KR101025613B1 - Capacitive type structure of multi-touch input for acquiring location and intensity of force - Google Patents

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Abstract

본 발명은 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상부와 하부전극층 사이에 충진재를 구비하여 멀티터치시 인가되는 복수개의 누름힘 간의 간섭을 최소화함으로써 정확한 누름힘의 위치와 세기를 획득할 수 있는 터치입력구조와 그 제작방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 터치입력구조는 일면에 상부전극층이 형성되어 있고, 터치에 의하여 변형가능한 상판: 상판과 소정의 간격 이격되어 구비되고, 일면에는 상부전극층과 대향되는 면에 하부전극층이 형성되어 있는 하판; 상판과 하판의 사이의 둘레에 구비되어, 상판과 하판을 연결하는 접착층; 및 상판과 하판 사이에 충진되는 충진재;를 포함하도록 구성된다.The present invention relates to a touch input structure for measuring a touch position and a pressing force according to a capacitive multi-touch, and more particularly, having a filler between an upper and a lower electrode layer and interfering with a plurality of pressing forces applied during multi-touch. The present invention relates to a touch input structure and a method of manufacturing the same, capable of obtaining a precise position and strength of a pressing force. In the touch input structure according to the present invention, an upper electrode layer is formed on one surface and is deformable by a touch. ; An adhesive layer provided around the upper plate and the lower plate to connect the upper plate and the lower plate; And a filler filled between the upper and lower plates.

정전용량, 누름힘, 세기, 위치, 멀티터치, 탄성 Capacitance, Pushing, Strength, Position, Multi-Touch, Elastic

Description

정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조 {Capacitive type structure of multi-touch input for acquiring location and intensity of force}Capacitive type structure of multi-touch input for acquiring location and intensity of force}

본 발명은 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상부와 하부전극층 사이에 충진재를 구비하여 멀티터치시 인가되는 복수개의 누름힘 간의 간섭을 최소화함으로써 정확한 누름힘의 위치와 세기를 획득할 수 있는 터치입력구조에 관한 것이다.The present invention relates to a touch input structure for measuring a touch position and a pressing force according to a capacitive multi-touch, and more particularly, having a filler between an upper and a lower electrode layer and interfering with a plurality of pressing forces applied during multi-touch. It relates to a touch input structure that can obtain the exact position and strength of the pressing force by minimizing.

최근 각광을 받고 있는 터치입력 기술은 사용자가 원하는 기능을 선택하거나 입력하기 위한 것으로, 노트북, 개인정보단말기(PDA), 게임기, 휴대폰 등 다양한 전자/통신기기에 사용되고 있다.Recently, the touch input technology, which is in the spotlight, is used to select or input a function desired by a user, and is used in various electronic / communication devices such as a notebook, a personal digital assistant (PDA), a game machine, a mobile phone, and the like.

이러한 터치입력기술이 휴대폰에 사용되는 일예로 애플사의 아이폰(i-phone)이 있다. 아이폰은 정전용량 방식을 따르는 것으로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 유리기판(10)의 상면과 하면에 전극(12,13)이 형성되어 누름 지점의 위치만을 검출한다. 도 1과 같은 종래의 터치입력기술은 액정패널에서 발광되는 빛이 사용자에게 전달됨에 있어 장애가 되지 않아 깨끗한 화면을 제공할 수 있고, 휴대폰 등의 외관에 해가되지 않는 장점이 있으나, 장갑을 끼고 터치입력을 하는 경우에는 정전용량의 변화가 생기지 않아 입력이 가해지지 않는 단점이 있다. 또한, 입력을 가할 때 약 150g중에 해당하는 적지 않은 누름힘이 요구되어 대형 전자/통신기기뿐만 아니라 소형 전자/통신기기까지 다양한 장치에 상용화되는데 한계가 있었다. 그리고, 이러한 종래의 터치입력기술은 멀티터치의 위치만 획득할 수 있을 뿐, 누름힘의 세기를 검출할 수 없는 한계가 있었다.One example of the touch input technology used in a mobile phone is Apple's iPhone (i-phone). As the iPhone follows the capacitive method, as shown in FIG. 1, electrodes 12 and 13 are formed on the upper and lower surfaces of the glass substrate 10 to detect only the positions of the pressing points. The conventional touch input technology as shown in FIG. 1 provides a clean screen because it is not an obstacle in that light emitted from the liquid crystal panel is delivered to the user, and has an advantage of not harming the appearance of a mobile phone, but wearing gloves. In the case of input, there is a disadvantage that the input is not applied because the capacitance does not change. In addition, there is a limit to commercialization in a variety of devices, such as small electronic / communication devices as well as large electronic / communication devices are required because a small pressing force corresponding to about 150g when applying an input. In the conventional touch input technology, only the position of the multi-touch can be obtained, and there is a limitation in that the strength of the pressing force cannot be detected.

터치입력의 관련기술로서, 정전용량 방식의 촉각 센서 및 그 제조방법(대한민국특허공개공보 10-2008-0054187)이 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 상부기판(51)과 하부기판(52)에 각각 전극(56a, 56b)이 형성되어 있고, 전극(56b)의 주변에는 돔형 스페이서(58)가 구비되어 있다. 이러한 촉각센서는 정전용량의 변화를 획득하여 누름힘의 위치와 세기를 검출한다.As a related art of touch input, there is a capacitive tactile sensor and a manufacturing method thereof (Korean Patent Publication No. 10-2008-0054187). As shown in FIG. 2, electrodes 56a and 56b are formed on the upper substrate 51 and the lower substrate 52, respectively, and a domed spacer 58 is provided around the electrode 56b. This tactile sensor acquires a change in capacitance to detect the position and intensity of the pressing force.

