KR101117093B1 - Manufacturing method for polishing disk and polishing disk - Google Patents

Manufacturing method for polishing disk and polishing disk Download PDF

Info

Publication number
KR101117093B1
KR101117093B1 KR1020090039404A KR20090039404A KR101117093B1 KR 101117093 B1 KR101117093 B1 KR 101117093B1 KR 1020090039404 A KR1020090039404 A KR 1020090039404A KR 20090039404 A KR20090039404 A KR 20090039404A KR 101117093 B1 KR101117093 B1 KR 101117093B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polishing
plate
base plate
forming step
elasticity
Prior art date
Application number
KR1020090039404A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100120537A (en
Inventor
강식성
Original Assignee
베스텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 베스텍 주식회사 filed Critical 베스텍 주식회사
Priority to KR1020090039404A priority Critical patent/KR101117093B1/en
Publication of KR20100120537A publication Critical patent/KR20100120537A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101117093B1 publication Critical patent/KR101117093B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/001—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as supporting member
    • B24D3/002—Flexible supporting members, e.g. paper, woven, plastic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D7/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
    • B24D7/06—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor with inserted abrasive blocks, e.g. segmental
    • B24D7/08—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor with inserted abrasive blocks, e.g. segmental with reinforcing means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D7/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
    • B24D7/16—Bushings; Mountings

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

본 발명은 탄성과 복원력 부여로 연마효율성을 높이면서 수명을 길게 하고 내구성을 높일 수 있도록 한 연마용 디스크의 제공에 관한 것으로서, 탄성을 가지는 박판의 강판을 원판형으로 구비하여 피연마면과 연접되어 연마를 수행하는 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착시켜 연마면을 형성하여 베이스플레이트를 만드는 베이스플레이트 형성단계(S1)와, 연마 과정에서의 충격과 진동을 흡수하면서 형상을 유지할 수 있도록 고무, 수지, 우레탄 또는 부직포 재질로 베이스플레이트와 결합하여 완충플레이트를 만드는 완충플레이트 형성단계(S2)와, 탄성을 부여하여 변형 후 원래의 상태로 복원을 도우도록 탄성을 가지는 박판의 강판을 원판형으로 구비하여 완충플레이트와 결합하여 서포트플레이트를 만드는 서포트플레이트 형성단계(S3)로 이루어지는 샌드위치 구조의 연마용 디스크를 제공하는 것이 특징이다.

Figure R1020090039404

연마, 디스크

The present invention relates to the provision of a polishing disk which can increase the durability and increase the durability while increasing the polishing efficiency by providing elasticity and restoring force. A base plate forming step (S1) of forming a base plate by fusing diamond powder at a polishing position to perform polishing to form a polishing plate, and rubber, resin, and urethane to maintain a shape while absorbing shock and vibration during the polishing process. Alternatively, the buffer plate forming step (S2) of combining the base plate with a non-woven fabric to make a buffer plate, and providing a buffer plate having a thin steel sheet having elasticity to help restore the original state after deformation by imparting elasticity Combination with the support plate forming step (S3) to create a support plate It is characterized by providing an abrasive disk for the sandwich structure.

Figure R1020090039404

Polishing, disc

Description

연마용 디스크 제조방법 및 디스크{MANUFACTURING METHOD FOR POLISHING DISK AND POLISHING DISK}MANUFACTURING METHOD FOR POLISHING DISK AND POLISHING DISK}

본 발명은 연마용 디스크 제조방법 및 디스크에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 연마시 피연마면의 상태에 맞게 변형(라운드)된 후 피연마면과 이격시 원래의 상태로 복원될 수 있는 탄성을 가지는 연마용 디스크의 제공에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a disk and a disk for polishing, and more particularly, the polishing having elasticity that can be restored to its original state when spaced from the surface to be polished after being deformed (rounded) to the state of the surface to be polished during polishing. It relates to the provision of a disk for.

일반적으로 표면 연마는 금속, 비철금속 또는 기타 다양한 종류의 소재의 결합부위나 가공된 부위 또는 성형 된 부위의 표면을 연마하여 성형 및 가공시 발생하는 버(Burr)의 제거는 물론 표면 자체를 고르게 하기 위하여 수행하는 것이다.In general, surface grinding is to remove the burrs generated during forming and processing as well as to smooth the surface itself by grinding the surface of the bonded or machined part or the molded part of metal, nonferrous metal or other various kinds of materials. To do.

상기와 같은 표면 연마에 사용되는 도구가 그라인더이며 이 그라인더에 장착되어 실제 연마하고자 하는 표면(피연마면)과 마찰하여 연마를 수행하는 것이 연마용 디스크이다.A tool used for surface polishing as described above is a grinder, and a polishing disk is a polishing disk which is mounted on the grinder to perform polishing by rubbing against a surface (to be polished surface) to be actually polished.

