KR101116658B1 - Coupling and apparatus for supplying a processing liquid including the same - Google Patents
Coupling and apparatus for supplying a processing liquid including the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR101116658B1 KR101116658B1 KR1020100001251A KR20100001251A KR101116658B1 KR 101116658 B1 KR101116658 B1 KR 101116658B1 KR 1020100001251 A KR1020100001251 A KR 1020100001251A KR 20100001251 A KR20100001251 A KR 20100001251A KR 101116658 B1 KR101116658 B1 KR 101116658B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sleeve
- balls
- pipe
- coupling
- substrate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L21/00—Joints with sleeve or socket
- F16L21/08—Joints with sleeve or socket with additional locking means
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L23/00—Flanged joints
- F16L23/02—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially
- F16L23/032—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially characterised by the shape or composition of the flanges
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L23/00—Flanged joints
- F16L23/02—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially
- F16L23/036—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned axially characterised by the tensioning members, e.g. specially adapted bolts or C-clamps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
기판 상으로 처리액을 공급하기 위한 장치에 있어서, 공급 배관은 기판 상으로 처리액을 공급하는 노즐들을 가지며 커플링을 통하여 메인 배관에 연결된다. 상기 커플링은 상기 메인 배관과 연결된 제1 슬리브와, 상기 제1 슬리브와 연결된 튜브 형태의 바디와, 상기 바디 내부로 삽입되며 상기 공급 배관과 연결된 제2 슬리브와, 상기 공급 배관이 회전 가능하도록 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들, 및 상기 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 볼들을 수용하는 다수의 홀들을 갖는 리테이너를 포함할 수 있다. 따라서, 상기 공급 배관은 상기 제2 슬리브와 함께 안정적으로 요동 운동될 수 있으며, 이에 따라 상기 기판 상으로 처리액이 균일하게 공급될 수 있다.In the apparatus for supplying the processing liquid onto the substrate, the supply piping has nozzles for supplying the processing liquid onto the substrate and is connected to the main piping through a coupling. The coupling may include a first sleeve connected to the main pipe, a body having a tube shape connected to the first sleeve, a second sleeve inserted into the body and connected to the supply pipe, and the supply pipe rotatable. And a retainer having a plurality of balls disposed between the body and the second sleeve, and a plurality of holes for receiving the balls to prevent the balls from contacting each other. Therefore, the supply pipe can be stably swinged together with the second sleeve, so that the treatment liquid can be uniformly supplied onto the substrate.
Description
본 발명의 실시예들은 커플링 및 이를 포함하는 처리액 공급 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 평판 디스플레이 장치의 제조에서 기판 상으로 처리액을 공급하는 처리액 공급 배관을 메인 배관에 연결하는 커플링과 이를 포함하는 처리액 공급 장치에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a coupling and a treatment liquid supply apparatus including the same. More particularly, the present invention relates to a coupling for connecting a processing liquid supply pipe for supplying a processing liquid onto a substrate in the manufacture of a flat panel display device to a main pipe, and a processing liquid supply device including the same.
평판 디스플레이 장치의 제조에서 실리콘 또는 유리로 이루어진 기판 상에는 전기적인 회로 패턴들이 형성될 수 있다. 상기 회로 패턴들은 증착 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 스트립 공정 및 세정 공정 등과 같은 일련의 단위 공정들을 수행함으로써 형성될 수 있다.Electrical circuit patterns may be formed on a substrate made of silicon or glass in the manufacture of a flat panel display device. The circuit patterns may be formed by performing a series of unit processes such as a deposition process, a photolithography process, an etching process, a strip process, and a cleaning process.
특히, 상기 식각, 스트립, 세정 등과 같은 단위 공정들은 식각액, 스트립 용액, 세정액, 린스액 등과 같은 처리액을 이용하여 습식 방법으로 진행될 수 있다.In particular, the unit processes such as etching, stripping, and cleaning may be performed by a wet method using a treatment liquid such as an etching solution, a strip solution, a cleaning solution, a rinse solution, and the like.
상기와 같이 처리액을 이용하는 기판 처리 장치는 상기 처리 공정이 수행되는 처리조와 상기 처리조 내에서 다수의 이송 롤러들을 이용하여 수평 방향으로 기판을 이송하는 기판 이송 모듈과 상기 기판 이송 모듈에 의해 이송되는 기판 상으로 상기 처리액을 공급하는 처리액 공급 장치를 포함할 수 있다.The substrate processing apparatus using the processing liquid as described above is transferred by the substrate transfer module and the substrate transfer module for transferring the substrate in the horizontal direction by using a plurality of transfer rollers in the treatment tank and the processing tank is performed. It may include a processing liquid supply device for supplying the processing liquid onto the substrate.
상기 처리액 공급 장치는 상기 수평 방향으로 연장하는 다수의 처리액 공급 배관들을 포함할 수 있으며, 상기 배관들을 일정한 각도로 요동시키기 위한 구동부를 포함할 수 있다. 상기 구동부와 상기 처리액 공급 배관들 사이에는 구동력을 전달하기 위한 동력 전달부가 구비될 수 있으며, 상기 처리액 공급 배관들은 커플링들을 통해서 메인 배관에 회전 가능하도록 연결될 수 있다.The processing liquid supply device may include a plurality of processing liquid supply pipes extending in the horizontal direction, and may include a driving unit for swinging the pipes at a predetermined angle. A power transmission unit may be provided between the driving unit and the processing liquid supply pipes to transmit a driving force, and the processing liquid supply pipes may be rotatably connected to the main pipe through couplings.
