KR101076305B1 - Apparatus and method for manufacturing printed electronics device - Google Patents

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KR101076305B1
KR101076305B1 KR1020110021688A KR20110021688A KR101076305B1 KR 101076305 B1 KR101076305 B1 KR 101076305B1 KR 1020110021688 A KR1020110021688 A KR 1020110021688A KR 20110021688 A KR20110021688 A KR 20110021688A KR 101076305 B1 KR101076305 B1 KR 101076305B1
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이승현
윤덕균
김동수
고승환
성형진
강현욱
여준엽
홍석준
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한국기계연구원
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Abstract

본 발명의 실시예에 따르면, 기판에 전자회로 패턴을 형성시키는 패턴인쇄유닛; 및 펄스형 레이저를 이용하여 상기 기판에 형성된 전자회로 패턴을 건조 및/또는 경화시키는 건조/경화유닛을 포함할 수 있다. 이에 의하면, 건조 및/또는 경화 과정에서 기판이 손상되지 않으며, 따라서, 기판의 손상에 의한 불량을 줄일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a pattern printing unit for forming an electronic circuit pattern on a substrate; And it may include a drying / curing unit for drying and / or curing the electronic circuit pattern formed on the substrate using a pulsed laser. According to this, the substrate is not damaged during the drying and / or curing process, and therefore, defects due to damage to the substrate can be reduced.

Description

인쇄 전자 소자 제조 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED ELECTRONICS DEVICE}APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED ELECTRONICS DEVICE

본 발명은 전자 소자 제조 장치 및 방법에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 인쇄기술을 활용하여 다양한 전자 소자를 생산하는 인쇄 전자 소자 제조 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electronic device manufacturing apparatus and method, and more particularly to a printed electronic device manufacturing apparatus and method for producing a variety of electronic devices using the printing technology.

최근의 산업기술, 특히 전자기기를 비롯한 정보통신 분야의 급속한 발전이 이루어지고 있으며, 소비자의 편의성에 초점을 맞추어 소형화, 휴대화, 고기능화됨과 아울러 방송, 컴퓨터, 통신 등이 융합된 다기능 통합, 멀티미디어화 하고 있다.Recently, the rapid development of industrial technology, especially information and communication field, including electronic devices, is focused on convenience of consumers, miniaturized, portable, and high-functionality, and multi-functional integration, multimedia, which is integrated with broadcasting, computer, and communication. have.

최근의 전자정보통신기기는 그 외형, 크기/무게, 성능, 편의성, 가격 등에 있어 과거보다 훨씬 엄격한 조건이 적용된다. 이와 같은 조건의 예를 들면, 사용자가 항상 몸에 지니고 다닐 수 있도록 초소형, 초경량, 초박형, 초저전력소비, 그리고 착용하거나(wearable) 부피를 줄이기 위해 접을 수 있으면서도(foldable), 고성능(초고속)의 복합기능을 갖추되 저렴한 가격조건이 요구된다.Modern electronic information and communication devices are subject to much more stringent conditions than in the past in terms of appearance, size / weight, performance, convenience, and price. Examples of such conditions include a combination of ultra-compact, ultra-lightweight, ultra-thin, ultra-low power consumption, and foldable, high-performance (ultra-high speed) for the user to carry around at all times. Fully functional but inexpensive.

이와 같은 조건을 만족하기 위해서는 사용되는 전자소자의 최소형화, 초박형화와 유연성 있는 기판의 사용 등이 선행돼야 한다. 이러한 최근의 사정에 따라, 인쇄기술을 활용하여 다양한 전자 소자(부품)을 생산하는 인쇄 전자 기술이 각광받고 있으며, 이러한 인쇄 전자 기술에 의해 생산된 전자 소자 또는 전자 부품을 인쇄 전자 소자라고 말한다. 이러한 인쇄 전자 소자로는, 무선인식 태그(RFID), 솔라 셀, 배터리, 트랜지스터, 디스플레이, 패키징, 스마트 카드 등이 있다.In order to satisfy such conditions, the miniaturization, ultra-thinness, and use of flexible substrates must be preceded. In accordance with such recent circumstances, printed electronic technologies that produce various electronic devices (parts) using printing technology have been in the spotlight, and electronic devices or electronic parts produced by such printed electronic technologies are referred to as printed electronic devices. Such printed electronic devices include radio frequency identification tags (RFIDs), solar cells, batteries, transistors, displays, packaging, smart cards, and the like.

상기와 같은 인쇄 전자 소자를 제조하는 방법을 살펴보면, 먼저, 전도성을 갖는 기능성 잉크를 이용하여 기판, 종이, 필름 등의 절연체에 잉크젯(Inkjet), 스크린(Screen), 에어로졸(Aerosol), 플렉소(Flexo), 그라비아(Gravure) 등의 다양한 인쇄방법을 통해서 전자 회로를 패터닝 하고, 그런 다음 램프 등을 이용하여 적정한 열을 가하여 나노 또는 마이크로 크기의 입자로 된 패턴을 건조 및 경화시키는 과정으로 인쇄 전자 소자를 제조한다.Looking at the method of manufacturing the printed electronic device as described above, first, the inkjet (Inkjet), Screen (Aerosol), Flexo ( Electronic circuits are patterned through various printing methods such as Flexo) and gravure, and then dried and cured to form patterns of nano or micro-sized particles by applying appropriate heat using lamps. To prepare.

그러나, 상기한 바와 같은 통상적인 인쇄 전자 소자 제조방법은, 기판에 패터닝된 나노 또는 마이크로 크기의 입자로 된 패턴에 열을 가하여 패턴을 건조 및 경화시킴으로써, 기판이 열에 의해 손상되어 불량이 발생되고, 이에 따라 수율이 저하되는 문제가 있다.However, in the conventional method of manufacturing a printed electronic device as described above, by heating and patterning a pattern of nano or micro-sized particles patterned on the substrate, the substrate is damaged by heat and defects are generated. Accordingly, there is a problem that the yield is lowered.

본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 기판에 패터닝된 나노 또는 마이크로 입자의 패턴에 레이저 펄스를 가하여 건조 및 경화시킴으로써, 열에 의한 기판의 손상을 방지하여 불량을 줄이고 수율을 향상시킬 수 있는 인쇄 전자 소자 제조 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in view of the above, and by drying and curing by applying a laser pulse to the pattern of nano or micro particles patterned on the substrate, it is possible to prevent damage to the substrate by heat to reduce defects and improve yield The present invention provides an apparatus and method for manufacturing a printed electronic device.

본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조 장치는, 기판에 전자회로 패턴을 형성시키는 패턴인쇄유닛; 및 펄스형 레이저를 이용하여 상기 기판에 형성된 전자회로 패턴을 건조 및/또는 경화시키는 건조/경화유닛;을 포함할 수 있다. An apparatus for manufacturing a printed electronic device according to an embodiment of the present invention includes a pattern printing unit for forming an electronic circuit pattern on a substrate; And a drying / curing unit for drying and / or curing the electronic circuit pattern formed on the substrate using a pulsed laser.

한편, 상기 건조/경화유닛은, 레이저를 발생하는 레이저 발생기; 및 상기 레이저 발생기에서 발생한 레이저를 펄스형 레이저로 만들어 상기 기판의 전자회로 패턴에 조사하는 펄스 발생기; 를 포함할 수 있다.On the other hand, the drying / curing unit, a laser generator for generating a laser; And a pulse generator for irradiating an electronic circuit pattern of the substrate by making the laser generated by the laser generator into a pulsed laser. It may include.

또한, 상기 건조/경화유닛은, 상기 레이저 발생기에서 발생한 레이저를 상기 펄스 발생기로 분배하기 위한 스플리터; 더 포함할 수 있다.In addition, the drying / curing unit, the splitter for distributing the laser generated in the laser generator to the pulse generator; It may further include.

한편, 상기 기판에는 제1레이어 및 상기 제1레이어에 적층되는 제2레이어가 형성되어 있고, 상기 건조/경화유닛은, 상기 제1레이어를 건조/경화시킬 수 있는 파장 대역의 레이저와, 상기 제2레이어를 건조 및/또는 경화시킬 수 있는 파장 대역의 레이저 중 적어도 어느 하나의 레이저를 이용하여, 상기 제1레이어와 상기 제2레이어를 건조 및/또는 경화시키는 것일 수 있다.On the other hand, the substrate is formed with a first layer and a second layer stacked on the first layer, the drying / curing unit, the laser of the wavelength band that can dry / harden the first layer, and the first layer The first layer and the second layer may be dried and / or cured using at least one laser of a wavelength band laser capable of drying and / or curing the second layer.