이러한 연마용 디스크는 다양한 종류의 것들이 개발되어 사용되고 있는 실정이며 가장 범용적으로 사용되는 연마용 디스크의 구성을 도 6을 통하여 살펴보면 다음과 같다.Such a polishing disk is a situation in which various kinds have been developed and used, and a configuration of the polishing disk used most widely will be described with reference to FIG. 6.

연마용 디스크(1)는 작업공구와 결합할 수 있도록 중앙에 고정부재(2)를 구 비하고, 상기 고정부재(2)에는 작업공구와 결합시 볼트 또는 너트와 같은 고정수단이 돌출되지 않도록 요입시킨 옵셋(OS)을 형성한다.The polishing disk 1 has a fixing member 2 in the center to be coupled with the work tool, and the fixing member 2 is recessed so that a fixing means such as a bolt or a nut does not protrude when it is coupled with the work tool. To form an offset OS.

상기 고정부재(2)에는 종이재질이면서 원판형상의 디스크(3)를 고정하고, 상기 디스크(3)의 의 연마위치에는 연마석(4)을 접착시켜 구성하게 된다.The disc 2 is fixed to the fixing member 2 and is made of a disk, and the abrasive stone 4 is bonded to the polishing position of the disc 3.

상기와 같은 종래 기술의 연마용 디스크는 초기 상태 또는 연마작업을 수행하지 않는 상태에서는 연마면이 평평한 상태를 이루고 있으나 연마 과정에서 발생하는 가압력(피연마면 방향으로 누르는 힘)에 의하여 연접위치가 쉽게 라운드 형태로 변형되는 현상이 발생하게 된다.The polishing disk of the prior art as described above has a flat surface in an initial state or a non-polishing state, but is easily connected by the pressing force (the pushing force in the direction of the surface to be polished) generated during the polishing process. Deformation into a round shape occurs.

이와 같이 연마용 디스크가 연마 과정에서는 변형이 이루어져 피연마면과 긴밀한 밀착을 통하여 연마의 효율성과 연마 후 조도를 높이는 효과를 얻고, 연마 종료 후에는 디스크가 원래의 상태로 복원(복귀)되어야 하는 데, 원 상태로 복구되지 않음으로 한 번 사용 후 변형으로 인하여 재사용하는 것이 불가능하게 되어 폐기처분하여야 한다.In this way, the grinding disk is deformed during the grinding process, thereby increasing the efficiency of the polishing and the roughness after grinding through close contact with the surface to be polished, and the disk must be restored (returned) to its original state after the grinding is finished. As a result, it cannot be reused due to deformation after use once because it is not restored to its original state.

또한, 연마 과정에서 한 번 변형된 상태를 지속적으로 유지하게 되므로 연마의 변형된 위치와 피연마면이 지속적으로 연접되고 마찰을 일으키게 되므로 특정 부위의 연마석이 빠르게 마모 또는 소진되어 연마 효율성을 저하시키는 원인이 된다.In addition, since the deformed position is continuously maintained once in the polishing process, the deformed position of the polishing surface and the surface to be polished are continuously connected to each other and cause friction, thereby causing the abrasive stone to be quickly worn out or exhausted, thereby reducing the polishing efficiency. Becomes

이는 연마용 디스크를 구성하는 소재가 주로 종이재질 또는 직물재질을 가공하여 평탄한 형태로 구성하므로 탄성을 가지지 못하기 때문에 변형 후 복원되지 않게 되는 것이다.This is because the material constituting the polishing disk is mainly made of a paper material or fabric material to form a flat form, so that it does not have elasticity and thus cannot be restored after deformation.

그리고, 연마석이 피연마면과 마찰로 상당한 열과 먼지를 발생하게 됨으로서 작업장을 오염시켜 쾌적한 작업장을 유지할 수 없게 되고, 연마 과정에서 발생하는 미세먼지(분진, 연마석 가루 등)에 직접 노출된 작업자에게 유해하여 건강을 해치는 원인이 된다.In addition, the abrasive stone generates considerable heat and dust due to friction with the surface to be polished, which contaminates the workplace and makes it impossible to maintain a pleasant workplace, and is harmful to workers who are directly exposed to fine dust (dust, abrasive stone, etc.) generated during the polishing process. Cause harm to health.

연마용 디스크의 수명이 짧아 연마 과정에서 자주 연마용 디스크를 교환하여야 하는 번거로움이 있고, 이로 인하여 연마 작업이 지연되는 것은 물론, 한 번 사용으로 디스크가 거의 폐기처분되기 때문에 폐기처분에 따르는 부수적인 비용이 소요되어 비용의 이중부담 등 여러 문제점이 발생하고 있는 실정이다.Due to the short life of the polishing disk, it is cumbersome to change the polishing disk frequently during the polishing process, which delays the polishing operation and also causes the disk to be discarded almost in one use. There are many problems such as double burden of cost due to cost.

