KR101055019B1 - 태양광 발전장치 및 이의 제조방법 - Google Patents

태양광 발전장치 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101055019B1
KR101055019B1 KR1020090027876A KR20090027876A KR101055019B1 KR 101055019 B1 KR101055019 B1 KR 101055019B1 KR 1020090027876 A KR1020090027876 A KR 1020090027876A KR 20090027876 A KR20090027876 A KR 20090027876A KR 101055019 B1 KR101055019 B1 KR 101055019B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hole
layer
light absorbing
electrode layer
window
Prior art date
Application number
KR1020090027876A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100109313A (ko
Inventor
이동근
지석재
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020090027876A priority Critical patent/KR101055019B1/ko
Priority to JP2012503326A priority patent/JP2012522393A/ja
Priority to PCT/KR2010/001953 priority patent/WO2010114294A2/ko
Priority to US13/262,413 priority patent/US20120186634A1/en
Priority to EP10759019.2A priority patent/EP2416376A4/en
Priority to CN201080023970.3A priority patent/CN102449780B/zh
Publication of KR20100109313A publication Critical patent/KR20100109313A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101055019B1 publication Critical patent/KR101055019B1/ko
Priority to US14/060,184 priority patent/US20140041725A1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/0445PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
    • H01L31/046PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate
    • H01L31/0463PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate characterised by special patterning methods to connect the PV cells in a module, e.g. laser cutting of the conductive or active layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/0445PV modules or arrays of single PV cells including thin film solar cells, e.g. single thin film a-Si, CIS or CdTe solar cells
    • H01L31/046PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate
    • H01L31/0465PV modules composed of a plurality of thin film solar cells deposited on the same substrate comprising particular structures for the electrical interconnection of adjacent PV cells in the module
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • H01L31/0749Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type including a AIBIIICVI compound, e.g. CdS/CulnSe2 [CIS] heterojunction solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

태양광 발전장치 및 이의 제조방법이 개시된다. 태양광 발전장치는 기판 상에 배치되며, 제 1 관통홈이 형성된 전극층; 상기 전극층 상에 배치되며, 상기 제 1 관통홈에 인접하여 형성되는 제 2 관통홈이 형성된 광 흡수층; 및 상기 광 흡수층 상에 배치되며, 상기 제 2 관통홈에 중첩하는 제 3 관통홈이 형성된 윈도우층을 포함한다.
태양광 발전장치, CIGS, dead, zone

