KR101051488B1 - Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method - Google Patents

Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method Download PDF

Info

Publication number
KR101051488B1
KR101051488B1 KR1020090006048A KR20090006048A KR101051488B1 KR 101051488 B1 KR101051488 B1 KR 101051488B1 KR 1020090006048 A KR1020090006048 A KR 1020090006048A KR 20090006048 A KR20090006048 A KR 20090006048A KR 101051488 B1 KR101051488 B1 KR 101051488B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light emitting
emitting diode
substrate
opening
conductive layer
Prior art date
Application number
KR1020090006048A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100089115A (en
Inventor
장종진
Original Assignee
주식회사 두성에이텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 두성에이텍 filed Critical 주식회사 두성에이텍
Priority to KR1020090006048A priority Critical patent/KR101051488B1/en
Publication of KR20100089115A publication Critical patent/KR20100089115A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101051488B1 publication Critical patent/KR101051488B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/49105Connecting at different heights
    • H01L2224/49107Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

Abstract

본 발명은, 절연 기판의 상면에는 양의 전극 패턴과 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층이 형성되고 절연 기판의 하면에는 방열기능을 위한 열전도층이 형성되며, 상기 양의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층과 상기 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층 사이에 개공이 형성된 상부 기판을 준비하는 제1공정과; 절연 기판의 상면과 하면에 방열기능을 위한 상부 및 하부 열전도층이 형성된 하부 기판을 준비하는 제2공정과; 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 접착층을 매개로 접착하는 제3공정과; 상기 상부 기판의 개공 내의 상기 접착층 상에 발광 다이오드 칩을 실장하는 제4공정과; 상기 발광 다이오드 칩의 N형 패드 및 P형 패드를 상기 양의 전극 패턴과 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층에 와이어 본딩하는 제5공정과; 상기 상부 기판의 개공과 와이어 본딩 부분을 에폭시 몰딩하는 제6공정을 포함하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법과, 이 방법에 의하여 제조된 발광 다이오드 유닛을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, an upper conductive layer having a positive electrode pattern and a negative electrode pattern is formed on an upper surface of an insulating substrate, and a thermal conductive layer for heat dissipation is formed on a lower surface of the insulating substrate. A first step of preparing an upper substrate having openings formed between the conductive layer and the upper conductive layer serving as the negative electrode pattern; A second process of preparing a lower substrate having upper and lower thermal conductive layers formed on upper and lower surfaces of the insulating substrate for heat dissipation; A third step of adhering the upper substrate and the lower substrate through an adhesive layer; A fourth step of mounting a light emitting diode chip on the adhesive layer in the opening of the upper substrate; A fifth step of wire-bonding the N-type pad and the P-type pad of the light emitting diode chip to the upper conductive layer, wherein the upper electrode conductive layer becomes a positive electrode pattern and a negative electrode pattern; A method of manufacturing a light emitting diode unit comprising a sixth step of epoxy molding an opening and a wire bonding portion of the upper substrate, and a light emitting diode unit manufactured by the method.

Description

발광 다이오드 유닛의 제조 방법과, 이 방법에 의하여 제조된 발광 다이오드 유닛 {Method of manufacturing light emitting diode unit and light emitting diode unit manufactured by the method }Method of manufacturing light emitting diode unit and light emitting diode unit manufactured by this method {Method of manufacturing light emitting diode unit and light emitting diode unit manufactured by the method}

본 발명은 발광 다이오드 유닛에 관한 것으로, 보다 상세하게는 두께를 감소시킬 수 있으며 제조 공정을 현저하게 단순화할 수 있고 제조 비용을 현저히 감소시킬 수 있는 새로운 방식의 발광 다이오드 유닛을 제조하는 방법과, 이에 의하여 제조된 발광 다이오드 유닛에 관한 것이다. The present invention relates to a light emitting diode unit, and more particularly, to a method for manufacturing a new type of light emitting diode unit which can reduce the thickness, can significantly simplify the manufacturing process and can significantly reduce the manufacturing cost, and It relates to a light emitting diode unit manufactured by.

발광 다이오드는 반도체의 p-n 접합구조를 이용하여 주입된 소수캐리어(전자 또는 정공)를 만들어내고, 이들의 재결합에 의하여 발광시키는 전자소자이다. A light emitting diode is an electronic device that generates a small number of carriers (electrons or holes) injected using a p-n junction structure of a semiconductor, and emits light by recombination thereof.

이러한 발광 다이오드는 다양한 분야에서 사용되어 왔고, 최근에는 수명이 반영구적이고 유해물질 환경규제(RoHS, ELV, PFOS 등) 물질이 없다는 점에서 형광램프를 대체하는 소자로서 각광받고 있다. Such light emitting diodes have been used in various fields, and recently, they have been spotlighted as a replacement device for fluorescent lamps because their lifetimes are semi-permanent and there are no harmful substances (RoHS, ELV, PFOS, etc.).

통상적으로 단일의 발광 다이오드 유닛은 리드 프레임 상에 발광 다이오드 칩을 예를 들면 Ag로 접착하고 반도체 칩의 N패드와 P패드를 와이어 본딩한 후에 에폭시 몰딩하여 패키지화한다. 이와 같이 구성된 단일의 발광 다이오드 패키지는 방열을 위하여 방열판 위에 탑재된 상태에서 인쇄회로기판에 설치되어 사용되거나, 또는 인쇄회로기판에 예를 들면 표면실장기술(SMT) 등을 이용하여 실장된 상태에서 방열판 상에 부착되어 사용된다.Typically, a single light emitting diode unit is packaged by bonding an LED chip with Ag, for example Ag, on a lead frame, wire bonding an N pad and a P pad of a semiconductor chip, and then epoxy molding. The single light emitting diode package configured as described above is installed on a printed circuit board in a state where it is mounted on a heat sink for heat dissipation, or a heat sink in a state where the printed circuit board is mounted using, for example, surface mount technology (SMT). It is used attached to the phase.

또한, 예를 들면 LCD 백라이트 등에 사용되는 발광 다이오드 어레이 유닛은 상기와 같이 구성된 복수 개의 단일 발광 다이오드 패키지를 인쇄회로기판에 어레이 형태로 예를 들면 표면실장기술(SMT) 등을 이용하여 설치한다. 그리고, 이와 같이 구성된 발광 다이오드 어레이 유닛은 방열을 위하여 방열판에 부착되어 사용된다.In addition, for example, a light emitting diode array unit used in an LCD backlight or the like is provided with a plurality of single light emitting diode packages configured as described above in an array form on a printed circuit board using, for example, surface mount technology (SMT). The LED array unit configured as described above is attached to a heat sink for heat dissipation.

이상과 같이 종래에는 발광 다이오드 유닛을 제조하기 위해서 리드 프레임 제조, 방열판 제조, 발광 다이오드 패키지 제조, 인쇄회로기판 제조, 발광 다이오드 패키지 실장 등과 같은 각기 다른 특성을 갖는 제조공정이 집합되어야 한다. 즉, 발광 다이오드 유닛은 하나의 제조업체가 단독으로 제조하는 것이 곤란하고 각기 다른 업체의 협력을 통하여 제조가 가능하게 된다. 이로 인하여, 발광 다이오드 유닛의 제조공정이 복잡하고 또한 발광 다이오드 유닛의 제조 비용이 상승하는 문제점이 있다.As described above, in order to manufacture the light emitting diode unit, a manufacturing process having different characteristics such as lead frame manufacturing, heat sink manufacturing, light emitting diode package manufacturing, printed circuit board manufacturing, light emitting diode package mounting, and the like should be collected. That is, it is difficult for one manufacturer to manufacture a light emitting diode unit alone, and it is possible to manufacture the light emitting diode unit through cooperation of different companies. For this reason, there is a problem that the manufacturing process of the light emitting diode unit is complicated and the manufacturing cost of the light emitting diode unit is increased.

또한, 종래에는 발광 다이오드 칩을 리드 프레임에 실장하여 패키지화하고 이 발광 다이오드 패키지를 인쇄회로기판에 실장하기 때문에 전체적으로 발광 다이오드 유닛의 두께가 두꺼워지고, 이러한 발광 다이오드 유닛을 채택하는 전자제품의 박형화의 장애가 되는 문제점이 있다.In addition, in the related art, since the light emitting diode chip is mounted on a lead frame and packaged, and the light emitting diode package is mounted on a printed circuit board, the thickness of the light emitting diode unit is increased as a whole. There is a problem.

특히, 종래에는 발광 다이오드의 방열을 위하여, 발광 다이오드 칩을 리드프 레임에 실장하여 패키지화한 후에 이 발광 다이오드 패키지를 방열판을 매개로 인쇄회로기판에 설치하거나, 또는 발광 다이오드 패키지를 인쇄회로기판에 실장한 후에 인쇄회로기판을 방열판에 결합하게 된다. 따라서 발광 다이오드 유닛의 전체 두께가 두꺼워지고, 이러한 발광 다이오드 유닛을 채택하는 전자제품의 박형화의 장애가 되는 문제점이 있다.In particular, in order to dissipate a light emitting diode, a light emitting diode chip is mounted on a lead frame and packaged, and then the light emitting diode package is mounted on a printed circuit board via a heat sink or a light emitting diode package is mounted on a printed circuit board. After that, the printed circuit board is bonded to the heat sink. Therefore, there is a problem that the overall thickness of the light emitting diode unit becomes thick, and it becomes an obstacle to thinning of electronic products employing such a light emitting diode unit.

