KR101097128B1 - Method of fabricating the liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

액정표시장치에 있어 어레이 기판과 컬러필터 기판의 모체가 되는 기판은 전통적으로 내열성 및 내화학성이 우수한 유리기판이 사용되고 있다. 하지만 유리기판은 단가가 비싸고, 제조 공정 진행 중 깨짐 또는 파손이 쉽게 발생하는 문제가 있으며, 제품화 후에도 특성상 외부로부터의 충격에 의해 쉽게 깨지는 등의 문제가 있다. BACKGROUND ART In a liquid crystal display device, a substrate which is a matrix of an array substrate and a color filter substrate has traditionally used a glass substrate having excellent heat resistance and chemical resistance. However, the glass substrate is expensive, there is a problem that the breakage or breakage easily occurs during the manufacturing process, there is a problem such as easily broken by the impact from the outside even after commercialization.

본 발명은 유리기판을 이용하여 고온공정을 필요로 하는 스위칭 소자와 컬러필터층을 구성한 하부기판과 플라스틱 기판 상에 저온 공정에 의해 투명전극만을 형성함을 특징으로 하는 상부기판을 저온 진행되는 배향막 형성공정 및 UV경화성 실란트를 이용한 씰패턴 형성공정을 포함하는 셀공정을 진행하며, 특정 에너지 밀도 및 파장을 갖는 UV광의 전면 조사에 의해 액정 정렬 특성을 향상시켜 우수한 표시품질을 갖는 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다.
According to an embodiment of the present invention, an alignment layer is formed at a low temperature by forming a transparent electrode on a lower substrate and a plastic substrate using a glass substrate and a switching element requiring a high temperature process and a color filter layer. And a process of forming a seal pattern using a UV-curable sealant, and improving liquid crystal alignment characteristics by irradiating the entire surface of UV light having a specific energy density and wavelength to produce a liquid crystal display device having excellent display quality. to provide.

배향특성, COT, 플라스틱, 러빙(rubbing), 액정 정렬성, UV광Orientation, COT, plastic, rubbing, liquid crystal alignment, UV light

Description

액정표시장치의 제조 방법{Method of fabricating the liquid crystal display device} Method of fabricating the liquid crystal display device             

도 1은 일반적인 액정표시장치의 분해사시도.1 is an exploded perspective view of a general liquid crystal display device.

도 2a 내지 2h는 본 발명에 따른 액정표시장치용 제 1 기판의 제조 공정 단면도.2A to 2H are cross-sectional views of a manufacturing process of a first substrate for a liquid crystal display device according to the present invention;

도 3a 내지 3b는 본 발명에 따른 액정표시장치용 제 1 기판의 제조 공정 단면도.3A to 3B are sectional views of the manufacturing process of the first substrate for a liquid crystal display device according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치용 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하여 액정패널을 제조하는 것을 도시한 공정 순서도.4 is a process flowchart illustrating manufacturing a liquid crystal panel by bonding a first substrate and a second substrate for a liquid crystal display according to the present invention.

도 5a 내지 도 5g는 본 발명에 따른 액정표시장치 제조를 위한 액정패널 제조 공정도.5a to 5g is a liquid crystal panel manufacturing process diagram for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

도 6a와 도 6b는 러빙(rubbing) 전과 러빙(rubbing) 후의 배향막 표면을 간략히 확대 도시한 도면. 6A and 6B are simplified enlarged views of the surface of the alignment film before rubbing and after rubbing.

도 7은 액정패널 전면에 UV광을 조사하는 것을 도시한 도면.FIG. 7 is a diagram illustrating irradiating UV light onto the entire liquid crystal panel. FIG.

도 8a와 8b는 러빙(rubbing) 실시 후, UV광 조사전의 액정이 정렬된 상태를 나타낸 도면. 8A and 8B are views showing a state in which liquid crystals are aligned after rubbing and before UV light irradiation.                 

도 9a와 9b는 특정 파장 및 에너지 밀도를 갖는 UV광을 조사 후 액정의 정렬상태를 도시한 도면.
9A and 9B illustrate alignment states of liquid crystals after irradiation with UV light having a specific wavelength and energy density.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

210 : (유리재질인)제 1 기판 215 : (UV경화성)씰패턴210: first substrate (glass material) 215: (UV curable) seal pattern

220 : 액정 230 : 액정패널 220: liquid crystal 230: liquid crystal panel

240 : (플라스틱재질인)제 2 기판240: second substrate (plastic material)

290 : 진공합착기 291 : 챔버290: vacuum bonding machine 291: chamber

292 : 스테이지 294 : UV램프
292 stage 294 UV lamp

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 플라스틱 기판을 이용한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device using a plastic substrate and a manufacturing method thereof.

근래에 들어 사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 최근에는 특히 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)형 액정표시장치(TFT-LCD)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 대체하고 있다. In recent years, as the society enters the information age, the display field that processes and displays a large amount of information has been rapidly developed, and recently, the thin film transistor (Thin) having excellent performance of thinning, light weight, and low power consumption has recently been developed. Film Transistor (TFT) type liquid crystal display (TFT-LCD) has been developed to replace the existing cathode ray tube (CRT).                         

액정표시장치의 화상구현원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하는 것으로, 주지된 바와 같이 액정은 분자구조가 가늘고 길며 배열에 방향성을 갖는 광학적 이방성과 전기장 내에 놓일 경우에 그 크기에 따라 분자배열 방향이 변화되는 분극성질을 띤다. 이에 액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 서로 마주보는 면으로 각각 화소전극과 공통전극이 형성된 어레이 기판(array substrate)과 컬러필터 기판(color filter substrate)을 합착시켜 구성된 액정패널을 필수적인 구성요소로 하며, 이들 전극 사이의 전기장 변화를 통해서 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절하고 이때 변화되는 빛의 투과율을 이용하여 여러 가지 화상을 표시하는 비발광 소자이다.The image realization principle of the liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization property of the liquid crystal. As is well known, the liquid crystal has a thin and long molecular structure and optical anisotropy having an orientation in an array, and when placed in an electric field, the liquid crystal has an orientation of molecular arrangement depending on its size. This change is polarized. The liquid crystal display is an essential component of a liquid crystal panel formed by bonding an array substrate and a color filter substrate formed with pixel electrodes and common electrodes facing each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. In addition, it is a non-light emitting device which artificially adjusts the arrangement direction of liquid crystal molecules through the electric field change between these electrodes and displays various images by using the light transmittance which is changed at this time.

최근에는 특히 화상표현의 기본단위인 화소(pixel)를 행렬 방식으로 배열하고 스위칭소자를 각 화소에 배치시켜 독립적으로 제어하는 능동행렬방식(active matrix type)이 해상도 및 동영상 구현능력에서 뛰어나 주목받고 있는데, 이 같은 스위칭 소자로 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)를 사용한 것이 잘 알려진 TFT-LCD(Thin Firm Transistor Liquid Crystal Display device)이다.Recently, the active matrix type, in which pixels, which are the basic units of image expression, are arranged in a matrix manner, and switching elements are arranged in each pixel, is independently noticed for its excellent resolution and video performance. In addition, thin film transistors (TFTs) are well known as TFT-LCDs (Thin Firm Transistor Liquid Crystal Display Devices).

일반적인 액정표시장치의 분해사시도인 도 1에 나타낸 바와 같이 액정층(30)을 사이에 두고 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)이 대면 합착된 구성을 갖는데, 이중 하부의 어레이 기판(10)은 제 1 투명기판(12) 및 이의 상면으로 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 복수개의 게이트 배선(14)과 상기 데이터 배선(16)을 포함하며, 이들 두 배선(14, 16)의 교차지점에는 박막 트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(18)과 일대일 대응 접속되어 있 다.As shown in FIG. 1, which is an exploded perspective view of a general liquid crystal display, the array substrate 10 and the color filter substrate 20 face to face with the liquid crystal layer 30 interposed therebetween. ) Includes a plurality of gate wires 14 and the data wires 16 arranged vertically and horizontally across the first transparent substrate 12 and its upper surface to define a plurality of pixel regions P. The two wires 14 And the thin film transistor T is provided at an intersection point of the pair 16 and is connected one-to-one with the pixel electrode 18 provided in each pixel region P. FIG.

또한 이와 마주보는 상부의 컬러필터 기판(20)은 제 2 투명기판(22) 및 이의 배면으로 상기 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16) 그리고 박막 트랜지스터(T) 등의 비표시영역을 가리도록 각 화소영역(P)을 테두리하는 격자 형상의 블랙매트릭스(25)가 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(25)의 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터층(26)이 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(25)와 적, 녹, 청색 컬러필터층(26) 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(28)이 마련되어 있다.In addition, the upper color filter substrate 20 facing the second transparent substrate 22 and its rear surface cover the non-display area of the gate line 14, the data line 16, the thin film transistor T, and the like. A grid-like black matrix 25 is formed that borders each pixel region P, and red, green, and red are sequentially arranged to correspond to each pixel region P in the grid of the black matrix 25. A blue color filter layer 26 is formed, and a transparent common electrode 28 is provided over the entirety of the black matrix 25 and the red, green, and blue color filter layers 26.

