KR101079245B1 - 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터는 화학기상증착을 위한 리액터에 있어서, 양단이 개구되고 원통 파이프 형상으로 형성되는 사이드하우징, 상기 사이드하우징의 개구된 일단에 결합되며 필라홀이 형성된 보톰하우징, 상기 사이드하우징의 개구된 타단을 밀폐하는 어퍼하우징을 포함하고, 상기 사이드하우징, 상기 보톰하우징 및 상기 어퍼하우징에 의해 내부 작업공간을 형성하는 하우징; 상기 어퍼하우징과 상기 사이드하우징을 연결하여 결합시키며, 증착을 위한 반응가스를 상기 하우징 내부로 분사하는 노즐이 형성된 노즐블럭; 상기 하우징 내부의 상기 작업공간에 배치되는 원형 판상의 서셉터; 파이프 형상으로 형성되고 상기 서셉터의 중앙에서 상기 서셉터를 관통하여 결합되며, 일단이 상기 필라홀을 통해 상기 하우징의 외부로 노출되는 필라; 상기 서셉터의 배면에 배치되어 상기 서셉터 및 상기 서셉터에 거치되는 기판을 가열하는 히터; 상기 하우징의 외부로 노출된 상기 필라의 일단에 결합되어, 상기 필라의 회전을 위한 회전력을 제공하는 로테이터; 및 상기 서셉터와 평행하게 상기 서셉터와 이격되어 대면하도록 상기 작업공간 내의 상기 어퍼하우징 내면에 결합되는 제1단열재;를 포함하여 구성된다.

Description

단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터{The reactor for chemical vapor deposition include insulator}

본 발명은 화학기상증착 리액터에 관한 것으로 특히, 챔버 내부에서 반응가스 이동 경로에 노출되는 챔버 표면에 석영 단열재를 부착하여, 반응가스의 온도저하를 방지하고, 이를 통해 박막의 성장 효율을 향상시키고, 챔버의 손상을 방지하도록 한 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터에 관한 것이다.

반도체 소자, 집적회로의 제조를 위해 다양한 형태의 화학기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposiotion) 방법이 사용되고 있다. 이 화학기상증착(CVD)을 위한 장비는 증착이 이루어지는 리액터(Reactor)를 포함하여 구성된다. 이러한 화학기상증착(CVD)에 있어서 리액터는 웨이퍼와 같은 기판 상에 금속 산화막과 같은 박막을 형성하는 매우 중요한 구성요소이다.

리액터는 기판 상에 균질, 균일한 박막을 형성하는 중요한 장치로써 다양한 방식의 장치들이 이용되고 있으나, 보편적으로 박막을 형성하는 반응가스 공급수단, 기판을 거치하고 일정 온도로 가열하는 서셉터, 서셉터와 기판을 수용하여 반응환경을 제공하는 하우징으로 구성된다. 이러한 리액터들은 반응가스의 주입 방식, 주입위치, 반응 보조 가스의 사용여부, 배기방법, 서셉터의 형태, 가스의 배기방법, 작업가능한 기판의 종류 및 크기 등이 다른 다양한 종류의 장비가 개발되어 사용되고 있다.

이와 같이 다양한 리액터는 반응가스의 주입 및 배기의 방식이 상이한 것으로 증착방식은 가열된 기판상에 반응가스를 접촉시켜 박막층을 성장시키는 점에서 동일하다. 이를 위해 리액터는 저압환경에서 기판을 고온으로 가열하고, 가열된 기판 상에 증착가스를 살포하여 가스에 포함된 원소가 기판상에 증착되도록 하는 방식을 사용한다. 이러한 리액터에 있어서, 저압환경과 고온으로 일정하게 유지되는 챔버 내부 환경은 매우 중요한 요소로 작용한다. 저압 조건 및 고온 조건 중 어느 하나만 증착환경에 부합되지 않는 경우에도 박막의 성장이 저해되어 불균일한 박막이 생성되거나, 가스에 포함된 증착물질의 파티클이 형성되어 박막 성장 저해 및 챔버의 수명 단축을 유도한다.

