KR101011749B1 - Method for developing external plate and process for producing external plate - Google Patents
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Abstract
가공량을 저감시켜 외판의 제조 효율의 향상을 도모할 수 있는 외판 전개 방법 및 외판 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 외판 전개 방법에 따르면, 제1 피모사선 및 제2 피모사선이, 제1 모사선 및 제2 모사선으로서 평판에 모사된다. 이 때, 제1 피모사선의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 측지적 곡률과, 제1 모사선의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 곡률이 일치되게 된다. 또한, 인접하는 제1 모사선 사이에 끼인 모사 영역에 있어서의 제2 모사선의 길이가, 그 모사 영역에 대응하는 인접하는 제1 피모사선 사이에 끼인 피모사 영역에 있어서의 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 길이 이상으로 되고, 모사 영역의 면적이 최소가 되도록, 제1 모사선의 상대 위치가 결정되고, 모사 영역에 있어서의 제2 모사선의 배치가 결정된다. Provided are an outer plate developing method and an outer plate manufacturing method capable of reducing the amount of processing and improving the manufacturing efficiency of the outer plate. According to the shell plate development method of the present invention, the first and second hair lines are simulated on the flat plate as the first and second hair lines. At this time, the actual length coordinates of the first hairline and the geodetic curvature as a function thereof coincide with the actual length coordinates of the first hairline and the curvature as a function thereof. Moreover, the length of the 2nd simulation line in the simulation region pinched | interposed between adjacent 1st simulation lines is in the said 2nd simulation line in the imaging region pinched | interposed between the adjacent 1st imaging lines corresponding to the said simulation region. The relative position of a 1st simulation line is determined so that it may become more than the length of a corresponding 2nd copy line, and the area of a simulation area is minimum, and the arrangement | positioning of a 2nd simulation line in a simulation area is determined.
외판, 전개 Shell plate
Description
본 발명은, 소정 형상의 외판을 평판으로 전개하는 방법 및 평판으로 소정 형상의 외판을 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of developing an outer plate of a predetermined shape into a flat plate and a method of producing an outer plate of a predetermined shape from a flat plate.
선박의 일부를 구성하는 소정 형상의 금속 외판은, 금속 평판으로 전개된 뒤에 이 평판이 해당 소정 형상으로 가공·제조된다. 평판을 소정 형상의 외판으로 정확하게 가공하기 위해서는, 이 외판이 평판으로 적절하게 전개될 필요가 있다. The metal outer plate of a predetermined shape constituting part of the ship is developed into a metal flat plate, and then the flat plate is processed and manufactured into the predetermined shape. In order to process a flat plate correctly into an outer plate of a predetermined shape, this outer plate needs to be properly developed into the flat plate.
그러나, 종래의 측지선 전개법 등에 따라서 전개된 평판을 외판으로 가공하는 경우, 특히 곡률이 큰 선수·선미 부분의 외판의 가공에 적합하다고는 말하기 어렵다. 즉, 외판에서 평판으로의 전개가 최적이라고는 말할 수 없으며, 그 전개 평판에서 외판으로의 가공량이 불필요하게 커져, 반드시 가공 효율이 좋다고는 말할 수 없는 경우가 있다. 이것은, 종래의 전개법이 경험에 크게 의존하고 있음에 따른 것이다. However, when the flat plate developed according to the conventional geodesic line expansion method or the like is processed into an outer plate, it is difficult to say that it is particularly suitable for the processing of the outer plate of the bow and stern portion having a large curvature. In other words, the development of the outer plate to the flat plate cannot be said to be optimal, and the amount of processing from the flat plate to the outer plate is unnecessarily large, so that the processing efficiency may not always be good. This is because the conventional development method depends heavily on experience.
그래서, 본 발명은, 가공량을 저감시켜 외판의 제조 효율의 향상을 도모할 수 있는 외판 전개 방법 및 외판 제조 방법을 제공하는 것을 해결 과제로 한다. Then, this invention makes it a subject to provide a shell plate development method and a shell plate manufacturing method which can reduce the processing amount and can improve the manufacturing efficiency of a shell plate.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제1 실시형태의 외판 전개 방법은, 외판 상에서 제1 임시 피모사선 및 제2 임시 피모사선을 결정하는 제1 처리와, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선을 기준으로 하여 외판 상에서 제1 임시 피모사선을 결정하고 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선을 기준으로 하여 외판 상에서 제2 임시 피모사선을 결정하는 제2 처리와, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 한 쪽을 제1 피모사선군으로서 결정하고, 다른 쪽을 제2 피모사선군으로서 결정하는 제3 처리와, 제1 피모사선군을 제1 모사선군으로서 외판으로부터 평판에 모사하고, 제2 피모사선군을 제2 모사선군으로서 외판으로부터 평판에 모사하는 제4 처리가 실행되고, 제1 처리에 있어서, 시점에 있어서 외판의 곡률이 최대가 되는 방향을 접선 방향으로 하고, 시점을 제외한 임의의 점에 있어서 외판의 곡률이 최대 또는 최소가 되는 방향을 접선 방향으로 하는 곡선을 외판 상에 매끄럽게 늘려서 이것을 제1 임시 피모사선으로서 결정하고, 제1 임시 피모사선과 공통의 시점에 있어서 외판의 곡률이 최소가 되는 방향을 접선 방향으로 하고, 시점을 제외한 임의의 점에 있어서 외판의 곡률이 최소 또는 최대가 되는 방향을 접선 방향으로 하는 곡선을 외판 상에 매끄럽게 늘려서 이것을 제2 임시 피모사선으로서 결정하고, 제2 처리에 있어서, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선 상의 점을 시점으로 하고, 그 시점에 있어서 제2 임시 피모사선과 직교하는 제1 임시 피모사선을 결정하며, 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선 상의 점을 시점으로 하고, 그 시점에 있어서 제1 임시 피모사선과 직교하는 제2 임시 피모사선을 결정하고, 제3 처리에 있어서, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선군의 법곡률 절대치의 평균치를 계산하고, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선군의 법곡률 절대치의 평균치를 계산하여, 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 법곡률 절대치의 평균치가 큰 선군에 포함되는 선을 제1 피모사선군으로서 결정하며, 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 법곡률 절대치의 평균치가 작은 선군에 포함되는 선을 제2 피모사선군으로서 결정하고, 제4 처리에 있어서, 제1 피모사선의 실제 길이 좌표 및 그 실제 길이 좌표의 함수로서의 측지적 곡률과, 제1 모사선의 실제 길이 좌표 및 그 실제 길이 좌표의 함수로서의 곡률을 일치시키고, 인접하는 제1 모사선 사이에 끼인 모사 영역에 포함되는 제2 모사선의 길이가, 그 인접하는 제1 모사선에 대응하는 인접하는 제1 피모사선 사이의 피모사 영역에 포함되어, 그 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 길이 이상으로 되고, 상기 모사 영역의 면적이 최소가 되도록, 그 인접하는 제1 모사선의 배치를 결정하고, 그 모사 영역에 있어서의 제2 모사선의 배치를 결정하는 것을 특징으로 한다. The shell plate development method of 1st Embodiment of this invention for solving the said subject is the 1st process which determines a 1st temporary toe line and a 2nd temporary toe line on a plate, and the 2nd temporary toe line determined by the 1st process In the first and second processing, in which the first temporary hairline is determined on the outer plate and the second temporary hairline is determined on the outer plate on the basis of the first temporary hairline determined in the first process, and in the first and second processes. A third process of determining one of the determined first temporary second group and the second temporary group, and determining the other as the second one, and the first one The 4th process which simulates to a flat plate from a shell as a 1st copy ship group, and replicates a 2nd simulated ship group to a flat plate from a shell as a 2nd copy ship group, and in the 1st process, the curvature of a shell is the most at the time. The curve which makes a direction to become a tangential direction, and the curve which makes a direction which the curvature of a shell plate becomes the maximum or minimum in any direction except a viewpoint becomes a tangential direction is smoothly extended on a shell plate, and this is determined as a 1st temporary to-be-transmitted line, and (1) The curve in which the curvature of the shell is minimum at the point common to the temporary projection line is the tangential direction, and the curve in which the curvature of the shell is the minimum or maximum at any point except the viewpoint is the tangential direction. It smoothly stretches a phase and determines this as a 2nd temporary toemark line, In a 2nd process, the point on the 2nd temporary toeline line determined by the 1st process is made into a starting point, and it is orthogonal to a 2nd temporary toeline at that time point. 1 A temporary toemark is determined and the point on the 1st temporary toeline determined by the 1st process is made into a viewpoint, and the 1st temporary A second temporary target line orthogonal to the temporary target line is determined, and in the third process, the average value of the absolute values of the legal curvatures of the first temporary group of the subject lines determined in the first and second processes is calculated, and the first and second The average value of the absolute value of the nominal curvature of the second temporary sample line group determined in the processing is calculated, and a line included in the first group of the first temporary sample line group and the second temporary sample line group, which is the average value of the absolute value of the absolute value of the nominal curvature group, is included in the first sample line. A line which is determined as a group of ships and which is included in a group of ships in which the average value of the absolute law of curvature is small among the first temporary group and the second temporary group of ships is determined as the second group of ships, and in the fourth process, the first coat Match the geodesic curvature as a function of the actual length coordinates of the oblique line and its actual length coordinates, and the curvature as a function of the actual length coordinates of the first simulation line and its actual length coordinates, and fit between the adjacent first The length of the 2nd simulation line contained in the area | region is contained in the imaging area | region between adjacent 1st imaging lines corresponding to the adjoining 1st simulation line, and corresponds to the 2nd simulation line, The arrangement | positioning of the adjoining 1st simulation line so that the area of the said simulation area | region will be minimum is settled, and arrangement | positioning of the 2nd simulation line in the simulation area | region is characterized by the above-mentioned.