이에 본 발명에서는 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 발명한 것으로서 탄성을 가지는 박판의 강판을 원판형으로 구비하여 피연마면과 연접되어 연마를 수행하는 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착시켜 연마면을 형성하여 베이스플레이트를 만드는 베이스플레이트 형성단계(S1)와, 연마 과정에서의 충격과 진동을 흡수하면서 형상을 유지할 수 있도록 고무, 수지, 우레탄 또는 부직포 재질로 베이스플레이트와 결합하여 완충플레이트를 만드는 완충플레이트 형성단계(S2)와, 탄성을 부여하여 변형 후 원래의 상태로 복원을 도우도록 탄성을 가지는 박판의 강판을 원판형으로 구비하여 완충플레이트와 결합하여 서포트플레이트를 만드는 서포트플레이트 형성단계(S3)로 이루어지는 샌드위치 구조의 연마용 디스크를 제공하여 탄성과 복원력 부여로 연마효율성을 높이면서 수명을 길게 하고 내구성을 높일 수 있는 목적 달성이 가능하다.In the present invention, to solve the problems described above, provided with a plate-shaped steel sheet having elasticity in the shape of a disk and welded to the surface to be polished to form a polishing surface by fused diamond powder in the polishing position to perform the polishing Base plate forming step (S1) for making a base plate, and buffer plate forming step of combining the base plate with a rubber, resin, urethane or nonwoven material to maintain the shape while absorbing the impact and vibration during the polishing process to create a buffer plate Sandwich consisting of (S2) and the support plate forming step (S3) of providing a support plate by combining the buffer plate with a plate of a thin steel sheet having elasticity to give elasticity to help restore to the original state after deformation Provides abrasive discs of structure to provide elasticity and resilience It is a long life while increasing the grinding efficiency, and achieve the purpose to enhance the durability is possible.

본 발명은 샌드위치 구조의 연마용 디스크를 제공하여 연마 과정에서는 피연 마면과 최대의 밀착성을 가지도록 변형이 이루어지고, 연마 후에는 탄성에 의하여 원래의 상태로 복원되도록 한 연마용 디스크를 제공하여 연마의 효율과 품질을 높이면서 연마용 디스크의 수명을 길게 하여 작업 중도에 디스크를 교환하여야 하는 번거로움이 없도록 하는 등 작업의 효율성을 증대시킬 수 있는 등 다양한 효과를 가지는 발명이다.The present invention provides a polishing disk having a sandwich structure so that deformation is made to have maximum adhesion to the surface to be polished in the polishing process, and after polishing, the polishing disk is restored to its original state by elasticity. It is an invention having various effects such as increasing the efficiency and quality of the polishing disk to increase the efficiency of the work, such as to increase the life of the polishing disk to avoid the hassle of changing the disk during the operation.

이하 첨부되는 도면과 관련하여 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 제조방법과 제조방법으로 얻어지는 연마용 디스크에 대하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a polishing disk obtained by a preferred method and a manufacturing method of the present invention for achieving the above object will be described.

도 1은 본 발명의 기술이 적용된 연마용 디스크 제조과정을 도시한 공정 블럭도, 도 2는 본 발명의 기술이 적용된 연마용 디스크 제조과정을 도시한 다른 예의 공정 블럭도, 도 3은 본 발명의 기술에 의하여 제조된 연마용 디스크를 도시한 일부 파절 상태의 사시도, 도 4는 본 발명의 기술에 의하여 제조된 연마용 디스크를 도시한 단면 상태의 구성도, 도 5는 본 발명의 기술에 의하여 제조된 다른 예의 연마용 디스크를 도시한 단면도로서 함께 설명한다.1 is a process block diagram showing a polishing disk manufacturing process to which the technique of the present invention is applied, FIG. 2 is a process block diagram of another example showing a polishing disk manufacturing process to which the technique of the present invention is applied, and FIG. 4 is a perspective view of a partially fractured state showing a polishing disk manufactured by the technique, FIG. 4 is a configuration diagram of a cross-sectional state showing the polishing disk manufactured by the technique of the present invention, and FIG. 5 is manufactured by the technique of the present invention. Another example of the polishing disk is shown as a cross-sectional view showing.