그러나, 이러한 촉각 센서에 멀티터치로 복수개의 누름힘을 국소적으로 인가하면, 누름힘(F1, F2)이 국소적으로 인가됨에도 불구하고 상부기판(51) 전체에 힘이 가해지는 효과로 인하여 상부기판은 도 3에 도시된 바와 같이 변형된다. 따라서, 멀티터치를 하는 경우 각 지점에 국소적으로 인가되는 누름힘(F1, F2) 간의 간섭이 발생하여 각각의 누름힘(F1, F2)의 위치와 세기를 정확히 획득할 수 없는 한계가 있었다. 이러한 간섭현상은 복수개의 누름힘(F1, F2) 간의 거리가 짧을수록 더욱 심하게 나타난다.However, if a plurality of pressing forces are locally applied to the tactile sensor by multi-touch, the force is applied to the entire upper substrate 51 even though the pressing forces F 1 and F 2 are locally applied. Due to this, the upper substrate is deformed as shown in FIG. 3. Therefore, in the case of multi-touch, interference occurs between the pressing forces F 1 and F 2 applied locally at each point, and thus the position and intensity of each pressing force F 1 and F 2 cannot be accurately obtained. There was a limit. This interference phenomenon is more severe the shorter the distance between the plurality of pressing force (F 1 , F 2 ).

그리하여, 멀티터치로 복수개의 누름힘(F1, F2)을 국소적으로 인가하는 경우 각 지점에서의 누름힘의 세기와 위치를 정확히 검출할 수 있는 터치입력기술의 개발이 요구되었다.Thus, when locally applying a plurality of pressing forces F 1 and F 2 by multi-touch, development of a touch input technology capable of accurately detecting the strength and position of the pressing force at each point has been required.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은 복수개의 누름힘 간의 간섭을 차단하여 누름힘의 세기와 위치를 정확히 획득할 수 있는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a capacitive multi-touch that can accurately obtain the strength and position of the pressing force by blocking the interference between the plurality of pressing forces. To provide a touch input structure and a manufacturing method for measuring the contact position and the pressing force according to.

본 발명의 또 다른 목적은, 하나의 모듈로서 터치입력방식을 사용하는 각종 전자/통신 기기에 다양하게 활용할 수 있는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.Still another object of the present invention is to provide a touch input structure for measuring touch position and pressing force according to capacitive multi-touch, which can be variously applied to various electronic / communication devices using the touch input method as one module, and to manufacture the same. To provide a method.

상기와 같은 본 발명의 목적은, 일면에 상부전극층이 형성되어 있고, 터치에 의하여 변형가능한 상판:An object of the present invention as described above, the upper electrode layer is formed on one surface, the upper plate deformable by touch:

상판과 소정의 간격 이격되어 구비되고, 일면에는 상부전극층과 대향되는 면에 하부전극층이 형성되어 있는 하판;A lower plate provided to be spaced apart from the upper plate by a predetermined interval, and having a lower electrode layer formed on a surface of the upper surface facing the upper electrode layer;

상판과 하판의 사이의 둘레에 구비되어, 상판과 하판을 연결하는 접착층; 및 An adhesive layer provided around the upper plate and the lower plate to connect the upper plate and the lower plate; And

상판과 하판 사이에 충진되는 충진재;를 포함하는 멀티터치용 정전용량 방식의 터치입력구조에 의하여 달성가능하다.It can be achieved by a capacitive touch input structure for a multi-touch including a filler filled between the upper plate and the lower plate.

그리고, 충진재는 탄성 물질을 사용한다.In addition, the filler uses an elastic material.

이 때, 탄성 물질은 투명한 고분자 필름, 투명한 액체, 투명한 졸 또는 투명한 겔로 구성가능하다.At this time, the elastic material may be composed of a transparent polymer film, a transparent liquid, a transparent sol or a transparent gel.

그리고, 이 경우 투명한 겔은 실리콘 또는 폴리디메틸실록산을 사용할 수 있다.In this case, the transparent gel may use silicone or polydimethylsiloxane.

또한, 상판 및 하판은 투명한 재질로 구성함이 바람직하다.In addition, the upper plate and the lower plate is preferably composed of a transparent material.

이 경우, 상판 및 하판은 유리 또는 고분자 필름이 사용될 수 있다.In this case, the upper and lower plates may be used glass or polymer film.

그리고, 접착층은 상판과 하판의 가장자리 둘레에 구비됨이 바람직하다.And, the adhesive layer is preferably provided around the edge of the upper plate and the lower plate.

또한, 접착층은 UV경화제를 사용할 수 있다.In addition, the adhesive layer may use a UV curing agent.

그리고, 하부전극층은 복수의 하부전극으로 이루어지고, 복수개의 하부전극 사이에는 스페이서가 더 포함될 수 있다.The lower electrode layer may include a plurality of lower electrodes, and a spacer may be further included between the plurality of lower electrodes.

이 때, 스페이서는 탄성을 갖는 것이 바람직하다.At this time, the spacer preferably has elasticity.

그리고, 상부전극층과 하부전극층은 스트립 형상의 전극으로, 상부전극층과 하부전극층에 형성된 전극이 서로 교차되도록 복수개 구비됨이 바람직하다.The upper electrode layer and the lower electrode layer are strip-shaped electrodes, and a plurality of electrodes formed on the upper electrode layer and the lower electrode layer cross each other.

또한, 상부전극층 및 하부전극층은 인듐주석 산화물(ITO) 또는 탄소나노튜브(CNT)로 구성가능하다.In addition, the upper electrode layer and the lower electrode layer may be composed of indium tin oxide (ITO) or carbon nanotubes (CNT).

그리고, 상판과 하판의 간격은 0.1~100㎛으로 구성가능하다.And, the gap between the upper plate and the lower plate can be configured to 0.1 ~ 100㎛.

또한, 상판의 두께는 100~1500㎛가 됨이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the thickness of an upper board becomes 100-1500 micrometers.

또한, 터치입력구조의 측면은 완전 고정상태로서, 측면의 변위변화 및 기울기 변화가 없도록 구성가능하다.In addition, the side of the touch input structure is completely fixed, and can be configured such that there is no displacement change and tilt change of the side.

또는, 터치입력구조의 측면은 단순 지지된 상태로서, 측면의 변위변화가 없도록 구성가능하다.Alternatively, the side of the touch input structure is simply supported and can be configured such that there is no change in displacement of the side.

