KR101124212B1 - Transparent plasma display panel and method for manufacturing thereof - Google Patents

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Abstract

투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널은 투명 기판 전면 상부에 형성되는 투명 전극; 상기 투명 전극이 형성된 상기 투명 기판 전면 상부에 형성되는 투명 유전체층; 상기 투명 유전체층 상부에 SU-8 포토레지스트에 의해 형성되는 투명 격벽; 및 플라즈마 방전에 의해 상기 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하기 위해, 상기 투명 격벽 상부에 형성되는 투명 보호막을 포함할 수 있고, 상기 투명 보호막을 무기물로 형성함으로써, 방전 효율을 높이고, SU-8 투명 격벽의 투과도를 유지하면서 투명 격벽의 수명을 증가시킬 수 있다.A transparent plasma display panel and a method of manufacturing the same are disclosed. A transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention comprises a transparent electrode formed on the front surface of the transparent substrate; A transparent dielectric layer formed on an upper surface of the transparent substrate on which the transparent electrode is formed; A transparent barrier rib formed on the transparent dielectric layer by a SU-8 photoresist; And a transparent protective film formed on the transparent partition wall to prevent the transparent partition from being damaged by plasma discharge. The transparent protective film is formed of an inorganic material, thereby increasing discharge efficiency and increasing the SU-8 transparent partition wall. It is possible to increase the life of the transparent partition wall while maintaining the transmittance of.

SU-8, 투명 플라즈마 디스플레이, 투명 격벽, 플라즈마 방전 SU-8, transparent plasma display, transparent bulkhead, plasma discharge

Description

투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법{TRANSPARENT PLASMA DISPLAY PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}Transparent plasma display panel and its manufacturing method {TRANSPARENT PLASMA DISPLAY PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}

본 발명은 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 SU-8 포토레지스트(PR)에 의해 형성된 투명 격벽 상부에 투명 보호막을 형성함으로써, 플라즈마에 의해 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하고, 이를 통해 투명 격벽을 수명을 증가시킬 수 있는 투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent plasma display panel, and more particularly, by forming a transparent protective film on the transparent barrier rib formed by the SU-8 photoresist (PR), thereby preventing the transparent barrier rib from being damaged by the plasma. The present invention relates to a transparent plasma display panel capable of increasing the life of the transparent partition wall and a method of manufacturing the same.

도 1은 일반적인 교류 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 것으로, 도시된 바와 같이 전면판에는 유리 기판(160) 상에 스캔 전극 및 서스테인 전극을 포함하는 투명 전극(170), 전면 유전체층(170), 보호막(180)이 위치하고, 후면판에는 유리 기판(110) 상에 어드레스 전극(120), 불투명한 후면 유전체층(130), 불투명 격벽(140), 그리고 불투명 형광체층(150)이 위치한다.1 illustrates a structure of a general AC plasma display panel, and as shown in FIG. 1, the front plate includes a transparent electrode 170 including a scan electrode and a sustain electrode on a glass substrate 160, a front dielectric layer 170, and a protective film. The 180 is positioned, and the address electrode 120, the opaque rear dielectric layer 130, the opaque partition wall 140, and the opaque phosphor layer 150 are positioned on the glass substrate 110.

일반적인 교류 플라즈마 디스플레이 패널은 패널 내부에서 발생한 빛을 전면판으로만 투과시키기 때문에 불투명하다.In general, the AC plasma display panel is opaque because it transmits light generated inside the panel only to the front plate.

따라서, 투명 플라즈마 디스플레이 패널을 구현하기 위해서는, 불투명한 후 면 유전체층이 투명 유전체층으로 대체되어야 하고, 격벽 및 형광체층 또한 투명 물질로 대체 되어야 한다.Therefore, in order to implement a transparent plasma display panel, an opaque rear surface dielectric layer should be replaced with a transparent dielectric layer, and a partition and phosphor layer should also be replaced with a transparent material.

투명 격벽은 산화물을 이용하여 얻을 수 있는데, 이런 산화물을 이용한 격벽 제작이 선행 연구들이 진행되었지만, 기존의 기술들은 투명 플라즈마 디스플레이 패널을 위함이 아닌 일반적인 교류 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 특성을 높이기 위해서 이거나 제조 가격을 줄이기 위해서이다.Transparent barrier ribs can be obtained by using oxides. However, prior art researches have been conducted to fabricate barrier ribs using oxides, but existing technologies are not intended for transparent plasma display panels, but to improve the barrier rib characteristics of general AC plasma display panels. To reduce.