한편, 이 같은 액정표시장치에 있어 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)의 모체가 되는 제 1 및 제 2 투명기판(12, 22)은 전통적으로 유리기판이 사용되고 있다. 이는 유리기판이 내열성 및 내화학성이 뛰어나고, 투명도 또한 우수하여 고온 공정 및 화학약품에 의한 처리에도 기판 자체의 변형 및 변색되지 않기 때문이다. Meanwhile, in the liquid crystal display device, glass substrates are traditionally used for the first and second transparent substrates 12 and 22, which are the mother substrates of the array substrate 10 and the color filter substrate 20. This is because the glass substrate is excellent in heat resistance and chemical resistance, and also excellent in transparency, so that the substrate itself is not deformed or discolored even by a high temperature process and chemical treatment.

하지만 이러한 특성을 갖는 유리기판은 단가가 비싸고, 제조 공정 진행 중 깨짐 또는 파손이 쉽게 발생하는 문제가 있으며, 제품화 후에도 특성상 외부로부터의 충격에 의해 쉽게 깨지는 등의 문제가 있다. However, the glass substrate having such characteristics is expensive, there is a problem that the breakage or breakage easily occurs during the manufacturing process, there is a problem such as easily broken by the impact from the outside even after commercialization.

또한, 최근 들어 노트북이나 PDA와 같은 소형의 휴대용 단말기가 널리 보급됨에 따라 휴대성에 중점으로 두게 됨으로써 경량 박형의 추세이며, 나아가 유연한 특성을 지니고 있어 파손위험이 적은 제품을 찾고 있는 실정이다. In addition, recently, as portable portable devices such as laptops and PDAs are widely used, the emphasis on portability has become a trend of light weight and thinness.

따라서, 이러한 유리기판의 대체물로써 유리기판 대비 단가가 저렴하고, 유연성이 있는 플라스틱 기판이 제안되고 있으나, 액정표시장치 제조 특성상 150℃이 상의 고온을 필요로하는 공정이 많아 플라스틱 기판을 이용한 액정표시장치의 제품화에는 많은 어려움이 있다. Therefore, as a substitute for the glass substrate, a plastic substrate having a lower cost and flexibility than the glass substrate has been proposed. However, due to the manufacturing characteristics of the liquid crystal display, there are many processes requiring a high temperature of 150 ° C. or higher. There are a lot of difficulties in commercialization.

액정표시장치의 제조에는 크게 투명한 기판 상에 화소를 형성하고 상기 각 화소내에 스위칭 소장인 박막 트랜지스터를 형성하는 어레이 공정과, 또 다른 투명한 기판 상에 상기 각 화소에 대응하여 순차 반복되는 적, 녹, 청색의 컬러필터를 형성하는 컬러필터 공정 그리고 상기 두 공정을 진행한 각각의 기판을 이용하여 상기 두 기판 사이에 액정을 개재하여 하나의 액정패널을 형성하는 셀 공정을 진행함으로써 액정표시장치를 완성하게 된다. In the manufacture of the liquid crystal display device, an array process of forming pixels on a large transparent substrate and forming a switching transistor in each pixel, and red, green, and sequential repetitions corresponding to the pixels on another transparent substrate. Complete the liquid crystal display by performing a color filter process for forming a blue color filter and a cell process for forming one liquid crystal panel between liquid crystals between the two substrates by using each of the two substrates. do.

전술한 공정 중, 어레이 공정은 금속물질, 반도체물질, 무기절연물질 등을 증착하고 패터닝을 하는 과정에서 진공장비 또는 챔버를 갖는 장비등을 이용하여 진행되고 있으며, 이러한 장비들은 150℃이상의 고온의 분위기를 필요로 하는 바, 플라스틱 기판을 이용하여 제조하기에는 다소 무리가 있다.In the above-described process, the array process is performed by using a vacuum device or a device having a chamber in the process of depositing and patterning a metal material, a semiconductor material, an inorganic insulating material, etc., such equipment is a high temperature atmosphere of more than 150 ℃ Since it is necessary to manufacture using a plastic substrate is somewhat unreasonable.

또 다른 일례로서 셀 공정에 있어서, 상기 두 기판을 합착하는 경우 씰란트(sealant)를 상기 두 기판 중 어느 하나의 기판 테두리에 인쇄 또는 디스펜싱(dispensing)하여 씰패턴을 형성하고, 상기 두 기판이 소정간격 이격한 상태에서 상기 씰패턴에 모두 접촉하도록 한 후, 상기 씰패턴을 경화시킴으로써 액정패널을 형성하게 되는데, 상기 씰패턴의 경화는 주로 150℃ 이상의 열을 상기 기판에 가함으로 이루어지고 있다.In another example, in the cell process, when the two substrates are bonded to each other, a sealant is printed or dispensed on the edge of one of the two substrates to form a seal pattern, and the two substrates are predetermined. The liquid crystal panel is formed by hardening the seal pattern after all the contact with the seal pattern in the spaced apart state, the hardening of the seal pattern is mainly made by applying a heat of 150 ℃ or more to the substrate.

따라서, 내열성이 약한 플라스틱 기판을 이용하여 액정표시장치를 제조할 경우, 전술한 바와 같이 셀공정 특히 고온의 분위기에 노출되는 씰패턴의 경화공정을 진행시 상기 플라스틱 기판에 변형 또는 변색이 발생하는 문제가 있다.
Therefore, when the liquid crystal display device is manufactured using a plastic substrate having low heat resistance, deformation or discoloration of the plastic substrate may occur during the hardening process of the seal pattern exposed to the cell process, particularly at a high temperature atmosphere, as described above. There is.

전술한 문제를 해결하기 위해서 본 발명은 기판을 합착하여 액정패널을 형성하는데 이용되는 씰란트를 자외선(UV)에 경화되는 것을 이용함으로써 고온 공정을 생략하여 플라스틱 기판의 변형, 변색을 방지하는 것을 목적으로 한다. In order to solve the above-mentioned problems, the present invention aims to prevent deformation and discoloration of the plastic substrate by omitting a high temperature process by using a sealant used to bond a substrate to form a liquid crystal panel by curing with ultraviolet (UV) light. do.

또한, 상기 씰패턴을 경화시키기 위한 특정 에너지 밀도를 갖는 자외선(UV)을 기판 전면에 조사함으로써 액정의 배향 특성을 향상시켜 액정표시장치의 표시품질을 향상시키는 것을 또 다른 목적으로 한다.
In addition, it is another object to improve the display quality of the liquid crystal display device by improving the alignment characteristics of the liquid crystal by irradiating the front surface of the substrate with ultraviolet (UV) having a specific energy density for curing the seal pattern.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법은 다수의 화소영역을 포함하는 액티브 영역이 정의된 액정표시장치의 제조 방법에 있어서, 유리기판 상의 각각의 화소영역에 스위칭 소자를 형성하는 단계와; 상기 스위칭 소자위로 각 화소영역에 순차 반복하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와; 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴 위로 각 화소영역별로 상기 스위칭 소자와 연결된 화소전극을 형성하는 단계와; 플라스틱 기판 전면에 투명전극을 형성하는 단계와; 상기 화소전극과 투명전극 위로 각각 제 1, 2 배향막을 형성하는 단계와; 상기 제 1, 2 배향막에 러빙(rubbing)을 실시하는 단계와; 상기 유리기판 또는 플라스틱 기판 중 어느 하나의 기판의 러빙(rubbing)된 배향막을 위 로 액티브 영역을 테두리하는 UV경화성 씰패턴을 형성하는 단계와; 상기 씰패턴 내측의 액티브 영역에 액정을 적하시키는 단계와; 상기 씰패턴이 형성된 기판 이외의 기판에 은(Ag) 도포 하는 단계와; 상기 액정이 적하된 기판과 은(Ag) 도포가 이루어진 기판을 적정 셀갭이 형성되도록 합착하는 단계와; 상기 합착된 상태의 유리기판 또는 플라스틱 기판 전면에 UV광을 조사하는 단계와; 상기 합착된 상태의 유리기판 및 플라스틱 기판을 액티브 영역 단위로 절단하는 단계를 포함한다. A method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention for achieving the above object is a method of manufacturing a liquid crystal display device having an active area including a plurality of pixel areas, each pixel area on a glass substrate Forming a switching element in the; Forming red, green, and blue color filter patterns which are sequentially repeated on the switching element in each pixel region; Forming a pixel electrode connected to the switching element for each pixel region on the red, green, and blue color filter patterns; Forming a transparent electrode on the front surface of the plastic substrate; Forming first and second alignment layers on the pixel electrode and the transparent electrode, respectively; Performing rubbing on the first and second alignment layers; Forming a UV-curable seal pattern bordering the active region on the rubbed alignment layer of any one of the glass substrate and the plastic substrate; Dropping liquid crystal into an active region inside the seal pattern; Applying silver (Ag) to a substrate other than the substrate on which the seal pattern is formed; Bonding the substrate onto which the liquid crystal is dropped and the substrate on which silver (Ag) is applied to form an appropriate cell gap; Irradiating UV light on the entire surface of the bonded glass substrate or plastic substrate; And cutting the glass substrate and the plastic substrate in the bonded state into active area units.

