KR101088431B1 - Apparatus filtering chemical liquid for manufacturing semiconductor and flat panel display - Google Patents

Apparatus filtering chemical liquid for manufacturing semiconductor and flat panel display Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정이나 평판형 디스플레이 제조 공정에 사용되는 약액을 연속적으로 여과하면서 필터를 자동으로 세척할 수 있는 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치를 개시한다. 본 발명은 반도체 소자나 평판형 디스플레이의 제조공정에서 약액에 포함된 이물질을 선별하기 위한 여과기와, 상기 여과기가 막히는 것을 방지하도록 역세척 수단이 구비된 반도체 제조용 약액 여과장치에 있어서, 상기 역세척 수단에는 상기 역세척 수단에서 공급되는 압축공기 또는 세척수를 가열하기 위한 가열기가 설치된 것을 특징으로 한다. The present invention discloses a semiconductor element and a chemical liquid filtration device for manufacturing a flat panel display which can automatically wash the filter while continuously filtering the chemical liquid used in the semiconductor manufacturing process or the flat panel display manufacturing process. The present invention relates to a filter for sorting foreign substances contained in a chemical liquid in a manufacturing process of a semiconductor device or a flat panel display, and a chemical liquid filtering device for semiconductor manufacturing provided with a backwashing means to prevent the filter from being clogged. It is characterized in that the heater for heating the compressed air or the washing water supplied from the backwashing means is installed.

Description

반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치{APPARATUS FILTERING CHEMICAL LIQUID FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR AND FLAT PANEL DISPLAY}Chemical liquid filtration device for manufacturing semiconductor devices and flat panel displays {APPARATUS FILTERING CHEMICAL LIQUID FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR AND FLAT PANEL DISPLAY}

본 발명은 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 제조 공정이나 평판형 디스플레이(FPD) 제조 공정에 사용되는 약액를 연속적으로 여과하면서 필터를 자동으로 세척할 수 있는 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid filtration apparatus for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display, and more particularly, a semiconductor capable of automatically cleaning a filter while continuously filtering a chemical liquid used in a semiconductor manufacturing process or a flat panel display (FPD) manufacturing process. The present invention relates to a chemical liquid filtration device for producing devices and flat panel displays.

일반적으로 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치는 필터 망에 액체를 통과시켜 액체를 여과하는 과정에서 필터망이 오물에 의해 더럽혀지는 경우가 종종 발생 된다. In general, the chemical filter device for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display often causes the filter network to be contaminated by dirt in the process of filtering the liquid by passing the liquid through the filter network.

이와 같이, 필터망이 오물에 의해 더럽혀지는 경우에는 필터 망을 교체하거나 주기적으로 청소(또는 역세척)해야 한다. 이 중 필터 망을 교체하는 경우에는 미리 비치된 필터로 교환하게 되는데, 이 교체작업은 통상적으로 수작업으로 이루어져 인건비가 많이 소비되는 문제점이 있었다. 또한, 필터 교체작업시에는 여과공정을 일시적으로 정지해야 하므로 이에 따른 공정효율도 저하되는 문제점이 있었다. As such, when the filter net is soiled by dirt, the filter net must be replaced or periodically cleaned (or backwashed). In the case of replacing the filter network of the filter is provided in advance to replace, this replacement is usually made by hand, there was a problem that a lot of labor costs are consumed. In addition, when the filter replacement work has to be temporarily stopped the filtration process there was a problem in that the process efficiency is also reduced.

한편, 종래에는 연속적으로 여과 작업을 수행하면서 필터 망을 청소하기 위해 제안된 자동 역세 필터가 있다. 이는 모터나 실린더를 이용하여 필터 망이나 역세 배출구를 회전 또는 이동시킴으로써 자동으로 역세척 하는 방식이다. On the other hand, there is a conventional automatic backwash filter proposed for cleaning the filter net while performing the filtration operation continuously. This is a method of automatic backwashing by rotating or moving the filter net or backwash outlet using a motor or cylinder.

그러나, 이러한 자동 역세 필터는 모터의 구동에 따른 전력비의 부담이 크고, 구동시 모터 축 연결부분이 누수되는 현상이 종종 발생 되었다. 또한, 다량의 역세수 배출로 인한 원수(또는 원액) 이용률의 저하될 수 있어 잠재적으로 공정에러로 이어질 수 있는 문제점이 있었다. However, such an automatic backwash filter has a large burden of power ratio due to the driving of the motor, and a phenomenon in which the motor shaft connection part leaks during driving is often occurred. In addition, the use of raw water (or stock solution) may be reduced due to the large amount of backwash water discharge, which may potentially lead to process errors.

