KR101116506B1 - Organic matrices containing nanomaterials to enhance bulk thermal conductivity - Google Patents
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Abstract
본 발명은 중합체 매트릭스와 블렌딩된 나노입자를 함유하는 열 계면 조성물에 관한 것이다. 이런 조성물은 열 계면 물질 및 상응하는 짝을 이루는 표면 사이에 존재하는 열 계면 저항을 감소시킬 뿐 아니라, 중합체성 복합체의 벌크 열 전도성을 증가시킨다. 나노입자를 함유하는 배합물은 또한 나노입자가 없는 배합물에 비해 마이크론 크기의 입자의 상 분리가 더 적음을 보여준다. 특정 실시양태에서, 열 계면 조성물(2)은 열 생성 요소(3)와 열 싱크 사이에 위치한다.
The present invention relates to thermal interface compositions containing nanoparticles blended with a polymer matrix. Such compositions not only reduce the thermal interface resistance present between the thermal interface material and the corresponding mating surface, but also increase the bulk thermal conductivity of the polymeric composite. Formulations containing nanoparticles also show less phase separation of micron-sized particles compared to formulations without nanoparticles. In a particular embodiment, the thermal interface composition 2 is located between the heat generating element 3 and the heat sink.
Description
본 발명은 중합체 매트릭스의 열 전도성을 증가시키는 나노입자의 이용에 관한 것이다.The present invention relates to the use of nanoparticles to increase the thermal conductivity of a polymer matrix.
많은 전기 부품은 작동 기간동안에 열을 발생한다. 이 열이 효율적인 방식으로 전기 부품으로부터 제거되지 않을 경우, 이는 축적될 것이다. 이런 경우 전기 부품에 대한 고장이나 영구적인 손상이 발생할 수 있다. 따라서, 작동 기간동안 열 제거를 촉진시키는 열 관리 기법이 종종 전기 회로 및 시스템에서 실시된다. Many electrical components generate heat during their operation. If this heat is not removed from the electrical component in an efficient manner, it will accumulate. This can lead to failure or permanent damage to the electrical components. Thus, thermal management techniques that promote heat removal during operation are often implemented in electrical circuits and systems.
열 관리 기법은 종종 전기 시스템의 고온 영역으로부터 열을 전도시키는 일부 형태의 열 싱크의 이용을 포함한다. 열 싱크는 열 제거를 돕기 위해 전기 부품과 기계적으로 커플링된 높은 열 전도성 물질(예를 들면 전형적으로 금속)로 형성된 구조체이다. 비교적 단순한 형태로, 열 싱크는 작동되는 동안 전기 회로와 접촉하는 한 조각의 금속(예를 들면 알루미늄 또는 구리)을 포함할 수 있다. 전기 회로에서 나온 열은 유니트들 사이의 기계적인 계면을 통해 열 싱크로 흘러간다. Heat management techniques often involve the use of some form of heat sink to conduct heat from the high temperature region of the electrical system. A heat sink is a structure formed of a high thermally conductive material (eg, typically metal) that is mechanically coupled with an electrical component to aid in heat removal. In a relatively simple form, the heat sink may comprise a piece of metal (eg aluminum or copper) that contacts the electrical circuit during operation. Heat from the electrical circuits flows into the heat sink through the mechanical interface between the units.
전형적인 전기 부품에서, 열 싱크의 평평한 표면을 전기 부품의 평평한 표면에 위치시키고, 일부 형태의 접착제 또는 패스너를 이용하여 열 싱크를 제자리에 유지시킴으로써 작동중에 열 생성 요소에 열 싱크를 기계적으로 커플링시킨다. 알 수 있는 바와 같이 열 싱크의 표면 및 상기 요소의 표면이 완벽하게 평면이거나 매끄러운 경우는 거의 없어서 일반적으로 공기 간극이 표면들 사이에 존재할 것이다. 일반적으로 잘 알려진 바와 같이, 2개의 마주보는 표면들 사이의 공기 간극의 존재는 열이 표면들 사이의 계면을 통해 전달되는 능력을 감소시킨다. 따라서, 이들 공기 간극은 열 관리 장치로서 열 싱크의 효율성과 가치를 감소시킨다. 이 문제를 해결하기 위해서, 열 전달 표면들 사이에 배치하여 이들 사이에 존재하는 열 저항을 감소시키기 위한 중합체 조성물이 개발되어 왔다. 현재의 열 계면 물질의 벌크 열 전도성은 중합체 매트릭스의 낮은 열 전도성(열 계면 물질 또는 TIM에서 전형적으로 발견되는 중합체의 경우 약 0.2W/m?K)에 의해 크게 제한된다. 일부 평가("Thermally Conductive Polymer Compositions", D. M. Bigg., Polymer Composites, June 1986, Vol. 7, No. 3)에 의하면, 전기적 절연 중합체 복합체에 의해 달성가능한 최대 벌크 열 전도성은 기본 중합체 매트릭스의 단지 20 내지 30배이다. 이 수치는, 일단 충진제의 열 전도성이 기본 중합체 매트릭스의 100배를 초과하면, 충진제 유형과는 무관하게 거의 변화하지 않는다. 결론적으로, 중합체 물질의 열 전도성은 열 싱크의 열 전도성에 비해 낮아서, 열 생산 요소로부터 열 싱크까지의 열 전달이 비효율적이 되게 한다. 또한, 효과적인 열 전달 능력은 1) 마이크로 또는 나노 공극, 및 2) 충진제 침강 또는 충진제 크기보다 더 작은 표면 불규칙 부위로 마이크론 크기의 충진제가 침투할 수 없음에 의해 야기되는 충진제가 없는 층으로 인한 계면간 불완전성에 의해 더욱 감소된다. In a typical electrical component, the flat surface of the heat sink is placed on the flat surface of the electrical component and mechanically couples the heat sink to the heat generating element during operation by holding the heat sink in place with some form of adhesive or fastener. . As can be seen, the surface of the heat sink and the surface of the element are rarely perfectly planar or smooth so that an air gap will generally be present between the surfaces. As is generally well known, the presence of an air gap between two opposing surfaces reduces the ability of heat to pass through the interface between the surfaces. Thus, these air gaps reduce the efficiency and value of the heat sink as a heat management device. To solve this problem, polymer compositions have been developed for placement between heat transfer surfaces to reduce the thermal resistance present between them. The bulk thermal conductivity of current thermal interface materials is greatly limited by the low thermal conductivity of the polymer matrix (about 0.2 W / m? K for thermal interface materials or polymers typically found in TIMs). According to some evaluations ("Thermally Conductive Polymer Compositions", DM Bigg., Polymer Composites, June 1986, Vol. 7, No. 3), the maximum bulk thermal conductivity achievable by electrically insulating polymer composites is only 20% of the base polymer matrix. To 30 times. This figure rarely changes, regardless of the type of filler, once the filler's thermal conductivity exceeds 100 times the base polymer matrix. In conclusion, the thermal conductivity of the polymeric material is low compared to the thermal conductivity of the heat sink, making the heat transfer from the heat producing element to the heat sink inefficient. In addition, the effective heat transfer capacity is inter-interface due to 1) micro or nano voids and 2) filler-free layers caused by the inability to penetrate micron-sized fillers into filler irregularities or surface irregularities smaller than filler size. Further reduced by imperfection.
따라서, 열 싱크와 열 생산 요소사이에 열을 효과적으로 전달하기 위한 개선된 조성물에 대한 필요성이 존재한다.Accordingly, there is a need for improved compositions for effectively transferring heat between heat sinks and heat producing elements.
발명의 개요Summary of the Invention
본 발명에 따른 열 계면 조성물은, 유기 매트릭스에 블렌딩되는 하나 이상의 유기-작용기에 의해 작용화된 나노입자를 함유한다. 특정 실시양태에서, 열 계면 조성물은 또한 마이크론 크기의 충진제 입자를 포함한다. The thermal interface composition according to the present invention contains nanoparticles functionalized by one or more organic-functional groups blended into the organic matrix. In certain embodiments, the thermal interface composition also includes filler particles of micron size.
유기 매트릭스와 블렌딩되는 유기-작용화된 나노입자를 함유하는 열 계면 조성물과 각각 접촉하는 열 싱크 또는 열 스프레드 및 열 생성 요소를 포함하는 전기 부품 또한 본원에 개시되어 있다. Also disclosed herein is an electrical component comprising a heat sink or heat spread and heat generating element in contact with a thermal interface composition containing organic-functionalized nanoparticles blended with an organic matrix, respectively.
