KR101021035B1 - Cleaning method of water reservoir using nontoxic and eco-friendly cleaner - Google Patents

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KR101021035B1 KR1020100122454A KR20100122454A KR101021035B1 KR 101021035 B1 KR101021035 B1 KR 101021035B1 KR 1020100122454 A KR1020100122454 A KR 1020100122454A KR 20100122454 A KR20100122454 A KR 20100122454A KR 101021035 B1 KR101021035 B1 KR 101021035B1
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Abstract

PURPOSE: A method for cleaning a water reservoir is provided to secure high cleaning performance by using dodecylglycerol ethoxylate, instead of toxic hydrogen peroxide, as nonionic surfactant. CONSTITUTION: A method for cleaning a water reservoir using non-toxic and environmentally-friendly cleaning solution is as follows. The water of a water reservoir is drained(S1). A water reservoir cleaning solution is prepared by mixing organic acid 100wt.%, dodecylglycerol ethoxylate 1~10wt.%, and water 1500~2500wt.%, wherein the organic acid is composed of citric acid 100wt.%, ascorbic acid 5~15wt.%, glycolic acid 70~180wt.%, and gluconic acid 70~180wt.%. The water reservoir cleaning solution is sprayed with a low-pressure electric sprayer onto the wall and bottom surfaces of the water reservoir(S2). The water reservoir cleaning solution on the wall and bottom surfaces of the water reservoir is washed off.

Description

무독성 및 친환경성 저수조 세정액을 이용한 저수조 세정방법{Cleaning method of water reservoir using nontoxic and eco-friendly cleaner}Cleaning method of water reservoir using nontoxic and eco-friendly cleaner

본 발명은 저수조 세정방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 무독성 및 친환경성 세정액을 이용하여 옥내 또는 옥외 저수조를 세척하는 저수조 세정방법에 관한 것이다.The present invention relates to a reservoir cleaning method, and more particularly, to a reservoir cleaning method for washing an indoor or outdoor reservoir using a non-toxic and environmentally friendly cleaning liquid.

저수조는 수돗물, 빗물 또는 하천수를 식수나 생활용수로 사용하기 위하여 저장하는 기구를 통칭하는 명칭이다. 저수조에는 일정 기간 동안 물이 저장되는데, 저장기간이 늘어나면서 저수조의 내벽이 오염될 수 있으므로 주기적으로 세척을 해주어야 한다. 저수조의 청결을 유지하는 것은 위생상 중요할 뿐만 아니라, 수도 법령에도 필요한 조치를 하도록 되어 있다. 특히, 대형건축물의 소유자나 관리자는 저수조를 반년마다 1회 이상 청소하여야 하며, 청소를 하는 경우에는 저수조의 천정, 벽 및 바닥 등을 청소하고, 청소 후에는 소독을 하고, 그 후 저수조에 물을 채운 후 수질에 대한 위생 상태를 점검하도록 규정되어 있다.Reservoir is a generic term for a device that stores tap, rain, or river water for use as drinking or living water. Water is stored in the reservoir for a certain period of time, and as the storage period is extended, the inner wall of the reservoir may be contaminated and should be periodically cleaned. Maintaining the cleanliness of the reservoir is not only hygienic, but is also necessary for water laws. In particular, the owner or manager of a large building should clean the water tank at least once every half year.In case of cleaning, clean the ceiling, walls and floor of the water tank, disinfect it after cleaning, and then drain the water tank. It is regulated to check hygiene condition of water quality after filling.

저수조의 오염 원인은 물에 용해되어 있는 탄산염과 같은 무기염의 석출에 의한 오염, 미생물의 증식에 의한 오염 또는 이끼와 같은 조류에 의한 오염 등과 같이 다양하다. 저수조의 세척에는 솔이나 수세미 등을 이용한 물리적 세척이 이용되기도 하지만, 특정 성분이 포함된 세정액을 이용한 화학적 세척이 이용되는 것이 일반적이다. 화학적 세척은 물리적 세척에 비하여 노동력이 절감되고, 세척효과가 뛰어나며, 특히 입구가 작아서 세척작업이 어려운 경우에 효과적이다. 저수조의 화학적 세척에 이용되던 종래의 세정액은 산성 또는 염기성 세정성분에 계면활성제가 첨가된 것들인데, 구체적인 구성과 문제점은 아래와 같다. The causes of contamination of the reservoirs are varied, such as contamination by precipitation of inorganic salts such as carbonates dissolved in water, contamination by the growth of microorganisms, or contamination by algae such as moss. Physical washing using a brush or a loofah may be used for washing the reservoir, but chemical washing using a cleaning solution containing a specific component is generally used. Chemical cleaning is less labor than physical cleaning, excellent cleaning effect, especially when the cleaning is difficult due to the small entrance. Conventional cleaning solutions used for chemical cleaning of reservoirs are those in which a surfactant is added to an acidic or basic cleaning component, and specific configurations and problems are as follows.

음이온 계면활성제를 주성분으로 한 세정액은 알칸설포네이트, 알킬에테르셀페이트, 직쇄알킬벤젠설폰네이트와 같은 음이온성 계면활성제를 주성분으로 포함하는 동시에, 비이온 계면활성제, 기포안정제로서 지방산알칸올아미드 성분과 제올라이트, 실리케이트 등 첨가제 등이 다양하게 함유되어 있다. 그러나 이러한 음이온 계면활성제를 주성분으로 한 세정액은 세정액 자체의 산도가 염기성이어야 하며 기포가 심해 저수조에 사용하기는 매우 곤란하고, 염기성 세정액으로는 침적된 무기염을 제거할 수가 없다는 문제점을 가지고 있다. The cleaning solution mainly composed of an anionic surfactant contains anionic surfactants such as alkanesulfonates, alkyl ether sulphates, and linear alkylbenzene sulfonates as the main components, and also contains fatty acid alkanolamide components as nonionic surfactants and bubble stabilizers. Various additives, such as zeolite and a silicate, are contained. However, such a cleaning liquid containing an anionic surfactant as a main component has a problem in that the acidity of the cleaning liquid itself must be basic and the bubbles are so severe that it is very difficult to use in a water tank, and the basic cleaning liquid cannot remove the deposited inorganic salts.

염기성 세정액의 문제점을 해결할 수 있는 다른 종류의 세정액은 산성 세정액이다. 산성 세정액은 산도가 2 내지 6 정도의 산성을 띠는 세정액로서, 저수조 내에 축적된 무기염과 이끼들을 효과적으로 제거할 수 있는 장점을 가진다. 산성 세정액에는 인산, 알킬렌술폰산과 같은 다양한 산이 포함되는데, 인산은 하천의 부영양화 때문에 사용이 매우 제한적이므로 세정액의 성분으로 사용되기에 부적합한 면을 가지고 있다. Another type of cleaning liquid that can solve the problem of the basic cleaning liquid is an acidic cleaning liquid. The acidic cleaning liquid is an acidic cleaning liquid having an acidity of about 2 to 6, and has an advantage of effectively removing inorganic salts and moss accumulated in the reservoir. Acidic cleaning liquids include various acids such as phosphoric acid and alkylenesulfonic acid. Phosphoric acid is not suitable for use as a component of the cleaning liquid because its use is very limited due to river eutrophication.

