KR101112111B1 - 대전방지 투명필름 - Google Patents

Abstract

본 발명은 대전방지 투명 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 폴리티오펜계 전도성 고분자를 이용하여 폴리에스터 필름 표면에 인라인 및 오프라인 공정으로 도포하고, 그 위에 고분자 수지 층을 도포할 경우에 표면저항이 1 X 10⁶ 내지 1 X 10¹¹ Ω/sq의 표면저항을 유지하는 대전방지 투명필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

폴리티오펜계 전도성 고분자, 대전방지 폴리에스터 필름, 대전방지 투명 필름

Description

대전방지 투명필름{ANTI-STATIC TRANSPARENT FILM}

본 발명은 폴리에스터 기재필름 위에 전도성 고분자 등을 사용하여 대전방지츨을 형성한 대전방지 투명필름에 관한 것이다.

현재 전도성 고분자 화합물로서 널리 이용되고 있는 것으로는 구체적으로 폴리아닐린(polyaniline, PAN), 폴리피롤(polypyrrol, PPy) 및 폴리티오펜(polythiophene, PT) 등이 있다. 이러한 전도성 고분자 화합물들의 전기적 특성을 응용하여 이차 전지의 전극, 전자파 차폐용 소재, 유연성을 가지는 전극, 대전방지용 소재, 부식 방지용 코팅재 등 여러 용도로 사용 가능성이 제안되고 있으나, 가공성의 난점, 열적 및 대기 안정성, 내습성의 문제, 가격 등의 문제로 인해서 활발하게 상업화되지 못하고 있는 실정이다.

그러나, 최근 먼지 부착 방지 및 대전 방지용 코팅재료의 주목과 더불어 전자파 차폐에 관한 규격 강화에 의해 여러 전자 기기들의 전자파 차폐용 코팅재로서의 용도로 주목을 받기 시작하였다. 특히, 전도성 고분자가 브라운관 유리 표면의 도전성 코팅재로 주목받기 시작한 것은 미국 특허등록 제5,035,926호 및 제5,391,472호에 기재되어 있는 바와 같이, 폴리티오펜계 전도성 고분자인 폴리에틸렌디옥시티오펜(polyethylene dioxythiophene, PEDT)이 주목을 받기 시작하면서부터이다. 이러한 전도성 고분자는 폴리아닐린계, 폴리피롤계 및 폴리티오펜계 등과 같은 다른 전도성 고분자에 비해서 우수한 투명도를 나타내는 특성을 가지고 있다.

종래의 폴리에틸렌디옥시티오펜은 전도성을 향상시키기 위해 폴리스티렌술포네이트와 같은 고분자산염을 도핑 물질로 이용하여 수분산이 가능한 코팅성 용액을 제조하였으며, 알콜 용매와의 혼합성, 가공성이 뛰어나 브라운관(CRT) 유리, 플라스틱 필름표면 등 다양한 용도의 코팅재를 사용할 수 있었다. 이러한 수분산 폴리에틸렌디옥시티오펜의 대표적인 예로서는 현재 판매 중인 베이트론-P (Baytron-P, Bayer사)가 대표적인 경우이다. 그러나, 베이트론-P는 수분산액이고 내부에 SO₃ ^- 기를 지니고 있어서 고분자막 형성 후에도 수분에 굉장히 취약한 단점을 가지고 있으므로 장기간 방치 또는 습도가 높은 환경에 노출될 경우 고분자막의 전기적 특성 변화가 심하다.

이 분야의 종래 기술을 살펴보면 폴리에틸렌디옥시티오펜, 알콜류의 용매, 아마이드계 용매, 폴리에스터계 수지 바인더 등을 함유한 전도성 고분자 조성물(대한민국 공개특허 제2000-10221호)과, 폴리에틸렌디옥시티오펜, 알콜류의 용매, 아마이드 용매 및 실란 커플링제 등을 함유한 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물(대한민국 공개특허 제2005-66209호)이 공개되어 있다. 이러한 종래기술은 1 ㏀/sq 이하의 전기적 특성을 지니면서 높은 투명성, 강한 접착력과 내구성을 가질 수 있으나, 이들 또한 시간에 따른 전도성 고분자막의 전기적 특성 변화 및 고온, 다습한 환경에서의 전기적 특성 변화가 심하여 상용화가 불가능한 상황이다.

