KR101084766B1 - Method for analyzing of heavy metals - Google Patents

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Abstract

중금속 분석방법을 제공한다. 상기 중금속 분석방법은 시료에 1차 펄스 레이저를 조사하여 1차 플라즈마를 발생시키는 단계, 상기 1차 플라즈마가 소멸되기 전에 상기 1차 플라즈마에 2차 펄스 레이저를 조사하여 2차 플라즈마를 발생시키는 단계, 및 상기 2차 플라즈마로부터 발생된 빛을 감지하는 단계를 포함한다. Provide heavy metal analysis method. The method of analyzing heavy metals may include generating a primary plasma by irradiating a primary pulse laser to a sample, generating a secondary plasma by irradiating a secondary pulse laser to the primary plasma before the primary plasma is extinguished; And sensing light generated from the secondary plasma.

이중펄스 레이저 유도 플라즈마 분광분석 장치, 분석방법 Dual pulse laser guided plasma spectroscopy apparatus, analysis method

Description

중금속 분석방법{Method for analyzing of heavy metals}Method for analyzing of heavy metals

본 발명은 분석방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 중금속 분석방법에 관한 것이다. The present invention relates to an analysis method, and more particularly to a heavy metal analysis method.

기존에는 토양 중의 중금속 분석을 위한 방법으로서, 유도결합 질량분석기(ICP-MS; Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry) 또는 원자흡수분광광도법(AAS; Atomic Absorption Spectrometry)등의 화학적 분석방법을 사용하였다. Conventionally, chemical analysis methods such as Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICP-MS) or Atomic Absorption Spectrometry (AAS) have been used as methods for analyzing heavy metals in soil.

이러한 방법들은 오염대상 지역에 대한 대표성을 띄는 시료채취, 추출, 복잡한 정제과정을 거치며 많은 시간과 노력 및 고비용을 필요로 한다. 또한 고가의 분석기기와 숙련된 인력을 필요로 한다. 따라서 이런 단점을 극복하고 분석 정확도 및 신속한 분석 속도를 보장하면서 간편하고 신속하게 환경에 유해한 중금속 물질을 실시간 모니터링 할 수 있는 기술이 요구되고 있는 실정이다.These methods require a lot of time, effort and high cost through sampling, extraction and complex purification processes that are representative of the contaminated area. It also requires expensive analyzers and skilled personnel. Therefore, there is a need for a technology capable of overcoming these shortcomings and guaranteeing analytical accuracy and fast analysis speed while monitoring the heavy metals harmful to the environment in real time.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 분석 정확도를 보장하면서 간편하게 중금속 물질을 모니터링 할 수 있는 중금속 분석방법을 제공함에 있다.The technical problem to be solved by the present invention is to provide a heavy metal analysis method that can easily monitor the heavy metal material while ensuring the analysis accuracy.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 중금속 분석방법을 제공한다. 상기 중금속 분석방법은 시료에 1차 펄스 레이저를 조사하여 1차 플라즈마를 발생시키는 단계, 상기 1차 플라즈마가 소멸되기 전에 상기 1차 플라즈마에 2차 펄스 레이저를 조사하여 2차 플라즈마를 발생시키는 단계, 및 상기 2차 플라즈마로부터 발생된 빛을 감지하는 단계를 포함한다. In order to achieve the above technical problem, an aspect of the present invention provides a heavy metal analysis method. The method of analyzing heavy metals may include generating a primary plasma by irradiating a primary pulse laser to a sample, generating a secondary plasma by irradiating a secondary pulse laser to the primary plasma before the primary plasma is extinguished; And sensing light generated from the secondary plasma.

상기 분석방법은 상기 감지된 빛을 분석하는 단계를 더 포함하되, 상기 감지된 빛을 분석하는 단계는 파장에 따른 빛의 세기 그래프를 도출하는 단계, 및 상기 그래프에서 바탕 연속선을 제거하여 타겟 원소들의 피크만을 확보하는 단계를 포함할 수 있다. The analysis method may further include analyzing the sensed light, wherein analyzing the sensed light may include deriving a graph of intensity of light according to a wavelength, and removing a background continuous line from the graph to target elements. It may include the step of securing only the peak of the.