또한, 종래의 자동 역세 필터의 원리는 필터망의 여과 원수 측에 찌꺼기 배출구를 형성한 후, 여과 원수와 외부와의 압력차이를 이용하여 이물질을 외부로 배출시키는 방법을 사용하기 때문에 여과 필터가 완전히 청소되지 않을 뿐만 아니라 순간적인 압력변화로 필터 망이 손상을 입게 되는 문제점이 있었다. In addition, the principle of the conventional automatic backwash filter is to form a waste outlet on the filtration raw water side of the filter network, and then use a method of discharging foreign matter to the outside by using a pressure difference between the filtration raw water and the outside, so that the filtration filter is completely Not only was it not cleaned, but there was a problem in that the filter net was damaged by the instantaneous pressure change.

특히, 고점도의 약액을 사용하는 공정의 경우에는 필터망에 약액과 이물질이 쉽게 뭉치게 되어 필터의 세척작업이 용이하지 않은 문제점이 있었다.In particular, in the case of using a high-viscosity chemical solution there was a problem that the cleaning solution of the filter is not easy because the chemical solution and foreign matter easily aggregated in the filter network.

본 발명은 위와 같은 필요에 의해 창안된 것으로서, 여과기 필터의 이물질을 세척수 또는 압축공기로 용이하게 세척할 수 있으며, 특히 고점도의 약액이 적용되는 경우 압축공기나 세척수를 가열하여 주입함으로써, 약액의 점도를 낮추어 세척효율을 향상시키고 필터의 손상을 방지하며, 복수의 여과기가 구비되어 연속적인 역세척 공정이 이루어지도록 한 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in accordance with the above needs, it is possible to easily wash the foreign matter of the filter filter with washing water or compressed air, in particular, when a high viscosity chemical solution is applied by heating and injecting compressed air or wash water, the viscosity of the chemical liquid The purpose of the present invention is to provide a chemical filtering device for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display to improve washing efficiency by preventing the filter and preventing damage to the filter and to provide a continuous back washing process with a plurality of filters.

위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시 형태에 따르면, 반도체 소자나 평판형 디스플레이의 제조공정에서 약액에 포함된 이물질을 선별하기 위한 여과기와, 상기 여과기가 막히는 것을 방지하도록 역세척 수단이 구비된 반도체 제조용 약액 여과장치에 있어서, 상기 역세척 수단에는 상기 역세척 수단에서 공급되는 압축공기 또는 세척수를 가열하기 위한 가열기가 설치된 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치를 제공한다. According to one embodiment of the present invention for achieving the above object, provided with a filter for sorting foreign matter contained in the chemical liquid in the manufacturing process of the semiconductor device or flat panel display, and a backwashing means to prevent the filter is blocked. In the chemical liquid filtration apparatus for manufacturing a semiconductor, the backwashing means provides a semiconductor element and a chemical liquid filtration device for manufacturing a flat panel display provided with a heater for heating compressed air or washing water supplied from the backwashing means.

상기 여과기에 연결되어 상기 여과기로 약액을 공급하는 약액 저장탱크, 상기 약액 저장탱크에는 상기 약액의 점도를 측정하는 점도 측정기, 및 상기 약액의 점도에 따라 선택적으로 상기 가열기를 가동시키는 제어부를 포함하여 이루어질 수 있다. A chemical liquid storage tank connected to the filter and supplying the chemical liquid to the filter, the chemical liquid storage tank includes a viscosity meter for measuring the viscosity of the chemical liquid, and a controller for selectively operating the heater according to the viscosity of the chemical liquid Can be.

상기 가열기는, 상기 역세척 수단과 상기 여과기를 연결하는 배관 상에 설치된 것이 바람직하다. It is preferable that the said heater is provided on the piping which connects the said back washing means and the said filter.

상기 역세척 수단은, 상기 여과기에 압축공기를 주입하여 세척을 하는 공기 주입기와, 상기 여과기에 세척수를 주입하여 세척을 하는 세척수 공급기가 구비되어, 선택적으로 상기 압축공기와 상기 세척수를 상기 여과기에 주입하여 세척이 이루어질 수 있다. The backwashing means includes an air injector for cleaning by injecting compressed air into the filter, and a washing water supply for injecting washing water into the filter and washing the filter, optionally injecting the compressed air and the washing water into the filter. This can be done by washing.

