KR101096710B1 - A method for forming a sealant using a sealant device for a liquid crystal device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 스테이지의 스크래치를 방지할 수 있고, 작업시간을 단축시킬 수 있는 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법에 관한 것으로, 기판이 안착되는 스테이지, 상기 스테이지의 상부에 구비된 헤드, 상기 스테이지와 마주보도록 상기 헤드에 구비된 갭센서, 상기 헤드가 이동가능하게 결합된 가이드를 포함하여 구성된 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법에 있어서, 상기 갭센서를 사용하여 상기 스테이지의 평탄도를 측정하는 단계; 상기 스테이지상에 기판을 안착시키는 단계; 상기 헤드에 시일재 노즐을 설치하는 단계: 및, 상기 기판상에 시일재를 도포하는 단계를 포함하여 이루어지는 것이다.The present invention relates to a sealing material coating method using a sealing material coating device for a liquid crystal display device that can prevent scratches of the stage and shorten the working time, and includes a stage on which a substrate is seated and an upper portion of the stage. In the sealing material coating method using a sealing material coating device for a liquid crystal display device comprising a head, a gap sensor provided in the head to face the stage, the guide is movable to the head, the gap sensor is used Measuring flatness of the stage; Mounting a substrate on the stage; Installing a sealing material nozzle on the head: and applying a sealing material on the substrate.

액정표시장치, 시일재 도포장치, 스크래치, 갭센서, 마이크로 게이지Liquid Crystal Display, Seal Material Coating Device, Scratch, Gap Sensor, Micro Gauge

Description

액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법{A method for forming a sealant using a sealant device for a liquid crystal device}A method for forming a sealant using a sealant coating device for a liquid crystal display device {A method for forming a sealant using a sealant device for a liquid crystal device}

도 1은 종래의 진공주입방법을 이용한 액정 셀 공정을 도시한 도면1 is a view showing a liquid crystal cell process using a conventional vacuum injection method

도 2는 종래의 시일재 도포장치의 구성도2 is a block diagram of a conventional seal material applying apparatus

도 3은 종래의 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용하여 스테이지의 평탄를 측정하는 방법을 설명하기 위한 도면3 is a view for explaining a method of measuring the flatness of the stage using a conventional seal material coating device for a liquid crystal display device;

도 4는 종래의 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 나타낸 순서도Figure 4 is a flow chart showing a sealing material coating method using a conventional sealing material coating device for a liquid crystal display device.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 나타낸 순서도5 is a flow chart showing a sealing material coating method using the sealing material coating device for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 6a 내지 6c는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 설명하기 위한 도면 6A to 6C are views for explaining a sealing material applying method using the sealing material coating device for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치에 의해 측정된 스테이지의 평탄도를 나타낸 표 7 is a table showing the flatness of the stage measured by the seal material coating device for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 8은 도 7의 표에 대한 값을 3차원 그래프로 나타낸 도면FIG. 8 is a three-dimensional graph showing values for the table of FIG.

*도면의 주요부에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

51S : 스테이지 평탄도 측정 52S : 노즐 장착 51S: Stage Flatness Measurement 52S: Nozzle Mount                 

53S : 기판 안착 54S : 시일재 도포53S: substrate seating 54S: sealing material applied

본 발명은 액정표시장치의 제조장치에 관한 것으로, 특히 스테이지의 스크래치를 방지할 수 있고, 작업시간을 단축시킬 수 있는 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법에 대한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device, and more particularly, to a sealing material coating method using a sealing material coating device for a liquid crystal display device which can prevent scratches on a stage and shorten working time.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Lipuid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고 일부는 이미 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, the LCD (Lipuid Crystal Display Device), PDP (Plasma Display Panel), ELD (Electro Luminescent Display), and VFD (Vacuum Fluorescent) Various flat panel display devices such as displays have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 이동형 화상 표시장치의 용도로 브라운관(Cathode Ray Tube)을 대체하면서 액정표시장치가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 텔레비전 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, liquid crystal displays are the most widely used, replacing the cathode ray tubes for mobile image display devices because of their excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the same mobile type, various developments have been made for television monitors.

이러한 액정표시장치는 크게 어레이(Array) 공정, 칼라 필터(Color Filter) 공정, 액정 셀(Cell) 공정 등을 거쳐 제조된다.Such liquid crystal displays are largely manufactured through an array process, a color filter process, a liquid crystal cell process, and the like.

상기 어레이 공정은 증착(Deposition) 및 사진 석판술(Photolithography), 식각(Etching) 공정을 반복하여 제 1 기판 상에 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT로 약칭) 및 화소전극을 형성하는 공정이다.The array process is a process of forming a thin film transistor (TFT) and a pixel electrode on a first substrate by repeating deposition, photolithography, and etching processes.