본 발명의 기술이 적용되는 연마용 디스크(100)는 피연마면과 연접되는 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착시켜 연마면(101)을 형성하여 직접적으로 연마를 수행하는 베이스플레이트(102)와, 연마 과정에서의 충격과 진동을 흡수하면서 형상을 유지하여 주는 완충플레이트(103) 및 탄성을 부여하여 변형 후 원래의 상태로 복원을 도우는 서포트플레이트(104)로 구성되는 샌드위치 구조로 제공하는 것을 특징으 로 한다.The polishing disk 100 to which the technique of the present invention is applied includes a base plate 102 for directly performing polishing by fusion of diamond powder at a polishing position in contact with the surface to be polished to form the polishing surface 101, and polishing. It is characterized in that it provides a sandwich structure consisting of a buffer plate 103 for maintaining the shape while absorbing the shock and vibration in the process and the support plate 104 to give elasticity to help restore to the original state after deformation. Shall be.

상기 샌드위치 구조의 연마용 디스크(100)는 피연마면과 연접되어 연마를 수행하는 베이스플레이트(102)를 만드는 베이스플레이트 형성단계(S1)와, 연마 과정에서의 충격과 진동을 흡수하는 완충플레이트(103)를 만드는 완충플레이트 형성단계(S2) 및 탄성을 부여하여 변형 후 원래의 상태로 복원을 도우는 서포트플레이트(104)를 만드는 서포트플레이트 형성단계(S3)로 완성된다.The sandwich disk for polishing 100 has a base plate forming step (S1) of making a base plate 102 in contact with the surface to be polished to perform polishing, and a buffer plate for absorbing shock and vibration during the polishing process ( The buffer plate forming step (S2) for making 103 and the support plate forming step (S3) for making the support plate 104 to help restore to the original state after deformation by giving elasticity.

상기 베이스플레이트 형성단계(S1)는 연마 과정에서 발생하는 가압력과 피연마면과의 연접으로 최적의 연접상태로 변형될 수 있도록 박판의 강판(가급적 스테인레스스틸 재질)을 원판형태 준비한다.The base plate forming step (S1) is prepared in the form of a sheet of steel sheet (preferably stainless steel material) of a thin plate so that it can be deformed to an optimal connection state by the contact between the pressing force generated in the polishing process and the surface to be polished.

준비된 강판의 가장자리 부위(실제 연마작업을 수행하는 가장자리 부위)의 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착시켜 연마면(101)을 형성한다.The polishing surface 101 is formed by fusing diamond powder at the polishing position of the edge portion of the prepared steel sheet (the edge portion for performing the actual polishing operation).

상기 베이스플레이트(102)로 사용되는 강판의 두께는 다이아몬드 분말을 융착하는 과정의 고온에 견딜 수 있어야 하므로 최소 0.2㎜이상의 두께(T)를 가지는 것을 사용하는 것이 바람직하며, 연마 과정에서 가압시 탄성을 유지할 수 있도록 불필요하게 두꺼운 두께는 피하는 것이 좋다.Since the thickness of the steel sheet used as the base plate 102 must be able to withstand the high temperature of the process of fusion of the diamond powder, it is preferable to use a thickness T of at least 0.2 mm, and the elasticity during pressing in the polishing process. Avoid unnecessarily thick thicknesses to maintain.

상기 완충플레이트 형성단계(S2)는 연마면(101)이 형성된 베이스플레이트(102)를 금형에 공급하여 연마 과정에서 발생하는 진동과 충격을 흡수할 수 있으면서 형상 유지력을 가지는 고무, 수지, 우레탄, 부직포 등과 같은 재질로 소정의 두께(T1)을 가지도록 가압 성형하여 완충플레이트(103)를 형성한다.The buffer plate forming step (S2) is a rubber, resin, urethane, non-woven fabric having a shape retaining power while being able to absorb the vibration and shock generated during the polishing process by supplying the base plate 102 with the polishing surface 101 is formed in the mold The buffer plate 103 is formed by pressure molding to have a predetermined thickness T1 of a material such as the like.

상기 서포트플레이트 형성단계(S3)는 상기 서포트플레이트 형성단계(S3)는 베이스플레이트(102)와 동일한 재질의 강판을 원판형태로 구비하여 금형에 공급하여 완충플레이트(103)의 표면에 가압성형하여 서포트플레이트(104)를 완성하도록 한다.The support plate forming step (S3) is the support plate forming step (S3) is provided with a steel plate made of the same material as the base plate 102 in the form of a disc to supply to the mold by pressing the surface of the buffer plate 103 to support Complete the plate 104.

상기 서포트플레이트 형성단계(S3)에서는 연마 과정에서 발생하는 가압력에 대한 내력을 가지면서 연마대상체에 따라 많은 고탄성을 유지하여 변형 후 신속한 복원력을 부여하거나, 저탄성을 유지하여 변형을 최소화하도록 두께(T2)를 조절하도록 한다.The support plate forming step (S3) has a high strength to the pressing force generated during the polishing process while maintaining a lot of high elasticity according to the polishing object to give a rapid recovery force after deformation, or to maintain a low elasticity to minimize the deformation (T2) ).

