KR101048813B1 - Substrate Processing Unit Collecting Chemical Liquid Fume - Google Patents

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Abstract

본 발명은 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치는 소정의 공정을 수행되는 공간을 제공하는 공정 챔버, 상기 공정 챔버 내의 기판에 약액을 공급하여 소정의 공정을 수행하는 공정 처리부, 및 상기 공정 중에 발생하는 약액 흄(Fume)을 배기하는 배기부를 포함하며, 상기 배기부는 상기 공정 챔버에 일단이 접속되어 연결되며 타단은 상기 공정 챔버 외부에 개방되어 상기 약액 흄을 외부로 배출하는 배기 라인, 및 상기 배기 라인을 통과하면서 응축되는 상기 약액 흄을 수집하는 수집 라인을 포함한다.The present invention provides a substrate processing apparatus for collecting a chemical liquid fume. A substrate processing apparatus for collecting a chemical liquid fume according to an embodiment of the present invention includes a process chamber providing a space for performing a predetermined process, a process processing unit for supplying a chemical liquid to a substrate in the process chamber, and performing a predetermined process; An exhaust part for exhausting a chemical liquid fume generated during the process, wherein the exhaust part is connected to one end of the process chamber and is connected to the other end and is opened outside the process chamber to discharge the chemical liquid fume to the outside. And a collection line for collecting the chemical liquid fume condensed while passing through the exhaust line.

배기 장치, 배기 시스템, 수집 라인, 응축 Exhaust system, exhaust system, collection line, condensation

Description

약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치{Apparatus of processing substrates for removing fume.}Apparatus of processing substrates for removing fume.

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 공정 수행 시에 발생되는 약액 흄을 수집할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus capable of collecting a chemical liquid fume generated when performing a process.

최근 들어 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(Cathode Ray Tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. This information processing apparatus has a display device for displaying the operated information. Until now, a cathode ray tube monitor has been mainly used as a display device, but recently, with the rapid development of semiconductor technology, the use of a flat display device that is light and occupies a small space is rapidly increasing.

디스플레이 장치로서, 현재 주목받고 있는 것은 액정 디스플레이 장치, 유기 EL 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치이다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)를 예로 들 수 있다. As a display device, what is currently attracting attention is a flat panel display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device, a plasma display device and the like. There are various types of flat panel displays, and among them, a liquid crystal display, which is a low power consumption and a small volume, and a low voltage driving type, is an example.

이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정으로는 식각, 수세, 건조 또는 열처리 공정 등이 있다. 이 같은 공정들은 기체를 이용하는 건식 공정과 액체를 이용하는 습식공정으로 구분되며, 건식 공정은 공정 챔버 내에 기판 처리에 필요한 가스를 공급하고 적절한 압력 및 온도를 조절하여 진행될 수 있다.Various processes are performed to produce such a liquid crystal display. Such processes include etching, washing with water, drying or heat treatment. Such processes are classified into a dry process using a gas and a wet process using a liquid. The dry process may be performed by supplying a gas necessary for treating a substrate in a process chamber and adjusting an appropriate pressure and temperature.

한편, 배기에서는 불필요한 약액 또는 흄(Fume) 등이 배기구를 통하여 배기될 수 있다. 따라서, 약액 또는 흄 등에 의해 설비 등이 부식이나 오염되지 않도록 배기 시스템을 개선할 필요가 있다.Meanwhile, in the exhaust, unnecessary chemical liquid or fume may be exhausted through the exhaust port. Therefore, it is necessary to improve the exhaust system so that the facilities and the like are not corroded or contaminated by chemical liquids or fumes.

본 발명의 해결하고자 하는 과제는 약액 흄(Fume)을 효율적으로 수거할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 데 있다.The problem to be solved by the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can efficiently collect the chemical liquid fume (Fume).