또한, 상기 분석방법은 상기 감지된 빛을 분석하는 단계를 더 포함하되, 상기 감지된 빛을 분석하는 단계는 파장에 따른 빛의 세기 그래프에서 비소에 대한 빛의 세기와 철에 대한 빛의 세기의 비를 구하는 단계, 비소 농도에 대한 비소/철 빛의 세기 비 그래프인 표준 정량화 곡선에 상기 비소/철 빛의 세기의 비를 대입하여 비소의 농도를 얻는 단계를 포함할 수 있다. In addition, the analysis method further comprises the step of analyzing the detected light, the step of analyzing the detected light is the intensity of light for arsenic and the light intensity for iron in the light intensity graph according to the wavelength Obtaining the ratio, the step of substituting the ratio of the arsenic / iron light intensity to the standard quantification curve which is a graph of the arsenic / iron light intensity ratio to the arsenic concentration to obtain the concentration of arsenic.

여기서, 상기 표준 정량화 곡선은 비소의 농도를 알고 있는 다수 개의 시료들로부터 제1항의 방법을 사용하여 빛을 감지하고, 상기 감지된 빛으로부터 파장별 빛의 세기 데이터들을 얻고, 상기 데이터들로부터 비소 농도에 대한 비소/철 빛 세기 비 그래프를 확보하는 것을 포함하여 얻어진 곡선일 수 있다. Here, the standard quantification curve detects light using a method of claim 1 from a plurality of samples knowing the concentration of arsenic, obtains light intensity data of wavelengths from the sensed light, and the arsenic concentration from the data. Curve obtained by obtaining a arsenic / iron light intensity ratio graph for.

상기 분석방법은 상기 시료에 펄스 레이저를 조사할 때, 상기 시료는 일 방향으로 회전하는 것을 특징으로 할 수 있다. The analysis method may be characterized in that when the sample is irradiated with a pulsed laser, the sample is rotated in one direction.

상기 중금속 분석방법은 상기 시료가 고정되는 시료 테이블, 상기 시료 테이블과 이격되어 배치되고, 상기 1차 펄스 레이저 및 상기 2차 펄스 레이저를 발생시키는 레이저 발생부, 상기 시료 테이블과 이격되어 배치되고, 상기 빛을 감지하는 검출부, 및 상기 검출부와 전기적으로 연결되고, 상기 감지된 빛을 분석하는 분석부를 포함하는 중금속 분석장치를 사용하여 수행할 수 있다. The heavy metal analysis method includes a sample table to which the sample is fixed, a sample spaced apart from the sample table, a laser generating unit generating the primary pulse laser and the secondary pulse laser, and spaced apart from the sample table, A heavy metal analyzing apparatus may include a detector detecting a light and an analyzer connected to the detector and analyzing the detected light.

상술한 바와 같이 중금속을 함유하는 시료에 1차 펄스 레이저 및 2차 펄스 레이저를 포함하는 이중펄스 레이저를 인가함으로써 이온화되는 입자의 양을 증가시킬 수 있으므로, 분석의 정확도가 향상될 수 있다. As described above, the amount of particles to be ionized can be increased by applying a double pulse laser including a primary pulse laser and a secondary pulse laser to a sample containing heavy metal, so that the accuracy of the analysis can be improved.

또한, 시료에 1차 펄스 레이저를 조사하여 형성된 1차 플라즈마에 2차 펄스 레이저를 조사함으로써 입자의 여기가 쉬워질 수 있으므로, 여기가 잘 되지 않는 비소와 같은 물질의 분석이 가능해질 수 있다. In addition, since the excitation of particles can be facilitated by irradiating the secondary pulse laser to the primary plasma formed by irradiating the primary pulse laser to the sample, analysis of a material such as arsenic that is difficult to excite can be made possible.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that the disclosure can be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the thicknesses of layers and regions are exaggerated for clarity. Like numbers refer to like elements throughout.

도 1은 본 발명에 따른 이중펄스 레이저 유도 플라즈마 분광분석 장치의 구조를 나타낸 모식도이고, 도 2는 본 발명에 따른 이중펄스 레이저 유도 플라즈마 분광 분석법을 설명하기 위한 타이밍도이다.1 is a schematic diagram showing the structure of a dual-pulse laser induced plasma spectroscopy apparatus according to the present invention, Figure 2 is a timing diagram for explaining a double-pulse laser induced plasma spectroscopy method according to the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 이중펄스 레이저 유도 플라즈마 분광분석 장치는 반응챔버(100)를 구비한다. 상기 반응챔버(100) 내에는 버퍼가스로서 아르곤 가스가 주입될 수 있다.1 and 2, the dual pulse laser induced plasma spectroscopy apparatus includes a reaction chamber 100. Argon gas may be injected into the reaction chamber 100 as a buffer gas.