따라서 본 발명은 상기한 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 제조공정을 현저히 단순화하고 제조 비용을 현저히 감소시킬 수 있는 발광 다이오드 유닛과 그 제조방법을 제공하고자 함에 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a light emitting diode unit and a method of manufacturing the same, which can significantly simplify the manufacturing process and significantly reduce the manufacturing cost.

또한, 본 발명은 상기한 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 전체 두께를 감소시킬 수 있는 발광 다이오드 유닛과 그 제조방법을 제공하고자 함에 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a light emitting diode unit and a method of manufacturing the same that can be reduced to solve the conventional problems described above, the overall thickness.

또한, 본 발명은 상기한 종래 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 방열을 위한 별도의 방열판을 제거할 수 있는 발광 다이오드 유닛과 그 제조방법을 제공하고자 함에 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a light emitting diode unit and a method of manufacturing the same that can be removed to solve the above-mentioned conventional problems, a separate heat sink for heat dissipation.

먼저, 본 발명의 특허청구범위를 포함하는 명세서에서, "전기전도층"이라는 용어는 전기전도율이 좋은 재질로 이루어진 층 또는 막을 의미하며, 또한 "열전도층"이라는 용어는 열전도율이 좋은 재질로 이루어진 층 또는 막을 의미한다.First, in the specification including the claims of the present invention, the term "electrically conductive layer" refers to a layer or film made of a material having good electrical conductivity, and the term "thermally conductive layer" is a layer made of a material having good thermal conductivity. Or membrane.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 발광 다이오드 유닛의 제조 방법은, 절연 기판의 상면에는 양의 전극 패턴과 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층이 형성되고 절연 기판의 하면에는 방열기능을 위한 열전도층이 형성되며, 상기 양의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층과 상기 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층 사이에 개공이 형성된 상부 기판을 준비하는 제1공정과; 절연 기 판의 상면과 하면에 방열기능을 위한 상부 및 하부 열전도층이 형성된 하부 기판을 준비하는 제2공정과; 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 접착층을 매개로 접착하는 제3공정과; 상기 상부 기판의 개공의 상기 접착층 상에 발광 다이오드 칩을 실장하는 제4공정과; 상기 발광 다이오드 칩의 N형 패드 및 P형 패드를 상기 양의 전극 패턴과 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층에 와이어 본딩하는 제5공정과; 상기 상부 기판의 개공과 와이어 본딩 부분을 에폭시 몰딩하는 제6공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a light emitting diode unit according to the present invention includes an upper conductive layer formed of a positive electrode pattern and a negative electrode pattern on an upper surface of an insulating substrate, and a heat radiating function on a lower surface of the insulating substrate. A first step of preparing an upper substrate having an opening formed therebetween, wherein the upper substrate is formed between the upper conductive layer serving as the positive electrode pattern and the upper conductive layer serving as the negative electrode pattern; A second process of preparing a lower substrate having upper and lower thermal conductive layers formed on upper and lower surfaces of the insulating substrate for heat dissipation; A third step of adhering the upper substrate and the lower substrate through an adhesive layer; A fourth step of mounting a light emitting diode chip on the adhesive layer in the opening of the upper substrate; A fifth step of wire-bonding the N-type pad and the P-type pad of the light emitting diode chip to the upper conductive layer, wherein the upper electrode conductive layer becomes a positive electrode pattern and a negative electrode pattern; And a sixth step of epoxy molding the opening and the wire bonding portion of the upper substrate.

여기서, 상기 개공은 아래쪽으로 갈수록 개구가 좁아지는 경사면을 갖으며, 상기 제1공정에서의 상부 기판에는 상기 개공의 경사면에 광 반사용 반사막이 도금되어 있는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the opening has an inclined surface in which the opening is narrowed toward the lower side, and the reflecting film for reflecting light is plated on the inclined surface of the opening in the upper substrate in the first step.

또한, 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 상기 하부 기판의 개공의 내면이 열전도율이 우수한 재질로 코팅 또는 도금되어 있는 것이 바람직하다.In addition, at least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and the inner surface of the opening of the lower substrate is coated with a material having excellent thermal conductivity so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. Or plated.

또한, 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공 내에 열전도율이 우수한 재질이 충진되어 있는 것이 바람직하다.In addition, at least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and a material having excellent thermal conductivity is filled in the opening of the lower substrate so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. desirable.

또한, 상기 제3공정에서의 접착층은 열전도율이 우수한 접착제로 이루어진 것이 바람직하다.In addition, the adhesive layer in the third step is preferably made of an adhesive having excellent thermal conductivity.

또한, 상기 제4공정에서는 상기 접착층 위에 전기 전도율이 우수한 전기전도 막을 도포한 후에 상기 도포된 전기전도막 상에 상기 발광 다이오드 칩을 실장하는 것이 바람직하다.In addition, in the fourth step, it is preferable to apply the conductive film having excellent electrical conductivity onto the adhesive layer, and then mount the light emitting diode chip on the applied conductive film.

한편, 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 발광 다이오드 유닛의 제조 방법은, 절연 기판의 상면에는 일정 간격을 두고 이격되어 일렬로 배치된 복수의 전극 패턴과, 상기 복수의 전극 패턴 중 일측 끝의 전극 패턴과 연결된 양의 전원 배선 패턴 및, 상기 복수의 전극 패턴 중 타측 끝의 전극 패턴과 연결된 음의 전원 배선 패턴으로 되는 상부 전기전도층이 형성되고, 상기 절연 기판의 하면에는 방열기능을 위한 열전도층이 형성되며, 상기 인접하는 전극 패턴 사이에 개공이 형성된 상부 기판을 준비하는 제1공정과; 절연 기판의 상면과 하면에 방열기능을 위한 상부 및 하부 열전도층이 형성된 하부 기판을 준비하는 제2공정과; 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 접착층을 매개로 접착하는 제3공정과; 상기 상부 기판의 개공의 상기 접착층 상에 발광 다이오드 칩을 실장하는 제4공정과; 상기 발광 다이오드 칩의 N형 패드를 인접하는 일측 전극 패턴과 와이어 본딩하고 상기 발광 다이오드 칩의 P형 패드를 인접하는 타측 전극 패턴과 와이어 본딩하는 제5공정과; 상기 상부 기판의 개공과 상기 와이어 본딩 부분을 에폭시 몰딩하는 제6공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, in order to achieve the above object, the manufacturing method of the light emitting diode unit according to the present invention, a plurality of electrode patterns arranged in a line spaced apart at regular intervals on the upper surface of the insulating substrate, and one end of the plurality of electrode patterns A positive power wiring pattern connected to an electrode pattern of the upper electrode conductive layer and a negative power wiring pattern connected to an electrode pattern of the other end of the plurality of electrode patterns, and an upper conductive layer formed on the lower surface of the insulating substrate. A first step of preparing a top substrate having a thermal conductive layer formed thereon and having openings formed between the adjacent electrode patterns; A second process of preparing a lower substrate having upper and lower thermal conductive layers formed on upper and lower surfaces of the insulating substrate for heat dissipation; A third step of adhering the upper substrate and the lower substrate through an adhesive layer; A fourth step of mounting a light emitting diode chip on the adhesive layer in the opening of the upper substrate; A fifth step of wire bonding the N-type pad of the light emitting diode chip to an adjacent one electrode pattern and wire bonding the P-type pad of the light emitting diode chip to an adjacent other electrode pattern; And a sixth step of epoxy molding the opening of the upper substrate and the wire bonding portion.

여기서, 상기 개공은 아래쪽으로 갈수록 개구가 좁아지는 경사면을 갖으며, 상기 제1공정에서의 상부 기판에는 상기 개공의 경사면에 광 반사용 반사막이 도금되어 있는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the opening has an inclined surface in which the opening is narrowed toward the lower side, and the reflecting film for reflecting light is plated on the inclined surface of the opening in the upper substrate in the first step.

또한, 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공의 내면이 열전도율이 우수한 재질로 코팅 또는 도금되어 있는 것이 바람직하다.In addition, at least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and the inner surface of the opening of the lower substrate is coated with a material having excellent thermal conductivity so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. It is preferable to be plated.

또한, 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공 내에 열전도율이 우수한 재질이 충진되어 있는 것이 바람직하다.In addition, at least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and a material having excellent thermal conductivity is filled in the opening of the lower substrate so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. desirable.

또한, 상기 제3공정에서의 접착층은 열전도율이 우수한 접착제로 이루어진 것이 바람직하다.In addition, the adhesive layer in the third step is preferably made of an adhesive having excellent thermal conductivity.

또한, 상기 제4공정에서는 상기 접착층 위에 전기 전도율이 우수한 전기전도막을 도포한 후에 상기 도포된 전기전도막 상에 상기 발광 다이오드 칩을 실장하는 것이 바람직하다.In the fourth step, it is preferable to apply the conductive film having excellent electrical conductivity onto the adhesive layer, and then mount the light emitting diode chip on the coated conductive film.

한편, 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 발광 다이오드 유닛은, 상기한 제조방법에 의하여 제조된 것을 특징으로 한다.On the other hand, in order to achieve the above object, the light emitting diode unit according to the present invention is characterized by being manufactured by the above-described manufacturing method.