본 발명에 따라 열 전달 효율을 증가시키는 방법은 열 생성 요소와 열 싱크 또는 열 스프레드 사이에 유기 매트릭스와 블렌딩된 유기-작용화된 나노입자를 함유하는 열 계면 조성물을 삽입시키는 단계를 포함한다. The method of increasing the heat transfer efficiency according to the present invention comprises inserting a thermal interface composition containing organic-functionalized nanoparticles blended with an organic matrix between a heat generating element and a heat sink or heat spread.
도 1은 본 발명에 따른 전기 부품의 대표적인 도식도이다. 1 is a representative schematic diagram of an electrical component according to the present invention.
본 발명은 유기 매트릭스와 블렌딩된 작용화된 나노입자를 함유하는 열 계면 조성물을 제공한다. 나노입자는 매트릭스에 공유 결합되거나, 비-공유 결합력을 통해 매트릭스를 통해 분산될 수 있다. 본 발명에 따라 나노입자를 함유하는 매트릭스는 나노입자가 없는 매트릭스보다 더 높은 열 전도성을 가질 것이다. 따라서, 작용화된 나노입자는 매트릭스의 벌크 열 전도성을 증가시키면서, 가공 및 조작을 용이하게 하는 점도를 유지시킨다. The present invention provides a thermal interface composition containing functionalized nanoparticles blended with an organic matrix. Nanoparticles can be covalently bonded to the matrix, or dispersed through the matrix through non-covalent forces. In accordance with the present invention the matrix containing nanoparticles will have a higher thermal conductivity than the matrix without nanoparticles. Thus, functionalized nanoparticles increase the bulk thermal conductivity of the matrix while maintaining a viscosity that facilitates processing and manipulation.
이후에 개시되는 특정 실시양태에 따른, 마이크론 크기의 충진제 및 나노입자를 함유하는 유기 매트릭스로 구성된 중합체성 복합체는 마이크론 크기의 충진제와 유기 매트릭스만의 비교 블렌드에 비해 더 높은 열 전도성을 달성할 수 있다. 이는 더 높은 최대 달성가능한 벌크 열 전도성을 허용하게 한다. 또한, 나노입자는, 마이크론 크기의 충진제가 접근할 수 없는 표면 공극 및 불규칙 부위로 침투할 수 있어서, 계면 저항 효과를 감소시킨다. According to certain embodiments disclosed hereinafter, polymeric composites composed of micron-sized fillers and organic matrices containing nanoparticles can achieve higher thermal conductivity compared to comparative blends of micron-sized fillers and organic matrices alone. . This allows for higher maximum achievable bulk thermal conductivity. In addition, nanoparticles can penetrate into surface voids and irregular areas that are inaccessible to micron sized fillers, thereby reducing the interfacial resistance effect.
중합체 매트릭스에서의 증가된 열 전도성은 또한, 충진제 침강이 일어나고 후속적으로 "스킨 층"(마이크로 충진제가 거의 내지는 전혀 없는 층)이 나타나는 경우 계면 저항을 감소시킨다는 점에서 유리하다. 스킨 층이 일반적으로 달성할 수 있는 것보다 더 높은 열 전도성을 갖는다면, 열 전달의 감소가 훨씬 덜 심할 것이다. 나노입자의 혼입의 추가의 이점은 이들 작은 입자가 마이크론 크기의 충진제의 침강을 방지하거나 침강 속도를 감소시킬 수 있어, 계면 물질에 충진제가 없는 층이 형성되는 경향을 감소시킨다는 것이다. Increased thermal conductivity in the polymer matrix is also advantageous in that it reduces the interfacial resistance when filler settling occurs and subsequently a "skin layer" (a layer with little or no microfiller) appears. If the skin layer has a higher thermal conductivity than can usually be achieved, the reduction in heat transfer will be much less severe. A further advantage of the incorporation of nanoparticles is that these small particles can prevent or reduce the sedimentation rate of micron sized fillers, thereby reducing the tendency for filler-free layers to form in the interface material.
작용화될 수 있고, 유기 매트릭스보다 더 높은 열 전도성을 갖는 임의의 나노입자를 사용하여 본 발명의 조성물을 제조할 수 있다. 적합한 나노입자는 콜로이드성 실리카, 다면체 올리고머성 실세퀴옥산("POSS"), 나노 크기의 금속 옥사이드(예를 들면 알루미나, 티타니아, 지르코니아), 나노 크기의 금속 나이트라이드(예를 들면 보론 나이트라이드, 알루미늄 나이트라이드) 및 나노 금속 입자(예를 들면 은, 금 또는 구리 나노입자)를 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. 특히 유용한 실시양태에서, 상기 나노입자는 유기-작용화된 POSS 물질 또는 콜로이드성 실리카이다. 콜로이드성 실리카는 수용액 또는 다른 용매 매질중의 마이크론 미만 크기의 실리카(SiO2) 입자의 분산액으로 존재한다. 콜로이드성 실리카는 약 85중량% 이하의 이산화규소(SiO2), 전형적으로 약 80중량% 이하의 이산화규소를 함유한다. 콜로이드성 실리카의 입자 크기는 전형적으로 약 1nm 내지 약 250nm, 보다 전형적으로 약 5nm 내지 약 150nm이다. Any nanoparticle that can be functionalized and has a higher thermal conductivity than the organic matrix can be used to prepare the compositions of the present invention. Suitable nanoparticles include colloidal silica, polyhedral oligomeric silsesquioxanes (“POSS”), nano-sized metal oxides (eg alumina, titania, zirconia), nano-sized metal nitrides (eg boron nitride, Aluminum nitride) and nano metal particles (eg silver, gold or copper nanoparticles), but are not limited to these. In particularly useful embodiments, the nanoparticles are organic-functionalized POSS materials or colloidal silica. Colloidal silica is present as a dispersion of submicron sized silica (SiO 2 ) particles in an aqueous solution or other solvent medium. Colloidal silica contains up to about 85 weight percent silicon dioxide (SiO 2 ), typically up to about 80 weight percent silicon dioxide. The particle size of the colloidal silica is typically about 1 nm to about 250 nm, more typically about 5 nm to about 150 nm.
나노입자는 유기 매트릭스와의 상용성을 증가시키기 위해 작용화된다. 따라서, 나노입자에 첨가되는 작용기의 정확한 화학적 성질은 선택되는 특정한 나노입자의 화학적 성질 및 매트릭스의 화학적 구성을 포함하는 다양한 인자에 의존할 것이다. 또한, 작용기는 반응성이거나, 비 반응성이거나, 이들 둘의 조합일 수 있다. 반응성 작용기는 나노입자가 분산되어 있는 유기 매트릭스나 최종 조성물이 분배될 짝을 이루는 표면중 하나와 반응할 수 있는 것이다. 후속적인 화학적 반응은 공유 결합을 통해 나노입자를 유기 매트릭스 또는 짝을 이루는 표면에 결합시킬 것이다. 적합한 작용화제는 알킬, 알케닐, 알키닐, 실릴, 실록실, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 에폭사이드, 아릴, 하이드라이드, 아미노, 하이드록실 및 다른 작용기를 함유하는 유기알콕시실란, 유기클로로실란, 유기아세테이트 실란 및 유기실라잔을 포함한다. 나노입자에 작용기를 첨가하는 반응식은 당 분야의 숙련자가 알고 있는 범위 이내이다. 작용화된 나노입자는 유리하게는 유기 매트릭스와의 조합을 용이하게 하기 위해 상용성 용매중의 분산액으로 제조된다. 특히 유용한 분산액은 20 내지 50%의 고형분 함량을 갖지만, 분산액이 부어지거나 흐를 수 있게 하는 임의의 고형분 함량을 사용할 수 있다. Nanoparticles are functionalized to increase compatibility with organic matrices. Thus, the exact chemical nature of the functional groups added to the nanoparticles will depend on various factors including the chemical nature of the particular nanoparticles selected and the chemical composition of the matrix. In addition, the functional group may be reactive, non-reactive, or a combination of both. Reactive functional groups are those that can react with either the organic matrix in which the nanoparticles are dispersed or with the mating surface to which the final composition is to be dispensed. Subsequent chemical reactions will bind the nanoparticles to the organic matrix or mating surface via covalent bonds. Suitable functionalizing agents are organoalkoxysilanes, organochlorosilanes containing alkyl, alkenyl, alkynyl, silyl, siloxane, acrylate, methacrylates, epoxides, aryls, hydrides, amino, hydroxyl and other functional groups, Organoacetate silane and organosilazane. Schemes for adding functional groups to nanoparticles are within the range known to those skilled in the art. Functionalized nanoparticles are advantageously prepared in dispersions in compatible solvents to facilitate combination with the organic matrix. Particularly useful dispersions have a solids content of 20-50%, but any solids content can be used that allows the dispersion to be poured or flowed.