또한, 유리 기판을 식각하여 투명 격벽을 제작할 수 있지만, 유리를 식각하여 격벽을 형성하는 경우 표면의 핀홀 등에 의해 빛이 산란되어 투과도를 저하시키고, 수용액 식각 시 등방성으로 식각되어 원하는 형태의 격벽을 얻기 어렵다. 또한, 수용액 식각 시 주로 사용되는 불산의 경우, 그 위험성 때문에 제작함에 있어 어려움이 따른다.In addition, a transparent barrier rib may be manufactured by etching a glass substrate. However, when the barrier rib is formed by etching glass, light is scattered by pinholes on the surface to decrease the transmittance, and isotropically etched during aqueous solution etching to obtain a barrier rib having a desired shape. it's difficult. In addition, in the case of hydrofluoric acid mainly used in etching an aqueous solution, it is difficult to manufacture because of the risk.

또한, 투명 격벽을 SU-8 포토레지스트(PR)를 이용하여 형성할 수도 있는데, SU-8 PR에 의해 형성된 투명 격벽은 도 2에 도시된 플라즈마 방전 후의 SU-8 PR 투명 격벽에 대한 표면 전자 현미경(SEM) 사진을 통해 알 수 있듯이, 투명 격벽이 플라즈마에 의해 손상을 받게 되고, 이로 인해 수십 시간 플라즈마 방전을 유지하면 도 3과 도시된 일 예와 같이, 투명 격벽 손상에 의해 비방전 영역이 발생하는 문제점이 있다.In addition, a transparent partition wall may be formed by using a SU-8 photoresist PR. The transparent partition wall formed by SU-8 PR is a surface electron microscope of the SU-8 PR transparent partition wall after plasma discharge shown in FIG. 2. As can be seen from the (SEM) photograph, the transparent partition wall is damaged by the plasma, which causes the non-discharge region to be generated by the transparent partition wall damage as shown in FIG. There is a problem.

따라서, 투과도를 유지하면서 수명을 증가시킬 수 있는 투명 격벽에 대한 필요성이 대두된다.Therefore, there is a need for a transparent partition that can increase the life while maintaining the permeability.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 본 발명의 실시예에 따른 목적은, SU-8 포토레지스트에 의해 형성된 투명 격벽의 투과도를 유지하면서 투명 격벽의 수명을 증가시킬 수 있는 투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.An object of the present invention, which was devised to solve the above problems, is a transparent plasma display panel capable of increasing the life of the transparent partition wall while maintaining the transmittance of the transparent partition wall formed by the SU-8 photoresist and its It is to provide a manufacturing method.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 다른 목적은, 제작 방법이 간단하고 대면적화하기 용이한 투명 격벽을 제공할 수 있는 투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a transparent plasma display panel and a method of manufacturing the same, which can provide a transparent partition wall having a simple manufacturing method and easy to enlarge a large area.

상기 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 한 관점에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널은 투명 기판 전면 상부에 형성되는 투명 전극; 상기 투명 전극이 형성된 상기 투명 기판 전면 상부에 형성되는 투명 유전체층; 상기 투명 유전체층 상부에 SU-8 포토레지스트에 의해 형성되는 투명 격벽; 및 플라즈마 방전에 의해 상기 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하기 위해, 상기 투명 격벽 상부에 형성되는 투명 보호막을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a transparent plasma display panel according to an aspect of the present invention comprises a transparent electrode formed on the front surface of the transparent substrate; A transparent dielectric layer formed on an upper surface of the transparent substrate on which the transparent electrode is formed; A transparent barrier rib formed on the transparent dielectric layer by a SU-8 photoresist; And a transparent protective film formed on the transparent partition to prevent the transparent partition from being damaged by plasma discharge.

바람직하게, 상기 투명 보호막은 무기물에 의해 형성될 수 있고, 상기 투명 보호막은 SiO2 및 MgO 중 어느 하나에 의해 셩성될 수 있다.Preferably, the transparent protective film may be formed by an inorganic material, and the transparent protective film may be formed by any one of SiO 2 and MgO.

바람직하게, 상기 투명 보호막은 300[nm] 내지 5[μm] 두께로 형성될 수 있고, 상기 투명 기판은 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판일 수 있다.Preferably, the transparent protective film may be formed to a thickness of 300 [nm] to 5 [μm], the transparent substrate may be a glass substrate or a transparent plastic substrate.

