KR101139820B1 - 다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치를 구비한 플라즈마 챔버 - Google Patents

다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치를 구비한 플라즈마 챔버 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 챔버에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 챔버는 플라즈마 방전 공간을 형성하는 챔버 하우징; 상기 챔버 하우징의 내부에서 설치되어 플라즈마 방전을 유도하는 다수개의 단위 분할 전극을 갖는 다중 분할 전극 세트; 하나의 입력 노드와 둘 이상의 출력 노드를 갖고, 전원 공급원에서 발생된 고주파 전력이 상기 다수개의 단위 분할 전극으로 공급되는 급전 경로에 구성되어 전류의 균등한 분배 돕는 하나 이상의 판형 급전 부재; 상기 판형 급전 부재와 상기 다수개의 단위 분할 전극 사이에 구성되는 다수개의 선형 급전 부재를 포함한다. 본 발명은 다중 분할 전극 세트를 사용함으로서 위상 오차에 의한 에너지 밀도의 불균형을 최소화 하여 보다 균일한 플라즈마 방전을 유도할 수 있으며, 이때 고주파 방사 차폐 분배기가 고주파 전력이 전원 공급원으로부터 다중 분할 전극 세트로 급전 과정에서 공중으로 방사되는 것을 차폐함으로서 다중 분할 전극 세트로 고주파 전력이 급전되는 과정에서 방사 손실이 발생되는 것을 최소화 한다. 또한 하나의 단위 분할 전극으로 입력되도록 분배된 고주파 전력이 하나 이상의 분기 급전 라인에 의해 분기되어 다수개의 급전점으로 입력됨으로서 하나의 단위 분할 전극 내에서 발생될 수 있는 위상 오차에 의한 에너지 밀도의 불균형을 최소화 하여 보다 균일한 플라즈마 방전을 유도할 수 있다.

Description

다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치를 구비한 플라즈마 챔버{PLASMA CHAMBER HAVING POWER FEEDING DEVICE FOR MULTI DIVIDED ELECTRODE SET}
본 발명은 플라즈마 챔버 및 이를 위한 급전 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 균일한 플라즈마 발생과 전력 손실을 저감할 수 있는 다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치를 구비한 플라즈마 챔버에 관한 것이다.
플라즈마는 여러 산업 분야에 널리 사용되고 있다. 반도체 산업 분야의 경우 플라즈마를 이용한 피처리 기판의 처리 공정들 예를 들어, 증착, 식각, 세정 등에 사용되고 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
플라즈마 챔버(30)는 플라즈마 발생을 위한 전극(32)이 구비된다. 전극(32)은 예를 들어, 가스 공급을 위한 가스 샤워 헤드로 구성될 수 있다. 고주파 전원을 공급하는 전원 공급원(10)은 임피던스 정합기(12)를 통해서 전극(32)으로 연결된다. 전극(32)은 급전 라인(34)을 통해서 고주파 전원을 공급받는다. 플라즈마 챔버(30)의 내부에는 피처리 기판(38)이 놓이는 기판 지지대(36)가 구비된다. 기판 지지대(36)는 임피던스 정합기(22)를 통하여 바이어스 전원 공급원(20)에 연결될 수 있다.
플라즈마 챔버(30)로 기판 처리를 위한 공정 가스가 공급되고, 전원 공급원(10)으로부터 발생된 고주파 전력 예를 들어, 13.56Mhz의 전력이 임피던스 정합기(12)와 급전 라인(34)을 통하여 전극(32)으로 공급되면 플라즈마 챔버(30)의 내부에 플라즈마가 발생되어 피처리 기판(36)에 대한 플라즈마 처리가 이루어진다.