상기와 같이 구성된 본 발명에 의하면, 종래 리드 프레임 제조, 방열판 제조, 발광 다이오드 패키지 제조, 인쇄회로기판 제조, 발광 다이오드 패키지 실장 등과 같이 복잡한 제조 공정에서 탈피하여, 다이 본딩 기술과 와이어 본딩 기술 및 에폭시 몰딩 기술만을 축적하면 인쇄회로기판 제조 공장에서 인쇄회로기판 제조 기술에 다이 본딩, 와이어 본딩 및 에폭시 몰딩을 추가하는 것만으로 제조할 수 있으므로 제조공정을 현저히 단순화할 수 있다. 이에 따라 제조 비용도 현저히 감소시 킬 수 있다.According to the present invention configured as described above, it can be avoided from complex manufacturing processes such as conventional lead frame manufacturing, heat sink manufacturing, light emitting diode package manufacturing, printed circuit board manufacturing, light emitting diode package mounting, die bonding technology, wire bonding technology and epoxy molding Accumulating the technology alone can greatly simplify the manufacturing process as the printed circuit board manufacturing plant can manufacture by simply adding die bonding, wire bonding and epoxy molding to the printed circuit board manufacturing technology. As a result, manufacturing costs can be significantly reduced.

또한, 상기와 같이 구성된 본 발명에 의하면, 종래 발광 다이오드 패키지와 인쇄회로기판 및 방열판을 구비하는 발광 다이오드 유닛에 비하여, 대략 두 개의 인쇄회로기판을 적층한 정도의 두께를 가지므로 전체 두께를 현저히 감소시킬 수 있고, 이로 인하여 박형화가 요구되는 전자장치에 적합하게 채택될 수 있다.In addition, according to the present invention configured as described above, compared to a light emitting diode unit having a conventional light emitting diode package, a printed circuit board and a heat sink, it has a thickness of approximately two printed circuit boards laminated, thereby significantly reducing the overall thickness. This makes it suitable for electronic devices requiring thinning.

또한, 상기와 같이 구성된 본 발명에 의하면, 상부 기판의 하부 열전도층과 상부 기판의 상부 및 하부 열전도층의 총 3개의 열전도층이 기존의 방열판 기능을 수행하므로, 별도의 방열판이 없이도 적절한 방열이 가능하게 된다.In addition, according to the present invention configured as described above, since a total of three heat conductive layers of the lower thermal conductive layer of the upper substrate and the upper and lower thermal conductive layers of the upper substrate perform a conventional heat sink, proper heat dissipation is possible without a separate heat sink. Done.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 유닛에 대하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 유닛으로서 단일 발광 다이오드 유닛의 제조 방법에 대하여 설명한다.First, a method of manufacturing a single light emitting diode unit as a light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

도 1a 및 도 1b에 도시한 바와 같이, 본 실시예의 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 상부 기판을 준비한다. 여기서, 도 1a는 준비된 상부 기판의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 A-A'선에 따른 단면도이다.As shown in Figs. 1A and 1B, an upper substrate constituting the single light emitting diode unit of this embodiment is prepared. 1A is a plan view of the prepared upper substrate, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1A.

상부 기판은 예를 들면 폴리이미드 등과 같은 절연 기판(10)과, 절연 기판(10)의 상면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 전기전도율이 우수한 재질로 이루어진 상부 전기전도층(14)(14)과, 절연 기판(10)의 하면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질로 이루어진 하부 열전도층(12)으로 구성된다. 여 기서, 상기 절연 기판(10)에 상부 전기전도층(14)(14)과 하부 열전도층(12)을 형성하는 방법으로서는 양면 인쇄회로기판에서와 같이 절연기판에 예를 들면 Cu층을 형성하는 공지의 방법을 사용할 수 있다. The upper substrate may include, for example, an insulating substrate 10 such as polyimide, and upper conductive layers 14 and 14 made of a material having excellent electrical conductivity such as, for example, Cu formed on the upper surface of the insulating substrate 10. And a lower thermal conductive layer 12 made of a material having excellent thermal conductivity such as, for example, Cu formed on the lower surface of the insulating substrate 10. Here, as a method of forming the upper conductive layers 14 and 14 and the lower thermal conductive layer 12 on the insulating substrate 10, for example, a Cu layer is formed on the insulating substrate as in the double-sided printed circuit board. Known methods can be used.

상기 상부 전기전도층(14)(14)은 절연 기판(10)의 상면에서 대략 가운데 영역(추후 공정에서 개공되고 그 개공의 안쪽에 발광 다이오드 칩이 위치하게 될 영역)을 제외한 두 영역에 형성하며, 이 두 개의 상부 전기전도층(14)(14)은 각각 추후 발광 다이오드 유닛의 양(+) 전극 패턴과 음(-) 전극 패턴으로 사용하게 된다. 또한, 상기 하부 열전도층(12)은 절연 기판(10) 하면의 전면에 형성되는 것이 바람직하며, 발광 다이오드 칩에서 발생하는 열을 방열하기 위한 것이다.The upper conductive layers 14 and 14 are formed in two regions of the upper surface of the insulating substrate 10 except for an approximately center region (a region which will be opened in a later process and the light emitting diode chip will be located inside the opening). Each of the two upper conductive layers 14 and 14 is used as a positive electrode pattern and a negative electrode pattern of the light emitting diode unit. In addition, the lower thermal conductive layer 12 is preferably formed on the entire surface of the lower surface of the insulating substrate 10, it is for dissipating heat generated from the light emitting diode chip.

그후, 도 2a와 도 2b에 도시한 바와 같이, 상기 준비한 상부 기판의 대략 가운데 영역[즉, 두 개의 상부 전기전도층(14)(14) 사이]에서 개공(16)을 형성한다. 여기서, 도 2a는 개공이 형성된 상부 기판의 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 B-B'선 단면도이다. Then, as shown in Figs. 2A and 2B, openings 16 are formed in approximately the center region (i.e. between two upper conductive layers 14 and 14) of the prepared upper substrate. Here, FIG. 2A is a plan view of an upper substrate having openings, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 2A.

상기 개공(16)은 아래쪽으로 경사면(16a)을 가지며 위쪽에 비해 아래쪽이 개구가 작아지는 형상을 하고 있고, 예를 들면 레이저 커팅 기술 등과 같은 공지의 기법을 이용하여 형성할 수 있다.The opening 16 has an inclined surface 16a downward and has a shape in which the opening is smaller in the lower side than the upper side, and can be formed using a known technique such as, for example, a laser cutting technique.

동 도면에서는 개공(16)은 직경이 점점 작아지는 원통형상이지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니라 위쪽에 비해 아래쪽이 개구가 작아지는 형상이라면 다른 형상이어도 된다. 또한, 본 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛의 사용 용도에 따라서는 상기 개공(16)은 경사면이 없는 형상일 수도 된다.In the same figure, the opening 16 has a cylindrical shape in which the diameter gradually decreases. However, the present invention is not limited thereto, but may be any other shape as long as the opening is smaller than the upper side. In addition, depending on the use of the single light emitting diode unit according to the present embodiment, the opening 16 may have a shape without an inclined surface.

이어, 도 3a 및 도 3b에 도시한 바와 같이, 상부 기판의 개공(16)의 경사면(16a)상에만 광을 고효율로 반사시킬 수 있는 예를 들면 알루미늄, 은 등과 같은 재질의 반사막(18)을 도금한다. 여기서, 도 3a는 반사막이 도금된 상부 기판의 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 C-C'선 단면도이다. 3A and 3B, the reflective film 18 made of, for example, aluminum or silver, which can efficiently reflect light only on the inclined surface 16a of the opening 16 of the upper substrate, is used. Plate. 3A is a plan view of an upper substrate on which a reflective film is plated, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 3A.

한편, 도 4a 및 도 4b에 도시한 바와 같이, 본 실시예의 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 하부 기판을 준비한다. 여기서, 도 4a는 준비된 하부 기판의 평면도이고, 도 4b는 도 4a의 D-D'선에 따른 단면도이다.4A and 4B, the lower substrate constituting the single light emitting diode unit of this embodiment is prepared. 4A is a plan view of the prepared lower substrate, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line D-D 'of FIG. 4A.

하부 기판은 예를 들면 폴리이미드 등과 같은 절연 기판(20)과, 절연 기판(20)의 상면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질로 이루어진 상부 열전도층(24)과, 절연 기판(20)의 하면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질로 이루어진 하부 열전도층(22)으로 구성된다. 또한, 상기 상부 및 하부 열전도층(24)(12)은 절연 기판(20) 상면 및 하면의 전면에 형성되는 것이 바람직하며, 발광 다이오드 칩에서 발생하는 열을 방열하기 위한 것이다.The lower substrate may include, for example, an insulating substrate 20 such as polyimide, an upper thermal conductive layer 24 made of a material having high thermal conductivity, such as, for example, Cu formed on the upper surface of the insulating substrate 20, and the insulating substrate 20. ) Is formed of a lower thermal conductive layer 22 formed of a material having excellent thermal conductivity such as, for example, Cu. In addition, the upper and lower thermal conductive layers 24 and 12 are preferably formed on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 20, and are used to dissipate heat generated from the light emitting diode chip.

여기서, 상기 절연 기판(20)에 상부 열전도층(24)과 하부 열전도층(22)을 형성하는 방법으로서는 양면 인쇄회로기판에서와 같이 절연기판에 예를 들면 Cu층을 형성하는 공지의 방법을 사용할 수 있다. Here, as a method of forming the upper thermal conductive layer 24 and the lower thermal conductive layer 22 on the insulating substrate 20, a known method of forming a Cu layer on the insulating substrate as in the case of a double-sided printed circuit board may be used. Can be.