상기 서포트플레이트(104)의 두께(T2)는 신속한 복원력을 부여하는 고탄성을 유지하기 위해서는 베이스플레이트(102)의 두께(T)에 근접하도록 하고, 변형을 최소화하기 위한 저탄성을 유지하기 위해서는 베이스플레이트(102)의 두께(T)보다 두꺼운 두께를 가지도록 하는 것이 바람직하다.The thickness T2 of the support plate 104 should be close to the thickness T of the base plate 102 in order to maintain high elasticity which gives a fast restoring force, and the base plate in order to maintain low elasticity to minimize deformation. It is desirable to have a thickness thicker than the thickness T of 102.

물론, 연마용 디스크(100)를 완성하는 과정에는 공구와 장착하기 위한 장착공(105)과 공구 장착시 고정수단이 노출되는 것을 방지할 수 있도록 요입 되는 형태의 옵셋(OS)을 형성함은 당연할 것이다.Of course, in the process of completing the polishing disk 100, it is natural that the mounting hole 105 for mounting with the tool and the offset OS of the recessed shape are formed so as to prevent the fixing means from being exposed when the tool is mounted. something to do.

본 발명의 다른 예로서는, 베이스플레이트 형성단계(S1)에서 베이스플레이트(102)의 두께(T)가 워낙 얇고 탄성을 가지는 재질이기 때문에 금형에서 쉽게 성형(옵셋부위) 되지 않는 데, 이를 보완하기 위하여 옵셋부위의 강판에 다수개의 슬로트(106)를 형성하여 성형의 용이성을 제공할 수 있도록 슬로트형성과정(S11)을 더 가지도록 하여도 된다.In another example of the present invention, since the thickness (T) of the base plate 102 in the base plate forming step (S1) is a very thin and elastic material, it is not easily molded (offset portion) in the mold. A plurality of slots 106 may be formed on the steel sheet of the site to further have a slot forming process S11 to provide ease of molding.

완충플레이트 형성단계(S2)에서는 베이스플레이트(102)의 성형을 용이하기에 서 슬로트(106)를 형성할 경우 장착공(105)이 형성되는 옵셋부위가 취약해지는 것을 방지할 수 있도록 완충플레이트(103) 내부에 강성 보강을 위한 심재(107)를 삽입하는 심재삽입과정(S21)을 가지도록 하여도 된다.In the buffer plate forming step (S2), when the slot 106 is formed from the base plate 102, the shock absorbing plate may be prevented from becoming weak when the mounting hole 105 is formed. 103) may have a core material insertion process (S21) for inserting the core material 107 for rigid reinforcement therein.

물론, 상기 심재(107)는 금속재질의 것이 바람직할 것이나, 플라스틱, 수지, 기타 비철금속 등 다양한 것을 사용할 수 있음은 당연할 것이다.Of course, the core material 107 is preferably made of a metal material, it will be obvious that a variety of plastics, resins, and other non-ferrous metals can be used.

상기와 같이 완성된 본 발명의 연마용 디스크(100)의 사용과정을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the process of using the polishing disk 100 of the present invention completed as described above are as follows.

일반적으로 공구에 장착하듯이 연마용 디스크(100)의 옵셋(OS)에 형성되는 장착공(105)을 통하여 고정수단을 이용하여 장착한 후 연마하고자 하는 피연마면을 향하여 연마면(101)이 향하도록 한 상태에서 디스크(100)를 회전시키면서 피연마면과 연접시켜 마찰시킴으로서 연마면(101)을 구성하는 다이아몬드 분말에 의하여 표면 연마를 수행할 수 있게 된다.In general, the mounting surface 105 is mounted using a fixing means through a mounting hole 105 formed at an offset OS of the polishing disk 100, and then the polishing surface 101 faces toward the surface to be polished to be polished. The surface polishing can be performed by diamond powder constituting the polishing surface 101 by rubbing the disk 100 in contact with the surface to be polished while rotating the disk 100.

이 과정에서 본 발명의 연마용 디스크(100)는 피연마면의 표면과 연마면(101)이 연접되면서 발생하는 가압력에 의하여 연마과정에서는 피연마면과 최적의 연접상태를 이루는 형태로 변형되어 마찰력 및 연접력 향상으로 연마효율성을 높이고, 연마를 종료함과 동시에 디스크(100)의 자체 탄성에 의하여 원래의 상태로 복원되는 특징을 가진다.In this process, the polishing disk 100 of the present invention is deformed to form an optimal contact state with the surface to be polished in the polishing process due to the pressure generated when the surface of the surface to be polished and the polishing surface 101 are in contact with each other. And it improves the polishing efficiency by improving the joint force, and has a feature that is restored to the original state by the self-elasticity of the disk 100 at the same time finishing the polishing.