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상술한 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치의 일 양태(Aspect)는 소정의 공정을 수행되는 공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버 내의 기판에 약액을 공급하여 소정의 공정을 수행하는 공정 처리부; 및 상기 공정 중에 발생하는 약액 흄(Fume)을 배기하는 배기부를 포함하며, 상기 배기부는 상기 공정 챔버에 일단이 접속되어 연결되며, 타단은 상기 공정 챔버 외부에 개방되어 상기 약액 흄을 외부로 배출하는 배기 라인; 및 상기 배기 라인을 통과하면서 응축되는 상기 약액 흄을 수집하는 수집 라인을 포함한다.One aspect of the substrate processing apparatus for collecting the chemical liquid fume of the present invention in order to achieve the above object is a process chamber for providing a space for performing a predetermined process; A process processor for supplying a chemical liquid to the substrate in the process chamber to perform a predetermined process; And an exhaust unit configured to exhaust the chemical liquid fume generated during the process, wherein the exhaust unit is connected to one end of the process chamber and the other end is opened outside the process chamber to discharge the chemical liquid fume to the outside. Exhaust line; And a collection line for collecting the chemical liquid fume condensed while passing through the exhaust line.

본 발명의 일 실시예에 따를 경우, 약액 흄(Fume)을 효율적으로 수거하여 약액 흄에 의한 설비 부식을 줄일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, by effectively collecting the chemical fume (Fume) can reduce the corrosion of the equipment by the chemical fume.

이와 함께, 약액 흄(Fume)을 수거하여 약액의 손실을 줄일 수 있다.In addition, the chemical liquid fume (Fume) can be collected to reduce the loss of the chemical liquid.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

하나의 소자(elements)가 다른 소자와 "접속된(connected to)" 또는 "커플링된(coupled to)" 이라고 지칭되는 것은, 다른 소자와 직접 연결 또는 커플링된 경우 또는 중간에 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 하나의 소자가 다른 소자와 "직접 접속된(directly connected to)" 또는 "직접 커플링된(directly coupled to)"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자를 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.When an element is referred to as being "connected to" or "coupled to" with another element, it may be directly connected to or coupled with another element or through another element in between. This includes all cases. On the other hand, when one device is referred to as "directly connected to" or "directly coupled to" with another device indicates that no other device is intervened. Like reference numerals refer to like elements throughout. “And / or” includes each and all combinations of one or more of the items mentioned.

비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various elements, components and / or sections, these elements, components and / or sections are of course not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one element, component or section from another element, component or section. Therefore, the first device, the first component, or the first section mentioned below may be a second device, a second component, or a second section within the technical spirit of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. As used herein, “comprises” and / or “comprising” refers to the presence of one or more other components, steps, operations and / or elements. Or does not exclude additions.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art. In addition, the terms defined in the commonly used dictionaries are not ideally or excessively interpreted unless they are specifically defined clearly.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치는 공정 챔버(100), 공정 처리부(200) 및 배기부(300)를 포함할 수 있다.1 is a view schematically showing a substrate processing apparatus for collecting a chemical liquid fume according to an embodiment of the present invention. The substrate processing apparatus for collecting the chemical liquid fume according to an embodiment of the present invention may include a process chamber 100, a process processor 200, and an exhaust unit 300.

공정 챔버(100)는 식각 처리, 세정 처리 등과 같은 처리가 이루어지는 장소를 제공한다. 공정 챔버(100)는 대략 직육면체 형상으로 이루어질 수 있으나, 그에 제한되지 않는다. The process chamber 100 provides a place where a treatment such as an etching process, a cleaning process, or the like is performed. The process chamber 100 may be formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, but is not limited thereto.

공정 처리부(200)는 공정 챔버(100)내의 기판(s)에 약액을 공급하여 소정의 공정을 수행하는 역할을 한다. 공정 처리부(200)는 기판(s)에 약액 처리를 수해하여, 기판에 대한 소정의 공정이 공정 챔버(100)내에서 이루어지도록 할 수 있다.The process processor 200 performs a predetermined process by supplying a chemical liquid to the substrate s in the process chamber 100. The process processor 200 may perform chemical liquid treatment on the substrate s so that a predetermined process for the substrate may be performed in the process chamber 100.