상기 여과기는 복수로 구성되어, 일측 여과기는 공급되는 상기 약액을 여과하고, 타측 여과기는 역세척이 이루어질 수 있다. The filter may be configured in plural, one side filter may filter the chemical liquid supplied, and the other side filter may be backwashed.

본 발명에 따르면, 반도체 제조 공정시 고점도의 약액이 공급되는 경우에 여과기에 고온의 세척수나 고온의 압축공기를 분사하여 막힌 약액의 점도를 낮춤에 따라 이물질을 용이하게 제거할 수 있다. 이에 따라 역세척 공정에 대한 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, when a high-viscosity chemical liquid is supplied during the semiconductor manufacturing process, foreign substances can be easily removed by lowering the viscosity of the blocked chemical liquid by spraying hot washing water or high-pressure compressed air to the filter. Accordingly, there is an effect that can improve the efficiency for the backwash process.

또한, 본 발명에 따르면, 복수의 여과기를 설치하여 일측 여과기는 여과공정을 실시하고, 타측 여과기는 역세척을 실시할 수 있어 공정의 중단없이도 역세척이 이루어질 수 있는 효과가 있다. In addition, according to the present invention, by installing a plurality of filters, one side of the filter performs the filtration process, the other side of the filter can be backwashed, there is an effect that can be backwashed without interruption of the process.

도 1은 본 발명의 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치의 사용상태를 보여주기 위한 사용 상태도이다.1 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid filtration apparatus for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display of the present invention.
Figure 2 is a state diagram used to show the state of use of the chemical filtering device for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치의 개략적인 구성도이고, 도 2는 본 발명의 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치의 사용상태를 보여주기 위한 사용 상태도이다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid filtration device for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display of the present invention, and FIG.

도 1과 도 2와 같이, 본 발명은 약액 공급탱크(10), 여과기(50,60), 회수탱크(20), 역세척 수단 및 가열기(100a,100b; '100'으로 통칭)로 크게 구성된다.1 and 2, the present invention is largely composed of a chemical liquid supply tank 10, filters 50, 60, recovery tank 20, backwashing means and heaters (100a, 100b; collectively referred to as '100') do.

상기한 구성에 있어서, 약액 공급탱크(10)와 여과기(50,60)는 배관을 통해 연결되어 있고, 배관 중간에 펌프(40)가 설치되어 약액 공급탱크(10)에 저장된 약액을 여과기(50,60)로 공급한다. In the above configuration, the chemical liquid supply tank 10 and the filter (50, 60) is connected via a pipe, the pump 40 is installed in the middle of the pipe to filter the chemical liquid stored in the chemical liquid supply tank (10) , 60).

상기 여과기(50,60)는 복수로 이루어지는 것이 바람직한데, 이는 제1여과기(50)가 여과공정을 수행하는 사이에 제2여과기(60)는 역세척이 이루어지게 하고, 제2여과기(60)에 대한 역세척 공정이 완료된 후에는, 제1여과기(50)에 대한 역세척이 이루어지도록 구성할 수 있다. 이와 같이 복수의 여과기(50,60)가 구비됨으로써 공정의 중단없이 계속적인 공정이 이루어지게 할 수 있다. The filter 50, 60 is preferably composed of a plurality, which is the second filter 60 is backwashed while the first filter 50 performs the filtration process, the second filter 60 After the backwashing process is completed, it may be configured to perform backwashing on the first filter 50. As such, the plurality of filters 50 and 60 may be provided to allow continuous processing without interruption of the process.

상기 역세척 수단은 공기 주입기(70)와 세척수 공급기(80)가 병렬로 배치되어 여과기(50,60)에 연결된 구조로 제공될 수 있다. 상기 공기 주입기(70)는 압축공기를 여과기(50 또는 60)에 주입하여 역세척이 이루어지게 한다. The backwashing means may be provided in a structure in which the air injector 70 and the washing water supply 80 are arranged in parallel and connected to the filters 50 and 60. The air injector 70 injects compressed air into the filter 50 or 60 to perform backwashing.