특히, 연마 과정에서 가압력에 의하여 변형될 때에는 일반적으로 굽거나 절곡 되는 등과 같은 현상이 아니고, 탄성을 가지고 휘어지는 형태가 됨으로서 가압력이 사라지면 자연스럽게 원상태로 복귀할 수 있는 형태가 된다.In particular, when deformed by the pressing force in the polishing process is not a phenomenon such as bending or bending in general, it is a form that can be returned to the original state when the pressing force disappears by being elastically curved.

이는, 본 발명의 기술이 적용되는 연마용 디스크(100)는 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착한 연마면(101)을 가지는 베이스플레이트(102)와, 상기 베이스플레이트(102)의 상면에 구비되는 완충플레이트(103)와, 상기 완충플레이트(102)의 상면에 구비되는 서포트플레이트(104)로 샌드위치 구조로 되어 있기 때문에 가능하게 된다.That is, the polishing disk 100 to which the technique of the present invention is applied has a base plate 102 having a polishing surface 101 in which diamond powder is fused at a polishing position, and a buffer provided on an upper surface of the base plate 102. The plate 103 and the support plate 104 provided on the upper surface of the buffer plate 102 have a sandwich structure.

특히, 베이스플레이트(102)와 서포트플레이트(104)의 두께(T,T2)가 아주 얇으면서 자체적인 탄성을 가지고 있어 충분한 탄성을 가지게 되고, 완충플레이트(103)에 의하여 연마 과정에서 발생하는 충격과 진동을 흡수하면서 현상유지력을 가지는 특성에 의하여 연마과정에서 변형(휘어지는 형태) 후 원래의 상태로 복귀하는 데 도움을 주게 되는 것이다.In particular, the thickness (T, T2) of the base plate 102 and the support plate 104 is very thin and has its own elasticity to have sufficient elasticity, and the shock generated during the polishing process by the buffer plate 103 By absorbing vibration, it has the property of retaining power, which helps to return to its original state after deformation (curved form) during polishing.

또한, 최상단에 구비되는 서포트플레이트(104)의 두께(T2)를 가감하여 베이스플레이트(102)의 두께(T)와 동일하거나 근접하게 할 경우에는 고탄성을 가지도록 할 수 있어 곡면이 많은 피연마면에 적합하게 사용할 수 있고, 서포트플레이트(104)의 두께(T2)를 베이스플레이트(102)의 두께(T)보다 상대적으로 두껍게 할 경우에는 견고한 지지력을 가지는 저탄성으로 인하여 평평한 피연마면에 사용하기 적합하게 된다.In addition, when the thickness T2 of the support plate 104 provided at the top is added or subtracted to be equal to or close to the thickness T of the base plate 102, the surface to be polished may have high elasticity. When the thickness T2 of the support plate 104 is made relatively thicker than the thickness T of the base plate 102, it can be used on a flat surface to be polished due to low elasticity having a firm supporting force. It becomes suitable.

그리고, 연마용 디스크(100)의 옵셋(OS) 위치의 완충플레이트(103) 내부에 심재(107)를 더 삽입하여 성형성을 높이는 장점 외에도, 옵셋(OS) 자체의 내구성을 높이는 공구와 장착시 쉽게 변형되거나 손상되는 것을 방지할 수 있게 된다. Further, in addition to the advantage of further inserting the core material 107 into the buffer plate 103 at the offset (OS) position of the polishing disk 100 to increase the formability, when mounting with a tool to increase the durability of the offset (OS) itself It can be prevented from being easily deformed or damaged.

이러한 본 발명은 연마용 디스크를 샌드위치 형태로 구성하여 탄성을 부여하 여 연마 과정에서 피연마면과 연접되면서 탄성에 의한 변형과 복원을 통하여 지속적인 사용이 가능하게 하므로 디스크의 수명을 길게 할 수 있는 것은 물론, 피연마면과의 연접성을 높여 연마효율을 높이고 작업성이 우수하게 되는 등 다양한 장점을 가지는 발명이다.In the present invention, the polishing disk is configured in the form of a sandwich to impart elasticity, thereby making continuous use possible through deformation and restoration by elasticity while being connected to the surface to be polished in the polishing process. Of course, it is an invention having various advantages such as increasing the connection with the surface to be polished to increase polishing efficiency and workability.

도 1은 본 발명의 기술이 적용된 연마용 디스크 제조과정을 도시한 공정 블럭도.1 is a process block diagram showing a polishing disk manufacturing process to which the technique of the present invention is applied.

도 2는 본 발명의 기술이 적용된 연마용 디스크 제조과정을 도시한 다른 예의 공정 블럭도.Figure 2 is a process block diagram of another example showing the manufacturing process of the polishing disk to which the technique of the present invention is applied.