그후, 도 5a와 도 5b에 도시한 바와 같이, 상기 준비한 하부 기판의 대략 가운데 영역을 제외한 영역에서 예를 들면 레이저 커팅 기술 등과 같은 공지의 기법을 이용하여 적어도 하나의 개공(26)을 형성한다. 여기서, 도 5a는 개공이 형성된 하부 기판의 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 E-E'선 단면도이다.Thereafter, as shown in Figs. 5A and 5B, at least one aperture 26 is formed using a known technique such as, for example, a laser cutting technique, in a region other than an approximately center region of the prepared lower substrate. 5A is a plan view of a lower substrate having openings formed therein, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line E-E 'of FIG. 5A.

또한, 상기 개공(26)의 개공면에는 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질을 코팅 또는 도금하거나, 또는 상기 개공(26) 내에 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질을 충진하여 상부 열전도층(24)과 하부 열전도층(22)이 열적으로 도통되도록 함으로써, 상부 열전도층(24)으로부터의 열을 신속하게 하부 열전도층(22)으로 전도시킬 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, the opening surface of the opening 26 may be coated or plated with a material having excellent thermal conductivity, such as, for example, Cu, or may be filled with a material having excellent thermal conductivity, such as, for example, Cu, or the like. It is desirable to allow the thermal conductivity layer 24 and the lower thermal conductive layer 22 to be electrically conductive so that the heat from the upper thermal conductive layer 24 can be quickly transferred to the lower thermal conductive layer 22.

여기서, 도 5a와 도 5b에 도시한 개공(26)은 열전도 효율을 증가시키기 위한 것일 뿐이며, 본 발명에서 반드시 필요한 것은 아니다.Here, the openings 26 shown in FIGS. 5A and 5B are merely for increasing the thermal conductivity efficiency and are not necessarily required in the present invention.

이어, 도 6a 및 도 6b에 도시한 바와 같이, 상기한 도 5a와 도 5b의 하부 기판상에 접착층(30)을 도포하고 상기 접착층(30)을 매개로 상기한 하부 기판과 상기한 도 3a와 도 3b의 상부 기판을 접착한다. 여기서, 도 6a는 단일 발광 다이오드 유닛의 상면도이고, 도 6b는 도 6a의 F-F'선에 따른 단면도이다.6A and 6B, the adhesive layer 30 is coated on the lower substrates of FIGS. 5A and 5B, and the lower substrate and the above-described substrates 3A and 3A are applied through the adhesive layer 30. The upper substrate of FIG. 3B is bonded. 6A is a top view of the single light emitting diode unit, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line FF ′ of FIG. 6A.

그후, 상기 상부 기판의 개공(16)에 의하여 노출된 접착층(30)상에 예를 들면 Ag와 같이 전기 전도율이 우수한 전기전도막(32)을 도포한 후에, 상기 전기전도막(32)상에 발광 다이오드 칩(33)을 접착한다. 여기서, 상기 발광 다이오드 칩(33)의 일예는 사파이어 기판상에 N영역과 P영역이 액티브 영역을 매개로 적층되고 N영역 상에 N형 패드(33N)가 형성되며 P영역 상에 P형 패드(33P)가 형성된 구조를 갖는다.Thereafter, the conductive layer 32 having excellent electrical conductivity, such as Ag, is applied onto the adhesive layer 30 exposed by the opening 16 of the upper substrate, and then onto the conductive layer 32. The light emitting diode chip 33 is bonded. Here, one example of the light emitting diode chip 33 is an N region and a P region are stacked on the sapphire substrate via an active region, an N-type pad 33N is formed on the N region, and a P-type pad ( 33P) is formed.

이어, 상기 발광 다이오드 칩(33)의 P형 패드(33P)와 N형 패드(33N)를 각각 상부 기판의 상부 전기전도층(14)(14)에 본딩 와이어(34)(34)를 사용하여 와이어 본딩하여, 상기 발광 다이오드 칩(33)의 P형 패드(33P)와 N형 패드(33N)를 각각 양 의 전극 패턴 및 음의 전극패턴인 상부 전기전도층(14)(14)에 전기적으로 연결한다.Subsequently, the P-type pad 33P and the N-type pad 33N of the LED chip 33 are bonded to the upper conductive layers 14 and 14 of the upper substrate, respectively, using bonding wires 34 and 34. By wire bonding, the P-type pad 33P and the N-type pad 33N of the LED chip 33 are electrically connected to the upper conductive layers 14 and 14, which are positive electrode patterns and negative electrode patterns, respectively. Connect.

그후, 상부 기판의 개공(16), 본딩 와이어(34), 상부 기판의 상부 전기전도층(14)(14)의 와이어 본딩 부분을 포함하는 상부 기판 상에 예를 들면 투명 에폭시를 이용하여 에폭시 몰딩(35)을 형성한다. 여기서, 발광 다이오드 유닛이 백색 광을 발광하도록 하기 위해서는 YAG계의 형광물질(예를 들면 yellow phosphor)이 혼합된 투명 에폭시를 이용하여 에폭시 몰딩하면 된다.The epoxy molding is then used, for example, with a transparent epoxy on the upper substrate comprising the opening 16 of the upper substrate, the bonding wire 34, and the wire bonding portions of the upper conductive layers 14, 14 of the upper substrate. (35) is formed. Herein, in order for the light emitting diode unit to emit white light, epoxy molding may be performed using a transparent epoxy mixed with YAG-based fluorescent material (for example, yellow phosphor).

상기와 같은 공정을 통하여 제조된 본 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛에서는, 상부 기판의 상부 전기전도층(14)(14)은 발광 다이오드 칩(33)의 양의 전극 패턴 및 음의 전극패턴으로 되고, 상부 기판의 하부 열전도층(12), 하부 기판의 상부 열전도층(24) 및 하부 기판의 하부 열전도층(22)은 발광 다이오드 칩(33)에 의하여 발생된 열을 방열하는 방열판 기능을 수행하게 된다. 즉, 본 발명에서는 3층의 방열판 구조를 갖게 되므로 발광 다이오드 칩(33)에 의하여 발생된 열을 효율적으로 방열할 수 있게 된다.In the single light emitting diode unit manufactured according to the above process, the upper conductive layers 14 and 14 of the upper substrate are formed by the positive electrode pattern and the negative electrode pattern of the light emitting diode chip 33. The lower thermal conductive layer 12 of the upper substrate, the upper thermal conductive layer 24 of the lower substrate, and the lower thermal conductive layer 22 of the lower substrate perform a heat sink function to dissipate heat generated by the LED chip 33. Done. That is, in the present invention, since the three-layer heat sink structure is provided, heat generated by the light emitting diode chip 33 can be efficiently dissipated.

한편, 상기 접착층(30)은 열전도율이 우수한 접착재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 이 경우, 상부 기판의 하부 열전도층(12)과 하부 기판의 상부 열전도층(24)은 열적으로 도통상태로 되므로, 발광 다이오드 칩(33)에 의하여 발생된 열을 하측으로 효율적으로 방열할 수 있게 된다. On the other hand, the adhesive layer 30 is preferably made of an adhesive material excellent in thermal conductivity. In this case, since the lower thermal conductive layer 12 of the upper substrate and the upper thermal conductive layer 24 of the lower substrate are in a thermally conductive state, the heat generated by the LED chip 33 can be efficiently radiated downward. do.

또한, 도 5a 및 도 5b에서와 같이 하부 기판에 개공(26)을 형성하고, 개공면에 열전도율이 우수한 재질을 코팅 또는 도금하거나 또는 개공(26) 내에 열전도율 이 우수한 재질을 충진한 경우에는 발광 다이오드 칩(33)에 의하여 발생된 열을 하측으로 효율적으로 방열할 수 있게 된다.5A and 5B, when the opening 26 is formed in the lower substrate, and the surface having a high thermal conductivity is coated or plated or the material having the excellent thermal conductivity is filled in the opening 26. The heat generated by the chip 33 can be efficiently dissipated downward.

한편, 상기한 실시예에서 상부 기판의 전기전도층(14)(14)과 결합되는 전원 배선패드와, 상부 기판의 하부 열전도층(12)와 하부 기판의 상부 및 하부 열전도층(24)(22)과 결합되는 방열패드를 형성하는 것는 당해 기술분야에 통상의 지식을 가진 자라면 공지된 다양한 방법을 이용하여 전극 패드와 방열패드를 용이하게 실시할 수 있는 것이므로, 이들의 형성에 대한 설명은 생략한다.Meanwhile, in the above-described embodiment, a power wiring pad coupled with the conductive layers 14 and 14 of the upper substrate, the lower thermal conductive layer 12 of the upper substrate, and the upper and lower thermal conductive layers 24 and 22 of the lower substrate. Forming a heat dissipation pad that is coupled to the) is a person having ordinary skill in the art can easily implement the electrode pad and the heat dissipation pad using a variety of methods known, the description of the formation thereof is omitted. do.

다음으로, 도 7 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 발광 다이오드 유닛으로서 복수의 발광 다이오드가 직렬로 배치되는 발광 다이오드 어레이 유닛의 제조 방법에 대하여 설명한다.Next, a method of manufacturing a light emitting diode array unit in which a plurality of light emitting diodes are arranged in series as a light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 to 12.