공정 처리부(200)는 기판 이송부(140) 및 분사 노즐부(170)를 더 포함할 수 있다. 기판 이송부(140)는 기판을 이송하고 지지한다. 기판 이송부(140)는 기판 이송 샤프트(142) 및 기판 이송 샤프트(142)에 설치된 이송 롤러(144)를 포함할 수 있다. 기판 이송부(140)는 이송 샤프트(142)를 구동부(미도시)에 의해 회전시켜, 이송 롤러(144)를 회전시킴으로써 기판을 이송시킬 수 있다. 또한, 기판 이송부(140)는 소정의 각도만큼 기울어진 상태가 될 수 있다. 소정의 각도만큼 기울어진 상태가 되게 함으로써, 분사된 약액이 기판 상에 균일하게 도포된 이후 약액이 경사진 기판을 따라 흘러내려 제거될 수 있다.The process processor 200 may further include a substrate transfer unit 140 and an injection nozzle unit 170. The substrate transfer unit 140 transfers and supports the substrate. The substrate transfer unit 140 may include a substrate transfer shaft 142 and a transfer roller 144 installed on the substrate transfer shaft 142. The substrate transfer unit 140 may rotate the transfer shaft 142 by a driving unit (not shown) to rotate the transfer roller 144 to transfer the substrate. In addition, the substrate transfer unit 140 may be inclined by a predetermined angle. By inclined by a predetermined angle, the chemical liquid can be removed by flowing down the inclined substrate after the sprayed chemical liquid is uniformly applied onto the substrate.

분사 노즐부(170)는 기판 상에 약액을 분사하는 역할을 한다. 분사 노즐부(170)는 노즐 지지대(160) 및 복수개의 분사 노즐(165)을 포함할 수 있다. 분사 노즐부(170)는 노즐 지지대(160) 상의 통로를 통하여 약액을 공급하며, 소정의 압력 및 온도를 가지는 약액을 복수개의 분사 노즐(165)을 통하여 기판 상에 분사할 수 있다. 각각의 분사 노즐(165) 상에는 약액의 유량을 조절할 수 있는 유량 조절기(미도시)를 더 포함할 수 있다.The spray nozzle unit 170 serves to spray the chemical liquid on the substrate. The spray nozzle unit 170 may include a nozzle support 160 and a plurality of spray nozzles 165. The spray nozzle unit 170 supplies the chemical liquid through a passage on the nozzle support 160, and may spray the chemical liquid having a predetermined pressure and temperature on the substrate through the plurality of spray nozzles 165. Each injection nozzle 165 may further include a flow controller (not shown) that can adjust the flow rate of the chemical liquid.

배기부(300)는 약액 흄(Fume)을 제거하는 역할을 한다. 여기서, 약액 흄은 고온의 약액이 기판이 분사되어 소정의 공정에 사용된 후에 기화 되거나 기체 상태로 공정 챔버(100) 내에서 잔류하는 것을 지칭한다. 이러한 약액 흄은 공정 챔버(100) 내에서 부유하다가 기판에 안착할 수 있고 또는 공정 챔버(100) 내의 내벽, 기판 이송부(140) 또는 분사 노즐부(170) 등에 안착되어 설비를 부식시킬 수 있다. 따라서, 공정 챔버(100) 내에 부유하는 약액 흄을 흡입하여 외부로 배출할 필요가 있다.The exhaust part 300 serves to remove the chemical liquid fume. Here, the chemical liquid fume refers to the high temperature chemical liquid being vaporized or remaining in the process chamber 100 in a gaseous state after the substrate is sprayed and used in a predetermined process. The chemical fume may float in the process chamber 100 and be seated on the substrate, or may be deposited on the inner wall of the process chamber 100, the substrate transfer unit 140, or the spray nozzle unit 170 to corrode the facility. Therefore, it is necessary to suck and discharge the chemical liquid fume suspended in the process chamber 100 to the outside.