특히, 종래의 리액터는 가스를 챔버 내부로 주입하는 과정에서 온도변화가 심하게 발생한다. 반응가스는 챔버 내부로 주입되기 전에 증착공정에 필요한 온도로 유지되어 주입된다. 하지만, 챔버로 주입됨과 동시에 접촉하는 챔버 구조물로 인해 반응가스의 온도가 저하되고, 이로 인해 기판과의 반응이 원활하지 못하고, 심지어 챔버 내부 표면에 증착되는 등의 문제점이 발생하고 있다. 즉, 고온의 반응가스가 챔버 내부에서 상대적으로 낮은 온도의 챔버 표면과 접촉하는 경우 증착물질이 챔버 표면에 달라붙는 현상이 발생하거나, 챔버 내부에 의해 온도가 저하된 반응가스의 증착물질이 기판에 흡착하지 못하고 파티클을 형성함으로써, 기판의 손상, 박막 성장 저해 및 챔버 손상을 야기하는 실정이다. 이러한 문제점은 종래의 화학기상증착 리액터가 챔버 내부에 설치되는 서셉터와 기판 및 반응가스는 가열하여 일정한 온도로 유지하는 반면 챔버 자체를 가열하는 경우가 극히 드물기 때문에 발생한다. 이러한 문제를 방지하기 위해 챔버 자체를 가열하여 일정한 온도를 유지하도록 하는 경우도 있지만, 챔버의 가열을 위해 리액터의 구조가 복잡해지고, 리액터 제조 단가가 상상하며, 공정이 진행되는 동안 챔버를 가열함으로 인해 반도체 생산을 위한 제조 단가가 상승하는 문제점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 챔버 내부에서 반응가스 이동 경로에 노출되는 챔버 표면에 석영 또는 흑연 단열재를 부착하여, 반응가스의 온도저하를 방지하고, 이를 통해 박막의 성장 효율을 향상시키며, 챔버의 손상을 방지하도록 한 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터를 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터는 화학기상증착을 위한 리액터에 있어서, 양단이 개구되고 원통 파이프 형상으로 형성되는 사이드하우징, 상기 사이드하우징의 개구된 일단에 결합되며 필라홀이 형성된 보톰하우징, 상기 사이드하우징의 개구된 타단을 밀폐하는 어퍼하우징을 포함하고, 상기 사이드하우징, 상기 보톰하우징 및 상기 어퍼하우징에 의해 내부 작업공간을 형성하는 하우징; 상기 어퍼하우징과 상기 사이드하우징을 연결하여 결합시키며, 증착을 위한 반응가스를 상기 하우징 내부로 분사하는 노즐이 형성된 노즐블럭; 상기 하우징 내부의 상기 작업공간에 배치되는 원형 판상의 서셉터; 파이프 형상으로 형성되고 상기 서셉터의 중앙에서 상기 서셉터를 관통하여 결합되며, 일단이 상기 필라홀을 통해 상기 하우징의 외부로 노출되며, 상기 서셉터와의 결합부분이 나팔형태로 확장되는 개구부가 형성된 필라; 상기 서셉터의 배면에 배치되어 상기 서셉터 및 상기 서셉터에 거치되는 기판을 가열하는 히터; 상기 하우징의 외부로 노출된 상기 필라의 일단에 결합되어, 상기 필라의 회전을 위한 회전력을 제공하는 로테이터; 상기 서셉터와 평행하게 상기 서셉터와 이격되어 대면하도록 상기 작업공간 내의 상기 어퍼하우징 내면에 결합되는 제1단열재; 및 원뿔대 형상으로 형성되고, 상기 원뿔대의 상면과 하면 중 넓은 면인 상기 하면이 상기 어퍼하우징 면에 결합되며, 상기 상면과 상기 하면을 잇는 경사면이 상기 상면과 이어지는 모서리 및 상기 하면과 상기 어퍼하우징이 이어지는 경계가 곡선처리된 놀블럭을 를 포함하여 구성된다.