한편, 플라즈마 처리에 있어서 피처리 기판에 대한 균일한 가공은 매우 중요한 요소이다. 그런데 피처리 기판 예를 들어, 반도체 웨이퍼 기판이나 글라스 기판의 크기가 대형화 되면서 플라즈마 챔버의 크기도 대형화되고 있으며 이와 더불어 플라즈마 챔버에 구비되는 전극의 크기도 대형화 되고 있다. 게다가 고주파 전력을 공급하는 전원 공급원의 경우에도 더 높은 주파수가 요구되고 있다.
대형 전극과 보다 높은 고주파 전력의 사용은 대형 전극 내에서 위상차에 따른 에너지 밀도의 불균형에 의해 플라즈마 챔버 내에서 불균일한 플라즈마 발생을 초래하게 된다. 또한 전원 공급원과 전극 사이에 구비되는 급전 라인에서 발생되는 리엑턴스 성분에 의한 손실과 고주파 방사에 의한 손실 등이 발생하게 된다. 전극이 대형화되고 보다 높은 고주파 전력이 사용되면서 피처리 기판에 대한 균일한 플라즈마 처리가 어려워지고 있다.
본 발명의 목적은 대형화되는 피처리 기판에 대하여 플라즈마 처리를 균일하게 할 수 있고 전력 손실을 저감할 수 있는 다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치를 구비한 플라즈마 챔버를 제공하는데 있다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 플라즈마 챔버에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 챔버는 플라즈마 방전 공간을 형성하는 챔버 하우징; 상기 챔버 하우징의 내부에서 설치되어 플라즈마 방전을 유도하는 다수개의 단위 분할 전극을 갖는 다중 분할 전극 세트; 하나의 입력 노드와 둘 이상의 출력 노드를 갖고, 전원 공급원에서 발생된 고주파 전력이 상기 다수개의 단위 분할 전극으로 공급되는 급전 경로에 구성되어 전류의 균등한 분배 돕는 하나 이상의 판형 급전 부재; 상기 판형 급전 부재와 상기 다수개의 단위 분할 전극 사이에 구성되는 다수개의 선형 급전 부재를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 판형 급전 부재는 전력 분배를 위한 분기 구조를 갖는 둘 이상의 판형 급전 부재를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 다수개의 선형 급전 부재는 전력 분배를 위한 분기 구조를 갖는 둘 이상의 선형 급전 부재를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 판형 급전 부재는 고주파 방사를 차폐하기 위한 차폐 부재를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 선형 급전 부재는 고주파 방사를 차폐하기 위한 차폐 부재를 더 포함한다.
본 발명의 다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치 및 이를 구비한 플라즈마 챔버는 다중 분할 전극 세트를 사용함으로서 위상 오차에 의한 에너지 밀도의 불균형을 최소화 하여 보다 균일한 플라즈마 방전을 유도할 수 있으며, 이때 고주파 방사 차폐 분배기가 고주파 전력이 전원 공급원으로부터 다중 분할 전극 세트로 급전 과정에서 공중으로 방사되는 것을 차폐함으로서 다중 분할 전극 세트로 고주파 전력이 급전되는 과정에서 방사 손실이 발생되는 것을 최소화 한다. 또한 하나의 단위 분할 전극으로 입력되도록 분배된 고주파 전력이 하나 이상의 분기 급전 라인에 의해 분기되어 다수개의 급전점으로 입력됨으로서 하나의 단위 분할 전극 내에서 발생될 수 있는 위상 오차에 의한 에너지 밀도의 불균형을 최소화 하여 보다 균일한 플라즈마 방전을 유도할 수 있다. 더불어 전류 균형 분배 회로에 의해 분배된 전류가 상호 균형을 이룰 수 있도록 함으로 플라즈마 챔버의 내부에 보다 균일한 플라즈마 방전이 이루어진다.
도 1은 일반적인 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 분할 전극 세트를 위한 균일한 급전 구조를 구비한 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 3 및 도 4는 도 2에서 하나의 판형 급전 부재와 선형 급전 부재를 다중 분할 전극 세트에 연결한 예를 보여주는 도면이다.