본 발명의 제1 실시형태의 외판 전개 방법에 따르면, 외판 상의 제1 피모사선군 및 제2 피모사선군이, 제1 모사선군 및 제2 모사선군으로서 평판에 모사된다. 이 때, 제1 피모사선의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 측지적 곡률과, 제1 모사선의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 곡률이 일치되게 된다. According to the shell plate development method of 1st Embodiment of this invention, the 1st hairline group and the 2nd hairline group on a shell plate are simulated by a flat plate as a 1st copy line group and a 2nd copy line group. At this time, the actual length coordinates of the first hairline and the geodetic curvature as a function thereof coincide with the actual length coordinates of the first hairline and the curvature as a function thereof.
이에 따라, 제1 모사선의 법곡률이 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 평판을 굽힘 가공하면, 제1 모사선을 따른 방향으로 평판을 늘림 가공 또는 단축 가공하지 않고서 중간 곡판을 형성할 수 있다. 이 때문에, 외판 제조시의 가공량이 저감된다. Accordingly, when the flat plate is bent so that the nominal curvature of the first copy line coincides with the nominal curvature of the first copy line, the intermediate curved sheet can be formed without extending or shortening the plate in the direction along the first copy line. . For this reason, the processing amount at the time of outer plate manufacture is reduced.
또한, 인접하는 제1 모사선 사이에 끼인 모사 영역에 있어서의 제2 모사선의 길이가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역에 있어서의, 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 길이 「이상」으로 되도록, 제1 모사선의 상대 위치가 결정된다. 그런 다음에, 모사 영역에 있어서의 제2 모사선이 결정된다. In addition, the length of the second hairline corresponding to the second hairline in the hairline region corresponding to the hairline region has a length of the second hairline in the hairline region sandwiched between adjacent first hairlines. The relative position of the 1st simulation line is determined so that it may become "abnormal." Then, the second simulation line in the simulation area is determined.
이에 따라, 모사 영역마다의 제2 모사선의 실제 길이 좌표가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역마다의 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판을 단축 가공하면 되어, 단축 가공하는 장소와 늘림 가공하는 장소가 병존하는 사태를 피할 수 있다. 따라서, 가령 숙련공이 아니라도 외판을 용이하게 제조할 수 있다. Accordingly, the intermediate curved sheet is shortened so that the actual length coordinates of the second copy lines for each copy region correspond to the actual length coordinates of the second copy lines corresponding to the second copy lines for each copy region corresponding to the copy region. What is necessary is just to process and the situation where the place to short-process and the place to stretch process coexist can be avoided. Therefore, even if it is not a skilled worker, an outer plate can be manufactured easily.
또한, 인접하는 제1 모사선 사이의 면적이 「최소」가 되도록, 제1 모사선의 상대 위치가 결정되고, 제1 모사선에 사이에 끼인 영역에 있어서의 제2 모사선이 결정된다. Moreover, the relative position of a 1st simulation line is determined so that the area between adjacent 1st simulation lines may be "minimum", and the 2nd simulation line in the area | region sandwiched between 1st simulation lines is determined.
이에 따라, 외판 제조시의 평판의 단축 가공량이 최저량으로 억제된다. 따라서, 제1 모사선의 법곡률이 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 평판이 굽힘 가공되어 중간 곡판이 형성되고, 제2 모사선의 실제 길이 좌표가 제2 피모사선의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판이 단축 가공됨으로써, 가공량을 필요한 최소량으로 억제하면서 외판이 제조될 수 있다. Thereby, the uniaxial working amount of the flat plate at the time of outer plate manufacturing is suppressed to the minimum amount. Therefore, the flat plate is bent to form the intermediate curvature so that the nominal curvature of the first simulation line coincides with the nominal curvature of the first copy line, and the intermediate curve is formed so that the actual length coordinate of the second copy line coincides with the actual length coordinate of the second copy line. By curving the curved plate, the outer plate can be manufactured while suppressing the processing amount to the required minimum amount.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제2 실시형태의 외판 전개 방법은, 외판 상에서 제1 임시 피모사선 및 제2 임시 피모사선을 결정하는 제1 처리와, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선을 기준으로 하여 외판 상에서 제1 임시 피모사선을 결정하고, 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선을 기준으로 하여 외판 상에서 제2 임시 피모사선을 결정하는 제2 처리와, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 한 쪽을 제1 피모사선군으로서 결정하고, 다른 쪽을 제2 피모사선군으로서 결정하는 제3 처리와, 제1 피모사선군을 제1 모사선군으로서 외판으로부터 평판에 모사하고, 제2 피모사선군을 제2 모사선군으로서 외판으로부터 평판에 모사하는 제4 처리가 실행되고, 제1 처리에 있어서, 시점에 있어서 외판의 곡률이 최대가 되는 방향을 접선 방향으로 하고, 시점을 제외한 임의의 점에 있어서 외판의 곡률이 최대 또는 최소가 되는 방향을 접선 방향으로 하는 곡선을 외판 상에 매끄럽게 늘려서 이것을 제1 임시 피모사선으로서 결정하고, 제1 임시 피모사선과 공통의 시점에 있어서 외판의 곡률이 최소가 되는 방향을 접선 방향으로 하고, 시점을 제외한 임의의 점에 있어서 외판의 곡률이 최소 또는 최대가 되는 방향을 접선 방향으로 하는 곡선을 외판 상에 매끄럽게 늘려서 이것을 제2 임시 피모사선으로서 결정하고, 제2 처리에 있어서, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선 상의 점을 시점으로 하고, 그 시점에 있어서 제2 임시 피모사선과 직교하는 제1 임시 피모사선을 결정하고, 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선 상의 점을 시점으로 하고, 그 시점에 있어서 제1 임시 피모사선과 직교하는 제2 임시 피모사선을 결정하고, 제3 처리에 있어서, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선군의 법곡률 절대치의 평균치를 계산하고, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선군의 법곡률 절대치의 평균치를 계산하여, 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 법곡률 절대치의 평균치가 큰 선군에 포함되는 선을 제1 피모사선군으로서 결정하며, 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 법곡률 절대치의 평균치가 작은 선군에 포함되는 선을 제2 피모사선군으로서 결정하고, 제4 처리에 있어서, 제1 피모사선의 실제 길이 좌표 및 그 실제 길이 좌표의 함수로서의 측지적 곡률과, 제1 모사선의 실제 길이 좌표 및 그 실제 길이 좌표의 함수로서의 곡률을 일치시키고, 인접하는 제1 모사선 사이에 끼인 모사 영역에 포함되는 제2 모사선의 길이가, 그 인접하는 제1 모사선에 대응하는 인접하는 제1 피모사선 사이의 피모사 영역에 포함되어, 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 길이 이하가 되고, 그 모사 영역의 면적이 최대가 되도록, 그 인접하는 제1 모사선의 배치를 결정하고, 그 모사 영역에 있어서의 제2 모사선의 배치를 결정하는 것을 특징으로 한다. The shell plate development method of 2nd Embodiment of this invention for solving the said subject is the 1st process which determines a 1st temporary to-be-extracted line and a 2nd temporary to-be-transmitted line on an outer plate, and the 2nd temporary to-be-transmitted line determined by 1st process. A second process of determining a first temporary to-be-transmitted line on the outer plate on the basis of; and determining a second temporary to-be-transmitted line on the outer plate based on the first temporary to-be-transmitted line determined in the first process; and first and second processes A third process of determining one of the first interim group and the second temporary group, determined as in the first temporary group, and determining the other as the second group, and the first group As a 1st copy group, the 4th process which simulates a plate from a outer plate as a 2nd copy group is performed to a flat plate from a outer plate as a 2nd copy group, and in a 1st process, the curvature of a shell is the highest. The curve which makes a direction to become a tangential direction, and the curve which makes a direction which the curvature of a shell plate becomes the maximum or minimum in any direction except a viewpoint becomes a tangential direction is smoothly extended on a shell plate, and this is determined as a 1st temporary to-be-transmitted line, and (1) The curve in which the curvature of the shell is minimum at the point common to the temporary projection line is the tangential direction, and the curve in which the curvature of the shell is the minimum or maximum at any point except the viewpoint is the tangential direction. It smoothly stretches a phase and determines this as a 2nd temporary toemark line, In a 2nd process, the point on the 2nd temporary toeline line determined by the 1st process is made into a starting point, and it is orthogonal to a 2nd temporary toeline at that time point. (1) A temporary toemark is determined, and a point on the first temporary toeline determined in the first processing is regarded as a starting point, and the first A second temporary to-be-transmitted line orthogonal to the 1st temporary to-be-transmitted line is determined, and in a 3rd process, the average value of the absolute value of the legal curvature of the 1st temporary to-be-exposed group determined by the 1st and 2nd process is computed, and 1st and 1st The average value of the absolute value of the nominal curvature of the second temporary sample line group determined in the second processing is calculated, and a line included in the first group of the first temporary sample line group and the second temporary sample line group which has the largest average value of the absolute value of the nominal curvature group is selected from the first sample line. A line which is determined as a replica group and which is included in a line group having the smallest average value of the absolute curvature value among the first interim line group and the second temporary line group is determined as the second group line group, and in the fourth process, the first Geodetic curvature as a function of the actual length coordinates of the hairline and its actual length coordinates, and a curvature as a function of the actual length coordinates of the first simulation line and its actual length coordinates, and fitted between the adjacent first The length of the 2nd simulation line contained in a yarn area | region is contained in the imaging area | region between the adjacent 1st simulation lines corresponding to the adjoining 1st simulation line, and has the 2nd simulation line corresponding to the said 2nd simulation line. It arrange | positions the adjoining 1st simulation line so that it may become length or less, and the area of the simulation area | region becomes the maximum, It is characterized by determining the arrangement | positioning of the 2nd simulation line in the simulation area.
