KR101093542B1 - 3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom - Google Patents

3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom Download PDF

Info

Publication number
KR101093542B1
KR101093542B1 KR1020060033186A KR20060033186A KR101093542B1 KR 101093542 B1 KR101093542 B1 KR 101093542B1 KR 1020060033186 A KR1020060033186 A KR 1020060033186A KR 20060033186 A KR20060033186 A KR 20060033186A KR 101093542 B1 KR101093542 B1 KR 101093542B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
etching
fabric
dimensional
screen
pattern
Prior art date
Application number
KR1020060033186A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070101707A (en
Inventor
찬 윤
고규석
김창수
박연봉
권윤정
이종욱
Original Assignee
코오롱글로텍주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코오롱글로텍주식회사 filed Critical 코오롱글로텍주식회사
Priority to KR1020060033186A priority Critical patent/KR101093542B1/en
Publication of KR20070101707A publication Critical patent/KR20070101707A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101093542B1 publication Critical patent/KR101093542B1/en

Links

Images

Classifications

    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06CFINISHING, DRESSING, TENTERING OR STRETCHING TEXTILE FABRICS
    • D06C27/00Compound processes or apparatus, for finishing or dressing textile fabrics, not otherwise provided for
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06CFINISHING, DRESSING, TENTERING OR STRETCHING TEXTILE FABRICS
    • D06C23/00Making patterns or designs on fabrics
    • D06C23/02Making patterns or designs on fabrics by singeing, teasing, shearing, etching or brushing
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06CFINISHING, DRESSING, TENTERING OR STRETCHING TEXTILE FABRICS
    • D06C2700/00Finishing or decoration of textile materials, except for bleaching, dyeing, printing, mercerising, washing or fulling
    • D06C2700/31Methods for making patterns on fabrics, e.g. by application of powder dye, moiréing, embossing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
    • Y02P70/62Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product related technologies for production or treatment of textile or flexible materials or products thereof, including footwear
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/904Artificial leather

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)

Abstract

본 발명은 원단의 3차원 에칭 방법, 및 이로부터 제조되는 원단에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 서로 다른 패턴이 형성된 적어도 2종의 스크린과 에칭 호제를 이용하여 원단의 표면을 에칭하며, 상기 스크린 패턴의 공경, 또는 에칭 호제의 점도를 조절하여 에칭 호제의 침투 깊이를 조절함으로써, 에칭 깊이를 조절하는 원단의 3차원 에칭 방법, 및 이로부터 제조되는 원단에 관한 것이다. The present invention relates to a three-dimensional etching method of a fabric, and a fabric manufactured therefrom, and more particularly, the surface of the fabric is etched using at least two screens and etching agents having different patterns formed thereon, and the screen pattern. It relates to a three-dimensional etching method of the fabric to adjust the depth of etching by adjusting the pore diameter of the, or the viscosity of the etching aid to adjust the penetration depth of the etching aid, and the fabric produced therefrom.

본 발명의 3차원 에칭 방법은 원단에 다양한 질감과 패턴을 형성할 수 있으며, 이로부터 제조되는 원단은 심미감과 촉감이 뛰어나 고급 내장재 등으로 사용될 수 있는 장점이 있다. The three-dimensional etching method of the present invention can form a variety of textures and patterns on the fabric, the fabric produced therefrom has an advantage that it can be used as a high-quality interior material excellent in aesthetics and touch.

에칭, 원단, 파일, 스크린, 3차원, 호제 Etching fabric file screen 3d imitation

Description

원단의 3차원 에칭 방법, 및 이로부터 제조되는 원단{3-DEMENSIONAL ETCHING METHOD FOR FABRIC, AND FABRIC PREPARED THEREFROM}Three-dimensional etching method of the fabric, and fabrics produced therefrom {3-DEMENSIONAL ETCHING METHOD FOR FABRIC, AND FABRIC PREPARED THEREFROM}

도 1은 파일류 원단의 일반적인 2차원 패턴의 단면도. 1 is a cross-sectional view of a general two-dimensional pattern of pile fabrics.

도 2는 에칭 깊이의 구배를 가지는 본 발명의 파일류 원단의 3차원 패턴의 단면도.2 is a cross-sectional view of a three-dimensional pattern of the pile fabric of the present invention having a gradient of etching depth.

도 3은 패턴이 형성되지 않은 스크린(도 3a)과 원단(도 3b, 도 3c)의 모식도. 3 is a schematic diagram of a screen (FIG. 3A) and a fabric (FIG. 3B, 3C) in which a pattern is not formed.