Description

태양광 발전장치 및 이의 제조방법{SOLAR CELL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
실시예는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
최근 에너지의 수요가 증가함에 따라서, 태양광 에너지를 전기에너지로 변환시키는 태양전지에 대한 개발이 진행되고 있다.
특히, 유리기판, 금속 이면 전극층, p형 CIGS계 광 흡수층, 고저항 버퍼층, n형 창층 등을 포함하는 기판 구조의 pn 헤테로 접합 장치인 CIGS계 태양전지가 널리 사용되고 있다.
또한, 이러한 태양전지를 형성하기 위해서, 기계적인 패터닝 공정이 수행될 수 있다. 이때, 패터닝에 의해서 형성되어, 발전에 사용되지 않는 데드 존에 의해서, 태양전지의 발전효율이 감소될 수 있다.
실시예는 향상된 발전 효율을 가지는 태양광 발전장치를 제공하고자 한다.
일 실시예에 따른 태양광 발전장치는 기판 상에 배치되며, 제 1 관통홈이 형성된 전극층; 상기 전극층 상에 배치되며, 상기 제 1 관통홈에 인접하여 형성되는 제 2 관통홈이 형성된 광 흡수층; 및 상기 광 흡수층 상에 배치되며, 상기 제 2 관통홈에 중첩하는 제 3 관통홈이 형성된 윈도우층을 포함한다.
일 실시예에서, 상기 제 2 관통홈의 일 내측면은 상기 제 3 관통홈의 일 내측면과 동일한 평면에 배치된다.
일 실시예에서, 상기 제 1 관통홈, 상기 제 2 관통홈 및 상기 제 3 관통홈은 일 방향으로 연장되는 형상을 가질 수 있다.
일 실시예에 따른 태양광 발전장치는 상기 제 2 관통홈에 배치되며, 상기 윈도우층으로부터 연장되여, 상기 전극층에 접속되는 접속부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제 2 관통홈의 폭은 상기 제 3 관통홈의 폭보다 더 클 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제 2 관통홈 및 상기 제 3 관통홈은 상기 전극층의 상면을 노출할 수 있다.
일 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법은 기판 상에 전극층을 형성하는 단계; 상기 전극층의 일부를 제거하여 제 1 관통홈을 형성하는 단계; 상기 전극 층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 광 흡수층의 일부를 제거하여, 상기 제 1 관통홈에 인접하는 제 2 관통홈을 형성하는 단계; 상기 광 흡수층 상에 윈도우층을 형성하는 단계; 및 상기 윈도우층의 일부를 제거하여, 상기 제 2 관통홈에 중첩하는 제 3 관통홈을 형성하는 단계를 포함한다.
일 실시예에서, 상기 제 2 관통홈의 일 내측면은 상기 제 3 관통홈의 일 내측면과 동일한 평면에 배치된다.
일 실시예에 따르면, 상기 윈도우층을 형성하는 단계에서, 상기 제 2 관통홈의 내측에 도전물질이 채워지고, 상기 제 3 관통홈을 형성하는 단계에서, 상기 도전물질의 일부가 제거될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 제 3 관통홈을 형성하는 단계에서, 상기 광 흡수층의 일부가 제거될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 제 3 관통홈을 형성하는 단계에서, 상기 전극층의 상면이 노출될 수 있다.
실시예에 따른 태양광 발전장치는 상기 제 2 관통홈 및 상기 제 3 관통홈이 서로 중첩되어 형성된다. 이때, 상기 제 2 관통홈은 서로 인접하는 셀들에 포함된 전극들을 연결하기 위한 홈이고, 상기 제 3 관통홈은 서로 인접하는 셀들을 분리하기 위한 홈일 수 있다.
또한, 상기 제 2 관통홈 및 상기 제 3 관통홈은 광을 전기에너지로 변환시킬 수 없는 비활성영역이다. 이때, 상기 제 2 관통홈 및 상기 제 3 관통홈은 서로 중 첩되기 때문에, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 비활성영역의 면적을 감소시킬 수 있다.
따라서, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 향상된 발전 효율을 가진다.
또한, 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법은 상기 제 2 관통홈에 중첩하여 상기 제 3 관통홈을 형성한다.
따라서, 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법은 셀들을 분리하기 위해서, 다수의 층들을 패터닝할 필요가 없다. 즉, 상기 제 2 관통홈에 상기 윈도우층을 이루는 물질이 채워지고, 상기 제 3 관통홈을 형성하기 위해서, 상기 윈도우층을 이루는 물질만으로 이루진 층이 제거된다.