본 발명의 제2 실시형태의 외판 전개 방법에 따르면, 본 발명의 제1 실시형태의 외판 전개 방법과 마찬가지로, 외판 상의 제1 피모사선군 및 제2 피모사선군이, 제1 모사선군 및 제2 모사선군으로서 평판에 모사된다. 이 때, 제1 피모사선의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 측지적 곡률과, 제1 모사선의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 곡률이 일치되게 된다. According to the shell plate unfolding method of 2nd Embodiment of this invention, similarly to the shell plate unfolding method of 1st Embodiment of this invention, a 1st copy line group and a 2nd copy line group on a shell plate are a 1st copy line group and a 2nd group. It is simulated by a reputation as a replica ship group. At this time, the actual length coordinates of the first hairline and the geodetic curvature as a function thereof coincide with the actual length coordinates of the first hairline and the curvature as a function thereof.
이에 따라, 제1 모사선의 법곡률이 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 평판을 굽힘 가공하면, 제1 모사선을 따른 방향으로 평판을 늘림 가공 또는 단축 가공하지 않고서 중간 곡판을 형성할 수 있다. 이 때문에, 외판 제조시의 가공량이 저감된다. Accordingly, when the flat plate is bent so that the nominal curvature of the first copy line coincides with the nominal curvature of the first copy line, the intermediate curved sheet can be formed without extending or shortening the plate in the direction along the first copy line. . For this reason, the processing amount at the time of outer plate manufacture is reduced.
또한, 인접하는 제1 모사선에 끼워져 있는 모사 영역에 있어서의 제2 모사선의 길이가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역에 있어서의, 그 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 길이 「이하」가 되도록, 제1 모사선의 상대 위치가 결정된다. 그런 뒤에, 모사 영역에 있어서의 제2 모사선이 결정된다. In addition, the length of the second hairline corresponding to the second hairline in the hairline region corresponding to the hairline region has a length of the second hairline in the hairline region sandwiched by the adjacent first hairline. The relative position of the 1st simulation line is determined so that it may become "below". Then, the 2nd simulation line in a simulation area is determined.
이에 따라, 모사 영역마다의 제2 모사선의 실제 길이 좌표가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역마다의 그 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판을 늘림 가공하면 되어, 단축 가공하는 장소와 늘림 가공하는 장소가 병존한다고 하는 사태를 피할 수 있다. 따라서, 가령 숙련공이 아니라도 외판을 용이하게 제조할 수 있다.Thereby, the intermediate curve is stretched so that the actual length coordinates of the second copy lines for each copying region correspond to the actual length coordinates of the second copy lines corresponding to the second copy lines for each copying region corresponding to the copying region. What is necessary is just to process, and the situation that the place to short-process and the place to stretch process coexist can be avoided. Therefore, even if it is not a skilled worker, an outer plate can be manufactured easily.
또한, 인접하는 제1 모사선 사이의 면적이 「최대」가 되도록, 제1 모사선의 상대 위치가 결정되고, 제1 모사선 사이에 끼인 영역에 있어서의 제2 모사선이 결정된다. Moreover, the relative position of a 1st simulation line is determined so that the area between adjacent 1st simulation lines may be "maximum," and the 2nd simulation line in the area | region clamped between 1st simulation lines is determined.
이에 따라, 외판 제조시의 평판의 늘림 가공량이 최저량으로 억제된다. 따라서, 제1 모사선의 법곡률이 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 평판이 굽힘 가공되어 중간 곡판이 형성되고, 제2 모사선의 실제 길이 좌표가 제2 피모사선의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판이 늘림 가공됨으로써, 가공량을 가능한 최소한으로 억제하면서 외판을 제조할 수 있다. Thereby, the amount of increase of the flat plate at the time of outer plate manufacture is suppressed to the minimum amount. Therefore, the flat plate is bent to form the intermediate curvature so that the nominal curvature of the first simulation line coincides with the nominal curvature of the first copy line, and the intermediate curve is formed so that the actual length coordinate of the second copy line coincides with the actual length coordinate of the second copy line. By extending | stretching a curved board, an outer board can be manufactured, suppressing the processing amount to the minimum possible.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제1 실시형태의 외판 제조 방법은, 상기 제1 실시형태의 방법에 따라서 상기 소정 형상의 외판이 전개된 평판으로, 그 소정 형상의 외판을 제조하는 방법으로서, 상기 제1 모사선의 법곡률이, 상기 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 상기 평판을 구부려 중간 곡판을 형성하고, 상기 모사 영역마다의 제2 모사선의 실제 길이 좌표가, 각 모사 영역에 대응하는 상기 피모사 영역마다의 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 실제 길이 좌표와 같게 되도록 그 중간 곡판을 단축 가공하는 것을 특징으로 한다. The outer plate manufacturing method of the 1st Embodiment of this invention for solving the said subject is a flat plate in which the said outer plate of the predetermined shape was developed according to the method of the said 1st Embodiment, As a method of manufacturing the outer plate of the predetermined shape, The flat plate is bent so that the nominal curvature of the first simulation line coincides with the nominal curvature of the first simulated line, and an actual length coordinate of the second simulation line for each of the simulation regions corresponds to each simulation region. The intermediate curved sheet may be shortened so as to be equal to the actual length coordinates of the second hairline corresponding to the second hairline for each of the hair-producing regions.
본 발명의 제1 실시형태의 외판 제조 방법에 따르면, 제1 모사선의 법곡률이 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 평판이 굽힘 가공되어 중간 곡판이 형성된다. 또한, 모사 영역마다의 제2 모사선의 실제 길이 좌표가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역마다의 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판이 단축 가공됨으로써, 가공량을 필요한 최소량으로 억제하면서 외판이 제조될 수 있다. According to the outer plate manufacturing method of 1st Embodiment of this invention, a flat plate is bent so that the normal curvature of a 1st simulated line may correspond to the normal curvature of a 1st simulated line, and an intermediate curved plate is formed. Further, the intermediate curved sheet is shortened so that the actual length coordinates of the second copy lines for each copy region correspond to the actual length coordinates of the second copy lines corresponding to the second copy lines for each copy region corresponding to the copy regions. Thereby, the outer plate can be manufactured while suppressing the processing amount to the required minimum amount.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 제2 실시형태의 외판 제조 방법은, 상기 제2 실시형태의 외판 전개 방법에 따라서 상기 소정 형상의 외판이 전개된 평판으로, 그 소정 형상의 외판을 제조하는 방법으로서, 상기 제1 모사선의 법곡률이, 상기 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 상기 평판을 구부려 중간 곡판을 형성하고, 상기 모사 영역마다의 제2 모사선의 실제 길이 좌표가, 각 모사 영역에 대응하는 상기 피모사 영역마다의 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 실제 길이 좌표와 같게 되도록 그 중간 곡판을 늘림 가공하는 것을 특징으로 한다. The shell plate manufacturing method of 2nd Embodiment of this invention for solving the said subject is a flat plate in which the shell plate of the predetermined shape was developed according to the shell plate development method of the said 2nd Embodiment, and a method of manufacturing the shell plate of the predetermined shape. The intermediate curvature is formed by bending the flat plate so that the nominal curvature of the first simulated line coincides with the nominal curvature of the first simulated line, and the actual length coordinates of the second simulated line for each of the simulated areas are set to each simulated area. The intermediate curved sheet is stretched so as to be equal to the actual length coordinates of the second hairline corresponding to the second hairline for each corresponding hairline region.
본 발명의 제2 실시형태의 외판 제조 방법에 따르면, 제1 모사선의 법곡률이 제1 피모사선의 법곡률에 일치하도록 평판이 굽힘 가공되어 중간 곡판이 형성된다. 또한 모사 영역마다의 제2 모사선의 실제 길이 좌표가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역마다의 상기 제2 모사선에 대응하는 제2 피모사선의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판이 늘림 가공됨으로써, 가공량을 필요한 최소량으로 억제하면서 외판이 제조될 수 있다. According to the outer plate manufacturing method of 2nd Embodiment of this invention, a flat plate is bent so that the normal curvature of a 1st simulated line may correspond to the normal curvature of a 1st simulated line, and an intermediate curved plate is formed. Further, the intermediate curved sheet is stretched so that the actual length coordinates of the second simulated lines for each simulation region correspond to the actual length coordinates of the second simulated lines corresponding to the second simulated lines for each of the simulated regions corresponding to the simulated regions. The outer shell can be manufactured while suppressing the processing amount to the minimum required.
도 1은 본 발명의 외판 전개 방법의 흐름도이다. 1 is a flow chart of the shell plate development method of the present invention.
도 2 내지 도 8은 본 발명의 외판 전개 방법의 상세 설명도이다. 2 to 8 are detailed explanatory views of the shell plate development method of the present invention.
도 9는 본 발명의 외판 제조 방법의 흐름도이다. 9 is a flowchart of the manufacturing method of the outer plate of the present invention.
본 발명의 외판 전개 방법 및 외판 제조 방법의 실시형태에 관해서 도면을 이용하여 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Embodiment of the outer plate developing method of this invention and an outer plate manufacturing method is described using drawing.