상기와 같은 본 발명의 목적은 또 다른 수단인, 적어도 2개의 투명한 기판 일면에 전극층을 형성하는 단계;An object of the present invention as described above is another step, forming an electrode layer on one surface of at least two transparent substrates;

기판에 형성된 전극층이 교차되도록 기판을 구비하는 단계; 및Providing a substrate such that electrode layers formed on the substrate cross each other; And

기판 사이에 형성된 내부 공간에 충진재를 포함하여 기판을 접착하는 단계;를 포함하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 제작방법에 의하여도 달성 가능하다.A method of manufacturing a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to a capacitive multi-touch, including the step of adhering a substrate including a filler in an internal space formed between the substrates.

그리고, 전극층 형성단계와 상기 기판 구비단계의 사이에는, 기판중 어느 하나의 기판에 형성된 전극층 사이에 스페이서를 형성하는 단계를 더 포함 할 수 있다.The method may further include forming spacers between the electrode layers formed on any one of the substrates, between the electrode layer forming step and the substrate providing step.

그리고, 충진재가 겔, 젤 또는 액체상인 경우, 충진재를 포함하여 접착하는 단계는, 충진재를 주입할 수 있는 주입공을 남기고 상판과 하판의 가장자리 둘레에 접착층을 형성하는 단계; 주입공을 통하여 충진재를 주입하는 단계; 및 주입공을 메우는 단계;를 포함함이 바람직하다.And, when the filler is a gel, gel or liquid phase, the step of bonding including the filler, forming an adhesive layer around the edge of the upper plate and the lower plate leaving an injection hole for injecting the filler; Injecting a filler through an injection hole; And filling the injection hole.

그리고, 충진재가 고체상인 경우, 충진재를 포함하여 접착하는 단계는, 충진재를 기판의 내부 영역 사이에 위치시키는 단계; 및 상판과 하판의 가장 자리둘레를 접착층을 이용하여 접착하는 단계;를 포함함이 바람직하다.In addition, when the filler is in a solid phase, the bonding including the filler may include placing the filler between the internal regions of the substrate; And bonding the edges of the upper plate and the lower plate using an adhesive layer.

따라서, 상기와 같은 일실시예에 의하면, 상판과 하판 사이에 충진재를 구비하여 복수개의 누름힘이 인가되더라도 누름힘 간의 간섭을 차단함으로써 누름힘을 정확히 획득할 수 있는 장점이 있다.Therefore, according to the exemplary embodiment as described above, a filling material is provided between the upper plate and the lower plate, so that even if a plurality of pressing forces are applied, the pressing force is accurately obtained by blocking the interference between the pressing forces.

또한, 누름힘의 세기와 위치를 함께 획득할 수 있어, 누름힘의 세기와 위치 에 기초하여 사용자에게 다양한 어플리케이션을 제공할 수 있는 장점이 있다.In addition, since the strength and position of the pressing force can be obtained together, there is an advantage of providing various applications to the user based on the strength and position of the pressing force.

그리고, 제작이 단순하고, 하나의 모듈로서 제작가능하므로 터치입력방식을 채용하는 전자/통신 기기라면 그 종류를 불문하고 활용가능하다는 장점이 있다.In addition, since the production is simple and can be manufactured as a module, any electronic / communication device employing a touch input method can be utilized regardless of its type.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히설명한다. 본 발명을 설명하기에 앞서 관련된 공지기능 및 구성에 대한 구체적 설명이 본발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그에 대한 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention. Prior to describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known functions and configurations may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the description thereof will be omitted.

<터치입력구조의 구성><Configuration of Touch Input Structure>

도 4는 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 사시도이고, 도 5는 도 4의 A-A선에 따른 측단면도이다. 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조는 상부전극층(112)이 형성되어 있는 상판(110), 하부전극층(122)이 형성되어 있는 하판(120), 충진재(140) 및 스페이서(150) 등이 포함되어 있다.4 is a perspective view of a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to the capacitive multi-touch according to the present invention, and FIG. 5 is a side cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 4. According to the present invention, the touch input structure for measuring the touch position and the pressing force according to the capacitive multi-touch includes: an upper plate 110 on which the upper electrode layer 112 is formed, and a lower plate 120 on which the lower electrode layer 122 is formed. , Filler 140 and spacer 150 are included.

상판(110)은 누름힘이 인가 될때 탄력적으로 변형되는 부재로서, 본 발명에 따른 멀티터치용 터치입력구조는 하부에 액정패널(200) 등이 구비되어 터치스크린에 활용가능한바, 상판(110)은 투명한 재질로 구성함이 바람직하다. 투명한 재질의 일예로 유리 또는 고분자 필름(예, 폴리에스터 필름, 폴리이미드 필름) 등이 있다.상판(110)으로 유리를 사용하는 경우, 내구성이 우수하고 장점과 약 70g중 정도의 누름힘이 필요하다는 특성이 있다. 반면, 고분자 필름은 작은 누름힘(약 30g중)을 가하여도 정전용량의 변화를 유도하기에 충분하지만 유리에 비하여 내구성이 떨어지는 특성이 있다. 따라서 이러한 재료적 특성을 고려하여 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조가 사용되는 전자/통신 기기의 환경에 적합하게 상판(110)을 선택한다. The upper plate 110 is a member that is elastically deformed when a pressing force is applied, and the touch input structure for multi-touch according to the present invention is provided with a liquid crystal panel 200 at a lower side thereof and can be used for a touch screen. It is preferable to comprise a transparent material. An example of a transparent material is glass or a polymer film (eg, a polyester film, a polyimide film), etc. When glass is used as the top plate 110, it has excellent durability and requires about 70 g of pressing force. There is a characteristic that. On the other hand, the polymer film is sufficient to induce a change in capacitance even by applying a small pressing force (in about 30g), but has a property of inferior durability compared to glass. Accordingly, in consideration of such material properties, the top plate 110 is selected to be suitable for the environment of an electronic / communication device in which a touch input structure for contact position and pressing force measurement according to the capacitive multi-touch according to the present invention is used.