산성 세정액에 관한 국내 선행문헌인 한국공개특허 제2007-0104181호는 석재나 금속재의 유기오염물질을 제거하기 위한 세정액에 대하여 개시하고 있는데, 폴리옥시에틸렌옥사이드 축합형 비이온 계면활성제와 백화물질 및 미생물류 오염물질 세척용으로 과산화수소와 불산 또는 염산 등 매우 독성이 강한 물질을 포함하고 있다. 한국공개특허 제2007-0003854호는 화학적 기계연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP) 공정 후에 사용되는 세정액으로서, 암모늄 시트레이트, 암모늄 옥살에이트 등과 비이온 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 등을 다양하게 포함하는 세정액에 대하여 개시하고 있다. 한국공개특허 제2005-0053725호는 욕실 내 타일이나 화장실 변기, 실내타일 등의 오염을 제거하기 위하여 산성 세정액에 고분자물질인 폴리아크릴레이트를 첨가하여 세정 효과를 높일 수 있는 것으로 개시하고 있다. 한국공개특허 제2001-0015752호는 알콕시화 아민을 이용한 산성 세정액 조성물에 대한 기술을 개시하고 있는데, 상기 산성 세정액은 알콕실화 지방족아민과 술팜산, 항균성을 나타내기 위한 과산화수소 또는 퍼아세트산 및 비이온 계면활성제로서 지방족알콜에 에톡실화한 것을 포함하고 있다. Korean Laid-Open Patent Publication No. 2007-0104181, which is a domestic prior art document relating to an acidic cleaning solution, discloses a cleaning solution for removing organic contaminants from stone or metal materials, and includes polyoxyethylene oxide condensed nonionic surfactants, whitening materials and microorganisms. It contains highly toxic substances such as hydrogen peroxide and hydrofluoric acid or hydrochloric acid for cleaning pollutants. Korean Laid-Open Patent No. 2007-0003854 is a cleaning liquid used after a chemical mechanical polishing (CMP) process, and includes ammonium citrate, ammonium oxalate, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like. Disclosed is a cleaning liquid containing variously. Korean Laid-Open Patent Publication No. 2005-0053725 discloses that a polyacrylate, a polymer material, can be added to an acidic cleaning solution to remove a contamination of a tile in a bathroom, a toilet, a toilet, or an indoor tile. Korean Laid-Open Patent Publication No. 2001-0015752 discloses a technique for an acidic cleaning liquid composition using an alkoxylated amine, wherein the acidic cleaning liquid is alkoxylated aliphatic amine and sulfamic acid, hydrogen peroxide or peracetic acid and nonionic interface to exhibit antimicrobial activity. The activator includes an ethoxylated aliphatic alcohol.

산성 세정액에 관한 해외 선행문헌인 미국공개특허 제2008-0045439호는 저기포성 공업용 산성 세정액으로서 시트릭산, 지방산알콜 또는 폴리에톡실레이트형 계면활성제, 소듐 바이설파이트(sodium bisulfite), 글리세린 등이 함유된 조성물을 개시하고 있다. 미국공개특허 제2008-0132439호는 알킬 글리코사이드, 글리세릴, 에테르, 유기용제 성분으로 디에틸렌그리콜, 트리에틸렌글리콜, 소듐 도데실벤젠설포네이트(sodium dodecylbenzenesulfonate)가 함유된 조성물을 개시하고 있다. 또한 미국공개특허 제2008-0139443호는 사차암모늄염과 유기산인 시트릭산, 유기용제로서 글리콜 메틸에테르, 에탄올, 글리콜 모노부틸에테르 등을 함유하는 산성 세정액에 대하여 개시하고 있는데, 상기 사차암모늄염은 항균성을 나타내는 것으로 알려져 있다.US Patent Publication No. 2008-0045439, an overseas prior art document relating to acidic cleaning liquids, includes a citric acid, fatty acid alcohol or polyethoxylate-type surfactant, sodium bisulfite, glycerin, and the like as a low-foaming industrial cleaning liquid. Disclosed compositions are disclosed. US Patent Publication No. 2008-0132439 discloses a composition containing diethylene glycol, triethylene glycol, sodium dodecylbenzenesulfonate as an alkyl glycoside, glyceryl, ether, and an organic solvent component. In addition, US Patent Publication No. 2008-0139443 discloses an acidic cleaning solution containing quaternary ammonium salt, citric acid which is an organic acid, and glycol methyl ether, ethanol, glycol monobutyl ether, etc. as an organic solvent. It is known.

상기의 산성 세정액에 대한 선행기술들 중 세정액에 산성을 부여하기 위하여 염산, 인산 등과 같은 강한 무기산을 사용하는 산성 세정액은 환경오염의 우려가 크고, 항균효과를 부여하기 위한 성분인 과산화수소, 퍼아세트산 등은 인체에 독성을 가지고 있으므로 세정 후 세정액의 제거에 추가의 노력이 요구된다. 따라서, 환경오염의 우려가 없고, 인체에 독성이 적은 성분으로 이루어진 친환경성 저수조 세정액 를 이용한 저수조 세정방법에 대한 개발 필요성이 크다.Among the prior arts for the acidic cleaning liquids, acidic cleaning liquids using strong inorganic acids such as hydrochloric acid and phosphoric acid to give acidity to the cleaning liquid have a high risk of environmental pollution, and hydrogen peroxide, peracetic acid, etc. Since it is toxic to the human body, additional efforts are required to remove the cleaning liquid after cleaning. Therefore, there is a great need for the development of a water tank cleaning method using an environment-friendly water tank cleaning liquid, which is free from environmental pollution and is less toxic to the human body.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 무기산과 과산화수소 등과 같은 독성 물질을 포함하고 있지 않으면서도, 세정효과가 뛰어난 저수조 세정액을 이용하여 저수조를 세정하는 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a method for cleaning a reservoir using a reservoir cleaning liquid having excellent cleaning effect without containing toxic substances such as inorganic acids and hydrogen peroxide.

