KR101009675B1 - Line On Glass Type Liquid Crystal Display Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 LOG배선 상부에 ESD방지용 패턴이 더 오버랩되어 외부 ESD에 강한 구조를 가지는 라인 온 글래스형 액정표시소자에 관한 것으로서, 게이트 배선 및 데이터 배선에 의해 정의하는 화소영역에 박막트랜지스터 및 화소전극이 구비되는 화상표시영역과, 상기 화상표시영역의 외곽에 라인 온 글래스 방식으로 형성되어 구동에 필요한 외부 드라이브 집적회로들의 신호들을 상기 화상표시영역에 공급하기 위한 LOG 배선과, 상기 LOG배선 상부에 오버랩되는 ESD방지용 패턴을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a line-on-glass type liquid crystal display device having an ESD protection pattern on the upper part of the LOG wiring, which has a strong structure against external ESD. The thin film transistor and the pixel electrode are disposed in the pixel area defined by the gate wiring and the data wiring. And an LOG display for supplying signals of external drive integrated circuits, which are formed in a line-on-glass manner to the image display area, to be provided on the outside of the image display area, and overlapped on the LOG wiring. It is characterized by including the ESD prevention pattern.

LOG배선, ESD방지용 패턴 LOG wiring, ESD prevention pattern

Description

라인 온 글래스형 액정표시소자{Line On Glass Type Liquid Crystal Display Device}Line On Glass Type Liquid Crystal Display Device

도 1은 종래 기술에 의한 라인 온 글래스형 액정표시소자의 평면도.1 is a plan view of a line-on glass liquid crystal display device according to the prior art.

도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선상에서의 단면도.FIG. 2 is a sectional view taken along line II ′ of FIG. 1. FIG.

도 3은 본 발명에 의한 라인 온 글래스형 액정표시소자의 평면도.3 is a plan view of a line-on glass liquid crystal display device according to the present invention;

도 4a 내지 도 4c는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'선상에서의 공정단면도.4A to 4C are cross-sectional views of a process taken along the line II-II ′ of FIG. 3.

*도면의 주요 부분에 대한 부호설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

152 : 화상표시영역 152 : 비표시영역 152: image display area 152: non-display area

161 : 게이트 배선 162 : 데이터 배선 161: gate wiring 162: data wiring

163 : 게이트 패드 164 : 데이터 패드 163: gate pad 164: data pad

170 : 게이트 드라이브 IC 180 : 데이터 드라이브 IC170: gate drive IC 180: data drive IC

181 : 게이트 TCP 182 : 데이터 TCP181: gate TCP 182: data TCP

190 : 데이터 PCB 195 : LOG 배선 190: data PCB 195: LOG wiring

196 : 신호전송라인 198 : ESD방지용 패턴 196: Signal transmission line 198: ESD prevention pattern

199 : 더미라인 199: dummy line

본 발명은 액정표시소자(LCD ; Liquid Crystal Display Device)에 관한 것으로, 특히 ESD(Electro Static Discharge)에 강한 구조의 라인 온 글래스형 액정표시소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device (LCD), and more particularly, to a line on glass type liquid crystal display device having a structure resistant to electrostatic discharge (ESD).

액정표시소자는 콘트라스트(contrast) 비가 크고, 계조 표시나 동화상 표시에 적합하며 전력소비가 적다는 특징 때문에 평판 디스플레이 중에서도 그 비중이 증대되고 있다. Liquid crystal display devices have a high contrast ratio, are suitable for gray scale display and moving image display, and have low power consumption.

이러한 액정표시소자는 색상 구현을 위한 컬러필터층이 구비된 컬러필터 어레이 기판과, 상기 컬러필터 어레이 기판에 대향합착된 TFT 어레이 기판과, 상기 두 기판 사이에 봉입된 액정층과, 상기 TFT 어레이 기판을 구동하기 위한 구동회로부로 구성되어 각종 외부신호에 의해 화상을 표시한다.The liquid crystal display device includes a color filter array substrate having a color filter layer for implementing colors, a TFT array substrate opposed to the color filter array substrate, a liquid crystal layer encapsulated between the two substrates, and the TFT array substrate. It is composed of a driving circuit section for driving to display an image by various external signals.

여기서, 상기 TFT 어레이 기판에는 서로 수직 교차하여 정의된 각 화소에 각종 신호를 전달하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 신호를 화소전극에 선택적으로 인가하기 위한 박막트랜지스터(TFT:Thin Film Transistor)와, 단위 화소영역이 다음에 어드레싱(addressing)될 때까지 충전 상태를 유지하게 하는 스토리지 커패시터(storage capacitor)가 형성되어 있다. The TFT array substrate may include a gate line and a data line for transmitting various signals to each pixel defined by crossing perpendicularly to each other, a thin film transistor (TFT) for selectively applying a signal to the pixel electrode, and a unit. A storage capacitor is formed to keep the charge state until the pixel region is next addressed.