그리고, 상판(110)의 두께는 약 100~1500㎛가 되도록 구성함이 바람직하다. 상판(110)의 두께가 100㎛ 미만인 경우, 누름힘을 견디는 내구성에 문제가 있을 수 있고, 1500㎛을 초과하는 경우 누름힘에 의한 정전용량의 변화가 작아, 측정감도가 저하될 수 있다.And, the thickness of the upper plate 110 is preferably configured to be about 100 ~ 1500㎛. When the thickness of the upper plate 110 is less than 100 μm, there may be a problem in durability to endure the pressing force, and when the thickness of the upper plate 110 exceeds 1500 μm, the change in capacitance due to the pressing force is small, and the measurement sensitivity may be lowered.

하판(120)은 상판(110)과 소정의 간격 이격되어 구비되는 부재로, 상판(110)과 마찬가지로 투명한 재질로 구성함이 바람직하다. 상판(110)과 하판(120)의 이격 간격은 100㎛이내로, 약 0.1~100㎛가 되도록 구성한다. 상판(110)과 하판(120)의 간격이 0.1㎛미만인 경우 누름힘이 인가될 때 상판(110)의 변형을 수용하기가 어렵고, 100㎛를 초과하는 경우 소형화하는데 장애가 될 수 있으며 정전용량 변화의 측정감도가 다소 저하될 수 있다. The lower plate 120 is a member provided to be spaced apart from the upper plate 110 by a predetermined interval, and is preferably made of a transparent material like the upper plate 110. The spaced interval between the upper plate 110 and the lower plate 120 is less than 100㎛, it is configured to be about 0.1 ~ 100㎛. If the distance between the upper plate 110 and the lower plate 120 is less than 0.1㎛, it is difficult to accommodate the deformation of the upper plate 110 when the pressing force is applied, if it exceeds 100㎛ it may be a barrier to miniaturization and the change of capacitance Measurement sensitivity may be somewhat lowered.

상판(110)과 하판(120)의 일면에는 각각 상부전극층(112)과 하부전극층(122)이 형성되어 있다. 상판(110)의 일면에 형성된 상부전극층(112)과 하판(120)의 일면에 형성된 하부전극층(122)은 스트립 형상의 전극으로, 도 4에 도시된 바와 같이 복수개 구비된다. 또한, 이러한 상부전극층(112)과 하부전극층(122)는 서로 마주보는 방향으로 서로 교차하는 방향으로 구비된다. 본 발명에 따른 정전용량 방식 멀티터치용 터치입력구조는 바람직하게 액정패널(200)이 부가될 수 있는바, 상부전극 층(112)과 하부전극층(122)은 투명한 전극으로 구성한다. 투명한 전극의 일예로 인듐주석 산화물(ITO) 또는 탄소나노튜브(CNT)가 있다.The upper electrode layer 112 and the lower electrode layer 122 are formed on one surface of the upper plate 110 and the lower plate 120, respectively. The upper electrode layer 112 formed on one surface of the upper plate 110 and the lower electrode layer 122 formed on one surface of the lower plate 120 are strip-shaped electrodes, and are provided in plural as shown in FIG. 4. In addition, the upper electrode layer 112 and the lower electrode layer 122 are provided in directions crossing each other in a direction facing each other. In the capacitive multi-touch touch input structure according to the present invention, the liquid crystal panel 200 may be preferably added, and the upper electrode layer 112 and the lower electrode layer 122 are composed of transparent electrodes. An example of a transparent electrode is indium tin oxide (ITO) or carbon nanotube (CNT).

접착층(130)은 상판(110)과 하판(120)을 연결해주는 부재로, 상판(110)과 하판(120)의 가장자리 둘레에 구비됨이 바람직하다. 접착층(130)은 지지층의 역할을 동시에 하며, 접착층(130)의 일예로 자외선 경화접착제(UV접착제)를 사용할 수 있다. 접착층(130)으로 인하여 상판(110)과 하판(120)이 소정의 간격 이격되는바, 접착층(130)의 두께는 0.1~100㎛가 된다.The adhesive layer 130 is a member that connects the upper plate 110 and the lower plate 120, and is preferably provided around the edges of the upper plate 110 and the lower plate 120. The adhesive layer 130 simultaneously serves as a support layer, and may be an ultraviolet curable adhesive (UV adhesive) as an example of the adhesive layer 130. The upper plate 110 and the lower plate 120 are spaced apart by a predetermined interval due to the adhesive layer 130, the thickness of the adhesive layer 130 is 0.1 ~ 100㎛.

충진재(140)는 상판(110)과 하판(120) 사이에 구비된다. 충진재(140)는 탄성 물질을 사용한다. 또한, 충진재(140)는 투명하고 변색이 되지 않는 것을 사용함이 바람직하다. 탄성 물질인 충진재(140)는 상판(110)에 누름힘이 복수개 인가될 때, 각각의 누름힘 간의 간섭을 차단하는 역할을 한다. 이하 충진재(140)의 역할을 자세히 설명하면 다음과 같다.The filler 140 is provided between the upper plate 110 and the lower plate 120. Filler 140 uses an elastic material. In addition, the filler 140 is preferably used that is transparent and does not change color. The filler 140, which is an elastic material, serves to block the interference between the pressing forces when a plurality of pressing forces are applied to the upper plate 110. Hereinafter, the role of the filler 140 will be described in detail.

충진재(140)가 구비되지 않은 경우는 도 6a에 도시된 바와 같이, 복수개의 누름힘이 인가되더라도 상판(110)의 내구성에 의하여 상판(110)이 각 지점마다 변형되기보다는 두 지점 사이의 위치에서 변형되려는 경향이 강하게 나타난다. 즉, 누름힘(F1, F2)은 두개의 지점에서 인가됨에도 불구하고, 누름힘에 의한 상판(110)의 변형은 누름힘이 인가된 두 지점의 사이에서 최대로 일어난다. 그러므로, 복수개의 누름힘(F1, F2)이 인가된 해당 지점에서의 누름힘의 위치와 세기를 정확하게 획득하기 어렵고, 이러한 현상은 누름힘이 인가되는 두 지점의 거리가 가까울수록 현저하게 나타난다(힘의 간섭현상). 즉, 누름힘을 획득하는데 있어 분해능이 저하된다.In the case where the filler 140 is not provided, as shown in FIG. 6A, even when a plurality of pressing forces are applied, the top plate 110 is deformed at each point due to the durability of the top plate 110. There is a strong tendency to deform. That is, although the pressing force (F 1 , F 2 ) is applied at two points, the deformation of the top plate 110 by the pressing force occurs to the maximum between the two points to which the pressing force is applied. Therefore, it is difficult to accurately obtain the position and intensity of the pressing force at the point where a plurality of pressing forces F 1 and F 2 are applied, and this phenomenon is more pronounced as the distance between the two points to which the pressing force is applied is closer. (Force interference). That is, the resolution decreases in obtaining the pressing force.