도 4는 가장 좁은 폭의 스크린(a)과 상기 스크린을 이용하여 에칭된 원단(b, c)의 모식도. 4 is a schematic view of the narrowest screen (a) and the fabrics (b, c) etched using the screen.

도 5는 도 4보다 넓은 폭의 스크린(a)과 상기 스크린을 이용하여 연속적으로 에칭된 원단(b, c)의 모식도. FIG. 5 is a schematic view of a wider screen (a) and fabrics (b, c) continuously etched using the screen. FIG.

도 6은 도 5보다 넓은 폭의 스크린(a)과 상기 스크린을 이용하여 연속적으로 에칭된 원단(b, c)의 모식도. FIG. 6 is a schematic view of a wider screen (a) and fabrics (b, c) continuously etched using the screen. FIG.

도 7은 실시예 1의 3차원 패턴의 디자인 페이퍼 사진.7 is a design paper photograph of a three-dimensional pattern in Example 1. FIG.

도 8은 실시예 1의 스크린 번호 1/5 의 평면 사진.8 is a planar photograph of screen number 1/5 of Example 1. FIG.

도 9는 실시예 1의 스크린 번호 2/5 의 평면 사진.9 is a planar photograph of screen number 2/5 of Example 1. FIG.

도 10은 실시예 1의 스크린 번호 3/5 의 평면 사진.10 is a planar photograph of screen number 3/5 of Example 1. FIG.

도 11은 실시예 1의 스크린 번호 4/5 의 평면 사진.11 is a planar photograph of screen number 4/5 of Example 1. FIG.

도 12는 실시예 1의 스크린 번호 5/5 의 평면 사진.12 is a planar photograph of screen number 5/5 of Example 1. FIG.

도 13은 실시예 1의 에칭 공정 전의 원단의 평면 사진. 13 is a planar photograph of the original fabric before the etching step of Example 1. FIG.

도 14는 실시예 1의 공정 1 실시 후의 원단의 평면 사진. 14 is a planar photograph of the original fabric after Step 1 of Example 1. FIG.

도 15는 실시예 1의 공정 2 실시 후의 원단의 평면 사진. 15 is a planar photograph of the original fabric after Step 2 of Example 1. FIG.

도 16은 실시예 1의 공정 3 실시 후의 원단의 평면 사진. 16 is a planar photograph of the original fabric after Step 3 of Example 1. FIG.

도 17은 실시예 1의 공정 4 실시 후의 원단의 평면 사진. 17 is a planar photograph of the original fabric after Step 4 of Example 1. FIG.

도 18은 실시예 1의 공정 5 실시 후의 원단의 평면 사진. 18 is a plan view of the original fabric after Step 5 of Example 1. FIG.

도 19는 실시예 1에 따라 처리된 원단의 수세 후의 평면 사진.19 is a planar photograph after washing of the fabric treated according to Example 1;

[산업상 이용분야][Industrial use]

본 발명은 원단의 3차원 에칭 방법, 및 이로부터 제조되는 원단에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 원단에 다양한 질감과 패턴을 형성할 수 있는 3차원 에칭 방법, 및 이로부터 제조되는 원단에 관한 것이다.The present invention relates to a three-dimensional etching method of the fabric, and to a fabric produced therefrom, and more particularly to a three-dimensional etching method capable of forming a variety of textures and patterns on the fabric, and a fabric produced therefrom.

[종래기술][Private Technology]

일반적으로 파일류 원단은 모피와 같이 일측에 털이 나 있는 형태의 원단을 일컬어 말하고 있다.In general, pile fabrics are also referred to as a type of fabric with a hair on one side, such as fur.

사용됨은 물론, 차량용 내장재 또는 건축용 내장재 등으로도 사용되고 있다. Of course, it is also used as a vehicle interior or building interior materials.

파일류 원단은 파일의 길이를 일정하게 가공하는 방법을 제외하고는 파일 자체로 모양이나 무늬 모양을 가지도록 하는 것은 단지 평면적으로 보이며 또한 종래에는 에칭을 통해 일정한 깊이의 라인을 넣는 방법을 사용하였다. 이러한 파일류 원단 및 에칭원단은 외투와 같은 의복의 안감 또는 바깥감으로 이용하여 마치 무늬 모양을 가지는 듯한 형태로 가공을 하였다.Except for the method of uniformly processing the length of the pile, the pile-like fabric has a shape or a pattern of the pile itself, which is only flat, and conventionally, a method of inserting a line having a constant depth through etching is used. The pile fabric and the etched fabric were processed into a pattern like a pattern by using the lining or the outer lining of a garment such as a coat.