최근 폴리에스터 필름은 우수한 내구성 및 투명성으로 각종 디스플레이용 기재 또는 보호필름에 사용되고 있으나, 폴리에스터 필름을 사용시 먼지, 이물 등에 오염이 되기 쉬운 문제점이 있다. 이에 폴리에스테스 필름에 대전방지성을 부여하거나 보호필름 접착층에 대전방지 기능을 부여하기 위해 아래와 같이 여러 가지 방법 등이 이용되고 있다.

폴리에스터 필름 표면에 대전방지층을 형성하는 방법(일본 특허공개 평11-25615호), 또는 연신된 폴리에스테트 필름에 착체 화합물을 포함하는 제 1 코팅층과 전도성 또는 탄소나노튜브를 포함하는 제 2 코팅층을 포함하는 방법(대한민국 특허공개 제10-2009-0027132호), 접착층에 암모늄염을 이용하여 대전성을 부여하는 방법(대한민국 특허공개 제10-2009-0016241호) 등은 이축 연신된 폴리에스터 필름을 사용하는 오프라인 코팅방식으로 유기용매에 분산된 대전방지제를 사용하고 있다.

기존의 폴리에스터 필름 기재 위에 대전방지층을 형성하는 방법은, 암모늄 양이온을 포함하는 단분자 또는 고분자염을 이용하거나 술폰기나 인산염의 음이온을 이용한 이온성 계면활성제를 이용하는 방법이 있으나, 표면저항이 10승 이하의 성능을 달성하기 어렵고, 대전방지 지속성이 부족하거나 습도 의존성이 크고 특히 층분리등이 문제점으로 지적되고 있다. 또 다른 방법으로서, 산화주석, 산화안티모늄등의 금속산화물이나 금속 입자를 사용할 경우는 대전방지 특성이 우수하나 가격이 고가이며, 벌크 용액에 분산되기 때문에 표면저항 달성을 위해서 사용량이 많아져서, 입자성 물질에 의한 헤이즈(haze)가 높아지며, 금속졸의 분산성이 어려운 단점이 있다.

상기의 대전방지층 형성 방법들은, 이축 연신된 폴리에스터 필름에 오프라인으로 코팅하는 방법으로서 코팅 두께가 0.5 내지 10 ㎛로 두께에 따른 대전방지제 사용은 제조 비용과 비례하는 문제점이 공통적이며, 접착제 코팅 및 하드 코팅시 요구하는 대전방지성 달성이 어렵고, 각각의 물성를 달성하기 위해 선택되는 고분자 수지의 사용이 한정적이고 기술적 해결도 쉽지는 않은 실정이다.

또한, 본 발명자들에 의해 출원된 대한민국 특허등록 제813179호에는 폴리에스터계 우레탄 수지, 전도성 고분자, 방오제 및 슬립제가 혼합된 코팅 조성물을 이용한 방오성 대전방지 폴리에스터 필름에 대해 개시되어 있으나, 상온에서의 대전방지 특성이 감소되고, 필름 외관이 광학용으로 사용할 수 없는 문제점이 제기되었다.

이에, 본 발명자들은 기존 폴리에스터 기재 위에 형성된 대전방지성이 주위환경에 따라 물성이 변화하는 문제점, 오프라인 방법의 환경 친화적이지 못하고 공정의 불편함과 고비용 등의 문제점 등을 해결하기 위하여 연구 노력한 결과, 전도성 고분자를 이용한 방오성 및 내구성이 우수한 대전방지 폴리에스터 필름을 개발할 수 있었다.

따라서, 본 발명의 목적은, 상기의 문제점을 해결하고, 방오성 및 내구성이 우수하며, 대전방지 필름 기재위에 고분자 수지를 2차 코팅한 후에도 대전방지성이 유지되는 대전 방지 투명필름을 제공하는데 본 발명의 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 인라인(in-line) 공정을 이용하여 제조되며 폴리에스터 기재필름의 일면 또는 양면에 전도성 고분자가 도포되어 형성된 대전방지층, 및 상기 대전방지층 상에 코팅된 고분자 수지층을 포함하고, 1 x 10⁶ 내지 1 x 10¹¹ Ω/sq의 표면저항을 가지는, 대전방지 투명필름을 제공한다.