또한, 상기 건조/경화유닛은, 제1 파장 대역의 펄스형 레이저를 생성할 수 있는 제1 레이저 발생기; 및 제2 파장 대역의 펄스형 레이저를 생성할 수 있는 제2 레이저 발생기;를 포함하며, 상기 제1 레이저 발생기에 의해 생성된 펄스형 레이저는 상기 기판의 제1 레이어에 조사되고, 상기 제2 레이저 발생기에 의해 생성된 펄스형 레이저는 상기 제1레이어에 적층된 제2레이어에 조사되는 것일 수 있다.The drying / curing unit may further include a first laser generator capable of generating a pulsed laser of a first wavelength band; And a second laser generator capable of generating a pulsed laser of a second wavelength band, wherein the pulsed laser generated by the first laser generator is irradiated onto the first layer of the substrate, and the second laser generator The pulsed laser generated by the generator may be irradiated to the second layer laminated on the first layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조방법은, 기판에 전자회로 패턴을 형성시키는 패터닝 단계; 펄스형 레이저를 생성하는 단계; 및 상기 기판에 형성된 전자회로 패턴에 상기 펄스형 레이저를 조사하는 단계;를 포함할 수 있다.According to one or more exemplary embodiments, a method of manufacturing a printed electronic device includes: a patterning step of forming an electronic circuit pattern on a substrate; Generating a pulsed laser; And irradiating the pulsed laser on the electronic circuit pattern formed on the substrate.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조 방법은, 상기 기판에 형성된 전자회로 패턴은 제1레이어 및 제2레이어를 포함하며, 상기 펄스형 레이저를 생성하는 단계는, 상기 제1레이어를 건조 및/또는 경화시킬 수 있는 파장 대역의 제1펄스형 레이저를 생성하는 단계와, 상기 제2레이어를 건조 및/또는 경화시킬 수 있는 파장 대역의 제2펄스형 레이저를 생성하는 단계를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing a printed electronic device according to an embodiment of the present invention, the electronic circuit pattern formed on the substrate includes a first layer and a second layer, and the generating of the pulsed laser may include: Generating a first pulsed laser of a wavelength band capable of drying and / or curing the laser, and generating a second pulsed laser of a wavelength band capable of drying and / or curing the second layer. can do.

또한, 상기 조사하는 단계는 상기 제1레이어에는 상기 제1펄스형 레이저를 조사하고, 상기 제2레이어에는 상기 제2펄스형 레이저를 조사하는 것일 수 있다.The irradiating may include irradiating the first pulse laser to the first layer and irradiating the second pulse laser to the second layer.

한편, 상기 조사하는 단계는, 상기 제1레이어에 상기 제1펄스형 레이저를 조사하고 난 후에, 상기 제2레이어에는 상기 제2펄스형 레이저를 조사하거나, 또는 상기 제1펄스형 레이저의 조사와 상기 제2펄스형 레이저의 조사를 동시에 수행하는 것일 수 있다.On the other hand, the step of irradiating, after irradiating the first pulse laser to the first layer, and irradiating the second pulse laser to the second layer, or the irradiation of the first pulse laser It may be to perform the irradiation of the second pulse type laser at the same time.

본 발명에 의하면, 기판에 패터닝된 나노 또는 마이크로 입자의 전자회로 패턴을 건조 및 경화시키기 위한 소스가 기판을 손상시키는 열이 아니라 기판에 영향을 주지 않는 레이저 펄스이기 때문에, 건조 및 경화 과정에서 기판이 손상되지 않으며, 따라서, 기판의 손상에 의한 불량을 줄일 수 있고, 수율 향상을 도모할 수 있다.According to the present invention, since the source for drying and curing the electronic circuit pattern of the nano or microparticles patterned on the substrate is not a heat damaging substrate but a laser pulse that does not affect the substrate, the substrate is not dried during the curing and curing process. It is not damaged, and therefore, the defect by the damage of a board | substrate can be reduced and a yield can be aimed at.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조 장치의 요부인 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면,
도 2는 본 발명의 제2실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조 장치의 요부인 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면,
도 3은 본 발명의 제3실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조 장치치의 요부인 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면,
도 4는 본 발명의 제4실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조 장치의 요부인 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면,
도 5는 본 발명의 제5실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조 장치의 요부인 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 펄스의 주기를 나타낸 도면,
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 제어기의 기능 블록도,
도 8과 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 펄스를 이용하여 건조/경화시킨 결과를 나타내는 사진,
도 10a는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용하여 다계층 기판을 건조/경화시킨 결과를 나타내는 사진,
도 10b는 도 10a의 단면을 AFM 스캐닝한 것을 나타낸 도이고,
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용하여 건조/경화시킨 결과를 나타내는 사진이고,
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
1 is a view schematically showing a drying / curing unit which is a main part of an apparatus for manufacturing a printed electronic device according to a first embodiment of the present invention;
2 is a view schematically showing a drying / curing unit which is a main part of an apparatus for manufacturing a printed electronic device according to a second embodiment of the present invention;
3 is a view schematically showing a drying / curing unit which is a main portion of a device for manufacturing a printed electronic device according to a third embodiment of the present invention;
4 is a view schematically showing a drying / curing unit which is a main part of an apparatus for manufacturing a printed electronic device according to a fourth embodiment of the present invention;
5 is a view schematically showing a drying / curing unit which is a main part of an apparatus for manufacturing a printed electronic device according to a fifth embodiment of the present invention;
6 is a view showing a cycle of a laser pulse according to an embodiment of the present invention,
7 is a functional block diagram of a controller according to an embodiment of the present invention;
8 and 9 are photographs showing the results of drying / curing using a laser pulse according to an embodiment of the present invention,
10A is a photograph showing the result of drying / curing a multilayer substrate using a laser according to an embodiment of the present invention;
10B is a view showing AFM scanning of the cross section of FIG. 10A,
11 is a photograph showing the result of drying / curing using a laser according to an embodiment of the present invention.
12 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a printed electronic device according to an embodiment of the present invention.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Objects, other objects, features and advantages of the present invention will be readily understood through the following preferred embodiments associated with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that the disclosure can be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.

본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 구성요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. In this specification, when an element is referred to as being on another element, it may be directly formed on another element, or a third element may be interposed therebetween. Also in the figures, the thickness of the components is exaggerated for an effective description of the technical content.

본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서 본 발명의 실시예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 식각 영역은 라운드지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서 도면에서 예시된 영역들은 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서의 다양한 실시예들에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 여기에 설명되고 예시되는 실시예들은 그것의 상보적인 실시예들도 포함한다.Embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional and / or plan views, which are ideal exemplary views of the present invention. In the drawings, the thicknesses of films and regions are exaggerated for effective explanation of technical content. Therefore, the shape of the exemplary diagram may be modified by manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but also include changes in the shapes that are produced according to the manufacturing process. For example, the etched regions shown at right angles may be rounded or have a predetermined curvature. Thus, the regions illustrated in the figures have attributes, and the shapes of the regions illustrated in the figures are intended to illustrate specific forms of regions of the elements and are not intended to limit the scope of the invention. Although the terms first, second, etc. have been used in various embodiments of the present disclosure to describe various components, these components should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. The embodiments described and illustrated herein also include complementary embodiments thereof.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. As used herein, the words 'comprises' and / or 'comprising' do not exclude the presence or addition of one or more other components.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 아래의 특정 실시예들을 기술하는데 있어서, 여러 가지의 특정적인 내용들은 발명을 더 구체적으로 설명하고 이해를 돕기 위해 작성되었다. 하지만 본 발명을 이해할 수 있을 정도로 이 분야의 지식을 갖고 있는 독자는 이러한 여러 가지의 특정적인 내용들이 없어도 사용될 수 있다는 것을 인지할 수 있다. 어떤 경우에는, 발명을 기술하는 데 있어서 흔히 알려졌으면서 발명과 크게 관련 없는 부분들은 본 발명을 설명하는데 있어 별 이유 없이 혼돈이 오는 것을 막기 위해 기술하지 않음을 미리 언급해 둔다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the specific embodiments below, various specific details are set forth in order to explain the invention more specifically and to help understand. However, one of ordinary skill in the art can understand that the present invention can be used without these various specific details. In some cases, it is mentioned in advance that parts of the invention which are commonly known in the description of the invention and which are not highly related to the invention are not described in order to prevent confusion in explaining the invention without cause.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 요부인 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면이다. 이 도 1를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치는, 기판(10)에 나노 또는 마이크로 입자의 기능성 잉크를 이용하여 레이어(L1)를 형성하고, 레이어(L1)를 패터닝하여 전자회로 패턴을 형성하는 패턴인쇄유닛(미도시) 및 상기 기판(10)의 레이어(L1)에 형성된 전자회로 패턴을 건조/경화시키는 건조/경화유닛(100)을 포함한다. 여기서, 건조/경화유닛은 "건조 및/또는 경화유닛"을 의미하는 것으로 사용하기로 한다. 한편, 상기 패턴인쇄유닛은 본 발명의 요부 구성도 아니며, 또한, 공지의 기술로 이해 가능하므로, 본 명세서에서는 도시를 생략하고 구체적인 설명도 생략하기로 한다.1 is a view schematically showing a drying / curing unit which is a main part of an apparatus for manufacturing a printed electronic device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the apparatus for manufacturing a printed electronic device according to an exemplary embodiment of the present invention forms a layer L1 on the substrate 10 using functional ink of nano or micro particles, and forms the layer L1. And a pattern printing unit (not shown) for patterning an electronic circuit pattern and a drying / curing unit 100 for drying / curing the electronic circuit pattern formed on the layer L1 of the substrate 10. Here, the drying / curing unit will be used to mean "drying and / or curing unit". On the other hand, the pattern printing unit is not a main component of the present invention, and also can be understood by known techniques, it will be omitted in the present specification and detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 특징은 상기 건조/경화유닛(100)이 기판(10)에 열 손상을 입힐 수 있는 램프 등을 이용하는 것이 아니라, 기판(10)의 표면 근처에만 미소한 영향을 미치는 레이저 펄스를 이용하여 기판(10)에 형성된 전자회로 패턴을 건조/경화시키는 것이다.The characteristic of the present invention is that the drying / curing unit 100 does not use a lamp or the like that can cause thermal damage to the substrate 10, but uses a laser pulse that has a slight effect only near the surface of the substrate 10. The electronic circuit pattern formed on the substrate 10 is dried / cured.

