KR101064492B1 - Apparatus for manufacturing optical film - Google Patents

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KR101064492B1
KR101064492B1 KR1020100127477A KR20100127477A KR101064492B1 KR 101064492 B1 KR101064492 B1 KR 101064492B1 KR 1020100127477 A KR1020100127477 A KR 1020100127477A KR 20100127477 A KR20100127477 A KR 20100127477A KR 101064492 B1 KR101064492 B1 KR 101064492B1
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film
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heating
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윤동원
박찬훈
경진호
손영수
김병인
이성휘
박희창
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한국기계연구원
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Abstract

본 발명은 미세패턴을 형성하는 핫엠보싱 분야로서, 필름에 미세패턴을 형성하는 과정에서 필름을 미리 예열한 후 인쇄시에 천이온도로 가열하거나, 필름을 천이온도로 가열한 후 인쇄시에 필름을 강제 냉각하는 열 가변형 핫 엠보싱 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명에 의하면, 필름을 인쇄하기 전에 미리 가열(pre heating)하고 인쇄시 최종 가열하여 패턴을 형성함으로, 가열을 위한 두 개의 롤에 필름 인쇄에 필요한 열을 분산시킬 수 있어 두 개의 롤의 초기 예열 시간을 단축할 수 있고, 필름의 미세패턴 형성을 정밀하게 한다.
또한, 인쇄하기 전에 필름을 미리 천이온도로 가열하고 인쇄시 냉각하면서 패턴을 형성하면 불량율이 감소되는 효과가 있다.The present invention is a field of hot embossing to form a fine pattern, and in the process of forming a fine pattern on the film, the film is preheated in advance and then heated to a transition temperature during printing, or the film is heated to a transition temperature after printing. Thermally variable hot embossing apparatus and method for forced cooling, according to the present invention, a film is printed on two rolls for heating by pre-heating the film before printing and finally heating the print to form a pattern. Dissipation of necessary heat can reduce the initial preheating time of the two rolls and precisely form the micropattern of the film.
In addition, there is an effect that the defect rate is reduced by forming a pattern while heating the film to a transition temperature before printing and cooling during printing.

Description

열 가변형 핫 엠보싱 장치{Apparatus for manufacturing optical film}Thermally variable hot embossing device {Apparatus for manufacturing optical film}

본 발명은 미세패턴을 형성하는 핫엠보싱 분야로서, 필름에 미세패턴을 형성하는 과정에서 필름을 미리 예열한 후 인쇄시에 천이온도로 가열하거나, 필름을 천이온도로 가열한 후 인쇄시에 필름을 강제 냉각하는 열 가변형 핫 엠보싱 장치에 관한 것이다.The present invention is a field of hot embossing to form a fine pattern, and in the process of forming a fine pattern on the film, the film is preheated in advance and then heated to a transition temperature during printing, or the film is heated to a transition temperature after printing. It relates to a thermally variable hot embossing device for forced cooling.

일반적으로 액정표시장치는 액정을 제어하여 소정의 이미지, 정보를 구현하는 액정표시어셈블리, 상기 액정표시어셈블리에 구현된 이미지, 정보 등을 볼 수 있도록 광을 공급하는 백라이팅 유닛을 포함하여 이루어지게 된다.In general, the liquid crystal display device includes a liquid crystal display assembly for controlling a liquid crystal to implement a predetermined image and information, and a backlighting unit for supplying light to view an image, information, and the like implemented in the liquid crystal display assembly.

한편, 영상표시장치의 성능은 광학필름을 사용하는 백라이트 유닛의 성능에 크게 영향을 받는다.On the other hand, the performance of the image display device is greatly affected by the performance of the backlight unit using the optical film.

이는 광학필름을 통해 빛을 반사하거나 투과시켜 빛의 양을 조절하는 방식이 기본이 되기 때문으로 박막 광학필름을 영상표시수단에 효과적으로 적용하기 위해 광학적 성능이 우수한 다양한 광학필름이 제시되어 왔다.This is because a method of controlling the amount of light by reflecting or transmitting light through the optical film is the basis, and various optical films having excellent optical performance have been proposed to effectively apply the thin film optical film to the image display means.