상기 반응챔버(100)의 일 측부에는 시료(124)를 고정시킬 수 있는 시료 테이블(120)이 구비된다. 상기 시료 테이블(120)은 상기 반응챔버(100)의 일 측벽에 위치하거나, 상기 반응챔버(100) 중심부에 위치할 수 있다. 이 때, 상기 시료 테이블(120)은 반응챔버(100)와 연결된 고정축(122)에 고정될 수 있다. 상기 고정축(122)은 일 방향으로 회전 가능하도록 제조하여, 상기 시료 테이블(120)이 상기 고정축(122)을 따라 회전 가능하도록 제조할 수 있다. One side of the reaction chamber 100 is provided with a sample table 120 to fix the sample 124. The sample table 120 may be located on one sidewall of the reaction chamber 100 or at the center of the reaction chamber 100. In this case, the sample table 120 may be fixed to a fixed shaft 122 connected to the reaction chamber 100. The fixed shaft 122 may be manufactured to be rotatable in one direction, and the sample table 120 may be manufactured to be rotatable along the fixed shaft 122.

상기 시료(124)는 중금속이 포함된 광미토양을 포함할 수 있으며, 상기 중금속은 As, Cd, Pb, Zn, Fe, Hg, Cr, Cu 또는 Ni일 수 있다. 상기 시료(124)는 분말 형태로 제조하거나, 펠렛(pellet) 형태로 제조하여, 상기 시료 테이블(120) 상에 고정될 수 있다. 만약, 상기 시료(124)가 분말 형태로 제조되는 경우, 상기 분말을 고정시키기 위한 별도의 시료고정편(미도시)이 구비될 수 있다. The sample 124 may include a tailings soil containing heavy metals, and the heavy metals may be As, Cd, Pb, Zn, Fe, Hg, Cr, Cu, or Ni. The sample 124 may be manufactured in the form of a powder or in the form of a pellet, and may be fixed on the sample table 120. If the sample 124 is manufactured in powder form, a separate sample fixing piece (not shown) for fixing the powder may be provided.

한편, 상기 반응챔버(100)의 일 측부에는 펄스 레이저를 발생시키는 레이저 발생부(200)가 구비될 수 있으며, 상기 레이저 발생부(200)와 상기 시료(124) 사이의 이동선상에는 상기 레이저 발생부(200)로부터 발생된 펄스 레이저를 상기 시료(124)에 도달시킬 수 있도록 이동경로를 제공해주는 복수개의 광학랜즈(221, 222)와, 상기 펄스 레이저를 고에너지로 집속시켜주기 위한 집속랜즈(223)를 구비하는 레이저 위치 조절부(220)가 위치할 수 있다. On the other hand, one side of the reaction chamber 100 may be provided with a laser generating unit 200 for generating a pulse laser, the laser generation on the moving line between the laser generating unit 200 and the sample 124. A plurality of optical lenses 221 and 222 which provide a movement path to reach the sample 124 with the pulse laser generated from the unit 200, and a focusing lens for focusing the pulse laser at high energy ( The laser position adjusting unit 220 having the 223 may be positioned.

상기 레이저 발생부(200)로부터 발생된 펄스 레이저는 상기 시료(124)에 조사되어, 플라즈마(126)를 발생시킬 수 있다. 이 때, 상기 반응챔버(100) 내에 구비된 버퍼가스는 플라즈마 에미션(plasma emission)을 향상시킬 수 있고, 고농도를 가지는 원소를 포함하는 시료로부터 펄스 레이저가 자체흡수(self absorption)되는 현상을 감소시킬 수 있다.The pulse laser generated from the laser generator 200 may be irradiated onto the sample 124 to generate the plasma 126. At this time, the buffer gas provided in the reaction chamber 100 can improve plasma emission and reduce the phenomenon of self-absorption of the pulse laser from the sample containing the element having a high concentration. You can.