이때, 상기 UV광의 파장은 250nm 내지 450nm 이며, 상기 UV광의 에너지 밀도는 1J/㎠ 내지 2J/㎠ 인 것이 바람직하다. At this time, the wavelength of the UV light is 250nm to 450nm, the energy density of the UV light is preferably 1J / ㎠ to 2J / ㎠.

상기 UV광의 조사는 편광판을 통과하여 편광된 UV광이 조사되는 것이 특징이다. The UV light is characterized in that the polarized UV light is irradiated through the polarizing plate.

또한, 상기 제 1, 2 배향막을 형성하는 단계는 제 1, 2 배향막을 플라스틱 기판 및 유리기판 상에 각각 인쇄하는 단계와; 상기 유리기판 및 플라스틱 기판 상에 형성된 제 1, 2 배향막을 각각 경화시키는 단계를 포함하며, 상기 플라스틱 기판 상에 형성된 배향막의 경화는 그 경화온도가 150℃ 이하인 것이 바람직하다. The forming of the first and second alignment layers may include printing the first and second alignment layers on a plastic substrate and a glass substrate, respectively; And curing the first and second alignment layers formed on the glass substrate and the plastic substrate, respectively, wherein curing of the alignment layer formed on the plastic substrate has a curing temperature of 150 ° C. or less.

또한, 상기 스위칭 소자를 형성하는 단계는 상기 각 화소영역에 게이트 전극과 게이트 절연막과 채널부를 포함하는 반도체층과 소스 및 드레인 전극으로 구성되는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 박막 트랜지스터를 포함하여 전면에 각 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호층을 형성하는 단계와; 상기 보호층 위로 상기 드레인 콘택홀을 통해 드레인 전극과 접촉하는 드레인 보조전극을 형성하는 단계를 포함한다. 이때, 상기 화소전극은 상기 드레인 보조전극과 접촉하며 형성된다. The forming of the switching element may include forming a thin film transistor including a semiconductor layer including a gate electrode, a gate insulating layer, and a channel portion, and a source and a drain electrode in each pixel region; Forming a protective layer including the thin film transistor and having a drain contact hole exposing each drain electrode on a front surface thereof; Forming a drain auxiliary electrode contacting the drain electrode through the drain contact hole on the passivation layer. In this case, the pixel electrode is formed in contact with the drain auxiliary electrode.

또한, 상기 화소전극 외부로 노출된 적, 녹, 청색 컬러필터 위로 높이를 가지며 이격되어 배치되는 패턴드 스페이서를 형성하는 단계를 더욱 포함한다. The method may further include forming a patterned spacer spaced apart from each other on the red, green, and blue color filters exposed to the outside of the pixel electrode.

또한, 상기 투명전극 형성 이전에 플라스틱 기판의 상면 또는 하면 또는 양면에 무기절연물질을 증착하여 배리어층(barrier layer)을 형성하는 단계를 더욱 포함한다. The method may further include forming a barrier layer by depositing an inorganic insulating material on the top, bottom, or both surfaces of the plastic substrate before forming the transparent electrode.

또한, 상기 액정을 적하시키는 단계는 진공의 분위기에서 진행되는 것이 바람직하다. In addition, the dropping of the liquid crystal is preferably carried out in a vacuum atmosphere.

또한, 상기 액정이 적하된 기판과 은(Ag) 도포가 이루어진 기판을 적정 셀갭이 형성되도록 합착하는 단계는 진공의 분위기에서 상기 액정이 적하된 기판과 은(Ag) 도포가 이루어진 기판을 상기 화소전극과 투명전극이 마주보도록 위치시키는 단계와; 상기 마주보는 두 기판을 씰패턴이 두 기판과 모두 접촉하도록 밀착시키는 단계와; 상기 두 기판이 밀착된 상태에서 진공의 분위기를 대기압 분위기로 바꾸어 상기 적하된 액정이 상기 씰패턴 내측에서 퍼지도록 하는 단계를 포함한다.In addition, the step of bonding the substrate on which the liquid crystal is dropped and the substrate on which silver is applied is performed so that an appropriate cell gap is formed may include forming the substrate on which the liquid crystal is dropped and the coating of silver on the pixel electrode in a vacuum atmosphere. Positioning the transparent electrode so as to face each other; Contacting the two opposing substrates so that the seal pattern contacts both substrates; Changing the atmosphere of vacuum to an atmosphere of atmospheric pressure while the two substrates are in close contact with each other so that the dropped liquid crystal spreads inside the seal pattern.

이하 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 있어서 가장 특징적인 것은 150℃ 이상의 고온 공정을 많이 포함하는 스위칭 소자인 박막 트랜지스터를 형성하는 어레이 공정은 유리기판을 이용하여 진행하고, 더불어 상기 유리기판에 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 더욱 형성하고, 이러한 스위칭 박막트랜지스터 및 컬러필터 패턴이 형성된 기판에 대응되는 기판은 플라스틱 기판을 이용한 액정표시장치를 구성하는 것이다. 이 경우 상기 플라 스틱 기판에는 액정표시장치의 모드에 따라 공통전극이 형성될 수도 있고, 또는 생략될 수도 있다. The most characteristic feature of the present invention is an array process for forming a thin film transistor, which is a switching element including a large number of high temperature processes of 150 ° C. or more, by using a glass substrate, and adding red, green, and blue color filter patterns to the glass substrate. Further, the substrate corresponding to the substrate on which the switching thin film transistor and the color filter pattern are formed constitutes a liquid crystal display using a plastic substrate. In this case, the common electrode may be formed or omitted on the plastic substrate according to the mode of the liquid crystal display.

따라서, 상기 플라스틱 기판에는 스위칭 소자나 또는 컬러필터 패턴을 형성하지 않음으로써 고온 공정을 진행할 필요가 없으므로 고온 공정 진행에 의한 변형 및 변색의 문제는 발생하지 않게 된다. Therefore, since the high temperature process does not need to be performed by not forming the switching element or the color filter pattern on the plastic substrate, deformation and discoloration due to the high temperature process does not occur.

하지만, 스위칭 소자 및 컬러필터 패턴을 형성한 유리기판(이하 제 1 기판이라 칭함)과 공통전극이 형성된 플리스틱 기판(이하 제 2 기판이라 칭함)에는 공통적으로 배향막을 형성하고, 이를 경화시키는 공정이 포함되어 있는데, 일반적으로 상기 배향막의 경화공정은 200℃이상으로 진행되고 있으나, 150℃이하로 경화하여도 경화시간을 상대적으로 늘리면 배향막의 역할을 수행하는데 별 문제가 없음을 실험적으로 확인한 바, 제 1 기판은 배향막 형성 후 종래대로 200℃이상의 고온에서 경화를 실시하고, 제 2 기판은 150℃이하로 상기 제 1 기판상의 배향막을 경화시키는 시간보다 좀더 긴 시간동안 경화공정을 실시함으로써 플라스틱 기판 재질인 제 2 기판은 고온에 노출되지 않도록 하였다. However, a process of forming an alignment layer and curing the glass substrate (hereinafter referred to as a first substrate) on which the switching element and the color filter pattern are formed and a plastic substrate (hereinafter referred to as a second substrate) on which the common electrode is formed are commonly performed. In general, the curing process of the alignment film is proceeding to more than 200 ℃, even if the curing time less than 150 ℃ by increasing the curing time relatively experimentally confirmed that there is no problem in performing the role of the alignment film, The first substrate is cured at a high temperature of 200 ° C. or more after the formation of the alignment film, and the second substrate is a plastic substrate material by performing a curing process for a longer time than the time of curing the alignment film on the first substrate below 150 ° C. The second substrate was not exposed to high temperatures.

이하, 도면을 참조하여 본원발명에 따른 플라스틱 기판을 이용한 액정표시장치의 제조 방법에 대해 상세하게 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display using a plastic substrate according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2a 내지 2h는 본 발명에 따른 액정표시장치용 제 1 기판의 제조 공정 단면도이다. 2A to 2H are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a first substrate for a liquid crystal display according to the present invention.