상기 칼라 필터 공정은 화소 전극이 형성된 영역을 제외한 영역에는 빛의 누설을 방지하기 위해 제 2 기판에 블랙 매트릭스(Black Matrix)를 형성하고, 염료나 안료를 사용하여 적(Red), 녹(Green), 청(Blue)의 칼라 필터를 제작한 후, 공통전극용 ITO(Indium Tin Oxide)막을 형성하는 공정이다.In the color filter process, a black matrix is formed on the second substrate to prevent light leakage in regions other than the region where the pixel electrode is formed, and red and green colors are formed using dyes or pigments. After manufacturing a blue color filter, it is a process of forming an indium tin oxide (ITO) film for common electrodes.

상기 액정 셀 공정은 스페이서를 이용하여 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 일정한 셀겝을 유지하고 시일재를 이용하여 양 기판을 합착한 후, 단위 패널로 절단하고 액정을 주입하여 액정 셀을 완성하는 공정이다.The liquid crystal cell process maintains a constant cell gap between the first substrate and the second substrate by using a spacer, joins both substrates using a sealing material, cuts the unit panel, and injects liquid crystal to complete the liquid crystal cell. It is a process.

이하, 도면을 참조로 종래의 액정 셀 공정을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a conventional liquid crystal cell process will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 진공주입방법을 이용한 액정 셀 공정을 도시한 도면이다.1 is a view showing a liquid crystal cell process using a conventional vacuum injection method.

도 1에서 알 수 있듯이, 우선, TFT 기판과 컬러필터 기판 상에 배향물질을 도포한 후 액정분자가 균일한 방향성을 갖도록 하는 배향 공정(1S)을 각각 진행한다. 상기 배향 공정(1S)은 배향막 도포 전 세정, 배향막 인쇄, 배향막 소성, 배향막 검사, 러빙 공정 순으로 진행된다.As can be seen in FIG. 1, first, an alignment material is applied onto a TFT substrate and a color filter substrate, and then an alignment process 1S is performed so that the liquid crystal molecules have uniform orientation. The alignment step (1S) proceeds in order of washing before application of the alignment film, alignment film printing, alignment film firing, alignment film inspection, and rubbing process.

상기 배향 공정(1S) 후 갭(Gap) 공정이 진행된다. 갭 공정은 TFT 기판 및 컬러필터 기판을 각각 세정(2S)한 다음, TFT 기판에 셀 갭(Cell Gap)을 일정하게 유지하기 위한 스페이서(Spacer)를 산포(3S)하고, 컬러필터 기판의 외곽부에 씨일(Seal)재를 도포(4S)한 후, 상기 TFT 기판과 컬러필터기판에 압력을 가하여 합착(5S)하는 공정으로 이루어진다.After the alignment process 1S, a gap process proceeds. In the gap process, each of the TFT substrate and the color filter substrate is cleaned (2S), and then a spacer (3S) for maintaining a constant cell gap on the TFT substrate is spread (3S), and the outer portion of the color filter substrate After the seal material is applied (4S) to the TFT, the TFT substrate and the color filter substrate are applied to each other to form a bonding process (5S).

이러한 갭 공정은 TFT 기판과 컬러필터 기판이 각각 다른 라인에서 진행하는 2선 이중 라인의 공정으로 진행되다가, 합착 공정에서는 단선 단일 라인으로 진행된다. 다시 말하면, 상기 갭 공정은 2선 이중 라인에서 공정이 진행되다가 단선 단일 라인으로 공정이 진행되는 복합 라인으로 구성되는 공정이다.Such a gap process proceeds with a two-line double line process in which the TFT substrate and the color filter substrate each proceed in different lines, and in the bonding process, it proceeds as a single-line single line. In other words, the gap process is a process consisting of a complex line in which the process proceeds in a two-line double line and then the process proceeds to a single-line single line.

상기 합착 공정 후, 단위 패널로 절단 및 가공하는 공정을 수행한다(6S).After the bonding process, a process of cutting and processing into unit panels is performed (6S).

그후, 단위패널에 액정을 주입하고, 주입구를 봉지(7S)하여 액정층을 형성한다.Thereafter, liquid crystal is injected into the unit panel, and the injection hole is sealed (7S) to form a liquid crystal layer.

그후, 각 단위패널의 절단된 면을 연마한 다음, 단위패널의 외관 및 전기적 불량 검사(8S)를 진행함으로써 액정표시 소자를 제작하게 된다.Thereafter, the cut surface of each unit panel is polished, and then a liquid crystal display device is fabricated by performing an appearance and electrical defect inspection 8S of the unit panel.

한편, 상기 시일재를 도포하는 공정에서는 시일재 도포장치가 사용되는데, 종래의 시일재 도포장치를 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.On the other hand, the sealing material coating device is used in the process of applying the sealing material, a conventional sealing material coating device will be described in more detail as follows.

도 2는 종래의 시일재 도포장치의 구성도이다.2 is a configuration diagram of a conventional seal material applying apparatus.