따라서, 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법은 하나의 물질로 이루어진 층을 제거하여, 상기 제 2 관통홀을 형성할 수 있으므로, 레이저 등을 사용되어, 효율적으로 상기 제 3 관통홀을 형성할 수 있다.
실시 예의 설명에 있어서, 각 기판, 막, 전극, 홈 또는 층 등이 각 기판, 전극, 막, 홈 또는 층 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.
도 1은 실시예에 따른 태양광 발전장치를 도시한 평면도이다. 도 2는 도 1에서 A부분을 확대하여 도시한 도면이다. 도 3은 도 2에서 B-B`선을 따라서 절단한 단면을 도시한 단면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 태양광 발전장치는 지지기판(100), 이면전극층(200), 광 흡수층(310), 버퍼층(320), 고저항 버퍼층(330), 윈도우층(400) 및 접속부(500)를 포함한다.
상기 지지기판(100)은 플레이트 형상을 가지며, 상기 이면전극층(200), 상기 광 흡수층(310), 상기 윈도우층(400) 및 상기 접속부(500)를 지지한다.
상기 지지기판(100)은 절연체일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 유리기판, 플라스틱기판 또는 금속기판일 수 있다. 더 자세하게, 상기 지지기판(100)은 소다 라임 글래스(soda lime glass) 기판일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 투명할 수 있다. 상기 지지기판(100)은 리지드하거나 플렉서블할 수 있다.
상기 이면전극층(200)은 상기 지지기판(100) 상에 배치된다. 상기 이면전극층(200)은 도전층이다. 상기 이면전극층(200)으로 사용되는 물질의 예로서는 몰리브덴 등의 금속을 들 수 있다.
또한, 상기 이면전극층(200)은 두 개 이상의 층들을 포함할 수 있다. 이때, 각각의 층들은 같은 금속으로 형성되거나, 서로 다른 금속으로 형성될 수 있다.
상기 이면전극층(200)에는 제 1 관통홈(TH1)이 형성된다. 상기 제 1 관통홈(TH1)은 상기 지지기판(100)의 상면을 노출하는 오픈 영역이다. 상기 제 1 관통홈(TH1)은 평면에서 보았을 때, 일 방향으로 연장되는 형상을 가질 수 있다.
상기 제 1 관통홈(TH1)의 폭은 약 30㎛ 내지 약 60㎛ 일 수 있다.
상기 제 1 관통홈(TH1)에 의해서, 상기 이면전극층(200)은 다수 개의 이면전극들(210, 220...)로 구분된다. 즉, 상기 제 1 관통홈(TH1)에 의해서, 상기 이면전극들(210, 220...)이 정의된다.
상기 이면전극들(210, 220...)은 상기 제 1 관통홈(TH1)에 의해서 서로 이격된다. 상기 이면전극들(210, 220...)은 스트라이프 형태로 배치된다. 상기 이면전극들(210, 220...)은 각각의 셀에 대응한다.
이와는 다르게, 상기 이면전극들(210, 220...)은 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 1 관통홈(TH1)은 평면에서 보았을 때, 격자 형태로 형성될 수 있다.
상기 광 흡수층(310)은 상기 이면전극층(200) 상에 배치된다. 또한, 상기 광 흡수층(310)에 포함된 물질은 상기 제 1 관통홈(TH1)에 채워진다.
상기 광 흡수층(310)은 Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ 화합물을 포함한다. 예를 들어, 상기 광 흡수층(310)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계) 결정 구조, 구리-인듐-셀레나이드계 또는 구리-갈륨-셀레나이드계 결정 구조를 가질 수 있다.
상기 광 흡수층(310)의 에너지 밴드갭(band gap)은 약 1eV 내지 1.8eV일 수 있다.
상기 버퍼층(320)은 상기 광 흡수층(310) 상에 배치된다. 상기 버퍼층(320)은 황화 카드뮴(CdS)를 포함하며, 상기 버퍼층(320)의 에너지 밴드갭은 약 2.2eV 내지 2.4eV이다.
상기 고저항 버퍼층(330)은 상기 버퍼층(320) 상에 배치된다. 상기 고저항 버퍼층(330)은 불순물이 도핑되지 않은 징크 옥사이드(i-ZnO)를 포함한다. 상기 고저항 버퍼층(330)의 에너지 밴드갭은 약 3.1eV 내지 3.3eV이다.