그리고, 상기 구동회로부에는 상기 게이트 배선들을 구동하기 위한 게이트 드라이브와, 상기 데이터 배선들을 구동하기 위한 데이터 드라이브와, 상기 게이트 드라이브 및 데이터 드라이브를 제어하기 위한 타이밍 제어부와, 액정표시소자에서 사용되는 여러 가지의 구동전압들을 공급하는 전원공급부가 구비되어 있다. The driving circuit unit includes a gate drive for driving the gate wires, a data drive for driving the data wires, a timing controller for controlling the gate drive and the data drive, and various types of liquid crystal display devices. It is provided with a power supply for supplying the driving voltages.                         

상기 타이밍 제어부는 게이트 드라이브 및 데이터 드라이브의 구동 타이밍을 제어함과 아울러 데이터 드라이브에 화소데이터 신호를 공급하는 역할을 하고, 상기 전원공급부는 입력 전원을 이용하여 액정표시소자에서 필요로 하는 공통전압(Vcom), 게이트 하이전압(Vgh), 게이트 로우전압(Vgl) 등과 같은 구동전압들을 생성하는 역할을 한다. The timing controller controls driving timing of the gate drive and the data drive and supplies pixel data signals to the data drive, and the power supply unit uses the input power to supply a common voltage (Vcom) required by the liquid crystal display device. ), And drive voltages such as a gate high voltage Vgh and a gate low voltage Vgl.

상기 게이트 드라이브는 스캐닝 신호를 게이트 배선들에 순차적으로 공급하여 각 화소를 1라인분씩 순차적으로 구동하고, 상기 데이터 드라이브는 게이트 배선들 중 어느 하나에 스캐닝 신호가 공급될 때마다 데이터 배선들 각각에 화소전압 신호를 공급한다. The gate drive sequentially supplies the scanning signals to the gate lines to sequentially drive each pixel by one line, and the data drive applies the pixels to each of the data lines whenever a scanning signal is supplied to any one of the gate lines. Supply the voltage signal.

이에 따라, 액정표시소자는 액정셀별로 화소전압신호에 따라 화소전극과 공통전극 사이에 인가되는 전계에 의해 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시한다. Accordingly, the liquid crystal display device displays an image by adjusting light transmittance by an electric field applied between the pixel electrode and the common electrode according to the pixel voltage signal for each liquid crystal cell.

이 때, 상기 데이터 드라이브와 게이트 드라이브는 다수개의 IC(Integrated Circuit)들로 집적화된다. At this time, the data drive and the gate drive are integrated into a plurality of integrated circuits (ICs).

상기와 같이, 집적화된 데이터 드라이브 IC와 게이트 드라이브 IC 각각은 액정표시소자에 실장(packaging)시키는 방법에 따라 TCP(Tape Carrier Package) 상에 실장하여 액정패널에 접속되는 TAB(Tape Automated Bonding) 방식과 TFT 어레이 기판 상에 드라이브 IC를 직접 실장하는 COG(Chip On Glass) 방식이 있다.As described above, each of the integrated data drive IC and the gate drive IC may be mounted on a tape carrier package (TCP) and connected to a liquid crystal panel according to a method of packaging the liquid crystal display device. There is a chip on glass (COG) method in which a drive IC is directly mounted on a TFT array substrate.

구체적으로, TCP를 통해 TAP방식으로 액정패널에 접속되는 드라이브 IC들은 TCP에 접속되어진 인쇄회로기판(PCB : Printed Circuit Board)에 실장되어진 신호라인들을 통해 외부로부터 입력되는 제어신호들 및 직류전압들을 공급받는다. Specifically, the drive ICs connected to the liquid crystal panel in a TAP manner through TCP supply control signals and DC voltages input from the outside through signal lines mounted on a printed circuit board (PCB) connected to TCP. Receive.                         

그리고, COG방식으로 액정패널에 실장되는 드라이브 IC들은 신호라인들이 하부 글래스 기판에 실장되는 라인 온 글래스 방식으로 상호접속됨과 동시에 타이밍 제어부 및 전원공급부로부터의 제어신호들 및 구동전압들을 공급받게 된다. The drive ICs mounted on the liquid crystal panel in the COG method are connected to the line on glass method in which the signal lines are mounted on the lower glass substrate, and receive control signals and driving voltages from the timing controller and the power supply unit.