그러나, 이러한 가공 방식은 파일의 일부를 원단 표면으로 상승시킨 후, 상승된 파일을 절단하는 것으로서, 복잡한 형상의 패턴을 형성하기 어렵고, 전혀 입체감이 없는 단점이 있다.However, this processing method is to raise a part of the pile to the original surface, and then cut the raised pile, it is difficult to form a pattern of a complex shape, there is a disadvantage that there is no three-dimensional impression at all.

또한, 에칭 조제를 이용한 파일류 원단의 표면 에칭 방법으로 원단의 표면에 패턴을 형성하는 방법이 알려져 있으나, 일반적인 평면 에칭 방법으로는 입체감을 표현하기 어려운 단점이 있다.In addition, a method of forming a pattern on the surface of the fabric is known as a surface etching method of a pile fabric using an etching aid, but there is a disadvantage that it is difficult to express a three-dimensional effect by a general planar etching method.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 원단에 3차원의 입체 질감을 나타내는 3차원 에칭 방법을 제공하는 것이다. The present invention is to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a three-dimensional etching method for showing a three-dimensional three-dimensional texture in the fabric.

본 발명의 다른 목적은 상기 에칭 방법으로 제조되는 원단을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a fabric produced by the etching method.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여, 서로 다른 패턴이 형성된 적어도 2종의 스크린과 에칭 호제를 이용하여 원단의 표면을 에칭하며, 상기 스크린 패턴의 공경, 또는 에칭 호제의 점도를 조절하여 에칭호제의 침투 깊이를 조절함으로써, 에칭 깊이를 조절하는 원단의 3차원 에칭 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention etches the surface of the fabric using at least two screens and etching aids having different patterns, and adjusts the pore size of the screen pattern, or the viscosity of the etching aids, By adjusting the penetration depth, the present invention provides a three-dimensional etching method of fabric.

본 발명은 또한, 상기 방법으로 제조되며, 에칭 깊이의 구배를 가지는 3차원 에칭 패턴이 형성된 원단을 제공한다.The present invention also provides a fabric fabricated by the above method, in which a three-dimensional etching pattern is formed having a gradient of etching depth.

이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

통상적인 원단의 에칭 공정은 패턴이 형성된 스크린을 이용하여 도 1과 같은 형태의 단면을 가지는 2차원 패턴을 형성한다. 그러나, 본 발명의 에칭 방법은 서로 다른 패턴이 형성된 적어도 2종의 스크린과 에칭 호제를 이용하여 원단의 표면을 에칭하며, 상기 스크린 패턴의 공경, 또는 에칭 호제의 점도를 다르게 하여 에칭 깊이를 조절하는 방법으로 원단의 표면에 도 2와 같이 에칭 깊이의 구배를 가지는 3차원 패턴을 형성한다. Conventional fabric etching process forms a two-dimensional pattern having a cross section as shown in Figure 1 using a patterned screen. However, in the etching method of the present invention, the surface of the fabric is etched using at least two screens having different patterns and etching aids, and the etching depth is adjusted by changing the pore size of the screen pattern or the viscosity of the etching aids. By using the method, a three-dimensional pattern having a gradient of etching depth is formed on the surface of the fabric as shown in FIG. 2.

본 발명의 에칭 방법을 구체적으로 설명하면, 원단 위에 패턴이 형성된 스크린을 위치시키는 단계; 및 상기 스크린 위에 에칭 호제를 도포하는 단계를 포함하는 에칭공정을 적어도 2회 포함하며, 각각의 에칭 공정에서 스크린 패턴의 공경 또는 에칭 호제의 점도를 다르게 하여 에칭의 깊이를 다르게 하는 방법으로 진행할 수 있다. Specifically, the etching method of the present invention comprises the steps of: positioning a screen patterned on the fabric; And at least two etching processes including applying an etching agent on the screen, and in each etching process, the etching depth may be changed by changing the pore size of the screen pattern or the viscosity of the etching agent. .

상기 스크린은 원단에 형성하고자 하는 3차원 패턴의 종류에 따라 다양한 형태의 패턴을 가지는 스크린을 임의로 제작하여 이용할 수 있으며, 원단의 원하는 에칭 깊이에 따라 서로 다른 공경 및 패턴을 가지는 스크린을 이용하거나, 또는 서로 동일한 공경의 다른 패턴을 가지는 스크린에 점도가 다른 에칭 호제를 이용하는 방법으로 에칭의 깊이를 조절한다. The screen may be used by arbitrarily manufacturing a screen having a pattern of various forms according to the type of the three-dimensional pattern to be formed on the fabric, using a screen having a different pore size and pattern according to the desired etching depth of the fabric, or The depth of etching is controlled by using etching agents having different viscosities on screens having different patterns with the same pore diameter.