본 발명은 상기 과제를 달성하기 위하여, 저수조의 물을 배수하는 단계와, 시트릭산 100중량부, 아스코빅산 5 내지 15중량부, 글리콜릭산 70 내지 180중량부 및 글루콘산 70 내지 180중량부로 이루어진 유기산 100중량부와, 하기의 화학식 1로 표시되는 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트 1 내지 10중량부와, 물 1500 내지 2500중량부를 혼합하여 제조된 저수조 세정액을 준비하는 단계와, 저압전동분사기를 이용하여 저수조의 벽면과 바닥면에 저수조 세정액을 분사하는 단계와, 벽면 및 바닥면에 분사된 저수조 세정액을 세척하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 저수조 세정방법을 제공한다.
The present invention, in order to achieve the above object, the step of draining the water of the reservoir and the organic acid consisting of 100 parts by weight of citric acid, 5 to 15 parts by weight of ascorbic acid, 70 to 180 parts by weight of glycolic acid and 70 to 180 parts by weight of gluconic acid Preparing a water tank cleaning liquid prepared by mixing 100 parts by weight, 1 to 10 parts by weight of dodecylglycerol polyethoxylate represented by Formula 1 below, and 1500 to 2500 parts by weight of water, and using a low pressure electric sprayer. It provides a reservoir cleaning method comprising the step of spraying the reservoir cleaning liquid on the wall and bottom surface of the reservoir, and washing the reservoir cleaning liquid sprayed on the wall and the bottom surface.

화학식 1Formula 1

Figure 112010079714328-pat00001
Figure 112010079714328-pat00001

(m, n은 정수이고, m+n= 2 내지 10)
(m, n are integers, m + n = 2 to 10)

본 발명의 일 실시예에 따르면, 유기산은 시트릭산 100중량부 대비 10 내지 30중량부의 옥살산 또는 30 내지 70중량부의 말론산을 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the organic acid may further comprise 10 to 30 parts by weight of oxalic acid or 30 to 70 parts by weight of malonic acid relative to 100 parts by weight of citric acid.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 저수조 세정액은 도데실글리세롤을 더 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the reservoir cleaning liquid may further include dodecylglycerol.

본 발명의 저수조 세정방법을 이용하면 저수조의 벽면을 오염시킨 유기 오염물과 부착 이끼를 효과적으로 제거할 수 있다. 또한, 본 발명의 저수조 세정방법에 이용되는 세정액은 독성을 지닌 과산화수소를 이용하지 않고, 도데실글리세롤을 에톡시화하여 합성된 도데실글리세롤에톡실레이트를 비이온 계면활성제로 이용하여 우수한 세정능력을 확보하였다. 나아가, 본 발명의 저수조 세정방법에 이용되는 세정액은 시트릭산, 아스코빅산, 글리콜릭산 등의 유기산을 주성분으로 하고 있으므로 무기산을 이용하는 세정액과 비교하여 독성이 매우 적고, 환경오염의 우려가 적다. Using the water tank cleaning method of the present invention, it is possible to effectively remove the organic contaminants and adherent moss that contaminated the wall surface of the water tank. In addition, the cleaning solution used in the water tank cleaning method of the present invention does not use toxic hydrogen peroxide, and dodecylglycerol ethoxylate synthesized by ethoxylating dodecylglycerol as a nonionic surfactant to ensure excellent cleaning ability It was. Furthermore, the cleaning liquid used in the water tank cleaning method of the present invention contains organic acids such as citric acid, ascorbic acid and glycolic acid as main components, and thus has very low toxicity compared to the cleaning liquid using inorganic acids, and there is little concern about environmental pollution.

도 1은 본 발명의 저수조 세정방법을 단계적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따라 합성된 도데실글리세롤에톡실레이트-5의 1H-NMR 측정결과이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따라 합성된 도데실글리세롤에톡실레이트-7의 1H-NMR 측정결과이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따라 합성된 도데실글리세롤에톡실레이트-10의 1H-NMR 측정결과이다.
도 5는 본 발명의 저수조 세정액을 이용하여 부착이끼 제거 실험을 한 결과를 나타낸 사진이다.
도 6은 본 발명의 저수조 세정액을 이용하여 조류 용액 실험을 한 결과를 나타낸 사진이다.
Figure 1 shows step by step the cleaning method of the reservoir of the present invention.
2 is a 1 H-NMR measurement results of dodecylglycerol ethoxylate-5 synthesized in accordance with an embodiment of the present invention.
3 is a 1 H-NMR measurement results of dodecylglycerol ethoxylate-7 synthesized in accordance with an embodiment of the present invention.
4 is a 1 H-NMR measurement results of dodecylglycerol ethoxylate-10 synthesized in accordance with an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a photograph showing the results of the adhered moss removal experiment using the reservoir cleaning liquid of the present invention.
Figure 6 is a photograph showing the results of the algae solution experiment using the reservoir cleaning liquid of the present invention.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 저수조 세정방법은 저수조의 물을 배수하는 단계와, 시트릭산 100중량부, 아스코빅산 5 내지 15중량부, 글리콜릭산 70 내지 180중량부 및 글루콘산 70 내지 180중량부로 이루어진 유기산 100중량부와, 하기의 화학식 1로 표시되는 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트 1 내지 10중량부와, 물 1500 내지 2500중량부를 혼합하여 제조된 저수조 세정액을 준비하는 단계와, 저압전동분사기를 이용하여 저수조의 벽면과 바닥면에 저수조 세정액을 분사하는 단계와, 벽면 및 바닥면에 분사된 저수조 세정액을 세척하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The water tank cleaning method of the present invention comprises the steps of draining the water of the reservoir, 100 parts by weight of organic acid consisting of 100 parts by weight of citric acid, 5 to 15 parts by weight of ascorbic acid, 70 to 180 parts by weight of glycolic acid and 70 to 180 parts by weight of gluconic acid. 1 to 10 parts by weight of dodecylglycerol polyethoxylate represented by the following Chemical Formula 1, and preparing a water tank cleaning liquid prepared by mixing 1500 to 2500 parts by weight of water, and using a low pressure electric sprayer, the wall surface of the water tank. And spraying the reservoir cleaning liquid on the bottom surface, and washing the reservoir cleaning liquid sprayed on the wall surface and the bottom surface.