우선, 도 2a에 도시한 바와 같이, 투명한 유리기판(110) 상에 일방향의 게이트 배선(미도시)과 상기 게이트 배선(미도시)에서 분기한 게이트 전극(112)을 형성 한다. 상기 게이트 배선(미도시)과 게이트 전극(112)은 금속물질을 유리기판(110) 전면에 증착하여 단일층을 형성하거나 또는 서로다른 금속물질을 연속하여 증착함으로써 이중층으로 형성하고, 상기 단일층 또는 이중층 위로 전면에 포토레지스트를 도포한 후, 상기 포토레지스트에 빛의 투과영역과 차단영역을 갖는 마스크(미도시)를 이용하여 노광하고, 상기 노광된 포토레지스트를 현상함으로써 특정 형태의 포토레지스트 패턴(미도시)을 형성하고, 상기 포토레지스트 패턴(미도시) 외부로 노출된 단일층 또는 이중층 구조의 금속물질을 동시식각 또는 연속식각하고, 상기 식각 후 단일층 또는 이중층 구조의 금속층 위에 남아있는 포토레지스트 패턴(미도시)을 스트립(strip) 또는 애싱(ashing)함으로써 형성되게 된다. First, as shown in FIG. 2A, a gate wiring in one direction and a gate electrode 112 branched from the gate wiring (not shown) are formed on the transparent glass substrate 110. The gate line and the gate electrode 112 are formed by depositing a metal material on the entire surface of the glass substrate 110 to form a single layer or by forming a double layer by successively depositing different metal materials. After the photoresist is coated on the entire surface of the bilayer, the photoresist is exposed to light using a mask (not shown) having a light transmission region and a blocking region, and the exposed photoresist is developed to develop a specific photoresist pattern ( (Not shown), and simultaneously or continuously etching a single or double layer metal material exposed to the outside of the photoresist pattern (not shown) and remaining on the metal layer of the single layer or double layer structure after the etching. It is formed by striping or ashing the pattern (not shown).

이후, 상기 단일층 또는 이중층 구조의 게이트 배선(미도시) 및 게이트 전극(112)을 포함한 유리기판(110) 전면에 게이트 절연막(117)을 형성한다. Thereafter, a gate insulating layer 117 is formed on the entire surface of the glass substrate 110 including the gate wiring (not shown) and the gate electrode 112 of the single layer or double layer structure.

다음, 도 2b에 도시한 바와 같이, 상기 게이트 절연막(117) 위로 순수 비정질 실리콘(a-Si) 및 불순물 비정질 실리콘(n+ a-Si)을 전면에 연속 증착하고, 전술한 포토레지스트의 도포, 노광, 현상, 식각 등을 포함하는 마스크 공정을 진행하여 상기 게이트 전극(112)에 대응하여 액티브층(120a)과 오믹콘택층(120b)으로 이루어진 반도체층(120)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 2B, pure amorphous silicon (a-Si) and impurity amorphous silicon (n + a-Si) are successively deposited on the gate insulating layer 117, and the photoresist is coated and exposed. The semiconductor layer 120 including the active layer 120a and the ohmic contact layer 120b may be formed to correspond to the gate electrode 112 by performing a mask process including development, etching, and the like.

다음, 도 2c에 도시한 바와 같이, 상기 반도체층(120) 위로 금속물질을 전면에 증착하고 마스크 공정을 진행하여 상기 반도체층(120) 상부에서 이격하는 소스 및 드레인 전극(122, 124)과, 상기 소스 전극(122)과 연결되며 상기 게이트 배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터 배선(미도시)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 2C, source and drain electrodes 122 and 124 spaced apart from the upper portion of the semiconductor layer 120 by depositing a metal material on the entire surface of the semiconductor layer 120 and performing a mask process; A data line (not shown) connected to the source electrode 122 and crossing the gate line (not shown) to define the pixel area P is formed.                     

이때, 도면에는 단일층으로 형성한 것을 나타내었지만, 상기 데이터 배선(미도시)과 소스 및 드레인 전극(122, 124)도 상기 게이트 배선(미도시) 및 게이트 전극(112)과 마찬가지로 이중층 구조를 형성할 수도 있다. In this case, although the figure shows a single layer, the data line (not shown) and the source and drain electrodes 122 and 124 also have a double layer structure like the gate line (not shown) and the gate electrode 112. You may.

이후, 상기 소스 및 드레인 전극(122, 124) 사이의 이격된 영역에 노출된 반도체층(120) 중 불순물 비정질 실리콘의 오믹콘택층(120b)을 식각하여 제거하여 채널부(ch)를 형성한다.Thereafter, the ohmic contact layer 120b of impurity amorphous silicon is removed by etching the semiconductor layer 120 exposed to the spaced apart region between the source and drain electrodes 122 and 124 to form a channel portion ch.

다음, 도 2d에 도시한 바와 같이, 상기 소스 및 드레인 전극(122, 124)을 포함한 유리기판(110) 전면에 보호층(126)을 형성하고, 마스크 공정을 진행하여 하부의 드레인 전극(124)을 일부 노출시키는 드레인 콘택홀(127)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 2D, a protective layer 126 is formed on the entire surface of the glass substrate 110 including the source and drain electrodes 122 and 124, and a mask process is performed to form a lower drain electrode 124. A drain contact hole 127 is formed to partially expose the drain.

다음, 도 2e에 도시한 바와 같이, 상기 드레인 콘택홀(127)을 갖는 보호층(126) 위로 빛의 차폐력이 우수한 금속물질로써 상기 소스 및 드레인 전극(122, 124) 사이의 채널부(ch)을 차단하기 위한 차광막(128)을 형성하고, 동시에 상기 차광막(128)과 동일 물질로써 상기 드레인 콘택홀(127)을 통해 드레인 전극(124)과 접촉하는 드레인 보조전극(129)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 2E, a channel material between the source and drain electrodes 122 and 124 is a metal material having excellent shielding power over the passivation layer 126 having the drain contact hole 127. ) And a drain auxiliary electrode 129 contacting the drain electrode 124 through the drain contact hole 127 with the same material as the light blocking film 128.

다음, 도 2f에 도시한 바와 같이, 상기 보호층(126) 및 차광막(128)과 드레인 보조전극(129) 위로 적색 레지스트를 도포하고, 마스크(미도시)를 이용하여 노광하고, 상기 적색 레지스트를 현상함으로써 일정간격으로 반복되는 적색 컬러필터 패턴(130a)을 형성하고, 상기 적색 컬러필터 패턴(130a)을 형성한 방법대로 녹색 및 청색 컬러필터 패턴(130b, 130c)을 형성함으로써 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(130a, 130b, 130c)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 2F, a red resist is coated on the passivation layer 126, the light blocking film 128, and the drain auxiliary electrode 129, exposed using a mask (not shown), and the red resist is exposed. By developing, the red color filter pattern 130a is repeated at regular intervals, and the green and blue color filter patterns 130b and 130c are formed according to the method of forming the red color filter pattern 130a. The color filter patterns 130a, 130b, and 130c are formed.                     

이때, 상기 각각의 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(130a, 130b, 130c)은 상기 게이트 배선(미도시)과 데이터 배선(미도시)이 교차하여 정의되는 화소영역(P)별로 순차적으로 반복되며 형성되는 것이 특징이며, 상기 드레인 보조전극(129)에 대응되는 일부영역에는 각 색의 레지스트가 현상되어 상기 드레인 보조전극(129)이 노출되도록 하는 드레인 보조 콘택홀(132)을 형성하는 것이 특징이다. In this case, each of the red, green, and blue color filter patterns 130a, 130b, and 130c is sequentially repeated for each pixel region P defined by the gate line (not shown) and the data line (not shown) intersecting each other. In some areas corresponding to the drain auxiliary electrode 129, a resist of each color is developed to form a drain auxiliary contact hole 132 to expose the drain auxiliary electrode 129. .

다음, 도 2g에 도시한 바와 같이, 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(130a, 130b, 130c) 위로 투명도전성 물질을 전면에 증착하고 마스크 공정을 진행하여 패터닝함으로써 하부의 드레인 보조전극(129)과 접촉하며 각 화소영역(P)별로 독립되는 화소전극(134)을 형성함으로써 유기재질의 액정표시장치용 제 1 기판(109)을 완성한다. Next, as illustrated in FIG. 2G, a transparent conductive material is deposited on the red, green, and blue color filter patterns 130a, 130b, and 130c on the entire surface, and patterned by performing a mask process to form a lower drain auxiliary electrode 129. The first substrate 109 for an organic material liquid crystal display device is completed by forming a pixel electrode 134 in contact with each other and in each pixel area P.