상기 커플링들은 상기 메인 배관에 연결되는 제1 슬리브와 상기 처리액 공급 배관에 연결되는 제2 슬리브를 포함할 수 있으며, 상기 제1 슬리브와 제2 슬리브 사이에는 상기 제1 슬리브가 회전 가능하도록 다수의 볼들이 구비될 수 있다. 즉, 상기 볼들에 의해 상기 제2 슬리브가 상기 처리액 공급 배관과 함께 요동 운동할 수 있다. 그러나, 상기 볼들이 상기 커플링 내부에서 서로 접촉될 수 있으며, 이에 의해 볼이 파손되거나 다량의 파티클들이 발생될 수 있다. 또한, 볼의 파손에 의해 상기 처리액 공급 배관의 요동이 정상적으로 수행되지 않을 수 있으며, 이에 의해 상기 기판 상으로 처리액이 균일하게 공급되지 못하여 상기 기판의 처리 공정에서 불량이 발생될 수 있다.The couplings may include a first sleeve connected to the main pipe and a second sleeve connected to the treatment liquid supply pipe, and the plurality of couplings may be rotatable between the first sleeve and the second sleeve. Balls may be provided. That is, the second sleeve may swing with the processing liquid supply pipe by the balls. However, the balls may be in contact with each other inside the coupling, whereby the balls may be broken or a large amount of particles may be generated. In addition, the shaking of the processing liquid supply pipe may not be normally performed due to the breakage of the ball, whereby the processing liquid may not be uniformly supplied onto the substrate, thereby causing a defect in the processing of the substrate.
상술한 바와 같은 문제점들을 해결하기 위한 본 발명의 실시예들은 처리액 공급 배관의 요동 운동이 안정적으로 이루어지도록 하는 커플링을 제공하는데 일 목적이 있다.Embodiments of the present invention for solving the problems as described above is an object of the present invention to provide a coupling for the rocking motion of the treatment liquid supply pipe is made stable.
본 발명의 실시예들은 상술한 바와 같은 커플링을 포함하는 처리액 공급 장치를 제공하는데 다른 목적을 갖는다.Embodiments of the present invention have another object to provide a treatment liquid supply apparatus including a coupling as described above.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따르면, 제1 배관과 제2 배관을 연결하기 위한 커플링은, 상기 제1 배관과 연결된 제1 슬리브와, 상기 제1 슬리브와 연결된 튜브 형태의 바디와, 상기 바디 내부로 삽입되며 상기 제2 배관과 연결된 제2 슬리브와, 상기 제2 배관이 회전 가능하도록 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들과, 상기 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 볼들을 수용하는 다수의 홀들을 갖는 리테이너를 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention for achieving the above object, the coupling for connecting the first pipe and the second pipe, the first sleeve is connected to the first pipe, the tube shape is connected to the first sleeve A body, a second sleeve inserted into the body and connected to the second pipe, a plurality of balls disposed between the body and the second sleeve so that the second pipe is rotatable, and the balls contact each other. It may include a retainer having a plurality of holes for receiving the balls in order to prevent that.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 바디의 내측에는 링 형태의 돌출부가 구비될 수 있으며, 상기 바디 내부로 삽입되는 상기 제2 슬리브의 단부에는 플랜지가 구비될 수 있고, 상기 볼들은 상기 돌출부와 플랜지 사이에 배치될 수 있다.According to embodiments of the present invention, the inner portion of the body may be provided with a ring-shaped protrusion, the end of the second sleeve which is inserted into the body may be provided with a flange, the ball and the protrusion It may be arranged between the flanges.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 커플링은 상기 바디의 내측으로 삽입되도록 상기 제2 슬리브의 다른 단부에 결합되는 제3 슬리브와, 상기 제3 슬리브와 상기 바디의 돌출부 사이에 배치되는 다수의 제2 볼들과, 상기 제2 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 제2 볼들을 수용하는 다수의 제2 홀들을 갖는 제2 리테이너를 더 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention, the coupling may include a third sleeve coupled to the other end of the second sleeve to be inserted into the body, and a plurality of couplings disposed between the third sleeve and the protrusion of the body. The second retainer may further include a second retainer having second balls and a plurality of second holes for receiving the second balls to prevent the second balls from contacting each other.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 제1 배관으로부터 제2 배관으로 흐르는 액상 물질을 상기 볼들에 공급하기 위한 관통홀이 상기 제2 슬리브를 통하여 형성될 수 있다.According to embodiments of the present invention, a through hole for supplying the liquid material flowing from the first pipe to the second pipe to the balls may be formed through the second sleeve.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 커플링은 상기 바디 내부로 삽입된 상기 제2 슬리브의 단부에 장착되는 슬리브 와셔와, 상기 제1 슬리브와 제2 슬리브 사이에 배치되며 상기 슬리브 와셔와 접촉되는 원형 링 형태의 돌출부를 갖는 내측 슬리브와, 상기 제1 슬리브에 장착되며 스프링의 탄성 복원력을 이용하여 상기 내측 슬리브의 돌출부가 상기 슬리브 와셔에 밀착되도록 상기 내측 슬리브에 힘을 가하는 푸셔를 더 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention, the coupling is disposed between the first sleeve and the second sleeve and is in contact with the sleeve washer mounted on the end of the second sleeve inserted into the body. And an inner sleeve having a round ring-shaped protrusion, and a pusher mounted on the first sleeve and applying a force to the inner sleeve so that the protrusion of the inner sleeve adheres to the sleeve washer using an elastic restoring force of a spring. have.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 커플링은 상기 내측 슬리브를 관통하여 상기 제1 슬리브에 결합되며 상기 내측 슬리브가 상기 제2 슬리브와 함께 회전하지 않도록 고정시키는 위치 고정 부재를 더 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention, the coupling may further include a positioning member coupled to the first sleeve through the inner sleeve and fixing the inner sleeve so as not to rotate with the second sleeve. .