상기 광 흡수층(310), 상기 버퍼층(320) 및 상기 고저항 버퍼층(330)에는 제 2 관통홈(TH2)이 형성된다. 상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 광 흡수층(310), 상기 버퍼층(320) 및 상기 고저항 버퍼층(330)을 관통한다. 또한, 상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 이면전극층(200)의 상면을 노출하는 오픈영역이다.
상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 제 1 관통홈(TH1)에 인접하여 형성된다. 즉, 상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 제 1 관통홈(TH1)에 매우 가깝게 형성된다. 상기 제 1 관통홈(TH1) 및 상기 제 2 관통홈(TH2) 사이의 간격은 약 30㎛ 내지 약 100㎛ 일 수 있다.
상기 제 2 관통홈(TH2)의 폭은 약 100㎛ 내지 약 200㎛ 일 수 있다.
상기 윈도우층(400)은 상기 고저항 버퍼층(330) 상에 배치된다. 상기 윈도우층(400)은 투명하며, 도전층이다. 상기 윈도우층(400)으로 사용되는 물질의 예로서는 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드(Al doped ZnO;AZO) 등을 들 수 있다.
상기 윈도우층(400)에는 제 3 관통홈(TH3)이 형성된다. 상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 이면전극층(200)의 상면을 노출하는 오픈 영역이다. 상기 제 3 관통홈(TH3)의 폭은 상기 제 2 관통홈(TH2)의 폭보다 작다. 예를 들어, 상기 제 3 관통홈(TH3)의 폭은 약 50㎛ 내지 약 100㎛일 수 있다.
상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 제 2 관통홈(TH2)에 대응되는 위치에 형성된 다. 더 자세하게, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 제 2 관통홈(TH2)에 중첩된다. 즉, 평면에서 보았을 때, 상기 제 3 관통홈(TH3)의 일부 또는 전부가 상기 제 2 관통홈(TH2)에 중첩한다.
또한, 상기 제 3 관통홈(TH3)의 내측면 중 일부(401)는 상기 제 2 관통홈(TH2)의 내측면 중 일부(301)와 동일한 평면에 배치된다. 예를 들어, 상기 제 3 관통홈(TH3)의 한쪽 내측면(401)은 상기 제 2 관통홈(TH2)의 한쪽 내측면(301)과 서로 일치한다.
상기 제 3 관통홈(TH3)에 의해서, 상기 윈도우층(400)은 다수 개의 윈도우들(410, 420...)로 구분된다. 즉, 상기 윈도우들(410, 420...)은 상기 제 3 관통홈(TH3)에 의해서 정의된다.
상기 윈도우들(410, 420...)은 상기 이면전극들(210, 220...)과 대응되는 형상을 가진다. 즉, 상기 윈도우들(410, 420...)은 스트라이프 형태로 배치된다. 이와는 다르게, 상기 윈도우들(410, 420...)은 매트릭스 형태로 배치될 수 있다.
상기 윈도우들(410, 420...)은 상기 광 흡수층(310)에 정공을 공급하기 위한 n형 도전층이다. 또한, 상기 윈도우들(410, 420...)은 전극 기능을 수행할 수 있다.
또한, 상기 제 3 관통홈(TH3)에 의해서, 다수 개의 셀들(C1, C2...)이 정의된다. 더 자세하게, 상기 제 2 관통홈(TH2) 및 상기 제 3 관통홈(TH3)에 의해서, 상기 셀들(C1, C2...)이 정의된다. 즉, 상기 제 2 관통홈(TH2) 및 상기 제 3 관통홈(TH3)에 의해서, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 상기 셀들(C1, C2...)로 구분 된다.
상기 접속부(500)는 상기 제 2 관통홈(TH2) 내측에 배치된다. 상기 접속부(500)는 상기 윈도우층(400)으로부터 하방으로 연장되며, 상기 이면전극층(200)에 직접 접촉한다.
따라서, 상기 접속부(500)는 서로 인접하는 셀들에 각각 포함된 윈도우와 이면전극을 연결한다. 즉, 상기 접속부(500)는 제 1 셀(C1)에 포함된 윈도우(410)와 상기 제 1 셀(C1)에 인접하는 제 2 셀(C2)에 포함된 이면전극(220)을 연결한다.
상기 접속부(500)는 상기 윈도우들(410, 420...)과 일체로 형성된다. 즉, 상기 접속부(500)로 사용되는 물질은 상기 윈도우층(400)으로 사용되는 물질과 동일하다.
상기 제 1 관통홈(TH1), 상기 제 2 관통홈(TH2) 및 상기 제 3 관통홈(TH3)은 태양광을 전기에너지로 변환시키는 기능을 수행하지 않는 데드 존(dead zone)이다. 즉, 상기 제 1 관통홈(TH1)에서 상기 제 3 관통홈(TH3)까지의 영역은 비활성영역(NAR)이다.