최근에는 드라이브 IC들이 TAB방식으로 액정패널에 접속되는 경우에도 LOG방식을 채택하여 PCB를 제거함으로써 액정표시장치를 더욱 박형화하고 있다. 특히, 상대적으로 적은 신호라인들을 필요로 하는 게이트 드라이브 IC들에 접속되는 신호라인들을 LOG방식으로 글래스 기판 상에 형성함으로서 게이트 PCB를 제거하고 있다. 즉, TAB방식의 게이트 드라이브 IC들은 액정패널의 하부 글래스 기판 상에 실장되는 신호라인들을 통해 직렬로 접속됨과 동시에 제어신호들 및 구동전압신호들을 공통적으로 공급받게 된다.Recently, even when the drive ICs are connected to the liquid crystal panel by the TAB method, the liquid crystal display device is further thinned by adopting the LOG method and removing the PCB. In particular, the gate PCB is removed by forming the signal lines connected to the gate drive ICs requiring relatively few signal lines on the glass substrate in a LOG method. That is, the TAB gate drive ICs are connected in series through signal lines mounted on the lower glass substrate of the liquid crystal panel and simultaneously receive control signals and driving voltage signals.

이하에서는, 상기 LOG 방식에 의한 액정표시소자의 TFT 어레이 기판 구조를 구체적으로 살펴보기로 한다. Hereinafter, the TFT array substrate structure of the liquid crystal display device by the LOG method will be described in detail.

도 1은 종래 기술에 의한 라인 온 글래스형 액정표시소자의 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선상에서의 단면도이다.1 is a plan view of a line-on glass liquid crystal display device according to the prior art, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 1.

LOG형 신호배선들을 이용하여 게이트 PCB를 제거한 액정표시장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 액정패널(50)과, 상기 액정패널(50)과 데이터 PCB(84) 사이에 접속되어진 다수개의 데이터 TCP(82)와, 액정패널(50)의 다른측에 접속되어진 다수개의 게이트 TCP(81)와, 데이터 TCP(82) 각각에 실장되어진 데이터 드라이브 IC(80)와, 게이트 TCP(81) 각각에 실장되어진 게이트 드라이브 IC(81)로 구성된다. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device in which the gate PCB is removed by using the LOG signal signals has a plurality of data connected between the liquid crystal panel 50 and the liquid crystal panel 50 and the data PCB 84. A plurality of gate TCP 81 connected to the TCP 82, the other side of the liquid crystal panel 50, a data drive IC 80 mounted on each of the data TCP 82, and a gate TCP 81 respectively. The gate drive IC 81 is mounted.

이 때, 상기 액정패널(50)은 화상이 표시되는 점선 안쪽의 화상표시영역(52) 과 점선 바깥쪽의 비표시영역(54)으로 나누어진다.In this case, the liquid crystal panel 50 is divided into an image display area 52 inside the dotted line and an non-display area 54 outside the dotted line.

화상표시영역(52) 내에는 다수의 게이트 배선(61)과 데이터 배선(62)이 형성되어 있는데, 게이트 배선(61)과 데이터 배선(62)은 교차하여 화소 영역을 정의한다. A plurality of gate wirings 61 and data wirings 62 are formed in the image display area 52. The gate wirings 61 and the data wirings 62 intersect to define pixel regions.

상기 게이트 배선(61) 및 데이터 배선(62)이 교차하는 부분에는 박막트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor)가 형성되고, 상기 각 화소영역에는 보호막을 관통하여 각 박막트랜지스터의 드레인 전극(62b)에 연결되는 화소전극(10)이 형성되어, 상기 각 박막트랜지스터의 스위칭에 의해 화상이 표시된다. 이 때, 박막트랜지스터는 게이트 전극(61a), 게이트 절연막(13), 반도체층(14), 소스/드레인 전극(62a,62b)으로 구성된다.(도 2참고) A thin film transistor (TFT) is formed at a portion where the gate line 61 and the data line 62 cross each other, and a thin film transistor (TFT) is formed in each pixel area and is connected to the drain electrode 62b of each thin film transistor through a passivation layer. The pixel electrode 10 is formed, and an image is displayed by switching each of the thin film transistors. At this time, the thin film transistor is composed of a gate electrode 61a, a gate insulating film 13, a semiconductor layer 14, and source / drain electrodes 62a and 62b (see Fig. 2).

다음, 비표시영역(54)에는 게이트 배선(61) 및 데이터 배선(62)에서 연장 형성된 게이트 패드 및 데이터 패드(63, 64)가 형성되어 있으며, 상기 게이트 패드 및 데이터 패드(63, 64)의 한쪽 끝은 게이트 드라이브 IC(70) 및 데이터 드라이브 IC(80)와 각각 연결되어 있다. Next, in the non-display area 54, gate pads and data pads 63 and 64 extending from the gate wiring 61 and the data wiring 62 are formed, and the gate pads and the data pads 63 and 64 are formed. One end is connected to the gate drive IC 70 and the data drive IC 80, respectively.