종래의 시일재 도포장치는, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(210)이 안착되는 스테이지(200)와, 상기 스테이지(200)의 상부에 구비된 헤드(220)와, 상기 헤드(220)에 구비되어 상기 헤드(220)와 기판(210)간의 거리를 측정하는 갭센서(230)와, 상기 헤드(220)에 구비되어 상기 기판(210)상에 시일재(290)를 도포하기 위한 노즐(240)을 포함한다.In the conventional seal material coating apparatus, as shown in FIG. 2, the stage 200 on which the substrate 210 is mounted, the head 220 provided on the stage 200, and the head 220. A gap sensor 230 disposed at the head 220 to measure a distance between the head 220 and the substrate 210, and a nozzle provided at the head 220 to apply the sealing material 290 on the substrate 210. 240.

상기 갭센서(230)는 상기 기판(210)의 평탄도를 측정하기 위한 것으로, 상기 갭센서(230)는 레이져광을 출사하여 상기 기판(210)의 표면에 입사시키는 발광부(230a)와, 상기 기판(210)의 표면으로부터 반사된 레이져광을 전달받는 수광부(230b)로 구성된다. The gap sensor 230 is for measuring the flatness of the substrate 210, the gap sensor 230 emits a laser light incident on the surface of the substrate 210 and, The light receiving unit 230b receives laser light reflected from the surface of the substrate 210.                         

여기서, 상기 기판(210)과 상기 헤드(220)간의 거리에 따라 상기 수광부(230b)에 입사되는 광의 위치는 변화하게 되는데, 상기 갭센서(230)는 이러한 원리를 이용하여 상기 헤드(220)와 기판(210)간의 거리를 측정한다. 상기 측정된 거리는 상기 기판(210) 표면이 얼마만큼 돌출되었는지를 알 수 있게 해준다. 즉, 상기 기판(210)의 평탄도를 알 수 있게 해준다.Here, the position of the light incident on the light receiving portion 230b is changed according to the distance between the substrate 210 and the head 220. The gap sensor 230 is connected to the head 220 using this principle. The distance between the substrates 210 is measured. The measured distance makes it possible to know how much the surface of the substrate 210 protrudes. That is, the flatness of the substrate 210 can be known.

이를 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.If this is explained in more detail as follows.

상기 노즐(240)과 상기 기판(210)간의 거리는 항상 적정 간격을 유지해야만 하는데, 이는 상기 노즐(240)과 상기 기판(210)간의 거리가 너무 좁거나, 또는 너무 넓어지게 되면 상기 노즐(240)로부터 토출되는 시일재(290)의 폭이 틀려질 수 있기 때문이다. 이는 결국, 상기 노즐(240)이 설치된 헤드(220)와 상기 기판(210)간이 적정간격으로 유지되도록, 상기 기판(210)의 각 부분에서의 평탄도에 따라 상기 헤드(220)를 Z축 또는 -Z축 방향으로 이동시켜야 한다는 것을 의미한다.The distance between the nozzle 240 and the substrate 210 should always be maintained at an appropriate distance, which is when the distance between the nozzle 240 and the substrate 210 becomes too narrow or too wide. This is because the width of the seal member 290 discharged from the tube may be different. This results in the Z-axis or the head 220 according to the flatness in each part of the substrate 210 so that the nozzle 220 is installed between the head 220 and the substrate 210 at appropriate intervals. -Means to move in the Z-axis direction.

이를 위해서, 상기 갭센서(230)는 상기 헤드(220)가 위치한 기판(210) 부분의 평탄도를 측정하고, 상기 측정된 값을 제어부로 전달한다. 그러면, 상기 제어부는 상기 측정된 값에 근거하여, 상기 헤드(220)를 Z축 또는 -Z축 방향으로 이동시킨다.To this end, the gap sensor 230 measures the flatness of the portion of the substrate 210 where the head 220 is located, and transmits the measured value to the controller. Then, the controller moves the head 220 in the Z-axis or -Z-axis direction based on the measured value.

한편, 상기 기판(210)의 평탄도를 측정하기 이전에, 상기 기판(210)이 안착되는 스테이지(200)의 평탄도를 검사하는 작업이 선행되어야 한다. 즉, 상기 스테이지(200)에는 기판(210)이 안착되기 때문에, 상기 스테이지(200)가 먼저 평탄화되어야만 한다. On the other hand, before measuring the flatness of the substrate 210, the operation of checking the flatness of the stage 200 on which the substrate 210 is seated should be preceded. That is, since the substrate 210 is seated on the stage 200, the stage 200 must first be flattened.                         

이를 첨부된 도면을 참조하여 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 종래의 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용하여 스테이지의 평탄를 측정하는 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 종래의 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 나타낸 순서도이다.3 is a view for explaining a method of measuring the flatness of the stage using a conventional sealant coating device for a liquid crystal display device, Figure 4 shows a sealant coating method using a conventional sealant coating device for a liquid crystal display device. Flowchart.