통상적으로 광학필름에는 한쪽 면에 미세패턴의 구조화 표면을 갖고 다른 한쪽면에 매끄러운 면을 갖는 투명한 중합체 물질로 이루어져 있다.Optical films typically consist of a transparent polymeric material having a micropattern structured surface on one side and a smooth side on the other side.

상기 광학필름에 형성되는 미세패턴은 평행으로 나란히 나열된 소형의 직각이등변 프리즘의 선형 배열을 포함하여 광학필름의 길이에 걸치는 복수의 피크와 홈을 형성하고, 수직면은 필름이 평면에 위치할 경우 인접한 매끄러운 면에 대하여 약 45도의 각을 이루는 게 가장 보편적인 것이다.The micropattern formed on the optical film forms a plurality of peaks and grooves over the length of the optical film, including a linear array of small right-angled isosceles prisms arranged in parallel, and the vertical plane is adjacent smooth when the film is placed in a plane. It is most common to have an angle of about 45 degrees to the plane.

상기 미세패턴을 가진 광학필름의 제조방법으로는 마스터 몰드와 필름모재를 가열하고 압착시켜 미세패턴을 형성하는 핫엠보싱 방법과 마스터 상에 자외선 경화도료를 코팅한 다음 필름모재의 표면을 압착시킨 후 자외선을 조사하여 필름모재로 미세패턴을 전사하는 자외선 경화형 엠보싱 방법이 있다.As a method of manufacturing an optical film having the fine pattern, a hot embossing method of forming a fine pattern by heating and compressing a master mold and a film base material and coating an ultraviolet curable coating on the master, and then compressing the surface of the film base material and then compressing the ultraviolet ray There is a UV curable embossing method for transferring the fine pattern to the film base material by irradiating.

여기서 핫엠보싱 방법은 통상적으로 필름을 가열하는 부분과 인쇄하는 부분이 동일하여 패턴이 형성되고 난 후 열기가 잔재되어 패턴이 뭉개지거나 하는 등의 이유로 불량품이 생산되는 경우가 빈번하였다.In the hot embossing method, the defective part is frequently produced due to the heat of the film remaining after the pattern is formed because the part for heating the film and the part for printing are the same.

본 발명의 목적은 필름에 미세패턴을 형성하는 핫엠보싱 분야에 있어서, 필름을 인쇄하기 전에 필름의 천이온도에 근접되게 미리 충분한 열을 가하여 예열하고 인쇄시에 천이온도에 도달하도록 최종적으로 가열한 후 패턴을 형성하거나,SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is in the field of hot embossing, in which fine patterns are formed on a film, before the film is printed, preheated by applying sufficient heat in advance close to the transition temperature of the film and finally heated to reach the transition temperature at the time of printing. Form a pattern,

필름을 천이온도로 가열한 후 인쇄시에 필름을 강제 냉각하면서 패턴을 형성하는 등의 동작을 하는 본 발명에 따른 열 가변형 핫 엠보싱 장치 및 방법을 제공함으로써 두 가지 이상의 동작을 하나의 시스템에서 필요에 따라 선택 가능하게 하려는 데 있다.By providing a heat-variable hot embossing apparatus and method according to the present invention which heats a film to a transition temperature and forms a pattern while forcibly cooling the film at the time of printing, two or more operations are required in one system. To make it selectable.

상기와 같은 본 발명의 목적은, The object of the present invention as described above,

공급되는 원재를 가열하는 메인 가열부와, 상기 메인 가열부를 경유한 원재에 패턴을 형성하는 패턴형성부로 구성되는 핫 엠보싱부;를 포함하며,And a hot embossing part including a main heating part for heating the supplied raw material and a pattern forming part for forming a pattern on the raw material via the main heating part.