본 발명의 외판 전개 방법에 관해서 도 1∼도 8을 이용하여 설명한다. The outer plate development method of this invention is demonstrated using FIGS.
우선, 외판 전개 방법의 적용 대상이 되는 도 2에 도시하는 외판(Q)을 다음 식(1)으로 나타내어지는 곡면으로서 표현함으로써, 그 외판(Q)의 형상(소정 형상)을 특정한다(도 1/S102). 도 2a에 도시하는 외판(Q)은 예컨대, 선수의 일부를 구성하는 금속 외판이다. First, the shape (predetermined shape) of the outer plate Q is specified by expressing the outer plate Q shown in FIG. 2, which is the application target of the outer plate developing method, as a curved surface represented by the following formula (1) (FIG. 1). / S102). Outer plate Q shown in FIG. 2A is a metal outer plate which comprises a part of player, for example.
z=Q(x, y) (1)z = Q (x, y) (1)
이어서, 외판 상에서 제1 임시 피모사선 및 제2 임시 피모사선을 결정하는 「제1 처리」가 실행된다(도 1/S110). Subsequently, the "first process" of determining the first temporary toe line and the second temporary toe line on the outer plate is executed (FIG. 1 / S110).
우선, 시점에 있어서 외판(Q)의 곡률이 최대가 되는 방향을 접선 방향으로 하고, 시점을 제외한 임의의 점에 있어서 외판(Q)의 곡률이 최대 또는 최소가 되는 방향을 접선 방향으로 하는 곡선을 외판(Q) 상에 매끄럽게 늘려서 이것을 「제1 임시 피모사선」으로서 결정한다(도 1/S112). 구체적으로는, 도 2a에 도시한 바와 같이 외판(Q) 상의 임의의 점(O)을 시점으로 하여, 이 임의의 점(O)에 있어서의 외판의 곡률(=(곡률 반경)-1)이, 플러스/마이너스도 포함하여 최대가 되는 방향으로 외판(Q)을 따라서 뻗는 1번째의 제1 선분(δa1)을 결정한다. 또한, n(n=1, 2, ‥)번째의 제1 선분(δan)의 종점(an)을 시점으로 하는 n+1번째의 제1 선분(δan+1)을 결정한다. n+1번째의 제1 선분(δan+1)은 n번째의 제1 선분(δan)의 종점(an)에 있어서의 외판(Q)의 곡률이 최대가 되는 방향으로 외판(Q)을 따라서 뻗는 선분과, 그 곡률이 최소가 되는 방향으로 외판(Q)을 따라서 뻗는 선분 중, n번째의 제1 선분(δan)으로 매끄럽게 이어지는 쪽의 선분이다. 상세하게는, n+1번째의 제1 선분(δan+1)은 그 양 선분 중, 시단부에 있어서의 방향 벡터가, n번째의 제1 선분(δan)의 종단부에 있어서의 방향 벡터와 이루는 각도가 작은 쪽의 선분이다. 그리고, 도 2b에 도시한 바와 같이, 제1 선분(δan)의 연결선을 제1 임시 피모사선 A로서 결정한다. First, a curve in which the curvature of the outer plate Q is at the maximum point in the tangential direction is set as the tangential direction, and a curve in which the curvature of the outer plate Q is at its maximum or minimum in any point except the viewpoint is set as the tangential direction. The film is smoothly stretched on the outer plate Q, and this is determined as the "first temporary copy line" (Fig. 1 / S112). Specifically, as illustrated in FIG. 2A, the point of curvature (= (curvature radius) −1 ) of the outer plate at the arbitrary point O is set at an arbitrary point O on the outer plate Q as a starting point. , plus / minus also extending to along the shell (Q) in the direction in which the maximum included to determine the first segment of the first (δa 1). In addition, to determine the end point (a n) of the first line segment (δa n + 1) of the (n + 1) th to the time of the n (n = 1, 2, ‥) the first line segment (n δa) of the second. The n + 1th first line segment δa n + 1 is the outer plate Q in a direction in which the curvature of the outer plate Q at the end point a n of the nth first line segment δa n becomes the maximum. It is a line segment which smoothly continues to the nth first line segment δa n among the line segment extending along the lateral line and the line segment extending along the outer plate Q in the direction in which the curvature is minimized. In detail, the n + 1th 1st line segment (deltaa n + 1 ) has the direction vector in the start-end part among the two line segments in the direction of the terminal part of the nth 1st line segment (deltaa n ). The angle with the vector is the smaller line segment. As shown in FIG. 2B, the connecting line of the first line segment δa n is determined as the first temporary to-be-simulated line A. FIG.
또한, 제1 임시 모사선 A와 시점이 동일하고, 이 시점에 있어서 외판(Q)의 곡률이 최소가 되는 방향을 접선 방향으로 하고, 시점을 제외한 임의의 점에 있어서 외판(Q)의 곡률이 최소 또는 최대가 되는 방향을 접선 방향으로 하는 곡선을 외판(Q) 상에 매끄럽게 늘려서 이것을 제2 임시 피모사선으로서 결정한다(도 1/S114). 구체적으로는, 도 2a에 도시한 바와 같이, 1번째의 제1 선분(δa1)과 시점이 동일하고, 1번째의 제1 선분(δan)의 시점(O)에 있어서의 외판(Q)의 곡률이 최소가 되는 방향으로 외판(Q)을 따라서 뻗는 1번째의 제2 선분(δb1)을 결정한다. 또한, m(m=1, 2, ‥)번째의 제2 선분(δbm)의 종점(bm)을 시점으로 하는 m+1번째의 제2 선분(δbm+1)을 결정한다. m+1번째의 제2 선분(δbm+1)은, m번째의 제2 선분(δbm) 종점(δbm)에 있어서의 외판(Q)의 곡률이 최소가 되는 방향으로 외판(Q)을 따라서 뻗는 선분과, 그 곡률이 최대가 되는 방향으로 외판(Q)을 따라서 뻗는 선분 중, m번째의 제2 선분(δbm)으로 매끄럽게 이어지는 쪽의 선분이다. 상세하게는, m+1번째의 제2 선분(δbm+1)은 그 양 선분 중, 시단부에 있어서의 방향 벡터가, m번째의 제2 선분(δbm)의 종단부에 있어서의 방향 벡터와 이루는 각도가 작은 쪽의 선분이다. 그리고, 도 2b에 도시한 바와 같이, 제2 선분(δbm)의 연결선을 제2 임시 피모사선 B로서 결정한다. Moreover, the viewpoint is the same as the 1st temporary simulation line A, and the curvature of the outer shell Q is made into the tangential direction in the direction which the curvature of the outer shell Q becomes the minimum in this viewpoint, and the arbitrary point except the viewpoint is The curve which makes the direction which becomes the minimum or the maximum tangential direction is extended smoothly on the outer plate Q, and this is determined as a 2nd temporary toemark line (FIG. 1 / S114). Specifically, the outer panel (Q) of the, point (O) of the first column of the first line segment (δa 1) and the same, first the first line segment (δa n) time as shown in Figure 2a The first second line segment δ b 1 that extends along the outer plate Q in the direction in which the curvature of M is minimized is determined. In addition, to determine the m (m = 1, 2, ‥) th line segment of the second end (b m) the m + 1-th second line segment to the time point of (δb m) (δb m + 1). m + 1-th second segment of (δb m + 1) is a second segment of the m-th (δb m) end point (δb m) shell plating (Q) in the direction of curvature of the (Q) that is at least in the Therefore, during the extending segments extending along the outer panel (Q) in the direction in which the line segment, the curvature is maximum, the line segment on the side that leads smoothly to the second line segment (δb m) of the m-th. In detail, the m + 1th second line segment δb m + 1 has a direction vector at the start end of the two line segments at the end portion of the mth second line segment δb m . The angle with the vector is the smaller line segment. As shown in FIG. 2B, the connecting line of the second line segment δ b m is determined as the second temporary to-be-simulated line B. As shown in FIG.
한편, 제1 선분(δan) 및 제2 선분(δbm)이 결정될 때에 룬게-쿠타(runge-kutta)법 등의 미분방정식의 초기치 문제의 개방이 이용될 수도 있다. On the other hand, when the first line segment δ a n and the second line segment δ b m are determined, the opening of the initial value problem of the differential equation such as the runge-kutta method may be used.
이어서, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선을 기준으로 하여 외판 상에서 하나 또는 복수의 제1 임시 피모사선을 결정하고, 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선을 기준으로 하여 외판 상에서 하나 또는 복수의 제2 임시 피모사선을 결정하는 「제2 처리」가 실행된다(도 1/S120). Subsequently, one or a plurality of first tentative lines on the outer plate are determined on the basis of the second temporary coat line determined in the first process, and one or a plurality of first temporary coats on the outer plate are determined on the basis of the first temporary coat lines determined in the first process. "2nd process" which determines the 2nd temporary to-be-marked line of this is performed (FIG. 1 / S120).