이 때, 상기 대전방지층에 고분자 수지를 인라인 공정 또는 오프라인(off-line) 공정으로 코팅하여 형성된 것이 바람직하다.

상기 대전방지 투명필름은, 상기 폴리에스터 기재필름 위에 전도성 고분자를 도포한 뒤, 인라인 연신공정을 포함하여 제조되며, 1 x 10⁶ 내지 1 x 10¹⁰ Ω/sq의 표면저항을 갖는 것이 바람직하다.

상기 전도성 고분자는, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌, 폴리 p-페닐렌, 폴리 p-페닐렌설파이드, 폴리 p-페닐렌비닐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.

상기 고분자 수지층의 두께는, 0.1 내지 100 ㎛인 것이 바람직하다.

상기 고분자 수지층은, UV 경화수지 또는 열경화 수지를 사용하여, 스크래치 방지기능 또는 대전방지기능을 갖도록 형성되는 것이 바람직하다.

상기 고분자 수지층은, 우레탄계, 아크릴계, 우레탄-아크릴계 공중합체, 폴리이미드계, 폴리아마이드계, 폴리에스터계, 올레핀계 및 멜라민계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자를 사용하는 것이 바람직하다.

상기 대전방지 투명필름은, 20 내지 350 ㎛의 두께를 갖는 것이 바람직하다.

상기 대전방지 투명필름은, 일면에 마이크로렌즈, 프리즘 또는 확산비드층이 형성된 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 폴리티오펜계 전도성 고분자 용액 조성물을 이용하여 폴리에스터 필름 연신 공정에 코팅 후 횡방향 연신을 거쳐 제조된 필름은 우수한 대전방지성과 방오성을 동시에 나타내므로, 폴리에스터 필름을 사용하는 디스플레이 소재 생산성 및 공정성을 향상시키는 효과를 얻을 수 있고, 투명성과 대전방지성 및 방오성이 요구되는 다양한 분야에 활용될 수 있다.

이하 본 발명에 대해 상세히 설명한다.

본 발명자들은 기존 폴리에스테르 기재 위에 형성된 대전방지성이 주위환경에 따라 물성이 변화하는 문제점, 오프라인 방법의 환경 친화적이지 못하고 공정의 불편함과 고비용 등의 문제점 등을 해결하기 위하여 연구 노력한 결과, 폴리티오펜계 전도성 고분자를 이용한 방오성 및 내구성이 우수한 대전방지 폴리에스테르 필름을 제조하였다(대한민국 특허출원 제10-2009-0008568호). 본 발명은 이에 추가하여, 폴리티오펜계 전도성 고분자를 연신공정에서 도포하여 제조된 폴리에스테르 대전방지 필름 기재위에 고분자 수지를 2차 코팅한 후에도 대전방지성이 유지되는 대전 방지 투명필름을 제공하는 것이다. 특히 폴리에스테르 필름 위에 제 2의 수지층을 형성하는 방법으로서, 스크래치 방지를 위한 하드 코팅, 접착성을 부여하는 접착제 코팅층 및 광의 확산, 집광 효과를 위해 제 2의 수지층을 렌즈 및 프리즘을 패턴방식으로 형성할 수 있다.

본 발명에 따른 폴리티오펜계 전도성 고분자는 통상적으로 당 분야에서 사용되는 것으로 특별히 한정하지는 않으나, 바람직하게는 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT), 예를 들어 베이트론-피 (Baytron-P, 베이어사) 제품을 사용할 수 있다. 상기 PEDT는 안정화제(도판트)로서 폴리스티렌술포네이트(PSS)가 도핑되어 있어 물에 잘 녹는 성질을 나타내며, 열적 및 대기 안정성이 매우 우수하다. 또한, 상기 PEDT는 물에 최적 분산성을 유지하기 위하여 PEDT 및 PSS 고형분 농도가 1.0 내지 1.5 중량% 범위로 조정되어 있다. 상기 PEDT는 추가로 물, 알콜 또는 유전상수가 큰 용매와 잘 혼합되기 때문에 이러한 용매와 희석하여 쉽게 코팅할 수 있다. 상기 코팅막은 기타의 전도성 고분자인 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌, 폴리 p-페 닐렌, 폴리 p-페닐렌설파이드 및 폴리 p-페닐렌비닐 중에서 하나 이상을 사용할 수도 있다.