배기부(300)는 공정 챔버(100)에 일단이 접속되어 연결되며, 타단은 상기 공정 챔버 외부에 개방되어 상기 약액 흄을 외부로 배출하는 배기 라인(350), 및 배기 라인(350)의 중간에 접속되어 상기 배기 라인(350)을 통과하면서 응축되는 약액 흄을 수집하는 수집 라인(370)을 포함할 수 있다.One end of the exhaust part 300 is connected to the process chamber 100, and the other end thereof is opened outside the process chamber to discharge the chemical fume to the outside, and the middle of the exhaust line 350. It may include a collection line 370 connected to the collection line for collecting the chemical liquid fume that is condensed while passing through the exhaust line (350).

배기 라인(350)은 공정 챔버(100) 내에 잔류 또는 부유하는 약액 흄을 공정 챔버 외부로 배기하는 통로를 제공하는 역할을 한다. 배기 라인(350)은 소정의 파이프의 조합으로 구성될 수 있다. 배기 라인(350)의 공정 챔버(100)에 연결된 일단 및 외부에 연결된 타단 사이의 중간 부분의 배관이 예를 들어, 'V' 또는 'U' 형으로 구성될 수 있다. 또는 배기 라인(350)의 중간 부분의 배관이 'ㄱ' 또는 'ㄴ' 형으로 구부러진 형상이 될 수 있다. 배기 라인(350)의 끝단에는 약액 흄을 외부로 강제로 배출하기 위한 흡인 수단(미도시)을 더 포함할 수 있다. 상기 흡입 수단(미도시)은 복수의 날개를 포함하는 바람개비 및 상기 바람개비를 회전시키는 회전 구동부를 포함할 수 있다. The exhaust line 350 serves to provide a passage for exhausting the chemical liquid fumes remaining or floating in the process chamber 100 to the outside of the process chamber. The exhaust line 350 can be composed of any combination of pipes. The piping of the middle portion between one end connected to the process chamber 100 of the exhaust line 350 and the other end connected to the outside may be configured, for example, in a 'V' or 'U' type. Alternatively, the pipe of the middle portion of the exhaust line 350 may have a shape bent in a 'b' or 'b' shape. An end of the exhaust line 350 may further include a suction means (not shown) for forcibly discharging the chemical fume to the outside. The suction means (not shown) may include a pinwheel including a plurality of wings and a rotation drive to rotate the pinwheel.

수집 라인(370)은 상기 배관 라인(350)의 중간 부분에 연결되어, 약액 흄이 응축된 용액을 수집하는 역할을 한다. 수집 라인(370)은 배기 라인(350)을 통과하는 약액 흄이 응축되어 모여지는 액체를 중력 또는 흡입기(미도시) 등에 의하여 수집통(375)으로 수거할 수 있다. The collection line 370 is connected to the middle portion of the piping line 350, and serves to collect the solution in which the chemical liquid fume is condensed. The collection line 370 may collect the liquid collected by condensation of the chemical liquid fume passing through the exhaust line 350 to the collection container 375 by gravity or an inhaler (not shown).

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치에서 배관 라인의 중간 부분 및 수집 라인을 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a view schematically illustrating a middle portion and a collecting line of a piping line in a substrate processing apparatus for collecting chemical liquid fume according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 배기 라인(350)의 중간 부분은 'V'자 형으로 아래로 구부러진 형상일 수 있다. 공정 챔버(100) 내의 약액 흄은 온도가 높은 공정 챔버(100) 내에서 온도가 낮은 외부로 이동하면서, 배기 라인(350) 내에서 응축될 수 있다. 따라서, 일정한 거리를 이동하는 약액 흄은 온도가 낮아짐에 의해 응축되어, 배기 라인(350)의 내면에 부착될 수 있다. Referring to FIG. 2, the middle portion of the exhaust line 350 may be bent downward in a 'V' shape. The chemical liquid fume in the process chamber 100 may condense in the exhaust line 350 while moving out of the high temperature in the process chamber 100 having a high temperature. Therefore, the chemical liquid fumes traveling at a certain distance may be condensed by lowering the temperature and may be attached to the inner surface of the exhaust line 350.