본 발명의 한 관점에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은 투명 기판 전면 상부에 투명 전극을 형성하는 단계; 상기 투명 전극이 형성된 상기 투명 기판 전면 상부에투명 유전체층을 형성하는 단계; 상기 투명 유전체층 상부에 SU-8 포토레지스트를 이용하여 투명 격벽을 형성하는 단계; 및 플라즈마 방전에 의해 상기 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하기 위해, 상기 투명 격벽 상부에 투명 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, a method of manufacturing a transparent plasma display panel includes forming a transparent electrode on an upper surface of a transparent substrate; Forming a transparent dielectric layer on an upper surface of the transparent substrate on which the transparent electrode is formed; Forming a transparent barrier rib on the transparent dielectric layer using a SU-8 photoresist; And forming a transparent protective film on the transparent partition to prevent the transparent partition from being damaged by plasma discharge.

바람직하게, 상기 투명 보호막을 형성하는 단계는 무기물을 이용하여 상기 투명 보호막을 형성할 수 있고, 기 설정된 증착 방법을 이용하여 300[nm] 내지 5[μm] 두께로 상기 투명 보호막을 형성할 수 있다.Preferably, the forming of the transparent protective film may form the transparent protective film using an inorganic material, and may form the transparent protective film with a thickness of 300 [nm] to 5 [μm] using a predetermined deposition method. .

본 발명에 따르면, SU-8 포토레지스트를 이용하여 투명 격벽을 형성하고, 그 형성된 투명 격벽 상부에 무기물을 이용하여 투명 보호막을 형성함으로써, 투명 격벽이 플라즈마 방전에 의해 손상되는 것을 방지하여 투명 격벽의 수명을 증가시키고, 투명 격벽의 투과도를 유지할 수 있으며, SU-8 포토레지스트를 사용함으로써, 투명 격벽의 제작이 간단하고 대면적화하기 용이한 효과가 있다.According to the present invention, a transparent barrier rib is formed using a SU-8 photoresist, and a transparent protective film is formed on the formed transparent barrier rib using an inorganic material, thereby preventing the transparent barrier rib from being damaged by plasma discharge. It is possible to increase the service life, maintain the transmittance of the transparent partition wall, and by using the SU-8 photoresist, there is an effect that the production of the transparent partition wall is simple and easy to make a large area.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부 도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백히 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 첨부된 도 4 내지 도 8을 참조하여 상세히 설명한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a transparent plasma display panel and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 8. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 대한 단면도를 나타낸 것이다.4 is a cross-sectional view of a transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 투명 플라즈마 디스플레이 패널은 상부 기판(470)과 하부 기판(410), 하부 전극(420)과 상부 전극들(480), 하부 투명 유전체층(430)과 상부 투명 유전체층(490), 투명 격벽(440), 투명 보호막(450), 투명 형광체층(460) 및 보호막(500)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the transparent plasma display panel includes an upper substrate 470 and a lower substrate 410, a lower electrode 420 and upper electrodes 480, a lower transparent dielectric layer 430 and an upper transparent dielectric layer 490, The transparent barrier rib 440 includes a transparent barrier layer 440, a transparent protective layer 450, a transparent phosphor layer 460, and a protective layer 500.

상부 기판(470)과 하부 기판(410)은 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 적용되는 유리 기판일 수 있고, 투명 플렉시블 플라즈마 디스플레이 패널에 적용되는 경우에는 폴리이미디 기판과 같은 투명 플라스틱 기판일 수 있다.The upper substrate 470 and the lower substrate 410 may be glass substrates applied to the transparent plasma display panel, or may be transparent plastic substrates such as polyimide substrates when applied to the transparent flexible plasma display panel.

하부 전극(420) 예를 들어, 어드레스 전극과 상부 전극들 예를 들어, 스캔 전극과 서스테인 전극은 투명 플라즈마 디스플레이 패널을 구동시키기 위해, 전압을 인가하기 위한 전극으로, 투명 전극 예를 들어, ITO 등과 같은 전극으로 형성된다.The lower electrode 420, for example, the address electrode and the upper electrodes, for example, the scan electrode and the sustain electrode are electrodes for applying a voltage to drive the transparent plasma display panel, and the transparent electrode, for example, ITO, or the like. It is formed of the same electrode.

하부 투명 유전체층(430)은 하부 기판(410)과 하부 전극(420) 상부에 형성되고, 상부 투명 유전체층(490)은 상부 기판(470)과 상부 전극들(480) 상부에 형성된 다.The lower transparent dielectric layer 430 is formed on the lower substrate 410 and the lower electrode 420, and the upper transparent dielectric layer 490 is formed on the upper substrate 470 and the upper electrodes 480.

투명 격벽(440)은 하부 투명 유전체층(430) 상부에 네거티브 포토레지스트 에폭시(negative photoresist epoxy)인 SU-8 포토레지스터(PR)을 도포하고 노광(photolithography) 공정을 이용하여 형성함으로써, 플라즈마 방전 공간을 확보한다.The transparent barrier rib 440 is formed by applying a negative photoresist epoxy SU-8 photoresist PR on the lower transparent dielectric layer 430 and using a photolithography process to form a plasma discharge space. Secure.