도 7a 및 도 7b에 도시한 바와 같이, 본 실시예의 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 상부 기판을 준비한다. 여기서, 도 7a는 준비된 상부 기판의 평면도이고, 도 7b는 도 1a의 G-G'선에 따른 단면도이다.As shown in Figs. 7A and 7B, an upper substrate constituting the light emitting diode array unit of this embodiment is prepared. 7A is a plan view of the prepared upper substrate, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line G-G 'of FIG. 1A.

상부 기판은 예를 들면 폴리이미드 등과 같은 절연 기판(10)과, 절연 기판(10)의 상면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 전기전도율이 우수한 재질로 이루어진 상부 전기전도층(14,14a,14b)과, 절연 기판(10)의 하면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질로 이루어진 하부 열전도층(12)으로 구성된다. 여기서, 상기 절연 기판(10)에 상부 전기전도층(14,14a,14b)과 하부 열전도층(12)을 형성하는 방법으로서는 양면 인쇄회로기판에서와 같이 절연기판에 예를 들면 Cu층을 형성하는 공지의 방법을 사용할 수 있다. The upper substrate is formed of an insulating substrate 10 such as polyimide, for example, and upper conductive layers 14, 14a, and 14b formed of a material having excellent electrical conductivity such as, for example, Cu formed on the upper surface of the insulating substrate 10. And the lower thermal conductive layer 12 made of a material having excellent thermal conductivity such as, for example, Cu formed on the lower surface of the insulating substrate 10. Here, as a method of forming the upper conductive layers 14, 14a, 14b and the lower thermal conductive layer 12 on the insulating substrate 10, for example, a Cu layer is formed on the insulating substrate as in the double-sided printed circuit board. Known methods can be used.

또한, 상기 상부 전기전도층(14)은 절연 기판(10) 상면의 가운데 부분에서 추후 개공될 영역을 비워두고 길이방향으로 형성되어 있으며, 이 상부 전기전도층(14)은 추후 형성되는 발광 다이오드 어레이의 전극층으로 된다.In addition, the upper conductive layer 14 is formed in the longitudinal direction leaving a region to be opened later in the middle of the upper surface of the insulating substrate 10, the upper conductive layer 14 is a light emitting diode array to be formed later Electrode layer.

또한, 상기 상부 전기전도층(14a)은 일측 끝의 상부 전기전도층(14)과 연결되어 형성되어 있으며, 이 상부 전기전도층(14a)은 추후 형성되는 발광 다이오드 어레이에 양의 전원을 공급하는 양의 전원 배선이 된다. 상기 상부 전기전도층(14b)은 타측 끝의 상부 전기전도층(14)과 연결되어 형성되어 있으며, 이 상부 전기전도층(14b)은 추후 형성되는 발광 다이오드 어레이에 음의 전원을 공급하는 음의 전원 배선이 된다.In addition, the upper conductive layer 14a is formed to be connected to the upper conductive layer 14 at one end, and the upper conductive layer 14a is configured to supply positive power to the LED array to be formed later. Positive power wiring. The upper conductive layer 14b is formed in connection with the upper conductive layer 14 at the other end, and the upper conductive layer 14b is negative to supply negative power to the LED array to be formed later. It becomes the power supply wiring.

또한, 상기 하부 열전도층(12)은 절연 기판(10) 하면의 전면에 형성되는 것이 바람직하며, 발광 다이오드 칩에서 발생하는 열을 방열하기 위한 것이다.In addition, the lower thermal conductive layer 12 is preferably formed on the entire surface of the lower surface of the insulating substrate 10, it is for dissipating heat generated from the light emitting diode chip.

그후, 도 8a와 도 8b에 도시한 바와 같이, 상기 준비한 상부 기판에서 상부 전기전도층(14)(14) 사이에서 개공(16)을 형성한다. 여기서, 도 8a는 개공이 형성된 상부 기판의 평면도이고, 도 8b는 도 2a의 H-H'선 단면도이다. Then, as shown in Figs. 8A and 8B, openings 16 are formed between the upper conductive layers 14 and 14 in the prepared upper substrate. Here, FIG. 8A is a plan view of the upper substrate with openings, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line H-H 'of FIG. 2A.

상기 개공(16)은 아래쪽으로 경사면(16a)을 가지며 위쪽에 비해 아래쪽이 개구가 작아지는 형상을 하고 있고, 예를 들면 레이저 커팅 기술 등과 같은 공지의 기법을 이용하여 형성할 수 있다.The opening 16 has an inclined surface 16a downward and has a shape in which the opening is smaller in the lower side than the upper side, and can be formed using a known technique such as, for example, a laser cutting technique.

동 도면에서는 개공(16)은 직경이 점점 작아지는 원통형상이지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니라 위쪽에 비해 아래쪽이 개구가 작아지는 형상이라면 다른 형상이어도 된다. 또한, 본 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛의 사용 용도에 따라서는 상기 개공(16)은 경사면이 없는 형상일 수도 된다.In the same figure, the opening 16 has a cylindrical shape in which the diameter gradually decreases. However, the present invention is not limited thereto, but may be any other shape as long as the opening is smaller than the upper side. In addition, the opening 16 may have a shape without an inclined surface depending on the use of the light emitting diode array unit according to the present embodiment.

이어, 도 9a 및 도 9b에 도시한 바와 같이, 상부 기판의 개공(16)의 경사면(16a) 상에만 광을 고효율로 반사시킬 수 있는 예를 들면 알루미늄, 은 등과 같은 재질의 반사막(18)을 도금한다. 여기서, 도 9a는 반사막이 도금된 상부 기판의 평면도이고, 도 9b는 도 9a의 I-I'선 단면도이다. Next, as shown in FIGS. 9A and 9B, a reflective film 18 made of a material such as aluminum or silver, which can reflect light with high efficiency only on the inclined surface 16a of the opening 16 of the upper substrate, is formed. Plate. 9A is a plan view of an upper substrate on which a reflective film is plated, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 9A.

한편, 도 10a 및 도 10b에 도시한 바와 같이, 본 실시예의 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 하부 기판을 준비한다. 여기서, 도 10a는 준비된 하부 기판의 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 J-J'선에 따른 단면도이다.On the other hand, as shown in Figs. 10A and 10B, a lower substrate constituting the light emitting diode array unit of this embodiment is prepared. 10A is a plan view of the prepared lower substrate, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line J-J 'of FIG. 10A.

하부 기판은 예를 들면 폴리이미드 등과 같은 절연 기판(20)과, 절연 기판(20)의 상면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질로 이루어진 상부 열전도층(24)과, 절연 기판(20)의 하면에 형성된 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질로 이루어진 하부 열전도층(22)으로 구성된다. 또한, 상기 상부 및 하부 열전도층(24)(12)은 절연 기판(20) 상면 및 하면의 전면에 형성되는 것이 바람직하며, 발광 다이오드 칩에서 발생하는 열을 방열하기 위한 것이다.The lower substrate may include, for example, an insulating substrate 20 such as polyimide, an upper thermal conductive layer 24 made of a material having high thermal conductivity, such as, for example, Cu formed on the upper surface of the insulating substrate 20, and the insulating substrate 20. ) Is formed of a lower thermal conductive layer 22 formed of a material having excellent thermal conductivity such as, for example, Cu. In addition, the upper and lower thermal conductive layers 24 and 12 are preferably formed on the upper and lower surfaces of the insulating substrate 20, and are used to dissipate heat generated from the light emitting diode chip.

여기서, 상기 절연 기판(20)에 상부 열전도층(24)과 하부 열전도층(22)을 형성하는 방법으로서는 양면 인쇄회로기판에서와 같이 절연기판에 예를 들면 Cu층을 형성하는 공지의 방법을 사용할 수 있다. Here, as a method of forming the upper thermal conductive layer 24 and the lower thermal conductive layer 22 on the insulating substrate 20, a known method of forming a Cu layer on the insulating substrate as in the case of a double-sided printed circuit board may be used. Can be.

그후, 도 11a와 도 11b에 도시한 바와 같이, 상기 준비한 하부 기판에서 예를 들면 레이저 커팅 기술 등과 같은 공지의 기법을 이용하여 적어도 하나의 개공(26)을 형성한다. 여기서, 도 11a는 개공이 형성된 하부 기판의 평면도이고, 도 11b는 도 11a의 K-K'선 단면도이다.11A and 11B, at least one aperture 26 is formed on the prepared lower substrate by using a known technique such as, for example, a laser cutting technique. Here, FIG. 11A is a plan view of a lower substrate having openings formed therein, and FIG. 11B is a cross-sectional view taken along the line K-K 'of FIG. 11A.

또한, 상기 개공(26)의 개공면에는 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질을 코팅 또는 도금하거나, 또는 상기 개공(26) 내에 예를 들면 Cu 등과 같이 열전도율이 우수한 재질을 충진하여 상부 열전도층(24)과 하부 열전도층(22)이 열적으로 도통되도록 함으로써, 상부 열전도층(24)으로부터의 열을 신속하게 하부 열전도층(22)으로 전도시킬 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, the opening surface of the opening 26 may be coated or plated with a material having excellent thermal conductivity, such as, for example, Cu, or may be filled with a material having excellent thermal conductivity, such as, for example, Cu, or the like. It is desirable to allow the thermal conductivity layer 24 and the lower thermal conductive layer 22 to be electrically conductive so that the heat from the upper thermal conductive layer 24 can be quickly transferred to the lower thermal conductive layer 22.