위와 같은 특징에 따라 본 발명의 일 실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 건조/경화유닛(100)은 레이저 발생기(110), 펄스 발생기(120) 및 제어기(130)를 포함한다.According to the above features, the drying / curing unit 100 of the apparatus for manufacturing a printed electronic device according to an embodiment of the present invention includes a laser generator 110, a pulse generator 120, and a controller 130.

상기 레이저 발생기(110)는 기판(10)에 형성된 전자회로 패턴을 건조/경화시키기 위한 소스인 레이저를 발생시킨다. 이러한 레이저 발생기(110)는 공지 기술로 이해 가능하므로, 여기서는 구체적인 설명을 생략한다.The laser generator 110 generates a laser which is a source for drying / curing the electronic circuit pattern formed on the substrate 10. Since the laser generator 110 can be understood by a known technology, a detailed description thereof will be omitted.

상기 펄스 발생기(120)는 레이저 발생기(110)에 의해 발생된 레이저를 펄스형으로 변환하여 상기 기판(10)의 레이어(L1)에 조사한다. 이와 같이 펄스형 레이저에 의해 레이어(L1)에 패터닝된 전자회로 패턴은 건조 및 경화되며, 기판(10)에는 그 표면 근처에만 상기 레이저가 영향을 미치거나 기판(10)의 표면 근처에 레이저가 조사되지 않으므로, 기판(10)이 손상되거나 열변형되는 현상이 발생하지 않는다.The pulse generator 120 converts the laser generated by the laser generator 110 into a pulse shape and irradiates the layer L1 of the substrate 10. The pattern of the electronic circuit patterned on the layer L1 by the pulsed laser is dried and cured. The laser affects only the surface of the substrate 10 or the laser is irradiated near the surface of the substrate 10. Since the substrate 10 is not damaged or thermally deformed, the phenomenon does not occur.

여기서, 레이저가 펄스 형태로 가해진다는 것은, 기판(10) 상의 레이어(L1)에 레이저가 일정한 세기로 계속적으로 가해지는 것이 아니라, 일정한 주기 또는 간헐적으로 레이저가 가해지는 것을 말하며, 이 때, 펄스의 주기는 전자회로 패턴이 형성된 레이어(L1)의 재질 및 패턴의 구조나 레이저의 세기 등에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 예를 들면, 파장이 같은 레이저 펄스 2개가 있다고 가정하면, 이들 중에서 펄스의 주기가 긴 레이저는 펄스의 주기가 짧은 레이저보다 깊이 침투할 수 있다(예를 들면 도 6의 (a)와 (b)). 다른 예를 들면, 펄스의 주기가 같은 레이저 펄스 2개가 있다고 가정하면, 이들 중에서 파장이 짧은 레이저 펄스가 파장이 긴 레이저 펄스보다 더 깊이 침투할 수 있다. 또 다른 예를 들면, 파장과 펄스의 주기가 같은 레이저 펄스 2 개가 있다고 가정하면, 이들 중에서 에너지 밀도가 높은 레이저 펄스가 에너지 밀도가 낮은 레이저 펄스보다 더 깊이 침투할 수 있다.Here, the application of the laser in the form of a pulse means that the laser is applied to the layer L1 on the substrate 10 at a constant intensity, but not at a constant period or intermittently. The period may be appropriately set according to the material of the layer L1 on which the electronic circuit pattern is formed, the structure of the pattern, the intensity of the laser, and the like. For example, assuming that there are two laser pulses having the same wavelength, a laser having a longer pulse period can penetrate deeper than a laser having a short pulse period (for example, FIGS. 6A and 6B). ). For another example, assuming that there are two laser pulses having the same pulse period, the laser pulses with the shorter wavelength can penetrate deeper than the laser pulses with the long wavelength among them. As another example, assuming that there are two laser pulses having the same wavelength and the period of the pulse, among them, a laser pulse having a higher energy density may penetrate deeper than a laser pulse having a low energy density.

상기 제어기(130)는 상기 펄스 발생기(120)의 펄스 속도를 조절하는 역할을 하는 것으로, 이러한 제어기(130)에 의해 펄스의 속도나 주기가 전자회로 패턴이 형성된 레이어(L1)의 재질 및 구조나 레이저의 세기 등에 따라 적절하게 설정될 수 있다.The controller 130 serves to adjust the pulse rate of the pulse generator 120, the material and structure of the layer (L1) in which the speed or period of the pulse is formed by the controller 130, the electronic circuit pattern or It may be appropriately set according to the intensity of the laser or the like.

본 발명의 일 실시예에 따른 제어기(130)는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조장치의 동작을 전반적으로 컨트롤할 수 있다.Controller 130 according to an embodiment of the present invention can control the overall operation of the printed electronic device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이러한 제어기(130)는 도 6에 도시된 바와 같이, 중앙처리장치(131, CPU), 메모리(132, MEMORY), 서포트 회로(133, SUPPORT CIRCUIT)를 포함할 수 있다. CPU(131)는 본 실시예의 인쇄 전자 소자 제조장치를 제어하기 위해서 산업적으로 적용될 수 있는 다양한 컴퓨터 프로세서들 중 하나일 수 있다. 메모리(132, MEMORY)는 CPU(131)와 동작으로 연결된다. 메모리(132)는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체로서 로컬 또는 원격지에 설치될 수 있으며, 예를 들면 랜덤 액세스 메모리(RAM), ROM, 플로피 디스크, 하드 디스크 또는 임의의 디지털 저장 형태와 같이 쉽게 이용가능한 적어도 하나 이상의 메모리이다. 서포트 회로(133, SUPPORT CIRCUIT)는 CPU(131)와 작용적으로 결합되어 프로세서의 전형적인 동작을 지원한다. 이러한 서포트 회로(133)는 캐시, 파워 서플라이, 클록 회로, 입/출력 회로, 서브시스템 등을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 6, the controller 130 may include a central processing unit 131 (CPU), a memory 132 (MEMORY), and a support circuit 133 (SUPPORT CIRCUIT). The CPU 131 may be one of various computer processors that can be industrially applied to control the printed electronic device manufacturing apparatus of this embodiment. The memory 132 is connected to the CPU 131 in operation. The memory 132 may be installed locally or remotely as a computer readable recording medium, and may be readily available, such as, for example, random access memory (RAM), ROM, floppy disk, hard disk, or any digital storage form. At least one or more memories. The support circuit 133 (SUPPORT CIRCUIT) is operatively coupled with the CPU 131 to support typical operation of the processor. Such support circuit 133 may include a cache, a power supply, a clock circuit, an input / output circuit, a subsystem, and the like.

예를 들면, 본 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조장치에서 가변파장 레이저발생기로부터 서로 다른 파장 대역을 갖는 레이저가 기판(10)의 레이어(L1)으로 조사될 수 있도록 하는 일련의 프로세스 등이 메모리(132)에 저장될 수 있다. 전형적으로는 소프트웨어 루틴이 메모리(132)에 저장될 수 있다. 소프트웨어 루틴은 또한 다른 CPU(미도시)에 의해서 저장되거나 실행될 수 있으며, 그러한 다른 CPU(미도시)는 인쇄 전자 소자 제조장치와는 거리적으로 이격된 곳에 위치된 것일 수 있다.For example, in the printed electronic device manufacturing apparatus according to the present embodiment, a series of processes for allowing lasers having different wavelength bands to be irradiated from the variable wavelength laser generator to the layer L1 of the substrate 10 may include a memory ( 132). Typically software routines may be stored in memory 132. The software routine may also be stored or executed by another CPU (not shown), which may be located at a distance from the printed electronic device manufacturing apparatus.

본 발명에 따른 프로세스는 소프트웨어 루틴에 의해 실행되는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 프로세스들 중 적어도 일부는 하드웨어에 의해 수행되는 것도 가능하다. 이처럼, 본 발명의 프로세스들은 컴퓨터 시스템 상에서 수행되는 소프트웨어로 구현되거나 또는 집적 회로와 같은 하드웨어로 구현되거나 또는 소프트웨어와 하드웨어의 조합에 의해서 구현될 수 있다.Although the process according to the invention has been described as being executed by software routines, at least some of the processes of the invention may be performed by hardware. As such, the processes of the present invention may be implemented in software executed on a computer system, or in hardware such as an integrated circuit, or in combination of software and hardware.