여기서, SU-8 포토레지스트에 의해 형성된 투명 격벽(440)은 도 2에 도시된 바와 같이, 플라즈마 방전에 의해 쉽게 손상되기 때문에, 본 발명에서는 투명 격벽이 플라즈마 방전에 의해 손상되는 것을 방지하기 위해, 투명 격벽(440) 상부에 투명 보호막(450)을 형성한다.Here, since the transparent partition 440 formed by the SU-8 photoresist is easily damaged by plasma discharge, as shown in FIG. 2, in the present invention, in order to prevent the transparent partition from being damaged by plasma discharge, A transparent protective film 450 is formed on the transparent partition 440.

투명 보호막(450)은 무기물을 이용하여 투명 격벽(440) 상부에 형성되는 것으로, 투명 격벽(440) 상부에 다양한 방식의 증착 기술 예를 들어, 화학 기상 증착(CVD), 스퍼터링(sputtering), 이베포레인션(evaporation) 등을 이용하여 형성할 수도 있고, 졸-겔(sol-gel) 수용액을 투명 격벽 상부에 코팅하여 형성할 수도 있다.The transparent protective film 450 is formed on the transparent barrier rib 440 by using an inorganic material, and various vapor deposition techniques are applied on the transparent barrier rib 440, for example, chemical vapor deposition (CVD), sputtering, and eBay. It may be formed using evaporation or the like, or may be formed by coating a sol-gel aqueous solution on the transparent partition wall.

이때, 투명 보호막(450)은 SiO2 및 MgO 중 어느 하나에 의해 형성될 수 있다. 물론, 투명 보호막(450)이 상기 SiO2 및 MgO로 한정되는 것은 아니고, SU-8 포토레지스트로 형성된 투명 격벽(440)을 보호함과 동시에 투과도를 고려하여 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 적용될 수 있는 모든 무기물 투명 보호막을 포함할 수 있는데, 방전 효율을 높일 수 있도록 플라즈마 손실을 줄일 수 있는 물질로 형성하는 것이 바람직하다.In this case, the transparent protective film 450 may be formed of any one of SiO 2 and MgO. Of course, the transparent protective film 450 is not limited to the SiO 2 and the MgO, and all inorganic transparent materials that can be applied to the transparent plasma display panel while protecting the transparent partition 440 formed of the SU-8 photoresist and considering the transmittance. It may include a protective film, it is preferable to form a material that can reduce the plasma loss to increase the discharge efficiency.

이런, 투명 보호막(450)은 SU-8 투명 격벽(440) 상부에 일정 두께로 형성될 수 있는데, 300[nm] 내지 5[μm] 두께로 형성될 수 있다.Such a transparent protective film 450 may be formed at a predetermined thickness on the SU-8 transparent partition wall 440, and may be formed to a thickness of 300 [nm] to 5 [μm].

도 5는 본 발명에 의한 SU-8 투명 격벽과 그 상부에 투명 보호막이 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 대해 플라즈마 방전 후의 투명 격벽에 대한 표면 전자 현미경(SEM) 사진을 나타낸 것으로, 도 2에 도시된 투명 격벽이 SU-8 포토레지스트만으로 형성된 경우의 SEM 사진과 비교할 때 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 투명 격벽(440)은 플라즈마 방전 후에도 투명 격벽(440)이 손상되지 않은 것을 알 수 있다.FIG. 5 is a surface electron microscope (SEM) photograph of the transparent partition wall after plasma discharge of the SU-8 transparent partition wall and the transparent plasma display panel having a transparent protective film formed thereon. As can be seen in comparison with the SEM photograph when the barrier ribs are formed only of the SU-8 photoresist, it can be seen that the transparent barrier ribs 440 of the transparent plasma display panel according to the present invention are not damaged even after plasma discharge. have.

즉, SU-8 포토레지스트에 의해 형성된 투명 격벽(440) 상부에 투과도를 유지하면서 방전 효율을 높일 수 있는 투명 보호막(450)을 형성함으로써, 투명 보호막(450)에 의해 SU-8 투명 격벽(440)이 플라즈마 방전에 의해 손상되는 것을 방지하고, 이를 통해 투명 격벽의 수명을 증가시킬 수 있다.That is, by forming the transparent protective film 450 that can increase the discharge efficiency while maintaining the transmittance on the transparent partition 440 formed by the SU-8 photoresist, the SU-8 transparent partition 440 by the transparent protective film 450 ) Can be prevented from being damaged by the plasma discharge, thereby increasing the life of the transparent partition wall.