측, 도 3에 도시된 바와 같이, 헤드(220)의 일측에 마이크로 게이지(333)를 장착시키고, 상기 마이크로 게이지(333)가 장착된 헤드(220)를 상기 스테이지(200)의 상부에 위치시킨다. 그리고, 상기 헤드(220)를 상기 스테이지(200)의 전면을 따라 이동시키게 되면, 상기 헤드(220)에 장착된 마이크로 게이지(333)도 상기 스테이지(200)의 전면을 따라 이동하게 된다. 이때, 상기 마이크로 게이지(333)의 측정침이 상기 기판(210)의 표면에 접촉하면서, 상기 스테이지(200)의 평탄도를 측정하게 된다.3, the micro gauge 333 is mounted on one side of the head 220, and the head 220 on which the micro gauge 333 is mounted is positioned above the stage 200. . When the head 220 is moved along the front surface of the stage 200, the micro gauge 333 mounted to the head 220 is also moved along the front surface of the stage 200. At this time, the measuring needle of the micro gauge 333 is in contact with the surface of the substrate 210, the flatness of the stage 200 is measured.

이때, 상기 작업자는 상기 산출된 평탄도에 근거하여, 상기 스테이지(200)의 표면을 깎아내어 상기 스테이지(200)의 전체적인 평탄도를 균일하게 유지할 수 있다.In this case, the operator may cut the surface of the stage 200 based on the calculated flatness to maintain the overall flatness of the stage 200 uniformly.

상술한 바와 같이, 종래의 시일재 도포장치를 사용한 시일재 형성방법은, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 헤드(220)에 마이크로 게이지(333)를 장착하는 단계와, 상기 마이크로 게이지(333)를 사용하여 상기 스테이지(200)의 평탄도를 측정하는 단계와, 상기 헤드(220)로부터 마이크로 게이지(333)를 탈착하는 단계와, 상기 헤드(220)에 노즐(240)을 장착하는 단계와, 상기 스테이지(200)에 기판(210)을 안착시키는 단계와, 상기 노즐(240)을 사용하여 상기 기판(210)상에 시일재(290)를 도포하는 단계로 이루어진다.As described above, the seal material forming method using the conventional seal material applying apparatus, as shown in Figure 4, mounting the micro gauge 333 to the head 220, and the micro gauge 333 Measuring the flatness of the stage 200 using the same, detaching the micro gauge 333 from the head 220, mounting the nozzle 240 to the head 220, The substrate 210 is mounted on the stage 200, and the sealing material 290 is applied onto the substrate 210 using the nozzle 240.

그러나, 종래의 시일재 도포장치를 사용하여 스테이지의 평탄도 측정방법에는 다음과 같은 문제점이 있었다.However, the method of measuring the flatness of the stage using a conventional seal material coating apparatus has the following problems.

첫째, 스테이지의 평탄도를 측정할 때, 마이크로 게이지의 측정침과 스테이지간이 서로 접촉하므로, 상기 스테이지에 스크래치가 발생할 수 있다.First, when measuring the flatness of the stage, scratches may occur in the stage because the measuring needle of the micro gauge and the stage contact each other.

둘째, 상기 스테이지의 평탄도 측정시에는 상기 헤드에 상기 마이크로 게이지를 부착하여야 하며, 상기 스테이지의 평탄도 측정작업이 완료되면 상기 헤드에 부착된 마이크로 게이지를 탈착시켜야 하므로, 작업이 번거로워지고, 이에 따라 작업 시간이 늘어나는 문제점이 있었다.Second, when measuring the flatness of the stage, the micro gauge should be attached to the head. When the flatness measurement of the stage is completed, the micro gauge attached to the head needs to be detached. There was a problem that the working time is increased.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 종래의 기판의 평탄도를 측정하던 갭센서를 사용하여 스테이지의 평탄도를 측정함으로써, 공정단계를 줄일 수 있고, 기판상에 스크래치를 일으키지 않는 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, by measuring the flatness of the stage using a gap sensor measuring the flatness of a conventional substrate, the process step can be reduced, the liquid crystal does not cause scratches on the substrate It is an object of the present invention to provide a sealing material coating method using a sealing material coating device for a display device.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치용 시일재를 사용한 시일재 도포방법은, 기판이 안착되는 스테이지, 상기 스테이지의 상부에 구비된 헤드, 상기 스테이지와 마주보도록 상기 헤드에 구비된 갭센서, 상기 헤드가 이동가능하게 결합된 가이드를 포함하여 구성된 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법에 있어서, 상기 갭센서를 사용하여 상기 스테이지의 평탄 도를 측정하는 단계; 상기 스테이지상에 기판을 안착시키는 단계; 상기 헤드에 시일재 노즐을 설치하는 단계: 및, 상기 기판상에 시일재를 도포하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.The sealing material coating method using the sealing material for a liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object is provided with a stage on which the substrate is seated, a head provided on the stage, the head to face the stage A sealing material coating method using a sealing material coating device for a liquid crystal display device comprising a gap sensor and a guide in which the head is movably coupled, the method comprising: measuring the flatness of the stage using the gap sensor; Mounting a substrate on the stage; Installing a sealing material nozzle on the head: characterized in that it comprises a step of applying a sealing material on the substrate.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a sealing material coating method using the sealing material coating device for a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 나타낸 순서도이다.5 is a flowchart illustrating a sealing material coating method using the sealing material coating device for a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