상기 노즐블럭과 상기 서셉터 사이에 상기 서셉터와 평행하게 배치되고, 상기 노즐블럭 또는 상기 사이드하우징 중 어느 하나에 고정되는 제2단열재를 더 포함하여 구성된다.

상기 제1단열재 또는 상기 제2단열재는 석영 또는 흑연이다.

상기 제1단열재 또는 상기 제2단열재는 판상의 링형상으로 형성된다.

본 발명에 따른 단열재를 포함하는 화학기상증착 리액터는 챔버 내부에서 반응가스 이동 경로에 노출되는 챔버 표면에 석영 또는 흑연 단열재를 부착하여, 반응가스의 온도저하를 방지하고, 이를 통해 박막의 성장 효율을 향상시키고, 챔버의 손상을 방지 하는 것이 가능하다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 화학기상증착 리액터를 도시한 예시도.
도 2는 도 1의 단면 예시도이다. 또한, 도 3은 도 2의 제1단열재를 도시한 예시도.
도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학기상증착 리액터를 설명하기 위한 예시도들로써,
도 4는 제2실시예에 따른 화학기상증착 리액터의 단면예시도.
도 5는 어퍼하우징을 제거한 평면도예시도.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 설명하기로 한다. 첨부된 도면들에서 구성에 표기된 참조번호는 다른 도면에서도 동일한 구성을 표기할 때에 가능한 한 동일한 도면번호를 사용하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지의 기능 또는 공지의 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 그리고 도면에 제시된 어떤 특징들은 설명의 용이함을 위해 확대 또는 축소 또는 단순화된 것이고, 도면 및 그 구성요소들이 반드시 적절한 비율로 도시되어 있지는 않다. 그러나 당업자라면 이러한 상세 사항들을 쉽게 이해할 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 화학기상증착 리액터를 도시한 예시도이고, 도 2는 도 1의 단면 예시도이다. 또한, 도 3은 도 2의 제1단열재를 도시한 예시도이다.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 화학기상증착 리액터는 하우징(100), 노즐블럭(200), 서셉터(300), 히터(400), 필라(500), 로테이터(600), 놀블럭(700) 및 제1단열재(800)를 포함하여 구성된다.

하우징(100 : 110, 120, 130)은 노즐블럭(200)과 함께 기판(550)의 증착 공정을 위한 작업 공간을 형성하고, 외부와 작업공간을 격리하는 역할을 한다. 이러한 하우징(100)은 내부에 서셉터(300), 히터(400), 필라(500) 및 제1단열재(800)를 수용하고, 외부에 작업공간 내부의 상태 및 기판의 상태를 모니터링하기 위한 다수의 센서, 기판의 투입 및 배출을 위한 장치들이 설치된다. 여기서, 본 발명의 도면 및 상세한 설명에서는 본 발명을 설명하기 위해 반드시 필요한 구성들만 표현 및 설명하고 이외의 구성은 설명의 편의를 위해 생략하기로 한다. 하지만, 생략된 구성들이 불필요한 구성이 아니며, 필요에 따라 추가 및 변형이 가능하다. 이러한 하우징(100)은 어퍼하우징(110), 사이드하우징(120) 및 보톰하우징(130)을 포함하여 구성된다.