다시 도 4를 참조하여, 투명 형광체층(460)은 투명 보호막(450)이 형성된 투명 격벽들에 의해 형성되는 셀 영역에 투명 형광체 물질을 도포하여 형성한다.Referring back to FIG. 4, the transparent phosphor layer 460 is formed by applying a transparent phosphor material to a cell region formed by transparent barrier ribs on which the transparent protective film 450 is formed.

상부 투명 유전체층(490)은 상부 기판(470)과 상부 전극들(480) 상부에 형성되고, 보호막(500) 예를 들어, MgO 보호막은 상부 투명 유전체층(490) 상부에 전자빔(E-beam) 증착 방식에 의해 형성된다.The upper transparent dielectric layer 490 is formed on the upper substrate 470 and the upper electrodes 480, and the protective film 500, for example, an MgO protective film, is deposited on the upper transparent dielectric layer 490. Formed by the method.

그리고, 하부 기판 상에 형성된 구조물과 상부 기판 상에 형성된 구조물을 실런트(sealant)를 이용하여 봉합한 후 가스를 주입한다.Then, the structure formed on the lower substrate and the structure formed on the upper substrate are sealed using a sealant, and then gas is injected.

이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널은 SU-8 포토레지스트에 의해 형성된 투명 격벽 상부에 플라즈마 방전에 의해 SU-8 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하기 위한 투명 보호막을 형성함으로써, SU-8 투명 격벽에 대한 투과도를 유지하면서 SU-8 투명 격벽의 수명을 증가시킬 수 있다.As described above, the transparent plasma display panel according to the exemplary embodiment of the present invention forms a transparent protective film on the transparent partition formed by the SU-8 photoresist to prevent the SU-8 transparent partition from being damaged by plasma discharge. It is possible to increase the life of the SU-8 transparent bulkhead while maintaining its permeability to the SU-8 transparent bulkhead.

또한, SU-8 포토레지스트를 이용하여 투명 격벽을 형성하기 때문에 투명 격벽을 형성하는 공정이 간단하고 대면적화가 용이하며, 300[℃] 이하 예를 들어, 100[℃] 정도의 저온 공정이 가능하기 때문에 투명 플렉시블 디스플레이 패널에도 적용할 수 있다.In addition, since the transparent barrier ribs are formed by using the SU-8 photoresist, the process of forming the transparent barrier ribs is simple and the area is easy to be enlarged. Therefore, it is applicable to a transparent flexible display panel.

도 6은 본 발명에서의 SU-8 투명 격벽과 투명 보호막에 따른 투과도 변화를 나타낸 것이다.Figure 6 shows the change in transmittance according to the SU-8 transparent partition wall and the transparent protective film in the present invention.

도 6에서 알 수 있듯이, 유리 기판 상부에 SU-8 포토레지스트를 이용하여 SU-8 투명 격벽이 형성되면 SU-8 투명 격벽에 의해 전체 투과도가 떨어지지만, SU-8 투명 격벽 자체의 높은 투과도에 의해 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 투과도가 높은 것을 알 수 있으며, 이런 SU-8 투명 격벽 상부에 화학 기상 증착(CVD)을 이용하여 일정 두께의 SiO2 투명 보호막을 형성한 경우 SU-8 투명 격벽이 형성되었을 때보다 투과도가 약간 떨어지지만, 파장이 길어질수록 그 차이가 줄어드는 것을 알 수 있으며 약 670[nm] 파장 이후부터는 투과도가 거의 동일한 것을 알 수 있다.As can be seen in Figure 6, if the SU-8 transparent partition is formed on the glass substrate using the SU-8 photoresist, the overall transmittance is dropped by the SU-8 transparent partition, but the high permeability of the SU-8 transparent partition itself It can be seen that the transparent plasma display panel has a high transmittance, and when a SiO2 transparent protective film having a predetermined thickness is formed on the SU-8 transparent partition by using chemical vapor deposition (CVD), the SU-8 transparent partition is formed. Although the transmittance slightly decreases, the longer the wavelength, the smaller the difference. After about 670 nm, the transmittance is almost the same.

즉, 본 발명에서 SU-8 투명 격벽 상부에 무기물을 이용하여 투명 보호막을 형성함으로써, 플라즈마 방전에 의해 발생될 수 있는 SU-8 투명 격벽의 손상을 방지하면서, SU-8 투명 격벽의 투과도를 유지할 수 있다.That is, in the present invention, by forming a transparent protective film using an inorganic material on the upper surface of the SU-8 transparent partition wall, while maintaining the permeability of the SU-8 transparent partition wall while preventing damage to the SU-8 transparent partition wall that may be generated by plasma discharge. Can be.