여기서, 도 11a와 도 11b에 도시한 개공(26)은 열전도 효율을 증가시키기 위한 것일 뿐이며, 본 발명에서 반드시 필요한 것은 아니다.Here, the openings 26 shown in Figs. 11A and 11B are merely for increasing the thermal conductivity efficiency and are not necessarily required in the present invention.

이어, 도 12a 및 도 12b에 도시한 바와 같이, 상기한 도 11a와 도 11b의 하부 기판상에 접착층(30)을 도포하고 상기 접착층(30)을 매개로 상기한 하부 기판과 상기한 도 9a와 도 9b의 상부 기판을 접착한다. 여기서, 도 12a는 발광 다이오드 어레이 유닛의 상면도이고, 도 12b는 도 12a의 L-L'선에 따른 단면도이다.12A and 12B, an adhesive layer 30 is coated on the lower substrates of FIGS. 11A and 11B and the lower substrate and the above-described substrates 9A and 9A are applied through the adhesive layer 30. The upper substrate of FIG. 9B is bonded. 12A is a top view of the LED array unit, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line L-L 'of FIG. 12A.

그후, 상기 상부 기판의 개공(16)에 의하여 노출된 접착층(30) 상에 예를 들면 Ag와 같이 전기 전도율이 우수한 전기전도막(32)을 도포한 후에, 상기 전기전도막(32) 상에 발광 다이오드 칩(33)을 접착한다. 여기서, 상기 발광 다이오드 칩(33)의 일 예는 사파이어 기판상에 N영역과 P영역이 액티브 영역을 매개로 적층되고 N영역 상에 N형 패드가 형성되며 P영역 상에 P형 패드가 형성된 구조를 갖는다.Thereafter, after applying the conductive film 32 having excellent electrical conductivity, such as Ag, on the adhesive layer 30 exposed by the opening 16 of the upper substrate, the conductive film 32 is then applied on the conductive film 32. The light emitting diode chip 33 is bonded. An example of the light emitting diode chip 33 is a structure in which an N region and a P region are stacked on an sapphire substrate via an active region, an N-type pad is formed on the N region, and a P-type pad is formed on the P region. Has

이어, 상기 발광 다이오드 칩(33)의 P형 패드와 N형 패드를 각각 상부 기판의 상부 전기전도층(14)(14)에 본딩 와이어(34)(34)를 사용하여 와이어 본딩하여, 상기 발광 다이오드 칩(33)의 P형 패드와 N형 패드를 각각 양의 전극 패턴 및 음의 전극패턴인 상부 전기전도층(14)(14)에 전기적으로 연결한다.Subsequently, the P-type pads and the N-type pads of the LED chip 33 are respectively wire-bonded to the upper conductive layers 14 and 14 of the upper substrate using bonding wires 34 and 34 to emit light. P-type pads and N-type pads of the diode chip 33 are electrically connected to the upper conductive layers 14 and 14, which are positive electrode patterns and negative electrode patterns, respectively.

그후, 상부 기판의 개공(16), 본딩 와이어(34), 상부 기판의 상부 전기전도층(14)(14)의 와이어 본딩 부분을 포함하는 상부 기판 상에 예를 들면 투명 에폭시를 이용하여 에폭시 몰딩(35)을 형성한다. 여기서, 발광 다이오드 유닛이 백색 광을 발광하도록 하기 위해서는 YAG계의 형광물질(예를 들면 yellow phosphor)이 혼합된 투명 에폭시를 이용하여 에폭시 몰딩하면 된다.The epoxy molding is then used, for example, with a transparent epoxy on the upper substrate comprising the opening 16 of the upper substrate, the bonding wire 34, and the wire bonding portions of the upper conductive layers 14, 14 of the upper substrate. (35) is formed. Herein, in order for the light emitting diode unit to emit white light, epoxy molding may be performed using a transparent epoxy mixed with YAG-based fluorescent material (for example, yellow phosphor).

상기와 같은 공정을 통하여 제조된 본 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛에서는, 상부 기판의 상부 전기전도층(14)(14)은 발광 다이오드 칩(33)의 양의 전극 패턴 및 음의 전극패턴으로 되고, 상부 기판의 상부 전기전도층(14a)(14b)은 발광 다이오드 칩(33) 어레이의 양의 전원배선 및 음의 전원배선으로 되며, 상부 기판의 하부 열전도층(12), 하부 기판의 상부 열전도층(24) 및 하부 기판의 하부 열전도층(22)은 발광 다이오드 칩(33) 어레이에 의하여 발생된 열을 방열하는 방열판 기능을 수행하게 된다. 즉, 본 실시예에서는 3층의 방열판 구조를 갖게 되므로 발광 다이오드 칩(33) 어레이에 의하여 발생된 열을 효율적으로 방열할 수 있게 된다.In the light emitting diode array unit according to the present embodiment manufactured through the above process, the upper conductive layers 14 and 14 of the upper substrate are formed by the positive electrode pattern and the negative electrode pattern of the light emitting diode chip 33. The upper conductive layers 14a and 14b of the upper substrate become positive power wiring and negative power wiring of the array of light emitting diode chips 33, and the lower thermal conductive layer 12 of the upper substrate and the upper portion of the lower substrate The thermal conductive layer 24 and the lower thermal conductive layer 22 of the lower substrate serve as a heat sink to dissipate heat generated by the array of LED chips 33. That is, in the present embodiment, since the heat sink structure has three layers, the heat generated by the array of light emitting diode chips 33 can be efficiently dissipated.

한편, 상기 접착층(30)은 열전도율이 우수한 접착재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 이 경우, 상부 기판의 하부 열전도층(12)과 하부 기판의 상부 열전도층(24)은 열적으로 도통상태로 되므로, 발광 다이오드 칩(33) 어레이에 의하여 발생된 열을 하측으로 효율적으로 방열할 수 있게 된다. On the other hand, the adhesive layer 30 is preferably made of an adhesive material excellent in thermal conductivity. In this case, since the lower thermal conductive layer 12 of the upper substrate and the upper thermal conductive layer 24 of the lower substrate are in a thermally conductive state, heat generated by the array of light emitting diode chips 33 can be efficiently radiated downward. Will be.

또한, 도 11a 및 도 11b에서와 같이 하부 기판에 개공(26)을 형성하고, 개공면에 열전도율이 우수한 재질을 코팅 또는 도금하거나 또는 개공(26) 내에 열전도율이 우수한 재질을 충진한 경우에는 발광 다이오드 칩(33) 어레이에 의하여 발생된 열을 하측으로 효율적으로 방열할 수 있게 된다.Also, as shown in FIGS. 11A and 11B, when the opening 26 is formed in the lower substrate, and the surface having the excellent thermal conductivity is coated or plated or the material having the excellent thermal conductivity is filled in the opening 26, the light emitting diode The heat generated by the chip 33 array can be efficiently radiated downward.

한편, 상기한 실시예에서 상부 기판의 전기전도층(14a,14b)과 결합되는 전원 배선패드 또는 전원 커넥터와, 상부 기판의 하부 열전도층(12)과 하부 기판의 상부 및 하부 열전도층(24,22)과 결합되는 방열패드 또는 방열 커넥터를 형성 또는 설치하는 것는 당해 기술분야에 통상의 지식을 가진 자라면 공지된 다양한 방법을 이용하여 전극 패드 또는 전원 커넥터와 방열패드 또는 방열 커넥터를 용이하게 실시할 수 있는 것이므로, 이들의 형성 또는 설치에 대한 설명은 생략한다.Meanwhile, in the above-described embodiment, a power wiring pad or a power connector coupled with the conductive layers 14a and 14b of the upper substrate, the lower thermal conductive layer 12 of the upper substrate, and the upper and lower thermal conductive layers 24 of the lower substrate, Forming or installing a heat dissipation pad or a heat dissipation connector combined with 22) can be easily performed by a person skilled in the art using an electrode pad or a power connector and a heat dissipation pad or a heat dissipation connector. Since it can be, description of their formation or installation is omitted.

이상 설명한 바와 같이 상기한 특정 실시예들에 의한 발광 다이오드 유닛에 의하면, 종래 리드 프레임 제조, 방열판 제조, 발광 다이오드 패키지 제조, 인쇄회로기판 제조, 발광 다이오드 패키지 실장 등과 같이 복잡한 제조 공정에서 탈피하여, 다이 본딩 기술과 와이어 본딩 기술 및 에폭시 몰딩 기술만을 축적하면 인쇄회로기판 제조 공장에서 인쇄회로기판 제조 기술에 다이 본딩, 와이어 본딩 및 에폭시 몰딩을 추가하는 것만으로 제조할 수 있으므로 제조공정을 현저히 단순화할 수 있다. 이에 따라 제조 비용도 현저히 감소시킬 수 있다.As described above, according to the light emitting diode unit according to the above specific embodiments, the die is avoided in complicated manufacturing processes such as lead frame manufacturing, heat sink manufacturing, light emitting diode package manufacturing, printed circuit board manufacturing, and light emitting diode package mounting. Accumulating only bonding technology, wire bonding technology, and epoxy molding technology enables the PCB manufacturing plant to manufacture by simply adding die bonding, wire bonding, and epoxy molding to the PCB manufacturing technology, thereby greatly simplifying the manufacturing process. . As a result, the manufacturing cost can be significantly reduced.