또한, 상기 세척수 공급기(80)는 탈이온수와 같은 세척수를 여과기(50,60)에 주입하여 역세척이 이루어지게 한다. 이와 같은 공기 주입기(70)와 세척수 공급기(80)는 선택적으로 여과기(50,60)에 적용될 수 있다. 즉, 약액의 종류에 따라 압축공기 또는 세척수를 선택하여 적용시킬 수 있다.In addition, the washing water supply unit 80 injects washing water such as deionized water into the filters 50 and 60 so that the back washing is performed. Such an air injector 70 and the wash water supply 80 may optionally be applied to the filters (50, 60). That is, compressed air or washing water may be selected and applied according to the type of chemical liquid.

한편, 상기 역세척 수단과 여과기(50,60)를 연결하는 배관에는 가열기(100a,100b; 100)가 각각 설치된다. 이 가열기(100)는 여과기(50,60)로 공급되는 압축공기 또는 세척수를 가열하여 여과기(50,60)로 공급하는 역할을 한다. On the other hand, a heater (100a, 100b; 100) is installed in the pipe connecting the backwashing means and the filters (50, 60), respectively. The heater 100 serves to heat the compressed air or the wash water supplied to the filters 50 and 60 to the filters 50 and 60.

특히, 가열기(100)는 도 1과 도 2와 같이, 배관 상에 설치되어 지나가는 유체를 가열하여 공급하는 라인 히터(line heat)방식이 채용될 수 있다. 또한 도시되진 않았지만, 공기 주입기(70)나 세척수 공급기(80)의 내부에 가열기(100)를 설치하여 가열된 상태의 압축공기나 세척수가 직접공급되는 구조로 변경실시할 수 있다.In particular, as shown in FIGS. 1 and 2, the heater 100 may employ a line heater method for heating and supplying a fluid passing through the pipe. In addition, although not shown, the heater 100 may be installed in the air injector 70 or the washing water supply 80 to be changed to a structure in which the compressed air or the washing water is directly supplied.

이와 같은, 가열기(100)는 고점도의 약액이 제공되어 여과기(50,60) 내에 고점도의 약액이 뭉쳐 있는 경우를 대비하여, 압축공기나 세척수를 가열하여 여과기(50,60) 내로 주입시킴으로써 약액의 점도를 낮추어 역세척 효율을 향상시키는 역할을 한다. In this case, the heater 100 is provided with a high-viscosity chemical liquid, and in case the high-viscosity chemical liquid is agglomerated in the filters 50 and 60, the compressed air or the washing water is heated to inject the chemical liquid into the filters 50 and 60. Lowers the viscosity to improve the backwashing efficiency.

또한, 약액 공급탱크(10) 내에는 점도 측정기(90)를 설치할 수 있어, 점도 측정기(90)를 통해 측정된 점도에 따라 가열기(100)의 가동여부 및 가동시간을 설정할 수 있다. 이때, 가동여부 및 가동시간은 별도로 설치된 제어부(미도시)에 의해 자동으로 설정될 수 있다. 즉, 약액의 점도를 먼저 측정하고, 이에 대응되는 온도로 압축공기나 세척수를 가열할 수 있다. In addition, the viscosity measuring unit 90 can be installed in the chemical liquid supply tank 10, and according to the viscosity measured by the viscosity measuring unit 90, it is possible to set whether the heater 100 is operated and operating time. At this time, whether the operation and the operation time can be automatically set by a separately installed control unit (not shown). That is, the viscosity of the chemical liquid may be measured first, and the compressed air or the washing water may be heated to a temperature corresponding thereto.

한편, 여과기(50,60)는 저장탱크(30)와 회수탱크(20)에 각각 연결된다. 이때 회수탱크(20)에는 역세척시 공급된 세척수가 저장되고, 저장된 세척수는 펌프(40)를 통해 순환되어 저장탱크(30)에 저장되어 후처리 될 수 있다. 또한 저장탱크(30)는 이물질이 제거된 순수 약액이 저장된다. On the other hand, the filter (50, 60) is connected to the storage tank 30 and the recovery tank 20, respectively. At this time, the recovery tank 20 stores the washing water supplied during backwashing, and the stored washing water is circulated through the pump 40 to be stored in the storage tank 30 for post-treatment. In addition, the storage tank 30 stores the pure chemical liquid from which foreign substances have been removed.

도 2를 참조하여 본 발명의 반도체 제조용 약액 여과장치의 사용상태에 대해 설명한다. With reference to Figure 2 will be described the state of use of the chemical liquid filtration device for semiconductor manufacturing of the present invention.