이 때, 상기 여러 종류의 스크린의 각 패턴은 서로 연속적으로 연결되도록 형성하거나, 또는 각 패턴 중 일부가 중복되도록 형성하여 원단의 에칭 깊이를 연속적으로 조절할 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 패턴이 중복되는 부분에는 계속적인 에칭이 일어나므로 부분적으로 에칭 깊이가 깊어지며, 스크린의 패턴을 통과하는 에칭 호제의 양이 많을수록 에칭되는 깊이가 깊어지고, 에칭 호제의 양이 적을수록 에칭되는 깊이가 낮아진다. At this time, it is preferable that each pattern of the various types of screens are formed to be continuously connected to each other, or some of the patterns are overlapped so that the etching depth of the fabric can be continuously controlled. Part of the overlapping pattern is a continuous etching, so the depth of etching is partially deepened. The larger the amount of etching aids passing through the pattern on the screen, the deeper the etching is done, and the smaller the amount of etching aids, the deeper the etching. Lowers.

도 3 내지 6은 각 패턴 중 일부가 중복되도록 스크린을 형성하여 원단의 에칭 깊이를 연속적으로 조절한 예를 나타낸 모식도이다. 도 3은 패턴이 형성되지 않은 스크린(도 3a)과 원단(도 3b, 도 3c)의 모식도이고, 도 4는 가장 좁은 폭의 스크린(도 4a)과 상기 스크린을 이용하여 에칭된 원단(도 4b, 도 4c)의 모식도, 도 5는 도 4보다 넓은 폭의 스크린(도 5a)과 상기 스크린을 이용하여 연속적으로 에칭된 원단(도 5b, 도 5c)의 모식도, 도 6은 도 5보다 넓은 폭의 스크린(도 6a)과 상기 스크린을 이용하여 연속적으로 에칭된 원단(도 6b, 도 6c)의 모식도이다. 3 to 6 is a schematic diagram showing an example of continuously adjusting the etching depth of the fabric by forming a screen so that some of each pattern overlaps. FIG. 3 is a schematic diagram of a screen (FIG. 3A) and a fabric (FIGS. 3B and 3C) without a pattern formed thereon, and FIG. 4 is a narrow screen (FIG. 4A) and a fabric etched using the screen (FIG. 4B). 4c is a schematic diagram of a wider screen (FIG. 5a) and a fabric etched continuously using the screen (FIGS. 5b, 5c), and FIG. 6 is wider than FIG. 6A and 6C are schematic views of fabrics continuously etched using the screens (FIGS. 6B and 6C).

상기 스크린의 패턴의 공경(孔俓)은 스크린 패턴에 미세하게 형성되는 망의 가로 세로 각 1 인치의 면적당 포함되는 관통공의 개수로 정의되는 메쉬로 나타낼 수 있으며, 메쉬로 # 40 내지 # 150인 것이 에칭의 공정성을 위해서 바람직하고, # 60 내지 # 130인 것이 더 바람직하다. The pore diameter of the pattern of the screen may be represented by a mesh defined as the number of through holes included in the area of each inch of the width and length of the net formed finely in the screen pattern, and the mesh is # 40 to # 150 It is preferable for the fairness of an etching, and it is more preferable that they are # 60- # 130.

스크린 패턴의 공경의 메쉬값이 클수록 에칭 호제의 침투가 어려워서 원단의 에칭 깊이가 낮아지고, 공경의 메쉬값이 적을수록 에칭 호제의 침투가 용이하여 원단의 에칭 깊이가 깊어진다. The larger the mesh value of the pore size of the screen pattern is, the more difficult the penetration of the etching agent is, so that the etch depth of the fabric is lower. The smaller the mesh value of the pore size is, the easier the penetration of the etching agent is, and the etching depth of the fabric is deeper.

또한, 상기 에칭 호제는 통상적인 에칭용 호제 중에서 선택될 수 있으며, 사용되는 원단의 종류에 따라서 적절한 에칭 호제를 선택하는 것이 바람직하다. In addition, the etching agent may be selected from among conventional etching agents, it is preferable to select an appropriate etching agent according to the type of fabric used.