반면에, 충진재(140)가 구비되는 경우는 도 6b에 도시된 바와 같이, 복수개의 누름힘(F1, F2)이 인가되면 해당 지점에서 상판(110)의 변형이 두드러지게 나타난다. 이는 충진재(140)의 탄성에 기인하는 것으로 누름힘이 인가된 지점의 하부에 위치한 충진재(140)는 누름힘(F1, F2)의 압력에 의하여 주변으로 밀려나가게 되고, 주변으로 밀려나간 충진재(140)에 의하여 누름힘(F1, F2)이 인가된 지점 주변의 상판(110)은 상대적으로 상부측으로 변형된다. 바꾸어 말하면, 누름힘(F1, F2)이 인가된 지점에서 상판(110)의 변형은 충진재(140)가 구비되지 않은 경우에 비하여 효과적으로 반응하게 되는 것이다. 따라서 두 지점에서 누름힘(F1, F2)을 인가하는 경우 두 지점 사이에서 상판(110)의 변형이 두드러지는 도 6a의 경우와 달리 누름힘 간의 간섭이 차단된다.On the other hand, when the filler 140 is provided, as shown in Figure 6b, when a plurality of pressing force (F 1 , F 2 ) is applied, the deformation of the top plate 110 is noticeably at that point. This is due to the elasticity of the filler 140, the filler 140 located at the lower portion of the pressing force applied point is pushed to the periphery by the pressure of the pressing force (F 1 , F 2 ), the filler pushed out to the periphery The upper plate 110 around the point where the pressing force F 1 , F 2 is applied by the 140 is relatively deformed to the upper side. In other words, the deformation of the upper plate 110 at the point where the pressing force (F 1 , F 2 ) is applied is to react more effectively than when the filler 140 is not provided. Therefore, when the pressing force (F 1 , F 2 ) is applied at two points, unlike the case of Figure 6a where the deformation of the upper plate 110 is prominent between the two points, the interference between the pressing force is blocked.

이러한 충진재(140)의 일예로는 투명한 고분자 필름, 투명한 액체, 투명한 졸 또는 투명한 겔 등이 사용될 수 있다. 이러한 충진재(140)로 사용되는 투명한 겔의 일예로 실리콘, 폴리디메틸실록산(PDMS:polydimethylsiloane)가 있다. 그리고, 누름힘의 세기와 위치를 획득하는데 있어 터치입력구조가 놓인 환경에 따른 영향을 최소화하기 위하여 충진재(140)는 열 팽창되지 않는 물질이나 비전도성의 물질(예, 비전도성 오일 등)을 사용함이 바람직하다.An example of such a filler 140 may be a transparent polymer film, a transparent liquid, a transparent sol, or a transparent gel. One example of the transparent gel used as the filler 140 is silicone, polydimethylsiloxane (PDMS: polydimethylsiloane). In order to minimize the influence of the environment in which the touch input structure is placed in obtaining the strength and position of the pressing force, the filler 140 uses a material that is not thermally expanded or a non-conductive material (eg, a non-conductive oil, etc.). This is preferred.

스페이서(150)는 복수개 형성된 하부전극(122) 사이에 구비된다. 스페이서(150) 역시 복수개의 누름힘이 인가되는 경우 누름힘 간의 간섭을 차단하는 역할을 하는 부재로, 탄성의 재질을 사용함이 바람직하다. 스페이서(150)도 충진재(140)와 같이 탄성을 갖는 재질이면 그 종류를 불문하고 사용가능하다. 또한, 스페이서(140)의 형태는 돔형, 육면체형 등으로 다양하게 구성가능하며, 형태에 구애받지는 아니한다.The spacer 150 is provided between the plurality of lower electrodes 122. Spacer 150 is also a member that serves to block the interference between the pressing force when a plurality of pressing force is applied, it is preferable to use an elastic material. The spacer 150 may be used regardless of its kind as long as it is a material having elasticity such as the filler 140. In addition, the shape of the spacer 140 may be variously configured in a dome shape, a hexahedron shape, and the like, and is not limited to the shape.

상술한 바와 같은 구조를 갖는 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 측면은 완전 고정상태 또는 단순 지지상태로 구성할 수 있다. 완전 고정상태는 측면의 변위변화와 기울기 변화가 없는 상태를 나타내며, 단순 지지상태는 측면의 변위변화가 없는 상태를 나타낸다.The side of the touch input structure for contact position and pressing force measurement according to the capacitive multi-touch according to the present invention having the structure as described above may be configured in a completely fixed state or a simple supporting state. The fully fixed state represents a state where there is no change of the displacement and the slope of the side, and the simple support state represents a state where there is no change of the side of the displacement.

<제작방법><Production method>

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 제작방법에 대하여 설명한다. 도 7은 본 발명인 멀티터치용 터치입력구조의 제작방법에 따른 흐름도이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a manufacturing method of the touch input structure for measuring the contact position and the pressing force according to the capacitive multi-touch according to the present invention. 7 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a multi-touch touch input structure according to the present invention.

우선, 적어도 2개의 기판의 일면에 전극층을 형성한다(S100). 이때 사용되는 기판은 투명한 재질을 사용함이 바람직하다. 전극층을 형성하는 방법의 일예로 열화학기상증착법이 있다. 전극층은 스트립의 형상으로 복수개 형성되며, 복수개의 전극층이 나란한 방향으로 구비된다. 전극층은 인듐주석 산화물 또는 탄소나노튜브를 사용하여 형성할 수 있다.First, an electrode layer is formed on one surface of at least two substrates (S100). At this time, it is preferable that the substrate used is a transparent material. An example of a method of forming an electrode layer is a thermochemical vapor deposition method. A plurality of electrode layers are formed in a strip shape, and the plurality of electrode layers are provided in parallel directions. The electrode layer may be formed using indium tin oxide or carbon nanotubes.