도 3은 본 발명의 기술에 의하여 제조된 연마용 디스크를 도시한 일부 파절 상태의 사시도.3 is a perspective view of a partially broken state showing an abrasive disk produced by the technique of the present invention.

도 4는 본 발명의 기술에 의하여 제조된 연마용 디스크를 도시한 단면 상태의 구성도.Figure 4 is a block diagram of a cross-sectional state showing a polishing disk produced by the technique of the present invention.

도 5는 본 발명의 기술에 의하여 제조된 다른 예의 연마용 디스크를 도시한 단면도.5 is a cross-sectional view showing another example of the polishing disk manufactured by the technique of the present invention.

도 6은 종래 기술이 적용된 연마용 디스크를 도시한 구성도.Figure 6 is a block diagram showing a polishing disk to which the prior art is applied.

*도면의 주요 부분에 사용된 부호의 설명** Description of the symbols used in the main parts of the drawings *

100; 연마용 디스크100; Abrasive discs

102; 베이스플레이트102; Base plate

103; 완충플레이트103; Buffer plate

104; 서포트플레이트104; Support Plate

Claims (5)

피연마면과 연접되는 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착시켜 연마면(101)을 형성하여 직접적으로 연마를 수행하며, 다이아몬드 분말의 융착시 고온에 견딜 수 있도록 0.2mm 이상의 두께를 가지는 강판으로 이루어지는 베이스플레이트(102);A base plate made of a steel plate having a thickness of 0.2 mm or more so that the diamond powder is fused to the polishing position in contact with the surface to be polished to form the polishing surface 101 and polished directly. 102; 상기 베이스플레이트(102)와 결합되고, 연마 과정에서의 충격과 진동을 흡수하면서 형상을 유지하도록 고무, 수지, 우레탄, 부직포 중 어느 하나의 재질로 이루어지며, 자체 탄성을 가지는 완충플레이트(103); 및A buffer plate 103 coupled to the base plate 102 and made of any one material of rubber, resin, urethane, and nonwoven fabric to maintain shape while absorbing shock and vibration in a polishing process; And 상기 완충플레이트(103)의 표면에 가압성형에 의해 결합되고, 상기 베이스플레이트(102)와 동일한 재질의 강판으로 이루어지며, 탄성을 유지하면서 변형 후 원래의 상태로 복원을 도우는 서포트플레이트(104);로 이루어지는 샌드위치 구조를 가지며,Support plate 104 coupled to the surface of the buffer plate 103 by pressing, made of a steel plate of the same material as the base plate 102, to help restore to the original state after deformation while maintaining elasticity Has a sandwich structure consisting of; 중앙부에 공구와 장착되는 장착공(105)이 형성되고, 상기 장착공(105)의 둘레로 상기 연마면(101)에 비해 일측으로 돌출 형성되는 옵셋(OS)이 형성되며,A mounting hole 105 mounted with a tool is formed at a central portion, and an offset OS is formed to protrude to one side of the mounting hole 105 relative to the polishing surface 101. 상기 베이스플레이트(102)에는 성형의 용이성을 높이도록 상기 옵셋(OS) 부위에 다수개의 슬로트(106)가 형성되고, The base plate 102 is formed with a plurality of slots 106 in the offset (OS) to increase the ease of molding, 상기 완충플레이트(103)에는 강성이 보강되도록 상기 옵셋(OS) 부위의 내부에 심재(107)가 삽입되는 것을 특징으로 하는 연마용 디스크.Polishing disk, characterized in that the buffer plate 103 is inserted into the core (107) inside the offset (OS) so as to reinforce the rigidity. 탄성을 가지는 박판의 강판을 원판형으로 구비하여 피연마면과 연접되어 연마를 수행하는 연마위치에 다이아몬드 분말을 융착시켜 연마면을 형성하여 베이스플레이트를 만드는 베이스플레이트 형성단계(S1);A base plate forming step (S1) of forming a base plate by fusing a diamond powder to a polishing position where the sheet steel having elasticity is formed in a disc shape and connected to the surface to be polished to perform polishing; 연마 과정에서의 충격과 진동을 흡수하면서 형상을 유지할 수 있도록 고무, 수지, 우레탄 또는 부직포 재질로 상기 베이스플레이트와 결합하여 완충플레이트를 만드는 완충플레이트 형성단계(S2); 및A buffer plate forming step (S2) of combining the base plate with a rubber, resin, urethane, or nonwoven material to form a buffer plate so as to absorb shock and vibration during polishing; And 탄성을 부여하여 변형 후 원래의 상태로 복원을 도우도록 탄성을 가지는 박판의 강판을 원판형으로 구비하여 상기 완충플레이트와 결합하여 서포트플레이트를 만드는 서포트플레이트 형성단계(S3);로 이루어지고, A support plate forming step (S3) of forming a support plate by combining the buffer plate with a plate of a thin steel sheet having elasticity to give elasticity to help restore the original state after deformation; 상기 베이스플레이트(102)는, 다이아몬드 분말의 융착시 고온에 견딜 수 있도록 0.2㎜이상의 두께(T)를 가지고,The base plate 102 has a thickness (T) of 0.2 mm or more to withstand high temperature when the diamond powder is fused, 상기 베이스플레이트 형성단계(S1)는, 얇은 두께(T)의 상기 베이스플레이트(102)의 성형성을 용이하게 할 수 있도록 옵셋 부위에 다수개의 슬로트(106)를 형성하는 슬로트형성과정(S11)을 포함하고, The base plate forming step (S1), a slot forming process (S11) for forming a plurality of slots 106 in the offset region to facilitate the formability of the base plate 102 of a thin thickness (T) ), 상기 완충플레이트 형성단계(S2)는, 옵셋 부위의 취약성을 보강할 수 있도록 내부에 심재(107)를 삽입하는 심재삽입과정(S21)을 포함하는 것을 특징으로 하는 연마용 디스크 제조방법.The buffer plate forming step (S2), the grinding disk manufacturing method comprising a core material insertion process (S21) for inserting the core material 107 therein to reinforce the fragility of the offset portion. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020090039404A 2009-05-06 2009-05-06 Manufacturing method for polishing disk and polishing disk KR101117093B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090039404A KR101117093B1 (en) 2009-05-06 2009-05-06 Manufacturing method for polishing disk and polishing disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090039404A KR101117093B1 (en) 2009-05-06 2009-05-06 Manufacturing method for polishing disk and polishing disk