특히 유용한 실시양태에서는, 작용화된 나노입자는 유기작용화된 POSS 물질 또는 유기알콕시실란에 의해 작용화된 콜로이드성 실리카이다. In a particularly useful embodiment, the functionalized nanoparticles are colloidal silica functionalized with an organofunctionalized POSS material or organoalkoxysilane.
콜로이드성 실리카를 작용화시키는데 사용되는 유기알콕시실란은 하기 일반식에 포함된다:Organoalkoxysilanes used to functionalize colloidal silica are included in the general formula:
(R1)aSi(OR2)4-a (R 1 ) a Si (OR 2 ) 4-a
상기 식에서,Where
R1은 각각의 경우 독립적으로, 선택적으로 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트, 에폭사이드, 비닐, 알릴, 스티렌, 실릴 또는 실록실 기 또는 C6-14 아릴 라디칼에 의해 추가로 작용화될 수 있는 C1-18 1가 탄화수소 라디칼이고,R 1 , independently at each occurrence, may optionally be further functionalized by alkyl acrylate, alkyl methacrylate, epoxide, vinyl, allyl, styrene, silyl or siloxane groups or C 6-14 aryl radicals C 1-18 monovalent hydrocarbon radical,
R2는 각각의 경우 독립적으로, C1-18 1가 탄화수소 라디칼 또는 수소 라디칼이고,R 2 is independently at each occurrence a C 1-18 monovalent hydrocarbon radical or hydrogen radical,
"a"는 1 내지 3(이들을 포함하는)의 정수이다. "a" is an integer of 1 to 3 (including these).
바람직하게는 본 발명에 포함되는 유기알콕시실란은 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란, 3-글리시독시프로필트라이메톡시실란, 페닐트라이메톡시실란, 메타크릴옥시프로필트라이메톡시실란(MAPTMS), 1-헥세닐 트라이에톡시실란, n-옥틸트라이에톡시 실란, n-도데실 트라이에톡시실란 및 2-(3-비닐-테트라메틸 다이실록실)-에틸 트라이메톡시실란이다. 작용기의 조합이 가능하다. 전형적으로, 유기알콕시실란은 콜로이드성 실리카에 함유되는 이산화규소의 총 중량을 기준으로 약 2중량% 내지 약 60중량%의 범위로 존재한다. 생성된 유기작용화된 콜로이드성 실리카는, pH를 중화시키기 위한 산이나 염기로 처리된다. 실란올 및 알콕시실란 기의 축합을 촉진시키는 다른 촉매 뿐 아니라, 산이나 염기를 또한 이용하여 작용화 과정을 도울 수 있다. 이런 촉매는 유기-티탄 및 유기-주석 화합물, 예를 들면 테트라부틸 티타네이트, 티탄 아이소프로폭시비스(아세틸아세토네이트), 다이부틸주석 다이라우레이트, 다이부틸-주석 다이아세테이트 또는 이의 조합을 포함한다. Preferably, the organoalkoxysilane included in the present invention is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methacryloxypropyl Trimethoxysilane (MAPTMS), 1-hexenyl triethoxysilane, n-octyltriethoxy silane, n-dodecyl triethoxysilane and 2- (3-vinyl-tetramethyl disiloxane) -ethyl Trimethoxysilane. Combinations of functional groups are possible. Typically, the organoalkoxysilane is present in the range of about 2% to about 60% by weight based on the total weight of silicon dioxide contained in the colloidal silica. The resulting organofunctionalized colloidal silica is treated with acid or base to neutralize pH. Acids or bases may also be used to aid in the functionalization process, as well as other catalysts that promote condensation of silanol and alkoxysilane groups. Such catalysts include organo-titanium and organo-tin compounds such as tetrabutyl titanate, titanium isopropoxybis (acetylacetonate), dibutyltin dilaurate, dibutyl-tin diacetate or combinations thereof .
콜로이드성 실리카의 작용화는 유기알콕시실란 작용화제를 상기 개시된 중량 비로 시판되는 콜로이드성 실리카의 수성 분산액에 첨가하고, 여기에 지방족 알콜을 첨가함으로써 수행될 수 있다. 지방족 알콜중의 작용화된 콜로이드성 실리카 및 유기알콕시실란 작용화제를 포함하는 생성된 조성물은 본원에서 예비-분산액으로 정의된다. 적합한 지방족 알콜은 아이소프로판올, t-부탄올, 2-부탄올, 1-메톡시-2-프로판올 및 이의 조합을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. 지방족 알콜의 양은 전형적으로 수성 콜로이드성 실리카 예비-분산액중에 존재하는 이산화규소의 양의 약 1 배 내지 약 25배의 범위이다. 일부 경우, 4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐옥시(즉, 4-하이드록시 TEMPO)와 같은 안정화제를 예비 분산액에 첨가할 수 있다. 일부 경우, 소량의 산 또는 염기를 첨가하여 투명한 예비 분산액의 pH를 조절할 수 있다. Functionalization of the colloidal silica can be carried out by adding an organoalkoxysilane functionalizing agent to an aqueous dispersion of colloidal silica commercially available at the weight ratios disclosed above, and adding an aliphatic alcohol thereto. The resulting composition comprising functionalized colloidal silica and organoalkoxysilane functionalizing agent in aliphatic alcohol is defined herein as a pre-dispersion. Suitable aliphatic alcohols include, but are not limited to, isopropanol, t-butanol, 2-butanol, 1-methoxy-2-propanol and combinations thereof. The amount of aliphatic alcohol typically ranges from about 1 to about 25 times the amount of silicon dioxide present in the aqueous colloidal silica pre-dispersion. In some cases, stabilizers such as 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidinyloxy (ie, 4-hydroxy TEMPO) may be added to the predispersion. In some cases, a small amount of acid or base may be added to adjust the pH of the clear predispersion.
생성된 예비 분산액을 전형적으로 약 50℃ 내지 약 140℃의 범위에서 약 1시간 내지 약 5시간의 범위의 기간동안 가열하여 알콕시실란과 콜로이드성 실리카 표면상의 OH기와의 축합을 촉진시키고, 콜로이드성 실리카의 작용화를 달성하였다. The resulting predispersion is typically heated in a range from about 50 ° C. to about 140 ° C. for a period ranging from about 1 hour to about 5 hours to promote condensation of the alkoxysilane with OH groups on the surface of the colloidal silica, and colloidal silica. Functionalization was achieved.
작용화된 나노입자를 유기 매트릭스와 조합하여 본 발명의 조성물을 형성한다. 유기 매트릭스는 임의의 중합체 물질일 수 있다. 적합한 유기 매트릭스는 폴리다이메틸실록산 수지, 에폭시 수지, 아크릴레이트 수지, 다른 유기-작용화된 폴리실록산 수지, 폴리이미드 수지, 불화탄소 수지, 벤조사이클로부텐 수지, 불소화된 폴리알릴 에터, 폴리아미드 수지, 폴리이미도아미드 수지, 페놀 레졸 수지, 방향족 폴리에스터 수지, 폴리페닐렌 에터(PPE) 수지, 비스말레이미드 트라이아진 수지, 불화수지 및 당 분야의 숙련자들에게 공지된 임의의 다른 중합체 시스템을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다 (흔한 중합체의 경우, 문헌["Polymer Handbook:, Branduf, J.,; Immergut, E. H; Grulke, Eric A; Wiley Interscience Publication, New York, 4th ed. (1999)]; ["Polymer Data Handbook Mark, James Oxford University Press, New York (1999)]을 참고할 수 있다). 바람직한 경화성 열경화성 매트릭스는 아크릴레이트 수지, 에폭시 수지, 폴리다이메틸 실록산 수지, 및 유리 라디칼 중합, 원자 전달, 라디칼 중합 개환 중합, 개환 복분해 중합, 음이온성 중합, 양이온성 중합 또는 당 분야에 숙련된 이들에게 공지된 임의의 다른 방법에 의해 가교결합 네트워크를 형성할 수 있는 임의의 다른 유기-작용화된 폴리실록산 수지이다. 적합한 경화성 실리콘 수지는 예를 들면 문헌["Chemistry and Technology of Silicone", Noll, W. ; Academic Press 1968]에 개시된 바와 같은 부가 경화성 및 축합 경화성 매트릭스를 포함한다. 중합체 매트릭스가 경화성 중합체가 아닌 경우, 생성된 열 계면 조성물은 제조 동안 요소들을 함께 유지시키고 장치의 작동 동안 열을 전달하는 겔, 그리스 또는 상 변화 물질로서 배합될 수 있다. 특히 유용한 실시양태에서, 유기 매트릭스는 작용화되어, 작용화된 나노입자와의 상용성을 향상시킨다. The functionalized nanoparticles are combined with an organic matrix to form the compositions of the present invention. The organic matrix can be any polymeric material. Suitable organic matrices include polydimethylsiloxane resins, epoxy resins, acrylate resins, other organic-functionalized polysiloxane resins, polyimide resins, fluorocarbon resins, benzocyclobutene resins, fluorinated polyallyl ethers, polyamide resins, poly Imidoamide resins, phenol resol resins, aromatic polyester resins, polyphenylene ether (PPE) resins, bismaleimide triazine resins, fluororesins and any other polymer systems known to those skilled in the art, Not limited (for common polymers, see Polymer Handbook :, Branduf, J .; Immergut, E. H; Grulke, Eric A; Wiley Interscience Publication, New York, 4th ed. (1999)); "Polymer Data Handbook Mark, James Oxford University Press, New York (1999)". Preferred curable thermosetting matrices are acrylate resins, epoxy resins, polydimethyl siloxane resins, and free radical polymerization, atom transfer, radical polymerization ring-opening polymerization, ring-opening metathesis polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization or those skilled in the art. Any other organic-functionalized polysiloxane resin capable of forming a crosslinking network by any other known method. Suitable curable silicone resins are described, for example, in "Chemistry and Technology of Silicone", Noll, W .; Addition curable and condensation curable matrices as disclosed in Academic Press 1968. If the polymer matrix is not a curable polymer, the resulting thermal interface composition may be formulated as a gel, grease or phase change material that holds the elements together during manufacture and transfers heat during operation of the device. In particularly useful embodiments, the organic matrix is functionalized to improve compatibility with functionalized nanoparticles.