상기 레이저 발생부(200)는 소정 시간 간격으로 1차 펄스 레이저와 2차 펄스 레이저를 발생시킬 수 있다. 이 때, 1차 펄스 레이저(1st P)와 2차 펄스 레이저(2nd P) 간의 소정 시간 간격은 1차 펄스 레이저(1st P)의 수명(life time)보다 짧을 수 있다. The laser generator 200 may generate a first pulse laser and a second pulse laser at predetermined time intervals. In this case, a predetermined time interval between the primary pulse laser 1 st P and the secondary pulse laser 2 nd P may be shorter than the life time of the primary pulse laser 1 st P.

구체적으로, 시료(124) 상에 1차 펄스 레이저(1st P)가 조사되는 경우, 상기 시료(124) 내의 입자들이 여기되어, 1차 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 만약, 1차 플라즈마가 소멸된 이후에 2차 펄스 레이저(2nd P)를 조사하여 2차 플라즈마를 발생시키는 경우, 상기 2차 플라즈마는 1차 플라즈마의 양과 동일할 수 있다. Specifically, when the primary pulse laser (1 st P) is irradiated on the sample 124, the particles in the sample 124 may be excited to generate a primary plasma. If the secondary plasma is generated by irradiating the secondary pulse laser 2 nd P after the primary plasma is extinguished, the secondary plasma may be equal to the amount of the primary plasma.

그러나, 상기 1차 플라즈마가 소멸되기 전에 상기 1차 플라즈마에 2차 펄스 레이저(2nd P)를 조사하는 경우, 상기 1차 플라즈마의 온도가 높아지고, 여기된(excited) 입자의 양이 증가되어, 상기 2차 플라즈마의 양은 상기 1차 플라즈마의 양에 비해 현저하게 증가될 수 있다. However, when irradiating the secondary pulse laser (2 nd P) to the primary plasma before the primary plasma is extinguished, the temperature of the primary plasma is increased, the amount of excited particles is increased, The amount of secondary plasma may be significantly increased compared to the amount of primary plasma.

한편, 상기 시료(124)에 펄스 레이저를 조사할 때, 상기 시료(124)는 상기 고정축(122)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 이 경우, 상기 펄스 레이저가 조사되는 시료(124)의 영역이 지속적으로 변화되기 때문에, 펄스 레이저가 집중되어 시료(124)에 크레이터(crater)가 발생되는 것을 방지할 수 있다. On the other hand, when irradiating the pulse laser to the sample 124, the sample 124 may be rotated by the rotation of the fixed shaft 122. In this case, since the region of the sample 124 to which the pulse laser is irradiated is continuously changed, it is possible to prevent the pulse laser from being concentrated and the craters to be generated in the sample 124.

상기 펄스 레이저는 높은 에너지 밀도를 가지는 고체 레이저를 사용할 수 있다. 구체적으로, 고체레이저는 루비 레이저, Nd:YAG 레이저 등을 포함할 수 있다. 그러나, 바람직하게는 Nd:YAG 레이저를 사용할 수 있다. The pulse laser may use a solid laser having a high energy density. Specifically, the solid state laser may include a ruby laser, an Nd: YAG laser, or the like. However, preferably, Nd: YAG laser can be used.

한편, 상기 플라즈마들이 발생되는 영역에는 광섬유 센서(310)가 배치되고, 상기 광섬유 센서(310)와 전기적으로 연결된 검출부(300)가 배치될 수 있다. 상기 광섬유 센서(310)는 상기 플라즈마에서 발생되는 빛을 검출부(300)에 전달시킬 수 있으며, 상기 검출부(300)는 이러한 빛을 감지할 수 있다. 그 결과, 상기 감지된 빛은 상기 검출부(300)와 전기적으로 연결된 분석부(320)를 통해 분석될 수 있다. 상기 분석부(320)는 상기 시료(124) 내에 함유된 중금속을 정성분석 또는 정량분석할 수 있다. Meanwhile, an optical fiber sensor 310 may be disposed in an area where the plasmas are generated, and a detector 300 electrically connected to the optical fiber sensor 310 may be disposed. The optical fiber sensor 310 may transmit light generated in the plasma to the detector 300, and the detector 300 may detect such light. As a result, the detected light may be analyzed through the analyzer 320 electrically connected to the detector 300. The analysis unit 320 may qualitatively or quantitatively analyze heavy metals contained in the sample 124.