상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치는, 패턴인쇄유닛에 의해 기판(10)에 소정의 전자회로 패턴이 형성된 기판(10)이 컨베이어(미도시)를 타고 건조/경화유닛(100)으로 이송되면, 레이저 발생기(110)에서 발생된 레이저가 펄스 발생기(120)에 의해 레이저 펄스로 만들어져 기판(10)의 레이어(L1)에 조사된다. 이와 같이 조사되는 레이저 펄스에 의해 레이어(L1) 또는 레이어(L1)에 패터닝된 전자회로 패턴이 건조 및 경화되어 배출된다. 이때, 상기 레이어(L1)에 패터닝된 전자회로 패턴은 통상 나노 또는 마이크로 크기의 입자로 형성되어 있는데, 그 입자들의 크기가 균일하게 형성되어 있는 것이 바람직하다.In the apparatus for manufacturing a printed electronic device according to the embodiment of the present invention configured as described above, a substrate 10 having a predetermined electronic circuit pattern formed on the substrate 10 by a pattern printing unit is dried / dried on a conveyor (not shown). When transferred to the curing unit 100, the laser generated by the laser generator 110 is made into a laser pulse by the pulse generator 120 is irradiated to the layer (L1) of the substrate 10. The electronic circuit pattern patterned on the layer L1 or the layer L1 is dried, cured, and discharged by the laser pulse irradiated as described above. At this time, the electronic circuit pattern patterned on the layer (L1) is usually formed of particles of nano or micro size, the size of the particles is preferably formed uniformly.

상기와 같은 건조 및 경화 단계에서, 상기 레이저 펄스는 기판(10)의 표면 또는 레이어(L1)에만 영향을 미치고 기판(10)의 내부에는 영향을 미치지 않으므로 기판(10)이 열변형되거나 손상되지 않으며, 따라서, 기판(10)의 손상으로 인한 불량을 줄일 수 있어 수율을 높일 수 있다.In the drying and curing step as described above, since the laser pulse affects only the surface or the layer L1 of the substrate 10 and does not affect the inside of the substrate 10, the substrate 10 is not thermally deformed or damaged. Therefore, defects due to damage of the substrate 10 can be reduced, and the yield can be increased.

한편, 본 실시예에서, 레이저 발생기(110)와 펄스 발생기(120)가 별도의 기능 블럭으로 도시되어 있으나 이는 예시적인 것으로서, 레이저 발생기(110)와 펄스 발생기(120)가 하나의 장치로 구현되는 것도 가능할 것이다. 예를 들면, 레이저 발생기(110) 자체가 펄스형 레이저를 생성할 수 있다.Meanwhile, in the present embodiment, the laser generator 110 and the pulse generator 120 are shown as separate functional blocks, but as an example, the laser generator 110 and the pulse generator 120 are implemented as one device. It would also be possible. For example, the laser generator 110 itself may generate a pulsed laser.

또한, 본 실시예에서, 펄스 발생기(120)로부터 발생된 펄스형 레이저가 기판(10)으로 직접 조사되는 것으로 도시되어 있으나 이는 예시적인 것으로서, 도시되지 않은 다른 수단(예를 들면, 레이저를 반사시키는 미러)을 거쳐서 기판(10)에 조사되는 것도 가능할 것이다.In addition, in this embodiment, the pulsed laser generated from the pulse generator 120 is shown to be directly irradiated to the substrate 10, but this is illustrative, and other means not shown (e.g., reflecting the laser It may be possible to irradiate the substrate 10 via a mirror).

도 2는 본 발명의 제2실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 요부인 건조/경화유닛(200)을 개략적으로 나타낸 도면이다.2 is a view schematically showing a drying / curing unit 200 which is a main part of an apparatus for manufacturing a printed electronic device according to a second embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 건조/경화유닛(200)은 레이저 발생기(210)에서 발생된 레이저를 레이저 펄스로 만드는 다수의 펄스 발생기(220, 221, … ,N)가 구비됨으로써, 컨베이어를 타고 이송하는 다수의 기판(10, 11,...,N)에 형성된 다수의 레이어들(L1, L2, …, N)에 대하여 각각 레이저 펄스를 동시에 조사하여 다수의 레이어들(L1, L2, …, N)을 동시에 건조/경화시키도록 구성되어 있다는 점을 제외하고는 앞서 설명한 제1실시예에 의한 건조/경화유닛(100)과 동일하게 구성되어 있다.As shown in FIG. 2, the drying / curing unit 200 of the apparatus for manufacturing a printed electronic device according to the second embodiment of the present invention may include a plurality of pulse generators for making laser pulses generated by the laser generator 210 ( 220, 221, ..., N are provided, thereby lasering each of the plurality of layers L1, L2, ..., N formed on the plurality of substrates 10, 11, ..., N that are transported on the conveyor. Same as the drying / curing unit 100 according to the first embodiment described above, except that it is configured to simultaneously irradiate pulses to simultaneously dry / cure a plurality of layers L1, L2,..., N. It is composed.

다만, 본 실시예에서는 상기 레이저 발생기(210)에서 발생한 레이저를 다수의 펄스 발생기(220, 221,,.,N)로 분배하기 위한 빔 스플리터(240)를 추가로 구비한다. 상기 빔 스플리터(240)는 레이저 발생기(210)에서 발생한 레이저 중 일부는 예를 들어 제1펄스 발생기(220)로 투과시키고 일부는 제2펄스 발생기(221)를 향하도록 반사시킴으로써 다수의 펄스 발생기(220, 221, … ,N)로 레이저가 분배되도록 한다.However, in the present embodiment, a beam splitter 240 is further provided to distribute the laser generated by the laser generator 210 to the plurality of pulse generators 220, 221,. The beam splitter 240 transmits a portion of the laser generated by the laser generator 210 to, for example, the first pulse generator 220, and partially reflects the laser beam toward the second pulse generator 221. 220, 221, ..., N) to distribute the laser.

도 2를 계속 참조하면, 기판(10)과 기판(11), 그리고, 레이어(L1)과 레이어(L2)는 서로 다른 도면 부호가 부여되어 있지만, 이들 기판들(10, 11), 그리고, 레이어(L1)과 레이어(L2)는 서로 동일한 것일 수 있다. 즉, 펄스 발생기(220)에 의해 발생된 레이저 펄스를 기반으로 하는 레이저가 기판(10)의 레이저(L1)으로 조사된 후, 컨베이어에 의해 기판(10)이 이동하면, 이동된 기판(즉, 식별번호 '11')의 레이어(L2)로, 펄스 발생기(221)에 의해 발생된 레이저 펄스를 기반으로 하는 레이저가 조사될 수 있다. With continued reference to FIG. 2, the substrate 10, the substrate 11, and the layers L1 and L2 are assigned different reference numerals, but these substrates 10, 11, and layers L1 and layer L2 may be the same. That is, after the laser based on the laser pulse generated by the pulse generator 220 is irradiated with the laser (L1) of the substrate 10, when the substrate 10 is moved by the conveyor, the moved substrate (that is, With the layer L2 of the identification number '11', a laser based on the laser pulse generated by the pulse generator 221 may be irradiated.

한편, 기판(10)과 기판(11)은 서로 다른 것일 수 있다. 즉, 이들 양자는 펄스 발생기(220)와 펄스 발생기(221)에 의해 각각 동시에 조사될 수 있다.Meanwhile, the substrate 10 and the substrate 11 may be different from each other. That is, they can be irradiated simultaneously by the pulse generator 220 and the pulse generator 221, respectively.

또한, 후술하겠지만, 기판(10)과 기판(11) 중 적어도 하는 2 계층이상으로 구성된 다 계층 기판일 수 있다. 이들 계층은 특정 파장 대역에서만 반응(즉, 경화)될 수 있으며, 따라서 이러한 경우 레이저 발생기(210)는 특정 파장 대역의 레이저를 발생시킬 수 있다.In addition, as will be described later, at least one of the substrate 10 and the substrate 11 may be a multi-layer substrate composed of two or more layers. These layers can only react (ie, cure) in a particular wavelength band, so in this case the laser generator 210 can generate a laser in a particular wavelength band.

그외 다른 구성 및 작용효과는 앞서 설명한 본 발명의 제1실시예에 의한 건조/경화유닛(100)과 동일하므로 도 1과 연관된 참조부호를 부여하여 구체적인 설명을 생략한다.Other configurations and effects are the same as the drying / curing unit 100 according to the first embodiment of the present invention described above, and the detailed description is omitted by giving the reference numerals associated with FIG.

도 3은 본 발명의 제3실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 건조/경화유닛을 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing a drying / curing unit of the apparatus for manufacturing a printed electronic device according to the third embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 의한 건조/경화유닛(300)은 2개 이상의 레이어(L1, L2), 즉, 다계층이 형성된 기판(10A)에 대하여 깊이 방향으로 선택적인 처리가 가능하도록 구성한 것으로, 레이저 발생기가 서로 다른 파장 대역의 레이저를 발생시키는 가변 파장 레이저 발생기(310)로 구성되며, 또한, 제어기(330)는 상기 가변 파장 레이저 발생기(310)의 파장 대역을 조절하도록 구성된다.As shown in FIG. 3, the drying / curing unit 300 according to the third embodiment of the present invention has a depth direction with respect to a substrate 10A having two or more layers L1 and L2, that is, a multi-layered layer. It is configured to allow selective processing, the laser generator is composed of a variable wavelength laser generator 310 for generating lasers of different wavelength bands, and the controller 330 is a wavelength band of the variable wavelength laser generator 310 It is configured to adjust.