도 7은 종래 SU-8 투명 격벽만 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 시간과 본 발명에 따른 SU-8 투명 격벽과 투명 보호막이 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 시간을 비교한 그래프를 나타낸 것이다.FIG. 7 is a graph illustrating a discharge time of a transparent plasma display panel in which only a SU-8 transparent partition wall is formed and a discharge time of a transparent plasma display panel in which a SU-8 transparent partition wall and a transparent protective film according to the present invention are formed.

도 7에서 알 수 있듯이, 종래 SU-8 투명 격벽만이 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널은 SU-8 투명 격벽의 손상에 의해 수십시간 약 40시간 이후에 방전이 꺼지는 반면, 본 발명의 SU-8 투명 격벽과 SiO2 투명 보호막이 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널은 수십 시간이 경과하여도 방전이 안정적으로 발생하는 것을 알 수 있다.As can be seen in FIG. 7, the conventional plasma display panel in which only the SU-8 transparent partition wall is formed is discharged after tens of hours or about 40 hours due to damage of the SU-8 transparent partition wall, whereas the SU-8 transparent partition wall of the present invention is turned off. And the transparent plasma display panel on which the SiO 2 transparent protective film is formed, it can be seen that discharge occurs stably even after several tens of hours.

도 6과 도 7을 통해, 본 발명에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널 에 적용되는 SU-8 투명 격벽 및 투명 보호막은 투명 격벽의 수명을 증가시키면서도 투명 격벽의 투과도를 유지할 수 있는 장점이 있으며, SU-8 투명 격벽을 적용하기 때문에 균일하게 대면적으로 용이하게 제작할 수 있다.6 and 7, the SU-8 transparent partition wall and the transparent protective layer applied to the transparent plasma display panel according to the present invention have an advantage of maintaining the transmittance of the transparent partition wall while increasing the life of the transparent partition wall. Since a transparent partition is applied, it can manufacture easily and uniformly large area.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법에 대한 동작 흐름도를 나타낸 것이다.8 is a flowchart illustrating an operation of a method of manufacturing a transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은, 전면판 및 후면판을 형성하는 단계(S810, S820), 형성된 전면판 및 후면판을 봉합하고, 진공 배기 공정 과정을 수행한 후 가스 주입 공정 과정을 수행하는 단계(S830 내지 S850)로 이루어진다.Referring to FIG. 8, in the method of manufacturing a transparent plasma display panel, steps of forming front and rear panels (S810 and S820), sealing the formed front and rear plates, and performing a vacuum exhaust process, followed by a gas injection process Comprising the steps (S830 to S850) to perform the process.

전면판을 형성하는 단계(S810)는 투명 상부 기판 예를 들어, 유리 기판 전면 상부에 투명 전극 즉, 스캔 전극과 서스테인 전극, 그리고 각 전극 상부 일부에 형성되는 버스 전극을 형성하고, 투명 전극이 형성된 투명 상부 기판 상에 상부 투명 유전체층을 형성한다(S811, S812).In the forming of the front plate (S810), a transparent electrode, for example, a scan electrode and a sustain electrode, and a bus electrode formed on a portion of each of the upper electrodes may be formed on a transparent upper substrate, for example, on a glass substrate. An upper transparent dielectric layer is formed on the transparent upper substrate (S811, S812).

그 다음, 상부 투명 유전체층 상부에 MgO 보호막을 형성한다(S813).Next, an MgO protective film is formed on the upper transparent dielectric layer (S813).

후면판을 형성하는 단계(S820)는 투명 하부 기판 예를 들어, 유리 기판 전면 상부에 투명 전극 즉, 어드레스 전극을 형성하고, 어드레스 전극이 형성된 유리 기판 상부에 하부 투명 유전체층을 형성한다(S821, S822).In the forming of the back plate (S820), a transparent electrode, that is, an address electrode is formed on the front surface of the transparent lower substrate, for example, and a lower transparent dielectric layer is formed on the glass substrate on which the address electrode is formed (S821, S822). ).

이렇게 형성된 하부 투명 유전체층 상부에 SU-8 포토레지스트를 도포하고 마스크를 이용한 노광(photolithography) 공정을 통해 플라즈마 방전 공간을 확보하기 위한 투명 격벽을 형성한다(S823).The SU-8 photoresist is coated on the lower transparent dielectric layer thus formed, and a transparent barrier rib is formed to secure a plasma discharge space through a photolithography process using a mask (S823).