본 발명에 사용되는 에칭 호제는 1000 내지 10000 cps의 점도를 가지는 것이 공정성을 위해서 바람직하다. 에칭 호제의 점도가 높을수록 스크린의 패턴을 통과하는 에칭 호제의 양이 적어서 에칭되는 깊이가 낮고, 점도가 낮을수록 원단에 침투하는 호제의 양이 많아져서 에칭되는 깊이가 깊어진다. It is preferable for the fairness that the etching agent used in the present invention has a viscosity of 1000 to 10000 cps. The higher the viscosity of the etching agent, the smaller the amount of etching agent passing through the pattern of the screen and the lower the depth to be etched. The lower the viscosity, the greater the amount of the agent penetrating into the fabric and the deeper the etching depth.

원단의 에칭 효과를 높이기 위해서 에칭 호제의 pH가 11 이상인 것이 바람직하고, 과도한 에칭으로 인한 원단의 손상을 막기 위해서는 pH 13 이하인 것이 바람직하다. 다만, 상기 에칭호제의 pH 는 가장 바람직한 효과를 나타내기 위한 범위일 뿐, 반드시 상기 범위로만 한정되는 것은 아니다. In order to enhance the etching effect of the fabric, the pH of the etching aid is preferably 11 or more, and in order to prevent damage to the fabric due to excessive etching, the pH is preferably 13 or less. However, the pH of the etching agent is only a range for showing the most preferable effect, it is not necessarily limited to the above range.

또한, 상기 에칭호제는 수산화나트륨, 또는 수산화칼륨 등과 같은 알칼리 화합물을 1종 이상 포함하는 것이 바람직하며, 상기 알칼리 화합물은 전체 호제 중량에 대하여 10 내지 50 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.In addition, the etching agent preferably comprises at least one alkali compound such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, and more preferably 10 to 50% by weight based on the total weight of the agent.

상기 에칭 호제의 도포 방법은 통상적인 원단의 에칭 공정과 동일하므로 특별히 한정되지 않으나, 압력의 조절이 가능한 스퀴즈 롤을 이용하여 에칭호제를 밀면서 도포하는 방법을 이용하는 것이 바람직하다. 이 때, 사용되는 스퀴즈 롤의 규격은 공정 조건에 따라 적절한 것을 선택할 수 있으며, 입경 10 내지 50 mm인 롤을 이용하여 0.1 내지 10 kgf/cm2의 압력을 가하는 것이 바람직하며, 상기 도포 공정은 에칭하고자하는 패턴의 깊이에 따라서 여러 번 반복할 수도 있다. The method of applying the etching agent is not particularly limited since it is the same as the etching process of the conventional fabric, but it is preferable to use a method of applying the etching agent while pushing the etching agent using a squeeze roll capable of adjusting the pressure. At this time, the size of the squeeze roll used may be selected according to the process conditions, it is preferable to apply a pressure of 0.1 to 10 kgf / cm 2 using a roll having a particle diameter of 10 to 50 mm, the coating process is etching You can repeat this several times, depending on the depth of the pattern you want.

상기 에칭 방법이 적용될 수 있는 원단으로는 인조가죽, 부직포, 또는 파일류 원단 등이 있으며, 상기 파일류의 원단 중에서도 더블라셀, 트리코타, 및 모켓으로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다. Fabrics to which the etching method can be applied include artificial leather, non-woven fabrics, or pile fabrics, preferably selected from the group consisting of double laselle, tricot, and mocket among the fabrics of the piles.

또한, 상기 원단은 에칭 호제에 의해서 에칭이 일어날 수 있는 섬유로 이루어진 것이면 어느 것이라도 좋으며, 나일론 섬유, 폴리에스터 섬유, 폴리우레탄 섬유, 폴리아크릴로니트릴 섬유, 폴리올레핀 섬유, 및 셀룰로오즈 섬유로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 나일론 섬유, 폴리에스터 섬유, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것이 더 바람직하다.In addition, the fabric may be any one made of fibers which can be etched by an etching agent, and in the group consisting of nylon fibers, polyester fibers, polyurethane fibers, polyacrylonitrile fibers, polyolefin fibers, and cellulose fibers. It is preferable to include one or more selected, and it is more preferable to include nylon fiber, polyester fiber, or a mixture thereof among these.

본 발명의 에칭 방법은 필요에 따라서 적절한 단계에서 특정 패턴의 염색 공정을 더 포함할 수도 있다. 상기 염색 공정은 패턴이 형성된 스크린에 에칭 호제가 아닌 일반적인 발염용 호제를 사용하는 방법으로 진행할 수 있으며, 이러한 방법으로 원단의 입체감을 더욱 고조시킬 수 있다. The etching method of the present invention may further comprise a dyeing process of a specific pattern at an appropriate stage as needed. The dyeing process may proceed with a method of using a general dyeing agent rather than an etching agent on the screen on which the pattern is formed, and in this way it is possible to further enhance the three-dimensional appearance of the fabric.