이러한 본 발명에 따른 폴리티오펜계 전도성 고분자 용액 조성물을 이용하여 이축연신 전에 폴리에스터의 적어도 한 면에 코팅하여 횡방향 연신 후 열고정 등의 공정을 거쳐 제조된 대전방지 및 방오성 폴리에스터 필름은 1 x 10⁶ 내지 1 x 10¹⁰ Ω/sq의 표면저항, 투과도가 89 % 이상, 접촉각 90°이상의 고방오성을 유지하면서 표면저항 상온 경시변화와 항온 항습 후 표면저항 변화가 10의 1승 이하로 유지되고, 내습성이 강한 대전방지 및 방오성을 갖는 폴리에스터 필름을 얻을 수 있다. 또한 방오제를 사용하지 않을 경우에도 상기의 표면저항을 유지할 수 있고, 상기 필름의 바람직한 층 두께는 25 내지 250 ㎛이고, 코팅 두께는 20 내지 200 nm이다.

한편, 본 발명의 대전방지 투명필름의 제조방법은 특별히 한정되지 않으며, 프라이머 처리되지 않은 폴리에스터계 기재 한 면 또는 양 면에 폴리티오펜계 전도성 고분자 조성물을 코팅한 후, 100 내지 140 ℃에서 횡방향으로 3 내지 6 배로 연신한 후, 220 내지 240 ℃에서 열 고정시켜 이축연신 폴리에스터 필름을 제조할 수 있다.

상기와 같이 제조된 전도성 대전방지 폴리에스터 필름 면에 고분자 수지를 2차로 코팅하여 투명 필름을 제조하여도 1 X 10⁷ 내지 9 X 10¹¹ Ω/sq의 표면저항의 대전방지성이 유지될 수 있다.

폴리티오펜계 전도성 고분자가 도포된 폴리에스터 필름 면에 2차 오프라인 코팅 소재로는 열경화성 수지, UV 경화형 수지, 접착제 수지 등을 코팅하여도 표면저항이 유지되며 그 유지성은 코팅소재 종류나 용매 및 두께에 영향을 받을 수 있으나, 본 발명의 경우 폴리우레탄, 폴리에스터계 열경화성 수지, 아크릴레이트계 UV 경화형 수지, 아크릴계 접착제 수지 등의 고분자 코팅 물질을 0.1 내지 100 ㎛의 두께로 형성하는 것이 대전방지성을 유지하는 것에 바람직하다.

이하 첨부한 도면에 의해 본 발명의 구성을 상세히 설명한다.

도 1은 폴리티오펜계 전도성 고분자가 도포된 대전방지 면에 제 2차 코팅층을 고분자 수지로 코팅한 필름 단면을 나타낸 도면이다. 이 때, 제 2차 코팅층에 사용되는 고분자 수지로서 우레탄계, 아크릴계, 우레탄-아크릴계 공중합체 및 폴리이미드계, 폴리아마이드계, 폴리에스터계, 올레핀계 및 멜라민계 수지와 같은 열경화성 또는 광경화성 수지를 사용할 수 있다. 상기와 같은 고분자 수지를 사용할 경우 폴리에스터 필름에 처리된 대전방지 효과와 고분자 수지의 경도를 이용하여 내스크래치성이 강한 대전방지 필름을 제조할 수 있다.

도 2는 제 2차 코팅층으로 접착제 코팅과 반대면에 스크래치 방지용 하드코팅이 형성된 것을 나타낸 도면으로 당해 기술분야의 평균적 지식을 가진 자들이 이밖에 다른 기능층을 더 포함시켜 변형하는 것도 가능하다. 상기와 같은 기능성 광학필름의 설계는 다양한 분야에 활용될 수 있으며 아래와 같은 분야에도 효과적으로 사용될 수 있다.