작용화된 나노입자의 유기 매트릭스와의 조합을 용이하게 하기 위해서, 하나 이상의 용매를 조성물에 선택적으로 첨가할 수 있다. 적합한 지방족 용매는 아이소프로판올, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필 아세테이트, 톨루엔, 자일렌, n-메틸 피롤리돈, 다이클로로벤젠 및 이의 조합을 포함하지만, 이로 제한되지는 않는다. In order to facilitate the combination of the functionalized nanoparticles with the organic matrix, one or more solvents may be optionally added to the composition. Suitable aliphatic solvents include, but are not limited to, isopropanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, toluene, xylene, n-methyl pyrrolidone, dichlorobenzene and combinations thereof It doesn't work.
작용화된 나노입자가 유기 매트릭스와 조합되는 방식은 중요하지 않다. 나노입자가 예비-분산액으로 배합되는 경우, 유기 매트릭스 및 선택적인 용매는 예비-분산액에 첨가될 수 있다. The manner in which the functionalized nanoparticles are combined with the organic matrix is not critical. If the nanoparticles are formulated in a pre-dispersion, the organic matrix and optional solvent can be added to the pre-dispersion.
조성물을 산 또는 염기, 또는 이온 교환 수지로 처리하여 산성 또는 염기성 불순물을 제거할 수 있다. 상기 조성물을 유리하게는 약 0.5토르 내지 약 250토르의 범위의 진공 및 약 20℃ 내지 약 140℃의 범위의 온도로 처리하여 임의의 저 비등 성분, 예를 들면 용매, 잔류 물 및 이의 조합을 실질적으로 제거할 수 있다. 결과는, 본원에서 최종 분산액으로 언급되는, 유기 매트릭스 중의 작용화된 나노입자의 분산액이다. 본원에서, 저 비등 성분의 실질적 제거란 저 비등 성분의 총 양의 약 90% 이상의 제거로 정의된다. The composition can be treated with an acid or a base or an ion exchange resin to remove acidic or basic impurities. The composition is advantageously treated with a vacuum in the range of about 0.5 Torr to about 250 Torr and a temperature in the range of about 20 ° C. to about 140 ° C. to substantially remove any low boiling components such as solvents, residues and combinations thereof. Can be removed with The result is a dispersion of functionalized nanoparticles in an organic matrix, referred to herein as the final dispersion. Substantially removing the low boiling component herein is defined as removing at least about 90% of the total amount of the low boiling component.
선택적으로, 작용화된 콜로이드성 실리카의 예비-분산액 또는 최종 분산액은 추가로 작용화될 수 있다. 저 비등 성분은 적어도 부분적으로 제거되고, 그런 다음, 작용화된 콜로이드성 실리카의 잔류 하이드록시 작용기와 반응할 적절한 캡핑제를 예비-분산액 또는 최종 분산액에 존재하는 이산화규소의 양의 약 0.05배 내지 약 10배의 범위의 양으로 첨가한다. 본원에서 사용되는 저 비등 성분의 부분적인 제거는 저 비등 성분의 총 양의 약 10% 이상, 바람직하게는 저 비등 성분의 총 양의 약 50% 이상의 제거를 의미한다. 캡핑된 작용화된 콜로이드성 실리카는 캡핑제와의 반응에 의해 작용화된 총 조성물에 존재하는 유리 하이드록실 기의 10% 이상, 바람직하게는 20% 이상, 보다 바람직하게는 35% 이상을 갖는 것으로 정의된다. 작용화된 콜로이드성 실리카를 효과적으로 캡핑하면 일부 경우 최종 분산액의 실온 안정성을 개선시킬 수 있다. Optionally, the pre-dispersion or final dispersion of the functionalized colloidal silica can be further functionalized. The low boiling component is at least partially removed and then a suitable capping agent to react with the residual hydroxy functional groups of the functionalized colloidal silica is about 0.05 times to about the amount of silicon dioxide present in the pre-dispersion or final dispersion. Add in amounts of 10 times the range. Partial removal of the low boiling component as used herein means removal of at least about 10% of the total amount of the low boiling component, preferably at least about 50% of the total amount of the low boiling component. The capped functionalized colloidal silica is said to have at least 10%, preferably at least 20%, more preferably at least 35% of the free hydroxyl groups present in the total composition functionalized by reaction with the capping agent. Is defined. Effective capping of the functionalized colloidal silica can in some cases improve the room temperature stability of the final dispersion.
바람직한 캡핑제는 하이드록실 반응성 물질, 예를 들면 실릴화제를 포함한다. 실릴화제의 예는 헥사메틸다이실라잔(HMDZ), 테트라메틸다이실라잔, 다이비닐테트라메틸다이실라잔, 다이페닐테트라메틸다이실라잔, N-(트라이메틸실릴)다이에틸아민, 1-(트라이메틸실릴)이미다졸, 트라이메틸클로로실란, 펜타메틸클로로다이실록산, 펜타메틸다이실록산 및 이의 조합을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. 그런 다음 최종 분산액을 약 20℃ 내지 약 140℃의 범위에서 약 0.5시간 내지 약 48시간의 기간동안 가열한다. 그런 다음, 생성된 혼합물을 여과한다. 예비-분산액을 캡핑제와 반응시킬 경우, 하나 이상의 유기 매트릭스 조성물을 첨가하여 최종 분산액을 첨가한다. 유기 물질중의 작용화된 콜로이드성 실리카의 혼합물을 약 0.5토르 내지 약 250토르의 범위의 압력에서 농축하여 최종 농축된 분산액을 형성한다. 이 과정 동안, 더 낮은 비등 성분, 예를 들면 용매, 잔류 물, 캡핑제와 하이드록실 기의 부산물, 과다한 캡핑제 및 이의 조합이 실질적으로 제거된다. Preferred capping agents include hydroxyl reactive materials such as silylating agents. Examples of silylating agents include hexamethyldisilazane (HMDZ), tetramethyldisilazane, divinyltetramethyldisilazane, diphenyltetramethyldisilazane, N- (trimethylsilyl) diethylamine, 1- ( Trimethylsilyl) imidazole, trimethylchlorosilane, pentamethylchlorodisiloxane, pentamethyldisiloxane and combinations thereof, but is not limited thereto. The final dispersion is then heated in the range of about 20 ° C. to about 140 ° C. for a period of about 0.5 hour to about 48 hours. The resulting mixture is then filtered. When the pre-dispersion is reacted with a capping agent, one or more organic matrix compositions are added to add the final dispersion. The mixture of functionalized colloidal silica in the organic material is concentrated at a pressure ranging from about 0.5 Torr to about 250 Torr to form the final concentrated dispersion. During this process, lower boiling components such as solvents, residues, by-products of the capping and hydroxyl groups, excess capping and combinations thereof are substantially removed.