도 5는 선형 급전 부재에 고주파 방사 차폐를 위해 접지 구조를 이용하여 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 6은 판형 급전 부재에 고주파 방사 차폐를 위해 접지 구조를 이용하여 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 7 및 도 8은 복수 개의 판형 급전 부재와 선형 급전 부재를 다중 분할 전극 세트에 연결한 예를 보여주는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 분할 전극 세트를 위한 균일한 급전 구조를 구비한 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 10 및 도 11은 하나의 판형 급전 부재의 양측으로 선형 급전 부재를 구비하여 다중 분할 전극 세트에 연결한 예를 보여주는 도면이다.
도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 분할 전극 세트를 위한 균일한 급전 구조를 구비한 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 13은 단위 분할 전극에 하나 이상의 분기 급전 라인을 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 14 내지 도 17은 단위 분할 전극에 하나 이상의 분기 급전 라인을 다양한 방식으로 구성한 예를 보여주는 도면이다.
본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 구성은 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 분할 전극 세트를 위한 균일한 급전 구조를 구비한 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 챔버(200)는 플라즈마 방전 공간을 형성하는 챔버 하우징과 다수 개의 단위 분할 전극으로 구성되는 다중 분할 전극 세트(210)를 구비한다. 전원 공급원(100)으로부터 임피던스 정합기(110)와 판형 급전 부재(120)과 다수개의 선형 급전 부재(130)를 통하여 다중 분할 전극 세트(210)로 고주파 전력이 공급된다. 판형 급전 부재(120)는 전원 공급원(100)으로부터 공급되는 고주파 전력을 다수의 전력 공급 경로로 분배한다. 다수개의 선형 급전 부재(130)는 판형 급전 부재(120)와 단위 분할 전극 사이에 연결되어 판형 급전 부재(120)의 다수 전력 공급 경로로부터 분배된 고전극에 제공한다. 고주파 전력은 판형 급전 부재(120)와 선형 급전 부재(130)에 의해 다수개의 단위 분할 전극으로 균일한 전류가 제공되어 균일한 플라즈마가 발생한다.
도 3 및 도 4는 도 2에서 하나의 판형 급전 부재와 선형 급전 부재를 다중 분할 전극 세트에 연결한 예를 보여주는 도면이다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 다수개의 단위 분할 전극(212)은 고주파 전력이 급전되는 급전 경로에 설치된 판형 급전 부재(120)와 선형 급전 부재(130)를 통해 고주파 전력을 공급받는다. 판형 급전부재(120)는 중심에 위치된 하나의 입력노드(122)와 입력노드(122)로부터 동일한 거리에 위치된 다수개의 출력노드(124)를 구비한다. 입력노드(122)는 전원 공급원(100)에 연결되어 고주파 전력을 제공받는다. 다수개의 출력노드(124)는 입력노드(122)로부터 동일한 거리에 위치되기 때문에 각 출력노드(124)에서 출력되는 고주파 전력은 동일하다.
선형 급전 부재(130)는 다수 개의 단위 선형 급전 라인(132)으로 구성되어 판형 급전 부재(120)와 단위 분할 전극(212) 사이에 연결된다. 여기서, 단위 선형 급전 라인(132)은 일측은 다수개의 출력노드(124)에 각각 연결되고, 타측은 단위 분할 전극(212)의 양단에 위치한 급전점(212a)에 연결된다. 그럼으로 임피던스 정합기(110)를 통하여 출력되는 고주파 전력은 판형 급전 부재(120)를 통해 단위 선형 급전 라인(132)으로 분배되고, 단위 선형 급전 라인(132)을 통해 고주파 전력은 하나의 단위 분할 전극(212)으로 입력된다. 이때 급전되는 고주파 전력은 판형 급전 부재(120)와 선형 급전 부재(130)에 의해 균등하게 단위 분할 전극(212)에 제공된다.