화학식 1Formula 1

Figure 112010079714328-pat00002
Figure 112010079714328-pat00002

(m, n은 정수이고, m+n= 2 내지 10)
(m, n are integers, m + n = 2 to 10)

도 1은 본 발명의 저수조 세정 방법을 단계적으로 도시한 것이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 저수조 세정방법은 배수 작업(S1), 세정액 분사(S2), 고압수 분사(S3), 린싱 작업(S4) 및 잔수 배수(S5)의 순서에 따라 진행된다. 배수 작업(S1)은 저수조를 세정하기 위한 첫 번째 단계로서, 저수조에 저장되어 있던 물을 배출하는 과정이다. 아파트 옥상의 저수조와 같은 경우에는 중력에 의하여 배수가 이루어질 수 있으므로 별도의 배수장치가 필요 없을 수 있지만, 정화시설과 같이 중력을 이용한 배수가 용이하지 않은 경우에는 배수 펌프를 이용하여 배수 작업을 진행할 수 있다. 도면에는 표시하지 않았지만, 필요한 경우에는 배수 작업의 전후, 또는 동시에 세정작업을 위한 조명기구나 환기기구를 설치하는 단계가 추가될 수 있다. 세정액 분사(S2)는 저수조의 바닥면이나 벽면에 형성된 오염물을 제거하기 위하여 세정액을 분사하는 단계이다. 오염물은 주로 물때와 같은 유기 오염물, 물이끼 등이며 주 오염물의 종류에 따라 세정액의 성분을 조절할 수 있다. 세정액의 분사는 오염물에 세정액을 분사시켜서 오염물이 세정액에 충분한 시간동안 접촉될 수 있게 하는 것이 중요하므로 세정액의 분사에는 저압 전동분사기가 이용되는 것이 적절하다. 고압수 분사(S3)는 세정액에 의하여 분해되거나 용해된 오염물을 저수조 바닥면과 벽면에서 제거하는 과정이다. 즉, 세정액에 의하여 오염물이 분해되거나 용해되어 있더라도 오염물의 잔재는 저수조의 벽면 등에 약하게 부착될 상태를 유지하므로 고압의 세척수를 이용하여 이를 제거하여야 한다. 고압수 분사의 과정에서는 고압 전동분사기가 이용될 수 있다. 세정액 분사(S2) 및/또는 고압수 분사(S3)의 과정은 필요한 경우 복수회로 반복될 수 있고, 고압수에 일정농도로 세정액을 첨가하여 분사할 수도 있다. 린싱 작업(S4)은 세정액 분사와 고압수 분사 후에 저수조의 바닥면이나 벽면에 잔류한 세정액과 오염물을 세척하는 과정이다. 세정액 분사와 고압수 분사 후에는 세정액과 오염물은 저수조의 바닥면에 고이게 되므로 특히 바닥면의 린싱 작업이 필요하다. 잔수 배수(S5)는 저수조의 바닥면에 고인 잔수를 제거하는 과정이다. 잔수 배수 과정은 중력에 의한 자연 배수가 이루어지도록 할 수도 있고, 연속토출식 습식 진공청소기가 이용될 수도 있다.Figure 1 shows step by step the cleaning method of the reservoir of the present invention. Referring to Figure 1, the reservoir cleaning method of the present invention proceeds in the order of drainage operation (S1), washing liquid injection (S2), high-pressure water injection (S3), rinsing operation (S4) and the residual water drainage (S5). Drainage operation (S1) is a first step for cleaning the reservoir, the process of discharging the water stored in the reservoir. In the case of a water tank on the roof of an apartment, drainage may be necessary because of gravity, but when drainage using gravity is not easy, such as a purification facility, drainage may be performed using a drainage pump. have. Although not shown in the drawings, if necessary, before and after the drainage work, or at the same time, a step of installing a lighting device or a ventilation device for cleaning may be added. Cleaning liquid injection (S2) is a step of spraying the cleaning liquid to remove the contaminants formed on the bottom surface or wall surface of the reservoir. Contaminants are mainly organic contaminants such as scale, moss, etc., and the components of the cleaning liquid can be adjusted according to the type of the main contaminants. Since the injection of the cleaning liquid is important to inject the cleaning liquid into the contaminants so that the contaminants can come into contact with the cleaning liquid for a sufficient time, it is appropriate to use a low pressure electric sprayer for the injection of the cleaning liquid. The high pressure water spray S3 is a process of removing contaminants decomposed or dissolved by the cleaning solution from the bottom and the wall of the reservoir. That is, even though the contaminants are decomposed or dissolved by the cleaning liquid, the residues of the contaminants remain weakly attached to the wall surface of the reservoir, and thus, the contaminants should be removed using high pressure washing water. In the process of high pressure water injection may be used a high-pressure electric sprayer. The process of the cleaning liquid injection (S2) and / or high pressure water injection (S3) may be repeated a plurality of times if necessary, it may be sprayed by adding the cleaning liquid to a certain concentration in the high pressure water. Rinse operation (S4) is a process of washing the cleaning liquid and contaminants remaining on the bottom or wall of the reservoir after the cleaning liquid injection and high-pressure water injection. After the cleaning liquid injection and the high-pressure water injection, the cleaning liquid and contaminants accumulate on the bottom surface of the reservoir, and therefore, especially the rinsing operation of the bottom surface is necessary. Residual drainage (S5) is a process of removing the residual water accumulated on the bottom surface of the reservoir. Residual drainage process may allow for natural drainage by gravity, or a continuous discharge wet vacuum cleaner may be used.

본 발명의 저수조 세정방법은 유기산과 특정 화학식의 계면활성제를 포함하는 세정액을 이용하는 것을 특징으로 한다. 유기산은 인체에 독성이 없는 친환경성 물질이므로 작업자의 안전과 환경보호의 2가지 효과를 가질 수 있다. 또한 본 발명의 세정액에 적용되는 화학식 1의 계면활성제는 물과 기름때의 젖음성을 개선하여 오염물 제거의 효과를 향상시킨다. 아래에서는 본 발명의 저수조 세정방법에 적용되는 세정액의 제조과정과 효과에 대한 실험결과를 설명하기로 한다.The water tank cleaning method of the present invention is characterized by using a cleaning liquid containing an organic acid and a surfactant having a specific chemical formula. Organic acids are environmentally friendly materials that are not toxic to humans, so they can have two effects: worker safety and environmental protection. In addition, the surfactant of the formula (1) applied to the cleaning solution of the present invention improves the wettability of water and grease to improve the effect of removing contaminants. Hereinafter, the experimental results of the manufacturing process and the effect of the cleaning liquid applied to the water tank cleaning method of the present invention will be described.