이러한 본 발명의 제3실시예에 의한 건조/경화유닛(300)에서 상기 가변 파장 레이저 발생기(310)는 예를 들어, 제1파장 대역(λ1)의 레이저와 제2파장 대역(λ2)의 레이저를 선택적 또는 순차적으로 발생할 수 있다. 여기서, 기판(10A)의 제1레이어(L1) 또는 제1레이어(L1)에 패터닝된 전자회로 패턴은 예를 들어, 상기 제1파장 대역(λ1)의 레이저에서 반응하며, 제2레이어(L2) 또는 제2레이어(L2)에 패터닝된 전화회로 패턴은 상기 제2파장 대역(λ2)의 레이저에서 반응하는 것일 수 있다.In the drying / curing unit 300 according to the third embodiment of the present invention, the variable wavelength laser generator 310 is, for example, a laser of the first wavelength band λ 1 and a laser of the second wavelength band λ 2. May occur selectively or sequentially. Here, the electronic circuit pattern patterned on the first layer L1 or the first layer L1 of the substrate 10A, for example, reacts in the laser of the first wavelength band λ1, and the second layer L2. ) Or the telephone circuit pattern patterned on the second layer L2 may react with the laser of the second wavelength band λ2.

따라서, 기판(10A)이 건조/경화유닛(300)으로 이송되면, 먼저, 제1파장 대역(λ1)의 레이저가 펄스 발생기(320)에 의해 생성되는 레이저 펄스에 따라 제1레이어(L1)로 조사되어, 제1레이어(L1)의 전자회로 패턴이 건조/경화된다. 이후, 제2파장 대역(λ2)의 레이저가 가변 파장 레이저 발생기(310)로부터 발생되고, 이 레이저가 펄스 발생기(320)에 의해 생성되는 레이저 펄스에 따라 제2레이어(L2)로 조사된다. 이 때, 제2파장 대역(λ1)의 레이저는 제1레이어(L1)에는 반응하지 않고, 제2레이어(L2)에만 반응하므로, 제2레이어(L2)를 패터닝하여 형성된 전자회로 패턴이 건조/경화된다.Therefore, when the substrate 10A is transferred to the drying / curing unit 300, first, the laser of the first wavelength band λ 1 is moved to the first layer L1 according to the laser pulse generated by the pulse generator 320. Irradiated, the electronic circuit pattern of the first layer L1 is dried / cured. Subsequently, a laser of the second wavelength band λ 2 is generated from the variable wavelength laser generator 310, and the laser is irradiated to the second layer L 2 according to the laser pulse generated by the pulse generator 320. At this time, since the laser of the second wavelength band λ1 does not react to the first layer L1 but only to the second layer L2, the electronic circuit pattern formed by patterning the second layer L2 is dried / Cures.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 건조 및 경화시킬 계층에 맞는 파장 대역의 레이저 펄스를 이용하여 건조 및 경화 시키되, 다 계층 기판으로 이루어진 경우에는 레이저 펄스의 에너지 밀도를 조절하여 기판으로 침투되는 정도를 조절할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the drying and curing using a laser pulse of the wavelength band suitable for the layer to be dried and cured, in the case of a multi-layered substrate to adjust the energy density of the laser pulse to penetrate the substrate I can regulate it.

예를 들면, 상기와 같은 제2파장 대역(λ2)의 레이저 펄스가 제2레이어(L2)에 조사되는 과정에서, 제2파장 대역(λ2)의 레이저 펄스의 에너지 밀도가 약한 경우 제2레이어(L2)까지 레이저 펄스가 도달되지 않을 수 있는데, 그 에너지 밀도를 보다 강하게 하여 제2레이어(L2)를 건조 및 경화시킬 수 있다.For example, when the laser pulse of the second wavelength band λ2 is irradiated to the second layer L2, when the energy density of the laser pulse of the second wavelength band λ2 is weak, the second layer ( The laser pulse may not be reached until L2), so that the energy density can be made stronger to dry and cure the second layer L2.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 건조 및 경화시킬 계층에 맞는 파장 대역의 레이저 펄스를 이용하여 건조 및 경화 시키되, 다 계층 기판으로 이루어진 경우에는 레이저 펄스의 주기를 조절하여 다계층 기판의 침투 정도를 조절할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the drying and curing using a laser pulse of the wavelength band suitable for the layer to be dried and cured, in the case of a multi-layered substrate to adjust the period of the laser pulse to control the penetration of the multi-layered substrate I can regulate it.

예를 들면, 레이저 펄스의 주기를 길게 하면, 레이저 펄스의 주기를 짧게 한 경우보다 더 깊이 침투할 수 있다.For example, when the period of a laser pulse is extended, it can penetrate deeper than when the period of a laser pulse is short.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 건조 및 경화시킬 계층에 맞는 파장 대역의 레이저 펄스를 이용하여 건조 및 경화 시키되, 다 계층 기판으로 이루어진 경우에는 레이저 펄스의 파장을 조절하여 다 계층 기판의 침투 정도를 조절할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the drying and curing using a laser pulse of the wavelength band corresponding to the layer to be dried and cured, in the case of a multi-layer substrate by adjusting the wavelength of the laser pulse to control the penetration of the multi-layer substrate I can regulate it.

예를 들면, 레이저 펄스의 파장을 짧게 하면, 레이저 펄스의 파장이 긴 경우보다는 더 깊이 침투할 수 있다.For example, shortening the wavelength of a laser pulse can penetrate deeper than when the wavelength of a laser pulse is long.

이상과 같이 본 발명에 따르면, 파장, 레이저 펄스의 주기, 및 에너지 밀도 등을 적어도 어느 하나 이상 조절하여, 다계층 기판을 선택적으로 건조 및 경화시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the wavelength, the period of the laser pulse, the energy density and the like can be adjusted at least one or more, thereby selectively drying and curing the multilayer substrate.

그 외 다른 구성 및 작용효과는 앞서 설명한 본 발명의 제1 및 제2실시예와 동일하므로 도 1 및 도 2와 연관된 참조부호를 부여하여 구체적인 설명을 생략하기로 한다.Other configurations and operation effects are the same as those of the first and second embodiments of the present invention described above, and the detailed description will be omitted by attaching the reference numerals associated with FIGS. 1 and 2.

도 4는 본 발명의 제4실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 건조/경화유닛(400)을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명이 제4실시예에 의한 건조/경화유닛(400)은 다수의 가변 파장 레이저 발생기(410,411,...,N) 및 다수의 펄스 발생기(420,421,...,N)를 구비한다. 건조/경화유닛(400)은 컨베이어를 타고 이송하는 다수의 기판(10A, 11A)에 형성된 각 제1레이어(L1) 내지 제4레이어(L4)에 동시에 또는 순차적으로 제1파장 대역(λ1) 내지 제4파장 대역(λ4)의 레이저 펄스를 조사하여, 제1레이어(L1) 내지 제4레이어(L4) 또는 제1레이어(L1) 내지 제4레이어(L4)에 형성된 패턴이 건조/경화하도록 구성되어 있다.4 is a view schematically showing a drying / curing unit 400 of the apparatus for manufacturing a printed electronic device according to the fourth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the drying / curing unit 400 according to the fourth embodiment of the present invention includes a plurality of variable wavelength laser generators 410, 411,..., N, and a plurality of pulse generators. , N). The drying / curing unit 400 may be formed at the same time or sequentially in each of the first layer L1 to the fourth layer L4 formed on the plurality of substrates 10A and 11A to be transported on a conveyor. By irradiating a laser pulse of the fourth wavelength band (λ4), the pattern formed on the first layer (L1) to the fourth layer (L4) or the first layer (L1) to the fourth layer (L4) is configured to dry / cure It is.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 기판(10A)은 제1파장 대역(λ1)에서 반응하는 제1레이어(L1)와 제2파장 대역(λ2)에서 반응하는 제2레이어(L2)로 구성될 수 있고, 기판(11A)은 제3파장 대역(λ3)에서 반응하는 제3레이어(L3)와 제4파장 대역(λ4)에서 반응하는 제4레이어(L4)로 구성될 수 있다. 가변 파장 레이저 발생기(410)는 제1파장 대역(λ1)의 레이저와 제2파장 대역(λ2)의 레이저를 발생시키고, 가변 파장 레이저 발생기(411)는 제3파장 대역(λ3)의 레이저와 제4파장 대역(λ4)의 레이저를 발생시킬 수 있다. 이러한 경우, 기판(10A)의 제1레이어(L1)와 제2레이어(L2), 그리고, 기판(11A)의 제3레이어(L3)와 제4레이어(L4)는 동시 또는 순차적으로 처리될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the substrate 10A may be composed of a first layer L1 reacting in the first wavelength band λ1 and a second layer L2 reacting in the second wavelength band λ2. The substrate 11A may include a third layer L3 reacting in the third wavelength band λ3 and a fourth layer L4 reacting in the fourth wavelength band λ4. The variable wavelength laser generator 410 generates the laser of the first wavelength band lambda 1 and the laser of the second wavelength band lambda 2, and the variable wavelength laser generator 411 generates the laser of the third wavelength band lambda 3 It is possible to generate a laser of four wavelength bands [lambda] 4. In this case, the first layer L1 and the second layer L2 of the substrate 10A, and the third layer L3 and the fourth layer L4 of the substrate 11A may be processed simultaneously or sequentially. have.