우선, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선 B 상의 점을 시점으로 하고, 그 시점에 있어서 제2 임시 피모사선 B와 직교하는 제1 임시 피모사선이 결정된다(도 1/S122). 구체적으로는, 도 3a에 도시한 바와 같이, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선 B 상의 점(y1∼y5, y7)을 1번째의 제1 선분의 시점으로 하여, n번째의 제1 선분(도면에서 화살표 참조)이 순서대로 결정된다. 그리고, 도 3b에 도시한 바와 같이, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선 B 상의 점(y1∼y5, y7)을 1번째의 제1 선분의 시점으로 하는 제1 임시 피모사선(A1∼A5, A7)이 결정된다. 또한, 도 3b에서는, 제1 처리에서 결정된 도 3a에 도시하는 제1 임시 피모사선 A가, 제1 임시 피모사선 A6으로서 표현되고 있다. 한편, 1번째의 제1 선분의 시점이 되는 제2 임시 피모사선 B 상의 점의 간격은 외판(Q)의 스케일에 따라서 조절될 수 있다. First, the point on the 2nd temporary toe line B determined by the 1st process is made into a starting point, and the 1st temporary toe line orthogonal to the 2nd temporary toe line B at that time is determined (FIG. 1 / S122). Specifically, as shown in FIG. 3A, the point (y 1 to y 5 , y 7 ) on the second temporary toeline B determined in the first process is regarded as the point of time of the first first line segment, and the nth The first line segment (see arrow in the figure) is determined in order. And as shown in FIG. 3B, the 1st temporary to-be-traced line which makes the point (y 1- y 5 , y 7 ) on the 2nd temporary to-be-simulated line B determined by the 1st process into the viewpoint of a 1st 1st line segment ( A 1 to A 5 and A 7 ) are determined. In addition, in FIG. 3B, the 1st temporary toe line A shown in FIG. 3A determined by the 1st process is represented as the 1st temporary toe line A6. In FIG. On the other hand, the spacing of the points on the second temporary toeline B which is the point of time of the first first line segment may be adjusted according to the scale of the outer plate Q.
또한, 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선 A 상의 점을 시점으로 하고, 그 시점에 있어서 제1 임시 피모사선 A와 직교하는 제2 임시 피모사선이 결정된다(도 1/S124). 구체적으로는, 도 4a에 도시한 바와 같이, 제1 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선 A 상의 점(x1∼x4, x6∼x9)을 1번째의 제2 선분의 시점으로 하여, m번째의 제2 선분(도면에서 화살표 참조)이 순서대로 결정된다. 그리고, 도 4b에 도시한 바와 같이, 제1 처리에서 결정된 제2 임시 피모사선 B 상의 점(x1∼x4, x6∼x9)을 1번째의 제2 선분의 시점으로 하는 제2 임시 피모사선 B1∼B4, B6∼B9가 결정된다. 또한, 도 4b에서는, 제1 처리에서 결정된 도 4a에 도시하는 제1 임시 피모사선 B가, 제2 임시 피모사선 B5로서 표현되고 있다. 한편, 1번째의 제2 선분의 시점이 되는 제1 임시 피모사선 A 상의 점의 간격은 외판(Q)의 스케일에 따라서 조절될 수 있다. In addition, the point on the 1st temporary toe line A determined by the 1st process is made into a viewpoint, and the 2nd temporary toe line orthogonal to the 1st temporary toe line A is determined at that time (FIG. 1 / S124). Specifically, as shown in FIG. 4A, the point (x 1 to x 4 , x 6 to x 9 ) on the first temporary toeline A determined in the first process is regarded as the point of time of the first second line segment. The mth second line segment (see arrow in the figure) is determined in order. Then, the second temporary manner, to a first point on the second temporary coat scan line B is determined in the first process (x 1 ~x 4, x 6 ~x 9) to the beginning of the first of the second line segment shown in Figure 4b The hairline B1 to B4 and B6 to B9 are determined. In addition, in FIG. 4B, the 1st temporary toe line B shown in FIG. 4A determined by the 1st process is represented as the 2nd temporary toe line B5. On the other hand, the distance of the point on the 1st temporary toe-line A which becomes the viewpoint of a 1st 2nd line segment can be adjusted according to the scale of the outer plate Q.
또한, 제2 처리에 있어서 결정된 제2 임시 피모사선이, 제1 처리에 있어서 결정된 제2 임시 피모사선이라고 간주된 뒤에, 이것을 기준으로 하여 새롭게 제1 임시 피모사선이 결정될 수도 있다. 마찬가지로, 제2 처리에 있어서 결정된 제1 임시 피모사선이, 제1 처리에 있어서 결정된 제1 임시 피모사선이라고 간주된 뒤에, 이것을 기준으로 하여 새롭게 제2 임시 피모사선이 결정될 수 있다. Further, after the second temporary to-be-determined line determined in the second processing is regarded as the second temporary to-be-transmitted line determined in the first process, the first temporary to-be-transmitted line may be newly determined based on this. Similarly, after the first temporary hairline determined in the second processing is regarded as the first temporary hairline determined in the first processing, the second temporary hairline can be newly determined based on this.
이어서, 제1 및 제2 처리에서 결정된 제1 임시 피모사선군 및 제2 임시 피모사선군 중 한 쪽을 제1 피모사선군으로서 결정하고, 다른 쪽을 제2 피모사선군으로서 결정하는 「제3 처리」가 실행된다(도 1/S130). Next, the "third" which determines one of the 1st temporary subject line group and the 2nd temporary subject line group determined by the 1st and 2nd process as a 1st target group, and determines the other as a 2nd target group. Processing "(FIG. 1 / S130).
구체적으로는, 우선, 제1 임시 피모사선군 A1∼A7과, 제2 임시 피모사선군 B1∼B9의 각각에 대해, 다음 식(2)에 따라서 법곡률(K)의 절대치의 평균치(K*)가 계산된다(도 1/S132). Specifically, first, for each of the first temporary subject line group A1 to A7 and the second temporary subject line group B1 to B9, the average value of the absolute value of the law curvature K according to the following equation (2) (K * ) Is calculated (Fig. 1 / S132).
K*=Σ∫dt·Abs[K(t)]/Σ∫dt (2)K * = Σ∫dt · Abs [K (t)] / Σ∫dt (2)
여기서, Σ∫dt·Abs[K(t)]는, 제1 임시 피모사선 A1∼A7(또는 제2 임시 피모사선 B1∼B9)의 각각에 대해서 법곡률 절대치 Abs[K(t)]의 적분치의 총합을 나타내고 있다. 또한, Σ∫dt는 제1 임시 피모사선 A1∼A7(또는 제2 임시 피모사선 B1∼B9)의 각각의 실제 길이의 총합을 의미하고 있다. Here, Σ∫dt · Abs [K (t)] is an integral of the absolute value of the nominal curvature Abs [K (t)] for each of the first temporary target lines A1 to A7 (or the second temporary target lines B1 to B9). Represents the sum of the values. Σ∫dt means the total sum of the actual lengths of the first temporary toe lines A1 to A7 (or the second temporary toe lines B1 to B9).
또한, t는 각 피모사선의 실제 길이 좌표이며, 제1 피모사선 또는 제2 피모사선의 미소 부분 dt과, 이 미소 부분 dt의 x-y 평면으로의 투사 미소 부분 dr과의 기하학적 관계에 기초한 다음 식(3)에 따라서 산출된다. In addition, t is the actual length coordinate of each hairline, and is based on the geometrical relationship between the minute portion dt of the first or second hairline and the projection minute portion dr of the minute portion dt in the xy plane. It is calculated according to 3).
t=∫dr[1+{∂xz+λ∂yz}2/(1+λ2)]1/2 t = ∫dr [1+ {∂ x z + λ∂ y z} 2 / (1 + λ 2 )] 1/2
λ≡(dy/dx), ∂x≡∂/∂x, ∂y≡∂/∂y (3)λ≡ (dy / dx), ∂ x ≡∂ / ∂x, ∂ y ≡∂ / ∂y (3)
그리고, 제1 임시 피모사선군 A1∼A7 및 제2 임시 피모사선군 B1∼B9 중, 법곡률 절대치의 평균치(K*)가 큰 선군에 포함되는 선이 「제1 피모사선」으로서 결정된다(도 1/S134). 여기서는, 도 4b에 도시하는 제1 임시 피모사선 A1∼A7이 각각 「제1 피모사선」으로서 결정된다. And the line contained in the line group with the largest average value K * of an absolute curvature value among the 1st temporary hair-line group A1-A7 and the 2nd temporary hair-line group B1-B9 is determined as "the 1st hairline." 1 / S134). Here, the first temporary toe lines A1 to A7 shown in FIG. 4B are respectively determined as "first toe lines".
또한, 제1 임시 피모사선군 A1∼A7 및 제2 임시 피모사선군 B1∼B9 중 법곡률 절대치의 평균치(K*)가 작은 선군에 포함되는 선이 「제2 피모사선」으로서 결정된다(도 1/S134). 여기서는, 도 4b에 도시하는 제2 임시 피모사선 B1∼B9가 각각 「제2 피모사선」으로서 결정된다. In addition, the line included in the line group with the smallest average value K * of the absolute curvature of the 1st temporary hairline group A1-A7 and the 2nd temporary hairline group B1-B9 is determined as a "2nd hairline." 1 / S134). In this case, the second temporary toe lines B1 to B9 shown in FIG. 4B are respectively determined as "second toe lines".
그리고, 제1 피모사선군을 제1 모사선군으로서 외판으로부터 평판에 모사하고, 제2 피모사선군을 제2 모사선군으로서 외판으로부터 평판에 모사하는 「제4 처리」가 실행된다(도 1/S14O). Then, a "fourth process" of copying the first group of ships on the plate from the outer plate as the first copy line group and the second group of ships from the outer plate as the second copy line group is executed (FIG. 1 / S14O). ).
구체적으로는, 우선, 제1 피모사선 A1∼A7 및 제2 피모사선 B1∼B9의 각각의 측지적 곡률 Kg가, 실제 길이 좌표 t의 함수로서 다음 식(4)에 따라서 결정된다(도 1/S142). Specifically, first, the geodetic curvature Kg of each of the first and second hairline lines A1 to A7 and B1 to B9 is determined according to the following equation (4) as a function of the actual length coordinate t (Fig. 1 / S142).