상기 방법으로 제조되는 원단은 에칭 깊이의 구배를 가지는 3차원 에칭 패턴이 형성되며, 심미감과 촉감이 뛰어나 자동차용 고급 내장재, 또는 건축용 내장재 등과 같은 용도로 사용될 수 있다. The fabric produced by the above method is formed with a three-dimensional etching pattern having a gradient of the depth of etching, excellent in aesthetics and feel can be used for applications such as high-end interior materials for automobiles, building interior materials and the like.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only preferred embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

실시예 1Example 1

원단에 도 7과 같은 디자인의 3차원 패턴을 형성하기 위하여 도 8 내지 도 12의 형태로 서로 다른 패턴이 형성된 스크린을 준비하였다. 도 4 내지 도 12의 스크린에서 흰색으로 표시된 부분이 관통부가 형성된 패턴이며, 상기 패턴 부분은 특정 메쉬의 망으로 이루어져 있다. In order to form a three-dimensional pattern of the design shown in Figure 7 on the fabric was prepared a screen with different patterns in the form of Figures 8 to 12. In the screens of FIGS. 4 to 12, a portion marked with white is a pattern in which a penetrating portion is formed, and the pattern portion is formed of a mesh of a specific mesh.

원단으로는 도 13과 같이 파일 길이가 1.2 mm인 폴리에스터 원단 (DAH-5176A, 코오롱글로텍 제)을 준비하였다. As a fabric, a polyester fabric (DAH-5176A, manufactured by Kolon Glotech) having a pile length of 1.2 mm was prepared as shown in FIG. 13.

원호 조제는 알칼리에 강한 합성 가공 호제인 Fine Gum SDR-7(SDR-1300)과 60 ℃의 물을 혼합한 것을 사용하였다. 이 때, 상기 가공 호제의 사용량은 최종 호제의 점도에 따라서 다르게 결정하였다. The arc preparation used what mixed Fine Gum SDR-7 (SDR-1300) and 60 degreeC water which is an alkali-resistant synthetic processing adjuvant. At this time, the amount of the processing agent used was determined differently depending on the viscosity of the final agent.

에칭 호제의 제조를 위하여 상기 원호와 가성소다(NaOH)를 혼합하여 가성소다의 함량은 30 중량%, pH는 12이 되도록 하였다. 이 때, 가성소다의 함량은 오차 범위 내에서 변동이 가능하다.In order to prepare the etching aid, the arc and the caustic soda (NaOH) were mixed so that the caustic soda content was 30% by weight and the pH was 12. At this time, the content of caustic soda can vary within the error range.

발염 호제의 제조를 위하여 상기 원호와 DP YELLOW-F(일본 세이렌사 제), DP RED 206 (일본 세이렌사 제), LUMACRON T/Q BLUE SG-L-200 (분산염료, 신호통상)를 혼합하였다. For the production of the dye-producing agent, the arc and DP YELLOW-F (manufactured by Japan Siren Co., Ltd.), DP RED 206 (manufactured by Japan Siren Co., Ltd.), LUMACRON T / Q BLUE SG-L-200 (dispersant, signal normal) were mixed. .

에칭 공정은 원단 위에 스크린을 위치시키고 호제를 도포하여 약 140 내지 160 ℃의 온도로 건조, 발색한 후, 이를 수세하는 공정으로 반복 진행하였으며, 상세한 공정을 하기 표 1의 공정표에 따라 진행하였다. In the etching process, the screen was placed on the fabric, coated with a faucet, dried at a temperature of about 140 to 160 ° C., and then color-developed, followed by repeated washing with water.

[표 1][Table 1]