어퍼하우징(110)은 사이드하우징(120)의 개구부 중 일면을 닿는 뚜껑의 역할을 하며, 주로 기판(550)의 상태를 모니터링하기 위한 센서들이 설치된다. 이 어퍼하우징(110)은 원형 판상의 형태로 형성되거나, 도시된 바와 같이 캡 또는 용기를 엎어 놓은 형태로 형성된다. 이러한 어퍼하우징(110)의 내부면에는 센서들의 설치 및 챔버 기능의 유지를 위한 장치들 또는 다수의 블럭이 결합되는 어퍼블럭(111)이 수납될 수 있다. 여기서, 어퍼블럭(111)은 어퍼하우징(110)에 포함된 구성으로 리액터의 형태에 따라서는 어퍼블럭(111)의 생략이 가능하며, 이러한 경우 어퍼하우징(110)은 원형 판상의 형태로 제조될 수 있다. 이하에서는 어퍼블럭(111)은 어퍼하우징(110)에 포함된 구성으로 간주하여 다른 구성과의 관계 설명시 어퍼하우징(110)으로 용어를 통일하기로 한다. 이러한 어퍼하우징(110)의 챔버 내부 중앙에는 놀블럭(700)이 결합되며, 놀블럭(700)이 부착된 주변에는 제1단열재(800)가 부착된다. 이러한 제1단열재(800)는 어퍼하우징(110)의 하우징 내면에 서셉터(300)와 평행하게 배치되도록 부착된다. 이러한 어퍼하우징(110)은 노즐블럭(200)의 일면에 결합되고, 노즐블럭(200)에 의해 사이드하우징(120)에 결합된다.

사이드하우징(120)은 파이프 형상의 원통 기둥형태로 형성되고, 하단은 보톰하우징(130)에 의해 폐쇄되며, 상단은 노즐블럭(200)에 의해 어퍼하우징(110)에 결합되고, 어퍼하우징(110)에 의해 일단의 개구부가 폐쇄된다.

보톰하우징(130)은 리액터 내부에 작업공간이 형성될 수 있도록 사이드하우징(120)의 개구된 타단에 결합되어, 제2사이드하우징(120)을 밀폐하게 된다. 이 보톰하우징(130)의 바닥(132)에는 내부에 설치되는 필라(500)의 일부가 외부의 로테이터(400)와 연결될 수 있도록 필라(500)가 관통하는 필라홀(131)이 형성된다.

노즐블럭(200)은 외부의 가스공급수단과 하우징(100) 내부를 연결하여 반응가스가 하우징(100) 내부로 공급될 수 있게 하는 역할을 함과 아울러, 사이드하우징(120)과 어퍼하우징(110)을 서로 연결하여 결합시키는 역할을 한다. 이러한 노즐블럭(200)은 사이드하우징(120)의 일측 개구부의 단면 형상과 유사한 링 형상으로 형성된다. 그리고, 노즐블럭(200)의 외주연(201)에는 다수의 가스주입구(250)가 결합되고, 가스주입구(250)는 노즐블럭(200)을 관통하여 형성되는 노즐(251)에 연결된다. 이를 통해 노즐블럭(200)은 가스주입구(250)로부터 공급되는 반응가스가 노즐(251)을 통해 하우징(100) 내부에 전달될 수 있게 하는 역할을 한다.

서셉터(300)는 증착공정에 투입되는 기판(550)을 고정하는 역할을 한다. 이러한 서셉터(300)는 원형 판상으로 형성되고, 중앙부분이 필라(500)와 결합되어, 필라(500)의 회전에 따라 회전하게 된다. 서셉터(300)는 서셉터(300) 상에 기판(550)이 거치되는 별도의 스테이지를 포함하여 구성될 수 있으며, 이러한 스테이지는 서셉터(300) 상에서 회전하여 거치된 기판(550)을 회전시키도록 하는 것이 가능하다. 이러한 스테이지들은 서셉터의 회전에 따라 또는 독립적으로 회전하여 반응가스와 기판의 접촉이 활발히 이루어지게 하는 역할을 하게 된다. 서셉터(300)는 제1단열재(800)와 일정거리 이격되어 평행하게 배치되고, 반응가스는 제1단열재(800)와 서셉터(300) 사이를 통과하여 필라(500)를 통해 외부로 배출되게 된다.