도 3a, 3b 및 3c는 대전방지면에 고분자 수지를 제 2차 층으로 형성하고 그 반대면에 UV 수지 등을 이용하여 마이크로렌즈, 프리즘, 확산비드층을 형성한 필름을 나타내는 도면이다. 마이크로렌즈 형성은 굴절률의 차이를 이용하여 필름 수직 방향의 휘도를 높여주는 기능성 광학필름으로 백라이트유닛에 사용하는 필름 구조를 나타낸다. 상기의 응용은 마이크로렌즈, 프리즘, 확산필름 등 다양한 기능성을 요하는 설계를 행할수 있다. 따라서 마이크로렌즈 배면에 열경화 수지 내지 광경화 수지를 이용하여 제 2층을 형성할 경우 이물 부착방지나 보호필름 사용할 경우 보호필름 박리시 발생하는 정전기를 효과적으로 차단할 수 있고 내스크래치성이 강한 광학필름을 제작할 수 있으며 광학적 휘도 향상에 효과적일 수 있다.

도 4a, 4b 및 4c는 폴리에스터 필름 양면에 대전방지면을 인라인 공정으로 형성하고, 마이크로렌즈, 프리즘, 확산비드층을 추가로 형성한 대전방지 필름을 나타낸 도면이다. 도 3과 마찬가지로 대전방지층에 고분자 수지를 이용한 제 2 코팅층을 형성하고, 또 다른 대전방지층에 기능성 광학특성을 요구하는 마이크로 렌즈, 프리즘, 확산비드 코팅과 같은 패턴을 형성할 수 있다.

도 5a, 5b 및 5c는 대전방지면을 그대로 이용하고 그 반대면에 마이크로 렌즈, 프리즘, 확산비드층과 같은 기능성 부여층을 형성한 투명필름을 나타낸 도면이다. 이는 배면의 스크래치 방지 등 다른 기능이 요구되지 않을 경우에 이물방지, 정전기 억제용 필름으로 사용할 수 있다.

본 발명에 따른 폴리티오펜계 전도성 고분자 용액 조성물을 이용하여 폴리에 스터 필름 연신 공정에 코팅 후 횡방향 연신을 거쳐 제조된 필름은 우수한 대전방지성과 방오성을 동시에 나타내며, 상온에서의 표면저항이 시간에 따른 변화가 작고, 특히 고온 고습에서 전기적 특성이 변하지 않은 투명한 폴리에스터 필름을 얻을 수 있었다. 따라서, 디스플레이 산업에 사용되는 폴리에스터 필름이 공정 중에 정전기를 억제하여 먼지 부착 등의 오염을 방지하거나 방오성이 높아 공정 중 오염물 제거가 용이하여 폴리에스터 필름을 사용하는 디스플레이 소재 생산성 및 공정성을 향상시키는 효과를 얻을 수 있고, 투명성과 대전방지성 및 방오성이 요구되는 다양한 분야에 활용될 수 있다.

또한 연신공정으로 제조된 폴리에스터 대전방지 필름 위에 고분자 수지를 이용하여 2차 코팅층을 형성할 때에도 대전방지 특성이 유지되는 것을 확인할 수 있다. 폴리에스터 필름은 일반적으로 프라이머 층의 경도가 낮아 디스플레이 분야에서는 2차 코팅층으로 하드코팅층을 열경화 수지나 UV 경화수지로 이차 가공하여 사용한다. 특히 확산필름이나 마이크로 렌즈 필름, 프리즘 필름 배면에 1~3H 정도의 경도를 요구하거나 먼지 부착등의 오염방지를 위해 대전방지성이 요구되나, 기존에 사용하는 대전방지제 사용시 원하는 표면저항을 달성하기가 어렵고, 폴리에스터 층과의 박리 등의 문제가 있다. 하지만 본 연구 개발 제품의 경우 열경화 수지, UV 경화수지로 2차 코팅층을 형성하여도 대전방지 특성이 유지되고, 원하는 경도로 다양하게 코팅층을 형성할 수 있다. 또한 디스플레이 분야 등에 사용되는 보호필름용 접착필름의 접착층 또한 박리시 발생하는 정전기를 방지하기 위해 대전방지 접착층이 요구되고 있어 본 발명 필름을 보호 필름에 적용할 경우에도 박리시 발생하는 정전기를 제거할 수 있는 효과가 있다.