상기 게이트 드라이브 IC(70) 및 데이터 드라이브 IC(80)는 외부의 데이터 PCB(90)와 연결된다. 이 때, 상기 데이터 드라이브 IC(80)는 TAP방식을 통해 데이터 PCB(90)에 접속되며, 상기 게이트 드라이브 IC(70)는 LOG배선(95)에 의해 데이터 PCB(90)에 연결된다. 상기 데이터 PCB(190)에는 기판 상에 집적회로와 같은 다수의 소자가 형성되어 있어, 액정표시소자를 구동시키기 위한 여러 가지 신호들을 공급한다. The gate drive IC 70 and the data drive IC 80 are connected to an external data PCB 90. In this case, the data drive IC 80 is connected to the data PCB 90 through the TAP method, and the gate drive IC 70 is connected to the data PCB 90 by the LOG wiring 95. The data PCB 190 is provided with a plurality of devices such as integrated circuits on a substrate to supply various signals for driving the liquid crystal display.                         

그리고, 상기 LOG배선(95)은 게이트 로우전압신호(VGL), 게이트 하이전압신호(VGH), 공통전압(VCOM), 전원신호(VCC), 그라운드 전압신호(GND)와 같은 전원공급부로부터 공급되는 직류전압신호들과 게이트 이네이블 신호(GOE), 게이트 쉬프트 클럭신호(GSC), 게이트 스타트 펄스(GSP)와 같이 타이밍 제어부로부터 공급되는 게이트 제어신호들을 공급하는 신호라인들로 구성된다. The LOG wiring 95 is supplied from a power supply unit such as a gate low voltage signal VGL, a gate high voltage signal VGH, a common voltage VCOM, a power signal VCC, and a ground voltage signal GND. It is composed of signal lines for supplying gate control signals supplied from a timing controller, such as DC voltage signals, a gate enable signal GOE, a gate shift clock signal GSC, and a gate start pulse GSP.

특히, 상기 LOG배선(95)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(11) 상에 직접 형성되는데, 화상표시영역의 게이트 전극(61a)과 동시에 형성되어 동일층에 구비된다. LOG 배선(95)을 통해 흐르는 각종 신호는 게이트 TCP(81)의 신호전송라인(96)을 통해 모든 게이트 드라이브 IC(70)로 전달된다. In particular, the LOG wiring 95 is formed directly on the substrate 11, as shown in FIG. 2, and is formed at the same time as the gate electrode 61a of the image display area. Various signals flowing through the LOG wiring 95 are transmitted to all the gate drive ICs 70 through the signal transmission line 96 of the gate TCP 81.

그러나, 상기와 같은 종래기술에 의한 액정표시소자는 ESD에 취약하다는 문제점이 있다. However, the liquid crystal display device according to the related art as described above has a problem that it is vulnerable to ESD.

즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 비표시영역에 ESD가 가해지면 LOG배선(95)을 통해 전달되는 게이트 제어신호, 게이트 전원신호들에 영향이 미쳐 화상이 깜빡거리는 플리커 현상이 발생하게 된다. That is, as shown in FIG. 2, when the ESD is applied to the non-display area, the flicker phenomenon of flickering of the image is generated due to the influence on the gate control signal and the gate power signals transmitted through the LOG wiring 95.

상기 ESD는 외부에서 주입된 후 비표시영역을 감싸는 알루미늄 재질의 탑케이스에 유기되어 있다가 원하지 않는 순간에 LOG배선에 악영향을 끼칠 수 있다. The ESD is injected into the outside and is induced in the aluminum top case surrounding the non-display area, which may adversely affect the LOG wiring at an undesired moment.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, LOG배선 상부에 ESD방지용 패턴을 더 오버랩시켜 외부 ESD에 강한 구조를 가지도록 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a line-on-glass type liquid crystal display device having a strong structure against external ESD by overlapping the ESD prevention pattern on the upper part of the LOG wiring.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 라인 온 글래스형 액정표시소자는 게이트 배선 및 데이터 배선에 의해 정의하는 화소영역에 박막트랜지스터 및 화소전극이 구비되는 화상표시영역와, 상기 화상표시영역의 외곽에 라인 온 글래스 방식으로 형성되어 구동에 필요한 외부 드라이브 집적회로들의 신호들을 상기 화상표시영역에 공급하기 위한 LOG 배선과, 상기 LOG배선 상부에 오버랩되는 ESD방지용 패턴을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. The line-on-glass type liquid crystal display device of the present invention for achieving the above object is an image display region having a thin film transistor and a pixel electrode in a pixel region defined by a gate wiring and a data wiring, and an outer portion of the image display region. It is formed in a line-on-glass manner and comprises a LOG wiring for supplying signals of external drive integrated circuits required for driving to the image display area, and an ESD protection pattern overlapping the upper portion of the LOG wiring.