이때, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 제 2 관통홈(TH2)에 중첩되므로, 상기 비활성영역(NAR)의 면적을 감소시킬 수 있다.
특히, 상기 제 2 관통홈(TH2)의 일 내측면 및 상기 제 3 관통홈(TH3)의 일 내측면이 동일한 평면에 배치된다. 특히, 서로 일치하는 측면들은 데드 존의 외곽과 일치한다. 즉, 상기 제 2 관통홈(TH2) 및 상기 제 3 관통홈(TH3)은 데드 존이 최소화되도록 최적의 위치에 형성된다.
이에 따라서. 실시예에 따른 태양광 발전장치는 태양광을 전기에너지로 변환시키는 활성영역(AR)의 면적을 향상시키고, 향상된 효율을 가진다.
도 4 내지 도 8은 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법을 도시한 단면도들이다. 본 제조방법에 관한 설명은 앞서 설명한 태양광 발전장치에 대한 설명을 참고한다.
도 4를 참조하면, 지지기판(100) 상에 이면전극층(200)이 형성되고, 상기 이면전극층(200)은 패터닝되어 제 1 관통홈(TH1)이 형성된다. 이에 따라서, 상기 기판 상에 다수 개의 이면전극들(210, 220...)이 형성된다. 상기 이면전극층(200)은 레이저에 의해서 패터닝된다.
상기 제 1 관통홈(TH1)은 상기 지지기판(100)의 상면을 노출하며, 약 30㎛ 내지 약 60㎛ 의 폭을 가진다.
또한, 상기 지지기판(100) 및 상기 이면전극층(200) 사이에 확산방지막 등과 같은 추가적인 층이 개재될 수 있고, 이때, 상기 제 1 관통홈(TH1)은 상기 추가적인 층의 상면을 노출하게 된다.
도 5를 참조하면, 상기 이면전극층(200) 상에 광 흡수층(310), 버퍼층(320) 및 고저항 버퍼층(330)이 차례로 형성된다.
상기 광 흡수층(310)은 스퍼터링 공정 또는 증발법 등에 의해서 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 광 흡수층(310)을 형성하기 위해서 구리, 인듐, 갈륨, 셀레 늄을 동시 또는 구분하여 증발시키면서 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계)의 광 흡수층(310)을 형성하는 방법과 금속 프리커서 막을 형성시킨 후 셀레니제이션(Selenization) 공정에 의해 형성시키는 방법이 폭넓게 사용되고 있다.
금속 프리커서 막을 형성시킨 후 셀레니제이션 하는 것을 세분화하면, 구리 타겟, 인듐 타겟, 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정에 의해서, 상기 이면전극(200) 상에 금속 프리커서 막이 형성된다.
이후, 상기 금속 프리커서 막은 셀레이제이션(selenization) 공정에 의해서, 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계)의 광 흡수층(310)이 형성된다.
이와는 다르게, 상기 구리 타겟, 인듐 타겟, 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 상기 셀레니제이션 공정은 동시에 진행될 수 있다.
이와는 다르게, 구리 타겟 및 인듐 타겟 만을 사용하거나, 구리 타겟 및 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 셀레니제이션 공정에 의해서, CIS계 또는 CIG계 광 흡수층(310)이 형성될 수 있다.
이후, 상기 광 흡수층(310) 상에 황화 카드뮴이 스퍼터링 공정 등에 의해서 증착되고, 상기 버퍼층(320)이 형성된다.
이후, 상기 버퍼층(320) 상에 징크 옥사이드가 스퍼터링 공정 등에 의해서 증착되고, 상기 고저항 버퍼층(330)이 형성된다.
도 6을 참조하면, 상기 광 흡수층(310), 상기 버퍼층(320), 상기 고저항 버 퍼층(330)의 일부가 제거되어 제 2 관통홈(TH2)이 형성된다. 상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 광 흡수층(310), 상기 버퍼층(320) 및 상기 고저항 버퍼층(330)을 관통한다.
상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 제 1 관통홈(TH1)에 인접하여 형성된다. 상기 제 2 관통홈(TH2)은 팁 등의 기계적인 장치 또는 레이저 장치 등에 의해서 형성될 수 있다.
예를 들어, 약 40㎛ 내지 180㎛의 폭을 가지는 팁에 의해서, 상기 광 흡수층(310)은 패턴닝될 수 있다. 또한, 상기 제 2 관통홈(TH2)은 약 200 내지 600㎚의 파장을 가지는 레이저에 의해서 형성될 수 있다.