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따르면, 처리액 공급 장치는 기판을 처리하기 위한 처리액을 공급하는 메인 배관과, 상기 메인 배관에 연결되어 상기 기판의 상부에서 상기 기판과 평행하게 연장하며 상기 기판 상으로 상기 처리액을 공급하기 위한 다수의 노즐들을 갖는 공급 배관과, 상기 노즐들이 소정의 각도로 진자 운동하도록 상기 공급 배관을 요동 운동시키는 구동부와, 상기 공급 배관을 상기 메인 배관에 연결하는 커플링을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 커플링은 상기 메인 배관과 연결된 제1 슬리브와, 상기 제1 슬리브와 연결된 튜브 형태의 바디와, 상기 바디 내부로 삽입되며 상기 공급 배관과 연결된 제2 슬리브와, 상기 공급 배관이 회전 가능하도록 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들, 및 상기 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 볼들을 수용하는 다수의 홀들을 갖는 리테이너를 포함할 수 있다.According to embodiments of the present invention for achieving the above another object, the processing liquid supply apparatus is a main pipe for supplying a processing liquid for processing a substrate, and is connected to the main pipe in parallel with the substrate on the top of the substrate A supply pipe having a plurality of nozzles for supplying the treatment liquid onto the substrate, the drive unit configured to swing the supply pipe so that the nozzles pendulum at a predetermined angle, and the supply pipe to the main pipe. It may include a coupling to connect to. The coupling may include a first sleeve connected to the main pipe, a body having a tube shape connected to the first sleeve, a second sleeve inserted into the body and connected to the supply pipe, and the supply pipe may rotate. And a retainer having a plurality of balls disposed between the body and the second sleeve, and a plurality of holes for receiving the balls to prevent the balls from contacting each other.
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 기판 상에 처리액을 공급하기 위한 다수의 노즐들을 갖고 요동 운동되는 공급 배관은 커플링을 통해 메인 배관에 연결될 수 있다. 여기서, 상기 커플링은 상기 메인 배관에 결합되는 제1 슬리브와 상기 공급 배관에 결합되는 제2 슬리브 및 상기 제2 슬리브를 감싸도록 상기 제1 슬리브에 결합되는 튜브 형태의 바디를 포함할 수 있으며, 상기 공급 배관과 제2 슬리브의 회전은 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들 및 상기 볼들의 상호 위치를 고정시키는 리테이너에 의해 가능하다.According to the embodiments of the present invention as described above, the supply pipe swinging with a plurality of nozzles for supplying the processing liquid on the substrate may be connected to the main pipe through the coupling. Here, the coupling may include a first sleeve coupled to the main pipe, a second sleeve coupled to the supply pipe, and a body in the form of a tube coupled to the first sleeve to surround the second sleeve. Rotation of the supply pipe and the second sleeve is possible by means of a plurality of balls disposed between the body and the second sleeve and a retainer for fixing the mutual positions of the balls.
상기와 같이 커플링 내에서 상기 리테이너에 의해 상기 볼들이 서로 접촉되는 것이 방지되므로 상기 볼들의 손상 또는 파손이 방지될 수 있으며, 또한 이에 따른 파티클 발생이 방지될 수 있다. 특히, 상기 제2 슬리브를 통하여 상기 볼들에 윤활유로서 기능할 수 있는 처리액이 공급될 수 있으므로, 상기 볼들의 마모에 따른 파티클 발생이 크게 감소될 수 있다. 결과적으로, 상기 공급 배관의 요동 운동이 안정적으로 이루어질 수 있으며, 이에 따라 상기 기판의 처리 공정에서 불량 발생률이 크게 감소될 수 있다.Since the balls are prevented from contacting each other by the retainer in the coupling as described above, damage or breakage of the balls can be prevented, and particle generation can be prevented accordingly. In particular, since the treatment liquid capable of functioning as lubricating oil can be supplied to the balls through the second sleeve, particle generation due to wear of the balls can be greatly reduced. As a result, the rocking motion of the supply pipe can be made stable, and accordingly, a defective occurrence rate can be greatly reduced in the processing process of the substrate.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 커플링을 포함하는 처리액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 처리액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 처리액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 커플링을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 5는 도 4에 도시된 제1 리테이너(retainer)를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.1 is a schematic configuration diagram illustrating a treatment liquid supply apparatus including a coupling according to an exemplary embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic plan view for explaining the processing liquid supply device shown in FIG. 1.
FIG. 3 is a schematic side view for explaining the processing liquid supply device shown in FIG. 1.
4 is a schematic cross-sectional view for describing the coupling illustrated in FIG. 1.
FIG. 5 is a schematic plan view for explaining the first retainer illustrated in FIG. 4.
이하, 본 발명은 본 발명의 실시예들을 보여주는 첨부 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명은 하기에서 설명되는 실시예들에 한정된 바와 같이 구성되어야만 하는 것은 아니며 이와 다른 여러 가지 형태로 구체화될 수 있을 것이다. 하기의 실시예들은 본 발명이 온전히 완성될 수 있도록 하기 위하여 제공된다기보다는 본 발명의 기술 분야에서 숙련된 당업자들에게 본 발명의 범위를 충분히 전달하기 위하여 제공된다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will be described in more detail below with reference to the accompanying drawings showing embodiments of the invention. However, the present invention should not be construed as limited to the embodiments described below, but may be embodied in various other forms. The following examples are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention, rather than being provided so as to enable the present invention to be fully completed.