본 발명에 적용되는 저수조 세정액은 물, 유기산 및 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트(dodecylglycerol polyethoxylate)를 포함한다. 물은 세정액의 용매이고, 유기산은 세정액에 산성을 부여하기 위한 성분이며, 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트는 비이온 계면활성제이다. 유기산은 시트릭산(citric acid), 아스코빅산(ascorbic acid), 글리코릭산(glycolic acid) 및 글루콘산(gluconic acid)을 그 성분으로 포함하며, 조성비는 시트릭산 100중량부, 아스코빅산 5 내지 15중량부, 글리콜릭산 70 내지 180중량부 및 글루콘산 70 내지 180중량부인 것이 바람직하다. 상기 유기산들의 혼합비는 기재된 수치범위에서 자유롭게 조절이 가능한데, 저수조의 사용환경에 따라 주 오염물질이 달라질 수 있으므로 적절한 혼합비를 선택하여 사용할 수 있다. 또한, 유기산은 옥살산(oxalic acid) 또는 말론산(malonic acid)을 더 포함할 수 있는데, 옥살산은 시트릭산 100중량부 대비 10 내지 30중량부의 성분비로 포함되는 것이 바람직하고, 말론산은 30 내지 70중량부의 성분비로 포함되는 것이 바람직하다. 옥살산은 녹이나 잉크 오염물을 효과적으로 제거하는 기능을 지니고 있는 것으로 알려져 있으므로, 저수조 세정액에 옥살산이 포함되면 금속재의 저수조에 발생할 수 있는 녹을 제거할 수 있는 효과도 가질 수 있다. 또한, 옥살산은 말론산에 비하여 적은 양으로도 세정능력을 증가시킬 수 있고, 단가도 말론산에 비하여 낮은 장점도가지고 있다.The reservoir cleaning liquid applied to the present invention includes water, an organic acid and dodecylglycerol polyethoxylate. Water is a solvent of the washing liquid, an organic acid is a component for imparting acidity to the washing liquid, and dodecylglycerol polyethoxylate is a nonionic surfactant. The organic acid includes citric acid, ascorbic acid, glycolic acid and gluconic acid, and the composition ratio is 100 parts by weight of citric acid and 5 to 15 weight of ascorbic acid. It is preferable that they are 70-180 weight part and glycolic acid 70-180 weight part. The mixing ratio of the organic acids can be freely adjusted in the numerical range described, since the main pollutants may vary depending on the use environment of the reservoir can be used by selecting the appropriate mixing ratio. In addition, the organic acid may further include oxalic acid or malonic acid, and oxalic acid is preferably included in an ingredient ratio of 10 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of citric acid, and malonic acid is 30 to 70 parts by weight. It is preferable to be contained in a negative component ratio. Since oxalic acid has a function of effectively removing rust and ink contaminants, when oxalic acid is included in the reservoir cleaning liquid, oxalic acid may also have an effect of removing rust that may occur in the metal reservoir. In addition, oxalic acid can increase the washing ability in a small amount compared to malonic acid, and also has a lower price than the malonic acid.

본 발명에서는 상기의 화학식 1로 표시되는 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트를 합성하였고, 이를 이용하여 유기산과의 배합을 통하여 세정효과가 뛰어난 산성 세정액을 개발할 수 있었다. 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트는 하기의 반응 스킴 1(scheme 1)로 합성하였다. 하기의 합성 스킴 1을 참조하면, 염기조건에서 에폭사이드에 물을 첨가하여 고리열림 반응을 통하여 도데실글리세롤(dodecylglycerol)을 합성하고, 염기조건에서 에틸렌옥사이드(ethylene oxide)를 첨가하여 에테르 사슬이 연장된 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트를 합성할 수 있다.
In the present invention, the dodecylglycerol polyethoxylate represented by the formula (1) was synthesized, and using this, it was possible to develop an acidic washing liquid having excellent cleaning effect through blending with an organic acid. Dodecylglycerol polyethoxylate was synthesized by the following reaction scheme 1 (scheme 1). Referring to the following Synthesis Scheme 1, dodecylglycerol was synthesized by adding water to the epoxide under basic conditions and ring opening reaction, and ether chain was extended by adding ethylene oxide under basic conditions. Synthesized dodecylglycerol polyethoxylates.

합성 스킴 1Synthetic Scheme 1

Figure 112010079714328-pat00003

Figure 112010079714328-pat00003

이때, 첨가되는 에틸렌옥사이드의 당량에 따라 서로 다른 분자량을 가지는 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트가 합성될 수 있다. 예를 들어 1몰의 도데실글리세롤에 5당량의 에틸렌옥사이드가 첨가되면 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트-5(DGO-5)가 합성되고, 7당량의 에틸렌옥사이드가 첨가되면 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트-7(DGO-7)이 합성되며, 10당량의 에틸렌옥사이드가 첨가되면 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트-10(DGO-10)이 합성될 수 있다. 그러나 상기의 합성 스킴 1에 의하여 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트를 합성하는 경우에 생성되는 화합물은 1가지 종류만이 아니다. 예를 들어 1몰의 도데실글리세롤에 5당량의 에틸렌옥사이드가 첨가되는 경우에, 주생성물은 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트-5(DGO-5)가 되지만, 이 외에도 다른 분자량을 가지는 생성물들이 일정 정도의 비율로 존재할 수 있다. 또한, 생성물에는 미반응하고 남은 도데실글리세롤이 일부 존재할 수 있는데, 이는 저수조 세정액에 항균성을 부여하게 된다. 도데실글리세롤의 항균효과에 대해서는 논문을 통하여 이미 알려진 바 있다(H.S. Ved, et al, The J. Biological Chemistry, 259 (13), 8115-8121, (1984)). 따라서 합성 스킴 1을 통하여 얻어진 생성물을 그대로 저수조 세정액에 첨가하면 세정액에 항균효과가 발휘되어 세정효과를 극대화할 수 있다. 세정액에 포함되는 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트의 조성비에 따라 세정능력이 변화되며, 바람직한 조성비는 100중량부의 유기산 및 1 내지 10중량부의 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트이다. 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트의 성분비가 1중량부 미만이면 계면활성제에 의한 소수성 오염물질의 분산 효과가 적어지므로 세정능력이 낮아지고, 10중량부를 초과하면 세정 시에 거품이 많이 발생하여 세정능력이 낮아진다. In this case, dodecylglycerol polyethoxylates having different molecular weights may be synthesized according to the equivalent weight of ethylene oxide. For example, when 5 equivalents of ethylene oxide is added to 1 mole of dodecylglycerol, dodecylglycerol polyethoxylate-5 (DGO-5) is synthesized, and when 7 equivalents of ethylene oxide is added, dodecylglycerol polyethoxyl Rate-7 (DGO-7) is synthesized, and dodecylglycerol polyethoxylate-10 (DGO-10) can be synthesized when 10 equivalents of ethylene oxide is added. However, the compound produced when synthesizing the dodecylglycerol polyethoxylate by the above synthesis scheme 1 is not only one kind. For example, when 5 equivalents of ethylene oxide is added to 1 mole of dodecylglycerol, the main product is dodecylglycerol polyethoxylate-5 (DGO-5), but other products having different molecular weights May be present in proportion. In addition, some unreacted dodecylglycerol may be present in the product, which imparts antimicrobial activity to the reservoir cleaning liquid. The antimicrobial effect of dodecylglycerol has been known from the literature (H.S. Ved, et al, The J. Biological Chemistry, 259 (13), 8115-8121, (1984)). Therefore, when the product obtained through the synthesis scheme 1 is added to the water tank washing liquid as it is, the antimicrobial effect can be exerted on the washing liquid to maximize the washing effect. The washing ability is changed according to the composition ratio of the dodecylglycerol polyethoxylate contained in the washing liquid, and the preferred composition ratio is 100 parts by weight of organic acid and 1 to 10 parts by weight of dodecylglycerol polyethoxylate. If the content ratio of dodecylglycerol polyethoxylate is less than 1 part by weight, the dispersing effect of hydrophobic contaminants by the surfactant is less, and the cleaning ability is lowered. Lowers.