이러한 방식으로 전극층이 형성된 투명한 기판중 하나는 상판(110)으로 사용되고, 나머지 하나는 하판(120)으로 사용된다. 이하에서는 상판에 형성된 전극층을 상부전극층(112)이라 하고, 하판(120)에 형성된 전극층을 하부전극층(122)이라 한다.One of the transparent substrates on which the electrode layer is formed in this manner is used as the upper plate 110, and the other is used as the lower plate 120. Hereinafter, the electrode layer formed on the upper plate is referred to as the upper electrode layer 112, and the electrode layer formed on the lower plate 120 is referred to as the lower electrode layer 122.

전극층을 형성한 이후, 2개의 기판중 어느 하나에 형성된 복수개의 전극층 사이에 스페이서(150)를 형성할 수 있다(S150). 스페이서(150)는 탄성의 성질을 갖는 것을 사용함이 바람직하며, 스페이서(150)가 형성된 기판은 도 5에 도시된 바와 같이, 하판(120)으로 사용할 수 있다.After forming the electrode layer, the spacer 150 may be formed between the plurality of electrode layers formed on any one of the two substrates (S150). It is preferable to use the spacer 150 having an elastic property, and the substrate on which the spacer 150 is formed may be used as the lower plate 120 as shown in FIG. 5.

다음으로, 전극층이 형성된 2개의 기판을 접착하기 위하여 위치시킨다. 이때 기판은 각각의 기판에 형성된 전극층이 교차되도록 위치시킨다(S200).Next, it is positioned to bond two substrates on which the electrode layers are formed. At this time, the substrate is positioned so that the electrode layer formed on each substrate to cross (S200).

다음으로, 상판(110)과 하판(120)에 각각 형성된 전극층이 마주보도록 접착한다. 이 때 상판과 하판 사이에는 충진재를 구비하도록 한다(S2300). 상판(110)과 하판(120)은 상부전극층(112)과 하부전극층(122)이 서로 교차되도록 접착한다. 접착층(130)의 일예로 UV경화제를 사용할 수 있다. 충진재(140)는 탄성 물질로서, 고분자 필름과 같은 고체상인 경우와 이액형 실리콘과 같은 액체상, 겔 또는 졸인 경우가 있는바, 각 경우별로 설명한다.Next, the electrode layers formed on the upper plate 110 and the lower plate 120 are bonded to face each other. At this time, a filler is provided between the upper plate and the lower plate (S2300). The upper plate 110 and the lower plate 120 are bonded so that the upper electrode layer 112 and the lower electrode layer 122 cross each other. UV curing agent may be used as an example of the adhesive layer 130. The filler 140 is an elastic material, and may be a solid phase such as a polymer film, a liquid phase such as a two-component silicone, a gel or a sol, and will be described for each case.

충진재(140)가 고체상인 경우, 상판(110)과 하판(120)을 구비함에 있어 충진재(140)를 상판(110)과 하판(120) 사이의 내부영역에 위치시킨다(S310). 이때 충진재(140)의 크기는 상판(110)과 하판(120)의 크기보다 다소 작게 구성하여, 접착층(130)을 형성할 수 있는 공간을 확보함이 바람직하다. 다음으로, 충진재(140)가 구비된 상태의 상판(110)과 하판(120)의 가장자리둘레에 접착층(130)을 형성하여 상판(110)과 하판(120)을 접착시킨다(S320). 이 경우 충진재(140)의 두께와 접착층(130)의 두께는 동일하게 형성하여 충진재(140)가 구비된 영역, 즉 상판(110)과 하판(120)의 접착으로 형성된 내부 영역에 공극이 없도록 한다.When the filler 140 is in a solid phase, the filler 140 is positioned in an inner region between the upper plate 110 and the lower plate 120 in the upper plate 110 and the lower plate 120 (S310). At this time, the size of the filler 140 is configured to be somewhat smaller than the size of the upper plate 110 and lower plate 120, it is preferable to ensure a space for forming the adhesive layer 130. Next, the adhesive layer 130 is formed on the edges of the upper plate 110 and the lower plate 120 in the state where the filler 140 is provided to bond the upper plate 110 and the lower plate 120 (S320). In this case, the thickness of the filler 140 and the thickness of the adhesive layer 130 are formed to be the same so that there are no voids in the region where the filler 140 is provided, that is, the inner region formed by the adhesion of the upper plate 110 and the lower plate 120. .

충진재(140)가 겔, 졸 또는 액체상인 경우, 상판(110)과 하판(120)을 먼저 접착층(130)을 이용하여 접착시킨다. 다만 이때 충진재(140)를 주입할 수 있는 주입공을 남기고 접착한다(S310'). 접착층(130)은 상판(110)과 하판(120)의 가장자리 둘레에 형성하여 내부에 공간을 형성한다. 그리고 주입공을 통해 충진재(140)를 주입한다(S320'). 주입되는 충진재(140)는 내부공간에 빈틈없이 채운다. 충진재(140)가 채워지는 상판(110)과 하판(120) 사이의 내부 공간에 공극이 있는 경우, 복수개의 누름힘 간의 간섭을 차단하기 어려워 누름힘의 위치와 세기를 획득하는데 분해능이 저하된다. 충진재(140)의 주입이 끝나면, 주입공을 다시 접착층(130)을 이용하여 메운다(S330'). 이 경우에도 상판(110)과 하판(120)의 접착에 의하여 형성된 내부영역에 공극이 형성되지 않도록 함이 바람직하다.When the filler 140 is a gel, a sol, or a liquid phase, the upper plate 110 and the lower plate 120 are first adhered using the adhesive layer 130. However, at this time, leaving the injection hole for injecting the filler 140 is bonded (S310 '). The adhesive layer 130 is formed around the edges of the upper plate 110 and the lower plate 120 to form a space therein. Then, the filler 140 is injected through the injection hole (S320 ′). Filled filler 140 is filled in the inner space without gap. When there is a gap in the internal space between the upper plate 110 and the lower plate 120 filled with the filler 140, it is difficult to block the interference between the plurality of pressing forces, so that the resolution is reduced to obtain the position and strength of the pressing force. After the injection of the filler 140 is finished, the injection hole is filled again using the adhesive layer 130 (S330 '). Even in this case, it is preferable that the gap is not formed in the inner region formed by the adhesion of the upper plate 110 and the lower plate 120.