공정 1Process 1 공정 2Step 2 공정 3Process 3 공정 4Process 4 공정 5Process 5 스크린 패턴 No.Screen pattern no. 1/51/5 2/52/5 3/53/5 4/54/5 5/55/5 형상shape 도 88 도 99 도 1010 도 1111 도 12Figure 12 공경 (메쉬 #)Honor (Mesh #) 6060 8080 8080 105105 105105 호제Appeal 에칭 호제Etching 에칭 호제Etching 에칭 호제Etching 에칭 호제Etching 발염 호제Inflammation 호제의 점도(cps)Viscosity of the agent (cps) 20002000 20002000 30003000 30003000 40004000 호제의 pHPH of inhibitor 1212 1212 1212 1212 -- 호제의 NaOH함량
(중량%)
NaOH content
(weight%)
3030 3030 3030 3030 --
스퀴즈롤의 직경
(mm)
Diameter of squeeze roll
(mm)
3030 3030 2020 1515 1515
스퀴즈 압력
(kgf/cm2)
Squeeze pressure
(kgf / cm 2 )
55 44 33 22 1One
스퀴즈 반복 횟수Number of squeeze iterations 33 22 1One 1One 1One 에칭 후 원단의 형상Shape of the fabric after etching 도 1414 도 15Figure 15 도 16Figure 16 도 17Figure 17 도 18Figure 18 에칭 후 원단의 파일 길이
(mm)
Pile length of fabric after etching
(mm)
0.3 ± 0.10.3 ± 0.1 0.5 ± 0.10.5 ± 0.1 0.8 ± 0.10.8 ± 0.1 1.0 ± 0.11.0 ± 0.1 나염 프린트Print

상기 에칭공정을 완료하고, 수세(soaping)공정이 완료된 원단의 표면 사진을 도 19에 나타내었다. 19 shows a surface photograph of the fabric of which the etching process is completed and the washing process is completed.

도 19에서 보는 것과 같이, 본 발명의 3차원 에칭 방법에 따라 처리된 원단은 처음에 디자인된 도 7의 페이퍼 디자인과 거의 흡사한 형태를 나타내는 것을 볼 수 있다. As shown in FIG. 19, it can be seen that the fabric treated according to the three-dimensional etching method of the present invention exhibits a shape almost similar to the paper design of FIG. 7 originally designed.

따라서, 본 발명의 3차원 에칭 방법은 스크린의 설계에 따라 다양한 질감과 복잡한 패턴을 쉽게 형성할 수 있으며, 이로부터 제조되는 원단은 입체감과 촉감이 뛰어난 것을 알 수 있다. Therefore, the three-dimensional etching method of the present invention can easily form a variety of textures and complex patterns according to the design of the screen, it can be seen that the fabric produced therefrom is excellent in three-dimensional and touch.

본 발명의 3차원 에칭 방법은 원단에 다양한 질감과 패턴을 형성할 수 있으며, 이로부터 제조되는 원단은 심미감과 촉감이 뛰어나 고급 내장재 등으로 사용될 수 있는 장점이 있다.  The three-dimensional etching method of the present invention can form a variety of textures and patterns on the fabric, the fabric produced therefrom has an advantage that it can be used as a high-quality interior material excellent in aesthetics and touch.

Claims (9)

서로 다른 패턴이 형성된 적어도 2종의 스크린과 서로 다른 점도를 가진 적어도 2종의 에칭 호제를 이용하여 원단의 표면을 에칭하는 방법으로서, A method of etching a surface of a fabric using at least two screens having different patterns and at least two etching agents having different viscosities, 상기 스크린 패턴의 공경 및 에칭 호제의 점도를 조절하여 에칭 호제의 침투 깊이를 조절함으로써 에칭 깊이를 조절하고,The etching depth is controlled by adjusting the pore depth of the screen pattern and the viscosity of the etching agent to adjust the penetration depth of the etching agent, 상기 에칭 호제는 1000 내지 10000 cps의 점도를 가지는 것을 특징으로 하는 원단의 3차원 에칭 방법.The etching agent is a three-dimensional etching method of the original fabric, characterized in that having a viscosity of 1000 to 10,000 cps. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에칭 방법은 The etching method 원단 위에 패턴이 형성된 스크린을 위치시키는 단계; 및Placing a patterned screen on the fabric; And 상기 스크린 위에 에칭 호제를 도포하는 단계를 포함하는 에칭 공정을 적어도 2회 포함하며,At least twice comprising an etching process comprising applying an etching agent onto the screen, 각각의 에칭 공정에서 스크린 패턴의 공경 또는 에칭 호제의 점도를 다르게 하여 에칭의 깊이를 다르게 하는 것인 원단의 3차원 에칭 방법.A three-dimensional etching method of fabric, wherein the depth of etching is varied by varying the viscosity of the screen pattern or the etching agent in each etching process. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 스크린의 패턴의 공경(孔俓)은 메쉬로 # 40 내지 # 150인 원단의 3차원 에칭방법.The pore diameter of the pattern of the screen is a three-dimensional etching method of the fabric # # 40 to # 150 as a mesh. 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에칭 호제는 pH 11 내지 13인 것인 원단의 3차원 에칭 방법. The etching agent is a three-dimensional etching method of the fabric is pH 11 to 13. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 에칭 호제는 수산화나트륨, 및 수산화 칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 알칼리 화합물을 10 내지 50 중량% 포함하는 것인 원단의 3차원 에칭 방법.The etching agent is a three-dimensional etching method of the fabric comprising 10 to 50% by weight of at least one alkali compound selected from the group consisting of sodium hydroxide, and potassium hydroxide. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 원단은 인조가죽, 부직포, 및 파일류 원단으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 원단의 3차원 에칭 방법. The fabric is a three-dimensional etching method of the fabric is selected from the group consisting of artificial leather, nonwoven fabric, and pile fabrics. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 파일류의 원단은 더블라셀, 트리코타, 및 모켓으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 원단의 3차원 에칭 방법.The fabric of the pile is a three-dimensional etching method of the fabric is selected from the group consisting of double raschel, tricot, and mocket. 삭제delete
KR1020060033186A 2006-04-12 2006-04-12 3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom KR101093542B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060033186A KR101093542B1 (en) 2006-04-12 2006-04-12 3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060033186A KR101093542B1 (en) 2006-04-12 2006-04-12 3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070101707A KR20070101707A (en) 2007-10-17
KR101093542B1 true KR101093542B1 (en) 2011-12-13