즉, 본 발명에 의한 액정표시소자는 기판 상에 LOG배선이 구비되어 상기 LOG배선을 통해 게이트 드라이브 IC에 각종 게이트 전원신호 및 게이트 제어신호를 전송하는 라인 온 글래스 방식에 의한 것으로, 상기 LOG배선 상부에 ESD방지용 패턴을 더 구비하는 것을 특징으로 한다. That is, the liquid crystal display according to the present invention is provided by a line on glass method in which a LOG wiring is provided on a substrate to transmit various gate power signals and gate control signals to a gate drive IC through the LOG wiring. It characterized in that it further comprises an ESD prevention pattern.

다시말해, ESD방지용 패턴을 LOG배선 상부에 오버랩시켜 ESD가 LOG배선에 직접적으로 가해지는 것을 방지한다. In other words, the ESD protection pattern is overlapped on top of the LOG wiring to prevent ESD from being applied directly to the LOG wiring.

상기 ESD방지용 패턴은 데이터 PCB의 전원공급부에 연결시켜 그라운드 전압(GND)이 흐르도록 하고, 게이트 TCP 사이에 구비된 ESD방지용 패턴은 게이트 TCP의 더미 라인에 의해 서로 연결시킨다. The ESD protection pattern is connected to a power supply of the data PCB so that the ground voltage GND flows, and the ESD protection patterns provided between the gate TCPs are connected to each other by a dummy line of the gate TCP.

이와같은 ESD방지용 패턴은 화상표시영역의 데이터 배선과 동시에 형성하므로 별도의 공정을 추가하지 않아도 된다. Since the ESD prevention pattern is formed at the same time as the data line of the image display area, no additional process is required.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명에 의한 라인 온 글래스형 액정표시소자에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a line on glass type liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.                     

도 3은 본 발명에 의한 라인 온 글래스형 액정표시소자의 평면도이고, 도 4a 내지 도 4c는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'선상에서의 공정단면도이다.3 is a plan view of a line-on glass liquid crystal display device according to the present invention, and FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views of the process on the line II-II 'of FIG. 3.

박막트랜지스터가 형성되는 TFT 어레이 기판(150)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 화상표시영역(152)과 비표시영역(154)으로 구분되는데, 상기 화상표시영역(152)에는 영상신호를 전달하는 데이터 배선(162)과, 상기 데이터 배선(162)에 수직 교차되어 각 화소를 정의하고 스캐닝 신호를 전달하는 게이트 배선(161)과, 상기 게이트 배선(161) 및 데이터 배선(162)의 교차 지점에 형성되어 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층, 소스/드레인 전극으로 적층되는 박막트랜지스터(TFT)와, 보호막을 그 사이에 두고 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극(110)이 구비된다. The TFT array substrate 150 on which the thin film transistor is formed is divided into an image display area 152 and a non-display area 154, as shown in FIG. 3, and transmits an image signal to the image display area 152. A data line 162, a gate line 161 perpendicular to the data line 162 to define each pixel, and a scanning signal, and an intersection point of the gate line 161 and the data line 162. And a thin film transistor (TFT) formed at the gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, and a source / drain electrode, and a pixel electrode 110 connected to the thin film transistor with a protective film therebetween.

그리고, 상기 비표시영역(154)에는 게이트 배선(161) 및 데이터 배선(162)에서 각각 연장형성된 게이트 패드 및 데이터 패드(163, 164)가 형성되어 있으며, 상기 게이트 패드 및 데이터 패드(163, 164)의 한쪽 끝은 TFT 어레이 기판(150)에 부착된 게이트 드라이브 IC(170) 및 데이터 드라이브 IC(180)에 각각 연결된다. 즉, 상기 게이트 패드(163)는 상기 게이트 드라이브 IC(170)에 연결되고, 상기 데이터 패드(164)는 상기 데이터 드라이브 IC(180)에 연결된다.In the non-display area 154, gate pads and data pads 163 and 164 extending from the gate line 161 and the data line 162 are formed, respectively. The gate pads and the data pads 163 and 164 are formed. One end of the Ns) is connected to the gate drive IC 170 and the data drive IC 180 attached to the TFT array substrate 150, respectively. That is, the gate pad 163 is connected to the gate drive IC 170, and the data pad 164 is connected to the data drive IC 180.

이 때, 상기 데이터 드라이브 IC(180)는 데이터 TCP(182)를 통해 데이터 PCB(190)에 접속되고, 상기 게이트 드라이브 IC(170)는 LOG배선(195)을 통해 데이터 PCB(190)에 접속되어 데이터 PCB(190)로부터 각종 신호를 전달받는다. In this case, the data drive IC 180 is connected to the data PCB 190 through the data TCP 182, and the gate drive IC 170 is connected to the data PCB 190 through the LOG wiring 195. Various signals are received from the data PCB 190.