<< 누름힘의Pressing 세기와 위치 측정방법> How to measure strength and position>

도 8은 본 발명에 따른 멀티터치용 터치입력구조의 일예로, 매트릭스 형태로 마주보도록 형성된 상부전극층(112)과 하부전극층(122)으로부터 신호를 출력하여 누름힘의 세기와 위치를 검출하기 위한 회로도이다.8 is an example of a multi-touch touch input structure according to the present invention. A circuit diagram for detecting the strength and position of the pressing force by outputting signals from the upper electrode layer 112 and the lower electrode layer 122 formed to face each other in a matrix form is shown. to be.

각각의 전극층(112, 122)에는 입력단자와 출력단자가 연결된다. 입력단 자(301)로는 정현파의 전압(Vi)이 인가되고, 출력단자(302)의 출력은 아날로그 증폭기(OPAMP: 400)의 부(-)입력단자로 연결된다. 아날로그 증폭기(400)의 정(+)입력단자는 접지된 상태이고, 출력단에는 출력전압의 진폭 피크치를 검출하는 피크 검출기(500)가 구비된다.Input terminals and output terminals are connected to the electrode layers 112 and 122, respectively. A sinusoidal voltage Vi is applied to the input terminal 301, and the output of the output terminal 302 is connected to the negative input terminal of the analog amplifier 400. The positive input terminal of the analog amplifier 400 is grounded, and the output terminal includes a peak detector 500 for detecting an amplitude peak value of the output voltage.

아날로그 증폭기(400)의 출력단에서의 출력값(Vout)은 다음의 [수학식 1]과 같다.The output value Vout at the output terminal of the analog amplifier 400 is expressed by Equation 1 below.

Figure 112008061063356-pat00001
Figure 112008061063356-pat00001

(Cpix: 측정하고자 하는 정전용량, Cr: 아날로그 증폭기의 피드백 정전용량)(Cpix: capacitance to be measured, Cr: feedback capacitance of analog amplifier)

이러한 관계에 의하여, 입력단에 정현파(Vi)가 인가되면, 각각의 상부전극층(112)과 하부전극층(122) 사이의 정전용량 변화에 따라 변화된 진폭이 출력단의 아날로그 증폭기(400)에 의하여 소정의 레벨로 증폭된다. 이렇게 증폭된 신호는 피크 검출기(500)를 통해 검출되어, 진폭 피크치로부터 정전용량의 변화를 검출함으로써, 누름힘의 위치와 세기를 검출할 수 있다.According to this relationship, when the sine wave Vi is applied to the input terminal, the amplitude changed according to the capacitance change between each of the upper electrode layer 112 and the lower electrode layer 122 is a predetermined level by the analog amplifier 400 of the output terminal. Is amplified. The amplified signal is detected through the peak detector 500, and the position and intensity of the pressing force can be detected by detecting the change in capacitance from the amplitude peak value.

<< 변형예Variant >>

도 9는 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 하부에 액정패널(200)이 구비된 상태를 도시한 사시도이다. 액정패널은 유기전계발광 다이오드(OLED), 전계 발광 표시 장치(ELD), 액정 표 시 장치(LCD), 플라즈마 표시 패널(PDP) 등이 사용될 수 있다.9 is a perspective view illustrating a state in which a liquid crystal panel 200 is provided below a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to a capacitive multi-touch according to the present invention. The liquid crystal panel may be an organic light emitting diode (OLED), an electroluminescent display (ELD), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), or the like.

비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련되어 설명되어 졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서, 첨부된 특허청구범위는 본 발명의 요지에 속하는 한 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, it is possible to make various modifications or variations without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the appended claims will cover such modifications and variations as long as they fall within the spirit of the invention.

본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 명세서의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.The following drawings, which are attached in this specification, illustrate the preferred embodiments of the present specification, and together with the detailed description of the present invention, serve to further understand the technical spirit of the present invention. It should not be interpreted.

도 1은 종래의 멀티터치를 구현하는 터치입력구조의 제1실시예로서 측단면도,1 is a side cross-sectional view as a first embodiment of a touch input structure for implementing a conventional multi-touch;

도 2는 종래의 멀티터치를 구현하는 터치입력구조의 제2실시예로서 측단면도,2 is a side cross-sectional view as a second embodiment of a touch input structure for implementing a conventional multi-touch;

도 3은 도2의 터치입력구조의 두 지점에 누름힘이 인가된 경우 상부기판의 변형상태도,3 is a deformed state diagram of an upper substrate when a pressing force is applied to two points of the touch input structure of FIG.

도 4는 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 사시도,4 is a perspective view of a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to a capacitive multi-touch according to the present invention;

도 5는 도 4의 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 측단면도,FIG. 5 is a side cross-sectional view of a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to the capacitive multi-touch of FIG. 4;

도 6a는 충진재가 구비되지 않은 경우로서, 멀티터치로 두 지점에 누름힘이 인가된 경우의 상판의 변형상태도,Figure 6a is a case where the filler is not provided, the deformation state of the upper plate when the pressing force is applied to the two points by multi-touch,

도 6b는 충진재가 구비된 경우로서, 멀티터치로 두 지점에 누름힘이 인가된 경우의 상판의 변형상태도,Figure 6b is a case where the filler is provided, the deformation state of the upper plate when the pressing force is applied to two points with multi-touch,

도 7은 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름 힘 측정용 터치입력구조의 제작방법에 따른 흐름도,7 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to a capacitive multi-touch according to the present invention;

도 8은 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조로부터 누름힘을 검출하기 위한 등가회로의 구성도,8 is a configuration diagram of an equivalent circuit for detecting a pressing force from a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to a capacitive multi-touch according to the present invention;