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100120537A KR20100120537A (en) 2010-11-16
KR101117093B1 true KR101117093B1 (en) 2012-02-22

Family

ID=43406089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090039404A KR101117093B1 (en) 2009-05-06 2009-05-06 Manufacturing method for polishing disk and polishing disk

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101117093B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102522027B1 (en) * 2021-04-21 2023-04-14 주식회사 디어포스 Grinder-type eco abrasive article and manufacturing method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10138151A (en) * 1996-11-01 1998-05-26 Ichiguchi:Kk Polishing tool
WO2000066326A1 (en) * 1999-04-30 2000-11-09 Sankyo Diamond Industrial Co., Ltd. Diamond tool with mounting member
KR20030013668A (en) * 2001-08-08 2003-02-15 지범현 diamond tools workerable for cutting and simultaneously

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10138151A (en) * 1996-11-01 1998-05-26 Ichiguchi:Kk Polishing tool
WO2000066326A1 (en) * 1999-04-30 2000-11-09 Sankyo Diamond Industrial Co., Ltd. Diamond tool with mounting member
KR20030013668A (en) * 2001-08-08 2003-02-15 지범현 diamond tools workerable for cutting and simultaneously

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100120537A (en) 2010-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5303643B2 (en) Ultrasonic bonding tool, method for manufacturing ultrasonic bonding tool, ultrasonic bonding method, and ultrasonic bonding apparatus
JP5730929B2 (en) Cup type rotating grindstone
KR101117093B1 (en) Manufacturing method for polishing disk and polishing disk
JP2018146349A (en) Interface strength evaluation method of fiber reinforced composite material
EP0395162A1 (en) Tool for the working heads of polishing machines for stone material or the like
US20140045414A1 (en) Surface machining tool
CN115431133B (en) Detachable grinding disc for electric grinder with high cling efficiency
KR100813769B1 (en) Grinding wheel
KR200418534Y1 (en) Grinding wheel
KR101350147B1 (en) Velcro type grinding pad having flexible property and method of manufacturing the same
JP6502654B2 (en) Nail file and manufacturing method thereof
CN110948405A (en) Elastic abrasive tool and method for manufacturing same
KR200440919Y1 (en) Rubber bond grinding wheel for grinding tip
JPS5997845A (en) Vitreous cutting grindstone
CN112041114A (en) Conformable abrasive article
JP3942573B2 (en) Smoothing tool and smoothing method
CN112428098B (en) Polishing tool, assembly comprising the same and method of polishing a substrate
KR100671884B1 (en) Cutting wheel for noise diminution and manufacturing method thereof
JP2008207268A (en) Work holder
CN215358006U (en) Diamond grinding and polishing disk
CN201023214Y (en) Abrasive cutting wheel capable of grinding
KR101102067B1 (en) Pitch honing stone
CN211029666U (en) Dual-purpose abrasive cloth wheel of cutting and grinding
KR102138127B1 (en) Method of manufacturing stone cutter and stone cutter manufactured thereof
JP7082748B2 (en) Abrasive Pad Fixtures and Abrasive Pads

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150130

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160307

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170102

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180209

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200305

Year of fee payment: 9