클리쉐 상에 전사한 후, 상기 블랭킷 상에 남아있는 수지 조성물을 상기 기판의 표면에 접촉하 여 패턴을 전사하는 방법으로 수행하는 것인 패턴 형성 방법.The method of claim 10, wherein the roll or flat printing method of step (a) is performed after coating the resin composition on the blanket and transferring it to a cliché having grooves and protrusions formed thereon, thereby restoring the resin composition remaining on the blanket. And a method of transferring the pattern in contact with the surface of the substrate. (a) 기판 상에 금속막, 반도체막 또는 절연막을 형성하는 단계;(a) forming a metal film, a semiconductor film or an insulating film on the substrate; (b) 롤 또는 평판 프린팅 방법을 이용하여 상기 금속막, 반도체막 또는 절연막 상에 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 안료 0.8 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하고, 상기 안료는 흑색안료, 색을 띄는 안료, 백색안료 및 형광안료로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 수지 조성물을 패턴화하여 코팅하고 건조하는 단계;(b) 3 to 30% by weight of alkali-soluble resin, 59 to 95.9% by weight of organic solvent, 0.8 to 10% by weight of pigment and 0.1 to 1 surfactant on the metal film, the semiconductor film or the insulating film by using a roll or flat plate printing method Wt%, wherein the pigment is coated and dried by patterning a resin composition which is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of black pigments, color pigments, white pigments and fluorescent pigments; (c) 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 마스크로 하여 상기 금속막, 반도체막 또는 절연막을 식각하여 패턴화하는 단계; 및(c) etching and patterning the metal film, semiconductor film, or insulating film using a pattern formed from the resin composition as a mask; And (d) 상기 수지 조성물로 형성된 패턴을 제거하는 단계(d) removing the pattern formed from the resin composition 를 포함하는 기판의 패턴 형성 방법.Pattern forming method of the substrate comprising a. 청구항 12에 있어서, 상기 (a) 단계의 롤 또는 평판 프린팅 방법은 블랭킷 상에 상기 수지 조성물을 코팅한 후 홈부와 돌출부가 형성되어 있는 클리쉐 상에 전사한 후, 상기 블랭킷 상에 남아있는 수지 조성물을 상기 기판의 표면에 접촉하여 패턴을 전사하는 방법으로 수행하는 것인 기판의 패턴 형성 방법.The method of claim 12, wherein the roll or flat printing method of step (a) is performed after coating the resin composition on the blanket and transferring it to a cliché having grooves and protrusions formed thereon, thereby restoring the resin composition remaining on the blanket. The pattern forming method of the substrate which is performed by the method of transferring the pattern in contact with the surface of the substrate. 알칼리 가용성 수지 3 내지 30 중량%, 유기 용매 59 내지 95.9 중량%, 안료 0.8 내지 10 중량% 및 계면활성제 0.1 내지 1 중량%를 포함하고, 상기 안료는 흑색안료, 색을 띄는 안료, 백색안료 및 형광안료로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 수지 조성물로 이루어진 패턴을 포함하는 전자소자.3 to 30% by weight of alkali-soluble resin, 59 to 95.9% by weight of organic solvent, 0.8 to 10% by weight of pigment, and 0.1 to 1% by weight of surfactant, the pigment being black pigment, colored pigment, white pigment and fluorescence An electronic device comprising a pattern consisting of a resin composition that is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of pigments. 청구항 14에 있어서 상기 전자소자는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 인쇄회로기판(PCB), 액정표시소자 또는 반도체 소자인 것인 전자소자.The electronic device of claim 14, wherein the electronic device is a plasma display panel (PDP), a printed circuit board (PCB), a liquid crystal display device, or a semiconductor device. 청구항 1에 있어서, 상기 색을 띄는 안료는 카민 6B, 프탈로시아닌 그린, 프탈로시아닌 블루, 페릴렌 블랙, 시아닌 블랙, 리놀옐로우, 리놀 옐로우, 벤지딘 옐로우, 빅토리아 퓨어 블루, C.I. 피그먼트 레드, C.I. 피그먼트 그린, C.I. 피그먼트 블루, C.I. 피그먼트 옐로우, 및 C.I. 피그먼트 바이올렛으로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 프린팅용 인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The pigment of claim 1 wherein the pigments with color are Carmine 6B, Phthalocyanine Green, Phthalocyanine Blue, Perylene Black, Cyanine Black, Linol Yellow, Linol Yellow, Benzidine Yellow, Victoria Pure Blue, C.I. Pigment Red, C.I. Pigment Green, C.I. Pigment Blue, C.I. Pigment yellow, and C.I. The resin composition for printing, characterized in that the printing is characterized in that the mixture is selected from the group consisting of pigment violet or two or more. 청구항 7에 있어서, 상기 카본 블랙은 시스토 5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토 3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토 300HAF-LS, 시스토 116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토 FMFEF-HS, 시스토 SOFEF, 시스토 VGPF, 시스토 SVHSRF-HS 및 시스토 SSRF(동해카본 ㈜); 다이어그램 블랙 II, 다이어그램 블랙 N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙 H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B 또는 OIL31B(미쯔비시화학㈜); PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 또는 LAMP BLACK-101(대구사㈜); 및 RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, 또는 RAVEN-1170(콜롬비아 카본㈜)으로 이루어진 군에서 선택되는 단독 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 프린팅용 인 것을 특징으로 하는 프린팅용 수지 조성물.The method according to claim 7, wherein the carbon black is cysto 5HIISAF-HS, cysto KH, cysto 3HHAF-HS, cysto NH, cysto 3M, cysto 300HAF-LS, cysto 116HMMAF-HS, cysto 116MAF, cis Sat FMFEF-HS, Sisto SOFEF, Sisto VGPF, Sisto SVHSRF-HS and Sisto SSRF (Donghae Carbon Co., Ltd.); Diagram Black II, Diagram Black N339, Diagram Black SH, Diagram Black H, Diagram LH, Diagram HA, Diagram SF, Diagram N550M, Diagram M, Diagram E, Diagram G, Diagram R, Diagram N760M, Diagram LR, # 2700, # 2600, # 2400, # 2350, # 2300, # 2200, # 1000, # 980, # 900, MCF88, # 52, # 50, # 47, # 45, # 45L, # 25, # CF9, # 95, # 3030, # 3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B or OIL31B (Mitsubishi Chemical Corporation); PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX- 200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, or LAMP BLACK-101 (Daegu Corporation); And RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN -820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000 , Phosphorus for printing, characterized in that it is a single or a mixture of two or more selected from the group consisting of RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, or RAVEN-1170 (Colombia Carbon Co., Ltd.) Resin composition for printing, characterized in that.
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