예를 들어, 배기 라인(350)의 중간 부분이 'V'자 형 또는 'U' 자형 이거나 또는 아래로 구부러진 형상 등이면, 응축된 약액 흄이 중력에 의해 소정의 지점으로 모일 수 있다. 예를 들어, 도 2에서와 같이 'V'자형이면, 응축된 약액 흄이 'V' 자형의 가운데로 모일 수 있다.For example, when the middle portion of the exhaust line 350 is a 'V' shape or a 'U' shape, or a shape bent downward, the condensed chemical liquid fume may gather to a predetermined point by gravity. For example, if the 'V' shape as shown in Figure 2, the condensed chemical fume can be collected in the center of the 'V' shape.

이 때, 수집 라인(370)을 'V' 자형 중간 부분에 연결시키면, 응축된 약액 흄이 수집 라인(370)으로 모여들어 수집될 수 있다. 수집 라인(370)은 응축된 약액 흄이 통과하는 통로를 따라 약액 흄을 임시로 저장하는 저장통(375)을 더 포함할 수 있다. At this time, when the collection line 370 is connected to the 'V' shaped middle portion, the condensed chemical liquid fume may be collected and collected in the collection line 370. The collection line 370 may further include a reservoir 375 for temporarily storing the chemical liquid fume along a passage through which the condensed chemical liquid fume passes.

이와 함께, 배기부(300)는 배기 라인(350)을 냉각시키는 냉각부(310)를 더 포함할 수 있다. 냉각부(310)는 배기 라인(350)을 냉각시켜, 배기 라인(350)을 통과하는 약액 흄을 강제로 냉각시키는 역할을 한다. 냉각부(310)는 배기 라인(350)에 냉각 기체를 분사하거나 또는 냉매 등에 의하여 배기 라인(350)의 일부를 냉각시킴으로써 배기 라인(350) 내부를 통과하는 약액 흄을 더욱 용이하게 응축시킬 수 있다.In addition, the exhaust unit 300 may further include a cooling unit 310 for cooling the exhaust line 350. The cooling unit 310 serves to cool the exhaust line 350 to forcibly cool the chemical fume passing through the exhaust line 350. The cooling unit 310 may more easily condense the chemical liquid fume passing through the exhaust line 350 by injecting a cooling gas into the exhaust line 350 or by cooling a part of the exhaust line 350 by a coolant or the like. .

상기와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면 배기 라인(350)을 통과하는 약액 흄이 냉각되면서 응축되어 약액을 포함하는 약액 흄이 액체 상태로 되어, 수집 라인(370)을 통하여 수거될 수 있다. 따라서, 배기 라인(350)의 외부로 방충되는 약액 흄을 줄이고, 공정 챔버(100) 내에 부유하는 약액 흄을 효율적으로 수거할 수 있다.As described above, according to an embodiment of the present invention, the chemical liquid fume passing through the exhaust line 350 is condensed while cooling, and thus the chemical liquid fume including the chemical liquid may be collected in the liquid state and collected through the collection line 370. . Therefore, it is possible to reduce the chemical liquid fume insect repellent to the outside of the exhaust line 350, and to efficiently collect the chemical liquid fume floating in the process chamber 100.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치에서 배관 라인의 중간 부분 및 수집 라인을 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 3 is a view schematically showing a middle portion and a collecting line of a piping line in a substrate processing apparatus for collecting chemical liquid fume according to another embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 배기 라인(350)의 중간 부분은 'U'자 형으로 아래로 구부러진 형상일 수 있다. 한편, 배기 라인(350)의 중간 부분에서의 배관 형태는 본 발명에서 제시한 'U' 자형 또는 'V' 자형 형태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 아래로 타원형처럼 구부러질 수 있고, 단지 위 또는 아래로 소정의 각도로 경사진 배관 형태로 될 수 있다. 이러한 경우, 응축된 약액 흄이 배기 라인(350)의 내벽을 따라 이동되어 모일 수 있는 지점에 수집 라인(370)을 위치시켜, 응축된 약액 흄을 수거할 수 있다.Referring to FIG. 3, the middle portion of the exhaust line 350 may be bent downward in a 'U' shape. On the other hand, the pipe shape in the middle portion of the exhaust line 350 is not limited to the 'U' shape or the 'V' shape proposed in the present invention. For example, it may be bent like an oval down and may be in the form of a pipe that is only inclined at an angle up or down. In this case, the collection line 370 may be located at a point where the condensed chemical liquid fume may be moved along the inner wall of the exhaust line 350 to collect the condensed chemical liquid fume.