도 9는 본 발명에 따른 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조의 하부에 액정패널이 구비된 상태를 도시한 것이다.9 illustrates a state in which a liquid crystal panel is provided under a touch input structure for measuring a contact position and a pressing force according to a capacitive multi-touch according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10: 유리기판10: glass substrate

12,13: 전극12,13: electrode

51: 상부기판51: upper substrate

52: 하부기판52: lower substrate

54; 접착제54; glue

56a: 상부전극56a: upper electrode

56b: 하부전극56b: lower electrode

57: 절연층57: insulation layer

58, 150: 스페이서58, 150: spacer

110: 상판110: tops

112: 상부전극층112: upper electrode layer

120: 하판120: bottom plate

122: 하부전극층122: lower electrode layer

130: 접착층130: adhesive layer

140: 충진재140: filling material

200: 액정패널200: liquid crystal panel

301: 입력단자301: input terminal

302: 출력단자302: output terminal

400: 아날로그 증폭기400: analog amplifier

500: 피크검출기500: peak detector

Claims (20)

일면에 상부전극층이 형성되어 있고, 터치에 의하여 변형가능한 상판:The upper electrode layer is formed on one surface, the upper plate deformable by touch: 상기 상판과 소정의 간격 이격되어 구비되고, 일면에는 상기 상부전극층과 대향되는 면에는 복수의 하부전극으로 이루어지고, 상기 복수개의 하부전극 사이에는 스페이서가 포함되는 하부전극층이 형성되어 있는 하판;A lower plate provided to be spaced apart from the upper plate and having a lower electrode layer on one surface of the lower electrode layer on a surface facing the upper electrode layer, and a spacer between the lower electrodes; 상기 상부전극층과 상기 하부전극층은 스트립 형상의 전극으로,The upper electrode layer and the lower electrode layer is a strip-shaped electrode, 상기 상부전극층과 상기 하부전극층에 형성된 전극이 서로 교차되도록 복수개 구비되고, A plurality of electrodes formed on the upper electrode layer and the lower electrode layer intersect each other, 상기 상판과 하판의 사이의 둘레에 구비되어, 상기 상판과 상기 하판을 연결하는 접착층; 및An adhesive layer provided around the upper plate and the lower plate to connect the upper plate and the lower plate; And 상기 상판과 상기 하판 사이에 충진되는 충진재를 포함하는 터치입력구조에 있어서, 상기 터치입력구조의 측면은 완전 고정상태로서, 상기 측면의 변위변화 및 기울기 변화가 없는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.In the touch input structure including a filler filled between the upper plate and the lower plate, the side of the touch input structure is a completely fixed state, characterized in that the displacement change and the slope change of the side is capacitive multi Touch input structure for measuring contact position and pressing force according to touch. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 충진재는 탄성 물질인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The filler is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that the elastic material. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 탄성 물질은 투명한 고분자 필름, 투명한 액체, 투명한 졸 또는 투명한 겔인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The elastic material is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that the transparent polymer film, transparent liquid, transparent sol or transparent gel. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 투명한 겔은 폴리디메틸실록산 또는 실리콘인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The transparent gel is polydimethylsiloxane or silicon, the touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상판 및 상기 하판은 투명한 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The upper plate and the lower plate is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that the transparent. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 상판 및 상기 하판은 유리 또는 고분자 필름인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The upper plate and the lower plate is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that the glass or polymer film. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 접착층은 상기 상판과 상기 하판의 가장자리 둘레에 구비되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The adhesive layer is a touch input structure for measuring the contact position and the pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that provided around the edge of the upper plate and the lower plate. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 접착층은 UV경화제인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The adhesive layer is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that the UV curing agent. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스페이서는 탄성을 갖는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The spacer is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch characterized in that it has an elasticity. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부전극층 및 상기 하부전극층은 인듐주석 산화물(ITO) 또는 탄소나노튜브(CNT)인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.And the upper electrode layer and the lower electrode layer are indium tin oxide (ITO) or carbon nanotubes (CNT). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상판과 상기 하판의 간격은 0.1~100㎛인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The contact between the upper plate and the lower plate is 0.1 ~ 100㎛ Touch input structure for measuring the position and pressing force according to the capacitive multi-touch. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상판의 두께는 100~1500㎛인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.The thickness of the upper plate is a touch input structure for measuring the contact position and pressing force according to the capacitive multi-touch, characterized in that the 100 ~ 1500㎛. 삭제delete 일면에 상부전극층이 형성되어 있고, 터치에 의하여 변형가능한 상판:The upper electrode layer is formed on one surface, the upper plate deformable by touch: 상기 상판과 소정의 간격 이격되어 구비되고, 일면에는 상기 상부전극층과 대향되는 면에는 복수의 하부전극으로 이루어지고, 상기 복수개의 하부전극 사이에는 스페이서가 포함되는 하부전극층이 형성되어 있는 하판;A lower plate provided to be spaced apart from the upper plate and having a lower electrode layer on one surface of the lower electrode layer on a surface facing the upper electrode layer, and a spacer between the lower electrodes; 상기 상부전극층과 상기 하부전극층은 스트립 형상의 전극으로,The upper electrode layer and the lower electrode layer is a strip-shaped electrode, 상기 상부전극층과 상기 하부전극층에 형성된 전극이 서로 교차되도록 복수개 구비되고, A plurality of electrodes formed on the upper electrode layer and the lower electrode layer intersect each other, 상기 상판과 하판의 사이의 둘레에 구비되어, 상기 상판과 상기 하판을 연결하는 접착층; 및An adhesive layer provided around the upper plate and the lower plate to connect the upper plate and the lower plate; And 상기 상판과 상기 하판 사이에 충진되는 충진재를 포함하는 터치입력구조에 있어서, 상기 터치입력구조의 측면은 단순 지지된 상태로서, 상기 측면의 변위변화가 없는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 멀티터치에 따른 접촉위치 및 누름힘 측정용 터치입력구조.In the touch input structure comprising a filler filled between the upper plate and the lower plate, the side of the touch input structure is a simple supported state, the displacement of the side, characterized in that the capacitive multi-touch Touch input structure for contact position and push force measurement. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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