상기 핫 엠보싱부는,The hot embossing unit,

상기 메인 가열부에 의해 가열된 원재를 패턴형성부에서 추가로 가열하여 패턴을 형성하는 제1 모드,A first mode in which the raw material heated by the main heating unit is further heated in the pattern forming unit to form a pattern;

상기 메인 가열부에 의해 가열된 원재를 패턴형성부에서 냉각하며 패턴을 형성하는 제2 모드,A second mode of forming a pattern by cooling the raw material heated by the main heating unit in a pattern forming unit;

상기 메인 가열부에 의해 가열된 원재를 패턴형성부에서 패턴을 형성하는 제3 모드 중 어느 하나의 모드로 구동되는 것을 특징으로 하는 열 가변형 핫 엠보싱 장치에 의해 달성된다.The raw material heated by the main heating unit is achieved by a heat-variable hot embossing apparatus, characterized in that driven in any one of the third mode of forming a pattern in the pattern forming unit.

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본 발명에 의하면, 필름을 인쇄하기 전에 미리 가열(pre heating)하고 인쇄시 최종 가열하여 패턴을 형성함으로, 가열을 위한 두 개의 롤에 필름 인쇄에 필요한 열을 분산시킬 수 있어 두 개의 롤의 초기 예열 시간을 단축할 수 있고, 필름의 미세패턴 형성을 정밀하게 한다.According to the present invention, by pre-heating the film before printing the film and final heating at the time of printing to form a pattern, it is possible to disperse the heat required for film printing in two rolls for heating, so that the initial preheating of the two rolls Time can be shortened and fine pattern formation of a film is made precise.

또한, 인쇄하기 전에 필름을 미리 천이온도로 가열하고 인쇄시 냉각하면서 패턴을 형성하면 불량율이 감소되는 효과가 있다.In addition, there is an effect that the defect rate is reduced by forming a pattern while heating the film to a transition temperature before printing and cooling during printing.

또한, 이상의 두 가지 공정은 하나의 시스템에서 필요에 따라 전환가능하다.In addition, the above two processes can be converted as needed in one system.

도 1은 본 발명에 따른 열 가변형 핫 엠보싱 장치의 개념도,
도 2는 도 1의 구성도로서 제1 모드의 예를 나타낸 도면,
도 3은 도 1의 구성도로서 제2 모드의 예를 나타낸 도면,
도 4는 도 1의 구성도로서 제3 모드의 예를 나타낸 도면,
도 5는 본 발명의 따른 열 가변형 핫 엠보싱 방법의 순서도.1 is a conceptual diagram of a thermally variable hot embossing apparatus according to the present invention;
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a first mode as a configuration diagram of FIG. 1;
3 is a configuration diagram of FIG. 1, showing an example of a second mode;
4 is a configuration diagram of FIG. 1 showing an example of a third mode;
5 is a flow chart of a thermally variable hot embossing method according to the present invention.

본 발명은 미세패턴을 형성하는 핫 엠보싱 분야로서, 필름에 미세패턴을 형성하는 과정에서 필름을 미리 예열한 후 인쇄시에 천이온도에 도달하도록 추가로 가열하거나, 필름을 천이온도로 가열한 후 인쇄시에 필름을 강제 냉각하면서 패턴을 형성하는 열 가변형 핫 엠보싱 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 열 가변형 핫 엠보싱 장치는 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 공급되는 원재(100)를 가열하는 메인 가열부(10)와, 상기 메인 가열부(10)를 경유한 원재(100)에 패턴을 형성하는 패턴형성부(20)로 구성되는 핫 엠보싱부(30);를 포함하되, The present invention is a hot embossing field for forming a fine pattern, the film is preheated in the process of forming a fine pattern in the film and then further heated to reach the transition temperature during printing, or the film is heated to the transition temperature after printing The thermally variable hot embossing apparatus and method for forming a pattern while forcibly cooling the film at the time, the thermally variable hot embossing apparatus according to an embodiment of the present invention is a raw material 100 is supplied as shown in Figs. Hot embossing unit 30 consisting of a main heating unit 10 for heating a) and a pattern forming unit 20 for forming a pattern on the raw material 100 via the main heating unit 10; ,