Family

ID=38816911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060033186A KR101093542B1 (en) 2006-04-12 2006-04-12 3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101093542B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210048191A (en) * 2019-10-23 2021-05-03 (주)아셈스 Three-dimensional Shape Shoes Outsole Enhancing Pattern Quality and Durability

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002061070A (en) 2000-08-18 2002-02-28 Seiza Sangyo Kk Opal finished pile fabric and method for producing the same
JP2004137659A (en) 2002-09-26 2004-05-13 Teijin Fibers Ltd Multi-color fiber pile cloth and multi-color fiber pile cloth with concave-convex pattern
WO2005059237A1 (en) * 2003-12-16 2005-06-30 Teijin Fibers Limited Plush fabric and method for production thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002061070A (en) 2000-08-18 2002-02-28 Seiza Sangyo Kk Opal finished pile fabric and method for producing the same
JP2004137659A (en) 2002-09-26 2004-05-13 Teijin Fibers Ltd Multi-color fiber pile cloth and multi-color fiber pile cloth with concave-convex pattern
WO2005059237A1 (en) * 2003-12-16 2005-06-30 Teijin Fibers Limited Plush fabric and method for production thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070101707A (en) 2007-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1117482A (en) Painting device
DE102018100482A1 (en) Network Structure and Network Fabric
US20180220726A1 (en) Method for Manufacturing an Industrial Clothing
KR101093542B1 (en) 3-demensional etching method for fabric, and fabric prepared therefrom
US6606771B2 (en) Method of imaging woven textile fabric
CN107447594A (en) A kind of 3D wallpapers and its manufacture method
KR20180027103A (en) The fabric produced by this method and file for printing to form a three-dimensional fabric pattern files and various design patterns
RU2633576C1 (en) Wallpaper having appearance of textile material
KR100415195B1 (en) PVC Flooring with sublimation-transcription-method and fiber pile and the method for the same
KR100559829B1 (en) coating fabric with concave and convex pattern and method for producing the same
KR101563480B1 (en) Method for processing velvet and velboa raw cloth
KR101496770B1 (en) An air cushion textile by burn-out processing and its manufacturing method
CA2544232A1 (en) Method for producing abrasive non-woven cloth
WO2002072935A3 (en) Hydraulic napping of fancy weave fabrics
KR20170000519A (en) Furniture panel making method for traditional patterned of fabric attah living
KR101177297B1 (en) Method for manufacturing functional artificial leather
JPH06192889A (en) Thin material and its production
KR102549677B1 (en) Dyeing ice velvet fabric manufacturing method of roller protruding area dyeing
KR101337681B1 (en) Warp knitted cut pile fabric including metal wire
KR200361002Y1 (en) Noctilucent flocking fabric
CN205617046U (en) Three -dimensional carving warp knitted fabric graduallys change
KR200403095Y1 (en) The nonwoven fabrics where the three-dimensional air pattern is formed and three-dimensional air pattern formation system
RU2170672C1 (en) Laminated material and method for its manufacture
JP2004292981A (en) Method for dyeing plush fabric for beddings
KR20160016565A (en) Method for crease rhus korean paper manufacturing and the crease rhus korean paper therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140818

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151202

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170914

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180306

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190926

Year of fee payment: 9