이때, 상기 제 2 관통홈(TH2)의 폭은 약 100㎛ 내지 약 200㎛ 일 수 있다. 또한,상기 제 2 관통홈(TH2)은 상기 이면전극층(200)의 상면의 일부를 노출하도록 형성된다.
도 7을 참조하면, 상기 고저항 버퍼층(330) 상에 윈도우층(400)이 형성된다. 이때, 상기 제 2 관통홈(TH2) 내측에 상기 윈도우층(400)을 이루는 물질이 채워진다.
상기 윈도우층(400)을 형성하기 위해서, 상기 고저항 버퍼층(330) 상에 투명한 도전물질이 적층된다. 상기 투명한 도전물질은 상기 제 2 관통홈(TH2) 전체에 채워진다. 상기 투명한 도전물질의 예로서는 알루미늄 도핑된 징크 옥사이드 등을 들 수 있다.
도 8을 참조하면, 상기 윈도우층(400)의 일부가 제거되어 제 3 관통홈(TH3) 이 형성된다. 즉, 상기 윈도우층(400)은 패터닝되어, 다수 개의 윈도우들(410, 420...) 및 다수 개의 셀들(C1, C2...)이 정의된다.
상기 제 3 관통홈(TH3)이 형성되는 과정에서, 상기 제 2 관통홈(TH2) 내측에 채워진 투명도전물질의 일부가 제거된다. 이에 따라서, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 이면전극층(200)의 상면을 노출한다.
또한, 상기 윈도우층(400)으로부터 연장되어, 상기 이면전극층(200)에 직접 접속되는 접속부(500)가 상기 제 2 관통홈(TH2) 내측에 형성된다.
상기 제 3 관통홈(TH3)은 일 내측면이 상기 제 2 관통홈(TH2)의 일 내측면과 일치하도록 형성된다.
예를 들어, 상기 윈도우층(400) 및 상기 제 2 관통홈(TH2) 내측에 채워진 투명도전물질의 일부는 상기 제 3 관통홈(TH3)의 일 내측면 및 상기 제 2 관통홈(TH2)의 일 내측면이 일치하도록 제거될 수 있다.
이와는 다르게, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 제 3 관통홈(TH3)을 형성하는 과정에서, 상기 윈도우층(400)의 일부 및 상기 광 흡수층(310), 상기 버퍼층(320) 및 상기 고저항 버퍼층(330)의 일부(302)가 함께 제거될 수 있다.
상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 제 2 관통홈(TH2)에 일부 또는 전부가 중첩되도록 형성된다. 상기 제 3 관통홈(TH3)은 팁 등의 기계적인 장치 또는 레이저 장치 등에 의해서 형성될 수 있다.
예를 들어, 약 40㎛ 내지 약 80㎛의 폭을 가지는 팁에 의해서, 상기 윈도우층(400)은 패터닝될 수 있다. 또한, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 약 200 내지 600㎚의 파장을 가지는 레이저에 의해서 형성될 수 있다.
특히, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 상기 투명 도전물질 만을 제거하여 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 한 종류의 물질을 제거하여 형성될 수 있다. 따라서, 상기 제 3 관통홈(TH3)이 레이저에 의해서 형성될 때, 상기 제 3 관통홈(TH3)은 용이하게 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 3 관통홈(TH3)이 형성되기 위해서, 한 종류의 레이저가 적용되어 상기 윈도우층(400)의 일부는 효율적으로 제거될 수 있다.
상기 제 3 관통홈(TH3)의 폭은 약 50㎛ 내지 약 100㎛ 일 수 있다.
위와 같이, 상기 셀들(C1, C2...)을 구분하기 위해서, 여러 층들이 패터닝되지 않고, 한 종류의 물질만이 제거된다.
따라서, 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법은 레이저 패터닝 공정을 효율적으로 적용할 수 있고, 태양광 발전장치를 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 상기 제 2 관통홈(TH2) 및 상기 제 3 관통홈(TH3)은 일부 또는 전부가 중첩되기 때문에, 본 실시예에 따라서, 높은 효율을 가지는 태양광 발전장치가 제공될 수 있다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응 용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 1은 실시예에 따른 태양광 발전장치를 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1에서 A부분을 확대하여 도시한 도면이다.
도 3은 도 2에서 B-B`선을 따라서 절단한 단면을 도시한 단면도이다.
도 4 내지 도 8은 실시예에 따른 태양광 발전장치의 제조방법을 도시한 단면도들이다.