상기 핫 엠보싱부(30)는, 상기 메인 가열부(10)에 의해 가열된 원재(100)를 패턴형성부(20)에서 추가로 가열하여 패턴을 형성하는 제1 모드와, 상기 메인 가열부(10)에 의해 가열된 원재(100)를 패턴형성부(20)에서 냉각하며 패턴을 형성하는 제2 모드와, 상기 메인 가열부(10)에 의해 가열된 원재(100)를 패턴형성부(20)에서 패턴을 형성하는 제3 모드 중 어느 하나의 모드로 구동되는 것을 특징으로 한다.The hot embossing unit 30 may further include a first mode in which the raw material 100 heated by the main heating unit 10 is further heated in the pattern forming unit 20 to form a pattern, and the main heating unit ( The second mode of cooling the raw material 100 heated by the 10 in the pattern forming unit 20 to form a pattern, and the raw material 100 heated by the main heating unit 10 to the pattern forming unit 20 ) Is driven in any one of the third modes forming a pattern.

여기서 원재(100)는 필름일 수 있고, 상기 패턴형성부(20)는 도 2에 도시한 바와 같이 보조 가열부(21a)가 구비된 패턴롤(21)과; 냉각 장치(22a)가 구비된 가압롤(22);로 구성되는 것이 특징이다.Here, the raw material 100 may be a film, and the pattern forming unit 20 may include a pattern roll 21 having an auxiliary heating unit 21a as shown in FIG. 2; It is characterized by consisting of; a pressing roll 22 is provided with a cooling device (22a).

상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 열 가변형 핫 엠보싱 장치는 도 2 내지 도 4에 도시한 바와 같은 모드 중 선택되는 어느 하나의 모드로 실행 가능하다.The thermally variable hot embossing apparatus according to the present invention having the above configuration can be executed in any one mode selected from the modes shown in FIGS. 2 to 4.

즉, 제1 모드는 메인 가열부(10)의 1차 가열과 보조 가열부(21a)의 2차 가열로 원재(100)를 천이온도에 도달하게 하여 패턴을 형성하는 것으로서, 구체적으로 상기 원재(100)의 천이온도 도달은 도 2에 도시한 바와 같이 메인 가열부(10)에서 85 ~ 95%, 보조 가열부(21a)에서 5 ~ 15%의 가열로 이루어진다. 예컨대, 원재(100)의 천이온도가 100℃라면 메인 가열부(10)는 천이온도의 85 ~ 95%로 원재(100)를 예열한다. 즉, 원재(100)의 온도를 85 ~ 95℃까지 가열하는 것이고, 보조 가열부(21a)는 메인 가열부(10)로부터 예열된 원재(100)를 천이온도까지 최종가열하는 구성으로 메인 가열부(10)로부터 원재(100)가 85℃이 가열되었다면 천이온도로 되기 위한 나머지 온도를 추가적으로 가열한다.That is, the first mode is to form a pattern by allowing the raw material 100 to reach the transition temperature by the primary heating of the main heating unit 10 and the secondary heating of the auxiliary heating unit 21a. As shown in FIG. 2, the transition temperature of 100 may be 85 to 95% of heating in the main heating unit 10 and 5 to 15% of heating in the auxiliary heating unit 21a. For example, if the transition temperature of the raw material 100 is 100 ° C, the main heating unit 10 preheats the raw material 100 to 85 to 95% of the transition temperature. That is, the temperature of the raw material 100 is heated to 85 ~ 95 ℃, the auxiliary heating unit (21a) is a configuration that the final heating of the raw material 100 preheated from the main heating unit 10 to the transition temperature to the main heating unit If the raw material 100 from 85 (10) is heated to 85 ℃ additional heating the remaining temperature to become a transition temperature.

제2 모드는 메인 가열부(10)에서 원재(100)를 천이온도에 도달하게 하고, 가압롤(22)의 냉각장치(22a)로 원재(100)를 강제 냉각하여 패턴을 형성하는 것으로, 이는 도 3에 도시한 바와 같이 메인 가열부(10)는 ON되고, 보조 가열부(21a)는 OFF된 상태이며, 냉각장치(22a)는 ON된 상태이다. 즉, 메인 가열부(10)로부터 천이온도에 도달된 원재(100)를 패턴형성부(20)에서 강제 냉각하면서 패턴을 형성하면 기존의 패턴이 형성되고 난 후 열기가 잔재되어 패턴이 뭉개지거나 하는 등의 이유로 불량품이 생산되는 경우를 방지할 수 있다.The second mode is to allow the raw material 100 to reach the transition temperature in the main heating unit 10, and forcibly cools the raw material 100 with the cooling device 22a of the pressure roll 22 to form a pattern. As shown in FIG. 3, the main heating unit 10 is turned on, the auxiliary heating unit 21a is turned off, and the cooling device 22a is turned on. That is, when the pattern is formed while forcibly cooling the raw material 100 that has reached the transition temperature from the main heating unit 10 in the pattern forming unit 20, after the existing pattern is formed, heat remains and the pattern is crushed. For example, it is possible to prevent the production of defective products.