하나의 요소가 다른 하나의 요소 또는 층 상에 배치되는 또는 연결되는 것으로서 설명되는 경우 상기 요소는 상기 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결될 수도 있으며, 다른 요소들 또는 층들이 이들 사이에 게재될 수도 있다. 이와 다르게, 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결되는 것으로서 설명되는 경우, 그들 사이에는 또 다른 요소가 있을 수 없다. 다양한 요소들, 조성들, 영역들, 층들 및/또는 부분들과 같은 다양한 항목들을 설명하기 위하여 제1, 제2, 제3 등의 용어들이 사용될 수 있으나, 상기 항목들은 이들 용어들에 의하여 한정되지는 않을 것이다.When an element is described as being disposed or connected on another element or layer, the element may be placed or connected directly on the other element, and other elements or layers may be placed therebetween. It may be. Alternatively, where one element is described as being directly disposed or connected on another element, there may be no other element between them. The terms first, second, third, etc. may be used to describe various items such as various elements, compositions, regions, layers and / or portions, but the items are not limited by these terms .
하기에서 사용된 전문 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 사용되는 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다. 또한, 달리 한정되지 않는 이상, 기술 및 과학 용어들을 포함하는 모든 용어들은 본 발명의 기술 분야에서 통상적인 지식을 갖는 당업자에게 이해될 수 있는 동일한 의미를 갖는다. 통상적인 사전들에서 한정되는 것들과 같은 상기 용어들은 관련 기술과 본 발명의 설명의 문맥에서 그들의 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석될 것이며, 명확히 한정되지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 외형적인 직감으로 해석되지는 않을 것이다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Also, unless stated otherwise, all terms including technical and scientific terms have the same meaning as would be understood by one of ordinary skill in the art having ordinary skill in the art. Such terms, such as those defined in conventional dictionaries, will be construed as having meanings consistent with their meanings in the context of the related art and description of the invention, and ideally or excessively intuitional unless otherwise specified. It will not be interpreted.
본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들의 개략적인 도해들인 단면 도해들을 참조하여 설명된다. 이에 따라, 상기 도해들의 형상들로부터의 변화들, 예를 들면, 제조 방법들 및/또는 허용 오차들의 변화들은 예상될 수 있는 것들이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도해로서 설명된 영역들의 특정 형상들에 한정된 바대로 설명되어지는 것은 아니라 형상들에서의 편차들을 포함하는 것이며, 도면들에 설명된 영역들은 전적으로 개략적인 것이며 이들의 형상들은 영역의 정확한 형상을 설명하기 위한 것이 아니며 또한 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것도 아니다.Embodiments of the present invention are described with reference to cross-sectional illustrations that are schematic illustrations of ideal embodiments of the present invention. Accordingly, changes from the shapes of the illustrations, such as changes in manufacturing methods and / or tolerances, are those that can be expected. Accordingly, embodiments of the invention are not to be described as limited to the particular shapes of the areas described as the illustrations, but include deviations in the shapes, and the areas described in the figures are entirely schematic and their shapes. Are not intended to describe the precise shape of the region nor are they intended to limit the scope of the invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 커플링을 포함하는 처리액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1에 도시된 처리액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 평면도이며, 도 3은 도 1에 도시된 처리액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.1 is a schematic diagram illustrating a treatment liquid supply apparatus including a coupling according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view illustrating the treatment liquid supply apparatus illustrated in FIG. 1. 3 is a schematic side view for explaining the treatment liquid supply device shown in FIG. 1.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 공급 장치(100)는 평판 디스플레이 장치의 제조에서 유리 기판과 같은 처리 대상 기판(10)에 대하여 식각, 스트립, 세정, 린스 등과 같이 처리액을 이용하는 단위 처리 공정을 수행하기 위하여 사용될 수 있다.1 to 3, the processing