이 때, LOG배선(195)은 화상표시영역의 게이트 배선(161)과 동시에 형성되 며, 상기 LOG배선(195) 상부에는 절연막을 사이에 두고 ESD방지용 패턴(198)이 오버랩된다. 여기서, 상기 ESD방지용 패턴(198)은 LOG배선(195)에 ESD가 직접적으로 가해지는 것을 차단하기 위해 구비되는 것으로, 피뢰침과 같은 역할을 하게 된다. At this time, the LOG wiring 195 is formed at the same time as the gate wiring 161 of the image display area, and the ESD protection pattern 198 overlaps the insulating film between the LOG wiring 195. Here, the ESD prevention pattern 198 is provided to block the direct application of ESD to the LOG wiring 195, and serves as a lightning rod.

이러한 ESD방지용 패턴(198)은 화상표시영역의 데이터 배선(162)과 동일층에 구비되고, LOG배선(195)이 형성되는 게이트 TCP(181)들 사이에 배치된다. 그리고, ESD방지용 패턴(198)에 GND전압이 흐르도록 하기 위해 데이터 PCB(190)의 전원공급부에 연결시키고, 게이트 TCP(181)의 더미 라인(199)을 매개체로 하여 게이트 패드부 영역의 ESD방지용 패턴(198)을 연결시켜준다. The ESD prevention pattern 198 is provided on the same layer as the data line 162 of the image display area, and is disposed between the gate TCPs 181 on which the LOG line 195 is formed. In order to allow the GND voltage to flow through the ESD prevention pattern 198, the ESD protection pattern 198 is connected to the power supply of the data PCB 190 and the dummy line 199 of the gate TCP 181 is used as a medium for ESD protection of the gate pad region. The pattern 198 is connected.

그러면, ESD방지용 패턴에 의해 ESD가 차단되어 각종 게이트 제어신호 및 게이트 전원신호가 흐르는 LOG배선에 데미지가 가해지지 않게 된다. Then, the ESD is blocked by the ESD prevention pattern so that damage is not applied to the LOG wiring through which various gate control signals and gate power signals flow.

또한, ESD방지용 패턴(198)에는 GND전압이 흘러야 하므로 전도물질로 형성되어야 하는데, 데이터 배선을 형성할 때 동시에 형성함으로써 공정을 추가하지 않아도 된다.In addition, since the GND voltage must flow through the ESD protection pattern 198, the ESD protection pattern 198 must be formed of a conductive material.

참고로, 상기 LOG배선(195)은 게이트 TCP(181)의 신호전송라인(196)을 통해 게이트 드라이브 IC(170)에 게이트 신호들을 전달한다. 그리고, 상기 LOG 배선(195)은 화상표시영역의 게이트 배선(161)과 동일층에 구비되므로, 상기 LOG배선(195) 및 ESD방지용 패턴(198) 사이에 구비되는 절연막은 게이트 절연막이 된다. For reference, the LOG wiring 195 transfers gate signals to the gate drive IC 170 through the signal transmission line 196 of the gate TCP 181. Since the LOG wiring 195 is provided on the same layer as the gate wiring 161 of the image display area, the insulating film provided between the LOG wiring 195 and the ESD protection pattern 198 becomes a gate insulating film.

이하에서, 상기 액정표시소자의 제조방법을 통해 구체적으로 살펴보면 다음과 같다. Hereinafter, the method of manufacturing the liquid crystal display device will be described in detail.

먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 박막 어레이 기판(111) 상에 낮은 비저항 을 가지는 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd : Aluminum Neodymium), 몰리브덴(Mo), 몰리브덴-텅스텐(MoW) 등의 금속을 증착한 후 패터닝하여 복수개의 게이트 배선(161), 게이트 전극(161a), 게이트 패드(도 3의 163) 및 LOG배선(195)을 형성한다.First, as shown in FIG. 4A, metals such as aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd: Aluminum Neodymium), molybdenum (Mo), and molybdenum-tungsten (MoW) having a low specific resistance on the thin film array substrate 111 may be used. After the deposition, the gate patterns 161, the gate electrodes 161a, the gate pads 163 of FIG. 3, and the LOG wirings 195 are formed.

상기 LOG 배선(195)은 게이트 로우전압신호(VGL), 게이트 하이전압신호(VGH), 공통전압(VCOM), 전원신호(VCC), 그라운드 전압신호(GND)와 같은 전원공급부로부터 공급되는 게이트 전원신호들과 게이트 이네이블 신호(GOE), 게이트 쉬프트 클럭신호(GSC), 게이트 스타트 펄스(GSP)와 같이 타이밍 제어부로부터 공급되는 게이트 제어신호들을 공급하는 복수개의 신호라인으로 구성된다. The LOG wiring 195 is a gate power source supplied from a power supply such as a gate low voltage signal VGL, a gate high voltage signal VGH, a common voltage VCOM, a power signal VCC, and a ground voltage signal GND. And a plurality of signal lines for supplying gate control signals supplied from the timing controller, such as signals, a gate enable signal GOE, a gate shift clock signal GSC, and a gate start pulse GSP.