제3 모드는 메인 가열부(10)에서 원재(100)를 천이온도에 도달하게 하고, 가압롤(22)의 냉각장치(22a)는 OFF된 상태로서, 가압롤(22)이 노멀(Nomal)한 상태에 있게 하여 강제 냉각이 아닌 자연적으로 원재(100)를 냉각하는 방식이다.The third mode causes the raw material 100 to reach the transition temperature in the main heating unit 10, and the cooling device 22a of the pressure roll 22 is turned off, so that the pressure roll 22 is normal. In this state, the raw material 100 is naturally cooled instead of forced cooling.

본 발명은 상기 제2 모드의 강제 냉각을 선택할지, 제3 모드와 같이 자연적으로 냉각할지는 작업조건과 주위 환경에 따라 달리 선택할 수 있다.
According to the present invention, the forced cooling of the second mode or the natural cooling of the third mode may be selected depending on the working conditions and the surrounding environment.

한편, 본 발명의 다른 카테고리로서, 본 발명에 따른 열 가변형 핫 엠보싱 방법은 공급되는 원재를 가열하는 메인 가열단계(S100)와, 상기 메인 가열단계(S100)에 의해 가열된 원재에 패턴을 형성하는 패턴형성단계(S200)로 이루어지는 핫 엠보싱 단계(S300);를 포함하며,On the other hand, as another category of the present invention, the heat-variable hot embossing method according to the present invention is to form a pattern on the raw material heated by the main heating step (S100) and the main heating step (S100) for heating the raw material to be supplied. It includes; hot embossing step (S300) consisting of a pattern forming step (S200),

상기 핫 엠보싱 단계(S300)는 상기 메인 가열단계(S100)에 의해 가열된 원재를 패턴형성단계(S200)에서 추가로 가열하여 패턴을 형성하는 제1 모드 단계와, 상기 메인 가열단계(S100)에 의해 가열된 원재를 패턴형성단계(S200)에서 냉각하며 패턴을 형성하는 제2 모드 단계와, 상기 메인 가열단계(S100)에 의해 가열된 원재를 패턴형성단계(S200)에서 패턴을 형성하는 제3 모드 단계 중 어느 하나의 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The hot embossing step (S300) is a first mode step of forming a pattern by further heating the raw material heated by the main heating step (S100) in the pattern forming step (S200), and in the main heating step (S100) A second mode step of cooling the raw material heated by the pattern forming step S200 and forming a pattern; and a third forming a pattern of the raw material heated by the main heating step S100 in the pattern forming step S200. Characterized in that any one of the mode step.

여기서 상기 제1 모드 단계는 원재를 천이온도에 도달시키기 위하여 원재의 천이온도를 기준으로 메인 가열단계(S100)에서 85 ~ 95%, 패턴형성단계(S200)에서 5 ~ 15%로 원재를 가열하는 것을 특징으로 하고, Wherein the first mode step is to heat the raw material to 85 ~ 95% in the main heating step (S100), 5 ~ 15% in the pattern forming step (S200) based on the transition temperature of the raw material to reach the transition temperature of the raw material Characterized in that,

제2 모드 단계는 메인 가열단계(S100)에서 원재를 천이온도에 도달하게 하고, 패턴형성단계(S200)에서 원재를 강제 냉각하며 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하며,The second mode step is characterized in that the raw material reaches the transition temperature in the main heating step (S100), and forcibly cool the raw material in the pattern forming step (S200) to form a pattern,

제3 모드 단계는 메인 가열단계(S100)에서 원재를 천이온도에 도달하게 하고, 패턴형성단계(S200)에서 원재에 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the third mode step, the raw material reaches the transition temperature in the main heating step S100, and the pattern is formed on the raw material in the pattern forming step S200.