SU-8 포토레지스트에 의해 형성된 투명 격벽이 플라즈마 방전에 의해 손상되는 것을 방지하기 위해, CVD 등과 같은 증착 방식을 이용하여 투명 격벽 상부에 투명 보호막을 형성하고, 투명 격벽들에 의해 형성되는 셀 영역에 투명 형광체 물질을 도포하여 투명 형광체층을 형성한다(S824, S825).In order to prevent the transparent barrier rib formed by the SU-8 photoresist from being damaged by the plasma discharge, a transparent protective film is formed on the transparent barrier rib by using a deposition method such as CVD, and the cell region formed by the transparent barrier ribs. The transparent phosphor material is coated to form a transparent phosphor layer (S824 and S825).

여기서, 투명 보호막은 무기질을 이용하여 형성하는 것이 바람직하고, 방전 효율을 높일 수 있도록 플라즈마 손실을 줄일 수 있는 물질 예를 들어, MgO 등을 이용하여 형성되는 것이 바람직하다.Here, the transparent protective film is preferably formed using an inorganic material, and preferably formed of a material capable of reducing plasma loss, for example, MgO or the like so as to increase discharge efficiency.

또한, 투명 보호막은 기 설정된 증착 방법 예를 들어, CVD, 스터퍼링, 이베포레이션 등을 이용하여 300[nm] 내지 5[μm] 두께로 형성될 수 있다.In addition, the transparent protective film may be formed to a thickness of 300 [nm] to 5 [μm] by using a predetermined deposition method, for example, CVD, stuffing, and evaporation.

봉합 단계(S830)는 단계 S810과 단계 S820 각각에 의해 형성된 전면판과 후면판을 실런트(sealant)를 이용하여 봉합한다.In the sealing step S830, the front plate and the back plate formed by each of steps S810 and S820 are sealed by using a sealant.

진공 배기 공정 단계(S840)는 플라즈마 방전공간 영역 내부에 있는 불순물 등을 배기시키기 위한 공정으로, 진공 상태에서 방전공간 영역 등으로부터 아웃게싱(outgassing)되는 불순물을 로터리 펌프 또는 터보 펌프 등을 이용하여 배기시킨다.The vacuum evacuation step (S840) is a process for evacuating impurities in the plasma discharge space region, and exhausts impurities outgassed from the discharge space region in a vacuum state using a rotary pump or a turbo pump. Let's do it.

가스 주입 공정 단계(S850)는 방전공간 영역에 플라즈마 방전을 발생시키기 위한 헬륨-크세논(He-Xe), 헬륨-네온(He-Ne) 등과 같은 불활성 가스를 주입한다.In the gas injection process step S850, an inert gas such as helium-xenon (He-Xe), helium-neon (He-Ne), or the like for generating plasma discharge is injected into the discharge space region.

본 발명에 의한, 투명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 형태로 변형, 응용 가능하며 상기 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 상기 실시 예와 도면은 발명의 내용을 상세히 설명하기 위한 목적일 뿐, 발명의 기술적 사상의 범위를 한정하고자 하는 목적은 아니며, 이상에서 설명한 본 발명은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 상기 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것은 아님은 물론 이며, 후술하는 청구범위뿐만이 아니라 청구범위와 균등 범위를 포함하여 판단되어야 한다.The transparent plasma display panel and its manufacturing method according to the present invention can be modified and applied in various forms within the scope of the technical idea of the present invention and are not limited to the above embodiments. In addition, the embodiments and drawings are merely for the purpose of describing the contents of the invention in detail, not intended to limit the scope of the technical idea of the invention, the present invention described above is common knowledge in the technical field to which the present invention belongs As those skilled in the art can have various substitutions, modifications, and changes within the scope without departing from the spirit of the present invention, it is not limited to the embodiments and the accompanying drawings. And should be judged to include equality.

도 1은 일반적인 교류 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 것이다.1 illustrates a structure of a general AC plasma display panel.

도 2는 플라즈마 방전 후의 SU-8 PR 투명 격벽에 대한 표면 전자 현미경(SEM) 사진을 나타낸 것이다.FIG. 2 shows a surface electron microscope (SEM) photograph of the SU-8 PR transparent partition wall after plasma discharge.

도 3은 SU-8 투명 격벽 손상에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널에서의 문제점을 나타낸 것이다.3 illustrates a problem in a transparent plasma display panel due to SU-8 transparent partition wall damage.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 대한 단면도를 나타낸 것이다.4 is a cross-sectional view of a transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명에 의한 SU-8 투명 격벽과 그 상부에 투명 보호막이 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 대해 플라즈마 방전 후의 투명 격벽에 대한 표면 전자 현미경(SEM) 사진을 나타낸 것이다.FIG. 5 is a surface electron microscope (SEM) photograph of the transparent partition wall after plasma discharge of the SU-8 transparent partition wall and the transparent plasma display panel having a transparent protective film formed thereon.