배기 라인(350)의 내부에는 복수의 서브관(325)들을 포함하는 응축부(320)를 더 포함할 수 있다. 응축부(320)는 배기 라인(350)의 내부에서 복수의 서브 관로들을 형성시켜, 약액 흄이 복수의 서브 관(325)을 따라 이동하면서 응축되게 할 수 있다. 복수의 서브 관(325)들에 의하여 약액 흄과 접촉하는 표면적을 늘림으로써 약액 흄들이 서브 관(325)들에 응축되게 할 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 약액 흄은 온도가 높은 공정 챔버(100) 내에서 온도가 낮은 외부로 이동하면서, 배기 라인(350) 내의 응축부(320) 상의 서브 관(325)들에서 응축될 수 있다.The exhaust line 350 may further include a condenser 320 including a plurality of sub pipes 325. The condenser 320 may form a plurality of sub conduits within the exhaust line 350 to allow the chemical liquid fume to condense while moving along the plurality of sub conduits 325. The chemical liquid fumes can be condensed on the sub tubes 325 by increasing the surface area in contact with the chemical liquid fume by the plurality of sub tubes 325. As described above, the chemical liquid fume may be condensed in the sub-pipes 325 on the condensation unit 320 in the exhaust line 350 while moving out of the low temperature in the high temperature process chamber 100.

이와 함께, 배기 라인(350) 내부에는 소정의 메쉬를 포함하는 메쉬망(330)을 더 포함할 수 있다. 메쉬망(330)은 원, 사각형, 삼각형 등의 소정의 형태를 구비하는 메쉬(335)들을 포함하는 소정의 망 역할을 할 수 있다. 메쉬망(330)은 소정의 메쉬(335)들에 의하여 배기 라인(350)을 통과하는 약액 흄이 메쉬망(330)에 걸리게 하여, 응축되게 할 수 있다. 이와 함께, 메쉬망(330)은 약액 흄과 접촉하는 단면적을 늘림으로써 약액 흄의 응축을 유도할 수 있다. In addition, the exhaust line 350 may further include a mesh network 330 including a predetermined mesh. The mesh network 330 may serve as a predetermined network including meshes 335 having a predetermined shape such as a circle, a square, a triangle, or the like. The mesh net 330 may cause the chemical fume passing through the exhaust line 350 to be caught by the mesh 335 to the mesh net 330 to condense. In addition, the mesh network 330 may induce condensation of the chemical liquid fume by increasing the cross-sectional area in contact with the chemical liquid fume.