다중 분할 전극 세트(210)는 다수 개의 단위 분할 전극(212)을 교대적으로 배열할 수도 있고, 단위 분할 전극(212) 사이에 접지 전극 (214)을 교대적으로 배열하여 구성될 수 있다. 즉, 동일한 구조의 다수개의 단위 분할 전극(212)과 다수개의 접지 전극(214)이 서로 교대적으로 배열됨으써 전극들 사이에서 플라즈마 방전이 이루어진다. 단위 분할 전극(212)은 선형 구조를 갖고 병렬로 배열되어 플라즈마 챔버(200)의 내측 천장에 설치될 수 있다. 가스 공급은 병렬로 배열된 단위 분할 전극(212)의 사이로 투입되어 플라즈마 챔버(200) 내부로 공급될 수 있다.
도 5는 선형 급전 부재에 고주파 방사 차폐를 위해 접지 구조를 이용하여 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 단위 선형 급전 라인(132)는 동축선(132a)과 접지쉴드(132b) 및 절연 커버(132d)를 구비하여 형성될 수 있다. 동축선(132a)의 일단은 공통으로 판형 급전 부재(120)의 출력 노드(124)에 연결되고, 타단은 단위 분할 전극(212)에 연결된다. 동축선(132a)을 통해 고주파 전력이 전달된다 접지쉴드(132b)는 동축선(132a)을 감싸는 형태로 형성된다. 접지쉴드(132b)는 동축선(132a)을 통해 단위 분할 전극(212)으로 급전되는 고주파 전력이 공중으로 방사되는 것을 차폐한다. 이때, 동축선(132a)과 접지쉴드(132b) 사이에는 전기적 절연을 위한 절연부재(132c)가 구비된다. 또한 절연커버(132d)sms 접지쉴드(132b)를 감싸는 형태로 형성된다. 단위 선형 급전 부재(132)는 고주파 전력이 차폐되어 공중으로 방사되지 않도록 하기 위해 동축케이블로 형성될 수도 있다.
도 6은 판형 급전 부재에 고주파 방사 차폐를 위해 접지 구조를 이용하여 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 판형 급전 부재(120)는 고주파 전력이 공중으로 방사되는 것을 차폐하기 위해 접지구조로 접지쉴드(126)를 구비할 수 있다. 접지쉴드(126)는 판형 급전 부재(120)와 인접하게 설치된다. 그러므로 판형 급전 부재(120)에 의해 전달되는 고주파 전력이 공중으로 방사되는 것을 차폐할 수 있어 급전 과정에서 전력 손실을 방지한다. 본 발명에서는 도시하지 않았으나, 도 5 및 도 6에 도시된 차폐구조를 판형 급전 부재(120)와 선형 급전 부재(130)에 함께 적용할 수도 있다.
도 7 및 도 8은 복수 개의 판형 급전 부재와 선형 급전 부재를 다중 분할 전극 세트에 연결한 예를 보여주는 도면이다.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 다수개의 판형 급전 부재(120)를 이용하여 고주파 전력 분배를 위한 분기 구조를 형성할 수 있다. 여기서, 판형 급전 부재(120)는 하나의 입력노드(122)를 구비하고, 입력노드(122)로부터 동일한 거리로 위치되고 전력을 분배하고자 하는 만큼 출력노드(124)를 구비한다. 예를 들어, 제1 판형 급전 부재(120a)는 하나의 입력노드(122)와 모서리에 구비된 네 개의 출력 노드(124)를 갖는다. 여기서, 네 개의 출력 노드(124)는 제2 판형 급전 부재(120b)의 입력노드(122)와 연결된다. 제2 판형 급전부재(120b)는 다수개의 출력 노드(124)가 구비되어 다수개의 단위 분할 전극(212)에 연결된다. 이 경우 고주파 전력은 제1 판형 급전 부재(120a)와 제2 판형 급전 부재(120b)에 의해 분기되어 하나의 단위 분할 전극(212)으로 각각 입력된다. 그럼으로 단위 분할 전극(212) 내에서 발생될 수 있는 위상 오차에 의한 에너지 밀도의 불균형을 최소화하여 보다 균일한 플라즈마 방전을 유도할 수 있다.