상기 처리 공정은 기판(10)이 통과하는 처리조(20) 내부에서 수행될 수 있으며, 상기 처리조(20)는 서로 마주하는 측벽들에 각각 입구(22)와 출구(24)를 가질 수 있다. 상기 기판(10)은 기판 이송 유닛(30)에 의해 상기 입구(22)와 출구(24)를 연결하는 수평 이송 방향으로 이송될 수 있으며, 상기 기판(10)이 이송되는 동안 상기 기판(10) 상으로 처리액이 공급될 수 있다.The treatment process may be performed in the
상세히 도시되지는 않았으나, 상기 기판 이송 유닛(30)은 상기 기판 이송 방향으로 배열되며 상기 기판 이송 방향에 대하여 수직하는 다른 수평 방향으로 연장하는 다수의 회전축들(32)과, 상기 회전축들(32)에 장착되어 상기 기판(10)을 지지하며 상기 회전축들(32)과 함께 회전하여 상기 기판(10)을 이송하기 위한 다수의 이송 롤러들(34)과, 상기 처리조(20)의 외부에 배치되어 상기 회전축들(32)을 회전시키기 위한 구동부(미도시)를 포함할 수 있다. 특히, 상기 구동부는 회전력을 발생시키는 모터와 상기 회전력을 전달하기 위한 벨트 전동 기구 및 자기력을 이용하여 상기 벨트 전동 기구로부터 상기 회전력을 상기 회전축들(32)에 전달하기 위한 다수의 마그네틱 풀리들을 포함할 수 있다.Although not shown in detail, the
상기 처리액 공급 장치(100)는 상기 기판(10)의 상부에서 상기 기판(10)과 평행하게 연장하며 상기 처리액을 상기 기판(10) 상으로 공급하기 위한 적어도 하나의 공급 배관(110)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 처리액 공급 장치(100)는 상기 기판(10)의 이송 방향과 평행하게 연장하는 다수의 처리액 공급 배관들(110)을 포함할 수 있다. 상기 공급 배관들(110)은 상기 기판(10)의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 배열될 수 있다.The processing
각각의 처리액 공급 배관들(110)은 상기 기판(10) 상으로 상기 처리액을 공급하기 위하여 다수의 노즐들(112)을 가질 수 있으며, 상기 처리액이 상기 기판(10) 상으로 균일하게 공급되도록 요동 운동될 수 있다.Each of the treatment
상기 처리액 공급 배관들(110)의 제1 단부들은 커플링들(200)에 의해 상기 처리액을 공급하는 메인 배관(120)에 연결될 수 있다. 상기 커플링들(200)에 대하여는 후술하기로 한다.First ends of the processing
또한, 상기 처리액 공급 장치(100)는 상기 처리액 공급 배관들(110)을 상기와 같이 요동 운동시키기 위하여 구동력을 제공하는 구동부(130)와 상기 구동력을 상기 처리액 공급 배관들(110)에 전달하는 동력 전달부(140)를 포함할 수 있다. 상기 구동부(130)로는 모터가 사용될 수 있다.In addition, the treatment
한편, 상기 처리조(20) 내부에는 도시된 바와 같이 상기 기판(10)의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 연장하며 격벽(42)과 하부 패널(44)에 의해 상기 처리조(20)의 내부 공간으로부터 차단된 동력 전달 챔버(40)가 구비될 수 있다.On the other hand, as shown in the
상기 동력 전달부(140)는 상기 구동부(130)에 연결된 구동 디스크(142)와, 상기 동력 전달 챔버(40) 내에 배치된 다수의 구동축들(144), 상기 구동축들(144)에 장착되는 제1 마그네틱 풀리들(146), 상기 처리액 공급 배관들(110)에 장착되는 제2 마그네틱 풀리들(148), 상기 제1 마그네틱 풀리들(146)과 연결되어 왕복 운동함으로써 상기 제1 마그네틱 풀리들(146)을 요동 운동시키기 위한 장축 바(bar; 150)와, 상기 장축 바(150)에 링크 결합되며 상기 구동 디스크(142)의 중심으로부터 이격된 상기 구동 디스크(142)의 일측에 연결된 단축 바(152)를 포함할 수 있다.The
상기 구동축들(144)은 상기 동력 전달 챔버(40) 내에서 회전 가능하도록 배치될 수 있으며 상기 처리액 공급 배관들(110)과 각각 공통의 중심축을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 동력 전달 챔버(40) 내에는 서포트 부재(154)가 배치될 수 있으며, 상기 구동축들(144)은 상기 서포트 부재(154)를 관통하여 배치될 수 있다. 상기 서포트 부재(154)에는 다수의 베어링들(156)이 장착되어 상기 구동축들(144)이 회전 가능하도록 상기 구동축들(144)을 지지할 수 있다.The
상기 제1 마그네틱 풀리들(146)은 상기 격벽(42)에 인접하도록 상기 구동축들(144)의 제1 단부들에 각각 장착될 수 있으며, 상기 구동력의 전달을 위하여 다수의 마그네틱 부재들이 각각의 제1 마그네틱 풀리들(146)에 원주 방향으로 장착될 수 있다.The first
상기 제2 마그네틱 풀리들(148)은 상기 처리액 공급 배관들(110)의 제2 단부들에 장착될 수 있다. 특히, 상기 제2 마그네틱 풀리들(148)은 상기 격벽(42)을 사이에 두고 상기 제1 마그네틱 풀리들(146)과 마주하도록 배치될 수 있으며, 상기 구동력 전달을 위하여 다수의 마그네틱 부재들이 상기 제2 마그네틱 풀리들(148) 각각에 원주 방향으로 장착될 수 있다. 즉, 상기 구동력은 상기 제1 및 제2 마그네틱 풀리들(146, 148) 사이에서 작용하는 자기력에 의해 상기 처리액 공급 배관들(110)로 전달될 수 있다.The second
상기 단축 바(152)는 상기 구동 디스크(142)의 회전 중심으로부터 이격된 즉 편심 위치에서 상기 구동 디스크(142)와 연결되고, 상기 장축 바(150)와 링크 결합되므로, 상기 모터(130)의 회전 운동은 상기 구동 디스크(142), 단축 바(152) 및 장축 바(150)에 의해 왕복 운동으로 변환되며, 상기 왕복 운동은 상기 장축 바(150)와 연결된 제1 마그네틱 풀리들(146)을 요동 운동시킬 수 있다. 결과적으로, 상기 공급 배관들(110) 및 노즐들(112)이 소정의 각도 내에서 요동 운동 즉 진자 운동될 수 있으며, 이에 따라 상기 처리액이 상기 기판(10) 상으로 균일하게 제공될 수 있다.The
도 4는 도 1에 도시된 커플링을 설명하기 위한 개략적인 단면도이며, 도 5는 도 4에 도시된 제1 리테이너(retainer)를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.4 is a schematic cross-sectional view for describing the coupling illustrated in FIG. 1, and FIG. 5 is a schematic plan view for explaining the first retainer illustrated in FIG. 4.