히터(400)는 서셉터(300) 상에 고정되는 기판(550)을 증착 공정이 진행되는 동안 가열하는 역할을 한다. 히터(400)는 기판(550)을 균일하게 높은 온도로 가열하고, 서셉터(300)의 회전에 지장을 주지 않도록 서셉터(300)의 배면에 이격되어 설치된다. 이러한 히터(400)는 고주파를 이용한 튜브타입 히터나 저항히터를 이용할 수 있으나, 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니다.

필라(500)는 서셉터(300)를 회전시키는 회전축의 역할과 함께 하우징(100) 내부의 반응가스를 외부로 배출하는 반응가스 배출구의 역할을 한다. 이를 위해 필라(500)는 내부에 중공(510)이 형성된 원통 기둥 형상으로 형성되고, 보톰하우징(130)의 필라홀(131)을 통해 일단이 하우징(100)의 외부로 노출되어 로테이터(600)에 결합된다. 또한, 필라(500)는 하우징(100) 내부에 수용되는 타측 종단이 개구되어 반응가스가 필라(500) 내부로 유입될 수 있게 하며, 이 타측 종단에 서셉터(300)가 결합된다. 필라(500)는 로테이터(400)로부터 제공되는 회전력에 의해 회전하고, 이를 통해 서셉터(300)는 하우징 내에서 필라(500)를 축으로하여 회전하게 된다. 필라(500)의 개구부(320)는 어퍼하우징(110)과 내면과 마주대하며, 필라(500)의 개구부(320)가 위치하는 어퍼하우징(110)의 중앙에는 놀블럭(700)이 필라(500)의 개구부(320)를 향하여 돌출되도록 어퍼하우징(110)의 내면(112)에 결합된다. 이때, 놀블럭(700)의 상면(710) 및 경사면(720) 일부는 필라(500) 개구부(320) 내에 위치하게 되며, 필라(500)의 개구부(320)의 경사각은 놀블럭(700)의 경사면(720) 경사각과 거의 같게 형성되어, 필라(500) 개구부(320)와 놀블럭(700) 간의 간격이 일정하게 유지되도록 조정된다.

로테이터(600)는 하우징(100) 외부로 노출된 필라(500)의 일측 종단에 결합되어 필라(500)에 회전력을 제공함과 아울러, 필라(500)의 중공(310) 내부를 통해 이동하는 반응가스를 외부로 배기하는 역할을 한다. 이를 위해 로테이터(600)는 필라(500)의 회전을 위한 모터, 기어 및 반응가스의 배기를 위한 배기장치를 포함하여 구성된다.

놀블럭(700)은 노즐(251)을 통해 분출되어 기판(550)과 반응한 반응가스가 필라(500)의 개구부(320)를 통해 배출되도록 하기 위해 어퍼하우징(110)의 내면(112)에 결합된다. 이 놀블럭(700)은 서셉터(300)와 제1단열재(800) 사이를 통과한 반응가스가 필라(500)를 통해 배출될 때 발생하는 반응가스의 터뷸런스(난기류) 발생을 방지하여, 터뷸런스에 의한 파티클 생성, 생성된 파티클에 의한 기판 손상, 반응가스와 기판의 접촉효율 저하를 방지하는 역할을 한다. 이 놀블럭(700)은 도시된 바와 같이 원뿔대 형상으로 형성되고, 어퍼하우징(110)의 내면에 결합되어 필라(500)의 개구부(320)를 향해 돌출된 형상으로 배치된다. 특히, 놀블럭(700)은 반응가스의 흐름이 일정하게 유지시켜 터뷸런스에 의한 악영향을 감소시킬 수 있도록 외부면이 모나지 않게 곡선 처리된다. 이를 위해 놀블럭(700)은 상면(710), 상면(710)에 비해 넓은 면적의 하면(720), 상면(710)과 하면(720)을 잇는 경사면(730)을 가지도록 형성되며, 상면(710)과 경사면(730)이 이어지는 부분 및 경사면(730)과 어퍼하우징의 내면(112)이 이어지는 부분이 부드러운 곡면을 이루도록 처리된다. 이러한 놀블럭(700)의 상면(710) 및 경사면(730) 일부는 필라(500) 개구부(320)를 통해 필라(500)의 중공(510)에 내에 위치하게 된다. 특히, 놀블럭(700)은 반응가스의 흐름이 자연스럽게 이루어지도록 필라(500) 개구부(320)의 경사각과 같은 경사각을 가지도록 경사면(730)의 경사각이 결정된다. 이를 통해, 필라(500) 개구부(320)와 놀블럭(700)의 경사면 사이의 간극이 일정하게 유지됨으로써 반응가스의 흐름 또는 배출속도가 변하지 않게 되며, 이를 통해 하우징 내부에서의 터뷸런스를 억제할 수 있게 된다.