즉, 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르면 갭센서를 사용하여 평탄도를 측정하는 단계(51S)와, 노즐을 장착하는 단계(52S)와, 상기 스테이지상에 기판을 안착하는 단계(53S)와, 상기 기판상에 시일재를 도포하는 단계(54S), 즉 총 4 단계로 이루어진 공정과정을 통해 상기 기판상에 시일재를 도포할 수 있다.That is, as shown in Figure 5, according to the present invention, the step of measuring the flatness using the gap sensor (51S), mounting the nozzle (52S), and the step of mounting the substrate on the stage ( 53S) and the step of applying the sealing material on the substrate (54S), that is, the sealing material can be applied on the substrate through a process consisting of a total of four steps.

이를 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.If this is explained in more detail as follows.

도 6a 내지 6c는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치에 의해 측정된 스테이지의 평탄도를 나타낸 표이고, 도 8은 도 7의 표에 대한 값을 3차원 그래프로 나타낸 도면이다.6A to 6C are views for explaining a sealing material applying method using a sealing material coating device for a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a seal material coating for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. A table showing the flatness of the stage measured by the device, Figure 8 is a three-dimensional graph showing the values for the table of FIG.

먼저, 작업자는 제어부(도시되지 않음)의 입력부에 상기 스테이지(600)내의 측정범위(640) 및, 상기 측정범위(640)내에서의 측정영역(655)들의 수를 입력한다. 여기서, 상기 제어부의 전면에는 작업자가 시일재 도포장치에 대하여 필요한 지시를 입력하기 위한 입력부, 및 각종 데이터를 표시하기 위한 표시부가 구비된다. First, the operator inputs the measurement range 640 in the stage 600 and the number of measurement regions 655 in the measurement range 640 to an input of a control unit (not shown). Here, the front of the control unit is provided with an input unit for the operator to input the necessary instructions for the seal material applying apparatus, and a display unit for displaying a variety of data.                     

좀 더 구체적으로 설명하면, 상기 작업자는, 도 6a에 도시된 바와 같이, 상기 조작부의 입력부에 스테이지(600)의 스타트 포인트(611a)의 좌표와 엔드 포인트(611b)의 좌표를 입력하여 상기 스테이지(600)의 측정범위(640)를 설정한다. In more detail, as illustrated in FIG. 6A, the operator inputs the coordinates of the start point 611a and the end point 611b of the stage 600 to an input unit of the operation unit so that the stage ( A measurement range 640 of 600 is set.

그리고, 도 6b에 도시된 바와 같이, 포인트 넘버를 입력하여, 상기 측정범위(640)내에서 측정하고자 하는 측정영역(655)의 수를 설정한다.As shown in FIG. 6B, a point number is input to set the number of measurement areas 655 to be measured within the measurement range 640.

여기서, 상기 측정영역(655)의 수를 증가시킬 수록, 상기 스테이지(600)의 평탄도를 더욱 정확하게 알 수 있다. 그리고, 상기 측정범위(640)는 적어도 기판(610)이 면적보다 더 크게 설정하는 것이 바람직하다.In this case, as the number of the measurement regions 655 is increased, the flatness of the stage 600 can be known more accurately. In addition, the measurement range 640 is preferably set at least the substrate 610 larger than the area.

상기와 같이 제어부의 입력부에 상기 측정범위(640) 및 측정영역(655)들의 수를 입력하면, 도 6c에 도시된 바와 같이, 상기 제어부는 이에 응답하여 상기 헤드(620) 및 가이드(도시되지 않음)를 이동시켜 상기 헤드(620)의 갭센서(530)가 상기 측정영역(655)들 중 어느 하나를 마주보도록 위치시킨다. When the number of the measurement range 640 and the measurement area 655 is input to the input of the controller as shown in FIG. 6C, the controller responds to the head 620 and the guide (not shown). ) So that the gap sensor 530 of the head 620 faces one of the measurement areas 655.

그리고, 상기 제어부는 상기 헤드(620)를 X축 및 -X축 방향으로 왕복이동시킴과 아울러, 상기 헤드(620)가 X축 방향의 끝단 및 -X축 방향의 끝단에 위치한 측정영역(655)까지 완전히 이동한 순간 상기 가이드를 Y축 방향으로 이동시킨다. 그러면, 상기 헤드(620)는 지그재그 형태로 이동하면서 상기 측정영역(655)들을 통과하게 된다. 이때, 상기 헤드(620)에 구비된 갭센서(530)가 상기 스테이지(600)의 각 측정영역(655)들과 상기 헤드(620)간의 거리를 측정하게 된다. 이때, 상기 헤드(620)의 Z축 방향으로의 움직임은 고정되어 있다.In addition, the controller reciprocates the head 620 in the X-axis and -X-axis directions, and the measurement area 655 at which the head 620 is located at the end of the X-axis direction and the end of the -X-axis direction. The guide is moved in the Y-axis direction at the moment of complete movement. Then, the head 620 moves through the measurement areas 655 while moving in a zigzag form. In this case, the gap sensor 530 provided in the head 620 measures the distance between the respective measurement areas 655 of the stage 600 and the head 620. At this time, the movement in the Z-axis direction of the head 620 is fixed.