다음, 상기 게이트 배선(161)을 포함한 전면에 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화물(SiOx) 등의 무기 절연물질을 PECVD 방법으로 증착하여 게이트 절연막(113)을 형성하고, 게이트 절연막을 포함한 전면에 비정질 실리콘(a-Si:H)을 고온에서 증착한 후 패터닝하여 게이트 전극(161a) 상부의 게이트 절연막(113) 상에 반도체층(114)을 형성한다. Next, an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) is deposited on the entire surface including the gate wiring 161 by PECVD to form a gate insulating layer 113, and an amorphous surface is formed on the entire surface including the gate insulating layer. Silicon (a-Si: H) is deposited at a high temperature and then patterned to form a semiconductor layer 114 on the gate insulating layer 113 over the gate electrode 161a.

그리고, 도 4b에 도시된 바와 같이, 상기 반도체층(114)을 포함한 전면에 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd : Aluminum Neodymium), 몰리브덴(Mo), 몰리브덴-텅스텐(MoW) 등의 금속을 증착한 후 패터닝하여 복수개의 데이터 배선(162), 소스/드레인 전극(162a,162b), 데이터 패드(도 3의 164) 및 ESD방지용 패턴(198)을 형성한다.4B, copper (Cu), aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd: Aluminum Neodymium), molybdenum (Mo), and molybdenum-tungsten (MoW) are formed on the entire surface including the semiconductor layer 114. After depositing a metal, such as a metal, and patterning, a plurality of data lines 162, source / drain electrodes 162a and 162b, data pads 164 of FIG. 3, and an ESD protection pattern 198 are formed.

이 때, 상기 데이터 배선(162)은 상기 게이트 배선(161)에 교차하여 단위화 소를 정의하고, 상기 소스/드레인 전극(162a,162b)은 상기 반도체층(114) 양 끝단에 각각 형성하며, 상기 ESD방지용 패턴(198)은 상기 LOG배선(195)이 완전히 오랩될 수 있도록 형성한다. In this case, the data line 162 crosses the gate line 161 to define a unit pixel, and the source / drain electrodes 162a and 162b are formed at both ends of the semiconductor layer 114, respectively. The ESD protection pattern 198 is formed so that the LOG wiring 195 can be completely overlapped.

다음, 도 4c에 도시된 바와 같이, 상기 소스/드레인 전극(162a,162b)을 포함한 전면에 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화물(SiOx) 등의 무기절연물질을 증착하거나 또는 BCB(Benzocyclobutene), 아크릴계 물질과 같은 유기절연물질을 도포하여 보호막(116)을 형성하고, 상기 보호막 상에 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명도전물질을 증착하고 패터닝하여 상기 보호막(116)을 관통하여 상기 드레인 전극(162b)에 접속하는 화소전극(110)을 형성한다.Next, as illustrated in FIG. 4C, an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) is deposited on the entire surface including the source / drain electrodes 162a and 162b, or BCB (Benzocyclobutene) and acrylic system. A protective film 116 is formed by applying an organic insulating material such as a material, and a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) is deposited and patterned on the protective film to form the protective film 116. The pixel electrode 110 penetrates and is connected to the drain electrode 162b.

마지막으로, 게이트 패드(163) 및 데이터 패드(164) 끝단에 게이트 드라이브 IC(170) 및 데이터 드라이브 IC(180)를 TAP방식으로 부착시킨 다음, 상기 게이트 드라이브 IC(170) 및 데이터 드라이브 IC(180)를 데이터 PCB(190)에 접속시킨다. 이 때, 게이트 드라이브 IC(170)는 LOG 배선(195)에 의해 데이터 PCB(190)에 연결된다. 이와 동시에, ESD방지용 패턴(198)을 데이터 PCB(190)에 연결시키고, 게이트 TCP(181) 사이에 있는 ESD방지용 패턴(198)을 게이트 드라이브 IC(170)의 더미 라인(199)을 통해 연결시킨다. 따라서, 데이터 PCB(190)의 GND전압이 ESD방지용 패턴(198) 및 게이트 TCP(181)의 더미 라인(199)에 흐르게 된다. Finally, the gate drive IC 170 and the data drive IC 180 are attached to the ends of the gate pad 163 and the data pad 164 in a TAP manner, and then the gate drive IC 170 and the data drive IC 180 are attached. ) Is connected to the data PCB 190. At this time, the gate drive IC 170 is connected to the data PCB 190 by the LOG wiring 195. At the same time, the ESD protection pattern 198 is connected to the data PCB 190, and the ESD protection pattern 198 between the gate TCP 181 is connected through the dummy line 199 of the gate drive IC 170. . Therefore, the GND voltage of the data PCB 190 flows to the ESD prevention pattern 198 and the dummy line 199 of the gate TCP 181.