본 발명에 적용되는 저수조 세정액은 LX-94를 더 포함할 수 있다. LX-94는 (주)한농화성에서 제조하여 판매하는 비이온 계면활성제의 제품명으로서 에틸렌옥사이드와 프로필렌옥사이드를 공중합하여 제조된다. LX-94는 저기포성 계면활성제이므로, 저수조 세정작업 시에 기포가 발생되는 것을 억제시킬 수 있는 기능을 한다. 따라서, LX-94를 적당량 첨가하면 저수조 세정액에서 기포가 발생되는 것을 억제하여 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트의 첨가량을 증가시킬 수 있는 효과를 가진다. LX-94의 첨가량은 시트릭산 100중량부를 기준으로 약 15중량부 이상인 것이 바람직하다. LX-94의 첨가량이 지나치게 적으면 기포 억제효과가 적어서 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트를 충분히 첨가할 수 없기 때문이다.
The reservoir cleaning liquid applied to the present invention may further include LX-94. LX-94 is a product name of a nonionic surfactant manufactured and sold by Hannong-Sung Co., Ltd., and is produced by copolymerizing ethylene oxide and propylene oxide. Since LX-94 is a low-foaming surfactant, it functions to suppress the generation of bubbles in the water tank cleaning operation. Therefore, the addition of an appropriate amount of LX-94 has the effect of suppressing the generation of bubbles in the reservoir cleaning liquid to increase the amount of dodecylglycerol polyethoxylate added. The amount of LX-94 added is preferably about 15 parts by weight or more based on 100 parts by weight of citric acid. This is because when the amount of LX-94 added is too small, the effect of inhibiting bubbles is small and dodecylglycerol polyethoxylate cannot be sufficiently added.

이하에서 실시예를 이용하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다. 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것일 뿐, 실시예에 의하여 권리범위가 제한되지는 않으며, 오직 청구범위에 기재된 사항에 의하여 권리범위가 해석되어야 할 것이다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples. The embodiments are only intended to describe the present invention in more detail, and the scope of the rights is not limited by the embodiments, and the scope of the rights should be interpreted only by the matters described in the claims.

실시예 1-1(도데실글리세롤에톡실레이트-5의 합성)Example 1-1 (Synthesis of Dodecylglycerol Ethoxylate-5)

1 리터 고압반응기에 1몰의 도데실글리세롤(mw: 260)과 0.1몰의 수산화칼륨(KOH)을 넣고 반응기의 온도를 120 내지 140℃의 범위로 유지하면서 5몰의 에틸렌옥사이드를 약 6시간동안 반응시켰다. 이어서, 반응온도와 반응압력을 각각 상온 및 상압으로 낮춘 후 약 0.1몰의 초산으로 수산화칼륨(KOH)을 중화시켰다.
1 mole of dodecylglycerol (mw: 260) and 0.1 mole of potassium hydroxide (KOH) were added to a 1 liter high-pressure reactor, and 5 moles of ethylene oxide were maintained for about 6 hours while maintaining the reactor temperature in the range of 120 to 140 ° C. Reacted. Subsequently, after lowering the reaction temperature and the pressure to normal and normal pressure, potassium hydroxide (KOH) was neutralized with about 0.1 mole of acetic acid.

실시예 1-2(도데실글리세롤에톡실레이트-7의 합성)Example 1-2 (Synthesis of Dodecylglycerol Ethoxylate-7)

에틸렌옥사이드의 양을 7몰로 변화시킨 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일한 방법으로 합성을 진행하였다.
Synthesis was carried out in the same manner as in Example 1-1, except that the amount of ethylene oxide was changed to 7 mol.

실시예 1-3(도데실글리세롤에톡실레이트-10의 합성)Example 1-3 (Synthesis of Dodecylglycerol Ethoxylate-10)

에틸렌옥사이드의 양을 10몰로 변화시킨 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일한 방법으로 합성을 진행하였다.
Synthesis was carried out in the same manner as in Example 1-1, except that the amount of ethylene oxide was changed to 10 mol.

실시예 2-1(세정액 1의 제조)Example 2-1 (Preparation of Cleaning Liquid 1)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-10 5g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 1을 제조하였다.
Washing liquid 1 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 5 g of GDO-10 in 360 g of water.

실시예 2-2(세정액 2의 제조)Example 2-2 (Preparation of Cleaning Liquid 2)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-10 15g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 2을 제조하였다.
Washing liquid 2 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 15 g of GDO-10 in 360 g of water.

실시예 2-3(세정액 3의 제조)Example 2-3 (Preparation of Cleaning Liquid 3)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-10 25g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 3을 제조하였다.
Washing liquid 3 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 25 g of GDO-10 in 360 g of water.

실시예 2-4(세정액 4의 제조)Example 2-4 (Preparation of Cleaning Liquid 4)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-7 5g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 4을 제조하였다.
Washing liquid 4 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 5 g of GDO-7 in 360 g of water.

실시예 2-5(세정액 5의 제조)Example 2-5 (Preparation of Cleaning Liquid 5)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-7 15g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 5을 제조하였다.
Washing solution 5 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 15 g of GDO-7 in 360 g of water.

실시예 2-6(세정액 6의 제조)Example 2-6 (Preparation of Cleaning Liquid 6)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-7 25g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 6을 제조하였다.
Washing solution 6 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 25 g of GDO-7 in 360 g of water.

실시예 2-7(세정액 7의 제조)Example 2-7 (Preparation of Cleaning Liquid 7)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 말론산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-10 15g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 7을 제조하였다.
Washing liquid 7 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of malonic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 15 g of GDO-10 in 360 g of water.

실시예 2-8(세정액 8의 제조)Example 2-8 (Preparation of Cleaning Liquid 8)

시트릭산 50g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 70g, 말론산 100g, 글루콘산 100g 및 GDO-10 10g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 8을 제조하였다.
Washing solution 8 was prepared by dissolving 50 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 70 g of glycolic acid, 100 g of malonic acid, 100 g of gluconic acid, and 10 g of GDO-10 in 360 g of water.

비교예 1(세정액 9의 제조)Comparative Example 1 (Preparation of Cleaning Liquid 9)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 옥살산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-10 1g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 9을 제조하였다.
Washing solution 9 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of oxalic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 1 g of GDO-10 in 360 g of water.

비교예 2(세정액 10의 제조)Comparative Example 2 (Preparation of Cleaning Liquid 10)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 말론산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-10 50g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 10을 제조하였다.
Washing solution 10 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of malonic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 50 g of GDO-10 in 360 g of water.