이때, 도 2h에 도시한 바와 같이, 상기 제 1 기판(109)상의 상기 화소전극(134) 위로 투명한 유기절연물질을 도포하고, 이를 패터닝함으로써 상기 화소전극(134)과 화소전극(134) 사이의 노출된 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(130a, 130b, 130c) 상부로 게이트 배선(미도시) 또는 데이터 배선(미도시)이 형성된 영역에 대응하여 일정간격을 가지며, 소정의 높이를 갖는 패턴드 스페이서(140)를 더욱 형성할 수 도 있다. In this case, as shown in FIG. 2H, a transparent organic insulating material is coated on the pixel electrode 134 on the first substrate 109 and patterned to form a gap between the pixel electrode 134 and the pixel electrode 134. Patterned pattern having a predetermined height and having a predetermined interval corresponding to an area where a gate line (not shown) or a data line (not shown) is formed on the exposed red, green, and blue color filter patterns 130a, 130b, and 130c. The spacer 140 may be further formed.

다음, 도 3a 내지 3b는 본 발명에 따른 액정표시장치용 제 2 기판의 제조 공정 단면도이다.3A to 3B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the second substrate for a liquid crystal display according to the present invention.

우선, 도 3a에 도시한 바와 같이, 투명한 플라스틱 기판(140)의 상면 또는 하면 또는 양면에 무기절연물질인 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)을 전면에 증착함으로써 배리어층(144)을 형성한다. 이는 플라스틱 기판(140)이 유리기판 대비 휨 정도가 크므로 이러한 휨 발생을 보상하고자 배리어(barrier)층(미도시)을 형성하는 것이다. First, as shown in FIG. 3A, the barrier layer 144 is formed by depositing silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx), which is an inorganic insulating material, on the top, bottom, or both surfaces of the transparent plastic substrate 140. Form. This is because the plastic substrate 140 has a greater degree of warpage than the glass substrate, thereby forming a barrier layer (not shown) to compensate for the warpage.

다음, 도 3b에 도시한 바와 같이, 상기 배리어층(144)이 형성된 플라스틱 기판(140)상에 투명도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO)을 전면에 증착하여 투명전극(147)을 형성함으로써 제 2 기판(139)을 완성한다.Next, as illustrated in FIG. 3B, a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) is deposited on the entire surface of the plastic substrate 140 on which the barrier layer 144 is formed to form the transparent electrode 147. By forming, the second substrate 139 is completed.

전술한 제 2 기판(139)의 제조에 있어서, 상기 배리어층(144)을 형성하는 것 대신에 휨 발생을 방지하고자 상기 플라스틱 기판을 수용할 수 있는 홈부를 구비하고, 휨 발생이 적은 더욱 상세히는 최소한 유리기판 정도의 휨이 발생하는 리지드(rigid) 기판에 상기 플라스틱 기판을 부착하고 상기 리지드(rigid) 기판에 부착된 상태로 반송 등이 진행되도록 하여 휨 발생 방지를 위한 상기 배리어층을 형성하지 않고 상기 플라스틱 기판 상에 직접 투명전극을 형성할 수 도 있다. 이때, 상기 리지드 기판은 상기 제 1, 2 기판을 합착한 후 제거된다. In the manufacturing of the second substrate 139 described above, instead of forming the barrier layer 144, a groove portion for accommodating the plastic substrate is provided to prevent the warpage from occurring, The plastic substrate is attached to a rigid substrate having a warpage of at least about a glass substrate, and conveying is performed in a state in which the plastic substrate is attached to the rigid substrate, without forming the barrier layer for preventing warpage. The transparent electrode may be directly formed on the plastic substrate. At this time, the rigid substrate is removed after bonding the first and second substrates.

다음, 전술한 바와 같이 제작된 유리 재질의 제 1 기판과 플라스틱 재질의 제 2 기판을 액정을 개재한 후, 부착하여 하나의 액정표시장치를 완성하는 셀 공정에 대해 셀 공정 순서도인 도 4와 일부 셀 공정을 도시한 도 5a 내지 5d를 통해 설명한다. 이때, 설명의 편의상 도면부호는 200번대로 재부여 하였다.Next, FIG. 4 and a part of a cell process flowchart of a cell process for attaching a first glass substrate and a plastic second substrate manufactured as described above through a liquid crystal and then attaching one to complete a liquid crystal display device. A cell process will be described with reference to FIGS. 5A-5D. At this time, for convenience of description, reference numerals have been renumbered 200 times.

우선, 도 4와 도 5a에 도시한 바와 같이, 제 1 단계로서 상기 제 1 기판 (210)의 화소전극 상부 및 상기 제 2 기판의 투명전극 상부에 각각 주쇄 및 측쇄를 갖는 고분자 물질 예를들면 폴리이미드(poly imide)를 스테이지(252), 판동(254), 아니록스롤(256), 닥터롤(258) 및 디스펜서(260)를 포함하여 구성되는 배향막 코팅장치(250)를 이용하여 인쇄하고, 제 2 단계로서 상기 배향막(212)이 인쇄된 제 1, 2 기판(200, 미도시)을 경화장치(미도시) 내에서 적정시간 고온에 노출시킴으로써 상기 제 1, 2 기판(200, 미도시)상의 배향막(212)을 경화시킨다. First, as shown in FIGS. 4 and 5A, as a first step, a polymer material having a main chain and a side chain on the pixel electrode of the first substrate 210 and the transparent electrode of the second substrate, for example, poly The polyimide is printed using an alignment film coating apparatus 250 including a stage 252, a pan 254, an anilox roll 256, a doctor roll 258, and a dispenser 260, As a second step, the first and second substrates 200 (not shown) on which the alignment layer 212 is printed are exposed to a high temperature for a proper time in a curing apparatus (not shown), so that the first and second substrates 200 (not shown) are exposed. The alignment film 212 of the phase is cured.

이때, 유리재질의 기판을 이용한 제 1 기판(210)은 200℃이상의 고온에 노출되어도 문제되지 않으므로, 200℃이상의 고온의 분위기에서 상기 배향막(212)을 경화시키고, 플라스틱 재질의 제 2 기판(미도시)은 150℃이상의 고온 공정을 진행하면 변형 및 변질되므로 이를 방지하고자 150℃ 이하의 분위기에서 상기 배향막을 경화시킨다. 이 경우 경화시간은 제 1 기판(210) 내의 배향막(212)을 경화시키는 시간보다 상기 제 2 기판(미도시)내의 배향막(미도시)을 경화시키는 시간이 길어질 수 있다. In this case, since the first substrate 210 using the glass substrate is not a problem even when exposed to a high temperature of 200 ° C. or more, the alignment film 212 is cured in a high temperature atmosphere of 200 ° C. or more, and a second substrate (not illustrated) of plastic material is used. C) is deformed and deteriorated when the high temperature process is performed at 150 ° C. or higher, thereby curing the alignment layer in an atmosphere of 150 ° C. or less. In this case, the curing time may be longer than the curing time of the alignment film 212 in the first substrate 210, and the curing time of the alignment film (not shown) in the second substrate (not shown).

다음, 도 4와 도 5b에 도시한 바와 같이, 제 3단계로서 배향막(212, 미도시)이 각각 형성된 제 1, 2 기판(210, 미도시)을 스테이지(264)와 러빙롤(266)을 포함하여 구성되는 러빙(rubbing) 장치(262)로 이동시키고, 상기 경화된 배향막(212, 미도시)의 표면을 빠른 속도로 회전하는 러빙포(268)가 감긴 러빙롤(266)과 마찰하며 일방향으로 진행시킴으로써 상기 배향막(212, 미도시) 표면의 측쇄를 일방향으로 정렬시킨다. Next, as shown in FIGS. 4 and 5B, the stages 264 and the rubbing rolls 266 may be formed by the first and second substrates 210 (not shown) on which the alignment layer 212 (not shown) is formed, respectively, as a third step. It moves to a rubbing device 262 comprising a, and one direction rubbing with a rubbing roll 266 wound around a rubbing cloth 268 that rotates the surface of the cured alignment layer 212 (not shown) at a high speed. By advancing to the side chain side of the alignment film 212 (not shown) is aligned in one direction.

러빙(rubbing) 전과 러빙(rubbing) 후의 배향막 표면을 간략히 확대 도시한 도 6a와 도6b를 참조하면, 러빙(rubbing)전(도 6a 참조)에는 배향막 표면의 주쇄(main chain)(212a)로부터 분기한 다수의 측쇄(side chain)(212b)들이 불규칙인 상태를 보이고 있으나, 러빙(rubbing) 실시 후(도 6b 참조) 상기 불규칙적인 배열을 한 측쇄(212b)들이 일방향으로 배열됨을 알 수 있다. 6A and 6B which briefly enlarge the alignment film surface before rubbing and after rubbing, before rubbing (see FIG. 6A), branches from the main chain 212a of the alignment film surface before rubbing (see FIG. 6A). Although a plurality of side chains 212b are in an irregular state, it can be seen that the irregularly arranged side chains 212b are arranged in one direction after rubbing (see FIG. 6B).