여기서, 상기 갭센서(530)는 발광부(530a)와 수광부(530b)로 구분되는데, 상 기 발광부(530a)는 레이져광을 출사하여, 이를 상기 스테이지(600)(또는, 기판(610))에 소정각도로 입사시키고, 이때 상기 스테이지(600)(또는, 기판(610))로부터 반사된 레이져광은 상기 수광부(530b)로 입사된다. Here, the gap sensor 530 is divided into a light emitting unit 530a and a light receiving unit 530b. The light emitting unit 530a emits laser light, which is the stage 600 (or the substrate 610). ) And a laser beam reflected from the stage 600 (or the substrate 610) is incident to the light receiving unit 530b.

여기서, 상기 갭센서(530)는, 상기 수광부(530b)로부터 출사되어 상기 스테이지(600)(또는, 기판(610))로 입사되는 레이져광을 따라 형성되는 가상의 선과, 상기 기판(610)으로부터 반사되어 상기 수광부(530b)에 입사되는 레이져광을 따라 형성되는 가상의 선이 이루는 꼭지점의 내각이 항상 일정하게 유지되도록 동작하기 때문에, 상기 스테이지(600)(또는, 기판(610))와 상기 헤드(620)간의 거리에 따라 상기 수광부(530b)에 입사되는 레이져광의 위치는 변화하게 되는데, 상기 갭센서(530)는 이러한 레이져광의 변위를 분석하여 상기 스테이지(600)(또는, 기판(610))와 상기 헤드(620)간의 거리를 측정한다Here, the gap sensor 530 is an imaginary line formed along the laser light emitted from the light receiving unit 530b and incident on the stage 600 (or the substrate 610), and from the substrate 610. Since the interior of the vertices of the imaginary lines formed along the laser light reflected and incident on the light-receiving unit 530b is always kept constant, the stage 600 (or the substrate 610) and the head are operated. The position of the laser light incident on the light receiving unit 530b is changed according to the distance between the 620 and the gap sensor 530 analyzes the displacement of the laser light to the stage 600 (or the substrate 610). Measure the distance between the head 620 and

상기 갭센서(530)로부터 측정된 값은 제어부의 전면에 구비된 표시부에 표시된다. 즉, 상기 표시부에는, 도 7에 도시된 바와 같이, 각 측정영역(655)에서의 측정값이 수치화되어 표시되며, 또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 각 측정영역(655)에 대한 측정값이 3차원 그래프로 나타난다. 따라서, 작업자는 상기 표시부를 확인함으로써, 상기 스테이지(600)의 평탄도를 알 수 있다.The value measured from the gap sensor 530 is displayed on the display unit provided on the front of the controller. That is, in the display unit, as shown in FIG. 7, the measured value in each measurement area 655 is numerically displayed, and as shown in FIG. 8, the measurement for each measurement area 655 is performed. The values are represented in a three-dimensional graph. Therefore, the operator can know the flatness of the stage 600 by checking the display unit.

즉, 상기 측정영역(655)의 측정값이 작을수록 상기 측정영역(655)과 상기 헤드(620)간의 거리가 가까운 것이고, 상기 측정값이 클수록 상기 각 측정영역(655)과 상기 헤드(620)간의 거리가 먼 것이다. 이는, 결국, 측정값이 작을수록 상기 각 측정영역(655)이 상기 헤드(620) 방향으로 더 돌출되었다는 것을 의미하며, 상기 측정값이 클수록 상기 각 측정영역(655)이 상기 헤드(620) 방향으로 덜 돌출되었다는 것을 의미한다.That is, the smaller the measured value of the measuring area 655 is, the closer the distance between the measuring area 655 and the head 620 is, and the larger the measured value, the larger the measured area 655 and the head 620 are. The distance between them is far. This means that the smaller the measurement value, the more protruding of each measurement area 655 toward the head 620. The larger the measurement value, the larger the measurement value 655 is directed toward the head 620 direction. Means less protruded.

이와 같이, 본 발명에서는 상기 스테이지(600)와 헤드(620)간의 거리를 갭센서(530)를 사용하여 측정하기 때문에, 종래의 마이크로 게이지에 의한 스테이지(600)의 스크래치를 방지할 수 있다. As described above, in the present invention, since the distance between the stage 600 and the head 620 is measured by using the gap sensor 530, the scratch of the stage 600 by a conventional micro gauge can be prevented.

또한, 일반적으로 상기 갭센서(530)의 분해능은 상기 마이크로 게이지보다 훨씬 우수하기 때문에, 본 발명에서와 같이 상기 갭센서(530)를 사용하여 스테이지(600)의 평탄도를 측정하게 되면, 더욱 정밀한 값의 평탄도를 얻을 수 있다.In addition, since the resolution of the gap sensor 530 is much better than that of the micro gauge, when the flatness of the stage 600 is measured using the gap sensor 530 as in the present invention, The flatness of the value can be obtained.