Kg(t)=±[g1 /2A(t)+g-1/2B(t)] Kg (t) = ± [
g≡1+(∂xz)2+(∂yz)2 g≡1 + (∂ x z) 2 + (∂ y z) 2
A≡x'y"-y'x"A≡x'y "-y'x"
B≡∂yz·∂x∂xz·x'3 B≡∂ y z ∂ x ∂ x zx ' 3
+{2∂yz·∂x∂yz-∂xz·∂x∂xz}·x'2·y'+ {2∂ y z ∂ x ∂ y z-∂ x z ∂ x ∂ x z} x ' 2
+{∂yz·∂y∂yz-2∂xz·∂x∂yz}·x'·y'2 + {∂ y z · ∂ y ∂ y z-2∂ x z · ∂ x ∂ y z} · x '· y' 2
-∂xz·∂y∂yz·t'3 -∂ x z · ∂ y ∂ y z · t ' 3
∂x≡∂/∂x, ∂y≡∂/∂y, ∂ x ≡∂ / ∂x, ∂ y ≡∂ / ∂y,
x'≡dx/dt, x"≡d2x/dt2, x'≡dx / dt, x "≡d 2 x / dt 2 ,
y'≡dy/dt, y"≡d2y/dt2, (4)y'≡dy / dt, y "≡d 2 y / dt 2 , (4)
이어서, 제1 피모사선 A1∼A7의 실제 길이 좌표 t 및 측지적 곡률 Kg(t)과, 평판(x-y 평면)에 있어서의 실제 길이 좌표, 및 그 함수로서의 곡률이 일치하는 선이, 도 5에 도시한 바와 같은 제1 임시 모사선 f(An)(n=1, 2, ‥, 7)로서 결정된다(도 1/S144). 마찬가지로, 제2 피모사선의 실제 길이 좌표 t 및 측지적 곡률 Kg(t)과, 평판에 있어서의 실제 길이 좌표, 및 그 함수로서의 곡률이 일치하는 선이, 도 6에 도시한 바와 같은 제2 임시 모사선 q(Bm)(m=1, 2, ‥, 9)로서 결정된다(도 1/S144). 도 5 및 도 6에 있어서 「○(둥근 표시)」는 제1 피모사선 An 및 제2 피모사선 Bm의 교점을 나타내고, 「＋(십자 표시)」는 외판(Q)의 가장자리를 나타낸다. Next, a line in which the actual length coordinates t and the geodesic curvature Kg (t) of the first to-be-simulated lines A1 to A7 and the actual length coordinates in the flat plate (xy plane) and the curvature as a function thereof coincide in FIG. 5. It is determined as the first temporary simulation line f (An) (n = 1, 2, ..., 7) as shown (Fig. 1 / S144). Similarly, a line in which the actual length coordinate t and the geodesic curvature Kg (t) of the second hairline, the actual length coordinate on the plate, and the curvature as a function thereof coincide is the second temporary as shown in FIG. 6. It is determined as a simulation line q (Bm) (m = 1, 2, ..., 9) (FIG. 1 / S144). In Fig. 5 and 6, "○ (a round mark)" is a first coat scan line A n and the second represents the point of intersection of the coat scan line B m, "+ (the cross mark)" represents the edge of the outer panel (Q).
이어서, 제1 임시 모사선 q(An) 및 제2 임시 모사선 q(Bm)에 기초하여, 제1 모사선 p(An) 및 제2 모사선 p(Bm)가 결정된다(도 1/S146). 제1 모사선 p(An) 및 제2 모사선 p(Bm)의 결정 방법에 관해서 도 7∼도 8을 이용하여 설명한다. Subsequently, based on the first temporary copy line q (An) and the second temporary copy line q (Bm), the first copy line p (An) and the second copy line p (Bm) are determined (Fig. 1 / S146). ). The method for determining the first simulation lines p (An) and the second simulation lines p (Bm) will be described with reference to FIGS. 7 to 8.
우선, 인접하는 1쌍의 제1 임시 모사선 q(An) 및 q(An+1)의 상대 위치가, 1 라인의 제2 임시 모사선 q(Bm)를 기준으로 하여, 다음 조건 1∼3을 만족하도록 가결정된다. First, relative positions of adjacent pairs of the first temporary simulation lines q (An) and q (An + 1) are based on the second temporary simulation lines q (Bm) of one line, and the following
(조건 1) : 제2 임시 모사선 q(Bm)와의 교점에 있어서의 제1 임시 모사선 q(An) 및 q(An+1)의 실제 길이 좌표가, 제2 피모사선 Bm과의 격자점에 있어서의 제1 피모사선 An 및 An+1의 실제 길이 좌표에 일치한다. (Condition 1): The actual length coordinates of the first temporary simulation lines q (An) and q (An + 1) at the intersection with the second temporary simulation lines q (Bm) are the lattice points with the second projection lines Bm. It corresponds to the actual length coordinates of the first hairline An and An + 1 in.
(조건 2) : 제1 임시 모사선 q(An)~q(An+1) 사이에 끼인 영역에 포함되는 제 2 임시 모사선 q(Bm)의 실제 길이 좌표가, 제1 피모사선 An~An+1 사이에 끼인 피모사 영역에 포함되는 제2 피모사선 Bm의 실제 길이 좌표와 일치한다. (Condition 2): The actual length coordinate of the 2nd temporary simulation line q (Bm) contained in the area | region clamped between 1st temporary simulation line q (An) -q (An + 1) is a 1st imaging line An-An. It coincides with the actual length coordinates of the second hairline Bm included in the hairline region sandwiched between +1.
(조건 3) : 제1 임시 모사선 q(An) 및 q(An+1)와, 제2 임시 모사선 q(Bm)가 직교한다. (Condition 3): The first temporary simulation lines q (An) and q (An + 1) and the second temporary simulation lines q (Bm) are orthogonal to each other.
또한, 상대 위치가 가결정된 1쌍의 제1 임시 모사선 q(An)~q(An+1) 사이에 끼인 영역에 있어서, 제2 임시 모사선 q(Bm')(m'≠m)의 배치가 다음 조건 4를 만족하도록 가결정된다. 이 때, 제2 임시 모사선 q(Bm')의 실제 길이 좌표가 필요에 따라서 신축된다. Further, in the region sandwiched between the pair of first temporary simulation lines q (An) to q (An + 1) where the relative position is determined, the second temporary simulation lines q (Bm ') (m' ≠ m) Is arranged to satisfy the following condition 4. At this time, the actual length coordinate of the second temporary simulation line q (Bm ') is stretched as needed.
(조건 4) : 제2 임시 모사선 q(Bm')와의 교점에 있어서의 제1 임시 모사선 q(An) 및 q(An+1)의 실제 길이 좌표가, 제2 피모사선 Bm'와의 교점에 있어서의 제1 피모사선 An 및 An+1의 실제 길이 좌표와 일치한다. (Condition 4): The actual length coordinates of the first temporary simulation lines q (An) and q (An + 1) at the intersections with the second temporary simulation lines q (Bm ') are the intersections with the second projection lines Bm'. It coincides with the actual length coordinates of the first hairline An and An + 1 in.
예컨대, 제2 임시 모사선 q(B4)를 기준으로 한 경우, 도 7a에 도시한 바와 같이 제1 임시 모사선 q(A3) 및 q(A4)의 상대 위치가 가결정된다. 또한, 이 경우 도 7a에 도시한 바와 같이 제1 임시 모사선 q(A3)~q(A4) 사이에 끼인 영역(사선 부분)에 포함되는 제2 임시 모사선 q(Bm')(m'≠4)(파선)의 배치가 가결정된다. For example, based on the second temporary simulation line q (B4), the relative positions of the first temporary simulation lines q (A3) and q (A4) are tentatively determined as shown in FIG. 7A. In this case, as shown in FIG. 7A, the second temporary simulation line q (Bm ') (m' ≠ included in the region (diagonal portion) sandwiched between the first temporary simulation lines q (A3) to q (A4). 4) Arrangement of (broken line) is temporarily determined.
한편, 제2 임시 모사선 q(B7)를 기준으로 한 경우, 도 7b에 도시한 바와 같이 제1 임시 모사선 q(A3) 및 q(A4)의 상대 위치가 가결정된다. 또한, 이 경우, 도 7b에 도시한 바와 같이 제1 임시 모사선 q(A3)~q(A4) 사이에 끼인 영역(사선 부분)에 포함되는 제2 임시 모사선 q(Bm')(m'≠7)(파선)의 배치가 가결정된다. On the other hand, when the second temporary simulation line q (B7) is used as a reference, as shown in Fig. 7B, the relative positions of the first temporary simulation lines q (A3) and q (A4) are temporarily determined. In this case, as shown in FIG. 7B, the second temporary copy line q (Bm ') (m' included in the region (diagonal portion) sandwiched between the first temporary copy lines q (A3) to q (A4). (7) (broken line) arrangement is determined.