상기와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따르면 배기 라인(350)을 통과하는 약액 흄과의 접촉하는 단면적을 늘림으로써, 약액 흄의 응축되는 양을 늘릴 수 있다. 따라서, 공정 챔버(100)에서 외부로 배출을 시도하는 약액 흄을 응축시킴으로써, 유해한 약액 흄의 배출을 줄일 수 있다. 이와 함께, 공정 챔버(100) 내에 부유하는 약액 흄을 줄이고, 약액 흄을 효과적으로 수거하여 약액 흄을 배기시키는 배기부(300)의 설비 부식 등을 줄일 수 있다. As described above, according to another embodiment of the present invention, by increasing the cross-sectional area in contact with the chemical fume passing through the exhaust line 350, it is possible to increase the amount of condensation of the chemical fume. Therefore, by condensing the chemical liquid fume attempting to discharge to the outside in the process chamber 100, it is possible to reduce the discharge of harmful chemical liquid fume. In addition, the chemical liquid fume suspended in the process chamber 100 can be reduced, and the corrosion of the equipment of the exhaust unit 300 for exhausting the chemical liquid fume by effectively collecting the chemical liquid fume can be reduced.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적 인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains have various permutations and modifications without departing from the spirit or essential features of the present invention. It is to be understood that the present invention may be practiced in other specific forms, since modifications may be made. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.1 is a view schematically showing a substrate processing apparatus for collecting a chemical liquid fume according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치에서 배관 라인의 중간 부분 및 수집 라인을 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a view schematically illustrating a middle portion and a collecting line of a piping line in a substrate processing apparatus for collecting chemical liquid fume according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치에서 배관 라인의 중간 부분 및 수집 라인을 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 3 is a view schematically showing a middle portion and a collecting line of a piping line in a substrate processing apparatus for collecting chemical liquid fume according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 공정 챔버 200: 공정 처리부100: process chamber 200: process processing unit

300: 배기부300: exhaust

350: 배기 라인 370: 수집 라인350: exhaust line 370: collection line

310: 냉각부 320: 응축부310: cooling section 320: condensation section

330: 메쉬망330 mesh

Claims (5)

소정의 공정을 수행되는 공간을 제공하는 공정 챔버; A process chamber providing a space in which a predetermined process is performed; 상기 공정 챔버 내의 기판에 약액을 공급하여 소정의 공정을 수행하는 공정 처리부; 및A process processor for supplying a chemical liquid to the substrate in the process chamber to perform a predetermined process; And 상기 공정 중에 발생하는 약액 흄(Fume)을 배기하는 배기부를 포함하며,An exhaust unit for exhausting the chemical liquid fume (Fume) generated during the process, 상기 배기부는The exhaust part 상기 공정 챔버에 일단이 접속되어 연결되며, 타단은 상기 공정 챔버 외부에 개방되어 상기 약액 흄을 외부로 배출하는 배기 라인;An exhaust line having one end connected to the process chamber and the other end opened to the outside of the process chamber to discharge the chemical liquid fume to the outside; 상기 배기 라인을 통과하면서 응축되는 상기 약액 흄을 수집하는 수집 라인; 및 A collection line for collecting the chemical liquid fume condensed while passing through the exhaust line; And 상기 배기 라인의 외측을 감싸도록 형성되며, 상기 배기 라인을 냉각시켜 상기 약액 흄을 응축시키는 냉각부를 포함하는, 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치.And a cooling unit configured to surround the outer side of the exhaust line and to cool the exhaust line to condense the chemical liquid fume. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 배기 라인은 V 자형, U 자형 또는 아래로 구부러진 형상으로 구성되는, 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치.The exhaust line is a substrate processing apparatus for collecting the chemical liquid fume, consisting of a V-shaped, U-shaped or bent downward shape. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 배기부는The method of claim 1, wherein the exhaust portion 상기 배기 라인 내부에 끼워지며, 복수의 서브 관들로 구성되는 응축부를 더 포함하는, 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치.A substrate processing apparatus for collecting the chemical liquid fume further included within the exhaust line, the condenser comprising a plurality of sub tubes. 제 1항에 있어서, 상기 배기부는The method of claim 1, wherein the exhaust portion 상기 배기 라인 내부에 장착되고, 소정의 메쉬를 포함하는 메쉬망을 더 포함하는, 약액 흄을 수집하는 기판 처리 장치.And a mesh network mounted inside the exhaust line, the mesh network including a predetermined mesh.
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