이후, 상기 작업자는 상기 산출된 평탄도에 근거하여, 상기 스테이지(600)의 표면을 깎아내어 상기 스테이지(600)의 전체적인 평탄도를 균일하게 유지할 수 있다.Subsequently, the operator may scrape the surface of the stage 600 based on the calculated flatness to maintain the overall flatness of the stage 600 uniformly.

다음으로, 도 6d에 도시된 바와 같이, 상기 헤드(620)에 노즐(640)을 설치하고, 기판(610)을 상기 스테이지(600)상에 안착시킨다. 그리고, 상기 헤드(620) 및 가이드를 이동시켜, 상기 노즐(640)이 기판(610)과 마주보도록 위치시킨다. Next, as shown in FIG. 6D, a nozzle 640 is installed in the head 620, and the substrate 610 is seated on the stage 600. The head 620 and the guide are moved to position the nozzle 640 to face the substrate 610.

이후, 도 6e에 도시된 바와 같이, 상기 헤드(620) 및 가이드를 이동시켜, 상기 노즐(640)로부터 토출된 시일재(690)를 상기 기판(610)상에 도포한다.Thereafter, as shown in FIG. 6E, the head 620 and the guide are moved to apply the sealing material 690 discharged from the nozzle 640 onto the substrate 610.

이때, 상기 헤드(620)에 구비된 갭센서(530)가 상기 기판(610)과 상기 헤드(620)간의 거리를 측정하게 된다. 즉, 상기 갭센서(530)는 상기 헤드(620)가 지나가는 기판(610)의 모든 표면과 상기 헤드(620)간의 거리를 측정하고, 상기 측정된 값을 상기 제어부에 전송한다. 그러면, 상기 제어부는 상기 측정된 값에 근거하여 상기 헤드(620)를 Z축 및 -Z축 방향으로 이동시킨다. In this case, the gap sensor 530 provided in the head 620 measures the distance between the substrate 610 and the head 620. That is, the gap sensor 530 measures the distance between all the surfaces of the substrate 610 through which the head 620 passes and the head 620, and transmits the measured value to the controller. Then, the controller moves the head 620 in the Z-axis and -Z-axis directions based on the measured value.

구체적으로, 상기 제어부에는 상기 헤드(620)와 기판(610)간의 적정거리에 대한 기준 측정값이 미리 저장되어 있어서, 상기 제어부는 상기 갭센서(530)로부터 전송된 측정값과 상기 기준 측정값을 비교하여, 상기 측정값이 상기 기준 측정값보다 클 경우(즉, 상기 헤드(620)와 상기 기판(610)간의 거리가 적정거리보다 더 클 경우), 상기 헤드(620)를 -Z축 방향으로 하강시켜 상기 헤드(620)와 기판(610)간을 적정거리로 유지한다. 반면, 상기 측정값이 상기 기준 측정값보다 작을 경우(즉, 상기 헤드(620)와 상기 기판(610)간의 거리가 적정거리보다 더 작을 경우), 상기 헤드(620)를 Z축 방향으로 승강시켜 상기 헤드(620)와 기판(610)간을 적정거리로 유지시킨다.Specifically, the control unit pre-stores the reference measurement value for the proper distance between the head 620 and the substrate 610, the control unit is to measure the measurement value and the reference measurement value transmitted from the gap sensor 530 In comparison, when the measured value is larger than the reference measured value (that is, when the distance between the head 620 and the substrate 610 is larger than an appropriate distance), the head 620 is moved in the -Z axis direction. By lowering, the head 620 and the substrate 610 are maintained at an appropriate distance. On the other hand, when the measured value is smaller than the reference measured value (that is, when the distance between the head 620 and the substrate 610 is smaller than the proper distance), the head 620 is elevated in the Z-axis direction The head 620 and the substrate 610 are maintained at an appropriate distance.

따라서, 상기 헤드(620)에 부착된 노즐(640)과 상기 기판(610)간의 거리가 항상 일정하게 유지된다.Therefore, the distance between the nozzle 640 attached to the head 620 and the substrate 610 is always kept constant.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에서는 상기 스테이지(600)의 평탄도를 측정할 때 갭센서(530)를 사용하게 되므로, 기판(610)의 스크래치를 방지할 수 있다. 더불어, 종래와 같이 마이크로 게이지를 부탁 및 탈착하는 과정이 필요없으므로, 작업시간을 단축시킬 수 있다.As described above, in the present invention, since the gap sensor 530 is used to measure the flatness of the stage 600, the scratch of the substrate 610 can be prevented. In addition, since the process of attaching and detaching the micro gauge as in the prior art is not necessary, the working time can be shortened.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법에는 다음과 같은 효과가 있다.The sealing material coating method using the sealing material coating device for a liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention as described above has the following effects.