그리고, 상대 위치가 가결정된 1쌍의 제1 임시 모사선 q(An)~q(An+1) 사이에 끼인 영역에 포함되는 제2 임시 모사선 q(Bm)의 길이와, 그 영역의 면적이 일정 조건을 만족하는 경우, 제1 임시 모사선 q(An) 및 그 영역 내의 제2 임시 모사선 q(Bm)가, 제1 모사선 p(An) 및 그 영역 내의 제2 모사선 p(Bm)로서 결정된다(도 1/S146). 이 조건은, 다음에 설명하는 것과 같이 외판 제조시의 가공 방법의 종류에 따라서 변동한다. And the length of the 2nd temporary simulation line q (Bm) contained in the area | region clamped between a pair of 1st temporary simulation line q (An) -q (An + 1) whose relative position was determined, and the area | region of the area | region When the area satisfies a predetermined condition, the first temporary copying line q (An) and the second temporary copying line q (Bm) in the region are the first copying line p (An) and the second copying line p in the region. It is determined as (Bm) (FIG. 1 / S146). This condition fluctuates according to the kind of processing method at the time of outer plate manufacture, as demonstrated below.
즉 「단축 가공」에 관한 그 일정 조건은 다음과 같다. That is, the fixed conditions regarding "shortening process" are as follows.
(1a) 배치가 가결정된 모든 제2 임시 모사선 q(Bm)의 각각의 길이가, 대응하는 제2 피모사선 Bm의 길이 이상이며,(1a) Each length of all the 2nd temporary simulation lines q (Bm) by which arrangement | positioning was determined is more than the length of the corresponding 2nd simulation line Bm,
(1b) 1쌍의 제1 임시 모사선 q(An)~q(An+1) 사이에 끼인 영역의 면적이 최소이다. (1b) The area of the region sandwiched between a pair of first temporary simulation lines q (An) to q (An + 1) is minimal.
한편 「늘림 가공」에 관한 그 일정 조건은 다음과 같다. On the other hand, the fixed conditions regarding "stretching" are as follows.
(2a) 배치 형태가 가결정된 모든 제2 임시 모사선 q(Bm)의 각각의 길이가, 대응하는 제2 피모사선 Bm의 길이 이하이며, (2a) Each length of all the 2nd temporary simulation lines q (Bm) whose arrangement form was tentatively determined is less than or equal to the length of the corresponding 2nd simulation line Bm,
(2b) 1쌍의 제1 임시 모사선 q(An)~q(An+1) 사이에 끼인 영역의 면적이 최대이다. (2b) The area of the region sandwiched between a pair of first temporary simulation lines q (An) to q (An + 1) is the largest.
인접하는 제1 임시 모사선 q(An) 및 q(An+1)의 상대 위치가 순서대로 결정되고, 제1 임시 모사선 q(An) 및 q(An+1) 사이에 끼인 영역의 제2 임시 모사선 q(Bm)의 배치 형태가 순서대로 결정된다. 이에 따라, 도 2a에 도시하는 외판(Q)이, 도 8에 도시한 바와 같은 평판(P)으로 전개된다. 즉, 도 4b에 도시하는 제1 피모사선군 An 및 제2 피모사선군 Bm이, 도 8에 도시하는 제1 모사선 p(An) 및 제2 모사선 p(Bm)로서 평판 상에 전개된다. The relative positions of the adjacent first temporary copy lines q (An) and q (An + 1) are determined in order, and the second of the region sandwiched between the first temporary copy lines q (An) and q (An + 1). The arrangement form of the temporary simulation line q (Bm) is determined in order. Thereby, the outer plate Q shown in FIG. 2A develops into the flat plate P as shown in FIG. That is, the 1st hairline group An and the 2nd hairline group Bm shown in FIG. 4B are developed on a flat plate as the 1st simulation line p (An) and the 2nd simulation line p (Bm) shown in FIG. .
이어서, 도 8에 도시하는 평판(P)을 가공하여 도 2a에 도시하는 외판(Q)을 제조하는 방법에 관해서 도 9를 이용하여 설명한다. Next, the method of manufacturing the outer plate Q shown in FIG. 2A by processing the flat plate P shown in FIG. 8 is demonstrated using FIG.
가공 전의 준비로서, 우선, 제1 피모사선 An에 따른 외판(Q)의 법곡률 K가 산출된다(도 9/S202). 또한, 1쌍의 제1 피모사선 An 및 An+1 사이에 끼인 피모사 영역에 있어서의 제2 피모사선 Bm의 길이에 대한, 1쌍의 제1 모사선 p(An) 및 p(An+1) 사이에 끼인 모사 영역에 있어서의 제2 모사선 p(Bm)의 길이의 비율 c가 산출된다(도 9/S204). 예컨대, 제2 피모사선 B1에 대해서 보면, 제1 피모사선 A1 및 A2 사이에 끼인 피모사 영역 내에서는 비율 c가 「1. 05」이며, 제1 피모사선 A2 및 A3 사이에 끼인 피모사 영역 내에서는 비율 c가 「1. 07」이며, ‥ 등, 부분마다 그 비율 c가 결정된다. 또, 비율 c는 피모사 영역보다도 미세한 영역마다 국소적으로 결정될 수 있다. As preparation before processing, first, the nominal curvature K of the outer plate Q along the first to-be-simulated line An is calculated (FIG. 9 / S202). Moreover, a pair of 1st simulation lines p (An) and p (An + 1) with respect to the length of the 2nd simulation line Bm in the imaging area | region sandwiched between a pair of 1st simulation lines An and An + 1. The ratio c of the length of the 2nd simulation line p (Bm) in the simulation area | region sandwiched between) is computed (FIG. 9 / S204). For example, with respect to the second hairline B1, the ratio c is "1. 1" in the hairpin region sandwiched between the first hairlines A1 and A2. 05 ”, and the ratio c is“ 1. 07 ", and the ratio c is determined for every part, such as ... In addition, the ratio c can be determined locally for each region finer than the to-be-coated region.
상기 준비가 끝난 후, 제1 모사선 p(An)의 법곡률이 제1 피모사선 An의 법곡률에 일치하도록, 평판(P)이 굽힘 가공되어 중간 곡판(도시 생략)이 형성된다(도 9/S206). After the preparation is completed, the flat plate P is bent to form an intermediate curved plate (not shown) such that the legal curvature of the first simulated line p (An) matches the normal curvature of the first simulated line An. / S206).
그리고, 제2 모사선 p(Bm)의 실제 길이 좌표가 제2 피모사선 Bm의 실제 길이 좌표에 일치하도록, 중간 곡판이 단축(또는 늘림) 가공됨으로써, 도 2에 도시하는 외판(Q)이 제조된다(도 9/S208). 그 가공을 할 때, 앞서 계산된 비율 c가 이용된다. 예컨대, 제2 피모사선 B1에 관해서 보면, 제1 피모사선 A1 및 A2 사이에 끼인 피모사 영역 내에서는 비율 c가 「1. 05」이며, 제1 피모사선 A2 및 A3 사이에 기 인 피모사 영역 내에서는 비율 c가 「1. 07」이며, ‥ 라는 경우를 생각하자. 이 경우, 제2 모사선 p(B1)가 제1 모사선 p(A1) 및 p(A2) 사이에 끼인 모사 영역 내에서는 「4. 8%」만큼 단축 가공되고, 제1 모사선 p(A2) 및 p(A3) 사이에 끼인 모사 영역 내에서는 「6. 6%」만큼 단축 가공되고, ‥ 와 같이 중간 곡판이 가공됨으로써, 외판(Q)이 제조된다. Then, the middle plate is shortened (or stretched) so that the actual length coordinate of the second copy line p (Bm) coincides with the actual length coordinate of the second copy line Bm, whereby the outer plate Q shown in FIG. 2 is manufactured. (FIG. 9 / S208). In the processing, the ratio c calculated above is used. For example, with regard to the second hairline B1, the ratio c is "1. 1" in the hairline region sandwiched between the first hairlines A1 and A2. 05 ", and the ratio c is" 1. 1 "in the simulated copying region between the first copying lines A2 and A3. 07 ”, and consider the case of. In this case, in the simulation region where the second simulation line p (B1) is sandwiched between the first simulation lines p (A1) and p (A2), "4. 8% ", and within the simulation region sandwiched between the first simulation lines p (A2) and p (A3)," 6. 6% 'is shortened, and the intermediate | middle curved board is processed like ..., and the outer board Q is manufactured.
본 발명의 외판 전개 방법에 따르면, 도 4b에 도시하는 외판(Q) 상의 제1 피모사선군 A1∼A7 및 제2 피모사선군 B1∼B9가, 도 8에 도시하는 제1 모사선군 p(A1)∼p(A7) 및 제2 모사선군 p(B1)∼p(B9)로서 평판(P)에 모사한다. 이 때, 제1 피모사선 An의 실제 길이 좌표 t 및 그 함수로서의 측지적 곡률 Kg(상기 식(4) 참조)과, 제1 모사선 p(An)의 실제 길이 좌표 및 그 함수로서의 곡률 K가 일치되게 된다. According to the shell plate development method of the present invention, the first hairline group A1 to A7 and the second hairline group B1 to B9 on the shell plate Q shown in Fig. 4B are the first copy line group p (A1) shown in Fig. 8. ) To p (A7) and the second simulation line groups p (B1) to p (B9) are simulated on the plate P. FIG. At this time, the actual length coordinate t of the first hairline An and the geodetic curvature Kg as a function thereof (see Equation (4)), and the actual length coordinate of the first hairline p (An) and the curvature K as its function are Will be matched.
이에 따라, 제1 모사선 p(An)의 법곡률이 제1 피모사선 An의 법곡률에 일치하도록 평판(P)을 굽힘 가공하면, 제1 모사선 An에 따른 방향으로 평판(P)을 늘림 가공 또는 단축 가공하지 않고서 중간 곡판을 형성할 수 있다. 이 때문에, 외판 제조시의 가공량이 저감된다. Accordingly, when the flat plate P is bent so that the nominal curvature of the first copy line p (An) matches the nominal curvature of the first copy line An, the flat plate P is stretched in the direction along the first copy line An. The intermediate curved sheet can be formed without machining or shortening. For this reason, the processing amount at the time of outer plate manufacture is reduced.