이 때, 상기 검출부(300)로부터 감지되는 빛은 이중펄스 레이저를 사용하여 형성한 다량의 여기된 입자들로부터 발생하므로, 상기 검출부(300)로부터 감지되는 빛의 세기는 단일 펄스 레이저를 조사한 후에 감지되는 빛의 세기에 비해 강할 수 있다. 따라서, 상기 분석부(320)에서의 분석이 더욱 정확해질 수 있으며, 이중 펄스 레이저를 사용하여 입자들을 더욱 쉽게 여기시킬 수 있으므로, 비소와 같은 여기가 어려운 물질의 분석도 가능해질 수 있다. In this case, since the light detected by the detector 300 is generated from a large amount of excited particles formed using the double pulse laser, the intensity of light detected by the detector 300 is detected after irradiating a single pulse laser. It can be strong compared to the intensity of light being. Accordingly, the analysis in the analysis unit 320 may be more accurate, and since the particles may be more easily excited using a double pulse laser, analysis of a material that is difficult to excite such as arsenic may be possible.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 분석법을 이용하여 정성분석을 수행하는 과정을 설명하기 위한 그래프이다. 3 is a graph illustrating a process of performing qualitative analysis using the analysis method according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 검출부에서 감지된 빛은 소정의 파장 범위에서 가장 높은 빛의 세기를 가지며, 피크로 표시된다. 이러한 소정의 파장 범위를 가지는 피크는 표준 원소의 파장 범위와 대응시키는 방법을 이용하여, 정성분석을 수행할 수 있다. Referring to FIG. 3, the light detected by the detector has the highest light intensity in a predetermined wavelength range and is indicated by a peak. Such peaks having a predetermined wavelength range may be qualitatively analyzed using a method that corresponds to the wavelength range of the standard element.

그러나, 검출부에서 감지된 빛을 이용하여 정성 분석을 하는 경우, 중금속과 같이 타겟 물질의 파장범위에 해당되는 피크(peak)와 더불어, 타겟 물질의 파장범위에 해당되지 않는 바탕 연속선들(base)이 존재할 수 있다(도 3의 a). However, when performing qualitative analysis using the light detected by the detection unit, as well as the peak corresponding to the wavelength range of the target material, such as heavy metal, the base continuous lines that do not correspond to the wavelength range of the target material May exist (a in FIG. 3).

이와 같은 바탕 연속선들(base)은 중금속에 의한 것이 아니라 토양매질 자체의 특성에 의해 산란되는 빛일 수 있다. 따라서, 이러한 바탕 연속선들(base)은 분석의 신뢰성을 감소시키는 원인이 될 수 있다. The base continuum (base) may be light scattered not by heavy metals but by the characteristics of the soil medium itself. Thus, such base sequencing can cause a decrease in the reliability of the analysis.

그러므로, 본 발명에서는 상기와 같은 매질의 영향을 최소화하고, 분석의 신뢰성을 향상시키기 위해, 타겟 물질의 파장범위에 해당되는 피크(peak) 및 바탕 연속선들(base)을 포함하는 데이터들을 확보한 후, 상기 바탕 연속선들(base)을 제거함으로서, 타겟 물질의 파장범위에 해당되는 피크(peak)만을 확보할 수 있다(도 3의 b). Therefore, in the present invention, in order to minimize the influence of the medium and to improve the reliability of the analysis, after obtaining data including peaks and background continuous lines corresponding to the wavelength range of the target material, By removing the base continuous lines, only a peak corresponding to a wavelength range of a target material may be secured (b of FIG. 3).

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 분석법을 이용하여 정량분석을 수행하는 과정을 설명하기 위한 그래프이다. 이하에서는 타겟 물질로서 비소에 한정하여 설명한다. 4A and 4B are graphs for explaining a process of performing quantitative analysis using an analysis method according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, the description will be limited to arsenic as the target material.

도 4a 및 도 4b를 참조하면, 시료 내의 비소 농도를 정량분석하기 위해, 비소의 농도를 알고 있는 다수 개의 시료들로부터 감지된 빛을 이용하여, 파장별 빛의 세기 데이터들을 얻고, 이로부터, 비소의 농도별 빛의 세기 그래프를 도출할 수 있다(도 4a). 4A and 4B, in order to quantify the concentration of arsenic in a sample, light intensity data of wavelengths are obtained by using light sensed from a plurality of samples that know the concentration of arsenic, and from there, arsenic It is possible to derive a light intensity graph of each concentration of (Fig. 4a).