다음, 도 4와 도 5c에 도시한 바와 같이, 제 4 단계로서 제 1 기판(210) 상에는 씰 디스펜싱 장치(270)를 이용하여 화상을 표시하는 액티브 영역(AA)을 둘러싸는 씰패턴(215)을 형성하고, 동시에 제 2 기판(미도시) 상에는 제 1, 2 기판(210, 미도시)의 도통을 위한 은(Ag) 도포 공정을 실시하여 도통패턴(미도시)을 형성한다. 이때, 상기 액티브 영역(AA)을 테두리하며 형성되는 씰패턴(215)은 UV광 조사에 의해 경화되는 특성을 갖는 UV경화성 씰란트(sealant)로서 형성되는 것이 특징이다. Next, as shown in FIGS. 4 and 5C, the seal pattern 215 surrounding the active area AA displaying an image using the seal dispensing device 270 on the first substrate 210 as the fourth step. ) And at the same time, a conductive pattern (Ag) coating process for conducting the first and second substrates 210 (not shown) is performed on the second substrate (not shown) to form a conduction pattern (not shown). In this case, the seal pattern 215 formed around the active area AA may be formed as a UV-curable sealant having a property of being cured by UV light irradiation.

도면(도 4와 도 5c)에서는 제 1 기판 상에 씰패턴이 형성되고 제 2 기판 사에 도통패턴이 형성된 것을 일예로 들었으나 있으나, 제 2 기판 상에 씰패턴을 형성하고, 제 1 기판 상에 은 도포에 의한 도통패턴을 형성할 수 도 있다. In FIG. 4 and FIG. 5C, although the seal pattern is formed on the first substrate and the conduction pattern is formed on the second substrate, the seal pattern is formed on the second substrate and the seal pattern is formed on the first substrate. It is also possible to form a conductive pattern by silver coating.

다음, 도 4와 도 5d에 도시한 바와 같이, 제 5 단계로서 상기 씰패턴이 형성된 제 1 기판을 진공챔버(미도시)와 스테이지(286)와 액정 디스펜서(284)를 포함하여 구성된 진공 액정 적하 장치(280)의 진공챔버(미도시) 내부의 스테이지(286) 위로 위치시키고, 진공의 분위기에서 액정(220)을 상기 제 1 기판(210)상의 상기 씰패턴(215)으로 둘러싸인 액티브 영역(AA)에 적정량을 적하한다. Next, as illustrated in FIGS. 4 and 5D, the first liquid crystal dropper is formed into a first liquid crystal substrate including a vacuum chamber (not shown), a stage 286, and a liquid crystal dispenser 284 as a fifth step. An active area AA positioned above the stage 286 in a vacuum chamber (not shown) of the device 280 and surrounded by the seal pattern 215 on the first substrate 210 in a vacuum atmosphere. ) Is added dropwise.

다음, 도 4와 도 5e에 도시한 바와 같이, 제 6 단계로서 진공챔버(291)와 상 부 및 하부 스테이지(292, 293)와 UV램프(294)를 포함하여 구성된 진공합착장치(290)의 진공 분위기를 유지하는 진공챔버(291) 내의 하부 스테이지(292)에 상기 액정(220)이 적정량 적하된 제 1 기판(210)을 위치시키고, 상기 상부 스테이지(293)에는 상기 은(Ag) 도포가 이루어진 제 2 기판(240)을 흡착시켜 위치시키고, 상기 제 1, 2 기판(210, 240)을 정렬시킨 후, 상기 상부 스테이지(293)를 하부 스테이지(292)쪽으로 이동시켜 상기 제 2 기판(240)을 상기 제 1 기판(210)과 접촉시킨다. 이 경우, 액정이 제 2 기판에 적하되었을 경우, 상기 제 2 기판이 하부 스테이지에 위치하고, 제 1 기판이 상부 스테이지에 위치할 수도 있다. Next, as shown in FIGS. 4 and 5E, as a sixth step, the vacuum bonding apparatus 290 including the vacuum chamber 291, the upper and lower stages 292 and 293, and the UV lamp 294 is formed. The first substrate 210 having the appropriate amount of the liquid crystals 220 dropped on the lower stage 292 in the vacuum chamber 291 maintaining the vacuum atmosphere, and the silver (Ag) coating is applied to the upper stage 293. After adsorbing and positioning the second substrate 240, the first and second substrates 210 and 240 are aligned, and then moving the upper stage 293 to the lower stage 292 to the second substrate 240. ) Is in contact with the first substrate 210. In this case, when liquid crystal is dripped on a 2nd board | substrate, the said 2nd board | substrate may be located in a lower stage, and a 1st board | substrate may be located in an upper stage.

다음, 도 4와 도 5f에 도시한 바와 같이, 상기 제 1, 2 기판(210, 240)을 접촉시킨 후, 상기 진공 상태인 진공챔버(291)내 분위기를 대기압 분위기로 바꾸면, 상기 제 1, 2 기판(210, 240) 사이의 상기 씰패턴(215) 내측은 진공인 상태이고, 상기 제 1, 2 기판(210, 240) 외측 즉 챔버내부는 대기압이 형성됨으로써 상기 대기압에 의해 상기 제 1, 2 기판(210, 240)이 서서히 밀착되어 진다. 이때, 씰패턴(215)내측으로 적하된 액정(220)이 서서히 퍼지며 상기 씰패턴(215) 내측을 채우게 되며, 동시에 상기 씰패턴(215) 또한 대기압에 의해 눌려기게 되어 소정폭을 가지며 퍼지게 된다. Next, as shown in FIGS. 4 and 5F, when the first and second substrates 210 and 240 are brought into contact with each other, the atmosphere in the vacuum chamber 291 in the vacuum state is changed to an atmospheric pressure atmosphere. The inside of the seal pattern 215 between the two substrates 210 and 240 is in a vacuum state, and an atmospheric pressure is formed outside the first and second substrates 210 and 240, that is, inside the chamber, so that the first, 2 The substrates 210 and 240 are brought into close contact with each other. At this time, the liquid crystal 220 dropped into the seal pattern 215 gradually spreads and fills the inside of the seal pattern 215, and at the same time, the seal pattern 215 is also pressed by atmospheric pressure to spread with a predetermined width.

일정시간이 지나면 두 기판(210, 240)이 밀착되는 것이 평형인 상태에 이르게 되며, 더욱 정확히는 상기 씰패턴(215)과 상기 제 1 기판(210) 상에 형성된 패턴드 스페이서(미도시)에 의해 상기 두 기판(210, 240)이 지지됨으로써 적정 셀갭을 유지하게 된다. After a certain period of time, the two substrates 210 and 240 are brought into close contact with each other, and more precisely, the patterned spacers (not shown) formed on the seal pattern 215 and the first substrate 210. The two substrates 210 and 240 are supported to maintain an appropriate cell gap.                     

이렇게 씰패턴(215)이 퍼지고, 더 이상 두 기판(210, 240)의 밀착이 진행되지 않고 적정 셀갭을 형성하게 되면, 제 7 단계로서 상기 제 1 기판(210) 하부나 제 2 기판(240) 상부 또는 상/하부 모두에 UV램프(294)를 통해 적당한 에너지 밀도를 갖는 UV광을 적정시간 전면에 조사함으로써 상기 UV경화성의 씰패턴(215)을 경화시키며, 동시에 액정을 안정화시킨다. When the seal pattern 215 is spread and the adhesion of the two substrates 210 and 240 is no longer performed and a proper cell gap is formed, as a seventh step, the lower portion of the first substrate 210 or the second substrate 240 is formed. The UV curable seal pattern 215 is cured by irradiating UV light having a suitable energy density on the entire surface of the upper portion or upper / lower portion through the UV lamp 294 at the same time, while simultaneously stabilizing the liquid crystal.

도 5f에서는 상기 UV램프(294)가 제 1 기판(210)의 하부면에서 조사되는 것으로 도시하였으나, 상기 UV램프는 제 2 기판의 상부면 쪽에 위치할 수 있으며, 이 경우 상기 UV램프가 위치한 쪽의 스테이지는 투명한 재질 예를들면 석영으로 제작됨으로써 상기 스테이지를 통과하여 기판에 UV광이 조사되게 된다. In FIG. 5F, the UV lamp 294 is irradiated from the lower surface of the first substrate 210. However, the UV lamp 294 may be located on the upper surface side of the second substrate, in which case the UV lamp is located. The stage of is made of a transparent material, for example quartz, and passes through the stage to irradiate UV light onto the substrate.