따라서, 특정 파장 대역에서 에너지 밀도가 우수한 레이저를 이용하여 나노 입자들을 건조 및 경화함으로써, 기판의 손상 등 기존의 문제점을 해결할 수 있다. 또한, 레이어로 조사되는 레이저의 펄스를 조절함으로써 기판이 손상되는 문제를 더 방지할 수 있다.Therefore, by drying and curing nanoparticles using a laser having excellent energy density in a specific wavelength band, it is possible to solve existing problems such as damage to the substrate. In addition, the problem of damaging the substrate can be further prevented by adjusting the pulse of the laser irradiated to the layer.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판(10A)과 기판(11A)은 서로 동일하고, 제1레이어(L1)와 제3레이어(L3)가 서로 동일하며, 제2레이어(L2)와 제4레이어(L4)가 서로 동일한 것으로서, 기판(10A)의 제1레이어(L1)가 가변 파장 레이저 발생기(410)에 의해 발생된 레이저에 의해 조사받고, 기판(11A)의 제4레이어(L4)가 다시 가변 파장 레이저 발생기(411)에 의해 발생된 레이저에 의해 조사받을 수 있다. 이러한 경우, 기판(10A 또는 11A)은, 예를 들어, 제1파장 대역(λ1)에서 반응하는 레이어(예를 들어, L1 또는 L3)와 제3파장 대역(λ3)에서 반응하는 레이어(예를 들어, L2 또는 L4)로 구성될 수 있고, 가변 파장 레이저 발생기(410)는 제1파장 대역(λ1) 레이저를 발생시키고, 가변 파장 레이저 발생기(411)는 제3파장 대역(λ3) 레이저를 발생시킬 수 있다. 기판(10A 또는 11A)의 레이어(예를 들어, L1)에는 먼저 가변 파장 레이저 발생기(410)로부터 발생되는 레이저가 조사되고(이로써 제1파장 대역(λ1)에 의해 반응하는 제1레이어(L1)가 처리된다), 이후 가변 파장 레이저 발생기(110)로부터 발생되는 레이저가 조사될 수 있다(이로써, 제3파장 대역(λ3)에 의해 반응하는 제2레이어(L2)가 처리될 수 있다.)According to another embodiment of the present invention, the substrate 10A and the substrate 11A are identical to each other, the first layer L1 and the third layer L3 are identical to each other, and the second layer L2 and the fourth layer are the same. As the layers L4 are identical to each other, the first layer L1 of the substrate 10A is irradiated by the laser generated by the variable wavelength laser generator 410, and the fourth layer L4 of the substrate 11A is irradiated. Again, the laser may be irradiated by the laser generated by the variable wavelength laser generator 411. In this case, the substrate 10A or 11A may be, for example, a layer reacting in the first wavelength band λ1 (eg, L1 or L3) and a layer reacting in the third wavelength band λ3 (eg, For example, L2 or L4, the variable wavelength laser generator 410 generates a first wavelength band (λ1) laser, the variable wavelength laser generator 411 generates a third wavelength band (λ3) laser. You can. The layer (eg, L1) of the substrate 10A or 11A is first irradiated with a laser generated from the variable wavelength laser generator 410 (the first layer L1 reacting by the first wavelength band λ1). The laser generated from the variable wavelength laser generator 110 may then be irradiated (the second layer L2 reacting by the third wavelength band λ3 may be processed).

그외 다른 구성 및 작용효과는 앞서 설명한 본 발명의 제3실시예예 의한 건조/경화유닛과 동일하다. 따라서, 도 3과 연관된 참조부호를 부여하여 구체적인 설명은 생략한다.Other configurations and effects are the same as the drying / curing unit according to the third embodiment of the present invention described above. Therefore, the reference numerals associated with FIG. 3 are assigned to a detailed description thereof.

도 5는 본 발명의 제5실시예에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치의 건조/경화유닛(500)을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제5실시예에 의한 건조/경화유닛(500)은, 하나의 가변 파장 레이저 발생기(510)에 대하여 2개의 펄스 발생기(520, 521)가 연결되어 구성된 것을 특징으로 한다. 여기서, 기판(10A) 상에는 제1파장 대역(λ1)의 레이저에 의해 반응하는 제1레이어(L1)와 제2파장 대역(λ2)의 레이저에 의해 반응하는 제2레이어(L2)가 구성되어 있을 수 있다. FIG. 5 is a view schematically showing a drying / curing unit 500 of a printed electronic device manufacturing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the drying / curing unit 500 according to the fifth embodiment of the present invention includes two pulse generators 520 and 521 connected to one variable wavelength laser generator 510. It features. Here, on the substrate 10A, the first layer L1 reacting with the laser of the first wavelength band λ1 and the second layer L2 reacting with the laser of the second wavelength band λ2 are formed. Can be.

상기와 같은 본 발명의 제5실시예에 의한 건조/경화유닛(500)에 의하면, 가변 파장 레이저 발생기(510)로부터 제1파장 대역(λ1)의 레이저와 제2파장 대역(λ2)의 레이저가 동시에 발생되고, 이와 같이 발생되는 레이저 중 제1파장 대역(λ1)의 레이저는 예를 들어, 제1펄스 발생기(520)에 의해 만들어지는 펄스에 의해 펄스형 레이저, 그리고, 제2파장 대역의 레이저는 제2펄스 발생기(521)에 의해 만들어지는 펄스에 의해 펄스형 레이저로 각각 만들어져, 기판(10A)에 동시에 조사된다. 따라서, 제1레이어(L1)과 제2레이어(L2)은 동시에 건조/경화될 수 있다. According to the drying / curing unit 500 according to the fifth embodiment of the present invention as described above, the laser of the first wavelength band λ 1 and the laser of the second wavelength band λ 2 are converted from the variable wavelength laser generator 510. The laser of the first wavelength band lambda 1, which is generated at the same time and is generated in this way, is, for example, a pulsed laser by a pulse generated by the first pulse generator 520, and a laser of the second wavelength band. Are each made of a pulsed laser by pulses produced by the second pulse generator 521, and are irradiated to the substrate 10A at the same time. Therefore, the first layer L1 and the second layer L2 may be dried / cured at the same time.

즉, 앞서 설명한 제4실시예에서는 제1파장 대역(λ1)의 펄스형 레이저가 기판(10A)의 제1레이어(L1)에 조사된 후 제2파장 대역(λ2)의 레이저 펄스가 기판(10A)의 제2레이어(L2)조사됨으로써, 하나의 기판(10A)에 대한 건조/경화 시간이 길게 소요될 수 있다. That is, in the fourth embodiment described above, after the pulsed laser of the first wavelength band λ1 is irradiated to the first layer L1 of the substrate 10A, the laser pulse of the second wavelength band λ2 is applied to the substrate 10A. By irradiating the second layer L2 of), the drying / curing time for one substrate 10A may be long.

그러나, 본 제5실시예에서는 제1파장 대역(λ1)의 레이저 펄스와 제2파장 대역(λ2)의 레이저 펄스가 기판(10A)의 제1레이어(L1) 및 제2레이어(L2)로 각각 동시에 조사됨으로써, 제1레이어(L1) 및 제2레이어(L2)의 건조/경화시간을 제4실시예에 대비 1/2로 줄일 수 있어, 수율 향상을 도모할 수 있다. 이 때, 제1레이어(L1)로 조사되는 펄스형 레이저의 파장은 제2레이어(L2)에서는 발진하지 않으므로, 제2레이어(L2)는 건조/경화되지 않는다. 또한, 제2레이어(L2)로 조사되는 펄스형 레이저의 파장은 제1레이어(L1)에서는 발진하지 않으므로, 제1레이어(L1)는 건조/경화되지 않는다. 또한, 제1파장 대역(λ1)의 레이저와 제2파장 대역(λ2)의 레이저는 기판(10A)까지 조사되지 않으므로, 기판(10A)의 열화와 같은 손상이 발생하지 않는다.However, in the fifth embodiment, the laser pulses of the first wavelength band λ1 and the laser pulses of the second wavelength band λ2 are respectively directed to the first layer L1 and the second layer L2 of the substrate 10A. By irradiating at the same time, the drying / curing time of the first layer L1 and the second layer L2 can be reduced to 1/2 compared to the fourth embodiment, and the yield can be improved. At this time, since the wavelength of the pulsed laser irradiated to the first layer L1 does not oscillate in the second layer L2, the second layer L2 is not dried / cured. In addition, since the wavelength of the pulsed laser irradiated to the second layer L2 does not oscillate in the first layer L1, the first layer L1 is not dried / cured. In addition, since the laser of the first wavelength band [lambda] 1 and the laser of the second wavelength band [lambda] 2 are not irradiated to the substrate 10A, damage such as deterioration of the substrate 10A does not occur.