제1단열재(800)는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 중앙에 놀블럭홀(810)이 형성된 원판형의 도넛형태로 형성된다. 이 제1단열재(800)는 서셉터(300)와 평행하게 어퍼하우징의 내면(112)에 부착되며, 서셉터(300)와 일정거리를 이격되도록 배치된다. 이러한 제1단열재(800)는 노즐(251)을 통해 하우징(100) 내부로 분사된 가스가 하우징(100) 또는 기타 구성에 접촉하여 발생하는 온도저하를 방지하는 역할을 하고, 하우징(100) 내부의 온도를 일정하게 유지하는 역할을 한다. 이러한 제1단열재(800)는 석영, 흑연 또는 이의 등가물질을 이용하여 형성되며, 하우징(100) 내부의 진공 조건에 영향을 주지 않는 물질을 이용하면 어떠한 단열재를 이용해도 무방하다. 이러한 제1단열재(800)는 하우징(100)에 의해 외부로 방출되는 열을 차단하는 역할도 겸하며, 이를 통해 하우징 내부가 증착공정에 필요한 온도에 빨리 도달하도록 함과 아울러, 고온 조건을 유지하기 위해 소요되는 에너지의 양을 저감하는 것이 가능해진다. 한편, 제1단열재(800)의 경우 판상 링형의 일체형으로 구성될 수도 있으나, 작업의 편의를 위해 도 3에 도시된 바와 같이 복수의 조각으로 구분하고 이를 맞추어 사용하는 것도 가능하다.

도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학기상증착 리액터를 설명하기 위한 예시도들로써, 도 4는 제2실시예에 따른 화학기상증착 리액터의 단면예시도이고, 도 5는 어퍼하우징을 제거한 평면도예시도이다.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 화학기상증착 리액터는 하우징(100), 노즐블럭(200), 서셉터(300), 히터(400), 필라(500), 로테이터(600), 놀블럭(700), 제1단열재(800) 및 제2단열재(900)를 포함하여 구성된다. 여기서, 본 발명의 제2실시예를 설명함에 있어서, 전술한 제1실시예와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략하고, 제1실시예와 다른 구성 및 다른 특징에 대해서만 상세히 설명하기로 한다. 또한, 동일한 구성에 대하여는 동일한 도면부호를 사용하기로 한다.

제2단열재(900)는 하우징(100) 내부의 노즐블럭(200)과 서셉터(300) 사이에 서셉터(300)와 평행하게 배치되어, 노즐블럭(200) 또는 사이드하우징(120)에 고정된다. 이러한 제2단열재(900)는 노즐블럭(200)의 노즐(251)로부터 하우징(100) 내부로 분사된 가스의 온도가 저하되는 것을 방지하고, 공급될 때의 온도를 유지하여 서셉터(300)에 이르도록 하는 역할을 한다. 이를 위해 제2단열재(900)는 도시된 바와 같이 원판 링 형상(또는 도넛형상)으로 형성되고, 서셉터(300)의 외주연과 노즐블럭(200)의 내주연 사이에 배치된다. 이러한 제2단열재(900)는 석영, 흑연 또는 이의 등가물질을 이용하여 형성되며, 고온환경에서 단열효과 높고 진공상태 유지에 저해되지 않는 물질이면 어떠한 것을 이용해도 무방하다. 한편, 제2단열재(900)는 도 5에 도시된 바와 같이 설치 및 제조의 편의를 위해 여러 조각으로 나누어 생산한 뒤 하우징 내부에 결합하여 링 형상을 이루도록 할 수 있으나, 이로써 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 이러한 제2단열재(900)는 도 4에서 알 수 있는 바와 같이 제1단열재(800)와 함께 반응가스의 이동경로에 배치되어 반응가스의 온도가 하우징에 의해 낮아지는 것을 방지하고, 이를 통해 반응가스와 기판(550)의 반응 효율을 향상시키게 된다.