상기와 같이, 박막트랜지스터 어레이 기판을 완성 후에는, ESD에 의한 데미지 여부를 확인하기 위해 비표시영역에 ±1.5㎸의 ESD를 가하여 테스트한다. As described above, after the thin film transistor array substrate is completed, an ESD of ± 1.5 mA is applied to the non-display area to check whether the damage is caused by the ESD.                     

이 때, 비표시영역의 ESD방지용 패턴에 의해 ESD가 차단되므로 LOG배선에 데미지가 가하지 않게 되고 화상표시영역에서 플리커가 발생하지 않게 된다.At this time, since the ESD is blocked by the ESD prevention pattern of the non-display area, no damage is caused to the LOG wiring and flicker does not occur in the image display area.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.On the other hand, the present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, it is possible that various substitutions, modifications and changes within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill in Esau.

상기와 같은 본 발명의 라인 온 글래스형 액정표시소자는 다음과 같은 효과가 있다.The line-on glass liquid crystal display device of the present invention as described above has the following effects.

첫째, LOG배선 상부에 ESD방지용 패턴을 오버랩시켜 외부의 ESD가 LOG배선에 데미지를 가하는 것을 방지함으로써, LOG배선에 흐르는 각종 게이트 제어신호 및 게이트 전원신호에 영향이 없도록 하여 플리커와 같은 불량없이 화상품질이 유지될 수 있도록 한다. First, it prevents external ESD from damaging the LOG wiring by overlapping the ESD prevention pattern on the upper part of the LOG wiring, so that it does not affect the various gate control signals and gate power signals flowing in the LOG wiring, so that the image quality is not defective such as flicker. Should be maintained.

또한, ESD방지용 패턴 데이터 배선과 동시에 형성할 수 있으므로 공정 추가없이 ESD에 의한 불량을 방지할 수 있다.In addition, since it can be formed at the same time as the ESD protection pattern data wiring, it is possible to prevent the failure by the ESD without adding a process.

Claims (11)

기판 상에 게이트 배선 및 데이터 배선에 의해 정의하는 화소영역에 박막트랜지스터 및 화소전극이 구비되는 화상표시영역;An image display region in which a thin film transistor and a pixel electrode are provided in a pixel region defined by a gate wiring and a data wiring on a substrate; 상기 화상표시영역의 외곽에 라인 온 글래스 방식으로 형성되어 구동에 필요한 외부 드라이브 집적회로들의 신호들을 상기 화상표시영역에 공급하기 위한 LOG 배선;A LOG wiring formed on the outside of the image display area in a line on glass manner to supply signals of external drive integrated circuits required for driving to the image display area; 상기 LOG배선 상부에 오버랩되도록 상기 데이터 배선과 동일층에 형성되는 ESD방지용 패턴을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And an ESD protection pattern formed on the same layer as the data line so as to overlap the upper portion of the LOG line. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 ESD방지용 패턴에 그라운드 전압(GND)이 흐르는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.A line on glass type liquid crystal display device, wherein a ground voltage GND flows through the ESD prevention pattern. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 ESD방지용 패턴은 상기 외부 드라이브 집적회로의 전원공급부에 연결되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.The ESD protection pattern is connected to the power supply of the external drive integrated circuit line-on glass type liquid crystal display device. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 게이트 배선 끝단에 연결되는 게이트 드라이브 IC가 LOG배선에 의해 상 기 외부 드라이브 집적회로들과 연결되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And a gate drive IC connected to the gate wiring end is connected to the external drive integrated circuits by a LOG wiring. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 게이트 드라이브 IC는 게이트 TCP에 의해 상기 기판에 실장되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And the gate drive IC is mounted on the substrate by a gate TCP. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, 상기 게이트 TCP 사이의 ESD방지용 패턴은, 상기 게이트 TCP의 더미 라인에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.The ESD protection pattern between the gate TCP is connected by a dummy line of the gate TCP. 삭제delete 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 LOG배선은 상기 게이트 배선과 동일층에 구비되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And the LOG wiring is provided on the same layer as the gate wiring. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 LOG배선과 ESD방지용 패턴 사이에 절연막이 구비되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And an insulating film provided between the LOG wiring and the ESD protection pattern. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 외부 드라이브 집적회로들은 PCB기판에 형성되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And the external drive integrated circuits are formed on a PCB substrate. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 데이터 라인의 끝단에 연결된 데이터 드라이브 IC가 상기 외부 드라이브 집적회로들과 연결되는 것을 특징으로 하는 라인 온 글래스형 액정표시소자.And a data drive IC connected to an end of the data line is connected to the external drive integrated circuits.
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