그외 다른 구성 및 작용효과는 앞서 설명한 본 발명의 제4실시예와 동일하므로 도 4와 연관된 참조부호를 부여하여 구체적인 설명은 생략한다.Since other configurations and operation effects are the same as those of the fourth embodiment of the present invention, the reference numerals associated with FIG.

도 8과 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 펄스를 이용하여 건조/경화시킨 결과를 나타내는 사진이다.8 and 9 are photographs showing the result of drying / curing using a laser pulse according to an embodiment of the present invention.

도 8은 ITO 나노입자로 패터닝된 기판을 355nm 파장을 가진 레이저 펄스(전력 50mW)를 이용하여 건조 및 경화시킨 결과를 나타낸 사진이다. 도 8을 참조하면, 좌측 사진처럼 패터닝된 파티클 입자들에 대하여 본원 발명의 일 실시예에 따른 레이저 펄스를 인가하면, 도 8의 우측 사진에 나타난 것처럼 경화가 될 수 있음을 보여준다.Figure 8 is a photograph showing the result of drying and curing the substrate patterned with ITO nanoparticles using a laser pulse (power 50mW) having a wavelength of 355nm. Referring to FIG. 8, when the laser pulse according to the exemplary embodiment of the present invention is applied to the particle particles patterned as the left photo, it may be hardened as shown in the right photo of FIG. 8.

도 9는 아연산화물(ZnO)과 산화티탄(TiO2) 나노입자들로 패터닝된 기판을 55nm 파장을 가진 레이저 펄스(전력 50mW)를 이용하여 건조 및 경화시킨 결과를 나타낸 사진이다. 도 9를 참조하면, 좌측 사진처럼 패터닝된 파티클 입자들에 대하여 본원 발명의 일 실시예에 따른 레이저 펄스를 인가하면, 도 9의 우측 사진에 나타난 것처럼 경화가 될 수 있음을 보여준다. 9 is a photograph showing the result of drying and curing a substrate patterned with zinc oxide (ZnO) and titanium oxide (TiO 2) nanoparticles using a laser pulse (power 50 mW) having a wavelength of 55 nm. Referring to FIG. 9, when the laser pulse according to the exemplary embodiment of the present invention is applied to the particle particles patterned as the left picture, it may be hardened as shown in the right picture of FIG. 9.

도 10a 와 10b는 본 발명의 일 실시예에 따른 특정 파장 대역의 레이저를 이용하여 다계층 기판을 건조/경화시킨 결과를 나타내는 사진이다.10A and 10B are photographs showing the result of drying / curing a multilayer substrate using a laser of a specific wavelength band according to an embodiment of the present invention.

도 10a는 폴리머 기판의 위쪽에서 찍은 사진(즉, +z 축에서 -z 축 방향을 바라 보면서 찍은 사진)이고, 도 10b는 도 10a의 단면 방향(즉, +x 방향에서 -x 방향을 바라 보면서 찍은 사진)에서 찍은 AFM(Atomic Force MicroScope) 스캐닝 사진이다.FIG. 10A is a photograph taken from the upper side of the polymer substrate (ie, taken while looking at the -z axis direction from the + z axis), and FIG. 10B is a cross-sectional view of FIG. 10A (that is, looking at the -x direction from the + x direction). AFM (Atomic Force MicroScope) scanning picture taken from the photo taken.

본 실시예는 폴리머 기판상에 패터닝된 메탈 나노 입자를 YAG 레이저(파장 532nm)을 이용하여, 선택적으로 건조 및 경화시킨 것을 나타낸다. 도 10a와 도 10b를 참조하면 알 수 있듯이, 본 발명에 따르면 고분자 기판인 폴리머 기판의 손상 없이 메탈 나노 입자만을 선택적으로 건조 및 경화시킬 수 있다.This example shows that the metal nanoparticles patterned on the polymer substrate are selectively dried and cured using a YAG laser (wavelength 532 nm). 10A and 10B, according to the present invention, only the metal nanoparticles may be selectively dried and cured without damaging the polymer substrate which is the polymer substrate.

도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 특정 파장 대역의 레이저를 이용하여 건조 및 경화시킨 결과를 나타낸 사진이다.11 is a photograph showing the result of drying and curing using a laser of a specific wavelength band according to another embodiment of the present invention.

도 11은 메탈 나노 입자가 패터닝된 기판을 248nm 파장을 가진 Excimer laser를 이용하여 건조 및 경화시킨 것을 나타낸 것으로, 본 발명에 따르면 표면만을 건조 및 경화시킬 수 있다.FIG. 11 illustrates that the substrate on which the metal nanoparticles are patterned is dried and cured using an Excimer laser having a wavelength of 248 nm. According to the present invention, only the surface may be dried and cured.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄 전자 소자 제조 방법이다. 도 12를 참조하면, 본 실시예는 기판에 잉크를 코팅하고(S1201), 다양한 인쇄기법을 사용하여 패터닝하며(S1203), 펄스형 레이저를 조사하여 패터닝된 전자회로 패턴을 건조 및/또는 경화한다(S1205). 펄스형 레이저를 생성하는 단계(S1202)는 상술한 S1205 단계 이전에 수행되며, S1201 또는 S1203과 동시 또는 그전에 수행될 수 있다.12 is a method of manufacturing a printed electronic device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 12, the embodiment coats ink on a substrate (S1201), patterns using various printing techniques (S1203), and irradiates a pulsed laser to dry and / or harden the patterned electronic circuit pattern. (S1205). Generating the pulsed laser (S1202) is performed before the above-described step S1205, and may be performed simultaneously with or before S1201 or S1203.

펄스형 레이저를 생성하는 단계(S1202)는, 펄스형 레이저를 생성하는 레이저 생성기를 사용하여 수행할 수 있다. 다르게는, S1202 단계는 연속형 레이저를 생성하는 레이저 생성기와 펄스 발생기를 사용하여 수행할 수 있다.Generating the pulsed laser (S1202) may be performed using a laser generator for generating a pulsed laser. Alternatively, step S1202 may be performed using a laser generator and a pulse generator to generate a continuous laser.

한편, 펄스형 레이저를 생성하는 단계(S1202)는, 기판에 형성된 전자회로 패턴에 맞는 파장 대역의 레이저를 생성할 수 있다. 예를 들면, 펄스형 레이저를 생성하는 단계(S1202)는, 기판이 제1레이어와 제2레이어로 적층된 다층 기판인 경우, 제1레이어에 맞는 파장 대역의 레이저와, 제2레이어에 맞는 파장 대역의 레이저를 생성하는 것일 수 있다.On the other hand, the step of generating a pulsed laser (S1202), it is possible to generate a laser of the wavelength band corresponding to the electronic circuit pattern formed on the substrate. For example, in operation S1202 of generating a pulsed laser, when the substrate is a multilayer substrate laminated with a first layer and a second layer, a laser having a wavelength band corresponding to the first layer and a wavelength corresponding to the second layer may be used. It may be to generate a laser of the band.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 의한 인쇄 전자 소자 제조장치 및 방법은, 기판에 패터닝된 전자회로 패턴을 건조/경화시키기 위한 소스로 기판의 열변형 등을 유발하는 램프를 사용하지 않고, 기판의 내부에 영향을 끼치지 않은 레이저 펄스를 이용하므로, 기판의 손상으로 인한 불량률을 낮출 수 있으며, 따라서, 수율 향상을 도모할 수 있다.The apparatus and method for manufacturing a printed electronic device according to the present invention as described above is a source for drying / curing an electronic circuit pattern patterned on a substrate, without using a lamp that causes thermal deformation of the substrate, and the like. Since the laser pulse which does not affect the use thereof, the defective rate due to the damage of the substrate can be lowered, so that the yield can be improved.

전술한 실시예들에서, 기판 상에 상하 방향을 따라 두개 층의 레이어가 마련되는 것에 관해 설명하였지만, 레이어의 개수는 3개 이상일 수 있으며, 이러한 경우에도 본 발명의 잉크 경화 시스템이 충분히 적용될 수 있다.In the above-described embodiments, it has been described that two layers are provided on the substrate in the vertical direction, but the number of layers may be three or more, and in this case, the ink curing system of the present invention may be sufficiently applied. .

또한 전술한 실시예들에서, 레이저 발생기와 펄스 발생기가 별도의 기능 블럭으로 도시되어 있으나 이는 예시적인 것으로서, 레이저 발생기와 펄스 발생기가 하나의 장치로 구현되는 것도 가능할 것이다. 예를 들면, 레이저 발생기 자체가 펄스형 레이저를 생성할 수 있다.Also, in the above-described embodiments, the laser generator and the pulse generator are shown as separate functional blocks, but this is merely an example, and the laser generator and the pulse generator may be implemented as one device. For example, the laser generator itself may generate a pulsed laser.

또한, 전술한 실시예들에서, 가변 파장 레이저 발생기와 펄스 발생기가 별도의 기능 블럭으로 도시되어 있으나 이는 예시적인 것으로서, 가변 파장 레이저 발생기와 펄스 발생기가 하나의 장치로 구현되는 것도 가능할 것이다. 예를 들면, 가변 파장 레이저 발생기 자체가 특정 대역의 파장을 가진 펄스형 레이저를 생성할 수 있다.In addition, in the above-described embodiments, the variable wavelength laser generator and the pulse generator are shown as separate functional blocks, but this is merely exemplary, and the variable wavelength laser generator and the pulse generator may be implemented as one device. For example, the variable wavelength laser generator itself can produce a pulsed laser having a wavelength of a particular band.