상기와 같은 대전방지가 요구되는 기능성 광학필름의 설계를 통해 다양한 분야에 활용될 수 있으며 마이크로 렌즈, 프리즘, 확산필름 등 기능성을 요하는 광학용 필름의 설계를 행할수 있다. 따라서 마이크로렌즈 배면에 열경화 수지 내지 광경화 수지를 이용한 제 2층을 형성하여 이물 부착방지나 보호필름 사용할 경우 보호필름 박리시 발생하는 정전기를 효과적으로 차단할 수 있고 내스크래치성이 강한 광학필름을 제작할 수 있으며 광학적 휘도 향상에 효과적일 수 있다.

또한, 대전방지면이 폴리에스터 필름 양면에 인라인 공정으로 제작된 대전방지 필름의 한면에는 고분자 수지로 내스크래치 및 대전방지 기능이 있는 층을 형성하고 또 다른 한면에 기능성 광학특성을 요구하는 마이크로 렌즈, 프리즘, 확산비드 코팅과 같은 패턴을 형성하여 휘도 향상과 이물방지, 보호필름 부착시 발생하는 정전기를 방지할 수 있다.

또한 대전방지면을 그대로 이용하고 그 반대면에 마이크로렌즈와 같은 기능성 부여 층을 형성한 투명필름을 제조하여 배면의 스크래치 방지 등 다른 기능이 요구되지 않을 경우에 이물방지, 정전기 억제용 필름으로 사용할 수 있는 효과가 있다.

이하, 본 발명을 실시예에 의해 보다 상세히 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니 다.

비교예 1

전도성 고분자로 PEDOT(3,4-폴리에틸렌디옥시티오펜) 수분산 용액을 사용하였으며, 폴리에스터 필름 제조 공정 중 코팅 조성물을 용융 압출되어 나오는 폴리에스터 시트에 전도성 고분자를 도포하고, 횡방향으로 4배 연신시켜 도포된 코팅층을 건조 및 경화시켰다. 이후 230 ℃의 온도에서 열고정하여 전체 두께 188 ㎛의 대전방지 폴리에스터 필름을 제조하였다.

실시예 1

상기 비교예 1에서 얻은 필름의 대전방지층에 제 2차 코팅층으로 열경화 수지를 원하는 두께로 코팅한 후 열경화하여 대전방지 폴리에스터 필름을 제조하였다.

실시예 2

상기 비교예 1에서 얻은 필름의 대전방지층에 제 2차 코팅층으로 UV 경화 수지를 원하는 두께로 코팅한 후 UV 경화를 거친 후 대전방지 폴리에스터 필름을 제조하였다.

실시예 3

상기 비교예 1에서 얻은 필름의 대전방지층에 제 2차 코팅층으로 접착제를 원하는 두께로 코팅한 후 열경화 후 대전방지 폴리에스터 필름을 제조하였다.

실시예 4

상기 실시예 1 또는 2와 같이 폴리에스터 필름의 대전방지층에 열경화 또는 UV 경화수지로 제 2차 코팅층을 형성하고 그 배면에 마이크로렌즈를 UV 수지로 형성하여 다양한 광학 필름을 제조하고 휘도를 측정 하였다.

시험예

물성 평가방법

(1) 표면저항

미국 DESCO사의 표면저항 측정기(모델명:19782)를 사용하여 표면저항(Ω/sq)을 측정하였다(온도: 23 ℃, 상대습도: 30%, 인가전압 : 500V, 단위: Ω/sq). 결과는 하기 표 1에 나타내었다

(2) 휘도

휘도 측정기(BM-7)를 이용하여 마이크로렌즈 필름이 1매인 경우와 2매인 경우를 각각 측정하였고, 대전방지 처리되지 않은 폴리에스터 필름(SH40, SKC사)과 비교하여 휘도를 평가하였다. 결과는 하기 표 2에 나타내었다.