도 6은 본 발명에서의 SU-8 투명 격벽과 투명 보호막에 따른 투과도 변화를 나타낸 것이다.Figure 6 shows the change in transmittance according to the SU-8 transparent partition wall and the transparent protective film in the present invention.

도 7은 종래 SU-8 투명 격벽만 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 시간과 본 발명에 따른 SU-8 투명 격벽과 투명 보호막이 형성된 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 시간을 비교한 그래프를 나타낸 것이다.FIG. 7 is a graph illustrating a discharge time of a transparent plasma display panel in which only a SU-8 transparent partition wall is formed and a discharge time of a transparent plasma display panel in which a SU-8 transparent partition wall and a transparent protective film according to the present invention are formed.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법에 대한 동작 흐름도를 나타낸 것이다.8 is a flowchart illustrating an operation of a method of manufacturing a transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

410: 하부 기판410: lower substrate

420: 하부 전극420: lower electrode

430: 하부2 투명 유전체층430: bottom 2 transparent dielectric layer

440: 투명 격벽440: transparent bulkhead

450: 투명 보호막450: transparent protective film

460: 투명 형광체층460: transparent phosphor layer

470: 상부 기판470: upper substrate

480: 상부 전극480: upper electrode

490: 상부 투명 유전체층490: top transparent dielectric layer

500: 보호막500: shield

Claims (8)

투명 기판 전면 상부에 형성되는 투명 전극;A transparent electrode formed on an upper surface of the transparent substrate; 상기 투명 전극이 형성된 상기 투명 기판 전면 상부에 형성되는 투명 유전체층;A transparent dielectric layer formed on an upper surface of the transparent substrate on which the transparent electrode is formed; 상기 투명 유전체층 상부에 SU-8 포토레지스트에 의해 형성되는 투명 격벽; 및A transparent barrier rib formed on the transparent dielectric layer by a SU-8 photoresist; And 플라즈마 방전에 의해 상기 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하기 위해, 상기 투명 격벽을 둘러싸며 형성된 투명 보호막In order to prevent the transparent partition from being damaged by plasma discharge, a transparent protective film formed surrounding the transparent partition. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.Transparent plasma display panel comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명 보호막은 The transparent protective film 무기물에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.Transparent plasma display panel, characterized in that formed by an inorganic material. 제2항에 있어서,3. The method of claim 2, 상기 투명 보호막은 The transparent protective film SiO2 및 MgO 중 어느 하나에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.A transparent plasma display panel formed by any one of SiO2 and MgO. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 투명 보호막은 The transparent protective film 300[nm] 내지 5[μm] 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.A transparent plasma display panel, characterized in that formed to a thickness of 300 [nm] to 5 [μm]. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 투명 기판은The transparent substrate 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.It is a glass substrate or a transparent plastic substrate, The transparent plasma display panel characterized by the above-mentioned. 투명 기판 전면 상부에 투명 전극을 형성하는 단계;Forming a transparent electrode on an upper surface of the transparent substrate; 상기 투명 전극이 형성된 상기 투명 기판 전면 상부에 투명 유전체층을 형성하는 단계;Forming a transparent dielectric layer on an upper surface of the transparent substrate on which the transparent electrode is formed; 상기 투명 유전체층 상부에 SU-8 포토레지스트를 이용하여 투명 격벽을 형성하는 단계; 및Forming a transparent barrier rib on the transparent dielectric layer using a SU-8 photoresist; And 플라즈마 방전에 의해 상기 투명 격벽이 손상되는 것을 방지하기 위해, 상기 투명 격벽을 둘러싸도록 투명 보호막을 형성하는 단계Forming a transparent protective film to surround the transparent partition wall in order to prevent the transparent partition wall from being damaged by plasma discharge. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.Transparent plasma display panel manufacturing method comprising a. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 투명 보호막을 형성하는 단계는Forming the transparent protective film is 무기물을 이용하여 상기 투명 보호막을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.A method of manufacturing a transparent plasma display panel, wherein the transparent protective film is formed using an inorganic material. 제6항 또는 제7항에 있어서,8. The method according to claim 6 or 7, 상기 투명 보호막을 형성하는 단계는Forming the transparent protective film is 기 설정된 증착 방법을 이용하여 300[nm] 내지 5[μm] 두께로 상기 투명 보호막을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.A method of manufacturing a transparent plasma display panel, wherein the transparent protective film is formed to a thickness of 300 [nm] to 5 [μm] by using a preset deposition method.
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