상기 비소에 대한 빛의 세기를 토양 중에 함유된 주요 원소들에 대한 빛의 세기로 나누어, 비소의 농도에 대한 비소/주요원소 빛 세기 비 그래프인 비소의 표 준곡선을 확보할 수 있다. 이 때, 상기 토양 중에 함유된 주요 원소들은 철, 마그네슘, 알루미늄 및 실리콘일 수 있다. By dividing the light intensity of the arsenic by the light intensity of the major elements contained in the soil, it is possible to obtain a standard curve of arsenic which is a arsenic / major element light intensity ratio graph with respect to the concentration of arsenic. At this time, the main elements contained in the soil may be iron, magnesium, aluminum and silicon.

비소 농도에 대한 비소/철 빛 세기 비 그래프의 선형도(R2)는 0.91이 도출되었으며, 비소/마그네슘, 비소/알루미늄 및 비소/실리콘의 경우 선형도(R2)는 각각 0.91, 0.75 및 0.58이 도출되었다(도 4b). 이는 비소 농도에 대한 비소 빛 세기 그래프의 선형도(R2)인 0.22 (도 4a)에 비해, 선형도(R2)가 상당히 증가된 것을 알 수 있다. Linear arsenic / iron light intensity ratio graph for the non-small concentrations (R 2) was 0.91 are obtained, in the case of the arsenic / magnesium arsenide / aluminum and arsenic / silicon linearity (R 2) are respectively 0.91, 0.75 and 0.58 Was derived (FIG. 4B). This can be seen that the linearity (R 2 ) is significantly increased compared to 0.22 (FIG. 4A), which is the linearity (R 2 ) of the arsenic light intensity graph versus the arsenic concentration.

그 중에서도, 비소/철 빛 세기 비의 선형도(R2)는 0.91로 1에 가장 가까운 값을 나타내며, 기울기 또한 비소/마그네슘 세기 비에 비해 약 2 배 이상 높은 값을 보이므로 표준 정량화 곡선으로 사용하기에 적합함을 알 수 있다. Among them, the linearity (R 2 ) of the arsenic / iron light intensity ratio is 0.91, which is closest to 1, and the slope is also about 2 times higher than the arsenic / magnesium intensity ratio, so it is used as a standard quantification curve. It can be seen that it is suitable for the following.

이와 같이 비소/철의 표준 정량화 곡선을 확보한 상태에서 농도를 알지 못하는 비소를 함유하는 시료의 빛의 세기를 그래프를 확보한 후, 상기 그래프로부터 비소/철 빛 세기 비를 구하고, 상기 비소/철 빛 세기비를 상기 표준곡선에 대입하여, 비소의 농도를 정량화할 수 있다. 상술한 바와 같이, 중금속에 대한 표준곡선을 확보함으로써 분석 정확도를 보장하면서 간편하게 중금속을 정량분석을 수행할 수 있다. As such, after obtaining a graph of the light intensity of the sample containing arsenic having no known concentration, while obtaining a standard quantification curve of arsenic / iron, the arsenic / iron light intensity ratio is obtained from the graph, and the arsenic / iron The intensity ratio of arsenic can be quantified by substituting the light intensity ratio into the standard curve. As described above, by securing a standard curve for the heavy metal, it is possible to easily perform quantitative analysis of the heavy metal while ensuring the analysis accuracy.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 및 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형 및 변경이 가능하다. In the above, the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and changes by those skilled in the art within the spirit and scope of the present invention. This is possible.

도 1은 본 발명에 따른 이중펄스 레이저 유도 플라즈마 분광분석 장치의 구조를 나타낸 모식도이다. 1 is a schematic diagram showing the structure of a dual-pulse laser induced plasma spectroscopy apparatus according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 이중펄스 레이저 유도 플라즈마 분광 분석법을 설명하기 위한 타이밍도이다.2 is a timing diagram for explaining a double-pulse laser induced plasma spectroscopic analysis method according to the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 분석법을 이용하여 정성분석을 수행하는 과정을 설명하기 위한 그래프이다. 3 is a graph illustrating a process of performing qualitative analysis using the analysis method according to an embodiment of the present invention.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 분석법을 이용하여 정량분석을 수행하는 과정을 설명하기 위한 그래프이다. 4A and 4B are graphs for explaining a process of performing quantitative analysis using an analysis method according to another embodiment of the present invention.