도 4 및 도 5를 참조하면, 커플링(200)은 제1 배관과 제2 배관을 연결하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 커플링(200)은 메인 배관(120)과 공급 배관(110) 사이를 연결할 수 있으며, 특히 상기 공급 배관(110)이 회전 가능하도록 즉 구동부(130)에 의해 요동 운동될 수 있도록 상기 공급 배관(110)을 상기 메인 배관(120)에 연결할 수 있다. 상기 커플링(200)은 상기 메인 배관(120)에 직접 연결될 수도 있으며, 도시된 바와 같이 상기 메인 배관(120)으로부터 분기된 연결 배관(122)을 통해 상기 메인 배관(120)에 연결될 수도 있다.4 and 5, the
상기 커플링(200)은 상기 메인 배관(120)과 연결된 제1 슬리브(202)와, 상기 제1 슬리브(202)와 연결된 튜브 형태의 바디(204)와, 상기 바디(204) 내부로 삽입되며 상기 공급 배관(110)과 연결된 제2 슬리브(206)와, 상기 공급 배관(110)이 회전 가능하도록 상기 바디(204)와 상기 제2 슬리브(206) 사이에 배치되는 다수의 제1 볼들(208), 및 상기 제1 볼들(208)이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 제1 볼들(208)을 수용하는 다수의 제1 홀들(210A)을 갖는 제1 리테이너(210)를 포함할 수 있다. 즉, 상기 제1 리테이너(210)를 이용하여 상기 제1 볼들(208) 사이의 상호 거리를 일정하게 유지시킴으로써 상기 제1 볼들(208)이 서로 접촉하여 손상되거나 파손되는 것을 방지할 수 있으며, 또한 상기 제1 볼들(208)이 서로 접촉함에 의한 파티클 발생을 방지할 수 있다.The
상기 바디(204)는 튜브 형태를 가질 수 있으며, 상기 제1 슬리브(202)에 고정 볼트들(212)을 이용하여 결합될 수 있다. 상기 바디(204)의 내측면에는 링 형태의 돌출부(204A)가 구비될 수 있으며, 상기 바디(204) 내부로 삽입된 제2 슬리브(206)의 제1 단부에는 링 형태의 플랜지(206A)가 구비될 수 있다. 상기 제1 볼들(208)과 제1 리테이너(210)는 상기 바디(204)의 돌출부(204A)와 상기 제2 슬리브(206)의 플랜지(206A) 사이에 배치될 수 있다.The
또한, 상기 커플링(200)은 상기 제2 슬리브(206)의 다른 단부 외측면에 결합되는 제3 슬리브(214)를 더 포함할 수 있다. 상기 제3 슬리브(214)는 상기 바디(204) 내부로 삽입될 수 있으며, 상기 제3 슬리브(214)와 상기 바디(204)의 돌출부(204A) 사이에는 제2 볼들(216) 및 상기 제2 볼들(216)을 수용하기 위한 다수의 제2 홀들(미도시)이 형성된 제2 리테이너(218)가 배치될 수 있다.In addition, the
한편, 상기 제1 및 제2 볼들(208, 216)에는 파티클 발생을 감소시키기 위하여 윤활유로서 액상 물질이 공급되는 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2 슬리브(206)에는 상기 메인 배관(120)으로부터 상기 공급 배관(110)으로 흐르는 처리액을 상기 제1 및 제2 볼들(208, 216)에 공급하기 위한 관통홀(206B)이 형성될 수 있으며, 상기 관통홀(206B)을 통해 상기 제1 및 제2 볼들(208, 216)에 공급되는 처리액은 파티클 발생을 감소시키는 윤활유로서 기능할 수 있다. 또한, 상기 바디(204)에는 상기 제1 및 제2 볼들(208, 216)에 공급된 처리액을 배출하기 위한 관통홀(204B)이 형성될 수 있다.Meanwhile, the first and
상술한 바에 의하면, 상기 제2 슬리브(206)는 상기 공급 배관(110)에 연결되어 상기 공급 배관(110)과 함께 회전, 예를 들면, 요동 운동할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 커플링(200)은 상기 제1 슬리브(202)와 제2 슬리브(206) 사이에 배치된 내측 슬리브(220)와, 상기 제2 슬리브(206)가 안정적으로 요동 운동할 수 있도록 상기 제2 슬리브(206)의 플랜지(206A)를 상기 제1 볼들(208)에 밀착시키기 위하여 상기 내측 슬리브(220)에 힘을 가하는 푸셔(222)를 더 포함할 수 있다.As described above, the
특히, 상기 제2 슬리브(206)의 단부에는 세라믹 재질로 이루어지는 슬리브 와셔(224)가 장착될 수 있으며, 상기 내측 슬리브(220)는 상기 슬리브 와셔(224)에 밀착되는 원형 링 형태의 돌출부(220A)를 가질 수 있다. 또한, 상기 푸셔(222)는 상기 제1 슬리브(202)에 장착될 수 있으며, 스프링의 탄성 복원력을 이용하여 상기 내측 슬리브(220)에 힘을 가할 수 있다. 특히, 상기 제1 슬리브(202)에는 상기 푸셔(222)가 삽입되는 홈이 형성될 수 있으며, 상기 홈 내부에는 상기 탄성 복원력을 제공하기 위한 코일 스프링(226)이 배치될 수 있다.In particular, a
또한, 상기 커플링(200)은 상기 내측 슬리브(220)가 상기 제2 슬리브(206)와 함께 회전되는 것을 방지하기 위하여 상기 내측 슬리브(220)를 관통하여 상기 제1 슬리브(202)에 결합되는 위치 고정 부재(228)를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 내측 슬리브(220)에는 도시된 바와 같이 관통홀이 구비될 수 있으며, 상기 위치 고정 부재(228)로서 사용되는 볼트가 상기 관통홀을 통하여 상기 제1 슬리브(202)에 결합될 수 있다.In addition, the
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 기판 상에 처리액을 공급하기 위한 다수의 노즐들을 갖고 요동 운동되는 공급 배관은 커플링을 통해 메인 배관에 연결될 수 있다. 여기서, 상기 커플링은 상기 메인 배관에 결합되는 제1 슬리브와 상기 공급 배관에 결합되는 제2 슬리브 및 상기 제2 슬리브를 감싸도록 상기 제1 슬리브에 결합되는 튜브 형태의 바디를 포함할 수 있으며, 상기 공급 배관과 제2 슬리브의 회전은 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들 및 상기 볼들의 상호 위치를 고정시키는 리테이너에 의해 가능하다.According to the embodiments of the present invention as described above, the supply pipe swinging with a plurality of nozzles for supplying the processing liquid on the substrate may be connected to the main pipe through the coupling. Here, the coupling may include a first sleeve coupled to the main pipe, a second sleeve coupled to the supply pipe, and a body in the form of a tube coupled to the first sleeve to surround the second sleeve. Rotation of the supply pipe and the second sleeve is possible by means of a plurality of balls disposed between the body and the second sleeve and a retainer for fixing the mutual positions of the balls.