이상에서 본 발명의 기술적 사상을 예시하기 위해 구체적인 실시 예로 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기와 같이 구체적인 실시 예와 동일한 구성 및 작용에만 국한되지 않고, 여러가지 변형이 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 실시될 수 있다. 따라서, 그와 같은 변형도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주해야 하며, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의해 결정되어야 한다.

100 : 하우징 110 : 어퍼하우징
120 : 사이드하우징 130 : 보톰하우징
200 : 노즐블럭 250 : 가스주입구
251 : 노즐 300 : 서셉터
400 : 히터 500 : 필라
550 : 기판 600 : 로테이터
800 : 제1단열재 900 : 제2단열재

Claims (4)

1. 화학기상증착을 위한 리액터에 있어서,
   양단이 개구되고 원통 파이프 형상으로 형성되는 사이드하우징, 상기 사이드하우징의 개구된 일단에 결합되며 필라홀이 형성된 보톰하우징, 상기 사이드하우징의 개구된 타단을 밀폐하는 어퍼하우징을 포함하고, 상기 사이드하우징, 상기 보톰하우징 및 상기 어퍼하우징에 의해 내부 작업공간을 형성하는 하우징;
   상기 어퍼하우징과 상기 사이드하우징을 연결하여 결합시키며, 증착을 위한 반응가스를 상기 하우징 내부로 분사하는 노즐이 형성된 노즐블럭;
   상기 하우징 내부의 상기 작업공간에 배치되는 원형 판상의 서셉터;
   파이프 형상으로 형성되고 상기 서셉터의 중앙에서 상기 서셉터를 관통하여 결합되며, 일단이 상기 필라홀을 통해 상기 하우징의 외부로 노출되며, 상기 서셉터와의 결합부분이 나팔형태로 확장되는 개구부가 형성된 필라;
   상기 서셉터의 배면에 배치되어 상기 서셉터 및 상기 서셉터에 거치되는 기판을 가열하는 히터;
   상기 하우징의 외부로 노출된 상기 필라의 일단에 결합되어, 상기 필라의 회전을 위한 회전력을 제공하는 로테이터;
   상기 서셉터와 평행하게 상기 서셉터와 이격되어 대면하도록 상기 작업공간 내의 상기 어퍼하우징 내면에 결합되는 제1단열재; 및
   원뿔대 형상으로 형성되고, 상기 원뿔대의 상면과 하면 중 넓은 면인 상기 하면이 상기 어퍼하우징 면에 결합되며, 상기 상면과 상기 하면을 잇는 경사면이 상기 상면과 이어지는 모서리 및 상기 하면과 상기 어퍼하우징이 이어지는 경계가 곡선처리된 놀블럭을 를 포함하여 구성되고,
   상기 노즐블럭과 상기 서셉터 사이에 상기 서셉터와 평행하게 배치되고, 상기 노즐블럭 또는 상기 사이드하우징 중 어느 하나에 고정되는 제2단열재를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터.
2. 삭제
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 제1단열재 또는 상기 제2단열재는 석영 또는 흑연인 것을 특징으로 하는 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 제1단열재 또는 상기 제2단열재는 판상의 링형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 단열재를 구비하는 화학기상증착 리액터.

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