약액 공급탱크(10)에서 펌프(40)를 통해, 약액은 제1여과기(50)와 제2여과기(60)로 공급된다.The chemical liquid is supplied to the first filter 50 and the second filter 60 through the pump 40 in the chemical liquid supply tank 10.

여기서 제1여과기(50)와 제2여과기(60)는 펌프(40)의 공급라인에서 분기된 배관라인을 통해 각각 연결되는데, 이때 상기 공급라인들에는 공급을 차단하기 위한 밸브(도면번호 미부여)가 각각 설치될 수 있다. Here, the first filter 50 and the second filter 60 are connected through a pipe line branched from the supply line of the pump 40, respectively, wherein the supply lines are provided with valves for blocking the supply (not shown in the drawing number). ) Can be installed respectively.

이에 따라, 약액의 여과 공정시 작동 중인 여과기(50,60) 중 어느 하나(예컨데 60)에 약액이 막혀 여과 효율이 저하되면 압축된 청정공기를 주입하여 여과기(60)를 소통시킨다. Accordingly, when the chemical liquid is blocked by any one of the filters 50 and 60 (for example, 60) in operation during the filtration process of the chemical liquid and the filtration efficiency is lowered, compressed clean air is injected to communicate the filter 60.

또한, 이때 다른 하나의 여과기(제2여과기; 60)는 정상적으로 여과공정이 이루어지게 함으로써, 약액 여과공정은 중단되지 않고 지속적으로 실시될 수 있다. 여기서 상기 여과기(50,60)에서는 약액에 존재하는 이물질을 여과시킨 후, 저장탱크(30)로 공급한다. In addition, at this time, the other filter (second filter) 60 is performed by the normal filtration process, the chemical liquid filtration process can be carried out continuously without interruption. Here, the filters 50 and 60 filter the foreign substances present in the chemical liquid and then supply them to the storage tank 30.

상기와 같은 여과공정이 실시될 때, 만일 여과기(50,60) 중 어느 하나(예를 들어, 제2여과기; 60)가 막혀 역세척이 필요한 경우에는 공급배관에 설치된 밸브를 폐쇄하고 역세척 수단을 통해 압축공기나 세척수가 여과기(60) 내로 주입시킴으로써 역세척이 이루어진다. When the above filtration process is carried out, if any one of the filters (50, 60) (for example, the second filter 60) is clogged and needs to be backwashed, the valve installed in the supply pipe is closed and the backwashing means Backwashing is achieved by injecting compressed air or wash water into the filter (60).

구체적으로, 역세척 수단은 병렬로 배치된 공기 주입기(70)와 세척수 공급기(80)가 각각 제1여과기(50)와 제2여과기(60)에 연결되어 이루어진다. Specifically, the backwashing means is formed by connecting the air injector 70 and the washing water supply 80 arranged in parallel to the first filter 50 and the second filter 60, respectively.

이때, 상기 세척수 공급기(80)는 탈이온수와 같은 세척수를 여과기(50,60)에 주입하여 역세척이 이루어지게 하고, 상기 공기 주입기(70)는 압축된 청정공기를 여과기(60) 내부로 주입시킴으로써 역세척이 실시될 수 있다. 한편, 공기 주입기(70)와 세척수 공급기(80)의 공급라인에는 가열기(100)가 설치되어 공급되는 세척수 또는 압축공기를 가열한 상태로 상기 여과기(50,60)에 주입할 수 있다. In this case, the washing water supply unit 80 injects washing water such as deionized water into the filters 50 and 60 so that the back washing is performed, and the air injector 70 injects the compressed clean air into the filter 60. By backwashing can be carried out. On the other hand, in the supply line of the air injector 70 and the washing water supply unit 80 may be injected into the filter (50, 60) in a state in which the washing water or compressed air supplied with the heater 100 is installed.

바람직하게는, 상기 가열기(100)는 약액 저장탱크(10)에 설치된 점도 측정기(90)를 통해 검출된 점도치에 따라 가동여부가 결정될 수 있다. 즉, 고점도의 약액이 공급되는 경우에 여과기(50,60) 내에 쌓인 이물질을 효율적으로 제거할 수 있도록 주입되는 유체를 가열하는 것이다. Preferably, the heater 100 may be operated according to the viscosity value detected through the viscosity measuring device 90 installed in the chemical storage tank 10. That is, when a high viscosity chemical liquid is supplied, the injected fluid is heated to efficiently remove foreign matter accumulated in the filters 50 and 60.