상기와 같이 커플링 내에서 상기 리테이너에 의해 상기 볼들이 서로 접촉되는 것이 방지되므로 상기 볼들의 손상 또는 파손이 방지될 수 있으며, 또한 이에 따른 파티클 발생이 방지될 수 있다. 특히, 상기 제2 슬리브를 통하여 상기 볼들에 윤활유로서 기능할 수 있는 처리액이 공급될 수 있으므로, 상기 볼들의 마모에 따른 파티클 발생이 크게 감소될 수 있다.Since the balls are prevented from contacting each other by the retainer in the coupling as described above, damage or breakage of the balls can be prevented, and particle generation can be prevented accordingly. In particular, since the treatment liquid capable of functioning as lubricating oil can be supplied to the balls through the second sleeve, particle generation due to wear of the balls can be greatly reduced.
결과적으로, 상기 공급 배관의 요동 운동이 안정적으로 이루어질 수 있으며, 이에 따라 상기 기판의 처리 공정에서 불량 발생률이 크게 감소될 수 있다.As a result, the rocking motion of the supply pipe can be made stable, and accordingly, a defective occurrence rate can be greatly reduced in the processing process of the substrate.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims It can be understood that
10 : 기판 20 : 처리조
30 : 기판 이송 유닛 40 : 동력 전달 챔버
100 : 처리액 공급 장치 110 : 공급 배관
112 : 노즐 120 : 메인 배관
122 : 연결 배관 130 : 구동부
140 : 동력 전달부 200 : 커플링
202 : 제1 슬리브 204 : 바디
206 : 제2 슬리브 208, 216 : 볼
210, 218 : 리테이너 214 : 제3 슬리브
220 : 내측 슬리브 222 : 푸셔
224 : 슬리브 와셔 226 : 스프링
228 : 위치 고정 부재10: substrate 20: treatment tank
30
100: processing liquid supply device 110: supply piping
112: nozzle 120: main pipe
122: connection pipe 130: drive unit
140: power transmission unit 200: coupling
202: first sleeve 204: body
206:
210, 218: Retainer 214: Third Sleeve
220: inner sleeve 222: pusher
224: sleeve washer 226: spring
228 position fixing member
Claims (7)
상기 제1 배관과 연결된 제1 슬리브;
상기 제1 슬리브와 연결된 튜브 형태의 바디;
상기 바디 내부로 삽입되며 상기 제2 배관과 연결된 제2 슬리브;
상기 제2 배관이 회전 가능하도록 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들; 및
상기 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 볼들을 수용하는 다수의 홀들을 갖는 리테이너를 포함하며,
상기 바디의 내측에는 링 형태의 돌출부가 구비되며, 상기 바디 내부로 삽입되는 상기 제2 슬리브의 단부에는 플랜지가 구비되고, 상기 볼들은 상기 돌출부와 플랜지 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 커플링.In the coupling for connecting the first pipe and the second pipe,
A first sleeve connected to the first pipe;
A body in the form of a tube connected to said first sleeve;
A second sleeve inserted into the body and connected to the second pipe;
A plurality of balls disposed between the body and the second sleeve such that the second pipe is rotatable; And
A retainer having a plurality of holes for receiving the balls to prevent the balls from contacting each other,
The inner ring of the body is provided with a ring-shaped projection, the end of the second sleeve is inserted into the body is provided with a flange, the coupling is characterized in that the ball is disposed between the projection and the flange.
상기 제3 슬리브와 상기 바디의 돌출부 사이에 배치되는 다수의 제2 볼들; 및
상기 제2 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 제2 볼들을 수용하는 다수의 제2 홀들을 갖는 제2 리테이너를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 커플링.The apparatus of claim 1, further comprising: a third sleeve coupled to the other end of the second sleeve to be inserted into the body;
A plurality of second balls disposed between the third sleeve and the protrusion of the body; And
And a second retainer having a plurality of second holes for receiving the second balls to prevent the second balls from contacting each other.
상기 제1 슬리브와 제2 슬리브 사이에 배치되며 상기 슬리브 와셔와 접촉되는 원형 링 형태의 돌출부를 갖는 내측 슬리브; 및
상기 제1 슬리브에 장착되며 스프링의 탄성 복원력을 이용하여 상기 내측 슬리브의 돌출부가 상기 슬리브 와셔에 밀착되도록 상기 내측 슬리브에 힘을 가하는 푸셔를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 커플링.2. The sleeve of claim 1, further comprising: a sleeve washer mounted to an end of the second sleeve inserted into the body;
An inner sleeve disposed between the first sleeve and the second sleeve and having a round ring shaped protrusion in contact with the sleeve washer; And
And a pusher mounted on the first sleeve and applying a force to the inner sleeve such that the protrusion of the inner sleeve is in close contact with the sleeve washer using the elastic restoring force of the spring.