상기에 설명된 출력노드(124)의 갯수는 전류를 분배하고자하는 만큼 조절할 수 있다. 즉, 고주파 전류는 판형 급전 부재(120)에 구비된 출력 노드(124)의 갯수 만큼 균일하게 분배된다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 분할 전극 세트를 위한 균일한 급전 구조를 구비한 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 챔버(200)는 상술한 제1 실시예에서 판형 급전 부재(120)의 전단에 선형 급전 부재(130)를 더 부가한 것이다. 선형 급전 부재(130) 사이에 판형 급전 부재(120)가 구성되어 다중 분할 전극 세트(210)로 고주파 전력이 제공된다. 즉, 전원 공급원(100)으로부터 제공된 고주파 전력은 선형 급전 부재(130)와 판형 급전 부재(120)를 통해 전달되고, 다시 다중 분할 전극 세트(210)에 연결된 선형 급전 부재(130)를 통해 다중 분할 전극 세트(210)로 제공된다. 그럼으로 플라즈마 챔버(200) 내부에 보다 균일한 플라즈마 방전이 이루어지도록 한다.
도 10 및 도 11은 하나의 판형 급전 부재의 양측으로 선형 급전 부재를 구비하여 다중 분할 전극 세트에 연결한 예를 보여주는 도면이다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 하나의 판형 급전 부재(120)는 선형 급전 부재(130)를 통해 고주파 전력을 인가받고, 선형 급전 부재(130)를 통해 단위 분할 전극(212)으로 고주파 전력을 제공한다. 여기서, 고주파 전력을 인가받는 선형 급전 부재(130)는 고주파 전력의 분배를 위한 분기 구조의 단위 선형 급전 라인(134)으로 형성된다. 분기 구조의 단위 선형 급전 라인(134)은 판형 급전 부재(120)로 입력되도록 분기된다. 전원 공급원(100)으로부터 제공된 고주파 전력은 임피던스 정합기(110)를 통해 분기 구조의 단위 선형 급전 라인(134)로 제공되고 각 판형 급전 부재(120)로 분기되어 공급된다. 판형 급전 부재(120)는 단위 선형 급전 라인(132)을 통해 단위 분할 전극(212)으로 분기된 고주파 전력을 제공한다. 여기서도, 단위 선형 급전 라인(132)와 판형 급전 부재(120)는 상기에 설명된 바와 동일한 구조로 고주파 전력의 방사를 차폐하기 위한 차폐구조를 갖는다.
도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 분할 전극 세트를 위한 균일한 급전 구조를 구비한 플라즈마 챔버의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 챔버(200)는 선형 급전 부재(130)만을 이용하여 다중 분할 전극 세트(210)에 고주파 전력을 제공받을 수 있다. 전원 공급원(100)으로부터 제공된 고주파 전력은 선형 급전 부재(130)를 통해 다중 분할 전극 세트(210)로 제공된다.
도 13은 단위 분할 전극에 하나 이상의 분기 급전 라인을 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 13에 도시된 바와 같이, 다수개의 선형 급전 부재(130)는 하나 이상의 분기 구조를 구성하여 단위 분할 전극(212)으로 고주파 전력을 제공할 수 있다. 고주파 전력은 선형 급전 부재(130)의 단위 선형 급전 라인(132)을 통해 분기되고, 분기된 고주파 전력은 다시 선형 급전 부재(130)에 입력되어 단위 선형 급전 라인(132)으로 분기되어 단위 분할 전극(212)에 제공된다.
도 14 내지 도 17은 단위 분할 전극에 하나 이상의 분기 급전 라인을 다양한 방식으로 구성한 예를 보여주는 도면이다.