이와 같이 이루어진 본 발명에 따른 열 가변형 핫 엠보싱 방법은 상기 열 가변형 핫 엠보싱 장치와 같은 기술적 사상을 갖으며, 효과 또한 동일하다.
The thermally variable hot embossing method according to the present invention made as described above has the same technical idea as the thermally variable hot embossing device and has the same effect.

이상 본 발명이 양호한 실시예와 관련하여 설명되었으나, 본 발명의 기술 분야에 속하는 자들은 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에 다양한 변경 및 수정을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 실시예는 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 하고, 본 발명의 진정한 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will readily occur to those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, it should be understood that the disclosed embodiments are to be considered in an illustrative rather than a restrictive sense, and that the true scope of the invention is indicated by the appended claims rather than by the foregoing description, and all differences within the scope of equivalents thereof, .

10: 메인 가열부 20: 패턴형성부
21: 패턴롤 21a: 보조가열부
22: 가압롤 22a: 냉각장치
30: 핫 엠보싱부 100: 필름10: main heating unit 20: pattern forming unit
21: pattern roll 21a: auxiliary heating unit
22: pressure roll 22a: cooling device
30: hot embossing portion 100: film

Claims (10)

공급되는 원재(100)를 가열하는 메인 가열부(10)와;
상기 메인 가열부(10)를 경유한 원재(100)에 패턴을 형성하도록 보조 가열부(21a)가 구비된 패턴롤(21)과, 냉각 장치(22a)가 구비된 가압롤(22)로 구성되는 패턴형성부(20);
로 구성되는 핫 엠보싱부(30);를 포함하며,
상기 핫 엠보싱부(30)는,
원재(100)를 천이온도에 도달시키기 위하여, 원재(100)의 천이온도를 기준으로 메인 가열부(10)에서 85 내지 95%가 되도록 1차 가열하고, 보조 가열부(21a)에서 5 내지 15%의 가열로 천이온도가 충족되도록 2차 가열하여 원재(100)를 천이온도에 도달시키면서 패턴을 형성하는 제1 모드로 구동되거나,
상기 메인 가열부(10)에서 원재(100)를 천이온도에 도달하게 하고, 가압롤(22)의 냉각장치(22a)로 원재(100)를 강제 냉각하면서 패턴을 형성하는 제2 모드로 구동되거나,
상기 메인 가열부(10)에서 원재(100)를 천이온도에 도달하게 하고, 가압롤(22)의 냉각장치(22a)는 OFF된 상태로 원재(100)를 자연냉각하면서 패턴을 형성하는 제3 모드로 구동되는 것을 특징으로 하는 열 가변형 핫 엠보싱 장치.A main heating unit 10 for heating the raw material 100 to be supplied;
It consists of a pattern roll 21 with an auxiliary heating part 21a and a pressure roll 22 with a cooling device 22a to form a pattern on the raw material 100 via the main heating part 10. A pattern forming unit 20;
It includes; Hot embossing unit 30 is composed of,
The hot embossing unit 30,
In order to reach the transition temperature of the raw material 100, the primary heating is performed to be 85 to 95% in the main heating unit 10 based on the transition temperature of the raw material 100, and 5 to 15 in the auxiliary heating unit 21a. By heating in a second manner so that the transition temperature is satisfied by the heating of%, and the raw material 100 is driven to the first mode to form a pattern while reaching the transition temperature,
In the main heating unit 10 to drive the raw material 100 to reach the transition temperature, is driven in a second mode for forming a pattern while forcibly cooling the raw material 100 by the cooling device 22a of the pressure roll 22 or ,
Third to form a pattern while allowing the raw material 100 to reach the transition temperature in the main heating unit 10, the cooling device 22a of the pressure roll 22 is naturally cooled the raw material 100 in the OFF state Thermally variable hot embossing apparatus, characterized in that driven in the mode. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040095737A (en) * 2003-05-08 2004-11-15 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 Antiglare film, method of producing the same, anti-reflection film, polarizing plate, and image display device

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