또한, 인접하는 제1 모사선 p(An) 및 p(An+1) 사이에 끼인 모사 영역(도 7a, 도 7b의 사선 부분 참조)에 있어서의 모든 제2 모사선 p(Bm)의 각각의 길이가, 그 모사 영역에 대응하는 피모사 영역에 있어서의 제2 피모사선 Bm의 길이 이상(또는 이하)이 되도록, 제1 모사선 p(An) 및 p(An+1)의 상대 위치가 결정된다(도 7a, 도 7b 참조). 그런 뒤에, 모사 영역에 있어서의 제2 모사선 p(Bm)이 결정된다. In addition, each of all the second simulation lines p (Bm) in the simulation region (refer to the diagonal lines in FIGS. 7A and 7B) sandwiched between adjacent first simulation lines p (An) and p (An + 1). The relative positions of the first copy lines p (An) and p (An + 1) are determined so that the length is equal to or greater than (or less than) the length of the second copy line Bm in the copy region corresponding to the copy region. (Refer FIG. 7A, FIG. 7B). Then, the 2nd simulation line p (Bm) in a simulation area is determined.
이에 따라, 모사 영역마다의 제2 모사선 p(Bm)의 실제 길이 좌표가, 피모사 영역마다의 제2 피모사선 Bm의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판을 단축 가공(또는 늘림 가공)하게 되어, 단축 가공하는 장소와 늘림 가공하는 장소가 병존 하는 사태를 피할 수 있다. 따라서, 가령 숙련공이 아니라도 외판(P)을 용이하게 제조할 수 있다. As a result, the intermediate curved sheet is shortened (or stretched) so that the actual length coordinate of the second simulation line p (Bm) for each of the simulation regions coincides with the actual length coordinate of the second simulation line Bm for each of the imaging regions. In other words, it is possible to avoid the coexistence of the place of short-cutting and the lengthening processing. Therefore, even if it is not a skilled worker, the outer plate P can be manufactured easily.
또한, 인접하는 제1 모사선 p(An) 및 p(An+1) 사이에 끼인 모사 영역(도 7a, 도 7b 사선 부분 참조)의 면적이 최소(또는 최대)가 되도록, 제1 모사선 p(An) 및 p(An+1)의 상대 위치가 결정되고, 그 모사 영역에 있어서의 제2 모사선 Bm의 배치가 결정된다. Moreover, the 1st simulation line p so that the area of the simulation area | region (refer FIG. 7A, FIG. 7B diagonal line part) pinched | interposed between adjacent 1st simulation lines p (An) and p (An + 1) may be minimum (or maximum). The relative positions of (An) and p (An + 1) are determined, and the arrangement of the second simulation lines Bm in the simulation region is determined.
이에 따라, 외판(Q)의 제조시의 평판(P)의 단축 가공량(또는 늘림 가공량)이 최저량으로 억제된다. 따라서, 제1 모사선 p(An)의 법곡률이 제1 피모사선 An의 법곡률에 일치하도록 평판(P)이 굽힘 가공되어 중간 곡판이 형성되고, (모사 영역마다의) 제2 모사선 p(Bm)의 실제 길이 좌표가, (피모사 영역마다의) 제2 피모사선 Bm의 실제 길이 좌표에 일치하도록 중간 곡판이 단축 가공(또는 늘림 가공)됨으로써, 가공량을 가능한 최소한으로 억제하면서 외판(Q)이 제조될 수 있다. Thereby, the uniaxial amount of processing (or the amount of elongation) of flat plate P at the time of manufacture of outer board Q is suppressed to the minimum amount. Therefore, the flat plate P is bent so that the law curvature of the first simulation line p (An) coincides with the law curvature of the first simulation line An to form an intermediate curved plate, and the second simulation line p (for each simulation region) is formed. The intermediate curved sheet is shortened (or stretched) so that the actual length coordinate of (Bm) coincides with the actual length coordinate of the second to-be-marked line Bm (for each of the to-be-simulated regions), thereby restraining the processing amount to the minimum possible. Q) can be manufactured.
본원 발명자가 얻은 지견에 의하면, 본 발명의 외판 전개 방법에 따르면 평판(P)을 전체적으로 약 2. 2% 단축함으로써 외판(Q)을 제조할 수 있는 데 비하여, 종래의 외판 전개 방법에 따르면 외판(Q)의 제조에 있어서 평판을 전체적으로 약7. 1% 단축할 필요가 있다. 즉, 본 발명의 외판 전개 방법에 따르면, 종래의 측지선 전개법과 비교하여 외판(Q)의 제조에 필요한 평판(P)의 단축율이 1/3 정도로 억제 된다. According to the findings of the inventors of the present invention, according to the method for developing the outer plate of the present invention, the outer plate Q can be manufactured by shortening the flat plate P as a whole by about 2. 2%. In the manufacture of Q). You need to shorten it by 1%. That is, according to the outer plate unfolding method of this invention, compared with the conventional geodesic line unfolding method, the shortening rate of the flat plate P required for manufacture of outer plate Q is suppressed about 1/3.
또한, 제조 작업자는, 도 8에 도시한 바와 같은 제1 모사선 p(An) 및 제2 모사선 p(Bm)를 통하여, 평판(P)을 어디에서 어떤 방향으로 구부려, 어디를 어떤 방향으로 단축하면 될지(또는 늘리면 될지)를 인식할 수 있다. 또한, 제조 작업자는, 제1 피모사선 An의 곡률을 통하여 평판(P)을 어느 정도 구부리면 될지를 파악할 수 있다. 또한, 제조 작업자는, 상기 비율 c를 통하여, 중간 곡판을 어느 정도 단축하면 될지(또는 늘리면 될지)를 파악할 수 있다. 이에 따라, 숙련이 필요하지 않고서 품질 높은 외판 제조가 촉진될 것으로 기대된다. Further, the manufacturing worker bends the flat plate P in any direction from where and in what direction through the first simulation line p (An) and the second simulation line p (Bm) as shown in FIG. 8. You can recognize whether you want to shorten it (or increase it). In addition, the manufacturing worker can grasp how much the flat plate P should be bent through the curvature of the 1st hairline An. In addition, the manufacturing worker can grasp how much the intermediate curved sheet should be shortened (or increased) through the ratio c. Accordingly, it is expected that the manufacture of high quality shell plates will be promoted without the need for skill.
한편, 본 발명의 외판 전개 방법 및 외판 제조 방법은, 도 2a에 도시하는 형상의 외판(Q) 외에, 모든 형상의 외판에 적용될 수 있다. In addition, the outer plate developing method and the outer plate manufacturing method of this invention can be applied to the outer plate of all shapes other than the outer plate Q of the shape shown to FIG. 2A.
또한, 외판이 구체(球體)의 일부를 국소적으로 포함하는 형상인 경우, 그 국소 부분의 바로 가까운 앞쪽에서의 제1 임시 피모사선 및 제2 임시 피모사선이 매끄럽게 실제 길이 좌표 늘려져, 그 국소 부분에 있어서의 외판 상의 제1 임시 피모사선 및 제2 임시 피모사선이 결정될 수 있다. In addition, when the outer plate has a shape that includes a part of a sphere locally, the first temporary and second temporary radiation lines in the immediate front of the local portion are smoothly extended in actual length coordinates, and the local The first temporary and second temporary coat lines on the shell in the portion can be determined.
Claims (4)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2004/004640 WO2005102550A1 (en) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | Method for developing external plate and process for producing external plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20060131935A KR20060131935A (en) | 2006-12-20 |
| KR101011749B1 true KR101011749B1 (en) | 2011-02-07 |
Family
ID=35196789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020067020189A KR101011749B1 (en) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | Method for developing external plate and process for producing external plate |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4596394B2 (en) |
| KR (1) | KR101011749B1 (en) |
| CN (1) | CN100404157C (en) |
| WO (1) | WO2005102550A1 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6444141B2 (en) * | 2014-11-10 | 2018-12-26 | 国立大学法人横浜国立大学 | Removal part setting device, curved surface forming device, curved surface shape production method and program |
| CN109890690A (en) * | 2017-09-29 | 2019-06-14 | 常石造船株式会社 | Seam configuration method, seam configuration device and seam configurator |
| CN109094717A (en) * | 2018-09-20 | 2018-12-28 | 中船黄埔文冲船舶有限公司 | The method of deploying of veneer bilge keelson |
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05250442A (en) * | 1992-03-06 | 1993-09-28 | Nec Software Ltd | Two-dimensional expanding method for curved surface |
| JP4247787B2 (en) * | 2002-03-19 | 2009-04-02 | 社団法人日本中小型造船工業会 | Outer plate developing method, outer plate manufacturing method, computer program for teaching these methods, and image recording medium for teaching these methods |
-
2004
- 2004-03-31 KR KR1020067020189A patent/KR101011749B1/en active IP Right Grant
- 2004-03-31 JP JP2006512433A patent/JP4596394B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-31 CN CNB2004800425720A patent/CN100404157C/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-31 WO PCT/JP2004/004640 patent/WO2005102550A1/en active Application Filing
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20060131935A (en) | 2006-12-20 |
| JPWO2005102550A1 (en) | 2008-03-13 |
| CN100404157C (en) | 2008-07-23 |
| WO2005102550A1 (en) | 2005-11-03 |
| JP4596394B2 (en) | 2010-12-08 |
| CN1925935A (en) | 2007-03-07 |
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| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
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|
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