도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 다중 분할 전극 세트(210)를 구성하는 다수개의 단위 분할 전극(212)은 다수개의 급전점(212a)과 하나 이상의 분기 급전 라인을 포함할 수 있다. 이 경우 하나의 단위 분할 전극(212)으로 입력된 고주파 전력은 하나 이상의 분기 급전 라인(134a, 134b, 134c)에 의해 분기되어 단위 선형 급전 라인(132)을 통해 양단에 위치한 급전점(212a)으로 입력된다.
도 16 및 도 17에 도시된 바와 같이, 이 경우 하나의 단위 분할 전극(212)으로 입력된 고주파 전력은 하나 이상의 분기 급전 라인(134a, 134b)에 의해 단위 분할 전극(212)의 양단으로 분기되어 단위 선형 급전 라인(132)을 통해 단부에 위치한 급전점(212a)으로 입력된다.
본 발명의 실시예에서의 다수 개의 급전점(212a)은 단위 분할 전극(212)의 양단에 위치되나, 급전점(212a)은 단위 분할 전극(212) 상에 위치될 수도 있다.
이상에서 설명된 본 발명의 다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치 및 이를 구비한 플라즈마 챔버의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 상술한 실시예는 다중 분할 전극 세트를 위한 급전 장치로서 설명되었다. 그러나 본 발명의 급전 장치는 용량 결합 플라즈마 발생을 위한 다중 분할 전극 세트 구조에만 한정되는 것은 아니며 유도 결합 플라즈마 발생을 위한 다중 안테나 구조에도 적용이 가능하다.
그럼으로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
10: 전원 공급원 12: 임피던스 정합기
20: 바이어스 전원 공급원 22: 임피던스 정합기
30: 플라즈마 챔버 32: 전극
34: 급전 라인 36: 기판 지지대
38: 피처리 기판 100: 전원 공급원
110: 임피던스 정합기 120: 판형 급전 부재
122: 입력 노드 124: 츨력 노드
126: 접지 쉴드 130: 선형 급전 부재
132: 단위 선형 급전 라인 132a: 동축선
132b: 접지 쉴드 132c: 절연 부재
132d: 절연 커버
134: 분기 구조의 단위 선형 급전 라인
134a, 134b, 134c: 제1, 2, 3 분기 급전 라인
200: 플라즈마 챔버 210: 다중 분할 전극 세트
212: 단위 분할 전극 212a: 급전점
214: 접지 전극

Claims (5)

  1. 플라즈마 방전 공간을 형성하는 챔버 하우징;
    상기 챔버 하우징의 내부에 설치되어 플라즈마 방전을 유도하는 다수개의 단위 분할 전극을 갖는 다중 분할 전극 세트;
    하나의 입력 노드와 상기 입력 노드로부터 동일 거리를 갖는 둘 이상의 출력 노드를 갖고, 전원 공급원에서 발생된 고주파 전력이 상기 다수개의 단위 분할 전극으로 공급되는 급전 경로에 구성되어 전류를 균등하게 분배하는 하나 이상의 판형 급전 부재;
    상기 판형 급전 부재에 인접하여 설치되어 고주파 방사를 차폐하는 제1 접지 쉴드;
    상기 판형 급전 부재와 상기 다수개의 단위 분할 전극 사이에 구성되는 다수개의 선형 급전 부재; 및
    상기 선형 급전 부재에 인접하여 설치되어 고주파 방사를 차폐하는 제2 접지 쉴드를 포함하고,
    상기 다수개의 단위 분할 전극은 각기 둘 이상의 상기 선형 급전 부재와 연결되는 둘 이상의 급전점을 통하여 고주파 전력을 입력받는 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 판형 급전 부재는 전력 분배를 위한 분기 구조를 갖는 둘 이상의 판형 급전 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 다수개의 선형 급전 부재는 전력 분배를 위한 분기 구조를 갖는 둘 이상의 선형 급전 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버.
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KR20090125406A (ko) * 2008-06-02 2009-12-07 다이나믹솔라디자인 주식회사 혼합형 플라즈마 반응기

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