본 발명에서는, 종래의 마이크로 게이지 대신 비접촉식인 갭센서를 사용하여 스테이지의 평탄도를 측정하므로, 상기 스테이지에 스크래치에 발생하는 것을 방지할 수 있다.In the present invention, since the flatness of the stage is measured using a non-contact gap sensor instead of the conventional micro gauge, it is possible to prevent occurrence of scratches on the stage.

또한, 상기 갭센서는 상기 마이크로 게이지보다 더 높은 분해능을 나타내므로, 상기 갭센서를 사용하면 좀 더 정밀한 값의 평탄도를 얻을 수 있다.In addition, since the gap sensor exhibits a higher resolution than the micro gauge, it is possible to obtain a more precise flatness using the gap sensor.

더불어, 상기 마이크로 게이지를 탈착 및 부착하는 공정이 필요없으므로, 작업시간을 단축시킬 수 있다.In addition, since the process of detaching and attaching the micro gauge is not necessary, the working time can be shortened.

Claims (2)

기판이 안착되는 스테이지, 상기 스테이지의 상부에 구비된 헤드, 상기 스테이지와 마주보도록 상기 헤드에 구비된 갭센서, 상기 헤드가 이동가능하게 결합된 가이드를 포함하여 구성된 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법에 있어서,A seal material coating apparatus for a liquid crystal display device comprising a stage on which a substrate is seated, a head provided on the stage, a gap sensor provided on the head so as to face the stage, and a guide in which the head is movable. In the used sealing material coating method, 상기 스테이지의 스타트 포인트의 좌표 및 엔드 포인트의 좌표를 입력하여 상기 스테이지의 측정범위를 설정하는 A단계;A step of setting the measurement range of the stage by inputting the coordinates of the start point and the end point of the stage; 포인트 넘버를 입력하여 상기 측정범위내에서 측정하고자 하는 측정영역의 수를 설정하는 B단계;Setting a number of measurement areas to be measured within the measurement range by inputting a point number; 상기 헤드 및 가이드를 이동시켜 상기 헤드의 갭센서가 상기 측정영역들 중 어느 하나를 마주보도록 하는 C단계;Moving the head and the guide so that a gap sensor of the head faces one of the measurement areas; 상기 헤드의 Z축 및 -Z축 방향으로의 이동을 고정한 상태에서, 상기 헤드를 X축 방향, -X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시켜 상기 헤드가 지그재그 형태로 이동하면서 상기 측정영역들을 통과하도록 하는 D단계; In a state in which the movement of the head in the Z-axis and -Z-axis directions is fixed, the head is moved in the X-axis direction, -X-axis direction and Y-axis direction so that the head moves in the zigzag form and passes through the measurement areas. D step; 상기 헤드가 측정영역들을 통과할 때, 상기 헤드에 구비된 갭센서가 상기 각 측정영역과 상기 헤드간의 거리를 측정하도록 하여 상기 스테이지의 평탄도를 측정하는 E단계;Measuring the flatness of the stage by allowing the gap sensor provided in the head to measure the distance between the respective measuring regions and the head when the head passes through the measuring regions; 측정된 스테이지의 평탄도에 근거하여, 상기 스테이지의 표면을 깎아내어 상기 스테이지의 전체적인 평탄도를 균일하게 유지하는 F단계;Based on the measured flatness of the stage, cutting the surface of the stage to maintain the overall flatness of the stage uniformly; 상기 스테이지상에 기판을 안착시키는 G단계;A step G for mounting a substrate on the stage; 상기 헤드에 시일재 노즐을 설치하는 H단계: 및,H step of installing a sealing material nozzle on the head: And, 상기 헤드 및 가이드를 이동시켜 상기 시일재 노즐로부터 토출된 시일재를 상기 기판상에 도포하는 I단계를 포함하며;Moving the head and the guide to apply the sealing material discharged from the sealing material nozzle onto the substrate; 상기 A단계에서, 상기 측정범위를 상기 기판의 면적보다 더 크게 설정하며;In the step A, the measuring range is set larger than the area of the substrate; 상기 I단계는,Step I, 상기 갭센서를 이용하여 상기 기판과 헤드간의 거리를 측정하는 I-1단계; 및,I-1 step of measuring the distance between the substrate and the head using the gap sensor; And, 측정된 거리에 근거하여 상기 헤드를 Z축 또는 -Z축 방향으로 이동시켜 상기 기판과 헤드간이 미리 설정된 적정 거리를 유지하도록 함으로써, 상기 헤드에 부착된 시일재 노즐과 상기 기판간의 거리를 일정하게 유지시키는 I-2단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 시일재 도포장치를 사용한 시일재 도포방법.By moving the head in the Z-axis or -Z-axis direction based on the measured distance to maintain a predetermined predetermined distance between the substrate and the head, the distance between the sealing material nozzle attached to the head and the substrate is kept constant Sealing material coating method using a sealing material coating device for a liquid crystal display device characterized in that it comprises a step I-2. 삭제delete
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