선택적으로 총 최종 분산 조성물을 마이크론 크기의 충진제와 블렌딩할 수 있다. 마이크론 크기의 충진제를 첨가하여 조성물의 열 전도성을 실질적으로 증가시킬 수 있다. 따라서, 중합체 매트릭스의 열 전도성에 대한 작용화된 나노입자의 효과는 마이크로 충진제의 첨가에 의해 크게 배가된다. 예를 들자면, 중합체 매트릭스가 0.2W/m?K의 열 전도성을 갖는 경우, 80 내지 90중량%의 적합한 마이크로 충진제를 첨가하면 열 전도성을 2.0W/m?K로 증가시킬 수 있다. 그러나, 본 발명에 따른 작용화된 나노입자를 첨가함으로써, 중합체 매트릭스의 초기 열 전도성을 0.3W/m?K 이상으로 증가시킬 수 있고, 동일한 양의 마이크론 크기의 충진제를 첨가하면 열 전도성을 약 3W/m?K로 증가시켜 나노입자를 함유하지 않는 조성물에 비해 열 전도성을 50% 증가시킨다. 많은 경우에, 열 전도성이 3W/m?K에 이르도록 마이크로 입자만을 첨가하면 조성물이 매우 끈적거려서 쉽게 가공할 수 없고, 전기 소자, 특히 플립/칩 소자의 제조에 필요한 만큼 유동할 수 없게 될 것이다. 반면 본 발명에 따른 나노입자를 사용할 경우에는, 용이하게 가공할 수 있도록 충분히 낮은 점도를 유지하면서도 열 전도성을 증가시킨다. Optionally, the total final dispersion composition can be blended with micron sized filler. Micron sized fillers may be added to substantially increase the thermal conductivity of the composition. Thus, the effect of functionalized nanoparticles on the thermal conductivity of the polymer matrix is greatly doubled by the addition of microfillers. For example, if the polymer matrix has a thermal conductivity of 0.2 W / m-K, the addition of 80-90% by weight of suitable microfillers can increase the thermal conductivity to 2.0 W / m-K. However, by the addition of the functionalized nanoparticles according to the invention, the initial thermal conductivity of the polymer matrix can be increased to 0.3 W / m-K or more, and the addition of the same amount of micron sized filler leads to about 3 W of thermal conductivity. Increasing to / m? K increases the thermal conductivity by 50% compared to compositions that do not contain nanoparticles. In many cases, adding only microparticles to a thermal conductivity of 3 W / m? K will make the composition very sticky and difficult to process and will not flow as needed for the manufacture of electrical devices, especially flip / chip devices. . On the other hand, when using the nanoparticles according to the present invention, the thermal conductivity is increased while maintaining a sufficiently low viscosity to facilitate processing.
충진제는 마이크론 크기의 열 전도성 물질이고, 강화되거나 비-강화될 수 있다. 충진제는 예를 들면 훈증 실리카, 융합된 실리카, 미분된 석영 분말, 무정형 실리카, 카본 블랙, 흑연, 다이아몬드, 금속(예를 들면 은, 금, 알루미늄 및 구리), 탄화규소, 수화 알루미늄, 금속 나이트라이드(예를 들면 보론 나이트라이드 및 알루미늄 나이트라이드), 금속 옥사이드(예를 들면 알루미늄 옥사이드, 아연 옥사이드, 티탄 다이옥사이드 또는 철 옥사이드) 및 이의 조합을 포함할 수 있다. 존재하는 경우, 충진제는 전형적으로 총 최종 조성물의 중량을 기준으로 약 10 내지 약 95중량%의 범위로 존재한다. 보다 전형적으로, 충진제는 총 최종 분산 조성물의 중량을 기준으로 약 20 내지 약 90중량%의 범위로 존재한다. Fillers are thermally conductive materials of micron size and may be reinforced or non-reinforced. Fillers are, for example, fumed silica, fused silica, finely divided quartz powder, amorphous silica, carbon black, graphite, diamond, metals (eg silver, gold, aluminum and copper), silicon carbide, aluminum hydrate, metal nitride (For example boron nitride and aluminum nitride), metal oxides (eg aluminum oxide, zinc oxide, titanium dioxide or iron oxide) and combinations thereof. When present, fillers are typically present in the range of about 10 to about 95 weight percent based on the weight of the total final composition. More typically, the filler is present in the range of about 20 to about 90 weight percent based on the weight of the total final dispersion composition.
본 발명의 조성물에서 나노입자의 존재는 마이크로 충진제가 존재하는 경우 조성물의 안정성을 향상시킨다. 상기 나노 입자는, 동일한 양의 마이크로 충진제를 함유하지만 나노입자를 함유하지 않는 조성물에 비해, 조성물을 함유하는 용기의 바닥으로 마이크로 입자가 침강하는 것을 억제시키는 것으로 밝혀졌다. The presence of nanoparticles in the composition of the present invention improves the stability of the composition when microfillers are present. The nanoparticles have been found to inhibit the settling of microparticles into the bottom of the container containing the composition, compared to a composition containing the same amount of microfiller but no nanoparticles.
경화 촉매를 최종 분산액에 첨가하여 최종 조성물의 경화를 촉진시킬 수 있다. 전형적으로, 촉매는 총 경화성 조성물의 약 10ppm 내지 약 10중량%의 범위로 존재한다. 양이온성 경화 촉매의 예는 오늄 촉매, 예를 들면 비스아릴요오도늄 염(예를 들면 비스(도데실페닐)요오도늄 헥사플루오로안티모네이트, (옥틸옥시페닐, 페닐)요오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 비스아릴요오도늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트), 트라이아릴설포늄 염 및 이의 조합을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. 라디칼 경화 촉매의 예는 다양한 퍼옥사이드(예를 들면 t-부틸 퍼옥시 벤조에이트), 아조 화합물(예를 들면 2,2'-아조 비스-아이소부틸 나이트릴) 및 니트록사이드(예를 들면 4-하이드록시 TEMPO)를 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. 추가의 경화성 실리콘 수지의 경우, 바람직한 촉매는 다양한 8족 내지 10족 전이 금속(예를 들면 루테늄, 로듐, 백금) 착체이다. 축합 경화성 실리콘의 경우, 바람직한 촉매는 유기-주석 또는 유기-티탄 복합체이다. 촉매의 자세한 구조는 당 분야의 숙련된 이들에게 공지되어 있다. A curing catalyst can be added to the final dispersion to promote curing of the final composition. Typically, the catalyst is present in the range of about 10 ppm to about 10 weight percent of the total curable composition. Examples of cationic curing catalysts are onium catalysts, for example bisaryl iodonium salts (e.g. bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, (octyloxyphenyl, phenyl) iodonium hexa Fluoroantimonates, bisaryliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate), triarylsulfonium salts, and combinations thereof. Examples of radical curing catalysts include various peroxides (eg t-butyl peroxy benzoate), azo compounds (eg 2,2'-azo bis-isobutyl nitrile) and nitroxides (eg 4 -Hydroxy TEMPO), but is not limited to such. In the case of further curable silicone resins, preferred catalysts are various Group 8-10 transition metal (eg ruthenium, rhodium, platinum) complexes. In the case of condensation curable silicones, preferred catalysts are organo-tin or organo-titanium composites. The detailed structure of the catalyst is known to those skilled in the art.
선택적으로, 양이온성 경화성 매트릭스의 경우, 효과적인 양의 유리-라디칼 생성 화합물을 선택적 시약으로 첨가할 수 있고, 이의 예는 방향족 피나콜, 벤조인알킬 에터, 유기 퍼옥사이드 및 이의 조합이다. 유리 라디칼 생성 화합물은 저온에서 오늄 염의 분해를 촉진시킨다. Optionally, for cationic curable matrices, an effective amount of free-radical generating compound can be added as an optional reagent, examples of which are aromatic pinacol, benzoinalkyl ethers, organic peroxides and combinations thereof. Free radical generating compounds promote the decomposition of onium salts at low temperatures.
에폭시 수지의 경우, 경화제, 예를 들면 카복실산-무수물 경화제 및 하이드록실 잔기를 함유하는 유기 화합물을 선택적 시약으로서 경화 촉매와 함께 첨가할 수 있다. 이 경우, 경화 촉매는 아민, 알킬-치환된 이미다졸, 이미다졸륨 염, 포스핀, 금속 염, 트라이페닐 포스핀, 알킬-이미다졸 및 알루미늄 아세틸 아세토네이트 및 이의 조합으로부터 선택될 수 있지만, 이로 한정되지는 않는다. 에폭시 수지의 경우, 경화제, 예를 들면 다작용성 아민을 가교결합제로서 선택적으로 혼입시킬 수 있다. 예시적인 아민은 에틸렌 다이아민, 프로필렌 다이아민, 1,2-페닐렌다이아민, 1,3-페닐렌 다이아민, 1,4-페닐렌 다이아민 및 2 이상의 아미노 기를 함유하는 임의의 다른 화합물을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. In the case of epoxy resins, a curing agent, for example an organic compound containing a carboxylic acid-anhydride curing agent and a hydroxyl moiety, can be added together with the curing catalyst as an optional reagent. In this case, the curing catalyst may be selected from amines, alkyl-substituted imidazoles, imidazolium salts, phosphines, metal salts, triphenyl phosphines, alkyl-imidazoles and aluminum acetyl acetonates and combinations thereof, but It is not limited. In the case of epoxy resins, a curing agent, for example a polyfunctional amine, can optionally be incorporated as a crosslinking agent. Exemplary amines include ethylene diamine, propylene diamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylene diamine, 1,4-phenylene diamine, and any other compound containing two or more amino groups. Including but not limited to.