비교예 3(세정액 11의 제조)Comparative Example 3 (Preparation of Cleaning Liquid 11)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 말론산 20g, 글루콘산 100g, LX-95 15g 및 GDO-7 15g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 11을 제조하였다.
Washing liquid 11 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of malonic acid, 100 g of gluconic acid, 15 g of LX-95, and 15 g of GDO-7 in 360 g of water.

비교예 4(세정액 12의 제조)Comparative Example 4 (Preparation of Cleaning Liquid 12)

시트릭산 100g, 아스코빅산 10g, 글리콜릭산 100g, 말론산 20g, 글루콘산 100g 및 LX-95 15g을 물 360g에 용해시켜서 세정액 12을 제조하였다.
Washing liquid 12 was prepared by dissolving 100 g of citric acid, 10 g of ascorbic acid, 100 g of glycolic acid, 20 g of malonic acid, 100 g of gluconic acid, and 15 g of LX-95 in 360 g of water.

하기의 표 1에 실시예들과 비교예들의 성분을 정리하여 나타내었다.
Table 1 below summarizes the components of the Examples and Comparative Examples.

표 1TABLE 1

Figure 112010079714328-pat00004

Figure 112010079714328-pat00004

분석예 1(도데실글리세롤에톡실레이트-5의 Assay Example 1 (of dodecylglycerol ethoxylate-5 1One H NMR)H NMR)

실시예 1-1에 따라 도데실글리세롤에톡실레이트-5가 합성된 것을 확인하기 위하여 CDCl3 용액에서 1H NMR 분석을 수행하였다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따라 합성된 도데실글리세롤에톡실레이트-5의 1H-NMR 측정결과이다. 도 2를 참조하면, 도데실글리세롤에톡실레이트-5의 특성 피크가 관찰되고 있다. 이로부터 실시예 1-1에 따라 합성된 주 생성물은 도데실글리세롤에톡실레이트-5인 것을 확인할 수 있다.
In order to confirm that dodecylglycerol ethoxylate-5 was synthesized according to Example 1-1, 1 H NMR analysis was performed in a CDCl 3 solution. 2 is a 1 H-NMR measurement results of dodecylglycerol ethoxylate-5 synthesized in accordance with an embodiment of the present invention. Referring to Fig. 2, a characteristic peak of dodecylglycerol ethoxylate-5 is observed. From this it can be seen that the main product synthesized according to Example 1-1 is dodecylglycerol ethoxylate-5.

분석예 2(도데실글리세롤에톡실레이트-7의 Assay Example 2 (of dodecylglycerol ethoxylate-7 1One H NMR)H NMR)

실시예 1-2에 따라 도데실글리세롤에톡실레이트-7이 합성된 것을 확인하기 위하여 CDCl3 용액에서 1H NMR 분석을 수행하였고, 도 3을 참조하면, 도데실글리세롤에톡실레이트-7의 특성 피크가 관찰되고 있다. 이로부터 실시예 1-2에 따라 합성된 주 생성물은 도데실글리세롤에톡실레이트-7인 것을 확인할 수 있다.
In order to confirm that dodecylglycerol ethoxylate-7 was synthesized according to Example 1-2, 1 H NMR analysis was performed in a CDCl 3 solution. Referring to FIG. 3, the properties of dodecylglycerol ethoxylate-7 Peaks are observed. From this it can be seen that the main product synthesized according to Example 1-2 is dodecylglycerol ethoxylate-7.

분석예 3(도데실글리세롤에톡실레이트-10의 Assay Example 3 (of dodecylglycerol ethoxylate-10 1One H NMR)H NMR)

실시예 1-3에 따라 도데실글리세롤에톡실레이트-10이 합성된 것을 확인하기 위하여 CDCl3 용액에서 1H NMR 분석을 수행하였고, 도 4를 참조하면, 도데실글리세롤에톡실레이트-10의 특성 피크가 관찰되고 있다. 이로부터 실시예 1-3에 따라 합성된 주 생성물은 도데실글리세롤에톡실레이트-10인 것을 확인할 수 있다.
In order to confirm that dodecylglycerol ethoxylate-10 was synthesized according to Example 1-3, 1 H NMR analysis was performed in a CDCl 3 solution. Referring to FIG. 4, the properties of dodecylglycerol ethoxylate-10 Peaks are observed. From this it can be seen that the main product synthesized according to Example 1-3 is dodecylglycerol ethoxylate-10.

실험예 1(잔류탄소량 측정 실험)Experimental Example 1 (residual carbon amount measurement experiment)

실시예들과 비교예들에 의하여 제조된 세정액 1 내지 세정액 12에 대하여 세정능력을 비교하기 위하여 잔류탄소량 측정실험을 수행하였다. 동물기름과 식물유 및 탄화수소 기름을 혼합하여 스테인레스 강판(2cmX5cm)에 일정한 양을 도포한 후에 5% 세정액 용액 600ml(25℃)에 10분 동안 침적시킨 후 증류수에서 한 번 세정하고 스테인레스 강판에 남겨진 잔류 탄소(Surface Carbon Determinator RC-212, LECO 사)를 측정하였다. Residual carbon content measurement experiments were performed to compare the cleaning ability of the cleaning solution 1 to the cleaning solution 12 prepared according to Examples and Comparative Examples. After mixing animal oil with vegetable oil and hydrocarbon oil, apply a certain amount on stainless steel plate (2cmX5cm), and then immerse in 600ml (25 ℃) of 5% cleaning solution for 10 minutes, wash once in distilled water, and leave residual carbon on stainless steel plate. (Surface Carbon Determinator RC-212, LECO Corporation) was measured.

측정결과는 아래의 표 2에 정리하였다. 표 2를 참조하면, 실시예 2-1 내지 실시예 2-8에 의하여 제조된 세정액(세정액 1 내지 세정액 8)는 비교예 1 내지 비교예 4에 의하여 제조된 세정액(세정액 9 내지 세정액 12)에 비하여 잔류탄소량이 적었다. 특히 계면활성제인 도데실글리세롤에톡실레이트가 포함되지 않은 세정액 12는 잔류탄소량이 149.7로 매우 높게 측정되었고, 도데실글리세롤에톡실레이트-10이 상대적으로 적게 포함된 세정액 9도 잔류탄소량이 109.5로 높게 측정되었다. 이러한 결과로부터 유기산에 도데실글리세롤에톡실레이트가 첨가된 경우에 세정능력이 현저히 증가됨을 알 수 있다. 또한, 세정액 10과 같이 도데실글리세롤에톡실레이트-10이 50g 포함된 경우에는 도데실글리세롤에톡실레이트-10이 25g 포함된 세정액 3에 비하여 오히려 세정능력이 낮은 것으로 측정되었다.The measurement results are summarized in Table 2 below. Referring to Table 2, the cleaning liquids (washing liquids 1 to 8) prepared according to Examples 2-1 to 2-2 were added to the cleaning liquids (washing liquids 9 to 12) prepared according to Comparative Examples 1 to 4. Compared with the amount of residual carbon. In particular, the cleaning solution 12 containing no surfactant dodecylglycerol ethoxylate was measured to have a very high residual carbon amount of 149.7, and the cleaning solution 9 containing a relatively small amount of dodecylglycerol ethoxylate-10 also had a high residual carbon amount of 109.5. Was measured. From these results, it can be seen that the washing ability is significantly increased when dodecylglycerol ethoxylate is added to the organic acid. In addition, when 50 g of dodecylglycerol ethoxylate-10 was contained as in the washing solution 10, it was determined that the washing ability was lower than that of the washing solution 3 containing 25 g of dodecylglycerol ethoxylate-10.