상기 표에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따라 제조된 실시예 1 내지 3은 대전방지 기능이 있는 폴리에스터 필름위에 열경화형 수지, UV 반응형 수지, 접착제 수지 등을 두께 200 ㎛까지 2차 코팅 층을 형성하여도 표면저항이 11승 이하의 대전방지 특성이 유지 되는 것을 알 수 있었다. 또한 대전방지층에 고분자 수지를 제 2차 코팅층으로 사용하고 그 반대면에 마이크로렌즈와 같은 기능성 패턴을 형성하였을 경우 대전방지 필름으로 제조된 마이크로렌즈보다 휘도가 향상되는 것을 확인할 수 있었으며, 배면의 대전방지 특성도 유지되는 것을 알 수 있었다.

이상, 본 발명을 상기 실시예를 중심으로 하여 설명하였으나 이는 예시에 지나지 아니하며, 본 발명은 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 다양한 변형 및 균등한 기타의 실시예를 이하에 첨부한 청구범위 내에서 수행할 수 있다는 사실을 이해하여야 한다.

도 1은 폴리티오펜계 전도성 고분자가 도포된 대전방지면에 제 2차 코팅층을 고분자 수지로 코팅한 필름 단면을 나타낸 것이다.

도 2는 제 2차 코팅층으로 접착제 코팅과 반대면에 스크래치 방지용 하드코팅이 형성된것을 나타낸 것이다.

도 3a, 3b 및 3c는 대전방지면에 고분자 수지를 제 2차 층으로 형성하고 그 반대면에 UV 수지등을 이용하여 마이크로렌즈, 프리즘, 확산비드층을 형성한 필름을 나타낸 것이다.

도 4a, 4b 및 4c는 폴리에스터 필름 양면에 대전방지면을 인라인 공정으로 형성하고, 마이크로렌즈, 프리즘 또는 확산비드층을 추가로 형성한 대전방지 필름을 나타낸 것이다.

도 5a, 5b 및 5c는 대전방지면을 그대로 이용하고 그 반대면에 마이크로 렌즈, 프리즘, 확산비드층과 같은 기능성 부여 층을 형성한 투명필름을 나타낸 것이다.

Claims (11)

1. 인라인(in-line) 공정을 이용하여 제조되며 폴리에스터 기재필름에 전도성 고분자가 도포되어 형성된 대전방지층, 및 상기 대전방지층 상에 코팅된 고분자 수지층을 포함하고, 1 x 10⁶ 내지 1 x 10¹¹ Ω/sq의 표면저항을 가지는 대전방지 투명필름에 있어서,

   상기 대전방지 투명필름의 일면에 마이크로렌즈, 프리즘 및 확산비드층으로부터 선택되는 기능성 부여층이 형성된 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
2. 제1항에 있어서,

   상기 고분자 수지층은, 상기 대전방지층 상에 인라인 공정 또는 오프라인(off-line) 공정으로 코팅하여 형성된 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
3. 제1항에 있어서,

   상기 대전방지 투명필름은, 상기 폴리에스터 기재필름 위에 전도성 고분자를 도포한 뒤, 인라인 연신공정을 포함하여 제조되며, 1 x 10⁶ 내지 1 x 10¹⁰ Ω/sq의 표면저항을 갖는 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
4. 제1항에 있어서,

   상기 전도성 고분자는, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌, 폴리 p-페닐렌, 폴리 p-페닐렌설파이드, 폴리 p-페닐렌비닐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
5. 제1항에 있어서,

   상기 고분자 수지층의 두께는, 0.1 내지 100 ㎛인 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
6. 제1항에 있어서,

   상기 고분자 수지층은, UV 경화수지 또는 열경화 수지를 사용하여, 스크래치 방지기능 또는 대전방지기능을 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
7. 제1항에 있어서,

   상기 고분자 수지층은, 우레탄계, 아크릴계, 우레탄-아크릴계 공중합체, 폴리이미드계, 폴리아마이드계, 폴리에스터계, 올레핀계 및 멜라민계 수지로 이루어 진 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자를 사용하는 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
8. 제1항에 있어서,

   상기 대전방지 투명필름은, 20 내지 350 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 대전방지 투명필름.
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