에폭시 수지의 경우, 예시적인 무수물 경화제는 전형적으로 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 1,2-사이클로헥산다이카복실산 무수물, 바이사이클로[2.2.1]헵트-5-엔-2,3-다이카복실산 무수물, 메틸바이사이클로[2.2.1]헵트-5-엔-2,3-다이카복실산 무수물, 프탈산 무수물, 피로멜리트산 이무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물, 도데세닐숙신산 무수물, 다이클로로말레산 무수물, 클로렌드산 무수물, 테트라클로로프탈산 무수물 등을 포함한다. 둘 이상의 무수물 경화제를 포함하는 조합 또한 사용할 수 있다. 예시적인 예는 문헌["Chemistry and Technology of the Epoxy Resins" B. Ellis (Ed. ) Chapman Hall, New York, 1993] 및 문헌["Epoxy Resins Chemistry and Technology", edited by C. A. May, Marcel Dekker, New York, 2nd edition, 1988]에 개시되어 있다. For epoxy resins, exemplary anhydride curing agents are typically methylhexahydrophthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride, methyl Bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride, phthalic anhydride, pyromellitic dianhydride, hexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, dichloromaleic anhydride, chloric anhydride And tetrachlorophthalic anhydride. Combinations comprising two or more anhydride curing agents can also be used. Illustrative examples include "Chemistry and Technology of the Epoxy Resins" B. Ellis (Ed.) Chapman Hall, New York, 1993 and "Epoxy Resins Chemistry and Technology", edited by CA May, Marcel Dekker, New York, 2nd edition, 1988.
부가 경화성 실리콘 수지의 경우, 최종 배합물중의 비닐에 대한 Si-H의 몰 비가 0.5 내지 5.0, 바람직하게는 0.9 내지 2.0의 범위가 되도록 가교결합제, 예를 들면 다작용성 Si-H 함유 실리콘 유체를 혼입할 수 있다. In the case of addition curable silicone resins, crosslinking agents, for example polyfunctional Si-H containing silicone fluids, are incorporated such that the molar ratio of Si-H to vinyl in the final formulation is in the range of 0.5 to 5.0, preferably 0.9 to 2.0. can do.
부가 경화성 실리콘 수지의 경우, 억제제를 선택적으로 포함하여 경화 프로파일을 변형시키고 바람직한 저장 수명을 달성할 수 있다. 억제제는 포스핀 화합물, 아민 화합물, 아이소시아누레이트, 알키닐 알콜, 말레산 에스터 및 당 분야의 숙련자들에게 공지된 임의의 다른 화합물을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. In the case of addition curable silicone resins, inhibitors may optionally be included to modify the curing profile and achieve desirable shelf life. Inhibitors include, but are not limited to, phosphine compounds, amine compounds, isocyanurates, alkynyl alcohols, maleic esters, and any other compounds known to those skilled in the art.
반응성 유기 희석제를 총 경화성 조성물에 첨가하여 조성물의 점도를 감소시킬 수 있다. 반응성 희석제의 예는 3-에틸-3-하이드록시메틸-옥세탄, 도데실글리시딜 에터, 4-비닐-1-사이클로헥산 다이에폭사이드, 다이(베타-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸)-테트라메틸다이실록산, 다양한 다이엔(예를 들면 1,5-헥사다이엔), 알켄(예를 들면 n-옥텐), 알켄, 스티렌 화합물, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 함유 화합물(예를 들면 메타크릴옥시프로필트라이메톡시실란) 및 이의 조합을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. 비반응성 희석제를 또한 조성물에 첨가하여 배합물의 점도를 감소시킬 수 있다. 비반응성 희석제의 예는 저 비등 지방족 탄화수소(예를 들면 옥탄), 톨루엔, 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트, 1-메톡시 프로필 아세테이트, 에틸렌 글리콜, 다이메틸 에터 및 이의 조합을 포함하지만, 이로 한정되지는 않는다. Reactive organic diluents can be added to the total curable composition to reduce the viscosity of the composition. Examples of reactive diluents include 3-ethyl-3-hydroxymethyl-oxetane, dodecylglycidyl ether, 4-vinyl-1-cyclohexane diepoxide, di (beta- (3,4-epoxycyclohexyl ) Ethyl) -tetramethyldisiloxane, various dienes (e.g. 1,5-hexadiene), alkenes (e.g. n-octene), alkenes, styrene compounds, acrylates or methacrylate-containing compounds (e.g. Methacryloxypropyltrimethoxysilane) and combinations thereof, but is not limited thereto. Non-reactive diluents can also be added to the composition to reduce the viscosity of the formulation. Examples of non-reactive diluents include, but are not limited to, low boiling aliphatic hydrocarbons (eg octane), toluene, ethyl acetate, butyl acetate, 1-methoxy propyl acetate, ethylene glycol, dimethyl ether, and combinations thereof. .
트라이알콕시유기실란(예를 들면 γ-아미노프로필트라이메톡시실란, 3-글리시독시프로필트라이메톡시실란, 비스(트라이메톡시실릴프로필)푸마레이트)와 같은 점착 촉진제를 또한 전형적으로 총 최종 분산액의 중량의 약 0.01중량% 내지 약 2중량%의 범위인 효과량으로 총 최종 분산물과 함께 사용할 수 있다. Adhesion promoters such as trialkoxyorganosilanes (e.g., γ-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, bis (trimethoxysilylpropyl) fumarate) are also typically used in the final final dispersion. It can be used with the total final dispersion in an effective amount in the range of about 0.01% to about 2% by weight of the weight of.
난연제는 선택적으로 총 최종 분산액의 양의 약 0.5중량% 내지 약 20중량%의 범위로 총 최종 분산액에서 사용될 수 있다. 난연제의 예는 포스포르아미드, 트라이페닐 포스페이트(TPP), 레소시놀 다이포스페이트(RDP), 비스페놀-A-디스포스페이트(BPA-DP), 유기 포스핀 옥사이드, 할로겐화된 에폭시 수지(테트라브로모비스페놀 A), 금속 옥사이드, 금속 하이드록사이드 및 이의 조합을 포함한다. Flame retardants may optionally be used in the total final dispersion in the range of about 0.5% to about 20% by weight of the total final dispersion amount. Examples of flame retardants include phosphoramide, triphenyl phosphate (TPP), resorcinol diphosphate (RDP), bisphenol-A-disphosphate (BPA-DP), organic phosphine oxide, halogenated epoxy resins (tetrabromobisphenol A), metal oxides, metal hydroxides and combinations thereof.
최종 분산 조성물은 손으로 혼합되거나, 표준 혼합 장치, 예를 들면 반죽 혼합기, 체인 캔 혼합기, 회전 혼합기, 쌍축 압출기, 2롤 또는 3롤 밀 등으로 혼합될 수 있다. 분산 성분의 혼합은 당분야의 숙련자들이 사용하는 임의의 수단에 의해 배치식, 연속식 또는 반-연속식으로 수행될 수 있다. The final dispersion composition may be mixed by hand or in a standard mixing device, such as a dough mixer, chain can mixer, rotary mixer, twin screw extruder, two or three roll mill, or the like. Mixing of the dispersing components can be carried out batchwise, continuously or semi-continuously by any means used by those skilled in the art.