상기 메인 배관에 연결되어 상기 기판의 상부에서 상기 기판과 평행하게 연장하며 상기 기판 상으로 상기 처리액을 공급하기 위한 다수의 노즐들을 갖는 공급 배관;
상기 노즐들이 소정의 각도로 진자 운동하도록 상기 공급 배관을 요동 운동시키는 구동부; 및
상기 공급 배관을 상기 메인 배관에 연결하는 커플링을 포함하며,
상기 커플링은, 상기 메인 배관과 연결된 제1 슬리브와, 상기 제1 슬리브와 연결된 튜브 형태의 바디와, 상기 바디 내부로 삽입되며 상기 공급 배관과 연결된 제2 슬리브와, 상기 공급 배관이 회전 가능하도록 상기 바디와 상기 제2 슬리브 사이에 배치되는 다수의 볼들, 및 상기 볼들이 서로 접촉되는 것을 방지하기 위하여 상기 볼들을 수용하는 다수의 홀들을 갖는 리테이너를 포함하며,
상기 바디의 내측에는 링 형태의 돌출부가 구비되며, 상기 바디 내부로 삽입되는 상기 제2 슬리브의 단부에는 플랜지가 구비되고, 상기 볼들은 상기 돌출부와 플랜지 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 장치.A main pipe for supplying a processing liquid for processing a substrate;
A supply piping connected to the main piping and extending in parallel with the substrate at an upper portion of the substrate and having a plurality of nozzles for supplying the treatment liquid onto the substrate;
A drive unit oscillating the supply pipe so that the nozzles pendulum at a predetermined angle; And
A coupling connecting the supply pipe to the main pipe,
The coupling may include a first sleeve connected to the main pipe, a body in the form of a tube connected to the first sleeve, a second sleeve inserted into the body and connected to the supply pipe, and the supply pipe rotatable. A retainer having a plurality of balls disposed between the body and the second sleeve, and a plurality of holes for receiving the balls to prevent the balls from contacting each other,
A protruding portion having a ring shape is provided inside the body, and a flange is provided at an end portion of the second sleeve inserted into the body, and the balls are disposed between the protruding portion and the flange. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100001251A KR101116658B1 (en) | 2010-01-07 | 2010-01-07 | Coupling and apparatus for supplying a processing liquid including the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100001251A KR101116658B1 (en) | 2010-01-07 | 2010-01-07 | Coupling and apparatus for supplying a processing liquid including the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110080837A KR20110080837A (en) | 2011-07-13 |
KR101116658B1 true KR101116658B1 (en) | 2012-03-07 |
Family
ID=44919680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100001251A KR101116658B1 (en) | 2010-01-07 | 2010-01-07 | Coupling and apparatus for supplying a processing liquid including the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101116658B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102354890B1 (en) * | 2014-12-15 | 2022-01-25 | 주식회사 케이씨텍 | Oscillating type nozzle device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001065760A (en) * | 1999-08-23 | 2001-03-16 | Rix Corp | Bearing structure of rotary joint |
-
2010
- 2010-01-07 KR KR1020100001251A patent/KR101116658B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001065760A (en) * | 1999-08-23 | 2001-03-16 | Rix Corp | Bearing structure of rotary joint |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20110080837A (en) | 2011-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6012192A (en) | Substrate processing apparatus | |
TWI407522B (en) | Cleaning module for a substrate and apparatus for processing a substrate having the same | |
TWI416646B (en) | Device and method for cleansing a substrate | |
CN213944244U (en) | Cleaning equipment for quartz tube | |
JP2015118969A (en) | Substrate transport apparatus and substrate processing apparatus | |
KR101280340B1 (en) | Apparatus for treating substrates | |
KR101116658B1 (en) | Coupling and apparatus for supplying a processing liquid including the same | |
CN116099785A (en) | Wafer cleaning device and wafer processing equipment | |
KR20130055523A (en) | Substrate transporting apparatus and substrate treating apparatus | |
KR101116654B1 (en) | Module for transferring a substrate and apparatus for processing a substrate including the same | |
KR20230047021A (en) | Cleaning apparatus | |
KR20100000292A (en) | Nozzle unit and wafer cleaning apparatus having the same | |
TW200824030A (en) | Transfer roller and substrate transfer apparatus | |
JP2009081224A (en) | Sheet type washing device | |
KR20110072031A (en) | Apparatus for cleaning a substrate | |
CN210788334U (en) | Substrate cleaning head and substrate cleaning device | |
JP6379540B2 (en) | Cleaning device and cleaning method | |
KR20110080816A (en) | Module for supplying processing liquid and apparatus for processing a substrate including the same | |
CN101441989B (en) | Device for processing substrate | |
KR20070003216A (en) | Apparatus for cleaning semiconductor wafer | |
KR102278073B1 (en) | Apparatus for treating substrate | |
KR101097932B1 (en) | Spray Device of chemical liquid and substrate processing apparatus having the same | |
KR100592960B1 (en) | Transfer Device for Semi-conductor Manufacture Device | |
KR102223760B1 (en) | Unit for suppying fluid and substrate processing apparatus using the same | |
KR20110081507A (en) | Disk unit for cleaning a substrate and cleaning apparatus having the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150202 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160129 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170202 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180205 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190208 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200204 Year of fee payment: 9 |