또한, 전술한 실시예들에서, 펄스 발생기로부터 발생된 펄스형 레이저가 기판으로 직접 조사되는 것으로 도시되어 있으나 이는 예시적인 것으로서, 다른 수단(예를 들면, 레이저를 반사시키는 미러)(미도시)을 거쳐서 기판에 조사되도록 구성되는 것도 가능할 것이다.In addition, in the above-described embodiments, the pulsed laser generated from the pulse generator is shown to be directly irradiated onto the substrate, but this is illustrative, and other means (for example, a mirror reflecting the laser) (not shown) may be used. It may also be configured to irradiate the substrate via.

또한, 전술한 실시예들에서, 기판이 이동하는 것으로 설명되었으나, 기판은 고정되어 있고, 레이저 발생기(또는 가변 파장 레이저 발생기) 및/또는 펄스 발생기가 이동하도록 구성되는 것도 가능할 것이다.Also, in the above embodiments, while the substrate has been described as moving, it may be possible that the substrate is fixed and configured to move the laser generator (or variable wavelength laser generator) and / or the pulse generator.

이상에서, 본 발명은 예시적인 방법으로 설명되었다. 여기서 사용된 용어들은 설명을 위한 것일 뿐 한정의 의미로 이해되어서는 안될 것이다. 상기 내용에 따라 본 발명의 다양한 수정과 변형이 가능하다. 따라서, 따로 부가 언급하지 않는 한 본 발명은 청구범위의 범위 내에서 자유로이 실행될 수 있을 것이다.In the above, the present invention has been described by way of example. It is to be understood that the terminology used herein is for the purpose of description and should not be regarded as limiting. Many modifications and variations of the present invention are possible in light of the above teachings. Accordingly, the invention may be freely practiced within the scope of the claims unless otherwise stated.

10,11,10A;나노 또는 마이크로 입자의 전자회로 패턴이 패터닝된 기판
100,200,300,400,500;건조/경화유닛
110,210;레이저 발생기
310,410,510;가변파장 레이저 발생기
120,220,320,420,421,520;펄스 발생기
130,230,330,430,530;제어기
240;빔 스플리터
A substrate on which an electronic circuit pattern of nano or micro particles is patterned
100,200,300,400,500; drying / curing unit
Laser generator
310,410,510; Variable Wavelength Laser Generator
120,220,320,420,421,520; pulse generator
130,230,330,430,530; controller
240; beam splitter

Claims (9)

기판에 다계층으로 구성된 전자회로 패턴을 형성시키는 패턴인쇄유닛; 및
복수의 레이저들을 발생시켜, 상기 전자회로 패턴을 향해 조사하여 상기 전자회로 패턴을 건조 및 경화시키는 건조/경화유닛;을 포함하며,
상기 전자회로 패턴을 향해 조사되는 복수의 레이저들은 펄스형 레이저로서 상기 다계층을 구성하는 각각의 계층에 반응하는 파장 대역을 각각 가지고 있으며, 상기 기판을 손상시키지 않도록 상기 펄스형 레이저들 각각의 펄스 주기가 조절된 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조 장치.
A pattern printing unit for forming an electronic circuit pattern composed of multiple layers on a substrate; And
And a drying / curing unit generating a plurality of lasers and irradiating toward the electronic circuit pattern to dry and cure the electronic circuit pattern.
The plurality of lasers irradiated toward the electronic circuit pattern each have a wavelength band corresponding to each layer constituting the multi-layer as a pulsed laser, and a pulse period of each of the pulsed lasers does not damage the substrate. Printed electronic device manufacturing apparatus characterized in that the adjusted.
제1항에 있어서,
상기 건조/경화유닛은,
상기 복수의 레이저들을 발생시키는 가변 파장 레이저 발생기; 및
상기 가변 파장 레이저 발생기에 의해 발생되는 복수의 레이저들 중에서 어느 하나의 레이저를 펄스형 레이저로 만들어 상기 기판의 전자회로 패턴에 조사하는 제1 펄스 발생기; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조장치.
The method of claim 1,
The drying / curing unit,
A variable wavelength laser generator for generating the plurality of lasers; And
A first pulse generator configured to irradiate an electronic circuit pattern of the substrate by using any one of a plurality of lasers generated by the variable wavelength laser generator as a pulsed laser; Printed electronic device manufacturing apparatus comprising a.
제2항에 있어서,
상기 건조/경화유닛은,
상기 가변 파장 레이저 발생기에 의해 발생되는 복수의 레이저들 중에서 다른 하나의 레이저를 펄스형 레이저로 만들어 상기 기판의 전자회로 패턴에 조사하는 제2 펄스 발생기; 및
상기 가변 파장 레이저 발생기에 의해 발생되는 레이저를 상기 제1 펄스 발생기와 상기 제2 펄스 발생기로 분배하기 위한 스플리터; 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조장치.
The method of claim 2,
The drying / curing unit,
A second pulse generator configured to irradiate an electronic circuit pattern of the substrate by making another laser among the plurality of lasers generated by the variable wavelength laser generator into a pulsed laser; And
A splitter for distributing a laser generated by the variable wavelength laser generator to the first pulse generator and the second pulse generator; Printed electronic device manufacturing apparatus characterized in that it further comprises.
제2항에 있어서,
상기 건조/경화유닛은,
상기 가변 파장 레이저가 발생되는 레이저들이 각각 가지는 파장 대역을 상기 다계층을 구성하는 각각의 계층에 반응하도록 조절하는 제어기;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조장치.
The method of claim 2,
The drying / curing unit,
And a controller for adjusting the wavelength band of each of the lasers to which the variable wavelength laser is generated to respond to each layer constituting the multi-layer.
제4항에 있어서,
상기 제어기는, 또한,
상기 제1 펄스 발생기가 만드는 펄스형 레이저의 펄스 주기를 조절하여, 상기 기판을 손상시키지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조장치.
The method of claim 4, wherein
The controller also,
And controlling the pulse period of the pulsed laser produced by the first pulse generator so as not to damage the substrate.
기판에 다계층으로 구성된 전자회로 패턴을 형성시키는 단계;
상기 다계층을 구성하는 각각의 계층에 반응하는 파장 대역을 가진 복수의 레이저들을 발생시키는 단계;
상기 복수의 레이저들을 상기 전자회로 패턴을 향해 조사하여 상기 전자회로 패턴을 건조 및 경화시키는 단계;를 포함하며,
상기 전자회로 패턴을 향해 조사되는 복수의 레이저들은 모두 펄스형 레이저이고, 상기 기판을 손상시키지 않도록 상기 펄스형 레이저들 각각의 주기가 조절된 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조방법.
Forming an electronic circuit pattern composed of multiple layers on a substrate;
Generating a plurality of lasers having a wavelength band responsive to each layer constituting the multi-layer;
And irradiating the plurality of lasers toward the electronic circuit pattern to dry and harden the electronic circuit pattern.
The plurality of lasers irradiated toward the electronic circuit pattern are all pulsed lasers, and the period of each of the pulsed lasers is adjusted so as not to damage the substrate.
제6항에 있어서,
상기 복수의 레이저들을 발생시키는 단계에서 발생된 복수의 레이저들은 가변 파장 레이저 발생기에 의해서 만들어진 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조 방법.
The method of claim 6,
And a plurality of lasers generated in the step of generating the plurality of lasers are made by a variable wavelength laser generator.
제6항에 있어서,
상기 건조 및 경화시키는 단계는 상기 다계층을 구성하는 계층들 중에서 제1 레이어에 제1 펄스형 레이저를 조사하고 난 후에, 상기 다계층을 구성하는 계층들 중에서 제2 레이어에 제2 펄스형 레이저를 조사하는 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조 방법.
The method of claim 6,
The drying and curing may include irradiating a first pulsed laser to a first layer among the layers constituting the multi-layer, and then applying a second pulsed laser to the second layer among the layers constituting the multi-layer. A method of manufacturing a printed electronic device, characterized by irradiating.
제6항에 있어서,
상기 건조 및 경화시키는 단계는 상기 다계층을 구성하는 계층들 중에서 제1 레이어에 상기 펄스형 레이저들 중의 하나인 제1 펄스형 레이저를 조사하며, 이와 동시에 상기 다계층을 구성하는 계층들 중에서 제2 레이어에 상기 펄스형 레이저들 중의 다른 하나인 제2 펄스형 레이저를 조사하는 것을 특징으로 하는 인쇄 전자 소자 제조 방법.
The method of claim 6,
The drying and curing may include irradiating a first pulsed laser, which is one of the pulsed lasers, to a first layer among the layers constituting the multi-layer, and at the same time a second of the layers constituting the multi-layer. And irradiating a second pulsed laser, which is another one of the pulsed lasers, to the layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH11289149A (en) * 1998-04-06 1999-10-19 Hitachi Ltd Manufacturing device for thin electronic circuit component, and the thin electronic circuit component
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