경화 공정은 당 분야의 숙련자들에게 공지된 임의의 공정에 의해 수행될 수 있다. 경화는 열 경화, UV 광 경화, 초단파 경화, e-빔 경화 및 이의 조합과 같은 방법에 의해 수행될 수 있다. 경화는 전형적으로 약 20℃ 내지 약 250℃의 범위, 보다 전형적으로 약 20℃ 내지 약 150℃의 범위의 온도에서 일어난다. 경화는 전형적으로 약 1기압("atm") 내지 약 5톤/in2의 압력의 범위, 보다 전형적으로는 약 1기압 내지 약 100파운드/in2("psi")의 범위의 압력에서 일어난다. 또한, 경화는 약 30초 내지 약 5시간의 범위, 보다 전형적으로는 약 90초 내지 약 60분의 범위의 기간동안 일어날 수 있다. 선택적으로, 경화된 조성물은 약 100℃ 내지 약 150℃의 범위의 온도에서 약 1시간 내지 약 4시간의 기간동안 후-경화될 수 있다. The curing process can be carried out by any process known to those skilled in the art. Curing can be performed by methods such as thermal curing, UV light curing, microwave curing, e-beam curing and combinations thereof. Curing typically occurs at temperatures in the range of about 20 ° C. to about 250 ° C., more typically in the range of about 20 ° C. to about 150 ° C. Curing typically occurs at a pressure in the range of about 1 atmosphere ("atm") to about 5 tons / in 2 , more typically in the range of about 1 atmosphere to about 100 pounds / in 2 ("psi"). Curing may also occur for a period ranging from about 30 seconds to about 5 hours, more typically from about 90 seconds to about 60 minutes. Optionally, the cured composition may be post-cured for a period of about 1 hour to about 4 hours at a temperature in the range of about 100 ° C to about 150 ° C.
작용화된 나노입자의 첨가를 이용하여 베이스 중합체 매트릭스의 벌크 열 전도성을 증가시켜 임의의 2개의 물체, 특히 전기 부품의 부품들 사이에 위치될 때 개선된 열 전도성을 제공한다. 또한, 본 발명의 열 계면 조성물은 상기 개시된 바와 같이 열이 전달되는 임의의 2개의 요소의 표면에 본질적으로 존재하는 열 유동에 대한 계면 저항을 감소시킨다. 본 발명의 열 계면 조성물을 컴퓨터, 반도체, 또는 요소사이의 열 전달이 필요한 임의의 소자와 같은 전자 제품의 소자에 사용할 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 예를 들면 본 발명의 열 계면 조성물(2)은 반도체 칩(3)과 열 싱크(1)사이에 삽입되어 임의의 공기 간극을 채우고 열 전달을 촉진시킨다. 본 발명의 열 계면 조성물의 층(2)은 20 내지 150 마이크론으로 얇을 수 있고, 여전히 바람직한 효과를 제공한다. 본 발명의 열 계면 조성물의 적용은 당 분야에 공지된 임의의 방법에 의해 달성될 수 있다. 종래의 방법은 스크린 인쇄, 스텐실 인쇄, 시린지 분배 및 픽 앤드 플레이스(pick-and-place) 장치를 포함한다. The addition of functionalized nanoparticles is used to increase the bulk thermal conductivity of the base polymer matrix to provide improved thermal conductivity when placed between any two objects, in particular components of electrical components. In addition, the thermal interface composition of the present invention reduces the interface resistance to heat flow essentially present on the surface of any two elements to which heat is transferred, as disclosed above. The thermal interface composition of the present invention can be used in devices of electronic products such as computers, semiconductors, or any device that requires heat transfer between elements. As shown in FIG. 1, for example, the thermal interface composition 2 of the present invention is inserted between the semiconductor chip 3 and the heat sink 1 to fill any air gaps and to promote heat transfer. The layer 2 of the thermal interface composition of the present invention can be as thin as 20 to 150 microns and still provide the desired effect. Application of the thermal interface composition of the present invention can be accomplished by any method known in the art. Conventional methods include screen printing, stencil printing, syringe dispensing and pick-and-place devices.
다른 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 시트로 형성되어 임의의 바람직한 형태로 절단될 수 있다. 본 실시양태에서, 유리하게는 본 발명의 조성물을 열 계면 패드용으로 사용하여 전기 부품들 사이에 위치시킬 수 있다. In other embodiments, the compositions of the present invention may be formed into sheets and cut into any desired form. In this embodiment, the compositions of the invention can advantageously be used for thermal interface pads to be placed between electrical components.
비록 본 발명의 바람직한 실시양태 및 다른 실시양태가 본원에 개시되어 있지만, 당 분야의 숙련자들은 하기 특허 청구 범위에 의해 한정된 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 추가의 실시양태를 인지할 수 있다. Although preferred and other embodiments of the invention are disclosed herein, those skilled in the art can recognize additional embodiments without departing from the scope of the invention as defined by the following claims.
실시예 1Example 1
4.95g의 분산 조성물은 31중량%(중량%는 비작용화된 콜로이드성 SiO2를 기준으로 한다)의 메타크릴옥시프로필-트라이메톡시실란("MAPTMS") 작용화된 콜로이드성 SiO2 (20nm) 아크릴옥시-말단 폴리다이메틸실록산(겔레스트(Gelest), DMSU22, 분자량 약 1000 내지 1200)으로 구성되었다. 추가로, 2g의 MAPTMS, 0.13g의 요오도늄 염(GE 실리콘스(GE silicones), UV9380c) 및 45.6g의 알루미나(쇼와 덴카(Showa Denka) AS 10)을 분산 조성물에 블렌딩하였다. 첨가된 알루미나는 총 배합물의 86.5중량%였다. 분산 조성물을 120℃에서 경화하였다. 분산 조성물의 열 전도성을 측정하였으며, 이는 실온에서 2.6W/m?K ± 0.05 및 100℃에서 2.55W/m?K로 밝혀졌다. 비교해보면, 86.5중량%의 알루미나(평균 크기 = 38마이크론)로 충진하였을 때 아크릴레이트 단독의 열 전도성은 100℃에서 약 1.4 내지 1.9W/m?K이다. 하기 표 1을 참조할 수 있다.4.95 g of the dispersing composition consisted of methacryloxypropyl-trimethoxysilane (“MAPTMS”) functionalized colloidal SiO 2 (20 nm by weight, based on unfunctionalized colloidal SiO 2 by weight). ) Acryloxy-terminated polydimethylsiloxane (Gelest, DMSU22, molecular weight about 1000-1200). In addition, 2 g of MAPTMS, 0.13 g of iodonium salt (GE silicones, UV9380c) and 45.6 g of alumina (Showa Denka AS 10) were blended into the dispersion composition. The added alumina was 86.5% by weight of the total formulation. The dispersion composition was cured at 120 ° C. The thermal conductivity of the dispersion composition was measured, which was found to be 2.6 W / m K ± 0.05 at room temperature and 2.55 W / m K at 100 ° C. In comparison, the thermal conductivity of acrylate alone, when filled with 86.5% by weight of alumina (average size = 38 microns), is about 1.4 to 1.9 W / m · K at 100 ° C. See Table 1 below.
실시예 2Example 2
분산 조성물은 1.82g의 옥타키스(다이메틸실록시-T8-실세퀴녹산)(T8 OSiMe2H, 겔레스트), 0.73g의 1,5-헥사메틸-트라이실록산(MHDMH GE 실리콘스), 1.53g의 1,3-다이비닐테트라메틸다이실록산(GE 실리콘(GE Silicone)), 1.04g의 비닐-말단 폴리다이메틸실록산(겔레스트, MW 9400) DMSV22, 적합한 촉매 및 20g의 알루미나(쇼와 덴카, AS-40 및 수미토모(Sumitomo) AA04)의 블렌드였다. 알루미나를 총 배합물의 약 80중량%로 첨가하였다. 분산 조성물을 80℃에서 경화시켰다. 분산 조성물의 열 전도성을 측정하였으며, 이는 실온에서 1.99W/m?K ± 0.15 및 100℃에서 1.70W/m?K ± 0.10으로 밝혀졌다. 비교해보면, 80중량%의 알루미나(AS40의 경우 평균 크기 = 10㎛ 및 AA04의 경우 0.4㎛)로 충진하였을 때 폴리다이메틸실록산("PDMS")의 열 전도성은 약 1.00W/m?K이다. 하기 표 1을 참조할 수 있다.Dispersion composition octakis of 1.82g (dimethyl siloxy -T8- silse quinolyl Noksan) (T 8 OSiMe2H, Gelest), 0.73g of 1,5- hexamethyl-tri-siloxane (M H H DM GE Silicones) , 1.53 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (GE Silicone), 1.04 g of vinyl-terminated polydimethylsiloxane (Gelest, MW 9400) DMSV22, a suitable catalyst and 20 g of alumina (show And a blend of Denka, AS-40 and Sumitomo AA04). Alumina was added at about 80% by weight of the total formulation. The dispersion composition was cured at 80 ° C. The thermal conductivity of the dispersion composition was measured, which was found to be 1.99 W / m-K ± 0.15 at room temperature and 1.70 W / m-K ± 0.10 at 100 ° C. By comparison, the thermal conductivity of polydimethylsiloxane (“PDMS”) is about 1.00 W / m · K when filled with 80% by weight of alumina (average size = 10 μm for AS40 and 0.4 μm for AA04). See Table 1 below.