또한, 상기 UV광의 조사는 상기 진공합착장치(도 5f의 290)의 진공챔버(도 5f의 291)내에서 이루어지지 않고, 도 7에 도시한 바와 같이, UV램프(310)가 상부에 구비된 챔버(미도시)를 구성하고 스테이지(315)를 통과하지 않고 직접 제 1, 2 기판(210, 240)이 합착된 상태의 액정패널에 조사될 수도 있다. In addition, the irradiation of the UV light is not made in the vacuum chamber (291 of FIG. 5F) of the vacuum bonding apparatus (290 of FIG. 5F), and as shown in FIG. 7, the UV lamp 310 is provided on the upper portion. The liquid crystal panel may be irradiated with the first and second substrates 210 and 240 bonded together without forming a chamber (not shown) and passing through the stage 315.

이때, 상기 합착된 상태의 제 1 기판(210) 또는 제 2 기판(240) 전면에 조사되는 UV광은 250nm 내지 450nm파장을 가지며, 1 내지 2 J/㎠의 에너지 밀도를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 상기 UV광의 조사 시 편광판(미도시)을 이용하여 편광된 UV광을 조사할 수도 있다.At this time, the UV light irradiated on the entire surface of the first substrate 210 or the second substrate 240 in the bonded state has a wavelength of 250nm to 450nm, preferably having an energy density of 1 to 2 J / ㎠. In addition, when the UV light is irradiated it may be irradiated with polarized UV light using a polarizing plate (not shown).

여기서 액정의 배향성에 대해 잠시 설명한다. Here, the orientation of the liquid crystal will be described for a while.

고분자 물질을 이용한 배향막과 이러한 배향막을 러빙(rubbing) 처리함으로써 상기 배향막내의 측쇄를 일방향으로 정렬시키고, 이렇게 정렬된 측쇄에 의해 액 정을 초기 정렬시키는 것이 일반적이다. 하지만, 러빙(rubbing)에 의한 배향막 내 측쇄의 정렬은 러빙포의 균일도 및 기판 상에 형성된 배선 또는 전극의 단차로 인해 상기 배향막 측쇄의 일부가 정렬되지 않을 수 있으며, 정렬이 되더라도 그 배향 규제력에 차이가 있어서 액정이 상기 측쇄의 정렬된 방향에 대해 그 정렬도가 분산되어 나타나게 되며 이러한 액정 정렬의 분산도가 증가하는 영역일수록 화상 화상을 표시할 경우 얼룩으로 나타나게 된다. It is common to align the side chains in the alignment film in one direction by rubbing the alignment film using a polymer material and the alignment film, and to initially align the liquid crystals by the aligned side chains. However, the alignment of the side chains in the alignment layer due to rubbing may cause some of the alignment layer side chains to be misaligned due to the uniformity of the rubbing cloth and the steps of the wirings or the electrodes formed on the substrate. In this case, the degree of alignment of the liquid crystal is dispersed in the aligned direction of the side chains, and the area in which the degree of dispersion of the liquid crystal alignment increases is displayed as spots when displaying an image image.

따라서, 이러한 러빙(rubbing)에 의해 액정 배향의 문제를 해결하고자 본 발명에서는 UV경화성 씰패턴의 경화 시 특정 파장 및 에너지 밀도를 갖는 UV광을 씰패턴 형성 영역을 포함하여 기판 전면에 조사함으로써 액정의 정렬성을 향상시키고 있다. Therefore, in order to solve the problem of liquid crystal alignment by rubbing, the present invention provides UV light having a specific wavelength and energy density to the entire surface of the substrate including the seal pattern forming region when curing the UV curable seal pattern. Alignment is improving.

도 8a와 8b는 러빙 실시 후, UV광 조사전의 액정이 정열된 상태를 나타낸 도면이며, 도 9a와 9b는 특정 파장 및 에너지 밀도를 갖는 UV광을 조사 후 액정의 정렬상태를 도시한 도면이다. 8A and 8B are diagrams showing a state in which liquid crystals are aligned before UV light irradiation after rubbing, and FIGS. 9A and 9B are diagrams showing alignment states of liquid crystals after irradiation with UV light having a specific wavelength and energy density.

도 8a와 8b에 도시한 바와 같이, UV광 조사 전에는 액정이 러빙 방향을 따라 즉, 배향막의 측쇄가 정렬된 방향을 따라 액정이 정렬되고 있으나, 상기 러빙 방향을 기준으로 액정 디렉터의 방향이 조금씩 달리하고 있음을 알 수 있으며, 액정의 배향막 표면과 액정 디렉터가 이루는 경사각 또한 일정하지 않게 정렬되어 있음을 알 수 있다. 이러한 상태를 갖는 액정표시장치에 전압을 인가하여 화상을 표시하게 되면 액정의 초기배열 불균일로 인해 얼룩이 발생하게 된다.As shown in FIGS. 8A and 8B, before the UV light irradiation, the liquid crystals are aligned along the rubbing direction, that is, along the direction in which the side chains of the alignment layer are aligned, but the direction of the liquid crystal director is slightly different based on the rubbing direction. It can be seen that the inclination angle formed between the surface of the alignment film of the liquid crystal and the liquid crystal director is also irregularly aligned. When an image is displayed by applying a voltage to the liquid crystal display having such a state, unevenness occurs due to uneven alignment of liquid crystals.

한편, UV광 조사 후의 액정 정렬 상태를 도시한 도 9a와 9b를 참조하면, 특 정 에너지 밀도와 파장을 갖는 UV광을 상기 배향막을 포함한 액정이 개재된 기판에 조사함으로써 상기 조사된 UV광에 의해 배향막 내의 측쇄가 반응하여 그 배열성을 높이고, 배향 규제력 또한 상승시킴으로써 전체적으로 액정의 정렬을 높일 수 있게 된다. On the other hand, referring to Figures 9a and 9b showing the alignment state of the liquid crystal after the UV light irradiation, by irradiating the UV light having a specific energy density and wavelength to the substrate containing the liquid crystal including the alignment film by the irradiated UV light The side chains in the alignment film react to increase the arrangement, and the alignment regulating force is also increased, whereby the alignment of the liquid crystal can be improved as a whole.

따라서, 도시한 바와 같이, 액정이 러빙 방향에 대해 액정 디렉터의 방향이 거의 일치하며, 배향막 표면과 상기 액정 디렉터가 이루는 경사각 또한 일정한 액정의 정렬을 유도하게 되며, 전술한 바와 같이 액정의 초기 정렬의 균일성이 향상된 우수한 액정표시장치는 전압인가시 배향 불량에 의한 얼룩이 없는 우수한 표시 품질을 갖게 된다. Thus, as shown in the figure, the direction of the liquid crystal director is substantially coincident with the rubbing direction, and the inclination angle between the alignment film surface and the liquid crystal director also induces a constant alignment of the liquid crystal, as described above. The excellent liquid crystal display device having improved uniformity has excellent display quality without spots due to misalignment when voltage is applied.

다시, 액정표시장치 형성을 위한 셀공정의 대해 씰패턴 이후의 공정에 대해 설명한다. The process after the seal pattern will be described again for the cell process for forming the liquid crystal display.

도 4와 도 5g에 도시한 바와 같이, 제 8 단계로서 UV광을 조사하여 씰패턴(215)이 경화됨으로써 하나의 액정패널을 형성한 상기 제 1, 2 기판(210, 240)을 상기 씰패턴(215)의 외측을 따라 절단 휠 등을 이용하여 절단함으로써 원판 상태의 액정 패널에서 하나의 액티브 패턴(AA)을 갖는 단위 액정패널로 분리한다. As shown in FIG. 4 and FIG. 5G, as the eighth step, the seal pattern is cured by curing the seal pattern 215, thereby forming the first and second substrates 210 and 240 forming one liquid crystal panel. By cutting using a cutting wheel or the like along the outer side of 215, the liquid crystal panel in a disc state is separated into a unit liquid crystal panel having one active pattern AA.

이렇게 다수의 액티브 패턴을 포함하는 원판 액정패널(230)을 절단하게 되면 그 절단면이 매우 날카롭기 때문에 이를 연마함으로써 날카롭지 않도록 처리함으로써 단위 액정패널을 완성한다.When the disc liquid crystal panel 230 including a plurality of active patterns is cut in this way, since the cut surface is very sharp, the unit liquid crystal panel is completed by processing it so as not to be sharp.

이후, 이렇게 완성된 단위패널은 PCB와 백라이트 유닛등을 부착하는 모듈공정을 진행하여 액정표시장치를 완성하게 된다. Subsequently, the completed unit panel performs a module process of attaching a PCB and a backlight unit to complete a liquid crystal display device.