Claims (9)

  1. 기판 상에 배치되며, 제 1 관통홈이 형성된 전극층;
    상기 전극층 상에 배치되며, 상기 제 1 관통홈에 인접하여 형성되는 제 2 관통홈이 형성된 광 흡수층;
    상기 광 흡수층 상에 배치되며, 상기 제 2 관통홈에 중첩하는 제 3 관통홈이 형성된 윈도우층; 및
    상기 제 2 관통홈에 배치되며, 상기 윈도우층으로부터 연장되여, 상기 전극층에 직접 접속되는 접속부를 포함하고,
    상기 전극층은 몰리브덴을 포함하고,
    상기 광 흡수층은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계 화합물을 포함하고,
    상기 윈도우층은 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드를 포함하고,
    상기 제 3 관통홈 전체는 상기 제 2 관통홈에 중첩되고,
    상기 윈도우층 및 상기 접속부는 일체로 형성되는 태양광 발전장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 관통홈의 일 내측면은 상기 제 3 관통홈의 일 내측면과 동일한 평면에 배치되는 태양광 발전장치.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 관통홈의 폭은 상기 제 3 관통홈의 폭보다 더 큰 태양광 발전장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 관통홈 및 상기 제 3 관통홈은 상기 전극층의 상면을 노출하는 태양광 발전장치.
  6. 기판 상에 전극층을 형성하는 단계;
    상기 전극층의 일부를 제거하여 제 1 관통홈을 형성하는 단계;
    상기 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계;
    상기 광 흡수층의 일부를 제거하여, 상기 제 1 관통홈에 인접하는 제 2 관통홈을 형성하는 단계;
    상기 광 흡수층 상에 윈도우층을 형성하는 단계; 및
    상기 윈도우층의 일부를 제거하여, 상기 제 2 관통홈에 중첩하는 제 3 관통홈을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 전극층은 몰리브덴을 포함하고,
    상기 광 흡수층은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계 화합물을 포함하고,
    상기 윈도우층은 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드를 포함하고,
    상기 제 3 관통홈 전체는 상기 제 2 관통홈에 중첩되고,
    상기 윈도우층을 형성하는 단계에서, 상기 제 2 관통홈의 내측에 상기 윈도우층과 동일한 도전물질이 채워지고,
    상기 제 3 관통홈을 형성하는 단계에서, 상기 도전물질의 일부가 기계적인 방식에 의해서 제거되어, 상기 전극층의 상면이 노출되는 태양광 발전장치의 제조방법.
  7. 삭제
  8. 기판 상에 전극층을 형성하는 단계;
    상기 전극층의 일부를 제거하여 제 1 관통홈을 형성하는 단계;
    상기 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계;
    상기 광 흡수층의 일부를 제거하여, 상기 제 1 관통홈에 인접하는 제 2 관통홈을 형성하는 단계;
    상기 광 흡수층 상에 윈도우층을 형성하는 단계; 및
    상기 윈도우층의 일부를 제거하여, 상기 제 2 관통홈에 중첩하는 제 3 관통홈을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 전극층은 몰리브덴을 포함하고,
    상기 광 흡수층은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계 화합물을 포함하고,
    상기 윈도우층은 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드를 포함하고,
    상기 제 3 관통홈의 일부는 상기 제 2 관통홈에 중첩되고,
    상기 윈도우층을 형성하는 단계에서, 상기 제 2 관통홈의 내측에 상기 윈도우층과 동일한 도전물질이 채워지고,
    상기 제 3 관통홈을 형성하는 단계에서, 상기 도전물질의 일부 및 상기 광 흡수층의 일부가 동시에 제거되어, 상기 전극층의 상면이 노출되고,
    상기 제 2 관통홈은
    상기 제 1 관통홈에 인접하는 제 1 측면; 및
    상기 제 1 측면에 대향하고, 상기 제 1 관통홈으로부터 상기 제 1 측면보다 더 멀리 떨어지는 제 2 측면을 포함하고,
    상기 광 흡수층의 일부가 제거되는 단계에서, 상기 제 2 측면이 제거되는 태양광 발전장치의 제조방법.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 제 2 관통홈의 일 내측면은 상기 제 3 관통홈의 일 내측면과 동일한 평면에 배치되는 태양광 발전장치의 제조방법.
KR1020090027876A 2009-03-31 2009-03-31 태양광 발전장치 및 이의 제조방법 KR101055019B1 (ko)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090027876A KR101055019B1 (ko) 2009-03-31 2009-03-31 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
JP2012503326A JP2012522393A (ja) 2009-03-31 2010-03-30 太陽光発電装置及びその製造方法
PCT/KR2010/001953 WO2010114294A2 (ko) 2009-03-31 2010-03-30 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
US13/262,413 US20120186634A1 (en) 2009-03-31 2010-03-30 Solar cell apparatus and method of fabricating the same
EP10759019.2A EP2416376A4 (en) 2009-03-31 2010-03-30 Solar photovoltaic power generation apparatus and manufacturing method thereof
CN201080023970.3A CN102449780B (zh) 2009-03-31 2010-03-30 太阳能电池装置及其制造方法
US14/060,184 US20140041725A1 (en) 2009-03-31 2013-10-22 Solar cell apparatus and method of fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090027876A KR101055019B1 (ko) 2009-03-31 2009-03-31 태양광 발전장치 및 이의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100109313A KR20100109313A (ko) 2010-10-08
KR101055019B1 true KR101055019B1 (ko) 2011-08-05