Claims (6)

시료에 1차 펄스 레이저를 조사하여 1차 플라즈마를 발생시키는 단계;Irradiating the sample with a primary pulse laser to generate a primary plasma; 상기 1차 플라즈마가 소멸되기 전에 상기 1차 플라즈마에 2차 펄스 레이저를 조사하여 2차 플라즈마를 발생시키는 단계; 및Generating a secondary plasma by irradiating a secondary pulse laser to the primary plasma before the primary plasma is extinguished; And 상기 2차 플라즈마로부터 발생된 빛을 감지하는 단계를 포함하는 중금속 분석방법.Heavy metal analysis method comprising the step of sensing the light generated from the secondary plasma. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 감지된 빛을 분석하는 단계를 더 포함하되,Further comprising analyzing the detected light, 상기 감지된 빛을 분석하는 단계는Analyzing the detected light 파장에 따른 빛의 세기 그래프를 도출하는 단계; 및Deriving a graph of intensity of light according to wavelength; And 상기 그래프에서 바탕 연속선을 제거하여 타겟 원소들의 피크만을 확보하는 단계를 포함하는 중금속 분석방법. And removing only the continuous line from the graph to secure only peaks of target elements. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 감지된 빛을 분석하는 단계를 더 포함하되,Further comprising analyzing the detected light, 상기 감지된 빛을 분석하는 단계는 Analyzing the detected light 파장에 따른 빛의 세기 그래프에서 비소에 대한 빛의 세기와 철에 대한 빛의 세기의 비를 구하는 단계; 및Obtaining a ratio of light intensity to arsenic and light intensity to iron in a graph of light intensity according to wavelength; And 비소 농도에 대한 비소/철 빛의 세기 비 그래프인 표준 정량화 곡선에 상기 비소/철 빛의 세기의 비를 대입하여 비소의 농도를 얻는 단계를 포함하는 중금속 분석방법. Heavy metal analysis method comprising the step of substituting the ratio of the arsenic / iron light intensity to a standard quantification curve which is a graph of the arsenic / iron light intensity vs. arsenic concentration. 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 표준 정량화 곡선은The standard quantification curve is 비소의 농도를 알고 있는 다수 개의 시료들로부터 제1항의 방법을 사용하여 빛을 감지하고, 상기 감지된 빛으로부터 파장별 빛의 세기 데이터들을 얻고, 상기 데이터들로부터 비소 농도에 대한 비소/철 빛 세기 비 그래프를 확보하는 것을 포함하여 얻어진 곡선인 중금속 분석방법.Detecting light using a method of claim 1 from a plurality of samples knowing the concentration of arsenic, obtaining light intensity data for each wavelength from the sensed light, and from the data, arsenic / iron light intensity for arsenic concentration Heavy metal analysis method which is a curve obtained including securing a ratio graph. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 시료에 펄스 레이저를 조사할 때, 상기 시료는 일 방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 중금속 분석방법. When the sample is irradiated with a pulsed laser, the sample is rotated in one direction, heavy metal analysis method. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 중금속 분석방법은 상기 시료가 고정되는 시료 테이블; The heavy metal analysis method comprises a sample table to which the sample is fixed; 상기 시료 테이블과 이격되어 배치되고, 상기 1차 펄스 레이저 및 상기 2차 펄스 레이저를 발생시키는 레이저 발생부;A laser generator disposed spaced apart from the sample table and configured to generate the primary pulse laser and the secondary pulse laser; 상기 시료 테이블과 이격되어 배치되고, 상기 빛을 감지하는 검출부; 및 A detector disposed spaced apart from the sample table and sensing the light; And 상기 검출부와 전기적으로 연결되고, 상기 감지된 빛을 분석하는 분석부를 포함하는 중금속 분석장치를 사용하여 수행하는 중금속 분석방법. A heavy metal analysis method electrically connected to the detection unit, the heavy metal analysis apparatus comprising an analysis unit for analyzing the detected light.
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