또한, 상기한 특정 실시예들에 의한 발광 다이오드 유닛에 의하면, 종래 발광 다이오드 패키지와 인쇄회로기판 및 방열판을 구비하는 발광 다이오드 유닛에 비하여, 대략 두 개의 인쇄회로기판을 적층한 정도의 두께를 가지므로 전체 두께를 현저히 감소시킬 수 있고, 이로 인하여 박형화가 요구되는 전자장치에 적합하게 채택될 수 있다.In addition, according to the light emitting diode unit according to the above-described embodiments, the light emitting diode unit has a thickness of approximately two printed circuit boards, compared to a light emitting diode unit including a light emitting diode package, a printed circuit board, and a heat sink. The overall thickness can be significantly reduced, which makes it suitable for use in electronic devices requiring thinning.

또한, 상기한 특정 실시예들에 의한 발광 다이오드 유닛에 의하면, 상부 기판의 하부 열전도층과 상부 기판의 상부 및 하부 열전도층의 총 3개의 열전도층이 기존의 방열판 기능을 수행하므로, 별도의 방열판이 없이도 적절한 방열이 가능하게 된다.In addition, according to the light emitting diode unit according to the above specific embodiments, a total of three heat conduction layers of the lower heat conduction layer of the upper substrate and the upper and lower heat conduction layers of the upper substrate serve as a conventional heat sink. Without proper heat dissipation is possible.

한편, 상기한 특정 실시예에서는 별도의 방열판을 제거하고 있지만, 더욱 우수한 방열효과를 요하는 경우에는 필요에 따라 상기한 특정 실시예들에 의한 발광 다이오드 유닛을 방열판 상에 결합하여 사용하여도 되는 것임은 물론이다.On the other hand, in the above specific embodiment is removed a separate heat sink, but if a more excellent heat dissipation effect is required may be used in combination with the light emitting diode unit according to the specific embodiments on the heat sink as needed. Of course.

한편, 본 발명은 상기한 특정 실시예들에 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지로 변형 및 수정하여 실시할 수 있는 것이다. 이러한 변형 및 수정이 첨부하는 특허청구범위에 포함되는 것이라면 본 발명에 속하는 것임은 물론이다.On the other hand, the present invention is not limited to the above specific embodiments, it can be carried out by variously modified and modified within the scope not departing from the gist of the present invention. If such changes and modifications are included in the appended claims, of course, they belong to the present invention.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 상부 기판의 가공전 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.1A and 1B illustrate a plan view and a cross-sectional structure before processing of an upper substrate constituting a single light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 상부 기판의 개공후 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.2A and 2B illustrate a plan view and a cross-sectional structure after opening of an upper substrate constituting a single light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 상부 기판의 개공면에 반사막을 도금한 후 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.3A and 3B illustrate a planar and cross-sectional structure after plating of a reflective film on an opening surface of an upper substrate constituting a single light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 하부 기판의 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.4A and 4B illustrate plan and cross-sectional structures of a lower substrate constituting a single light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛을 구성하는 하부 기판을 개공하고 개공면에 열전도막을 코팅 또는 도금한 후의 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.5A and 5B illustrate a plan view and a cross-sectional structure after opening a lower substrate constituting a single light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention and coating or plating a thermal conductive film on the opening surface.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 단일 발광 다이오드 유닛의 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.6A and 6B illustrate plan and cross-sectional structures of a single light emitting diode unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 상부 기판의 가공전 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.7A and 7B illustrate a plan view and a cross-sectional structure of a top substrate of an upper substrate constituting a light emitting diode array unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 상부 기판의 개공후 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.8A and 8B illustrate a plan view and a cross-sectional structure after opening of the upper substrate constituting the LED array unit according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9a 및 도 9b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 상부 기판의 개공면에 반사막을 도금한 후 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.9A and 9B illustrate a planar and cross-sectional structure after plating of a reflective film on an opening surface of an upper substrate constituting a light emitting diode array unit according to a preferred embodiment of the present invention.

도 10a 및 도 10b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 하부 기판의 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.10A and 10B illustrate a plan view and a cross-sectional structure of a lower substrate constituting the LED array unit according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 11a 및 도 11b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛을 구성하는 하부 기판을 개공하고 개공면에 열전도막을 코팅 또는 도금한 후의 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.11A and 11B illustrate a plan view and a cross-sectional structure after opening a lower substrate constituting a light emitting diode array unit according to a preferred embodiment of the present invention and coating or plating a thermal conductive film on the opening surface.

도 12a 및 도 12b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 발광 다이오드 어레이 유닛의 평면과 단면 구조를 도시한 도면이다.12A and 12B illustrate a plan view and a cross-sectional structure of a light emitting diode array unit according to a preferred embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

10 : 상부 기판 12 : 하부 열전도층10: upper substrate 12: lower thermal conductive layer

14 : 상부 전기전도층 16 : 개공14: upper conductive layer 16: opening

16a : 경사면 18 : 반사막16a: slope 18: reflective film

20 : 하부 기판 22 : 하부 열전도층20: lower substrate 22: lower thermal conductive layer

24 : 상부 열전도층 26 : 개공24: upper thermal conductive layer 26: opening

30 : 접착층 32 : 전기전도막30: adhesive layer 32: electrical conductive film

33 : 발광 다이오드 칩 34 : 본딩 와이어33: light emitting diode chip 34: bonding wire

35 : 에폭시 몰딩35: epoxy molding

Claims (13)

절연 기판의 상면에는 양의 전극 패턴과 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층이 형성되고 절연 기판의 하면에는 방열기능을 위한 열전도층이 형성되며, 상기 양의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층과 상기 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층 사이에 개공이 형성된 상부 기판을 준비하는 제1공정과;An upper conductive layer formed of a positive electrode pattern and a negative electrode pattern is formed on an upper surface of the insulating substrate, and a thermal conductive layer is formed on the lower surface of the insulating substrate for a heat dissipation function. A first step of preparing an upper substrate having openings formed between the upper conductive layers serving as the negative electrode patterns; 절연 기판의 상면과 하면에 방열기능을 위한 상부 및 하부 열전도층이 형성된 하부 기판을 준비하는 제2공정과;A second process of preparing a lower substrate having upper and lower thermal conductive layers formed on upper and lower surfaces of the insulating substrate for heat dissipation; 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 접착층을 매개로 접착하는 제3공정과;A third step of adhering the upper substrate and the lower substrate through an adhesive layer; 상기 상부 기판의 개공의 상기 접착층 상에 발광 다이오드 칩을 실장하는 제4공정과;A fourth step of mounting a light emitting diode chip on the adhesive layer in the opening of the upper substrate; 상기 발광 다이오드 칩의 N형 패드 및 P형 패드를 상기 양의 전극 패턴과 음의 전극 패턴으로 되는 상부 전기전도층에 와이어 본딩하는 제5공정과;A fifth step of wire-bonding the N-type pad and the P-type pad of the light emitting diode chip to the upper conductive layer, wherein the upper electrode conductive layer becomes a positive electrode pattern and a negative electrode pattern; 상기 상부 기판의 개공과 와이어 본딩 부분을 에폭시 몰딩하는 제6공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.And a sixth step of epoxy molding the opening and the wire bonding portion of the upper substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 개공은 아래쪽으로 갈수록 개구가 좁아지는 경사면을 갖으며, 상기 제1공정에서의 상부 기판에는 상기 개공의 경사면에 광 반사용 반사막이 도금되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.The opening has an inclined surface in which the opening is narrowed toward the lower side, and a light reflecting film is plated on the inclined surface of the opening in the upper substrate in the first step. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공의 내면이 열전도율이 우수한 재질로 코팅 또는 도금되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.At least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and the inner surface of the opening of the lower substrate is coated or plated with a material having excellent thermal conductivity so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. The manufacturing method of the light emitting diode unit characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공 내에 열전도율이 우수한 재질이 충진되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.At least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and a material having excellent thermal conductivity is filled in the opening of the lower substrate so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. The manufacturing method of the light emitting diode unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제3공정에서의 접착층은 열전도율이 우수한 접착제로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.The method of manufacturing a light emitting diode unit, characterized in that the adhesive layer in the third step is made of an adhesive having excellent thermal conductivity. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제4공정에서는 상기 접착층 위에 전기 전도율이 우수한 전기전도막을 도포한 후에 상기 도포된 전기전도막 상에 상기 발광 다이오드 칩을 실장하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.And in the fourth step, after applying an electric conductive film having excellent electrical conductivity onto the adhesive layer, mounting the light emitting diode chip on the coated electric conductive film. 절연 기판의 상면에는 일정 간격을 두고 이격되어 일렬로 배치된 복수의 전극 패턴과, 상기 복수의 전극 패턴 중 일측 끝의 전극 패턴과 연결된 양의 전원 배선 패턴 및, 상기 복수의 전극 패턴 중 타측 끝의 전극 패턴과 연결된 음의 전원 배선 패턴으로 되는 상부 전기전도층이 형성되고, 상기 절연 기판의 하면에는 방열기능을 위한 열전도층이 형성되며, 상기 인접하는 전극 패턴 사이에 개공이 형성된 상부 기판을 준비하는 제1공정과;On the upper surface of the insulating substrate, a plurality of electrode patterns spaced apart at regular intervals, arranged in a row, a positive power wiring pattern connected to an electrode pattern at one end of the plurality of electrode patterns, and the other end of the plurality of electrode patterns An upper conductive layer formed of a negative power wiring pattern connected to an electrode pattern is formed, and a thermal conductive layer for heat dissipation is formed on a lower surface of the insulating substrate, and an upper substrate having openings formed between the adjacent electrode patterns is prepared. A first step; 절연 기판의 상면과 하면에 방열기능을 위한 상부 및 하부 열전도층이 형성된 하부 기판을 준비하는 제2공정과;A second process of preparing a lower substrate having upper and lower thermal conductive layers formed on upper and lower surfaces of the insulating substrate for heat dissipation; 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 접착층을 매개로 접착하는 제3공정과;A third step of adhering the upper substrate and the lower substrate through an adhesive layer; 상기 상부 기판의 개공의 상기 접착층 상에 발광 다이오드 칩을 실장하는 제4공정과;A fourth step of mounting a light emitting diode chip on the adhesive layer in the opening of the upper substrate; 상기 발광 다이오드 칩의 N형 패드를 인접하는 일측 전극 패턴과 와이어 본딩하고 상기 발광 다이오드 칩의 P형 패드를 인접하는 타측 전극 패턴과 와이어 본딩하는 제5공정과;A fifth step of wire bonding the N-type pad of the light emitting diode chip to an adjacent one electrode pattern and wire bonding the P-type pad of the light emitting diode chip to an adjacent other electrode pattern; 상기 상부 기판의 개공과 상기 와이어 본딩 부분을 에폭시 몰딩하는 제6공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.And a sixth step of epoxy molding the opening of the upper substrate and the wire bonding portion. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 개공은 아래쪽으로 갈수록 개구가 좁아지는 경사면을 갖으며, 상기 제1공정에서의 상부 기판에는 상기 개공의 경사면에 광 반사용 반사막이 도금되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.The opening has an inclined surface in which the opening is narrowed toward the lower side, and a light reflecting film is plated on the inclined surface of the opening in the upper substrate in the first step. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공의 내면이 열전도율이 우수한 재질로 코팅 또는 도금되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.At least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and the inner surface of the opening of the lower substrate is coated or plated with a material having excellent thermal conductivity so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. The manufacturing method of the light emitting diode unit characterized by the above-mentioned. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2공정에서의 하부 기판에는 적어도 하나의 개공이 형성되며, 상기 상부 열전도층과 상기 하부 열전도층이 열적으로 도통되도록 하기 위해 상기 하부 기판의 개공 내에 열전도율이 우수한 재질이 충진되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.At least one opening is formed in the lower substrate in the second process, and a material having excellent thermal conductivity is filled in the opening of the lower substrate so that the upper thermal conductive layer and the lower thermal conductive layer are thermally conductive. The manufacturing method of the light emitting diode unit. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제3공정에서의 접착층은 열전도율이 우수한 접착제로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.The method of manufacturing a light emitting diode unit, characterized in that the adhesive layer in the third step is made of an adhesive having excellent thermal conductivity. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제4공정에서는 상기 접착층 위에 전기 전도율이 우수한 전기전도막을 도포한 후에 상기 도포된 전기전도막 상에 상기 발광 다이오드 칩을 실장하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛의 제조 방법.And in the fourth step, after applying an electric conductive film having excellent electrical conductivity onto the adhesive layer, mounting the light emitting diode chip on the coated electric conductive film. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의하여 제조된 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 유닛.The light emitting diode unit manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-12.
KR1020090006048A 2009-01-23 2009-01-23 Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method KR101051488B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090006048A KR101051488B1 (en) 2009-01-23 2009-01-23 Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090006048A KR101051488B1 (en) 2009-01-23 2009-01-23 Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100089115A KR20100089115A (en) 2010-08-12
KR101051488B1 true KR101051488B1 (en) 2011-07-25