Family

ID=43130446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090027876A KR101055019B1 (ko) 2009-03-31 2009-03-31 태양광 발전장치 및 이의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101055019B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101405639B1 (ko) * 2012-07-27 2014-06-11 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조 방법

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101168810B1 (ko) 2010-10-29 2012-07-25 엘지이노텍 주식회사 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101349571B1 (ko) * 2012-04-26 2014-01-17 엘지이노텍 주식회사 태양광 발전장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11195795A (ja) 1998-01-05 1999-07-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 集積型シリコン系薄膜光電変換装置とその製造方法
JP2007005345A (ja) * 2005-06-21 2007-01-11 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 太陽電池モジュール及び太陽電池モジュールの製造方法
WO2008065970A1 (fr) * 2006-11-30 2008-06-05 Sanyo Electric Co., Ltd. Module de cellule solaire et procédé de fabrication de module de cellule solaire

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11195795A (ja) 1998-01-05 1999-07-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 集積型シリコン系薄膜光電変換装置とその製造方法
JP2007005345A (ja) * 2005-06-21 2007-01-11 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 太陽電池モジュール及び太陽電池モジュールの製造方法
WO2008065970A1 (fr) * 2006-11-30 2008-06-05 Sanyo Electric Co., Ltd. Module de cellule solaire et procédé de fabrication de module de cellule solaire

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101405639B1 (ko) * 2012-07-27 2014-06-11 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100109313A (ko) 2010-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101210168B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR100999797B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
EP2416376A2 (en) Solar photovoltaic power generation apparatus and manufacturing method thereof
US20120174977A1 (en) Solar Power Generation Apparatus and Manufacturing Method Thereof
KR101262455B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101168810B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101283072B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR20120012325A (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101055019B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101382880B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101114079B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101349429B1 (ko) 태양광 발전장치
KR20130136739A (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
KR101338549B1 (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
KR101210104B1 (ko) 태양광 발전장치
KR101273015B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR20120022231A (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101306527B1 (ko) 태양광 발전장치
KR101349432B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR101081222B1 (ko) 태양광 발전장치
KR101349525B1 (ko) 태양광 발전장치
KR101189366B1 (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
KR101306436B1 (ko) 태양광 발전장치 및 이의 제조방법
KR20130120742A (ko) 태양광 발전장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140708

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150706

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160707

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170704

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180710

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190711

Year of fee payment: 9