도데실글리세롤에톡실레이트-10과 도데실글리세롤에톡실레이트-7이 동일한 양으로 첨가된 세정액 1과 세정액 4, 세정액 2과 세정액 5, 세정액 3과 세정액 6의 세정능력을 비교하면, 도데실글리세롤에톡실레이트-10이 첨가된 경우의 세정능력이 조금 더 높은 것으로 측정되었다. When dodecylglycerol was compared with the cleaning capacity of the cleaning solution 1, the cleaning solution 4, the cleaning solution 2 and the cleaning solution 5, the cleaning solution 3 and the cleaning solution 6, in which the same amounts of dodecylglycerol ethoxylate-10 and dodecylglycerol ethoxylate-7 were added. The cleaning ability when ethoxylate-10 was added was determined to be slightly higher.

표 2에는 표시하지 않았지만, 세정액 대신 물만을 이용한 경우에는 180.3의 잔류탄소량이 측정되었다.
Although not shown in Table 2, when only water was used instead of the cleaning solution, the residual carbon amount of 180.3 was measured.

표 2TABLE 2

Figure 112010079714328-pat00005

Figure 112010079714328-pat00005

실험예 2(부착이끼 제거 실험)Experimental Example 2 (attached moss removal experiment)

실시예들과 비교예들에 의하여 제조된 세정액을 이용하여 부착이끼 제거실험을 수행하였다. 실험에 사용된 조류는 담수산 미세조류로서 Scenedesmus sp.이고, 배양액은 Allen medium을 사용하여 약 1.5개월 배양하여 사용하였다. Attached moss removal experiment was performed using the cleaning solution prepared according to Examples and Comparative Examples. The algae used in the experiment was Scenedesmus sp. As a freshwater microalgae, and the culture medium was incubated for about 1.5 months using Allen medium.

배양 용기 벽에 부착된 조류의 제거 시험을 위하여 플라스틱 용기 벽을 일정크기로 잘라 낸 후 1% 세정액 용액 50ml에 9시간 담근 후 흐르는 수돗물로 세척하였다. 각 조각의 세척정도는 도 5와 같았다.For removing the algae attached to the culture vessel wall, the plastic vessel wall was cut out to a predetermined size and then immersed in 50 ml of a 1% washing solution for 9 hours and washed with running tap water. The degree of washing of each piece was as shown in FIG.

도 5를 참조하면, 미처리된 경우에는 육안으로 보기에 많은 양의 부착이끼가 관찰되었고, 세정액 9, 세정액 10의 경우에는 대부분의 부착이끼가 제거되었으나 일부는 남아 육안으로 관찰이 가능했으며, 세정액 7과 세정액 3의 경우에는 부착이끼가 거의 제거되어 육안으로 관찰되지 않았다.
Referring to FIG. 5, when untreated, a large amount of adherent moss was observed to the naked eye, and in the case of the cleaning solution 9 and the cleaning solution 10, most of the attaching moss was removed, but some remained visible to the naked eye. In the case of the cleaning solution 3, the adhered moss was almost removed and was not observed visually.

실험예 3(조류 용액을 이용한 실험)Experimental Example 3 (Experiment Using Algae Solution)

실험예 1과 실험예 2의 결과로 가장 세정력이 우수하고 부착이끼 제거효과가 뛰어난 세정액 3을 이용하여 용액속의 조류 제거 시험을 실시하였다. 조류 용액 40ml에 세정액 3을 4ml 첨가한 후 한 시간 후에 용액의 변화를 촬영하였다.As a result of Experimental Example 1 and Experimental Example 2, the algae removal test in the solution was performed using the cleaning solution 3 having the highest cleaning power and excellent adhesion moss removal effect. 4 ml of the washing solution 3 was added to 40 ml of the algae solution, and the change of the solution was photographed after one hour.

도 6을 참조하면, 1시간 후에는 용액에 존재하던 대부분의 조류가 분해된 것을 확인할 수 있었다.Referring to FIG. 6, after 1 hour, it was confirmed that most of the algae present in the solution were decomposed.

Claims (3)

저수조의 물을 배수하는 단계;
시트릭산 100중량부, 아스코빅산 5 내지 15중량부, 글리콜릭산 70 내지 180중량부 및 글루콘산 70 내지 180중량부로 이루어진 유기산 100중량부와, 하기의 화학식 1로 표시되는 도데실글리세롤 폴리에톡실레이트 1 내지 10중량부와, 물 1500 내지 2500중량부를 혼합하여 제조된 저수조 세정액을 준비하는 단계;
저압전동분사기를 이용하여 저수조의 벽면과 바닥면에 저수조 세정액을 분사하는 단계: 및
벽면 및 바닥면에 분사된 저수조 세정액을 세척하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 저수조 세정방법.

화학식 1
Figure 112010079714328-pat00006

(m, n은 정수이고, m+n= 2 내지 10)
Draining the water of the reservoir;
100 parts by weight of citric acid, 5 to 15 parts by weight of ascorbic acid, 70 to 180 parts by weight of glycolic acid and 70 to 180 parts by weight of gluconic acid, and dodecylglycerol polyethoxylate represented by the following Chemical Formula 1 Preparing a reservoir cleaning liquid prepared by mixing 1 to 10 parts by weight and 1500 to 2500 parts by weight of water;
Spraying the reservoir cleaning liquid on the wall and bottom of the reservoir using a low pressure electrospray; and
Washing the reservoir cleaning liquid sprayed on the wall surface and the bottom surface; reservoir cleaning method comprising a.

Formula 1
Figure 112010079714328-pat00006

(m, n are integers, m + n = 2 to 10)
청구항 1에 있어서,
유기산은 시트릭산 100중량부 대비 10 내지 30중량부의 옥살산 또는 30 내지 70중량부의 말론산을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저수조 세정방법.
The method according to claim 1,
The organic acid is a storage tank washing method further comprises 10 to 30 parts by weight of oxalic acid or 30 to 70 parts by weight of malonic acid relative to 100 parts by weight of citric acid.
청구항 1에 있어서,
저수조 세정액은 도데실글리세롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저수조 세정방법.
The method according to claim 1,
Reservoir cleaning method for a reservoir, further comprising dodecylglycerol.
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