Family

ID=42755039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090006048A KR101051488B1 (en) 2009-01-23 2009-01-23 Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101051488B1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014093063A1 (en) * 2012-12-10 2014-06-19 LuxVue Technology Corporation Light emitting device reflective bank structure
US9029880B2 (en) 2012-12-10 2015-05-12 LuxVue Technology Corporation Active matrix display panel with ground tie lines
US9111464B2 (en) 2013-06-18 2015-08-18 LuxVue Technology Corporation LED display with wavelength conversion layer
US9159700B2 (en) 2012-12-10 2015-10-13 LuxVue Technology Corporation Active matrix emissive micro LED display

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8198109B2 (en) * 2010-08-27 2012-06-12 Quarkstar Llc Manufacturing methods for solid state light sheet or strip with LEDs connected in series for general illumination
KR102017464B1 (en) * 2013-03-27 2019-09-03 현대모비스 주식회사 Substrate for mounting laser diode using light source module for vehicle
TWI668877B (en) * 2018-11-13 2019-08-11 同泰電子科技股份有限公司 Production method for a photoelectric mechanism having a blocking wall

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008053718A (en) * 2006-08-24 2008-03-06 Lg Innotek Co Ltd Light emitting device, manufacturing method thereof, and light unit
KR20090001849A (en) * 2007-05-28 2009-01-09 한국광기술원 Light emitting diode package for thermal via and its method
KR20090072644A (en) * 2007-12-28 2009-07-02 한국 고덴시 주식회사 High power led package and manufacturing method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008053718A (en) * 2006-08-24 2008-03-06 Lg Innotek Co Ltd Light emitting device, manufacturing method thereof, and light unit
KR20090001849A (en) * 2007-05-28 2009-01-09 한국광기술원 Light emitting diode package for thermal via and its method
KR20090072644A (en) * 2007-12-28 2009-07-02 한국 고덴시 주식회사 High power led package and manufacturing method thereof

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9559142B2 (en) 2012-12-10 2017-01-31 Apple Inc. Active matrix display panel with ground tie lines
US9159700B2 (en) 2012-12-10 2015-10-13 LuxVue Technology Corporation Active matrix emissive micro LED display
WO2014093063A1 (en) * 2012-12-10 2014-06-19 LuxVue Technology Corporation Light emitting device reflective bank structure
US11916048B2 (en) 2012-12-10 2024-02-27 Apple Inc. Light emitting device reflective bank structure
US11373986B2 (en) 2012-12-10 2022-06-28 Apple Inc. Light emitting device reflective bank structure
US9178123B2 (en) 2012-12-10 2015-11-03 LuxVue Technology Corporation Light emitting device reflective bank structure
US9214494B2 (en) 2012-12-10 2015-12-15 LuxVue Technology Corporation Active matrix display panel with ground tie lines
US9620487B2 (en) 2012-12-10 2017-04-11 Apple Inc. Light emitting device reflective bank structure
GB2522816A (en) * 2012-12-10 2015-08-05 Luxvue Technology Corp Light emitting device reflective bank structure
US9029880B2 (en) 2012-12-10 2015-05-12 LuxVue Technology Corporation Active matrix display panel with ground tie lines
US9343448B2 (en) 2012-12-10 2016-05-17 LuxVue Technology Corporation Active matrix emissive micro LED display
GB2522816B (en) * 2012-12-10 2017-10-18 Apple Inc Light emitting device reflective bank structure
US10784236B2 (en) 2012-12-10 2020-09-22 Apple Inc. Light emitting device reflective bank structure
US10043784B2 (en) 2012-12-10 2018-08-07 Apple Inc. Light emitting device reflective bank structure
US9865577B2 (en) 2013-06-18 2018-01-09 Apple Inc. LED display with wavelength conversion layer
US9599857B2 (en) 2013-06-18 2017-03-21 Apple Inc. LED display with wavelength conversion layer
US9111464B2 (en) 2013-06-18 2015-08-18 LuxVue Technology Corporation LED display with wavelength conversion layer

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100089115A (en) 2010-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101255121B1 (en) Lighting emitting diode package and Method for manufacturing the same
KR101051488B1 (en) Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method
KR20110056306A (en) Efficient led array
JP5940799B2 (en) Electronic component mounting package, electronic component package, and manufacturing method thereof
US20130200400A1 (en) Pcb having individual reflective structure and method for manufacturing light emitting diode package using the same
US20130062656A1 (en) Thermally enhanced optical package
KR20110080474A (en) Led package with heat radiation substrate
EP2472616B1 (en) Light-emitting device package and method of manufacturing the same
TWI472067B (en) Optical package and method of manufacturing the same
US10784423B2 (en) Light emitting device
KR101051690B1 (en) Optical package and manufacturing method of the same
KR100979971B1 (en) Method of manufacturing light emitting diode unit and light emitting diode unit manufactured by the method
KR101051489B1 (en) Method for manufacturing light emitting diode unit, and light emitting diode unit manufactured by this method
KR101129002B1 (en) Optical package and manufacturing method of the same
KR101166066B1 (en) Light Emitting Diode Package
KR101077479B1 (en) Method of manufacturing light emitting diode unit and light emitting diode unit manufactured by the method
KR20130015482A (en) Lighting emitting diode package and method for manufacturing the same
KR101264251B1 (en) Metal substrate having multi reflective layer and Lighting emitting diode package using the same
KR101128991B1 (en) Side view optical package and manufacturing method of the same
KR101768908B1 (en) Metal printed circuit board and method for manufacturing same and light emitting diode package structure and method for manufacturing same
KR101241447B1 (en) Lighting emitting diode package and Method for manufacturing the same
KR101078833B1 (en) Light emitting diode unit
KR101146656B1 (en) Optical package and manufacturing method of the same
KR101146659B1 (en) Optical package and manufacturing method of the same
KR101136392B1 (en) Optical package and manufacturing method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150720

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160719

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180122

Year of fee payment: 7