실시예 3Example 3
7g의 GE 실리콘 제품 FCS100(1,6-헥산다이올 다이아크릴레이트 중의 40중량%의 MAPTMS-작용화된 콜로이드성 SiO2 함유), 0.14g의 요오도늄 염(GE 실리콘, UV9380c) 및 43g의 알루미나(쇼와 덴카, AS50 및 수미토모 AA04)를 함유하는 분산 조성물을 블렌딩하였다. 첨가된 알루미나는 총 배합물의 86중량%였다. 분산액의 열 전도성을 측정하였고, 이는 실온에서 3.35W/m?K ± 0.20W/m?K 및 100℃에서 3.25W/m?K ± 0.15로 밝혀졌다. 비교해보면, 86.5중량%의 알루미나(AS40의 경우 평균 크기 = 10㎛ 및 수미토모의 경우 0.4㎛)로 충진하였을 때 아크릴레이트의 열 전도성은 약 1.4 내지 1.9w/m?K이다. 하기 표 1을 참조할 수 있다.7 g of GE Silicone FCS100 (containing 40 wt% MAPTMS-functionalized colloidal SiO 2 in 1,6-hexanediol diacrylate), 0.14 g of iodonium salt (GE silicon, UV9380c) and 43 g of Dispersion compositions containing alumina (Showa Denka, AS50 and Sumitomo AA04) were blended. Alumina added was 86% by weight of the total formulation. The thermal conductivity of the dispersion was measured, which was found to be 3.35 W / m K ± 0.20 W / m K at room temperature and 3.25 W / m K 0.15 at 100 ° C. In comparison, the thermal conductivity of the acrylate when filled with 86.5% by weight of alumina (average size = 10 μm for AS40 and 0.4 μm for Sumitomo) is about 1.4 to 1.9 w / m · K. See Table 1 below.
실시예 4Example 4
최종 분산액은 지환족 에폭시 수지(UVR6105, 다우(DOW))중의 56중량%의 페닐트라이메톡시실란 작용화된 콜로이드성 실리카(SiO2 함량 및 작용기에 근거한다), 촉매로서 1중량%의 요오도늄 염(GE 실리콘스 UV9392c) 및 0.5중량%의 벤조일 피나콜(알드리치(Aldrich))로 구성된다. 분산액은 156℃에서 5분동안 경화되고, 25℃에서 0.37W/m?K의 열 전도성을 갖는다. 나노입자가 없는 전형적인 에폭사이드는 25℃에서 0.2 내지 0.25W/m?K의 열 전도성을 갖는다. The final dispersion is 56% by weight of phenyltrimethoxysilane functionalized colloidal silica (based on SiO 2 content and functional group) in cycloaliphatic epoxy resin (UVR6105, DOW), 1% by weight of iodo as catalyst It is composed of a nium salt (GE Silicones UV9392c) and 0.5% by weight of benzoyl pinacol (Aldrich). The dispersion is cured at 156 ° C. for 5 minutes and has a thermal conductivity of 0.37 W / m · K at 25 ° C. Typical epoxides without nanoparticles have a thermal conductivity of 0.2 to 0.25 W / m-K at 25 ° C.
실시예 5Example 5
최종 분산액은, 페닐트라이메톡시실란에 의해 작용화되고, 비닐-말단 폴리다이메틸-코-다이페닐-실록산(겔레스트, PDV1625)중의 헥사메틸다이실라진(HMDZ)으로 추가로 말단 캡핑된 콜로이드성 실리카 22중량%로 구성된다. 콜로이드성 실리카 + 축합된 작용기의 중량%는 약 27%이다. 이 최종 분산액 5.33g을 0.04g의 백금 촉매 패키지([Pt] = 최종 배합물중의 7.5ppm) 및 0.14g의 폴리다이메틸-코-메틸하이드라이드-실록산(GE 실리콘, 88466)과 함께 혼합하였다. 최종 배합물은 유동성 물질을 생성한다. 상기 조성물을 150℃에서 1시간동안 경화시켜 0.17W/m?K의 벌크 열 전도성을 갖는 물질을 생성하였다. The final dispersion was colloid functionalized with phenyltrimethoxysilane and further end capped with hexamethyldisilazine (HMDZ) in vinyl-terminated polydimethyl-co-diphenyl-siloxane (Gelest, PDV1625). It consists of 22% by weight of silica. The weight percent of colloidal silica + condensed functional group is about 27%. 5.33 g of this final dispersion was mixed with 0.04 g of platinum catalyst package ([Pt] = 7.5 ppm in the final formulation) and 0.14 g of polydimethyl-co-methylhydride-siloxane (GE silicone, 88466). The final blend produces a flowable material. The composition was cured at 150 ° C. for 1 hour to produce a material having a bulk thermal conductivity of 0.17 W / m · K.
실시예 6Example 6
10.06g의 비닐-말단 폴리다이메틸-코-다이페닐-실록산(겔레스트, PDV1625), 0.38g의 폴리다이메틸-코-메틸하이드라이드-실록산(GE 실리콘, 88466), 1.10g의 페닐트라이메톡시실란 및 0.10g의 촉매 패키지(대상([Pt] = 최종 배합물중의 7.5ppm)로 구성된 원료 용액을 구성하였다. 이 원료 용액 2.76g을 0.44g의 융합된 실리카(덴카(Denka), 평균 크기 = 5마이크론) 및 0.35g의 이중 처리된 훈증 실리카(GE 실리콘, 88318)과 함께 혼합하였다. 이 혼합물은 비-유동성의 진한 페이스트였다. 10.06 g of vinyl-terminated polydimethyl-co-diphenyl-siloxane (Gelest, PDV1625), 0.38 g of polydimethyl-co-methylhydride-siloxane (GE silicone, 88466), 1.10 g of phenyltrime A stock solution consisting of oxysilane and 0.10 g of catalyst package (subject ([Pt] = 7.5 ppm in the final blend) was made up. 2.76 g of this stock solution consisted of 0.44 g of fused silica (Denka, average size). = 5 microns) and 0.35 g of double treated fumed silica (GE silicone, 88318) This mixture was a non-flowing thick paste.
상기 조성물을 150℃에서 1시간동안 경화시켰다. 벌크 열 전도성은 실시예 5와 동일하게 25℃에서 0.17W/m?K이었다. The composition was cured at 150 ° C. for 1 hour. Bulk thermal conductivity was 0.17 W / m · K at 25 ° C., similar to Example 5.
실시예 7Example 7
실시예 5에 개시된 바와 같은 적절한 양의 최종 분산액을 8x8mm 알루미늄 쿠폰상에 X 패턴으로 주사기를 이용하여 손으로 분배하였다. 그런 다음 제 2의 알루미늄 쿠폰을 상부에 위치시키고, 생성된 샌드위치 구조체를 150℃ 오븐에 1시간동안 두어서 경화를 완료하였다. TIM 층의 결합-선-두께는 16.8마이크론이다. TIM 층의 효과적인 열 전도성은 25℃에서 0.18W/m?K이다. TIM 층을 가로지른 총 열 저항은 94mm2?K/W이다. Appropriate amounts of final dispersion as disclosed in Example 5 were dispensed by hand using a syringe in an X pattern on an 8 × 8 mm aluminum coupon. A second aluminum coupon was then placed on top and the resulting sandwich structure was placed in a 150 ° C. oven for 1 hour to complete curing. The bond-line-thickness of the TIM layer is 16.8 microns. The effective thermal conductivity of the TIM layer is 0.18 W / m · K at 25 ° C. The total thermal resistance across the TIM layer is 94 mm 2 –K / W.
실시예 6에 개시된 배합물을 이용하여 유사한 3층 샌드위치 구조체를 구축하였다. 결합 선 두께는 23마이크론이고, TIM 층의 효과적인 열 전도성은 25℃에서 0.13W/m?K이다. TIM 층을 가로지르는 총 열 저항은 173mm2?K/W이다. A similar three layer sandwich structure was constructed using the formulation disclosed in Example 6. The bond line thickness is 23 microns and the effective thermal conductivity of the TIM layer is 0.13 W / m · K at 25 ° C. The total thermal resistance across the TIM layer is 173 mm 2 –K / W.
비록 본 발명의 바람직한 실시양태와 기타 실시양태가 본원에 개시되어 있지만, 당 분야의 숙련자들은 하기 특허청구범위에 정의된 바와 같은 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 추가의 실시양태를 인지할 수 있다. Although preferred and other embodiments of the invention are disclosed herein, those skilled in the art can recognize additional embodiments without departing from the scope of the invention as defined in the following claims.
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