이와 같이, 역세척 수단에 가열기(100)를 설치하는 것으로 고점도의 약액이 적재되는 경우에도 고온의 압축공기나 세척수를 통해 점도를 낮추어 용이하게 세척할 수 있다. 또한, 공기 주입기(70)와 세척수 공급기(80)는 여과기(50,60)에 공급되는 약액의 종류에 따라 선택적으로 가동될 수 있다. 즉, 공급되는 약액의 종류에 따라 압축공기 또는 세척수를 선택하여 적용시키는 것이 가능하여 약액에 물성이 변화되는 것을 방지할 수 있다. As such, by installing the heater 100 in the backwashing means, even when a high-viscosity chemical liquid is loaded, the viscosity can be easily reduced by using high-pressure compressed air or washing water. In addition, the air injector 70 and the washing water supply 80 may be selectively operated according to the type of the chemical liquid supplied to the filter (50, 60). That is, it is possible to select and apply compressed air or washing water according to the type of chemical liquid supplied to prevent the physical properties of the chemical liquid from being changed.

이상에서는 본 발명을 특정의 실시예에 대해서 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 얼마든지 다양하게 변경하여 실시할 수 있을 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to the particular embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

10: 약액 저장탱크 20: 회수탱크
30: 저장탱크 40: 펌프
50,60: 여과기 70: 공기 주입기
80: 세척수 공급기 100: 가열기10: chemical storage tank 20: recovery tank
30: storage tank 40: pump
50,60: filter 70: air injector
80: washing water supply 100: heater

Claims (5)

반도체 소자나 평판형 디스플레이의 제조공정에서 약액에 포함된 이물질을 선별하기 위한 여과기와, 상기 여과기가 막히는 것을 방지하도록 역세척 수단이 구비된 반도체 제조용 약액 여과장치에 있어서,
상기 역세척 수단에는 상기 역세척 수단에서 공급되는 압축공기 또는 세척수를 가열하기 위한 가열기가 설치되고,
상기 역세척 수단은 상기 여과기에 압축공기를 주입하여 세척을 하는 공기 주입기와, 상기 여과기에 세척수를 주입하여 세척을 하는 세척수 공급기가 구비되어, 상기 압축공기와 상기 세척수를 선택적으로 상기 여과기에 주입하여 세척이 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치.In the manufacturing process of a semiconductor device or a flat panel display, a filter for sorting foreign matter contained in the chemical liquid, and a chemical liquid filtering device for semiconductor manufacturing provided with a backwashing means to prevent the filter is clogged,
The backwashing means is provided with a heater for heating the compressed air or washing water supplied from the backwashing means,
The backwashing means includes an air injector for washing by injecting compressed air into the filter, and a washing water supplier for washing by injecting washing water into the filter, and selectively injecting the compressed air and the washing water into the filter. Chemical device filtering device for producing a semiconductor device and a flat panel display, characterized in that the cleaning is performed. 제1항에 있어서,
상기 여과기에 연결되어 상기 여과기로 약액을 공급하는 약액 저장탱크,
상기 약액 저장탱크에는 상기 약액의 점도를 측정하는 점도 측정기, 및
상기 약액의 점도에 따라 선택적으로 상기 가열기를 가동시키는 제어부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치.The method of claim 1,
A chemical storage tank connected to the filter and supplying a chemical to the filter,
The chemical storage tank has a viscosity meter for measuring the viscosity of the chemical, and
And a control unit for selectively operating the heater according to the viscosity of the chemical liquid. 제1항에 있어서,
상기 가열기는,
상기 역세척 수단과 상기 여과기를 연결하는 배관 상에 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치.The method of claim 1,
The heater,
Chemical device filtering device for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display, characterized in that installed on the pipe connecting the back washing means and the filter. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 여과기는 복수로 구성되어,
일측 여과기는 공급되는 상기 약액을 여과하고, 타측 여과기는 역세척이 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 및 평판형 디스플레이 제조용 약액 여과장치.The method of claim 1,
The filter is composed of a plurality,
One side filter filters the supplied chemical liquid, and the other side filter is backwashing the chemical liquid filtering device for manufacturing a semiconductor device and a flat panel display.
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