본 발명에 의한 COT구조 액정표시장치 및 제조방법은 150℃이상의 고온을 필요로 하는 어레이 및 컬러필터 형성공정을 유리기판을 이용한 하부기판에 구성하고, 상부기판은 내열성 및 내화학성이 유리기판 대비 취약한 플라스틱 기판을 이용하여 저온공정으로 가능한 형성 가능한 투명전극과 배향막만을 형성하고 상기 두 기판을 합착하여 액정패널을 구성함으로써 제조 비용을 절감시키는 효과가 있으며, 무거운 유리기판 대신 가벼운 플라스틱 기판을 이용함으로써 경량 박형의 제품을 실현하는 효과가 있다. The liquid crystal display and the manufacturing method of the COT structure according to the present invention comprise an array and a color filter forming process requiring a high temperature of 150 ° C. or higher on a lower substrate using a glass substrate, and the upper substrate has a weaker heat resistance and chemical resistance than a glass substrate. It is possible to reduce the manufacturing cost by forming only a transparent electrode and an alignment layer that can be formed by a low temperature process using a plastic substrate and combining the two substrates together to form a liquid crystal panel, and using a light plastic substrate instead of a heavy glass substrate. It is effective to realize the product.

또한, UV경화성 실란트로서 씰패턴을 형성하고, 상기 씰패턴의 경화시 UV광을 전면에 조사함으로써 액정의 정렬성을 향상시킴으로써 최종적으로 표시품질을 향상시키는 효과가 있다. In addition, by forming a seal pattern as a UV-curable sealant, and irradiated with UV light on the entire surface during curing of the seal pattern, there is an effect of finally improving the display quality by improving the alignment of the liquid crystal.

Claims (12)

다수의 화소영역을 포함하는 액티브 영역이 정의된 액정표시장치의 제조 방법에 있어서,In the method of manufacturing a liquid crystal display device in which an active region including a plurality of pixel regions is defined, 유리기판 상의 각각의 화소영역에 스위칭 소자를 형성하는 단계와;Forming a switching element in each pixel region on the glass substrate; 상기 스위칭 소자위로 각 화소영역에 순차 반복하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와;Forming red, green, and blue color filter patterns which are sequentially repeated on the switching element in each pixel region; 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴 위로 각 화소영역별로 상기 스위칭 소자와 연결된 화소전극을 형성하는 단계와;Forming a pixel electrode connected to the switching element for each pixel region on the red, green, and blue color filter patterns; 플라스틱 기판 전면에 투명전극을 형성하는 단계와;Forming a transparent electrode on the front surface of the plastic substrate; 상기 화소전극과 투명전극 위로 각각 제 1, 2 배향막을 형성하는 단계와;Forming first and second alignment layers on the pixel electrode and the transparent electrode, respectively; 상기 제 1, 2 배향막에 러빙(rubbing)을 실시하는 단계와;Performing rubbing on the first and second alignment layers; 상기 유리기판 또는 플라스틱 기판 중 어느 하나의 기판의 러빙(rubbing)된 배향막을 위로 액티브 영역을 테두리하는 UV경화성 씰패턴을 형성하는 단계와; Forming a UV-curable seal pattern bordering the active region on the rubbed alignment layer of any one of the glass substrate and the plastic substrate; 상기 씰패턴 내측의 액티브 영역에 액정을 적하시키는 단계와;Dropping liquid crystal into an active region inside the seal pattern; 상기 씰패턴이 형성된 기판 이외의 기판에 은(Ag) 도포 하는 단계와;Applying silver (Ag) to a substrate other than the substrate on which the seal pattern is formed; 상기 액정이 적하된 기판과 은(Ag) 도포가 이루어진 기판을 적정 셀갭이 형성되도록 합착하는 단계와;Bonding the substrate onto which the liquid crystal is dropped and the substrate on which silver (Ag) is applied to form an appropriate cell gap; 상기 합착된 상태의 유리기판 또는 플라스틱 기판 전면에 UV광을 조사하는 단계와;Irradiating UV light on the entire surface of the bonded glass substrate or plastic substrate; 상기 합착된 상태의 유리기판 및 플라스틱 기판을 액티브 영역 단위로 절단하는 단계Cutting the bonded glass and plastic substrates into active area units 를 포함하며, 상기 투명전극 형성 이전에 상기 플라스틱 기판의 상면 또는 하면 또는 양면에 무기절연물질을 증착하여 배리어층(barrier layer)을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming a barrier layer by depositing an inorganic insulating material on the top, bottom, or both surfaces of the plastic substrate before forming the transparent electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 UV광의 파장은 250nm 내지 450nm 인 액정표시장치의 제조 방법.The wavelength of the UV light is 250nm to 450nm manufacturing method of the liquid crystal display device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 UV광의 에너지 밀도는 1J/㎠ 내지 2J/㎠ 인 액정표시장치의 제조 방법.The energy density of the UV light is a manufacturing method of the liquid crystal display device 1J / ㎠ to 2J / ㎠. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 UV광의 조사는 편광판을 통과하여 편광된 UV광이 조사되는 것이 특징인 액정표시장치의 제조 방법.The irradiation of the UV light is a manufacturing method of the liquid crystal display device characterized in that the polarized UV light is irradiated through the polarizing plate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1, 2 배향막을 형성하는 단계는Forming the first and second alignment layers 제 1, 2 배향막을 플라스틱 기판 및 유리기판 상에 각각 인쇄하는 단계와;Printing the first and second alignment layers on the plastic substrate and the glass substrate, respectively; 상기 유리기판 및 플라스틱 기판 상에 형성된 제 1, 2 배향막을 각각 경화시키는 단계Curing the first and second alignment layers formed on the glass substrate and the plastic substrate, respectively; 를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 플라스틱 기판 상에 형성된 배향막의 경화는 그 경화온도가 150℃ 이하인 액정표시장치의 제조 방법.The hardening of the alignment film formed on the said plastic substrate is a manufacturing method of the liquid crystal display device whose hardening temperature is 150 degrees C or less. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스위칭 소자를 형성하는 단계는Forming the switching element 상기 각 화소영역에 게이트 전극과 게이트 절연막과 채널부를 포함하는 반도체층과 소스 및 드레인 전극으로 구성되는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계와;Forming a thin film transistor including a semiconductor layer including a gate electrode, a gate insulating film, and a channel portion in each pixel area, and a source and a drain electrode; 상기 박막 트랜지스터를 포함하여 전면에 각 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀을 갖는 보호층을 형성하는 단계와;Forming a protective layer including the thin film transistor and having a drain contact hole exposing each drain electrode on a front surface thereof; 상기 보호층 위로 상기 드레인 콘택홀을 통해 드레인 전극과 접촉하는 드레인 보조전극을 형성하는 단계Forming a drain auxiliary electrode on the protective layer and in contact with the drain electrode through the drain contact hole; 를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 화소전극은 상기 드레인 보조전극과 접촉하는 액정표시장치의 제조 방법.And the pixel electrode is in contact with the drain auxiliary electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 화소전극 외부로 노출된 적, 녹, 청색 컬러필터 위로 높이를 가지며 이격되어 배치되는 패턴드 스페이서를 형성하는 단계를 더욱 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.And forming a patterned spacer spaced apart from each other on the red, green, and blue color filters exposed to the outside of the pixel electrode. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 액정을 적하시키는 단계는 진공의 분위기에서 진행되는 액정표시장치의 제조 방법.The dropping of the liquid crystal may be performed in a vacuum atmosphere. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 액정이 적하된 기판과 은(Ag) 도포가 이루어진 기판을 적정 셀갭이 형성되도록 합착하는 단계는 Bonding the substrate onto which the liquid crystal is dropped and the substrate on which silver (Ag) is applied to form an appropriate cell gap; 진공의 분위기에서 상기 액정이 적하된 기판과 은(Ag) 도포가 이루어진 기판을 상기 화소전극과 투명전극이 마주보도록 위치시키는 단계와;Positioning a substrate on which the liquid crystal is dropped and a substrate on which silver (Ag) is applied in a vacuum atmosphere such that the pixel electrode and the transparent electrode face each other; 상기 마주보는 두 기판을 씰패턴이 두 기판과 모두 접촉하도록 밀착시키는 단계와;Contacting the two opposing substrates so that the seal pattern contacts both substrates; 상기 두 기판이 밀착된 상태에서 진공의 분위기를 대기압 분위기로 바꾸어 상기 적하된 액정이 상기 씰패턴 내측에서 퍼지도록 하는 단계Changing the atmosphere of vacuum to atmospheric pressure while the two substrates are in close contact with each other so that the dropped liquid crystal spreads inside the seal pattern; 를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a.
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